[go: up one dir, main page]

JP2005026265A - クリーニング機構付きプローバ及びそのクリーニング方法 - Google Patents

クリーニング機構付きプローバ及びそのクリーニング方法 Download PDF

Info

Publication number
JP2005026265A
JP2005026265A JP2003186898A JP2003186898A JP2005026265A JP 2005026265 A JP2005026265 A JP 2005026265A JP 2003186898 A JP2003186898 A JP 2003186898A JP 2003186898 A JP2003186898 A JP 2003186898A JP 2005026265 A JP2005026265 A JP 2005026265A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
cleaning
probe needle
prober
probe
rinsing
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2003186898A
Other languages
English (en)
Inventor
Tetsuya Maruta
哲也 丸田
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Renesas Semiconductor Manufacturing Co Ltd
Kansai Nippon Electric Co Ltd
Original Assignee
Renesas Semiconductor Manufacturing Co Ltd
Kansai Nippon Electric Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Renesas Semiconductor Manufacturing Co Ltd, Kansai Nippon Electric Co Ltd filed Critical Renesas Semiconductor Manufacturing Co Ltd
Priority to JP2003186898A priority Critical patent/JP2005026265A/ja
Publication of JP2005026265A publication Critical patent/JP2005026265A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Images

Landscapes

  • Measuring Leads Or Probes (AREA)
  • Testing Or Measuring Of Semiconductors Or The Like (AREA)
  • Cleaning Or Drying Semiconductors (AREA)

Abstract

【課題】プローブ針を磨耗させることなくプローブ針に付着した異物を確実に除去して、高価なプローブ針の寿命を延ばすとともに、ICチップの接触圧力を均一にして検査の信頼性を向上させるクリーニング機構付きプローバ及びそのクリーニング方法を提供する。
【解決手段】クリーニング機構7は、薬液によりプローブ針5に付着した異物を化学的に除去する洗浄部8と、異物を除去したプローブ針5をリンスするリンス部9と、リンスしたプローブ針5を乾燥する乾燥部10より構成される。洗浄部8は、ウェーハステージ3に連動した洗浄ステージ11と、洗浄ステージ11に取付けられた容器12と、容器12内に収容されたナイロン繊維やポリエステル繊維等からなるシート13と、シート13に含浸された洗浄液14からなる。この洗浄液14は、アンモニア過水(アンモニアと過酸化水素水と水の混合物)である。
【選択図】 図1

