JP2006112819A - 気体検知装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】 CNT11が平行平板電極1,2間を架橋するように各々並列に整列してCNT束3が構成され、各CNT11の内部にはフラーレン分子12が多数充填されており、CNT11の側壁には被検知対象であるガス分子10がCNT11内へ透過するための複数の開孔13が形成されている。
【選択図】 図1
Description
CNTの応用例として、気体検知装置、即ちガスセンサがある。ガスセンサの具体例が特許文献1に開示されている。特許文献1では図面が添付されていないため、当該ガスセンサを敢えて図示すれば図6のようになる。このガスセンサは、CNT103が電極101,102間で多層に積み重なって多層CNTが形成されている。この多層CNT103を被検知対象である気体分子を含む容器内に載置し、電極101,102間に印加する電圧を変化させてI/V曲線を作成し、標準I/V曲線と比較して当該気体分子の有無や多寡を判定するものである。
CNTを用いてガスセンサを構成する場合、上述のようにCNT自体をセンスサイトとして利用するのでは、その感度はCNT自体のセンシング能力で決定されるため、感度向上には限界がある。本発明者は、この点に着目し、CNTの内部又は外壁面に気体検知体を設け、CNT自体は、電極間の電気的接続を得るとともに、気体検知体を支持する役割を持たせる構成に想到した。この構成では、微小な気体検知体を多数CNTに設けることにより、CNT自体をセンスサイトとして利用する場合に比べてセンスサイト数が圧倒的に多く、極めて高い感度が確保される。
以下、本発明を適用した具体的な諸実施形態について、図面を参照しながら詳細に説明する。
(ガスセンサの主要構成)
図1は、第1の実施形態によるガスセンサの主要構成を示す模式図である。
本実施形態のガスセンサは、図1(a)に示すように、一対の電極、例えば平行平板電極1,2間にCNT束3が設けられており、平行平板電極1,2間に所定電圧を印加する電源4が接続されて構成されている。
ここで、上述した構成の本実施形態のガスセンサを製造する際の主要プロセスについて説明する。
CNTの成長には、電極表面上に金属触媒薄膜や金属触媒微粒子(例えばニッケル(Ni)やコバルト(Co))をスパッタ法等により蒸着させた基板を用いる。触媒の蒸着方法としては、スパッタ法以外にMBE法やEB法等が挙げられる。電極面の所定部位以外では、例えばパターニング等により金属触媒薄膜が除去、又は当該所定部位のみに金属触媒微粒子が堆積されており、電極面上で当該所定部位のみにCNTが成長するように制御されている。
続いて、基板の表面温度を510℃程度に調節し、水素を用いて基板表面を洗浄する。そして、基板の表面温度を540℃程度に調節し、原料ガスとしてアセチレンとアルゴンとの混合ガス(混合比1:9)を用い、総圧1kPaとしてCNTを成長させる。
ここで、成長したCNTは、用いた金属触媒によりその直径は異なるが、概ね5nm〜30nm程度の直径に形成され、それぞれ電極面から略垂直に林立して、CNT束を構成する。
CNT11の先端の開端処理は、酸素雰囲気中での加熱や酸素プラズマを用いて行う。基板から成長したCNT11の先端部分は、ほとんど6員環のみで構成される側壁部分と比較して最も活性な5員環を有しており、その先端部分が優先的に化学反応することでCNT11が開端される。なお、CNT11の根元部分は基板と接合しているため、上記のような化学反応は起きない。一例として、以下のように開端処理を行った。
フラーレン分子12のCNT11内への内包は、フラーレン分子12を昇華させたフラーレン雰囲気中に、上記の方法により先端が開端されたCNT11からなるCNT束3を設置することで行われる。CNT11内はエネルギー的に安定のため、フラーレン分子12は選択的にCNT11内部に内包される。一例として、以下のようにフラーレン分子12の昇華及び内包を行った。
続いて、真空チャンバー内部を高真空状態、例えば10-3Paのオーダーに調節した後、坩堝を550℃程度に加熱することにより、フラーレン分子12を昇華させてCNT11内部に内包させる。
CNTの両端が電極で覆われた状態で、酸素雰囲気中で加熱(510℃程度)する。この加熱処理の代わりに酸素プラズマ処理を行うようにしても良い。そうすると、最も活性な先端部分は既に電極で覆われていることから、次に酸素と反応するのは外壁に成長時に多くの場合形成される欠陥部分である。従って、先端の開孔と同様に酸化により外壁面の開孔が可能となる。もちろん、先端の開孔の際にもある程度の穴は空いている可能性はあるが、反応し易さでは圧倒的に先端部分が優位である。また、酸素雰囲気中に暴露する時間、酸素圧力、そして加熱温度を調整することで開孔部分の大きさをある程度は制御することが可能である。
以下、第2の実施形態について説明する。本実施形態では、第1の実施形態で開示した構成部材等と同様のものについては、便宜上同符号を付する。
図2は、第2の実施形態によるガスセンサの主要構成を示す模式図である。
本実施形態のガスセンサは、図2(a)に示すように、一対の電極、例えば平行平板電極1,2間にCNT束21が設けられており、平行平板電極1,2間に所定電圧を印加する電源4が接続されて構成されている。
本実施形態のガスセンサを製造するに際して、CNT22の成長処理については第1の実施形態で説明した成長方法と同様である。
