JP2004163207A - レンズ測定装置および測定方法 - Google Patents
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Abstract
【課題】様々な被検レンズにフレキシブルに対応でき、なおかつ、様々な条件での測定を可能とするレンズ測定装置を提供する。
【解決手段】基準チャート4と、被検レンズ1により撮像面に結像した基準チャート4の像の光強度分布を電気信号に変換する撮像素子2とを有するレンズ測定装置において、基準チャート4と撮像素子2とを互いに独立して移動可能な移動手段3、10を備えた。
【選択図】 図1
【解決手段】基準チャート4と、被検レンズ1により撮像面に結像した基準チャート4の像の光強度分布を電気信号に変換する撮像素子2とを有するレンズ測定装置において、基準チャート4と撮像素子2とを互いに独立して移動可能な移動手段3、10を備えた。
【選択図】 図1
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は、銀塩フィルムを用いたカメラやデジタルカメラなどのレンズ測定装置および測定方法に関する。
【0002】
【従来の技術】
従来、一般にレンズの結像性能を測定する装置としてMTF測定機が知られている。MTFは、レンズ等の結像性能を総合的に表す量であり、レンズの空間周波数特性を示し、空間的な正弦波をレンズに入力したときのレンズによる像の振幅と物体側の振幅との比として表される。MTFは被検レンズによる点像・線像・エッジ像などの光強度分布を電気的に検出し、フーリエ変換等の信号処理を行って測定する。
【0003】
従来のレンズ性能測定装置としては、以下にその概要を記述する「光学性能評価測定装置」(従来例1)がある(例えば、特許文献1参照。)。
【0004】
光学性能評価測定装置は、投影手段に設けたテストパターンを測定光学系により受光手段に投影し、該受光手段で得られたテストパターン像を利用して演算手段により該測定光学系の光学性能を評価する際、該投影手段は光源からの光束を光ファイバーで導光し、該光ファイバーの射出面からの光束により該テストパターンの一部又は全部を照明する照明系を有していることを特徴としている。特に、前記投影手段は前記光ファイバーの射出面が前記テストパターン面と平行な面内において移動可能となる移動機構を有していることや、前記移動機構は前記光ファイバーへ射出面が複数の位置に移動可能となる自動移動機構より成り、前記投影手段は該光ファイバーの射出面の複数の移動位置を記憶するティーチング機構と、該光ファイバーの射出面を該複数の位置に移動させる移動制御機構を有していることを特徴としている。
【0005】
また、投影手段に設けたテストパターンを測定光学系により所定面上に投影し、該所定面上に投影したテストパターン像を用いて該測定光学系の光学性能を評価する際、該投影手段は光源からの光束を周囲に少なくとも1つのリミットセンサーを設けた光ファイバーで導光し、該光ファイバーの射出面からの光束により該テストパターンの一部又は全部を照明する照明系と該光ファイバーの射出面が該テストパターン面と平行な面内において移動可能な移動機構とを有していることを特徴としている。
【0006】
一般に、レンズの解像度を評価する性能評価法として、投影試験、撮影試験、空中像観測の3方法が用いられているが、このうち最も高い解像度を与える評価方法は空中像観測法である。この空中像観測法は被検レンズによって作られた空中像を顕微鏡などに用いられる高性能な像拡大検出光学系を通して観察する技術が周知である。この技術を用いると、肉眼では捉え難い高周波成分を高精度に捉えることが可能となる。
【0007】
上記結像光学系の空中像観測方法を用いたMTF測定装置として、以下に概要を記述する「レンズの解像性能検査装置」(従来例2)がある(特許文献2参照。)。
【0008】
レンズの解像性能検査装置は、顕微鏡によるチャートパターンの拡大像に応じて光電変換する固体撮像素子と、この固体撮像素子からの光電信号を電気的に演算処理することにより被検レンズの焦点位置および解像力を検査する演算手段とを設けてレンズの解像性能検査装置を構成してある。また、軸外方向に配列されたチャートパターンのうち一方をメリジオナル方向のチャートパターンとし、他方をサジタル方向のチャートパターンとした場合において、被検レンズをその光軸を中心に回動自在に保持する保持手段と、前記ザジタル方向のチャートパターンに応じて被検レンズの全周についてサジタル方向の解像力を検査する固体撮像素子と、前記メリジオナル方向のチャートパターンに応じて被検レンズの全周についてメリジオナル方向の解像力を評価する演算手段とを設けてレンズの解像性能検査装置を構成するようにしてもよい。
