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JP2005511551A - 2−アラルコキシアデノシン及び2−アルコキシアデノシンの合成 - Google Patents

2−アラルコキシアデノシン及び2−アルコキシアデノシンの合成 Download PDF

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JP2005511551A JP2003538175A JP2003538175A JP2005511551A JP 2005511551 A JP2005511551 A JP 2005511551A JP 2003538175 A JP2003538175 A JP 2003538175A JP 2003538175 A JP2003538175 A JP 2003538175A JP 2005511551 A JP2005511551 A JP 2005511551A
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キング・ファーマシューティカルズ・リサーチ・アンド・デベロプメント・インコーポレイティッド
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Abstract

本発明は2−アラルコキシアデノシン及び2−アルコキシアデノシンの新規な合成方法を提供する。本発明は、2−[2−(4−クロロフェニル)エトキシ]アデノシンの合成に特に有用である。本発明の好ましい方法は、グアノシン化合物を活性化次いで加水分解する;加水分解された化合物をアルキル化続いてアミノ化して2−アラルコキシアデノシン又は2−アルコキシアデノシン化合物を得ることからなる。

Description

関連出願
本出願は、2001年10月25日出願の米国特許仮出願第60/335,169号及び2002年4月26日出願の米国特許仮出願第60/375,723号の優先権を主張する。これら、両出願の全文が参照として本明細書に取り込まれる。
1.発明の分野
本発明は、2−アラルコキシアデノシン及び2−アルコキシアデノシンの新規な合成方法を提供する。本発明は、2−[2−(4−クロロフェニル)エトキシ]アデノシンの合成に特に有用である。
2.背景
アデノシンは多くの生物学的機能を有する内在性物質である。これらの生物学的機能の多くはアデノシン受容体としても知られている、Pプリン受容体に対する天然のリガンドとしての作用の結果である。いくつかの哺乳動物種から同定され、そしてクローン化されているアデノシン受容体の4つのサブタイプが知られている:A、A2A、A2B、及びA。これらの受容体は原型的なG−蛋白結合受容体で、典型的なシグナル伝達経路を介して生物活性を発現する。
アデノシンの化学修飾は、作動薬又は拮抗薬としての機能を有し、個々のアデノシン受容体サブクラスと選択的に結合する分子を提供してきた。このような選択的なリガンドが入手可能であることから、アデノシンの多くの生物学的機能を個々の受容体サブクラスに帰することが可能となった。特に、選択的アデノシンA2A受容体作動薬は、局所投与すると、正常及び弱められた治癒能力の両者において、動物の傷の治癒を有意に促進することができるということが明らかにされている。例えば、2−(アラルキルアミノ)アデノシン−5’−ウロナミドである、CGS−21680は健康な、正常なマウスの傷縫合を有意に促進した(Montesinos et.al. J.Exp.Med.,1997,186:1615−1620参照)。更に、この同じ化合物は正常及び糖尿病ラットの切開傷の治癒を、未処置ラットに比較して、高め、この効果は選択的アデノシンA2A受容体拮抗薬の同時投与によって阻害された。
更に興味のあるアデノシン化合物は2−アルコキシ−及び2−アラルコキシ−アデノシンとして知られている、アデノシンA2A作動薬である。特に、2−[2−(4−クロロフェニル)エトキシ]アデノシンは正常な健康マウスの切開傷の縫合を、最近糖尿病性足潰瘍の治療に用いるために承認された、0.01%ベカプレルミンゲル(becaplermin gel)よりも更に早く促進した。
2−[2−(4−クロロフェニル)エトキシ]−アデノシン及び他の2−アラルコキシアデノシン及び2−アルコキシアデノシンの製造は、2’,3’−O−(エトキシメチリデン)−2−クロロアデノシン又は2’,3’−O−(イソプロピリデン)−2−クロロアデノシンのクロロ基を適当なナトリウム又はリチウムア(ラ)ルコキシドで置換し(Marumoto et al.(1975),Chem.Pharm.Bull.23:759−774;Ueeda et al.,(1991a),J.Med.Chem.34:1334−1339;Ueeda et al.,(1991b),J.Med.Chem.34:1340−1344参照)、次いで脱保護及び生成物を精製することが必要であった。2’−及び3’−水酸基の保護は、2→2’重合体の形成を阻止するために不可欠であると述べられている(Marumoto et al.(1975),Chem.Pharm.Bull.23:759−774;Ueeda et al.,(1991a),J.Med.Chem.34:1334−1339)。2’,3’−保護基の除去に必要な酸性条件に対してN−9→C−1’グリコシド結合の不安定性が、これら選択的アデノシンA2受容体の製造にみられる低収率を助長することも示されている(Ueeda et al.,(1991a),J.Med.Chem.34:1334−1339)。
これらの合成ルートは長く、多くの場合非常に低収率で化合物を製造する。それ故に2−アラルコキシアデノシン及び2−アルコキシアデノシンの新規な合成法を得ることが望ましい。2−[2−(4−クロロフェニル)エトキシ]アデノシンの新規な合成法を得ることが特に望ましい。
我々は今や、下に特定した、式Iの化合物に含まれる2−アラルコキシアデノシン及び2−アルコキシアデノシン、及び当該化合物の薬学的に許容される塩の新規な製造法を見出した。本発明は2−[2−(4−クロロフェニル)エトキシ]アデノシン及びこれらの薬学的に許容される塩の合成に特に有用である。
本発明の方法は、(a)グアノシン化合物を例えばハロゲン化によって活性化;(b)得られた化合物の加水分解;(c)得られた加水分解された化合物をアルキル化剤で処理;及び(d)アルキル化された化合物をアミンで処理して2−アラルコキシアデノシン又は2−アルコキシアデノシン化合物を得ることよりなる。
本発明の好ましい態様によれば、グアノシン化合物をアシル化剤で処理する;アシル化された化合物を次いで好ましくは特に、塩素源のような、ハロゲン源で処理することで活性化し、次いでこの化合物を好ましくは活性化窒素化合物、好ましくは、特に酸素−窒素残基、とりわけ亜硝酸エステルによって例示される、一酸化窒素(NO、NO、など)機能を有する化合物、で処理した後に加水分解反応に処し;得られた化合物をアルキル化剤で処理し、次いでアンモニア又はその他の適当なアミンによるようなアミノ化を行う。
特に好ましい合成は2−[2−(4−クロロフェニル)エトキシ]アデノシンを提供する。
本発明の特に好ましい合成は、ジメチルホルムアミド及びピリジン中で、グアノシンを無水酢酸でアシル化し、次いでオキシ塩化リンで塩素化することによる2−[2−(4−クロロフェニル)エトキシ]アデノシンの製造からなる。得られた中間体を亜硝酸tert−ブチルによるジアゾ化に引き続き、適当に加水分解し、、次いでジメチルホルムアミド中、炭酸セシウムの存在下に2−(4−クロロフェニル)エチルブロマイドでアルキル化し、次いでエタノール中でアンモニアを用いて、6−クロロ残基を置換と同時に脱保護する。この2−[2−(4−クロロフェニル)エトキシ]アデノシンは高収率で単離することができる。例えば、出発物質、2−アミノ−6−クロロ−9−(2,3,5−トリ−O−アセチル−β−D−リボフラノシル)プリンに基づいて約40から50モルパーセントである。他の2−アラルコキシアデノシン及び2−アルコキシアデノシンでも同様な収率が得られる。
(発明の詳細な説明)
上で述べたように、我々は今、アデノシン受容体に対する選択的なリガンドとして又はアデノシン受容体に対する選択的なリガンドの製造における中間体として有用な、下記式Iの化合物に含まれる2−アラルコキシアデノシン及び2−アルコキシアデノシンの新規な製造方法を見出した。
Figure 2005511551