Description

【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は、ウェーハ上に形成されたICチップの電気的特性を検査するプローバに関し、特にプローブ針を磨耗させることなく、先端に付着した異物を確実に除去できるクリーニング機構を有するプローバ及びそのクリーニング方法に関する。
【0002】
【従来の技術】
従来、ウェーハ上に拡散形成されたICチップの電気的特性を検査する工程においては、図4(a)に示すP/W(ペレット/ウェーハ)検査装置41が使用される。P/W検査装置41は、プローバ42とICテスタ43から構成されている。プローバ42は、ウェーハ44を真空吸着して固定するためのウェーハステージ45と、ウェーハステージ45を(X、Y、Z、θ)方向に移動する駆動部46と、ウェーハ44上のICチップ47に形成された金属膜からなる外部電極取出し用のボンディングパッド48から信号を入出力するためのプローブ針49と、プローブ針49を半田等の固着手段により固定したプローブカード50で構成されている。また、図4(a)A部の拡大平面図である図4(b)に示すようにプローブカード50には、あらかじめ、ICチップ47の全ボンディングパッド48の配置に合わせて、プローブ針49が配設されている。
【0003】
また、ICテスタ43は、ICチップ47からの信号を解析し良否判定をするために、プローブ針49に信号線51を通して接続されている。また、ICテスタ43で識別された不良のICチップ47には、プローバ42に内蔵したマーキング機構52にてインク打点や傷のマーキングが施される。
【0004】
次に、P/W検査装置41を使ったICチップ47の検査方法を説明する。先ず、ウェーハ44をウェーハステージ45に真空吸着してセットする。次に、駆動部46によりウェーハステージ45を動かし、測定するICチップ47をプローブカード50の真下まで移動させる。次に、駆動部46によりウェーハステージ45を上昇させて、ICチップ47のボンディングパッド48にプローブカード50に固定されたプローブ針49の先端を押圧して、電気的に接続させる。プローブカード50からは、全プローブ針49に対応する信号が信号線51を通して出ており、ICテスタ43に接続されている。この状態で、あらかじめプログラムされている入力信号波形を、ICチップ47のボンディングパッド48の入力側から入力すると、ICチップ47のボンディングパッド48の出力側から、一定の信号波形が出力され、これをICテスタ43が信号線51を介して解析し、ICチップ47の良否判定を行う。良否判定後はウェーハステージ45を移動させ、この検査をウェーハ44上の個々のICチップについて実施する。全てのICチップの検査が完了した時点で、検査データに従い、不良判定となったICチップのみを順次、プローバ42に内蔵されたマーキング機構52を動作させることにより、ICチップの中心部に不良認識のために、一定の大きさのマーキングを実施する。
【0005】
しかし、この検査を繰り返すとプローブ針49先端部およびその近傍にボンディングパッド48から削り取られたAl等の金属屑が付着するとともに、このAlが酸化することによってプローブ針49表面にAl等の絶縁膜が形成される。このため、隣接するプローブ針49同士の先端が金属屑を介してブリッジを形成したり、絶縁物によりプロー針49とボンディングパッド48間に導通不良が発生し、その結果、正常な電気的特性を検査することが出来なくなり、検査の信頼性を損なわれるという問題があった。
【0006】
これを防止するため、所定の回数検査を行なった後、プローブ針49のクリーニングが行なわれる。このような技術は、例えば、特開平7−244074号公報に開示されている。図5(a)、(b)は、従来のクリーニング機構付きプローバの平面図及びY−Y断面図である。図5(a)に示すように、従来のクリーニング機構付きプローバ61は、ウェーハステージ45の近傍に、プローブ針49をクリーニングするためのクリーニング部材62が設けられている。このクリーニング部材62は、ウェーハステージ45に連動した研磨ステージ63に接着剤64により固定され、弾性を有する母材65に研磨材66を混入した層で構成されている。母材65にはシリコンゴム、ウレタンゴム等が用いられ、研磨材66にはアルミナ、シリコンカーバイト、ダイヤモンド粉等が用いられる。
【0007】
次に、従来のクリーニング機構付きプローバ61のクリーニング方法を説明する。所定の回数、ウェーハ44上に形成されたICチップの電気的特性を検査した後、駆動部46により研磨ステージ63をプローブ針49の真下に移動させる。次に、駆動部46により研磨ステージ63を上昇させ、クリーニング部材62にプローブ針49を押圧した後、クリーニング部材62を上下動させる。これにより、クリーニング部材62の表面に露出した研磨剤66が、プローブ針49の先端に付着したAlやAl等の異物を除去していた。ところが、上述したクリーニング方法では、クリーニング部材62を上下動する際に、母材65や研磨材66がプローブ針49と擦れることにより、新たな異物となってプローブ針49に再付着するという問題があった。
【0008】
