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JP2006128108A - 有機発光素子 - Google Patents

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JP2006128108A JP2005311373A JP2005311373A JP2006128108A JP 2006128108 A JP2006128108 A JP 2006128108A JP 2005311373 A JP2005311373 A JP 2005311373A JP 2005311373 A JP2005311373 A JP 2005311373A JP 2006128108 A JP2006128108 A JP 2006128108A
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Abstract

【課題】接着力の向上された銀合金を利用して画素電極を製作することによって、画素電極の生産性を向上させ、反射率の改善も可能な有機発光素子を提供する。【解決手段】 基板上に形成される有機発光素子に関する。有機発光素子は基板上に金属酸化物を含む第1電極と、第1電極上にランタン系列とアクチニウム系列の元素からなるグループから選ばれた一つ以上の金属を添加して合金化した銀を含む第2電極と、第2電極上に金属酸化物を含む第3電極を備える画素電極を含む。
【選択図】図1

Description

本発明は、基板上に形成される画素電極を含む有機発光素子に関し、さらに具体的には、基板との接触力を高めることができ、反射率を向上させることができる有機発光素子に関する。
有機発光素子(organic emitting light diode)は、電流が流れると発光する有機物を利用して光を発生させる発光素子で、一般的に画素電極と対向電極で構成された1対の電極と、発光層を含む。また、有機発光素子は画素電極と対向電極の間に正孔注入層、正孔輸送層、電子注入層、電子輸送層のうち、少なくとも一部を備える。
以下、図面を参照して従来の有機発光素子をさらに具体的に説明する。
図5は、従来の画素電極を含む有機発光素子の概略的な側断面図である。
図5を参照すれば、有機発光素子100は、基板110、基板110上に形成される画素電極120(以下、アノードという。)、アノード120上に形成された発光層150及び対向電極180(以下、カソードという。)を備える。また、有機発光素子100は、アノード120上に形成される正孔注入層130及び正孔輸送層140と発光層150上に形成される電子輸送層160と電子注入層170を備える。
ここで、画素電極120は高い仕事関数を有し、インジウム錫酸化物(ITO)及びインジウム亜鉛酸化物(IZO)のように透明な導電性金属酸化物で形成された―つの層からなる単一層電極である(図5のI参照)。
上述した構造からなる有機発光素子100は、画素電極120と対向電極180の間に電圧が印加されると、画素電極120から発生された正孔は正孔注入層130及び正孔輸送層140を経由して発光層150に移動し、対向電極180から発生された電子は電子注入層170及び電子輸送層160を経由して発光層150に移動する。発光層150に移動した正孔及び電子は発光層150で再結合することによって、光が発生する。発光層150から発生された光は、透明な画素電極120を通じて外部に放出される。
しかし、単一層画素電極120は、時間が経過するほど仕事関数が減少するようになり、発光効率を低下させるため、消費者が望むほど液晶表示装置のカラー化や高精密化の達成が容易ではない。このような問題、つまり、仕事関数の減少による発光効率低下を解消するために、最近は他の金属に比べて相対的に反射率の高い銀(Ag)、または銀合金等を利用して画素電極を形成することが提案されている。銀または銀合金を利用した画素電極は相対的に反射率が高いから発光層から発生する光の明るさ(輝度)をさらに高めることができる。
しかし、銀または銀合金を利用して画素電極を製造する工程段階で、銀または銀合金が水分と接触する場合、電気的でイオン化された金属が溶けるか、或いは電飾されるという問題がある。また、銀または銀合金は、基板(例えば、ガラス基板等)との密着性がよくないため、相対的に高い反射率を持っているにもかかわらず、生産性が落ちるという問題がある。
なお、従来の多層画素電極を記載した文献としては、有機発光素子を採用した有機電界発光素子を開示した下記特許文献1、全面発光構造を有する有機発光素子およびその製造方法を開示した下記特許文献2等がある。
韓国特許公開第2004−0000630号明細書 韓国特許公開第2002−0027931号明細書
したがって、本発明は前述した従来の問題を解決するために提案された発明であり、本発明の目的は接着力の向上された銀合金を利用して画素電極を製作することによって、画素電極の生産性を向上させることができ、反射率を改善させられる有機発光素子を提供することである。
前述した目的を達成するために、本発明の一実施形態によると、 基板上に形成される有機発光素子において、基板上に金属酸化物を含む第1電極と、第1電極上にランタン系列とアクチニウム系列の元素からなるグループから選ばれた一つ以上の金属を添加して合金化した銀を含む第2電極と、第2電極上に金属酸化物を含む第3電極を備える画素電極を含む有機発光素子が提供される。
より好ましくは、銀合金は、銀の属する11族のうち、少なくとも一つの金属をさらに添加して形成される。
また、銀合金はランタン系列とアクチニウム系列から選ばれたサマリウムを含む。
また、サマリウムは0.1から0.6at%(原子百分率)までであり、銀合金に添加された11族から選ばれた金属は、0.4から1at%までであることが好ましい。
また、銀合金は、ランタン系列とアクチニウム系列から選ばれたテルビウムをさらに含む。
また、テルビウムは0.4から1at%までであることが好ましい。
また、第1電極と第3電極各々の厚さは、第2電極厚さにに比べて薄く形成され、第1電極と第3電極の各々はインジウム錫酸化物(ITO)とインジウム亜鉛酸化物(IZO)のうち、いずれか一つからなることが好ましい。
また、画素電極上に形成される発光層と、発光層上に形成される対向電極をさらに含むことが好ましい。
上述したように本発明の多層アノードによれば、第2電極下部及び上部に導電性金属酸化物を利用して第1電極及び第3電極を蒸着することによって、サマリウム(Sm)、テルビウム(Tb)、金、銅などが添加された銀合金(以下、ATD合金という。)を利用して蒸着された第2電極の接着力を向上することができる。
また、ITO/ATD/ITO構造を利用する場合、基板と多層構造画素電極間には追加の接着物質が必要でないから、画素電極の生産性を向上させることができる。
また、反射率のよいATD合金を利用することで、画素電極の反射率を増加させ、発光素子の輝度を向上させる効果を奏する。
以下、 添付した図面を参照して本発明を詳細に説明する。
図1は本発明による多層構造の画素電極を含む有機発光素子の概略的な側断面図である。