上記の式Iにおいて、R及びRは独立して、水素、アルキル、置換アルキル、アルケニル、置換アルケニル、アルキニル、置換アルキニル、シクロアルキル、置換シクロアルキル、シクロアルケニル、置換シクロアルケニル、アラルキル、置換アラルキル、アリール、置換アリール、ヘテロアリール、ヘテロサクリックであり、又は窒素原子と一緒になる場合は、アゼチジン環又は窒素、酸素及び硫黄から選ばれる合計1乃至4個の異種原子を含有する5−6員の複素環を形成し;
は アルキル、置換アルキル、アルケニル、置換アルケニル、アルキニル、置換アルキニル、アラルキル、置換アラルキル、アラルケニル又は置換アラルケニルである。
一態様において、本発明の好ましい方法はグアノシンを塩基及び溶媒の存在下で、適当な反応温度、例えば約20℃から約120℃で、実質的な反応が完了するまでの充分な時間、例えば約20分から約30時間、アシル化剤で処理することからなる。適当に、反応生成物を、3級アミン、塩化チオニル/DMF、五塩化リン、塩素ガス、四塩化炭素/トリフェニルホスフィン、ジクロロトリフェニルホスホラン、又はトリフェニル二塩化アンチモンの存在下、適当な反応温度、例えば約10℃から約120℃で、実質的な反応が完了するまでの充分な時間、例えば約5分から約8時間、溶媒中で適当なハロゲン源、特にオキシ塩化リンのような塩素源で処理する。
第2工程の生成物を対応する2−ヒドロキシ誘導体への変換は、酸、例えば無機酸の存在下、適当な溶媒、例えば水と低級アルコールの混合物中で、反応を促進する適当な温度、例えば約−10℃から約60℃、例えば約20分から24時間、亜硝酸アルキル又は亜硝酸ナトリウムのような亜硝酸塩試薬で好ましく行われる。溶媒中の保護された6−クロロ−2−ヒドロキシ−9−(β−D−リボフラノシル)プリンは、例えば0℃から約120℃、約30分から約48時間かけて、適当なアルキル化剤へ添加される。この中間体をアルコール性の溶媒に溶解し、−70℃から約120℃の温度で、約20分から約48時間、1から5気圧で、アンモニア又は適当な1級又は2級アミンで処理する。この反応混合物を蒸発乾固し、生成物を適当な溶媒からの再結晶又はクロマトグラフィー又はこれら二つの方法の組み合わせで精製する。
一態様によれば、アシル化剤は塩化アセチル、無水酢酸、プロピオン酸クロライド、無水プロピオン酸、塩化ベンゾイル、無水安息香酸、フェニル酢酸クロライド、及びフェノキシ酢酸クロライドからなる群より選ばれる。
塩基はピリジン、4−ジメチルアミノピリジン、4−ピロリジニル−ピリジン、N,N−ジメチルアニリン、N−エチル−N−メチルアニリン、N,N−ジエチルアニリン、トリメチルアミン、トリエチルアミン、N,N−ジメチルエチルアミン、N,N−ジメチル−イソプロピルアミン、及びN,N−ジエチルメチルアミンからなる群から選ばれる。
溶媒はジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、ピリジン、アセトニトリル、テトラヒドロフラン、ヘキサメチルホスホラミド、及び1,4−ジオキサンからなる群から選ばれる。
第2工程における溶媒は、アセトニトリル、ジクロロメタン、クロロホルム、四塩化炭素、1,2−ジメトキシエタン、テトラヒドロフラン、ジメチルホルムアミド、ヘキサメチルホスホラミド、1,4−ジオキサン、1,2−ジクロロメタン、ジ(ジエチレングリコール)ジエチルエーテル、及び2−メトキシエチルエーテルよりなる群から選ばれる。3級アミンはN,N−ジメチルアニリン、N−エチル−N−メチルアニリン、N,N−ジエチルアニリン、トリメチルアミン、トリエチルアミン、N,N−ジメチルエチルアミン、N,N−ジメチルイソプロピルアミン、及びN,N−ジエチルメチルアミンからなる群から選ばれる。
第3工程において亜硝酸アルキルは、亜硝酸tert−ブチル、亜硝酸アミル、亜硝酸iso−アミル、及び亜硝酸n−ブチルからなる群から選ばれる。低級アルコールはメタノール、エタノール、1−プロパノール、2−プロパノール、1−ブタノール、2−ブタノール、tert−ブタノール、アミルアルコール、及びイソアミルアルコールからなる群から選ばれる。無機酸は塩酸、臭化水素酸、硝酸、及び硫酸からなる群から選ばれる。
製法の第4工程において、溶媒はジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、ジメチルスルホキシド、ヘキサメチルホスホラミド、1,2−ジメトキシエタン、1,4−ジオキサン、テトラヒドロフラン、及び2−メトキシエチルエーテルよりなる群から選ばれる。塩基は炭酸リチウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸セシウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水素化ナトリウム、ナトリウムtert−ブトキシド、及びカリウムtert−ブトキシドからなる群から選ばれる。
本発明方法の一態様の第5工程において、アルコール性溶媒はメタノール、エタノール、1−プロパノール、及び2−プロパノールよりなる群から選ばれる。
上記の方法において、工程(d)における適当なアルキル化剤の選択は、合成する2−アルコキシ−アデノシン又は2−アラルコキシアデノシンによって決まり、市販の又は技術的に公知の方法で合成によって得られる多くの塩化アルキル、臭化アルキル、ヨー化アルキル、メタンスルホン酸アルキル、トリフルオロメタンスルホン酸アルキル、トシル酸アルキル、塩化アラルキル、臭化アラルキル、沃化アラルキル、メタンスルホン酸アラルキル、トリフルオロメタンスルホン酸アラルキル、及びトシル酸アラルキルから選択できる、ということは当業者によって認識されることであろう。上記の方法において、工程(e)におけるアンモニア又は適当な1級又は2級アミンの選択は、同様に合成される所望の2−アルコキシ−アデノシン又は2−アラルコキシアデノシンによって導き出され、アンモニア又は市販の又は技術的に公知の方法で合成的に得られる多くの1級及び2級アミンから選ばれるものであろう、ということも当業者によって認識されることであろう。
ここで使用される、「アルキル」という語は、好ましくは1から20の炭素原子、最も好ましくは1から10の炭素原子(「低級アルキル」)を有する、1価の直鎖、分岐鎖、又は環状アルキル基を意味する。この語はメチル、エチル、n−プロピル、iso−プロピル、n−ブチル、iso−ブチル、n−ヘキシル、2−メチルプロピル、3−メチルブチル、などのような基によって例示される。「アルキレン」及び「低級アルキレン」という語は対応するアルカンの2価のラジカルを意味する。さらに、ここで用いられる、アルコキシ、アルカノイル、アルケニル、シクロアルケニル、などのようなのアルカンから派生する名称を有する他の残基は、「低級」で修飾されるときは、10又はそれ以下の炭素原子の炭素鎖を有する。炭素の最小必要数が1より大きい場合、例えばアルケニル及びアルキニル(最小2炭素)及びシクロアルキル(最小3炭素原子)、は「低級」という語は少なくとも炭素原子の最少数を意味するということを理解すべきである。
ここで使用される、「置換アルキル」という語は、アルコキシ、置換アルコキシ、シクロアルコキシ、置換シクロアルコキシ、シクロアルキル、置換シクロアルキル、シクロアルケニル、置換シクロアルケニル、アルキニル、置換アルキニル、アシル、アミノ、、アリール、置換アリール、カルボキシル、カルボキシアルキル、シアノ、フルオロ、ヒドロキシル、ハロゲン、ヘテロアリール、ヘテロサイクリック、ニトロ、アルキルチオ、チオール、モノ(アルキル)−アミノ、ジ(アルキル)アミノ、モノ(置換アルキル)アミノ、ジ(置換アルキル)アミノ、(アルキル、置換アルキル、アリール、置換アリール、アラルキル、及び置換アラルキルから選ばれる)異なった 置換基を有する非対称ジ置換アミン、−SO−アルキル、−SO−置換アルキル、−SO−アリール、−SO−置換アリール、−SO−アルキル、−SO−置換アルキル、−SO−アリール、及び−SO−置換アリールからなる群から選ばれる1から5個の 置換基好ましくは1から3個の 置換基を有するアルキル基を意味する。ここで用いられる、接頭語「置換」を有する他の残基は上で挙げた1又はそれ以上の 置換基を含むことを意図する。
ここで使用される、「アルケニル」という語は、2から20個の、最も好ましくは2から10個の炭素原子を有し、少なくとも1箇所、好ましくは1から3箇所にアルケニル不飽和を有する直状又は分岐状のアルケニル基を意味する。この語は、エテニル(CH=CH)、1−プロペニル(CH=CH−CH)、2−プロペニル(C(CH)=CH)、3−メチル−2−ペンテニル(CH−CH=C(CH)−CHCH)などのような基によって例示される。