この問題を解決するために、特開平11−87438号公報には、他の構成のクリーニング部材が提案されている。図6は、そのクリーニング部材を示す断面図である。図6に示すように、クリーニング部材71は、全体が弾力性をもつシリコンゴムの母材72と、母材72に混合されたアルミナ微粉の研磨材73と、母材72の一表面に形成されたアルミニウム膜からなる異物除去膜74により構成されている。このクリーニング方法によれば、クリーニング部材71にプローブ針49を押圧した後、クリーニング部材71を上下動させるときに新たに発生する異物を、異物除去膜74によりクリーニング部材71の中に閉じ込めて外部に放出させないようにするものである。
【0009】
【特許文献1】
特開平7−244074号公報(第2,3頁、0005段落〜0020段落、図1,図2)
【特許文献2】
特開平11−87438号公報(第2,4頁、0007段落〜0026段落、図1)
【0010】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、上述した従来技術には、以下のような問題があった。プローブ針49をクリーニング部材71に押圧することにより、異物を機械的に除去しているので、プローブ針49の先端が研磨により磨耗し、高価なプローブ針49の寿命が短くなる。また、この磨耗度合いは個々のプローブ針49によってばらつくため、ICチップ47との接触圧力にばらつきが生じ、電気信号が正常に印加されなくなる。その結果、良品を不良品と誤判定するなどして、製品歩留りを低下させる。
【0011】
本発明は、上記問題点を解決するために考えられたもので、プローブ針を磨耗させることなくプローブ針に付着した異物を確実に除去して、高価なプローブ針の寿命を延ばすとともに、ICチップの接触圧力を均一にして検査の信頼性を向上させるクリーニング機構付きプローバ及びそのクリーニング方法を提供することを目的とする。
【0012】
【課題を解決するための手段】
上記目的を達成するために、本発明の請求項1記載のクリーニング機構付きプローバは、プローブ針の先端に付着した異物を除去するためのクリーニング機構を有するプローバであって、前記クリーニング機構が前記プローブ針から異物を化学的に除去する洗浄部と、前記洗浄部で付着した洗浄液を除去するリンス部と、前記リンス部で付着したリンス液を除去する乾燥部からなることを特徴とする。この構成によれば、洗浄液により異物を化学的に除去するので、プローブ針を磨耗させることなく異物を確実に除去することができる。その結果、高価なプローブ針の寿命を延ばすことができるとともに、ICチップとの接触圧力が均一になって検査の信頼性を向上させることができる。
【0013】
また、請求項2記載のクリーニング機構付きプローバは、請求項1記載のクリーニング機構付きプローバであって、前記洗浄部で使用される洗浄液がアンモニア過水からなり、前記リンス部で使用されるリンス液がアルコール系溶剤からなることを特徴とする。この構成によれば、安価な洗浄液やリンス液を使用して異物を除去することができる。
【0014】
また、請求項3記載のクリーニング機構付きプローバは、請求項1又は2記載のクリーニング機構付きプローバであって、前記洗浄液が前記プローブ針を伝わって配線部に付着するのを防止するために、ICチップに当接させる前記プローブ針の先端部以外に撥水性樹脂が形成されていることを特徴とする。この構成によれば、撥水性樹脂により洗浄液がはじかれるので、洗浄液がプローブ針を伝わってプローブカードの配線部に付着することがなくなり、導通不良を防止することができる。
【0015】
また、請求項4記載のクリーニング機構付きプローバのクリーニング方法は、プローブ針の先端に付着した異物を除去するためのクリーニング機構を有するプローバのクリーニング方法であって、洗浄液を含ませたシートに前記プローブ針を出し入れして前記異物を化学的に除去する洗浄工程と、前記プローブ針をリンス液に出し入れして前記洗浄工程で付着した洗浄液を除去するリンス工程と、前記プローブ針の下から排気して前記リンス工程で付着したリンス液を除去する乾燥工程を含むことを特徴とする。この方法によれば、洗浄液により異物を化学的に除去するので、プローブ針を磨耗させることなく異物を確実に除去することができる。その結果、高価なプローブ針の寿命を延ばすことができるとともに、ICチップとの接触圧力が均一になって検査の信頼性を向上させることができる。
【0016】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の好ましい実施の形態を、図面を参照して説明する。図1(a)、(b)は本発明のクリーニング機構付きプローバの平面図及びX−X断面図である。本発明のクリーニング機構付きプローバ1は、ウェーハ2を真空吸着して固定するためのウェーハステージ3と、ウェーハステージ3を(X、Y、Z、θ)方向に移動する駆動部4と、ウェーハ2上のICチップを検査するプローブ針5と、プローブ針5を固定するプローブカード6と、検査によりプローブ針5に付着した異物を除去するクリーニング機構7より構成される。クリーニング機構7は、薬液によりプローブ針5に付着した異物を化学的に除去する洗浄部8と、異物を除去したプローブ針5をリンスするリンス部9と、リンスしたプローブ針5を乾燥する乾燥部10より構成される。
【0017】
ここで、洗浄部8は、ウェーハステージ3に連動した洗浄ステージ11と、洗浄ステージ11に取付けられた容器12と、容器12内に収容されたナイロン繊維やポリエステル繊維等からなるシート13と、シート13に含浸された洗浄液14からなる。この洗浄液14は、アンモニア過水(アンモニアと過酸化水素水と水の混合物)であり、好適するアンモニアと過酸化水素水と水の体積比率は、アンモニア1に対し、過酸化水素水1〜10、水1〜50である。