【0009】
【特許文献1】
特開平7−5074号公報(第2頁−第5頁、図1−図10)
【特許文献2】
特開平2−103435号公報(第216頁−第217頁、第1図)
【0010】
【発明が解決しようとする課題】
しかるに、上記従来技術にはつぎのような問題点があった。すなわち、従来例1においては、チャートは被検レンズの画角・光軸外測定位置に対応させた全視野1枚のチャートであるため、測定する被検レンズ、もしくは物点距離・光軸外位置などの測定条件によりチャートを変更する必要があった。また、1枚のチャート上の決まった位置に物点であるスリット等が設けてあるため、光軸外デフォーカス測定時に入射角によりチャート像位置が外側(内側)に変化する影響や、レンズの偏心およびディストーション等により光軸位置や光軸外位置が変化する影響を受けてしまい、正しく像が結べないという問題があった。また、ファイバー光源や面光源によるチャート背面からの透過照明を用いた光軸外測定では、cosine4乗則や口径食(ビネット)によって光量が低下し、測定に必要な光量が得られないという問題が発生していた。
【0011】
また、従来例2においては、光学測定を行う場合、被検レンズの光軸と装置の光軸とがズレていると、例えばレンズの光軸の傾き角を測定した場合、被検レンズを回転させることにより、傾き角の絶対値は変化してしまう。このため測定装置の光軸と被検レンズの光軸とを合致させて測定する必要がある。しかしながら、上記レンズの解像性能検査装置では、被検レンズの取り付け誤差や光軸を調整する場合、機械的な方法を用いるため、光軸調整の精度はよくて数十ミクロン、または数十秒、悪い場合は百ミクロン、または一分を超えることもあるため、精度良く光軸を調整することは困難である。また、被検レンズの取り付け位置のばらつきも機械精度に影響され、光軸ズレが発生するという問題があった。
【0012】
本発明は、上記従来の問題点に鑑みてなされたもので、請求項1、2、3、4、5または6に係る発明の課題は、様々な被検レンズにフレキシブルに対応でき、なおかつ、様々な条件での測定を可能とするレンズ測定装置を提供することである。また、光軸外デフォーカス測定時の入射角によるチャート像位置の変化や、レンズの偏角およびディストーション等による光軸位置や光軸外位置の変化の影響を排除した測定ができるレンズ測定機を提供することである。さらに、光軸外測定時に発生する光量不足を防止できるレンズ測定装置を提供することである。
【0013】
請求項7、8、9または10に係る発明の課題は、被検レンズの傾き角やMTF等のレンズ性能を高精度に測定することができるレンズ測定方法を提供することである。
【0014】
【課題を解決するための手段】
上記課題を解決するために、請求項1、3、4、5または6に係る発明は、基準チャートと、被検レンズにより撮像面に結像した前記基準チャートの像の光強度分布を電気信号に変換する撮像素子とを有するレンズ測定装置において、前記基準チャートと前記撮像素子とを互いに独立して移動可能な移動手段を備えた。
【0015】
請求項2に係る発明は、光源と、該光源で照明された基準チャートと、被検レンズにより結像された該基準チャートの像を拡大する拡大光学系と、該拡大光学系により拡大された基準チャートの像の光強度分布を電気信号に変換する撮像素子とを有するレンズ測定装置において、前記基準チャートと前記撮像素子とを互いに独立して移動可能であり、かつそれぞれの位置座標を読み出し可能な移動手段と、被検レンズを回転可能に保持する保持回転手段と、読み出した座標位置情報を演算処理する演算処理手段とを備えた。
【0016】
請求項7、8、9または10に係る発明は、被検レンズにより基準チャートの像を撮像素子上に結像させて前記被検レンズの性能を測定するレンズ測定方法において、前記被検レンズの光軸を求める工程と、この光軸に前記撮像素子の光軸を一致させて被検レンズの性能を測定する工程とを有する。
【0017】
請求項1に係る発明のレンズ測定装置では、基準チャートと撮像素子とを互いに独立して移動可能な移動手段を備えたことにより、基準チャートの位置と撮像素子の位置とが移動手段により、基準チャートと撮像素子とは、互いに任意な撮像位置に配置可能となる。
【0018】
請求項2に係る発明のレンズ測定装置では、基準チャートと撮像素子とを互いに独立して移動可能であり、かつそれぞれの座標位置を読み出し可能な移動手段と、被検レンズを回転可能に保持する保持回転手段と、読み出した座標位置情報を演算処理する演算処理手段とを備えたことにより、基準チャートと撮像素子とは、互いに任意な撮像位置に配置可能となり、かつ、保持回転手段により被検レンズを回転させて、任意の回転位置における基準チャートのそれぞれの座標位置を読み出し、演算処理手段によりこの座標位置を演算して測定条件を設定する。