図1を参照すれば、有機発光素子200は、基板210、基板210上に形成される画素電極220(以下、アノードという。)、アノード220上に形成される正孔注入層230及び正孔輸送層240、発光層250、電子輸送層260及び電子注入層270、及び対向電極電極280(以下、カソードという。)を備える。説明の重複をさけるために、本発明による有機発光素子200の発光原理は一般的な有機発光素子100の発光原理と同様であるから省略する。
本発明の一実施形態による有機発光素子200のアノード220は、基板210上に形成される第1電極221、第2電極222及び第3電極223を備える(図1のII参照)。
第1電極221は、基板210上に形成されて第2電極222と基板210との密着性を向上させ、透明導電性金属酸化物、例えば、ITO及びIZOで形成される。第2電極222は、第1電極221上に銀を含む合金(銀合金)を塗布することで形成される。第2電極222を構成する銀合金はランタン系列(La、Ce、Pr、Nd、Pm、Sm、Eu、Gd、Tb、Dy、Ho、Er、Tm、Yb、Lu)と、アクチニウム系列(Ac、Th、Pa、U、Np、Pu、Am、Cm、Bk、Cf、Es、Fm、Md、No、Lr)の元素からなるグループから少なくとも一つの金属を選択して添加する。第2電極222を成す銀合金には、前述したランタン系列、アクチニウム系列元素とともに銀の属する11族元素(例えば、金、銅、Rg)をさらに添加する。
ATD合金を成すサマリウムは、0.1から0.6at%を添加し、テルビウム、金、及び銅は各々0.4から1at%までを添加することが好ましい。
本実施形態のATD合金には0.3at%のサマリウムを添加することが好ましい。また、ATD合金の厚さは1000Å以上形成するが、設計工程で許容すれば、ATD合金の厚さは厚いほどよい。これは、ATD合金の厚さが厚いほど発光層250から発生する光の損失を防止できるので、反射率をさらに向上させることができる。
第3電極223は、第2電極222上に形成されるが、アノード220全体の均一性のため、第2電極222の表面全体に形成されることが好ましい。また、第3電極223は特定物質の制限せず電極として利用するのに十分な導電性物質であれば、十分に利用できるが、本実施形態では第1電極221と同様に導電性金属酸化物(例えば、ITO及びIZO)を利用する。
第1電極221及び第3電極223は同一の導電性金属酸化物で形成されることも可能であり、互いに異なる導電性金属酸化物(例えば、第1電極はITO、第3電極はIZO)で形成されることも可能である。また、 第1電極221及び第3電極223は非晶質ITOで形成されることも可能であり、そのために非晶質ITOで形成される第1電極221及び第3電極223もまた付着力及び熱的特性が優秀である。
第1電極221及び第3電極223は、発光層250から発生された光の固有の色相変化を防止するために、第2電極222の厚さに比べて相対的に薄く形成される。本実施形態では100Å以下に形成されることが開示されている。
図2は、本発明による多層構造のアノードを形成する方法を概略的に示すブロック図である。
図2を参照すれば、本実施形態による多層構造のアノード220の形成方法は、ガラスまたは有機物で作られた基板210のを設ける段階S31から始める。その次の段階S32では、基板210上に任意の蒸着工程(例えば、スパッタリング工程)を介してITOで形成された第1電極221を設ける。次の段階S33では、第1電極221上にATD合金(Sm、Tb、銀、及び銅)を利用して第2電極222を形成する。本実施形態での第2電極222は反射率向上のために1000Å程度に蒸着する。第2電極222が形成されたあと、次の段階S34では、第2電極222上にITOを利用して第3電極223を設ける。本実施形態では第3電極223は65Å程度に形成する。
前述した工程段階S32〜S34を経てアノード220が形成されたあと、正孔注入層230及び正孔輸送層240を形成する工程S35、正孔注入層230及び正孔輸送層240上に発光層250を形成する工程S36、発光層250上に電子輸送層260及び電子注入層270を形成する工程S37及びカソードを形成する工程S40が続く。
前述した実施形態では正孔注入層230、正孔輸送層240、電子注入層270及び電子輸送層260を全部形成することが開示されているが、このうち一部のみを形成することも可能であることは勿論である。
図3は、本発明による第2電極222の厚さによる透過率特性を示したグラフである。
図3には、ATD合金構造で形成された第2電極222の厚さによる透過率を示す三つのグラフが示されている。
グラフ3aは、第2電極222の厚さが520Åの時の透過率を示し、グラフ3bは第2電極222の厚さが780Åの時の透過率を示し、グラフ3cは第2電極222の厚さが1000Åの時の透過率を表す。
この三つのグラフを参照すれば、ATD合金で形成された第2電極222は、その厚さは厚いほど透過率が低くなるということが分かる。つまり、発光層250から発生された光の損失を減らすためには第2電極222を厚く形成することが好ましい。
図4は、本発明によるアノード220をなす第1電極221及び第3電極223の厚さによる反射率特性を図示グラフである。
図4には、第2電極222の厚さは同じであり、第1電極221及び第3電極223の厚さが異なる二つのグラフが示されている。
グラフ4aは、第1電極221及び第3電極223各々の厚さを65Åで蒸着したグラフであり(ITO65Å/ATD1000Å/ITO65Å)、グラフ4bは、第1電極221及び第3電極223各々の厚さを130Åで蒸着するグラフである(ITO130Å/ATD1000Å/ITO130Å)。
第2電極222の厚さが同じであるという条件の下で、多層構造アノード220の反射率は波長と第1電極221及び第3電極223の厚さに影響される。具体的に、グラフ5a及びグラフ5bを参照すれば、波長が大きくなるほど、また第1電極221及び第3電極223の厚さが薄くなるほど多層構造アノード220の反射率がよい。これによって、発光層250の色相変化を少なくするためには第1電極221及び第3電極223を薄く形成するのが好ましい。
以上、本発明の好ましい実施形態を詳細に説明したが、本発明は前記した実施形態に限定されるものではなく、本発明の技術的思想の範囲内で当該分野において通常の知識を有する者によって様々な変形が可能であることは勿論である。
本発明による多数の層からなる多層画素電極を含む有機発光素子の概略的な側断面図である。 本発明による多層の画素電極形成方法による概略的な制御フローチャートである。 本発明による多層のアノードを構成する第2電極の厚さによる透過率の特性を示すグラフである。 本発明による多層のアノードを構成する第1電極及び第2電極の厚さによる反射率の特性を示すグラフである。 従来の画素電極を含む有機発光素子の概略的な側断面図である。
符号の説明
100、200 有機発光素子
110、210 基板
120、220 画素電極
221 第1電極
222 第2電極
223 第3電極
130、230 正孔注入層
140、240 正孔輸送層
150、250 発光層
160、260 電子輸送層
170、270 電子注入層
180、280 カソード