ここで使用される、「アルキニル」という語は、2から20個の、最も好ましくは2から10個の炭素原子を有し、少なくとも1箇所、好ましくは1から2箇所にアルキニル不飽和を有する直状又は分岐状のアルケニル基を意味する。この語は、エチニル、1−プロピニル、2−プロピニル、2−ブチニル、4,4−ジメチル−2−ペンチニルなどのような基によって例示される。
ここで使用される、「シクロアルキル」という語は、単環又は融合又はスピロ環式縮合で結合した多環を有する3から20炭素原子のシクロアルキル基を意味する。この語は、シクロプロピル、シクロペンチル、シクロヘキシル、シクロオクチル、ノロボルニル、パーヒドロフルオレニル、アダマンチルなどのような基によって例示される。
ここで使用される、「シクロアルケニル」という語は、単環又は融合又はスピロ環式縮合で結合した多環を有し、少なくとも1箇所、好ましくは1から2箇所にアルケニル不飽和を有する5から20炭素原子のシクロアルケニル基を意味する。この語は、シクロペンテニル、シクロヘプテニル、1,3−シクロオクタジエニル、シクロヘプタトリエニル、ビシクロ[2,2,1]ヘプタ−2,5−ジエニルなどのような基によって例示される。
ここで使用される、「アリール」という語は、単環又は多縮合環を有する6から20炭素原子の不飽和芳香族炭素環式の基を意味する。この語は、フェニル、1−ナフチル、2−ナフチル、アントラセニル、1,2−ベンヅアントラセニルなどのような基によって例示される。ここで使用される、「アリール」という語は、芳香環又は環が更なる非芳香環で縮合された縮合−環炭化水素も意味する。このような態様における、この語はフルオレニル、アセナフテニル、ビフェニレン、フルオランテニルなどのような基によって例示される。アリール置換に対する定義によって制約されない限り、このようなアリール基はここで挙げられたリストから選ばれる、1から5個の、好ましくは1から3個の、 置換基で任意に置換されることができる。
ここで使用される、「アラルキル」という語は、アルキレン基又は置換アルキレン基に結合したアリール又は置換アリール基を意味し、ここにおいてアリール、置換アリール、アルキレン、及び置換アルキレンはここで定義されている。
ここで使用される、「ヘテロサイクリック」という語は、単環又は多縮合環を有し、環又は多環中に1から15個の炭素原子及び1から5個の、窒素、硫黄、及び酸素からなる異項原子の群から選択される異項原子を、好ましくは環又は多環中に1から9個の炭素原子及び1から4個の異項原子を有する1価の飽和又は不飽和の炭素環基を意味する。この語は、テトラヒドロフラニル、ピロリニル、ピロリジニル、オキサゾリジニル、チアゾリジニル、イミダゾリジニル、ピペリジニル、ピペラジニル、キヌクリジニル、チオモルホリニル、モルホリニル、ジオキソラニルなどのような基によって例示される。
ここで使用される、「ヘテロアリール」という語は、5−員又は6−員のヘテロサイクリック、芳香族基を意味し、これは任意にアリール又は置換アリール環に縮合されることができ、ヘテロサイクリック、アリール、及び置換アリールはここで定義されている。この語は、ピロリル、フラニル、チオフェニル、ピラゾリル、イミダゾリル、イソキサゾリル、オキサゾリル、イソチアゾリル、チアゾリル、チアジアゾリル、トリアゾリル、テトラゾリル、ピリジル、ピリダジル、ピリミジル、インドリル、ベンゾフラニル、ベンゾトリアゾリル、キノリニル、イソキノリニルなどのような基によって例示される。任意に、このヘテロアリール基は第2又は第3のヘテロアリール基に縮合されてもよい。こういう背景で、この語は1,2,3−トリアゾロ[4,5−b]ピリジニル、−トリアゾロ[1,5−a]ピリミジニル、ピラゾロ[3,4−d]ピリミジニル、プリニル、プテリニル、プテリジニル、ピリミド[5,4−d]ピリミジニル等のような基によって例示される。
ここで使用される、「アシル」という語は基、アルキル−C(O)−、置換アルキル−C(O)、シクロアルキル−C(O)、置換シクロアルキル−C(O)、アリール−C(O)、置換アリール−C(O)、ヘテロサイクリック−C(O)、及びヘテロアリール−C(O)を意味し、アルキル、置換アルキル、シクロアルキル、置換シクロアルキル、アリール、置換アリール、ヘテロサイクリック、及びヘテロアリールはここで定義されている。
ここで使用される、「アルコキシ」という語は基、「アルキル−O−」、「置換アルキル−O−」、「シクロアルキル−O−」、又は「置換シクロアルキル−O−」を示し、アルキル、置換アルキル、シクロアルキル、及び置換シクロアルキルはここで定義されている。この語は、メトキシ、エトキシ、1−プロポキシ、2−プロポキシ、1−ブトキシ、tert−ブトキシ、シクロペンチルオキシ、シクロヘキシルエトキシなどのような基によって例示される。
ここで使用される、「ハロ」又は「ハロゲン」はフッ素、塩素、臭素、及びヨウ素を意味する。
1又はそれ以上の 置換基を有する上記のどの基についても、このような基は立体的に実行できないもの又は合成的に実施できない置換又は置換形式を何れも含んでいないということは、当業者によって理解される。
ここに記載された全ての文献は、参照として本明細書に取り込まれる。下記の実施例は本発明を詳しく説明するものであって、これらに限定されるものではない。
2−[2−(4−クロロフェニル)エトキシ]アデノシンの合成
工程A:2’,3’,5’−トリ−O−アセチルグアノシンの製造
Figure 2005511551
機械攪拌器、滴下ロート、冷却器及びアルゴン注入口を備えた、12リットルの3頚丸底フラスコにジメチルホルムアミド(9リットル)及びグアノシン(P10上で80℃、20時間前乾燥した、988g、3.50モル)を入れ、次いで60℃に加熱する。ピリジン(1.1リットル)次いで無水酢酸(2.15リットル、22.8モル)を加え、90〜100℃に4時間加熱する。一夜で室温まで冷却し、混合物を蒸発させて約6リットル除去し、次いで10リットルのイソプロパノールで70℃に4時間加熱して懸濁させる。混合物をゆっくり室温まで冷却すると、結晶性の固体として生成物が得られる。濾取後、固体をイソプロパノール(2×2リットル)で洗浄し、真空中、80℃で17時間乾燥すると目的の中間体(1,080g、75%)が得られる。
工程B:2−アミノ−6−クロロ−9−(2,3,5−トリ−O−アセチル−β−D−リボフラノシル)プリンの製造
Figure 2005511551
機械攪拌器、滴下ロート、冷却器、温度計及びアルゴン注入口を備えた、8リットルの3頚丸底フラスコに乾燥アセトニトリル(2.2リットル)及び2’,3’,5’−トリ−−アセチル−グアニジン(550g、1.344モル)を入れる。前もってP上で100℃/高真空で乾燥した、塩化テトラエチルアンモニウム(433g、2.55モル)を加えて透明な緑色溶液を得る。45−50℃に加熱した後、N,N,−ジメチルアラニン(179g、1.48モル)、次いでオキシ塩化リン(825g、5.38モル)を15分間で加える。この間に温度は75±3℃に上昇する。混合物を15分間75±3℃に保ち、瞬間蒸発(TBATH<40℃)し、暗赤色の残渣をジクロロメタン(4リットル)で抽出する。激しく攪拌して、混合物を氷水(2.5L)で洗浄し、有機層を採取し、水層をジクロロメタン(2×1L)で更に抽出する。合わせた有機層を冷水(2×2L)、NaHCOの飽和水溶液で洗浄し、乾燥(NaSO)、ろ過し、約1.5リットルに濃縮する。無水エタノール(1.5L)を加え、混合物を約2リットルに濃縮する。室温まで冷却し、40℃で17時間真空乾燥すると、生成物は無色固体(321g、56%)として結晶化する。
工程C:6−クロロ−2−ヒドロキシ−9−(2,3,5−トリ−O−アセチル−β−D−リボフラノシル)プリンの製造
Figure 2005511551
2−アミノ−6−クロロ−9−(2,3,5−トリ−−アセチル−β−D−リボフラノシル)プリン (42.7g、100mmol)を加熱しながら、tert−ブチルアルコール:水混合液(1:1、v/v)に溶解する。氷浴で冷却した後、亜硝酸tert−ブチル(50mL、422mmol)を一度に加える。氷浴をはずして混合物を室温でガスの発生が止むまで(約3時間)攪拌する。この混合物を氷結させ(ドライアイス/2ープロパノール)て凍結乾燥すると、目的の中間体が黄色個体として得られる。このものは精製せずに直ちに使用するか、−20℃に氷結して保存する。
H−NMR(DMSO−d):δ8.14(s,1H,H−8),6.20(d,1H,H−1’,J=5.6Hz),5.81(t,1H,H−2’,J=5.5Hz),5.5(dd,1H,H−3’,J=7.5,4.4Hz),4.47−4.42(m,3H,H−4’,H−5’α ,H−5’β),2.16(s,3H,COCH),2.15(s,3H,COCH),2.08(s,3H,COCH3).