【0018】
また、リンス部9は、ウェーハステージ3に連動したリンスステージ15と、リンスステージ15に取付けられた容器16と、容器16内に収容されたリンス液17からなる。このリンス液17は、エチルアルコールやイソプロピルアルコール等の低沸点のアルコール系溶剤である。また、乾燥部10は、ウェーハステージ3に連動した乾燥ステージ18と、乾燥ステージ18に取付けられた排気孔19を有する容器20と、排気孔19に接続された排気ポンプ21からなる。
【0019】
次に、上記のクリーニング機構付きプローバ1によるプローブ針5のクリーニング方法を、図2(a)〜(c)を参照して説明する。
【0020】
先ず、ウェーハ2上に形成されたICチップの電気的特性の検査を所定の回数行なった後、駆動部4により洗浄部8をプローブ針5の真下に移動させ、図2(a)に示すように、洗浄部8を上昇させ、プローブ針5を容器12内の薬液14の浸み込んだシート13に挿入する。その後、洗浄部8を昇降させ、プローブ針5をアンモニア過水からなる洗浄液14の浸み込んだシート13に、所定の回数上下運動させることにより、異物がエッチング作用により分解されてプローブ針5から除去される。このとき、シート13はナイロン繊維やポリエステル繊維等で構成されているので、プローブ針5を磨耗させることがない。また、洗浄液14の温度は室温でも良いが、加温すればより短時間に異物を除去できる。好適する洗浄液14の温度範囲は20℃〜80℃である。さらに、洗浄液14を超音波振動させれば、洗浄液14がプローブ針5の隙間に入り込みやすくなるので、異物の除去効果を著しく向上させることができる。
【0021】
次に、図2(b)に示すように、リンス部9をプローブ針5の真下に移動させた後、リンス部9を上昇させ、プローブ針5を容器16内のアルコール系溶剤からなるリンス液17に浸漬する。その後、リンス部9を昇降させ、プローブ針5をリンス液17に、所定の回数上下運動させることにより、プローブ針5に付着した洗浄液14が除去される。次に、図2(c)に示すように、乾燥部10を洗浄液14の除去したプローブ針5の真下まで移動させた後、乾燥部10を上昇させ、容器20の中央部に設けられた排気孔19から排気ポンプ21により排気して、プローブ針5に付着したリンス液17を乾燥除去する。その後、再びウェーハステージ3をプローブ針5の真下に移動させ、ウェーハ2上のICチップにプローブ針5を当接して、試験を再開する。尚、これら一連の動作は、プローブ1の駆動部4を(X、Y、Z、θ)方向に移動させて行なうことができるので、新たに駆動部を設ける必要がなく、装置コストを低く抑えることができる。
【0022】
また、上述した本発明のクリーニング機構付きプローバ1のクリーニングをより安定して行なうため、図3に示すように、ICチップに当接させるプローブ針5の先端部以外、例えば屈曲部31より上部にフッ素樹脂やシリコン樹脂等の撥水性樹脂32を形成しても良い。これにより、洗浄液14が表面張力によりプローブ針5を伝わってプローブカード6の配線部に付着することがなくなる。従って、ICチップの高集積化に対応してプローブ針5のピッチが狭くなった場合でも、洗浄液14が配線部に付着して生じる導通不良を確実に防止することができ、クリーニングを安定して行なうことができる。
【0023】
【発明の効果】
以上説明したように、本発明のクリーニング機構付きプローバ及びそのクリーニング方法によれば、洗浄部とリンス部と乾燥部からなるクリーニング機構により、プローブ針に付着した異物を化学的に処理して除去するようにした。従って、クリーニングによりプローブ針が磨耗することがなくなり、高価なプローブ針の寿命を大幅に延ばすことができる。さらには、プローブ針をICチップに当接する際の圧力が均一になって検査の信頼性を向上させることができる。
【0024】
また、ICチップに当接させるプローブ針の先端部以外に撥水性樹脂を形成したので、クリーニング時に洗浄液がプローブ針を伝わってプローブカードの配線部に付着することもなく、導通不良を防止することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明のクリーニング機構付きプローバの平面図及びX−X断面図
【図2】本発明のクリーニング機構付きプローバによるクリーニング方法を説明する断面図
【図3】本発明の他のプローブ針の断面図
【図4】従来のP/W検査装置のブロック図及びA部拡大平面図
【図5】従来のクリーニング機構付きプローバの平面図及びY−Y断面図
【図6】従来の他のクリーニング部材の断面図
【符号の説明】
1 本発明のクリーニング機構付きプローバ
2 ウェーハ
3 ウェーハステージ
4 駆動部
5 プローブ針
6 プローブカード
7 クリーニング機構
8 洗浄部
9 リンス部
10 乾燥部
11 洗浄ステージ
12 容器
13 シート
14 洗浄液
15 リンスステージ
16 容器
17 リンス液
18 乾燥ステージ
19 排気孔
20 容器
21 排気ポンプ
31 屈曲部
32 撥水性樹脂
41 従来のP/W検査装置
42 プローバ
43 ICテスタ
44 ウェーハ
45 ウェーハステージ
46 駆動部
47 ICチップ
48 ボンディングパッド
49 プローブ針
50 プローブカード
51 信号線
52 マーキング機構
61 従来のクリーニング機構付きプローバ
62 クリーニング部材
63 研磨ステージ
64 接着剤
65 母材
66 研磨材
71 クリーニング部材
72 母材
73 研磨材
74 異物除去膜