金属微粒子23は、MBE法やPLD法等によりCNT22の外壁面に蒸着される。
以下、第2の実施形態の諸変形例について説明する。これらの変形例では、第2の実施形態と略同様の構成のガスセンサを開示するが、CNT束を構成する各CNTが異なる点で相違する。ここでは、第2の実施形態で開示した構成部材等と同様のものについては、便宜上同符号を付する。
(ガスセンサの主要構成)
図3は、第2の実施形態の変形例1によるガスセンサの主要構成を示す模式図である。
本例のガスセンサは、図3(a)に示すように、一対の電極、例えば平行平板電極1,2間にCNT束31が設けられており、平行平板電極1,2間に所定電圧を印加する電源4が接続されて構成されている。
本実施形態のガスセンサを製造するに際して、CNT32の成長処理については第1の実施形態で説明した成長方法と同様である。
金属微粒子34は、MBE法やPLD法等によりCNT32の外壁面に蒸着される。フラーレン分子35も同様に、MBE法やPLD法等により金属微粒子34の表面に蒸着される。
(ガスセンサの主要構成)
図4は、第2の実施形態の変形例2によるガスセンサの主要構成を示す模式図である。
本例のガスセンサは、図4(a)に示すように、一対の電極、例えば平行平板電極1,2間にCNT束41が設けられており、平行平板電極1,2間に所定電圧を印加する電源4が接続されて構成されている。なお、図示の便宜上、図4(a)では後述する枝状のCNT44の記載を省略する。
本実施形態のガスセンサを製造するに際して、CNT42の成長処理については第1の実施形態で説明した成長方法と同様である。
CNT42に枝状のCNT44を成長させるには、先ず、MBE法やPLD法等により触媒金属微粒子43をCNT42の外壁部分に蒸着する。そして、CNT42の成長方法と同様に、再度CVD法等を用いてCNT44の成長を行う。
金属微粒子45は、MBE法やPLD法等によりCNT44の外壁面に蒸着される。
(ガスセンサの主要構成)
図5は、第2の実施形態の変形例3によるガスセンサの主要構成を示す模式図である。
本例のガスセンサは、図5(a)に示すように、一対の電極、例えば平行平板電極1,2間にCNT束51が設けられており、平行平板電極1,2間に所定電圧を印加する電源4が接続されて構成されている。図5(a)では後述する枝状のCNT54の記載を省略する。
本実施形態のガスセンサを製造するに際して、CNT52の成長処理については第1の実施形態で説明した成長方法と同様である。
CNT52に枝状のCNT54を成長させるには、先ず、MBE法やPLD法等により触媒金属微粒子53をCNT52の外壁部分に蒸着する。そして、CNT52の成長方法と同様に、再度CVD法等を用いてCNT54の成長を行う。
前記電極間を電気的に接続する炭素元素からなる線状構造体と、
前記線状構造体に設けられた気体検知体と
を含み、
前記気体検知体に気体分子が吸着することによる前記線状構造体のコンダクタンスの変化を測定することを特徴とする気体検知装置。
前記開孔は、特定径以下の前記気体分子のみを透過させるように、その孔径が制御されていることを特徴とする付記3〜6のいずれか1項に記載の気体検知装置。
前記気体検知体は、前記枝状の線状構造体の外壁面に接合したものであることを特徴とする付記1又は2に記載の気体検知装置。
3,21,31,41,51 CNT束
4 電源
10 ガス分子
11,22,32,42,52 CNT
12,35,57 フラーレン分子
13 開孔
23,34,45,56 金属微粒子
33,55 気体検知体
43,53 触媒金属微粒子
44,54 枝状のCNT
Claims (10)
- 一対の電極と、
前記電極間を電気的に接続する炭素元素からなる線状構造体と、
前記線状構造体に設けられた気体検知体と
を含み、
前記気体検知体に気体分子が吸着することによる前記線状構造体のコンダクタンスの変化を測定することを特徴とする気体検知装置。 - 複数の前記線状構造体が、並列に整列して前記電極間を架橋することを特徴とする請求項1に記載の気体検知装置。
- 前記気体検知体は、前記線状構造体の内部に充填されたものであることを特徴とする請求項1又は2に記載の気体検知装置。
- 前記線状構造体の側壁に気体分子が透過する開孔が形成されており、
前記開孔は、特定径以下の前記気体分子のみを透過させるように、その孔径が制御されていることを特徴とする請求項3に記載の気体検知装置。 - 前記気体検知体は、前記線状構造体の外壁面に接合したものであることを特徴とする請求項1又は2に記載の気体検知装置。
- 前記気体検知体は、金属微粒子であることを特徴とする請求項5に記載の気体検知装置。
- 前記気体検知体は、金属微粒子と前記金属微粒子の表面に蒸着されたフラーレン分子とからなることを特徴とする請求項5に記載の気体検知装置。
- 前記線状構造体の外壁面に吸着した触媒微粒子から枝状の線状構造体が形成されており、
前記気体検知体は、前記枝状の線状構造体の外壁面に接合したものであることを特徴とする請求項1又は2に記載の気体検知装置。 - 前記気体検知体は、金属微粒子であることを特徴とする請求項8に記載の気体検知装置。
- 前記気体検知体は、金属微粒子と前記金属微粒子の表面に蒸着されたフラーレンとからなることを特徴とする請求項8に記載の気体検知装置。
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