工程D:6−クロロ−2−[2−(4−クロロフェニル)エトキシ]−9−(2,3,5−トリ−O−アセチル−β−D−リボフラノシル)プリンの製造
Figure 2005511551
ガラス容器中で蒸留ジメチルホルムアミドに溶解した、粗製の6−クロロ−2−ヒドロキシ−9−(2,3,5−トリ−−アセチル−β−D−リボフラノシル)プリン(44.0g、約100mmol)溶液に2−(4−クロロフェニル)エチルブロマイド(43.6g、200mmol)、次いで炭酸セシウム(100g、307mmol)を加える。混合物を室温で24時間攪拌し、蒸発乾固(TBATH<50℃)して残渣をジクロロメタン(1リットル)と水(1リットル)の間で分配する。有機層を乾燥(NaSO)、ろ過、次いで蒸発させる。残渣をヘキサン(2×500mL)で洗浄して過剰の2−(4−クロロフェニル)エチルブロマイドを除去し、次いでジクロロメタン(250mL)に溶解して、シリカゲル(100g)に吸着させてシリカゲル(1000g)上でヘキサン中酢酸エチル(30%→50%)のグラジュエントを用いてクロマトグラフィーを行う。生成物を含有する分画を集めて蒸発乾固すると、黄色泡状物質として目的の中間体が得られる。
標準的収率:工程CとDを合わせて40−70%
H−NMR(DMSO−d):δ8.06(s,1H,H−8),7.25(s,4H,Ar),6.10(d,1H,H−1’,J=4.8Hz),5.90(dd,1H,H−2’,J=5.3,5.0Hz),5.62(dd,1H,H−3’,J=5.3,5.2Hz),4.63−4.56(m,2H,OCH−C),4.43−4.37(m,2H, H−4’&H−5’α),4.29(dd,1H,H−5’β,J=12.0,4.1Hz),3.11(t,2H,O−C−CH−,J=6.9Hz),2.10(s,3H,COCH),2.06(s,3H,COCH),2.05(s,3H,COCH).
工程E:2−[2−(4−クロロフェニル)エトキシ]アデノシンの製造
Figure 2005511551
2リットルのステンレス製オートクレーブに6−クロロ−2−[2−(4−クロロフェニル)−エトキシ]−9−(2,3,5−トリ−−アセチル−β−D−リボフラノシル)プリン(22.4g、39.4mmol)及び無水エタノール(800mL)を入れ、−50℃に冷却する。液体アンモニア(200mL)を凝縮してオートクレーブに加え、オートクレーブを密閉して混合物を105±5℃に24時間加熱する。次いでオートクレーブを氷浴で冷却し、圧力が100psi以下に下がった時に通気する。約250mLまで蒸発させた後、活性炭(2g)を加え、混合物を30分間加熱還流してセライト(登録商標)を用いて濾過、蒸発乾固する。残渣を沸騰酢酸エチル(3×250mL)で抽出し、次いで酢酸エチル(200mL)と水(250mL)の間で分配する。最終の酢酸エチル抽出物を水(100mL)で一度洗浄し、乾燥(NaSO)、濾過して最初の酢酸エチル抽出物に加える。合した有機抽出物を蒸発乾固して、エタノール(100mL)から再結晶する。この結晶性生成物をろ取し、冷エタノールで洗浄して75℃/2Torrで24時間乾燥する。第2生成物は母液を濃縮して得られ、第3生成物は母液のクロマトグラフィーによって採取できる。
標準的な収率:62%
H−NMR(DMSO−d):δ8.14(s,1H,H−8),7.35(s,4H,Ar),7.27(br.s,2H,NH),5.78(d,1H,H−1’,J=6.0Hz),5.36(d,1H,2’−OH,J=6.2Hz),5.12(d,1H,3’−OH,J=4.7Hz),5.09(t,1H,5’−OH,J=5.7Hz),4.58(dd,1H,H−2’,J=5.8,6.3 Hz),4.40(t,2H,OCH−C,J=6.7Hz),4.14(dd,1H,H−3’,J=4.7,8.2Hz),3.92(dd,1H,H−4’,J=3.7,7.3Hz),3.65(m,1H,H−5’α),3.54(m,1H,H−5’β),3.00(t,2H,O−C−CH−,J=6.7Hz).
2−[2−(4−クロロフェニル)エトキシ]アデノシンの合成
工程C:6−クロロ−2−ヒドロキシ−9−(2,3,5−トリ−−アセチル−β−D−リボフラノシル)プリンの製造
Figure 2005511551
2−アミノ−6−クロロ−9−(2,3,5−トリ−−アセチル−β−D−リボフラノシル)プリン (291.2g、0.68mol、実施例1、工程B)の2−プロパノール及び水(1:1、15,560mL)懸濁液を均一になるまで加熱した。この溶液を<15℃まで冷却し、亜硝酸t−ブチル(357mL、3.0mol)を加えた。反応液を室温に温まるまで放置し、ガスの発生が収まるまで攪拌した。反応液を酢酸エチル(7,300mL)と水の間で分配し、層が分離するまで放置した。水層を更に酢酸エチル(2×7,300mL)で抽出して、合した有機層を硫酸マグネシウム上で乾燥し、濾過して減圧下で除去して粘性油状物得た。
標準的な収率:定量的
工程D:6−クロロ−2−[2−(4−クロロフェニル)エトキシ]−9−(2,3,5−トリ−O−アセチル−β−D−リボフラノシル)プリンの製造
Figure 2005511551
ジメチルホルムアミド(7,280mL)中の6−クロロ−2−ヒドロキシ−9−(2,3,5−トリ−−アセチル−β−D−リボフラノシル)プリン(実施例2、工程C)及び2−(4−クロロフェニル)エチルブロマイド(300.1g、1.36mol)の混合物に炭酸セシウム(665g、2.04mol)を加えた。反応液を不活性雰囲気下で32時間攪拌した。反応液を減圧下で濃縮し、ジクロロメタンと水の間で分配した。有機層を硫酸マグネシウム上で乾燥、濾過、次いで減圧下で濃縮した。粗生成物を酢酸エチル/ヘキサンで溶出するカラムクロマトグラフィーで精製して、6−クロロ−2−[2−(4−クロロフェニル)エトキシ]−9−(2,3,5−トリ−−アセチル−β−D−リボフラノシル)プリンの黄色固体を得た。
標準的な収率:64%
工程E:2−[2−(4−クロロフェニル)エトキシ]アデノシンの製造
反応器に、エタノール(3,660mL)中の6−クロロ−2−[2−(4−クロロフェニル)エトキシ]−9−(2,3,5−トリ−−アセチル−β−D−リボフラノシル)プリン(243.8g、0.43mol、実施例2,工程D)を入れた。反応器を−33℃以下に冷却し、アンモニア(1500g)を反応器に入れた。反応器を密閉し、次いで100℃に加熱し、反応をHPLCでモニターした。完了(約5時間)後、反応器を冷却し、通気して内容物を減圧下で濃縮した。粗生成物をジクロロメタン/メタノールで溶出するカラムクロマトグラフィーで精製する。精製分画を溶媒が約4リットルになるまで減圧下で濃縮し、真空ろ過によって生成物を採取した。オフホワイトの固体をジクロロメタンで洗浄し、真空乾燥して、オフホワイトの固体として分析的に純粋な(>99%)生成物82gが得られた。残りの分画を合すると精製度の低い(90−98%)生成物73gが得られた。
合計の標準的な収率:54%
(実施例3−16):追加の合成
上記実施例1及び2の方法を用いて、追加化合物を下記の実施例3−18で具体的に記載するように合成した。それぞれの合成した化合物の化学構造式は、実施例の最初に示した一般式(第1の式は実施例3−8を示し、第2の式は実施例9−16を示す)と共に以下に具体的に記載した。
(実施例3−8):
Figure 2005511551
2−ベンジルオキシ−6−クロロ−9−(2,3,5−トリ−O−アセチル−β−D−リボフラノシル)プリンの製造
Figure 2005511551
置換基Rが−CH(ベンジル)である上記式の構造を有する化合物をアルキル化剤としてベンジルクロライドを用いて製造した。この化合物(C2323ClN)は、実施例2の工程C及びDに記載されている一般的な製造法に従って、2−アミノ−6−クロロ−9−(2,3,5−トリ−O−アセチル−β−D−リボフラノシル)プリン(実施例1、工程B)の脱アミノ化及びアルキル化から収率65%で、油状物質として単離された。
H−NMR(DMSO−d):δ1.93(s,3H);2.10(s,3H);2.16(s,3H);4.25(m,1H);4:39(m,2H);5.47(s,2H);5.76(t,1H,J=6);6.00(t,1H,J=6);6.27(d,1H,J=6);7.45(m,5H);8.64(s,1H).