【0019】
請求項3に係る発明のレンズ測定装置では、撮像素子に結像した基準チャートの像に基づいて、この基準チャートの像が結像する座標位置を求める演算処理手段を備えるとともに、この求めた座標位置に前記撮像素子を移動させるように構成したことにより、常に基準チャートの像を撮像素子の中心に映し出す。
【0020】
請求項4に係る発明のレンズ測定装置では、被検レンズを回転可能に保持する保持回転手段を有することにより、保持回転手段により被検レンズを回転させ、任意の回転位置における基準チャートの像を撮像素子に映し出す。
【0021】
請求項5に係る発明のレンズ測定装置では、基準チャートの種類を切り替えるチャート切り替え手段を有することにより、チャート切り替え手段により基準チャートの種類を切り替える。
【0022】
請求項6に係る発明のレンズ測定装置では、基準チャートを回転中心にして、基準チャートを照明する光源を揺動させる揺動手段を有することにより、揺動手段により光源が基準チャートを回転中心にして揺動し、揺動された位置から斜めに基準チャートを照明する。
【0023】
請求項7に係る発明のレンズ測定方法では、被検レンズの光軸を求める工程と、この光軸に前記撮像素子の光軸を一致させて被検レンズの性能を測定する工程とを有することにより、被検レンズの光軸を求めてから、この光軸に撮像素子の光軸を一致させて、被検レンズの光学性能を測定する。
【0024】
請求項8に係る発明のレンズ測定方法では、被検レンズの光軸を求める工程は、基準チャートに対して被検レンズをその光軸を回転軸にして回転させて基準チャートの座標位置を取得する工程と、取得した座標位置に基づき演算処理手段により被検レンズの光軸を算出する工程とからなることにより、被検レンズを回転させて基準チャートの座標位置を把握し、演算処理手段により把握した基準チャートの座標位置を演算して被検レンズの光軸を求める。
【0025】
請求項9に係る発明のレンズ測定方法では、基準チャートを被検レンズに対して、光軸外の少なくとも3ヶ所の異なる位置に配置する工程と、それぞれの位置の基準チャートに対して被検レンズを回転させてそれぞれの位置における基準チャートの光軸を求める工程と、これらそれぞれの位置における基準チャートの光軸から演算処理手段により被検レンズの光軸を算出する工程とを有することにより、光軸外における少なくとも3ヶ所の異なる位置から基準チャートの光軸を求め、これらそれぞれの位置における基準チャートの光軸から演算処理手段により被検レンズの光軸を算出する。
【0026】
請求項10に係る発明のレンズ測定方法では、被検レンズの設計データを演算処理手段に入力する工程と、設計データに基づいて演算処理手段により被検レンズの光路を求める工程と、この求めた光路に基づいて基準チャートと撮像素子との位置を移動させる工程とを有することにより、被検レンズの設計データを演算処理手段に入力し、この設計データから演算処理手段により被検レンズの光路を求め、この求めた光路に基づいて基準チャートと撮像素子との位置をそれぞれ移動させる。
【0027】
【発明の実施の形態】
以下、具体的な実施の形態について説明する。
【0028】
(実施の形態1)
図1〜3は実施の形態1を示し、図1はレンズ測定装置の構成図、図2は物点距離を変更した測定時のレンズ測定装置の状態を示す説明図、図3は光軸外位置での測定時のレンズ測定装置の状態を示す説明図である。
【0029】
図1において、被検レンズ1は、レンズ測定装置のベース20の上面に立設された取付け台21上に固定されている。被検レンズ1の背面側(図中右側)には、撮像素子2が配設され、撮像素子2は移動手段としての撮像素子アクチュエータ3の移動面に装着されており、XYZの3次元移動が可能に構成されている。撮像素子アクチュエータ3は、X方向(図中奥行き方向)アクチュエータ3a、Y方向(図中上下方向)アクチュエータ3b、Z方向(図中左右方向)アクチュエータ3cから構成されている。Z方向アクチュエータ3cは、ベース20上に敷設され、Z方向アクチュエータ3cの移動ステージ上にはY方向アクチュエータ3bが立設され、Y方向アクチュエータ3b上にはX方向アクチュエータ3aが横設され、X方向アクチュエータ3a上には撮像素子2が取着されている。
【0030】