Claims (4)

  1. プローブ針の先端に付着した異物を除去するためのクリーニング機構を有するプローバにおいて、前記クリーニング機構が前記プローブ針から異物を化学的に除去する洗浄部と、前記洗浄部で前記プローブ針に付着した洗浄液を除去するリンス部と、前記リンス部で前記プローブ針に付着したリンス液を除去する乾燥部からなることを特徴とするクリーニング機構付きプローバ。
  2. 前記洗浄部で使用される洗浄液がアンモニア過水からなり、前記リンス部で使用されるリンス液がアルコール系溶剤からなることを特徴とする請求項1記載のクリーニング機構付きプローバ。
  3. 前記洗浄液が前記プローブ針を伝わって配線部に付着するのを防止するために、ICチップに当接させる前記プローブ針の先端部以外に撥水性樹脂が形成されていることを特徴とする請求項1又は2記載のクリーニング機構付きプローバ。
  4. プローブ針の先端に付着した異物を除去するためのクリーニング機構を有するプローバのクリーニング方法において、前記プローブ針を洗浄液を含ませたシートに出し入れして前記異物を化学的に除去する洗浄工程と、前記プローブ針をリンス液に出し入れして前記洗浄工程で付着した洗浄液を除去するリンス工程と、前記プローブ針の下方から排気して前記リンス工程で付着したリンス液を除去する乾燥工程を含むことを特徴とするクリーニング機構付きプローバのクリーニング方法。
JP2003186898A 2003-06-30 2003-06-30 クリーニング機構付きプローバ及びそのクリーニング方法 Pending JP2005026265A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2003186898A JP2005026265A (ja) 2003-06-30 2003-06-30 クリーニング機構付きプローバ及びそのクリーニング方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2003186898A JP2005026265A (ja) 2003-06-30 2003-06-30 クリーニング機構付きプローバ及びそのクリーニング方法

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2005026265A true JP2005026265A (ja) 2005-01-27

Family

ID=34185910

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2003186898A Pending JP2005026265A (ja) 2003-06-30 2003-06-30 クリーニング機構付きプローバ及びそのクリーニング方法

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2005026265A (ja)