6−クロロ−2−(4−ニトロベンジルオキシ)−9−(2,3,5−トリ−O−アセチル−β−D−リボフラノシル)プリンの製造
Figure 2005511551
置換基Rが−CH(4−NO)(4−ニトロベンジル)である上記式の構造を有する化合物をアルキル化剤として4−ニトロベンジルクロライドを用いて製造した。この化合物(C2322ClN10)、実施例2の工程C及びDに記載されている一般的な製造法に従って、2−アミノ−6−クロロ−9−(2,3,5−トリ−O−アセチル−β−D−リボフラノシル)プリン(実施例1、工程B)の脱アミノ化及びアルキル化から収率60%で、融点178−180℃の固体として単離された。
H−NMR(DMSO−d):δ1.94(s,3H);2.05(s,3H);2.11(s,3H);4.10(m,1H);4.33(m,2H);5.65(s,2H);5.72(t,1H,J=6);5.97(t,1H,J=6);6.26(d,1H,J=4);7.74(d,2H,J=8);8.27(d,2H,J=8);8.66(s,1H).
2−ブチルオキシ−6−クロロ−9−(2,3,5−トリ−O−アセチル−β−D−リボフラノシル)プリンの製造
Figure 2005511551
置換基Rが−CHCHCHCH(n−ブトキシ)である上記式の構造を有する化合物を、アルキル化剤として1−ブロモブタンを用いて製造した。この化合物(C2025ClN)は、実施例2の工程C及びDに記載されている一般的な製造法に従って、2−アミノ−6−クロロ−9−(2,3,5−トリ−O−アセチル−β−D−リボフラノシル)プリン(実施例1、工程B)の脱アミノ化及びアルキル化から収率55%で、油状物質として単離された。
H−NMR(DMSO−d6):δ0.89(t,3H,J=6);1.42(m,2H);1.73(m,2H);1.95(s,3H);2.06(s, 3H);2.10(s,3H);4.00(m,1H);4.20(m,2H);4.40(m,2H);5.72(t,1H,J=6);5.99(t,1H,J=6);6.25(d,1H,J=4);8.61(s,1H).
(6−クロロ−9−(2,3,5−トリ−O−アセチル−β−D−リボフラノシル)プリン−2−イル)オキシ酢酸tert−ブチルエステルの製造
Figure 2005511551
置換基Rが−CHC(=O)OC(CHである上記式の構造を有する化合物を、アルキル化剤としてtert−ブチルブロモ酢酸(−BrCHC(=O)OC(CH)を用いて製造した。この化合物(C2227ClN10)は、実施例2の工程C及びDに記載されている一般的な製造法に従って、2−アミノ−6−クロロ−9−(2,3,5−トリ−O−アセチル−β−D−リボフラノシル)プリン(実施例1、工程B)の脱アミノ化及びアルキル化から収率40%で、油状物質として単離された。
6−クロロ−2−[3−(3−メトキシフェニル)プロピルオキシ]−9−(2,3,5−トリ−O−アセチル−β−D−リボフラノシル)プリンの製造
Figure 2005511551
置換基Rが−CHCHCH(3−OCH)Cである上記式の構造を有する化合物を、アルキル化剤として3−(3−メトキシフェニル)プロピルブロマイド(−BrCHCHCH(3−OCH)C)を用いて製造した。この化合物(C2227ClN10)は、実施例2の工程C及びDに記載されている一般的な製造法に従って、2−アミノ−6−クロロ−9−(2,3,5−トリ−O−アセチル−β−D−リボフラノシル)プリン(実施例1、工程B)の脱アミノ化及びアルキル化から収率30%で、油状物質として単離された。
2−[4−(tert−ブチル)ベンジルオキシ]−6−クロロ−9−(2,3,5−トリ−O−アセチル−β−D−リボフラノシル)プリンの製造
Figure 2005511551
置換基Rが−CH−4−(C(CH)C(4−tert−ブチルベンジル)である上記式の構造を有する化合物を、アルキル化剤として4−(tert−ブチル)ベンジルブロマイド(−BrCH−4−(C(CH)C)を用いて製造した。この化合物(C2731ClN)は、実施例2の工程C及びDに記載されている一般的な製造法に従って、2−アミノ−6−クロロ−9−(2,3,5−トリ−O−アセチル−β−D−リボフラノシル)プリン(実施例1、工程B)の脱アミノ化及びアルキル化から収率45%で、融点58−60℃の固形物質として単離された。
H−NMR(DMSO−d):δ1.32(S,9H);2.08(s,3H);2.10(s,3H);2.15(s,3H);4.37(m,3H);5.48(s,2H);5.63(t,1H,J=6);5.89(t,1H,J=6);6.15(d,1H,J=4);7.43(bs,4H);8.09(s,1H).
(実施例9−16):
Figure 2005511551
2−ベンジルオキシアデノシンの製造
Figure 2005511551
置換基RとRが水素でRがベンジル(−CH)である上記式の構造を有する化合物を製造した。この化合物(C1719)は実施例2、工程Eに記載されているように、2−ベンジルオキシ−6−クロロ−9−(2,3,5−トリ−O−アセチル−β−D−リボフラノシル)プリン(実施例3)とアンモニアの反応で製造された。最終生成物は融点178−179℃の固体として70%の収率で単離された。
H−NMR(DMSO−d):δ3.49(m,1H);3.61(m,1H);3.9(m,1H);4.12(m,1H);4.58(m,1H);5.18(d,2H,J=4);5.3(s,2H);5.42(d,1H,J=6);5.79(d,1H,J=6);7.37(m,7H);8.16(s,1H).