被検レンズ1の正面側(図中左側)には、基準チャートとしてのチャート4が配設され、その外径心を軸に矢印θ方向に回転可能となっており、隣設されたチャートモータ5の駆動により回転する。また、チャート4には、それぞれ径の異なるピンホールチャート4a、4b、4c、4dが配置されている。チャート4の背面側(図中チャート4の左側)には、光源としての光源ランプ6が配設され、チャート4を背面より透過照明する。光源ランプ6は、リンク7上に装着され、リンク7はリンクモータ8の駆動により、チャート4のピンホールチャート4c(図1で使用中の場合)の中心を回動中心にして矢印α方向に揺動可能となっている。また、光源ランプ6、リンク7およびリンクモータ8は一体で揺動手段としての光源ユニット22を構成し、回転モータ9の駆動により、光源ランプ6の光軸(被検レンズ1の光軸と一致している)を中心に矢印β方向に回転する。また、チャート4、チャートモータ5、光源ユニット22および回転モータ9は一体でチャート切り替え手段としてのチャートユニット23を構成し、後述するチャートアクチュエータ10の移動面に配設されている。
【0031】
移動手段としてのチャートアクチュエータ10は、撮像素子アクチュエータ3と同様に、X方向(図中奥行き方向)アクチュエータ10a、Y方向(図中上下方向)アクチュエータ10b、Z方向(図中左右方向)アクチュエータ10cから構成されている。Z方向アクチュエータ10cは、ベース20上に敷設され、Z方向アクチュエータ10cの移動ステージ上にはY方向アクチュエータ10bが立設され、Y方向アクチュエータ10b上にはX方向アクチュエータ10aが横設され、X方向アクチュエータ10a上にはチャートユニット23が取着されている。
【0032】
演算処理手段としての演算装置11は、撮像素子2からの画像信号が図示しない画像ケーブルにて入力され、さらに、撮像素子アクチュエータ3、チャートモータ5、リンクモータ8、回転モータ9およびチャートアクチュエータ10と図示しない制御線にてそれぞれ接続されている。
【0033】
つぎに、上記構成のレンズ測定装置を用いたレンズのMTFの測定方法にについて説明する。
【0034】
図1は、被検レンズ1のある物点距離で光軸上のMTFを測定する場合を示している。チャート4は、光源ランプ6により背面から透過照明され、被検レンズ1の物点となる。被検レンズ1によって結像したチャート4の像の光強度分布を撮像素子2で観察し、その画像情報を演算装置11で画像処理・演算することにより、被検レンズ1のMTFを算出する。その際、得られた画像情報により撮像素子2にチャート4の像が結像するように、撮像素子アクチュエータ3のX方向アクチュエータ3aとY方向アクチュエータ3bとにより撮像素子2を移動させる。また、撮像素子2の光軸方向(図中矢印Z方向)は、撮像素子アクチュエータ3のZ方向アクチュエータ3cを所定の位置で固定し、既定の像面で評価を行ったり、Z方向アクチュエータ3cを作動させ、ベスト像面等を検出することも可能である。当然、Z方向アクチュエータ3cをあるピッチで移動させ、その都度、被検レンズ1のMTFを算出することも可能である。
【0035】
図2は、図1と異なる物点距離でMTFを測定する場合を示している。チャートアクチュエータ10のZ方向アクチュエータ10cを作動し、物点であるチャート4を任意の位置に移動する。図2に一点鎖線で示した図1におけるチャート位置に比較して遠い位置に物点を設定している。物点が遠いということは、被検レンズ1の状態が図1と変わらない場合、結像倍率が小さくなることを意味する。結像倍率が小さくなれば、同じ径のチャート4を用いた場合、像面上でのチャート4の像径も小さくなる。空間周波数〔本/mm〕=−1/(ピンホール径〔mm〕×結像倍率〔倍〕)で表せるため、測定する空間周波数を保持するには、ピンホール径を大きくする必要がある。そこでチャートモータ5を作動させ、ピンホルチャート4a、4b、4c、4dから所望の空間周波数を得られるピンホールチャートを選択する。
【0036】
図2では、図1でピンホールチャート4cを用いていたが、物点距離が遠くなり、結像倍率が下がったことから、ピンホール径の大きいピンホールチャート4dに切り換えて測定を行っている。物点距離等の変更はこの方法で対応する。被検レンズ1によって結像したピンホールチャート4dの像を撮像素子2で観察し、その画像情報を演算装置11で画像処理・演算することにより被検レンズ1のMTFを算出する。その際、得られた画像情報から結像したピンホールチャート4dの像が撮像素子2の中心を保持するように、撮像素子アクチュエータ3のX方向アクチュエータ3aとY方向アクチュエータ3bを追従動作させる。また、撮像素子2の光軸方向(図中矢印Z方向)は、撮像素子アクチュエータ3のZ方向アクチュエータ3cを所定の位置で固定し、既定の像面上で評価を行ったり、Z方向アクチュエータ3cを動作させ、ベスト像面等を検出することも可能である。当然、Z方向アクチュエータ3cをあるピッチで移動させ、その都度、被検レンズ1のMTFを算出することで、被検レンズ1のデフォーカス特性を測定することも可能である。