Cited By (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100706814B1 (ko) * 2006-02-28 2007-04-12 삼성전자주식회사 프로브카드의 팁 세정기구를 구비한 반도체 검사설비 및프로브카드 팁의 세정방법
KR100743553B1 (ko) 2006-09-19 2007-07-27 뉴센트 주식회사 프로브카드의 니들팁 세척장치 및 세척방법
JP2009156796A (ja) * 2007-12-27 2009-07-16 Goo Chemical Co Ltd コンタクトピン用付着物除去具
KR101264481B1 (ko) 2009-12-15 2013-05-14 가부시끼가이샤 도시바 반도체 기판의 표면 처리 장치 및 방법
CN103316865A (zh) * 2013-06-07 2013-09-25 深圳市矽电半导体设备有限公司 一种半导体测试探针清洗装置及方法
JP2020017701A (ja) * 2018-07-27 2020-01-30 キオクシア株式会社 試験装置
CN111044703A (zh) * 2019-11-28 2020-04-21 广州大学 一种自带清洗功能的土壤检测探头
CN112916504A (zh) * 2021-03-30 2021-06-08 苏州宏达威电子科技有限公司 一种cpu性能测试探针清洁方法

Cited By (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100706814B1 (ko) * 2006-02-28 2007-04-12 삼성전자주식회사 프로브카드의 팁 세정기구를 구비한 반도체 검사설비 및프로브카드 팁의 세정방법
KR100743553B1 (ko) 2006-09-19 2007-07-27 뉴센트 주식회사 프로브카드의 니들팁 세척장치 및 세척방법
JP2009156796A (ja) * 2007-12-27 2009-07-16 Goo Chemical Co Ltd コンタクトピン用付着物除去具
KR101264481B1 (ko) 2009-12-15 2013-05-14 가부시끼가이샤 도시바 반도체 기판의 표면 처리 장치 및 방법
CN103316865A (zh) * 2013-06-07 2013-09-25 深圳市矽电半导体设备有限公司 一种半导体测试探针清洗装置及方法
JP2020017701A (ja) * 2018-07-27 2020-01-30 キオクシア株式会社 試験装置
JP7129261B2 (ja) 2018-07-27 2022-09-01 キオクシア株式会社 試験装置
CN111044703A (zh) * 2019-11-28 2020-04-21 广州大学 一种自带清洗功能的土壤检测探头
CN112916504A (zh) * 2021-03-30 2021-06-08 苏州宏达威电子科技有限公司 一种cpu性能测试探针清洁方法

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR100313175B1 (ko) 프로브단자의 클리닝기구 및 클리닝방법
JP3188935B2 (ja) 検査装置
US7202683B2 (en) Cleaning system, device and method
KR19980081193A (ko) 검사용 돌기를 위한 클리너 및 집적 회로의 검사 장치 및 검사방법
EP1183108A1 (en) Cleaning system, device and method
KR101206226B1 (ko) 프로브
WO2007129686A1 (ja) プローブ
KR100435529B1 (ko) 프로브 카드의 접촉 부위를 세정하기 위한 장치 및 방법
JP2005026265A (ja) クリーニング機構付きプローバ及びそのクリーニング方法
US20060065290A1 (en) Working surface cleaning system and method
JP3061619B1 (ja) プロ―ブの接触抵抗測定方法
TW409333B (en) Semiconductor device checking method
KR101398180B1 (ko) 반도체 디바이스 테스트 보드의 수리방법
US20070069745A1 (en) Probe card for integrated circuits
JP2010002391A (ja) コンタクトプローブ及びその形成方法
KR100214162B1 (ko) 마이크로 팁 상부에 수직형 프로브를 가지는 웨이퍼프로브카드 및 그 제조방법
JP2003234384A (ja) 研磨・コンタクトチェック一体型プローブ装置およびその研磨方法
JPH11233220A (ja) 半導体評価試験装置用オープンタイプ・ソケットのコンタクト不良を修復する方法およびコンタクト不良修復用研磨シート
JP2007003252A (ja) プローブカードおよび半導体集積回路の試験方法
JP2006237413A (ja) プローブ針のクリーニング方法、これに用いるウエハおよびウエハプローバ装置
KR20050071117A (ko) 프로브 카드 니들의 세정시스템
JP2000206149A (ja) プロ―ブカ―ドおよび被検査体の電気特性検査方法
JP2003229461A (ja) 研磨機構付きプローブ装置およびその研磨方法
KR20040038387A (ko) 프로브 침 클리닝장치
JP2007096190A (ja) プローブカードの針先研磨方法、及びプローブ装置

Legal Events

Date Code Title Description
RD02 Notification of acceptance of power of attorney

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7422

Effective date: 20050119

A711 Notification of change in applicant

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A711

Effective date: 20050512