2−ベンジルオキシ−N−エチルアデノシンの製造
Figure 2005511551
置換基Rが−CHCH、Rが水素でRがベンジル(−CH)である上記式の構造を有する化合物を製造した。この化合物(C1923)は実施例2、工程Eに記載されているように、2−ベンジルオキシ−6−クロロ−9−(2,3,5−トリ−O−アセチル−β−D−リボフラノシル)プリン(実施例3)とエチルアミンの反応で製造された。最終生成物は融点170−171℃の固体として40%の収率で単離された。
H−NMR(DMSO−d):δ1.13(t,3H,J=8);3.6(m,4H);3.9(m,1H);4.1(m,1H);4.5(m,1H);5.18(m,2H);5.32(s,2H);5.42(d,1H,J=6);5.78(d,1H,J=6);7.41(m,5H);7.93(bm,1H);8.15(s,1H).
2−(4−ニトロベンジル)オキシ−N−エチルアデノシンの製造
Figure 2005511551
置換基Rが−CHCH、Rが水素でRが4−ニトロベンジル(−CH(4−ニトロ)C)である上記式の構造を有する化合物を製造した。この化合物(C1922)は実施例2、工程Eに記載されているように、6−クロロ−2−(4−ニトロベンジルオキシ)−9−(2,3,5−トリ−O−アセチル−β−D−リボフラノシル)プリン(実施例4)とエチルアミンの反応で製造された。最終生成物は融点210−213℃の固体として60%の収率で単離された。
H−NMR(DMSO−d):δ1.05(1,3H,J=8);3.4(m,2H);3.5(m,1H);3.6(m,1H);3.85(m,1H);4.05(m,1H);4.6(m,1H);5.2(m,2H);5.4(d,1H,J=6);5.45(s,2H);5.8(d,1H,J=6); 7.8(d,2H,J=8);8(bt,1H);8.2(s,1H);8.25(d,2H,J=8).
2−(4−ニトロベンジル)オキシアデノシンの製造
Figure 2005511551
置換基R及びRが水素でRが4−ニトロベンジル(−CH(4−ニトロ)C)である上記式の構造を有する化合物を製造した。この化合物(C1718)は実施例2、工程Eに記載されているように、6−クロロ−2−(4−ニトロベンジルオキシ)−9−(2,3,5−トリ−O−アセチル−β−D−リボフラノシル)プリンの(実施例4)とアンモニアの反応で製造された。最終生成物は融点174−176℃の固体として80%の収率で単離された。
H−NMR(DMSO−d):δ3.5(m,1H);3.6(m,1H);3.8(d,1H,J=4);4.1(m,1H);4.56(m,1H);5.16(m,2H);5.4(d,1H,J=6);5.47(s,2H);5.77(d,1H,J=6);7.43(bs,2H);7.7(d,2H,J=8);8.18(s,1H);8.24(d,2H,J=8)
2−ブトキシアデノシンの製造
Figure 2005511551
置換基R及びRが水素でRがn−ブチル(−CHCHCHCH)である上記式の構造を有する化合物を製造した。この化合物(C1421)は実施例2、工程Eに記載されているように、2−ブチルオキシ−6−クロロ−9−(2,3,5−トリ−O−アセチル−β−D−リボフラノシル)プリン(実施例5)とアンモニアの反応で製造された。最終生成物は融点145−146℃の固体として30%の収率で単離された。
H−NMR(DMSO−d):δ0.9(t,3H);1.37(m,2H,J=8);1.65(m,2H,J=8);3.66(m,2H);3.97(m,1H);4.18(m,3H);4.57(m,1H),4.95 (d,1H,J=6);5.23(m,2H);5.78(d,1H,J=6);6.9(bs,2H);7.94(s,1H)
2−カルボキシメトキシアデノシンの製造
Figure 2005511551
置換基R及びRが水素でRが−CHCOOHである上記式の構造を有する化合物を製造した。この化合物(C1215)は実施例2、工程Eに記載されているように、(6−クロロ−9−(2,3,5−トリ−O−アセチル−β−D−リボフラノシル)プリン−2−イル)オキシ酢酸 tert−ブチルエステル(実施例6)とアンモニアの反応で製造された。最終生成物は融点200−203℃の固体として70%の収率で単離された。
H−NMR(DMSO−d):δ3.4(m,1H);3.55(m,1H);3.91(m,1H);4.11(m,1H);4.56(m,1H);4.74(bs,1H);4.78(s, 2H);5.3(bs,2H);5.75(d,1H,J=6);7.36(bs,2H);8.15(s,1H);12.6(bs,1H)
2−[3−(3−メトキシフェニル)プロピルオキシ]アデノシンの製造
Figure 2005511551
置換基R及びRが水素でRが−CHCHCH(3−OCH)Cである上記式の構造を有する化合物を製造した。この化合物(C2025)は実施例2、工程Eに記載されているように、6−クロロ−2−[3−(3−メトキシフェニル)プロピルオキシ]−9−(2,3,5−トリ−O−アセチル−β−D−リボフラノシル)プリン(実施例7)とアンモニアの反応で製造された。最終生成物は融点85−87℃の固体として10%の収率で単離された。
H−NMR(DMSO−d):1.97(t,2H,J=6);2.69(t,2H,J=6);3.54(m,2H);3.71(s,3H);3.95(m,1H);4.15(m,3H);4.58(m,1H);5.19(m,2H);5.42(d,1H,J=6);5.77(d,1H,J=6);6.77(m,3H);7.19(t,1H,8);7.3(bs,2H);8.14(s,1H).
2−[4−(tert−ブチル)ベンジルオキシ]−N−シクロペンチルアデノシンの製造
Figure 2005511551
置換基Rがシクロペンチル、Rが水素でRが−CH(4−(C(CH)C(4−tert−ブチルベンジル)である上記式の構造を有する化合物を製造した。この化合物(C2535)は実施例2、工程Eに記載されているように、2−[4−(tert−ブチル)ベンジルオキシ]−6−クロロ−9−(2,3,5−トリ−O−アセチル−β−D−リボフラノシル)プリン(実施例8)とシクロペンチルアミンの反応で製造された。最終生成物は融点118−120℃の固体として50%の収率で単離された。
H−NMR(CDC1):1.3(s,9H);1.6(m,6H);2.0(m,2H);3.46(m,3H);3.75(m,1H);3.89(m,1H);4.28(s,1H);4.42(m,2H);5.1(m,1H);5.29(s,2H);5.7(d,1H);5.7(m,1H);7.35(s,4H);7.57(bs, 1H).
下記の引例がここで参照さにされている。これらの引例は引用することによって、それらの全体をここに組み入れる。
1.Montesinos, M.C.; Gadangi, P.; Longaker, M.; Sung, J.; Levine, J.; Nilsen, D.; Reibman, J.; Li, M.; Jiang, C-K.; Hirschhorn, R.; Recht, P.A,; Ostad, E.; Levin, R.I.; Cronstein, B.N. Would healing is accelerated byagonists of adenosine A(GαS−linked)receptors. J. Exp. Med., 1997, 186, 1615-1620.
2.Marumoto, R.; Yoshioka, Y.; Miyashita, O.; Shima, S.; Imai, K.; Kawazoe, K.; Honjo, M., Synthesis and coronary vasodilating activity of 2-substituted adenosines. Chem. Pharm. Bull. 1975, 23, 759-774.