Claims (10)

  1. 基板上に形成される有機発光素子において、
    前記基板上に金属酸化物を含む第1電極と、
    前記第1電極上にランタン系列とアクチニウム系列の元素からなるグループから選ばれた一つ以上の金属を添加して合金化した銀を含む第2電極と、
    前記第2電極上に金属酸化物を含む第3電極を備える画素電極を含むことを特徴とする有機発光素子。
  2. 前記銀合金は、前記銀の属する11族のうち、少なくとも一つの金属をさらに添加して形成されることを特徴とする請求項1記載の有機発光素子。
  3. 前記銀合金は前記ランタン系列と前記アクチニウム系列から選ばれたサマリウムを含むことを特徴とする請求項1記載の有機発光素子。
  4. 前記サマリウムは0.1から0.6at%(原子百分率)までであることを特徴とする請求項3記載の有機発光素子。
  5. 前記銀合金に添加された前記11族から選ばれた金属は、0.4から1at%までであることを特徴とする請求項2記載の有機発光素子。
  6. 前記銀合金は、前記ランタン系列と前記アクチニウム系列から選ばれたテルビウムをさらに含むことを特徴とする請求項3記載の有機発光素子。
  7. 前記テルビウムは0.4から1at%までであることを特徴とする請求項6記載の有機発光素子。
  8. 前記第1電極と前記第3電極の各々の厚さは、前記第2電極厚さに比べて薄く形成されることを特徴とする請求項1記載の有機発光素子。
  9. 前記第1電極と前記第3電極の各々はインジウム錫酸化物(ITO)とインジウム亜鉛酸化物(IZO)のうち、いずれか一つからなることを特徴とする請求項1記載の有機発光素子。
  10. 前記画素電極上に形成される発光層と、前記発光層上に形成される対向電極をさらに含むことを特徴とする請求項1記載の有機発光素子。
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