JP2006016439A - ガス精製装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】 吸着塔11と、吸着塔11の下方側から上方側へ原ガス1を流通させるブロア16、バルブ18a〜18c等と、吸着塔11を減圧排気するブロア16、バルブ19a,19b等と、吸着塔11内の下方側と上方側とを仕切るように吸着塔11内に配設され、有機珪素系不純物1aを吸着する有機珪素系不純物吸着剤12と、吸着塔11内の下方側と上方側とを仕切るように吸着塔11内に配設され、硫黄系不純物1bを吸着する硫黄系不純物吸着剤13とを備えてガス精製装置10を構成し、有機珪素系不純物吸着剤12を、MCM−41、USY、MCM−48、USMのうちのいずれかとし、硫黄系不純物吸着剤13をシリカライトとした。
【選択図】 図1
Description
本発明に係るガス精製装置の第一番目の実施形態を図1に基づいて説明する。図1は、ガス精製装置の概略構成図である。
また、前記硫黄系不純物吸着剤13を構成する高シリカゼオライトとしては、シリカライトが挙げられる。
本発明に係るガス精製装置の第二番目の実施形態を図2に基づいて説明する。図2は、ガス精製装置の概略構成図である。ただし、前述した第一番目の実施形態の場合と同様な部分については、前述した第一番目の実施形態の説明で用いた符号と同一の符号を用いることにより、前述した第一番目の実施形態での説明と重複する説明を省略する。
本発明に係るガス精製装置の第三番目の実施形態を図3に基づいて説明する。図3は、ガス精製装置の概略構成図である。ただし、前述した第一、二番目の実施形態の場合と同様な部分については、前述した第一、二番目の実施形態の説明で用いた符号と同一の符号を用いることにより、前述した第一、二番目の実施形態での説明と重複する説明を省略する。
本発明に係るガス精製装置の第四番目の実施形態を図4に基づいて説明する。図4は、ガス精製装置の概略構成図である。ただし、前述した第一〜三番目の実施形態の場合と同様な部分については、前述した第一〜三番目の実施形態の説明で用いた符号と同一の符号を用いることにより、前述した第一〜三番目の実施形態での説明と重複する説明を省略する。
本発明に係るガス精製装置の第五番目の実施形態を図5に基づいて説明する。図5は、ガス精製装置の概略構成図である。ただし、前述した第一〜四番目の実施形態の場合と同様な部分については、前述した第一〜四番目の実施形態の説明で用いた符号と同一の符号を用いることにより、前述した第一〜四番目の実施形態での説明と重複する説明を省略する。
本発明に係るガス精製装置を下水浄化処理設備に適用した場合の第六番目の実施形態を図6に基づいて説明する。図6は、下水浄化処理設備の概略構成図である。ただし、前述した第一〜五番目の実施形態の場合と同様な部分については、前述した第一〜五番目の実施形態の説明で用いた符号と同一の符号を用いることにより、前述した第一〜五番目の実施形態での説明と重複する説明を省略する。
本発明に係るガス精製装置を下水浄化処理設備に適用した場合の第七番目の実施形態を図7に基づいて説明する。図7は、下水浄化処理設備の概略構成図である。ただし、前述した第一〜六番目の実施形態の場合と同様な部分については、前述した第一〜六番目の実施形態の説明で用いた符号と同一の符号を用いることにより、前述した第一〜六番目の実施形態での説明と重複する説明を省略する。
なお、前述した第五番目の実施形態に係るガス精製装置50においては、吸着塔11の上流側に配設したブロア16により、原ガス1を吸着塔11内に送給するようにしたが、他の実施形態として、例えば、上記ブロア16を省略して、図8に示すように、吸着塔11と吸着塔31との間に配設された前記ブロア36により、原ガス1を吸引して吸着塔11内に送給するようにしたガス精製装置60を適用すれば、原ガス1中に含まれている硫黄系不純物1bによる腐食を防止するために高価な腐食性材料を用いるブロア16を使用しなくても済み、低コスト化を図ることができる。さらに他の実施形態として、例えば、図9に示すように、吸着塔31の下流側に前記ブロア36を配設するようしたガス精製装置70を適用すれば、二酸化炭素1cを除去された精製ガス1eを流通させるだけで済むようになるので、ブロア36の吐出能力が小さくて済み、低コスト化をさらに図ることができる。