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本発明は、その好ましい態様を参照して詳細に記載された。しかしながら、当業者が本開示に基づいて、本発明の精神及び範囲内で修正及び改良してもよいことは理解される。

Claims (62)

  1. (a) グアノシン化合物を活性化;
    (b) 工程(a)で得られる化合物の加水分解;
    (c) 工程(b)で得られる化合物をアルキル化剤で処理;
    及び
    (d) 工程(c)で得られる化合物をアミンで処理して2−アラルキルオキシアデノ シン又は2−アルコキシアデノシン化合物を得る
    ことよりなる、2−アラルキルオキシアデノシン又は2−アルコキシアデノシン化合物の合成方法。
  2. 加水分解の前にグアノシン化合物を活性化する、請求項1に記載の方法。
  3. 2−アラルキルオキシアデノシン又は2−アルコキシアデノシン化合物が下記式Iの構造を有している、請求項1又は2に記載の方法:
    Figure 2005511551
    (式中、R及びRは独立して、水素、アルキル、置換アルキル、アルケニル、置換アルケニル、アルキニル、置換アルキニル、シクロアルキル、置換シクロアルキル、シクロアルケニル、置換シクロアルケニル、アラルキル、置換アラルキル、アリール、置換アリール、ヘテロアリール、ヘテロサクリックを示すか、又は窒素原子と一緒になって、アゼチジン環又は窒素、酸素及び硫黄から選ばれる合計1乃至4個の異種原子を含有する5−6員の複素環を形成し;
    は アルキル、置換アルキル、アルケニル、置換アルケニル、アルキニル、置換アルキニル、アラルキル、置換アラルキル、アラルケニル又は置換アラルケニルを示す)。
  4. 工程(d)の生成物が2−[2−(4−クロロフェニル)エトキシ]アデノシンである、請求項1又は2に記載の方法。
  5. (a) グアノシンをアシル化剤で処理;
    (b) 工程(a)で得られる化合物をハロゲン源で処理;
    (c) 工程(b)で得られる化合物を加水分解;
    (d) 工程(c)で得られる化合物をアルキル化剤で処理;
    及び
    (e) 工程(d)で得られる化合物をアミンで処理して式Iの化合物を得る
    方法よりなる、式Iの化合物:
    Figure 2005511551
    (式中、R及びRは独立して、水素、アルキル、置換アルキル、アルケニル、置換アルケニル、アルキニル、置換アルキニル、シクロアルキル、置換シクロアルキル、シクロアルケニル、置換シクロアルケニル、アラルキル、置換アラルキル、アリール、置換アリール、ヘテロアリール、ヘテロサクリックを示すか、又は窒素原子と一緒になって、アゼチジン環又は窒素、酸素及び硫黄から選ばれる合計1乃至4個の異種原子を含有する5−6員の複素環を形成し;
    は アルキル、置換アルキル、アルケニル、置換アルケニル、アルキニル、置換アルキニル、アラルキル、置換アラルキル、アラルケニル又は置換アラルケニルを示す)
    の製造方法。
  6. 工程(e)の生成物が2−[2−(4−クロロフェニル)エトキシ]アデノシンである、請求項5に記載の方法。
  7. 工程(e)におけるアミンがアンモニアである、請求項5又は6に記載の方法。
  8. アシル化剤が酸ハライド又は酸無水物である、請求項5乃至7のいずれかに記載の方法。
  9. アシル化が塩基性の条件下で行われる、請求項5乃至8のいずれかに記載の方法。
  10. ハロゲン源が塩素源である、請求項5乃至9のいずれかに記載の方法。
  11. 塩素源がオキシ塩化リン、塩化チオニル、五塩化リン、塩素ガス、四塩化炭素/トリフェニルホスフィン、ジクロロトリフェニルホスホラン又はトリフェニル二塩化アンチモンからなる群より選ばれるものである、請求項10に記載の方法。
  12. 加水分解がジアゾ化に次いで行われる、請求項5乃至11のいずれかに記載の方法。
  13. ジアゾ化が亜硝酸エステル試薬の存在下に行われる、請求項12に記載の方法。
  14. (a) グアノシンを塩基及び溶媒の存在下に、約20℃から約120℃の反応温度で、約20分から約30時間、アシル化剤で処理;
    (b) 工程(a)の生成物を溶媒中で、3級アミン、塩化チオニル/DMF、五塩化リン、塩素ガス、四塩化炭素/トリフェニルホスフィン、ジクロロトリフェニルホスホラン又はトリフェニル二塩化アンチモンの存在下で、約10℃から約120℃の反応温度で、約5分から約8時間、オキシ塩化リンのような適当な塩素源で処理;
    (c) 工程(b)の生成物を、水と低級アルコールの混合物中で、−10℃から60℃で、約20分から約24時間、亜硝酸アルキル又は亜硝酸ナトリウム及び無機酸で加水分解的ジアゾ化;
    (d) 0℃から約120℃の温度で、約30分から約48時間、溶媒中における保護された6−クロロ−2−ヒドロキシ−9−(β−D−リボフラノシル)−プリンに、塩基及び適当なアルキル化剤を添加;
    (e) 工程(d)の中間体をアルコール性溶媒に溶解し、次いで−70℃から約120℃の温度で、約20分から約48時間、1から50気圧で、アンモニア又は適当な1級又は2級アミンで処理し;反応混合物を濃縮し;適切な溶媒から再結晶又はクロマトグラフィーで又はこれらの二つの方法を組み合わせて生成物を精製する
    工程よりなる、式Iの化合物:
    Figure 2005511551
    (式中、R及びRは独立して、水素、アルキル、置換アルキル、アルケニル、置換アルケニル、アルキニル、置換アルキニル、シクロアルキル、置換シクロアルキル、シクロアルケニル、置換シクロアルケニル、アラルキル、置換アラルキル、アリール、置換アリール、ヘテロアリール、ヘテロサクリックを示すか、又は窒素原子と一緒になって、アゼチジン環又は窒素、酸素及び硫黄から選ばれる合計1乃至4個の異種原子を含有する5−6員の複素環を形成し;
    は アルキル、置換アルキル、アルケニル、置換アルケニル、アルキニル、置換アルキニル、アラルキル、置換アラルキル、アラルケニル又は置換アラルケニルを示す)
    の製造方法。
  15. 工程(a)におけるアシル化剤が、塩化アセチル、無水酢酸、プロピオン酸クロライド、無水プロピオン酸、塩化ベンゾイル、無水安息香酸、フェニル酢酸クロライド、及びフェノキシ酢酸クロライドからなる群より選ばれる、請求項14に記載の方法。
  16. 工程(a)における塩基が、ピリジン、4−ジメチルアミノピリジン、4−ピロリジニル−ピリジン、N,N−ジメチルアニリン、N−エチル−N−メチルアニリン、N,N−ジエチルアニリン、トリメチルアミン、トリエチルアミン、N,N−ジメチルエチルアミン、N,N−ジメチル−イソプロピルアミン、及びN,N−ジエチルメチルアミンからなる群から選ばれる、請求項14に記載の方法。
  17. 工程(a)における溶媒が、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、ピリジン、アセトニトリル、テトラヒドロフラン、ヘキサメチルホスホラミド、及び1,4−ジオキサンからなる群から選ばれる、請求項14に記載の方法。
  18. 工程(b)における溶媒が、アセトニトリル、ジクロロメタン、クロロホルム、四塩化炭素、1,2−ジメトキシエタン、テトラヒドロフラン、ジメチルホルムアミド、ヘキサメチルホスホラミド、1,4−ジオキサン、1,2−ジクロロメタン、ジ(ジエチレングリコール)ジエチルエーテル、及び2−メトキシエチルエーテルよりなる群から選ばれる、請求項14に記載の方法。
  19. 工程(b)において、塩素源がオキシ塩化リン、塩化チオニル、五塩化リン、塩素ガス、四塩化炭素/トリフェニルホスフィン、ジクロロトリフェニルホスホラン又はトリフェニル二塩化アンチモンからなる群より選ばれる、請求項14に記載の方法。
  20. 工程(b)において、3級アミンがN,N−ジメチルアニリン、N−エチル−N−メチルアニリン、N,N−ジエチルアニリン、トリメチルアミン、トリエチルアミン、N,N−ジメチルエチルアミン、N,N−ジメチルイソプロピルアミン、及びN,N−ジエチルメチルアミンからなる群から選ばれる、請求項14に記載の方法。
  21. 工程(c)において、亜硝酸アルキルが亜硝酸tert−ブチル、亜硝酸アミル、亜硝酸iso−アミル、及び亜硝酸n−ブチルからなる群から選ばれる、請求項14に記載の方法。
  22. 工程(c)において、低級アルコールがメタノール、エタノール、1−プロパノール、2−プロパノール、1−ブタノール、2−ブタノール、tert−ブタノール、アミルアルコール、及びイソアミルアルコールからなる群から選ばれる、請求項14に記載の方法。
  23. 工程(c)において、無機酸が塩酸、臭化水素酸、硝酸、及び硫酸からなる群から選ばれる、請求項14に記載の方法。