【0037】
図3は、図1と物点距離は同一で光軸外位置でMTF測定を行う場合を示している。被検レンズ1の測定像高と結像倍率とから、物点位置(光軸からの物点位置〔mm〕=測定像高〔mm〕/結像倍率〔倍〕)を算出する。チャートアクチュエータ10のX方向アクチュエータ10aとY方向アクチュエータ10bとを動作させ、その位置にチャート4を移動する。また、撮像素子アクチュエータ3のX方向アクチュエータ3aとY方向アクチュエータ3bとを作動させ、撮像素子2の中心が測定位置にくるように移動させる。その位置でのピンホールチャート4cから被検レンズ1への入射光線(簡略化して図示する)と、水平軸(被検レンズ1の光軸)とのなす角度をω、垂直軸とのなす角度をγとする。リンクモータ8を作動させ、光源ランプ6とピンホールチャート4cとを結ぶ光軸が水平軸となす角度αが、前記ωに等しくなるように矢印α方向に移動させる。また、回転モータ9を作動させ、光源ランプ6とピンホールチャート4cとを結ぶ光軸が垂直軸となす角度がγに等しくなるように移動させる。これにより、ピンホールチャート4cから被検レンズ1への入射光線軸と、光源ランプ6の光軸とを一致させることができる。光軸外位置等の変更時は、この方法で対応する。
【0038】
被検レンズ1によって結像したピンホールチャート4cの像を撮像素子2で観察し、その画像情報を演算装置11で画像処理・演算することにより、被検レンズ1のMTFを算出する。その際、得られた画像処理情報から結像したピンホールチャート4cの像が撮像素子2の中心を保持するように、撮像素子アクチュエータ3のX方向アクチュエータ3aとY方向アクチュエータ3bとを追従移動させる。また、撮像素子2の光軸方向(図中Z方向)は、撮像素子アクチュエータ3のZ方向アクチュエータ3cを所定の位置で固定し、既定の像面上で評価を行ったり、Z方向アクチュエータ3cを作動させ、ベスト像面等を検出することも可能である。当然、Z方向アクチュエータ3cをあるピッチで移動させ、その都度被検レンズ1のMTFを算出することで、被検レンズ1のデフォーカス特性を測定することも可能である。
【0039】
本実施の形態によれば、被検レンズ1の結像倍率に対応して物点であるピンホールチャート4a、4b、4c、4dを切り換え、なおかつ任意の位置にチャートアクチュエータ10により3次元移動することにより、様々な被検レンズにフレキシブルに対応でき、なおかつ様々な条件での測定を可能とするレンズ測定装置を提供することができる。
【0040】
また、被検レンズ1によって結像された撮像素子2上のピンホールチャート像位置を演算装置11により探知し、撮像素子2ならびにチャート4をそれぞれ撮像素子アクチュエータ3およびチャートアクチュエータ10で3次元移動させて、ピンホールチャート像が撮像素子2上の指定位置での結像を保持するように追従移動することにより、光軸外デフォーカス測定時の入射角によるチャート像の位置変化や、被検レンズ1の偏角およびディストーション等による光軸位置や光軸外位置の変化の影響を排除した測定ができるレンズ測定機を提供することができる。
【0041】
また、光源ランプ6を測定する被検レンズ1の軸外位置(像高)により変わる入射角に対応してリンク7およびリンクモータ8の動作で傾斜させることにより、光軸外測定時に発生する光量不足を防止できるレンズ測定機を提供することができる。
【0042】
(実施の形態2)
実施の形態2のレンズ測定装置は、基本的には実施の形態1のレンズ測定装置と同じ構成になっている。異なる点は、図1〜図3における演算装置11内には、光学的設計ツールもしくはその設計データ処理ツールがインストールされていることである。
【0043】
つぎに、上記構成のレンズ測定装置を用いたレンズのMTFの測定方法は、基本的に実施の形態1と同一であり、ここでは異なる部分について説明する。
【0044】
実施の形態1では、図1〜図3において、撮像素子アクチュエータ3およびチャートアクチュエータ10は、被検レンズ1の使用などから得られる近軸位置を基準に駆動していた。実施の形態2では、演算装置11にインストールされた光学的設計ツールもしくはその設計データ処理ツールにより、演算装置11に入力された被検レンズ1の光学設計データ等から、偏心およびディストーション等の影響を反映し、最適な測定条件を算出する。撮像素子アクチュエータ3およびチャートアクチュエータ10の移動位置に補正をかけることにより、その最適な測定条件を成立させる。