図11に示す小型カラム試験装置を用いて有機珪素系不純物吸着剤の効果確認試験を次のようにして行った。
ヘキサメチルジシロキサン(HMDS)、デカメチルテトラシロキサン(DMTS)の二種類
<有機珪素系不純物吸着剤>
MCM−41、USY、シリカライト、MCM−48、USMの五種類
<不純物濃度>
・HMDSの場合:700ppm
・DMTSの場合:90ppm
0.9g
<吸着温度>
25℃
<吸着圧力>
120kPa
<吸着時間>
30〜420秒
<逆洗時間>
600秒
図13に示す小型カラム試験装置を用いて硫黄系不純物吸着剤の効果確認試験を次のようにして行った。
メチルメルカプタン
<有機珪素系不純物吸着剤>
MCM−41、USY、シリカライト、石英ビーズの四種類
100ppm
<吸着剤充填量>
4〜6g
<吸着温度>
25℃
<吸着圧力>
120kPa
<吸着時間>
10〜60秒
<逆洗時間>
5〜70秒
図15に示す小型カラム試験装置を用いて二酸化炭素吸着剤の効果確認試験を次のようにして行った。
二酸化炭素:約33vol.%、メタン:約62vol.%、その他(窒素等):約5vol.%
<二酸化炭素吸着剤>
X型ゼオライト
・交換カチオン:Na,Ca,Li,Sr,Mgの五種類
(Na−X,Ca−X,Li−X,Sr−X,Mg−Xの五種類のゼオライト)
・シリカ/アルミナ比:2、2.3、2.5、3、5の五種類
10〜15g
<吸着温度>
25℃
<吸着圧力>
120kPa
<吸着時間>
30〜420秒
<逆洗時間>
600秒
ただし、PCO2は二酸化炭素の分圧、PCH4はメタンの分圧、qCO2は二酸化炭素の平衡吸着量、qCH4はメタンの平衡吸着量である。
1a 有機珪素系不純物
1b 硫黄系不純物
1c 二酸化炭素
1d,1e 精製ガス
2 空気
3 消毒剤
4 窒素ガス
5 ヘリウムガス
6 メタンガス
10 ガス精製装置
11 吸着塔
12 有機珪素系不純物吸着剤
13 硫黄系不純物吸着剤
16 ブロア
18a〜18c,19a,19b バルブ
20 ガス精製装置
24 二酸化炭素吸着剤
30 ガス精製装置
31 吸着塔
36 ブロア
38b,38c,39a,39b バルブ
40 ガス精製装置
46 真空ポンプ
47 サージタンク
49a〜49d バルブ
56 真空ポンプ
58b,58c,59a〜59c バルブ
60,70 ガス精製装置
100 下水
100a〜100d 処理途中の下水
100e 浄化排水
100f〜100j 処理途中の水分
102 汚泥
102a〜102f 処理途中の汚泥
102g 処理済の汚泥
103 活性汚泥
110 下水浄化処理設備
111 沈砂池
112 最初沈殿池
113 曝気槽
114 最終沈殿池
115 消毒槽
116 濃縮設備
117 発酵槽
118 脱水設備
119 乾燥設備
120 焼却設備
210 下水浄化処理設備
211 曝気槽
310 下水浄化処理設備
511 窒素ガスボンベ
511a バルブ
512 シロキサン発生器
513a,513b マスフローコントローラ
514 カラム
515 分析計
516 ヘリウムガスボンベ
516a バルブ
517a,517b 圧力計
518a,518b 流量計
519a〜519d 開閉弁
522 メルカプタンガスボンベ
522a バルブ
531 メタンガスボンベ
531a バルブ
532 二酸化炭素ボンベ
532a バルブ
Claims (15)
- 硫黄系不純物及び有機珪素系不純物を含有する原ガスを精製するガス精製装置であって、
第一の処理槽と、
前記第一の処理槽の一方側から他方側へ前記原ガスを流通させる第一のガス送給手段と、
前記第一の処理槽内を減圧排気する第一の減圧排気手段と、
前記第一の処理槽内の一方側と他方側とを仕切るように当該第一の処理槽内に配設され、前記有機珪素系不純物を吸着する有機珪素系不純物吸着剤と、
前記第一の処理槽内の一方側と他方側とを仕切るように当該第一の処理槽内に配設され、前記硫黄系不純物を吸着する硫黄系不純物吸着剤と