  24. 工程(d)において、塩基が炭酸リチウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸セシウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水素化ナトリウム、ナトリウムtert−ブトキシド、及びカリウムtert−ブトキシドからなる群から選ばれる、請求項14に記載の方法。
  25. 工程(d)において、溶媒がジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、ジメチルスルホキシド、ヘキサメチルホスホラミド、1,2−ジメトキシエタン、1,4−ジオキサン、テトラヒドロフラン、及び2−メトキシエチルエーテルよりなる群から選ばれる、請求項14に記載の方法。
  26. 工程(e)において、アルコール性溶媒がメタノール、エタノール、1−プロパノール、及び2−プロパノールよりなる群から選ばれる、請求項14に記載の方法。
  27. (a) グアノシンを塩基及び溶媒の存在下に、約20℃から約120℃の反応温度で、約20分から約30時間、アシル化剤で処理;
    (b) 工程(a)の生成物を3級アミン、塩化チオニル/DMF、五塩化リン、塩素ガス、四塩化炭素/トリフェニルホスフィン、ジクロロトリフェニルホスホラン又はトリフェニル二塩化アンチモンの存在下で、約10℃から約120℃の反応温度で、約5分から約8時間、溶媒中でオキシ塩化リンのような適当な塩素源で処理;
    (c) 工程(b)の生成物を、水と低級アルコールの混合物中で、−10℃から60℃で、約20分から約24時間、亜硝酸アルカリ又は亜硝酸ナトリウム及び無機酸で加水分解的ジアゾ化;
    (d) 0℃から約120℃の温度で、約30分から約48時間、保護された6−クロロ−2−ヒドロキシ−9−(β−D−リボフラノシル)−プリンに溶媒中で塩基及び適当なアルキル化剤を添加;
    (e) 工程(d)の中間体をアルコール性溶媒に溶解し、次いで−70℃から約120℃の反応温度で、約20分から約48時間、1から50気圧で、適当な1級又は2級アミンで処理し;次いで反応混合物を濃縮し;適切な溶媒から再結晶又はクロマトグラフィーで又はこれらの二つの方法を組み合わせて生成物を精製する
    よりなる、2−[2−(4−クロロフェニル)エトキシ]アデノシンの製造法。
  28. 工程(a)において、アシル化剤が塩化アセチル、無水酢酸、プロピオン酸クロライド、無水プロピオン酸、塩化ベンゾイル、無水安息香酸、フェニル酢酸クロライド、及びフェノキシ酢酸クロライドからなる群より選ばれる、請求項27に記載の方法。
  29. 工程(a)において、塩基がピリジン、4−ジメチルアミノピリジン、4−ピロリジニル−ピリジン、N,N−ジメチルアニリン、N−エチル−N−メチルアニリン、N,N−ジエチルアニリン、トリメチルアミン、トリエチルアミン、N,N−ジメチルエチルアミン、N,N−ジメチル−イソプロピルアミン、及びN,N−ジエチルメチルアミンからなる群から選ばれる、請求項27に記載の方法。
  30. 工程(a)において、溶媒がジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、ピリジン、アセトニトリル、テトラヒドロフラン、ヘキサメチルホスホラミド、及び1,4−ジオキサンからなる群から選ばれる請求項27に記載の方法。
  31. 工程(b)において、溶媒がアセトニトリル、ジクロロメタン、クロロホルム、四塩化炭素、1,2−ジメトキシエタン、テトラヒドロフラン、ジメチルホルムアミド、ヘキサメチルホスホラミド、1,4−ジオキサン、1,2−ジクロロメタン、ジ(ジエチレングリコール)ジエチルエーテル、及び2−メトキシエチルエーテルよりなる群から選ばれる、請求項27に記載の方法。
  32. 工程(b)において、塩素源がオキシ塩化リン、塩化チオニル、五塩化リン、塩素ガス、四塩化炭素/トリフェニルホスフィン、ジクロロトリフェニルホスホラン又はトリフェニル二塩化アンチモンからなる群より選ばれるものである、請求項27に記載の方法。
  33. 工程(b)において、3級アミンがN,N−ジメチルアニリン、N−エチル−N−メチルアニリン、N,N−ジエチルアニリン、トリメチルアミン、トリエチルアミン、N,N−ジメチルエチルアミン、N,N−ジメチルイソプロピルアミン、及びN,N−ジエチルメチルアミンからなる群から選ばれる、請求項27に記載の方法。
  34. 工程(c)において、亜硝酸アルキルが亜硝酸tert−ブチル、亜硝酸アミル、亜硝酸iso−アミル、及び亜硝酸n−ブチルからなる群から選ばれる、請求項27に記載の方法。
  35. 工程(c)において、低級アルコールがメタノール、エタノール、1−プロパノール、2−プロパノール、1−ブタノール、2−ブタノール、tert−ブタノール、アミルアルコール、及びイソアミルアルコールからなる群から選ばれる、請求項27に記載の方法。
  36. 工程(c)において、無機酸が塩酸、臭化水素酸、硝酸、及び硫酸からなる群から選ばれる、請求項27に記載の方法。
  37. 工程(d)において、塩基が炭酸リチウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸セシウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水素化ナトリウム、ナトリウムtert−ブトキシド、及びカリウムtert−ブトキシドからなる群から選ばれる、請求項27に記載の方法。
  38. 工程(d)において、溶媒がジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、ジメチルスルホキシド、ヘキサメチルホスホラミド、1,2−ジメトキシエタン、1,4−ジオキサン、テトラヒドロフラン、及び2−メトキシエチルエーテルよりなる群から選ばれる、請求項27に記載の方法。
  39. 工程(e)において、アルコール性溶媒がメタノール、エタノール、1−プロパノール、及び2−プロパノールよりなる群から選ばれる、請求項27に記載の方法。
  40. 工程(a)において、アシル化剤が無水酢酸である、請求項27に記載の方法。
  41. 工程(a)において、塩基がピリジンである、請求項27に記載の方法。
  42. 工程(a)において、溶媒がジメチルホルムアミドである、請求項27に記載の方法。
  43. 工程(a)において、反応温度が約90℃から100℃である、請求項27に記載の方法。
  44. 工程(a)において、反応時間が約3から6時間である、請求項27に記載の方法。
  45. 工程(b)において、溶媒がアセトニトリルである、請求項27に記載の方法。
  46. 工程(b)において、塩素源がオキシ塩化リンである、請求項27に記載の方法。
  47. 工程(b)において、3級アミンがN,N−ジメチルアニリンである、請求項27に記載の方法。
  48. 工程(b)において、反応温度が40℃と80℃の間である、請求項27に記載の方法。
  49. 工程(b)において、反応時間が5分と30分の間である、請求項27に記載の方法。
  50. 工程(c)において、亜硝酸アルキルが亜硝酸tert−ブチルである、請求項27に記載の方法。
  51. 工程(c)において、低級アルコールがtert−ブチルアルコールである、請求項27に記載の方法。
  52. 工程(c)において、温度が0℃から30℃である、請求項27に記載の方法。
  53. 工程(c)において、時間が1時間から4時間である、請求項27に記載の方法。
  54. 工程(d)において、溶媒がジメチルホルムアミドである、請求項27の方法。
  55. 工程(d)において、塩基が炭酸セシウムである、請求項27に記載の方法。
  56. 工程(d)において、時間が20から30時間である、請求項27に記載の方法。
  57. 工程(d)において、温度が15℃から30℃である、請求項27に記載の方法。
  58. 工程(d)において、アルキル化剤が塩化2−(4−クロロフェニル)エチル、臭化2−(4−クロロフェニル)エチル、沃化2−(4−クロロフェニル)エチルアイオダイド、メシル 2−(4−クロロフェニル)エチル、トリフレート(triflate)2−(4−クロロフェニル)エチ及びトシル2−(4−クロロフェニル)エチルからなる群から選ばれる、請求項27に記載の方法。
  59. 工程(e)において、溶媒がエタノールである、請求項27に記載の方法。
  60. 工程(e)において、アミンがアンモニアである、請求項27に記載の方法。
  61. 工程(e)において、温度が60℃と110℃の間である、請求項27に記載の方法。
  62. 工程(e)において、圧力がが30と45気圧の間である、請求項27に記載の方法。
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