【0045】
本実施の形態によれば、被検レンズ1の光学設計データ等を演算装置11でリンクすることにより、被検レンズ1の偏心およびディストーション等の影響を反映することができる。それにより、予め撮像素子2の位置、ならびにチャート4の位置等の最適な測定条件を算出し、撮像素子アクチュエータ3とチャートアクチュエータ10を近軸位置ではなく実際結像位置に補正移動させることが可能 になり、より測定時間の短いレンズ測定装置を提供することができる。
【0046】
(実施の形態3)
図4〜図8は実施の形態3を示し、図4はレンズ測定装置の構成図、図5は物点および像点の座標位置を示す説明図、図6はレンズ測定方法の手順を示すフローチャート、図7は図6におけるステップS3のAルーチンの内容を示すフローチャート、図8はCCD面上に描かれた円の説明図である。
【0047】
まず、レンズ測定装置の構成について説明する。図4において、基準チャート101は、任意の円形開口部を設けており、レンズ測定装置の装置光軸と直交するように配設されている。この基準チャート101はハロゲンランプやキセノンランプなどからなる光源102により照明されており、ボールネジ付きステージ等の移動手段としての移動機構103、104、105でそれぞれ装置光軸方向(図中Z方向)、装置光軸方向に垂直な方向の図中X方向およびY方向に、即ち3次元的に移動可能に構成されている。移動機構103はレンズ測定装置の基台120の上面左端に固定されている。移動機構103の右方の基台120の上面には、基準チャート101に対して垂直な回転軸をもつ保持回転手段としての保持回転機構113が配設され、被検レンズ100が回転可能に保持されている。
【0048】
保持回転機構113の右方の基台120の上面には、ボールネジ付きステージ等の移動手段としての移動機構107、108、109が、それぞれ装置光軸方向に垂直な方向の図中X方向およびY方向、装置光軸方向(図中Z方向)に、即ち3次元的に移動可能に配設されている。移動機構107には、拡大光学系としての顕微鏡対物レンズ106が装着されており、顕微鏡対物レンズ106は、被検レンズ100の持つ収差に比べ、遙に良好な収差補正がなされた拡大光学系で形成され、その光軸は基準チャート101に直交する軸に平行に配置され、被検レンズ100による基準チャート101の縮小像を拡大し得るようになっている。
【0049】
顕微鏡対物レンズ106の右方には、撮像素子としての2次元のCCDセンサ110が配設され、CCDセンサ110は、被検レンズ100と顕微鏡対物レンズ106とにより生成された基準チャート101の像の結像位置に配置されている。CCDセンサ110も、顕微鏡対物レンズ106とともに、ボールネジ付きステージ等の移動機構107、108、109により3次元的に移動することが可能となっている。CCDセンサ110は、画像処理装置111に接続されており、画像処理装置111は演算処理手段としてのコンピュータ112に接続されている。コンピュータ112は、画像処理装置111から出力される基準チャート101の像の情報から、傾き角やMTFを算出するための演算処理を行う。また、移動機構103、104、105、107、108、109の移動方向および速度、保持回転機構113の回転方向および速度を制御するための信号をコントーラ114に送信し、各軸の制御が行われる。さらに、コンピュータ112は、コントローラ114、制御装置115を介して、各移動機構103、104、105、107、108、109および保持回転機構113の現在位置情報を読み出すことが可能になっている。
【0050】
つぎに、上記構成のレンズ測定装置を用いたレンズ測定方法について、図4〜図7を参照しながら説明する。図6において、ステップS1で、移動機構103、104、105により、基準チャート101を任意の物点位置の測定ポイントへ移動する。つぎに、顕微鏡対物レンズ106を移動機構107、108により基準チャート101の結像位置に移動する。このとき、基準チャート101の像がCCDセンサ110に映らない場合には、移動機構104、105により装置光軸に垂直な面に沿って基準チャート101を移動させ、基準チャート101の像をサーチする。続いてステップS2で、移動機構109により顕微鏡対物レンズ106を装置光軸方向(図4中Z方向)に移動させてピント検出を行い、顕微鏡対物レンズ106のピント位置を座標(XO,YO,ZP)に固定する(図5参照)。
【0051】