を備え、
前記有機珪素系不純物吸着剤が、MCM−41、USY、MCM−48、USMのうちのいずれかであり、
前記硫黄系不純物吸着剤が、シリカライトである
ことを特徴とするガス精製装置。 - 請求項1において、
前記第一の処理槽内の一方側と他方側とを仕切るように当該第一の処理槽内に配設され、二酸化炭素を吸着する二酸化炭素吸着剤を備え、
前記二酸化炭素吸着剤が、Li,Ca,Sr,Mg,Naのうちのいずれかを交換カチオンとしたX型ゼオライトである
ことを特徴とするガス精製装置。 - 請求項1において、
第二の処理槽と、
前記第一の処理槽の一方側から他方側へ流通したガスを前記第二の処理槽の一方側から他方側へ流通させる第二のガス送給手段と、
前記第二の処理槽内を減圧排気する第二の減圧排気手段と、
前記第二の処理槽内の一方側と他方側とを仕切るように当該第二の処理槽内に配設され、二酸化炭素を吸着する二酸化炭素吸着剤と
を備え、
前記二酸化炭素吸着剤が、Li,Ca,Sr,Mg,Naのうちのいずれかを交換カチオンとしたX型ゼオライトである
ことを特徴とするガス精製装置。 - 請求項2又は請求項3において、
前記二酸化炭素吸着剤が、シリカ/アルミナ比を2〜2.5としたX型ゼオライトである
ことを特徴とするガス精製装置。 - 請求項1又は請求項2において、
前記第一の処理槽が複数設けられて並列に連結されている
ことを特徴とするガス精製装置。 - 請求項3において、
前記第一の処理槽が複数設けられて並列に連結されていると共に、
前記第二の処理槽が複数設けられて並列に連結されている
ことを特徴とするガス精製装置。 - 請求項5において、
排気された前記第一の処理槽内のガスを当該第一の処理槽の一方側から他方側へ再び流通させる排気再送給手段と、
前記排気再送給手段で前記第一の処理槽内を流通した前記ガスを精製ガス又は原ガスと合流させる切換手段と
を備えていることを特徴とするガス精製装置。 - 請求項6において、
排気された前記第二の処理槽内のガスを当該第二の処理槽の一方側から他方側へ再び流通させる排気再送給手段と、
前記排気再送給手段で前記第二の処理槽内を流通した前記ガスを精製ガス又は前記第一の処理槽の一方側から他方側へ流通したガスと合流させる切換手段と
を備えていることを特徴とするガス精製装置。 - 請求項8において、
前記排気再送給手段が、排気された前記第二の処理槽内のガスをさらに前記第一の処理槽の他方側から一方側へ再び流通させるものである
ことを特徴とするガス精製装置。 - 請求項1から請求項9のいずれかにおいて、
前記有機珪素系不純物吸着剤が、ガスの流通方向において前記硫黄系不純物吸着剤よりも上流側に配設されている
ことを特徴とするガス精製装置。 - 請求項2において、
前記二酸化炭素吸着剤が、ガスの流通方向において前記有機珪素系不純物吸着剤及び前記硫黄系不純物吸着剤よりも下流側に配設されている
ことを特徴とするガス精製装置。 - 請求項1から請求項11のいずれかにおいて、
前記吸着剤が、ハニカム形状をなしている
ことを特徴とするガス精製装置。 - 請求項1から請求項12のいずれかにおいて、
前記原ガスが、バイオガス又は廃棄物熱分解ガスである
ことを特徴とするガス精製装置。 - 下水を浄化処理する下水浄化処理設備であって、
前記下水の汚泥から生成する消化ガスを原ガスとして、メタンを精製ガスとして得る請求項1から請求項12のいずれかのガス精製装置を備え、
前記ガス精製装置で前記原ガスから分離した前記精製ガスを焼却設備の燃料に使用し、 前記ガス精製装置で前記原ガスから分離した前記有機珪素系不純物及び前記硫黄系不純物を前記焼却設備で焼却処理する
ことを特徴とする下水浄化処理設備。 - 下水を浄化処理する下水浄化処理設備であって、
前記下水の汚泥から生成する消化ガスを原ガスとして、メタンを精製ガスとして得る請求項1から請求項12のいずれかのガス精製装置を備え、
前記ガス精製装置で前記原ガスから分離した前記有機珪素系不純物及び前記硫黄系不純物を前記汚泥中に戻す
ことを特徴とする下水浄化処理設備。
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