ステップS3で、図7に示すAルーチンに入り、ステップS100で回転機構113を用いて被検レンズ100を回転機構113の回転軸を中心にθ°回転する。ステップS101で装置光軸と垂直な方向(図4中X、Y方向)に基準チャート101を移動させ、この移動によって生ずるCCDセンサ110上における基準チャート101の像の移動量から、被検レンズ100の結像倍率mを求める。ステップS102で、ステップS101で測定した被検レンズ100の結像倍率および顕微鏡対物レンズ106の倍率を用いて、CCDセンサ110の中心に基準チャート101の像がくるように移動機構104、105を駆動して基準チャート101を移動させ、被検レンズ100を介して、基準チャート101と顕微鏡対物レンズ106とが主光線上に位置するように設定する。
【0052】
ステップS103で、現在の基準チャート101の座標位置(Xn,Yn)をコントローラ114、制御装置115を介して読み出し、コンピュータ112の読み出しメモリに格納する。続いて、被検レンズ110をθ°回転させ、同様に基準チャート101の座標位置(Xn,Yn)をメモリに格納する。上記ステップS100〜S104をcnt回繰り返す(ステップS104)。但し、cntは3回以上とする。ステップS105で主光線と基準チャート101の交点座標を算出する。被検レンズ100を回転させると、図8に示すように、被検レンズ100の傾き角の影響で、CCDセンサ110面上には円が描かれる。この円の中心が被検レンズ100の光軸となるため、上記ステップS100〜S104により測定した結果(Xn,Yn)から、最小自乗法などにより円の中心座標(Xc,Yc)を算出する。つぎに、図6に示すフローチャートのステップS4で被検レンズ100の光軸位置を算出する。
【0053】
図5において、被検レンズ100の光軸位置を通る水平面から、基準チャート101の座標位置(Xn,Yn)までの距離a、bをX方向にaX、bX、Y方向にaY、bYとすると、それぞれ下記のような関係が成立する。
(aX+bX,aY+bY)=(XC−XO,YC−YO)
ただし(XO,YO)は設備光軸とする。
【0054】
【数1】
【0055】
光軸座標は(XOL,YOL)は以下のようになる。
(aX+bX,aY−bY)=(XC−XO,YC−YO)
ステップS5で被検レンズ100の光軸位置(XOL,YOL)に、装置光軸位置を合わせることにより、ステップ6で精度良く被検レンズ100の傾き角およびMTFの測定を行う。なお万が一、基準チャート101のX、Yと顕微鏡対物レンズ106のX、Yとの絶対位置関係が分からない場合には、顕微鏡対物レンズ106の光軸座標位置(XIL,YIL)を下記のように算出する。
(XIL,YIL)=(bX×m−XIO,bY×m−YIO)
ただし、(XIO,YIO)は、顕微鏡対物レンズ106側の装置光軸座標である。
【0056】
同様にして、被検レンズ100を回転させたときの、CCDセンサ110に映し出される基準チャート101の像の描く円の軌跡と被検レンズ100の結像倍率とを用いて、像面側すなわち顕微鏡対物レンズ106側で被検レンズ100の光軸を求めてもよい。
【0057】
本実施の形態によれば、被検レンズの主光線位置を求めることにより、被検レンズの光軸を求められるので、これにより装置光軸と被検レンズの光軸とを合致させることができる。こうして、被検レンズの傾き角およびMTFなどの光学性能を高精度に測定することができる。
【0058】
(実施の形態4)
図9および図10は実施の形態4を示し、図9は物点および像点の座標位置を示す説明図、図10はレンズ測定方法のフローチャートである。本実施の形態のレンズ測定方法に用いるレンズ測定装置は実施の形態3のものと同一のため、図4を参照して説明するとともに、図10のフローチャートのステップS3では、図7のAサブルーチンを引用して説明する。
【0059】
図10において、ステップS1では、移動機構103、104、105(図4参照)により、図9に示すように、基準チャート101を任意の物点位置の測定ポイントZ1 へ移動する。つぎに顕微鏡対物レンズ106を移動機構107、108により、基準チャート101の結像位置に移動する。このとき、基準チャート101の像がCCDセンサ110に映らない場合には、基準チャート101を移動機構104、105により装置光軸に垂直な面(図4中X−Y平面)に沿って移動させサーチする。ステップS2では、顕微鏡対物レンズ106を移動機構109により装置光軸方向(図4中Z方向)に移動させてピント検出を行い、ピント位置に固定する。
【0060】
ステップS3では、図7に示すAルーチンに入り、主光線と基準チャート101の交点座標(XC1,YC1)を算出する。ステップS4では、基準チャート101を測定ポイントZ1以外の任意の物点位置の測定ポイントZ2へ移動する。このとき、基準チャート101の像がCCDセンサ110に映らない場合には、移動機構104、105により装置光軸と垂直な面(図4中X−Y平面)に沿って基準チャート101を移動させサーチする。ステップS5では、顕微鏡対物レンズ106を移動手段109により、図4中Z方向に移動させてピント検出を行い、ピント位置に固定する。ステップS6では、図7に示すAルーチンに入り、主光線と基準チャート101の交点座標(XC2,YC2)を算出する。
【0061】
ステップ7では、被検レンズ100の光軸位置を以下のように算出する。2点間の交点座標から主光線を図4中のX−Z、Y−Z関数を求める。
【0062】
【数2】
【0063】
図9に示すように、被検レンズ100の入射瞳位置をZEとすると、Z=ZEとなるX、Y座標が被検レンズ100の光軸位置となる。被検レンズ100の光軸座標(XO,YO)を、下記のように算出する。
【0064】
【数3】
【0065】
ステップS8では、被検レンズ100の傾き角およびMTFの測定を行う。万が一、基準チャート101のX、Yと顕微鏡対物レンズ106のX、Yとの絶対位置関係が分からない場合には、顕微鏡対物レンズ106の光軸座標位置(XIL,YIL)を下記のように算出する。
【0066】
【数4】
【0067】
但し、(XC1、YC1)はステップS105で算出する測定ポイントZ1のときの基準チャート座標、m1はステップS102で測定する測定ポイントZ1のときの被検レンズ100の結像倍率、(XI,YI)は顕微鏡対物レンズ106側の現在座標位置とする。
【0068】
同様にして、被検レンズ100を回転させたときの、CCDセンサ110に写し出される基準チャート101の像の描く円の軌跡と被検レンズ100の結像倍率を用いて、像面側、すなわち、顕微鏡対物レンズ106側で被検レンズ100の光軸を求めてもよい。
【0069】
本実施の形態によれば、装置光軸が設定されていない場合でも、被検レンズの主光線位置を求めることにより、被検レンズの光軸が求められ、これにより装置光軸と被検レンズの光軸とを合致させることができ、正確な被検レンズの傾き角およびMTFなどの光学性能を高精度に求めることができる。
【0070】
【発明の効果】
請求項1に係る発明によれば、基準チャートの位置と撮像素子の位置とが移動手段により、基準チャートと撮像素子とは、互いに任意な撮像位置に配置可能となるようにしたので、様々な被検レンズにフレキシブルに対応することができる。
【0071】
請求項2に係る発明によれば、基準チャートと撮像素子とは、互いに任意な撮像位置に配置可能となり、かつ、保持回転手段により被検レンズを回転させて、任意の回転位置における基準チャートのそれぞれの座標位置を読み出し、演算処理手段によりこの座標位置を演算して測定条件を設定するようにしたので、様々な被検レンズにフレキシブルに対応することができ、なおかつ様々な条件での光学性能の測定を行うことができるとともに、光軸外デフォーカス測定時の入射角によるチャート像位置の変化や、被検レンズの偏角およびディストーション等による光軸位置や光軸外位置の変化の影響を排除した測定をすることができる。
【0072】
請求項3に係る発明によれば、常に基準チャートの像を撮像素子の中心に映し出すようにしたので、光軸外デフォーカス測定時の入射角によるチャート像の位置変化や、被検レンズの偏角およびディストーションによる光軸位置や光軸該位置の変化の影響を排除した測定をすることができる。
【0073】
請求項4に係る発明によれば、保持回転手段により被検レンズを回転させ、任意の回転位置における基準チャートの像を撮像素子に写し出すようにしたので、様々な被検レンズに対応でき、なおかつ様々な条件での光学性能の測定を行うことができる
【0074】
請求項5に係る発明によれば、チャート切り替え手段により基準チャートの種類を切り換えるようにしたので、様々な条件での光学性能の測定を行うことができる。
【0075】
請求項6に係る発明によれば、揺動手段により光源が基準チャートを回転中心にして揺動し、揺動された位置から斜めに基準チャートを照明するようにしたので、光軸外測定時に発生する光量不足を防止することができる。
【0076】
請求項7に係る発明によれば、被検レンズの光軸を求めてから、この光軸に撮像素子の光軸を一致させて、光学性能を測定するようにしたので、被検レンズの傾き角やMTF等のレンズ性能を高精度に測定することができる。
【0077】
請求項8に係る発明によれば、被検レンズを回転させて基準チャートの位置座標を把握し、演算処理手段により把握した基準チャートの位置座標を演算して被検レンズの光軸を求めるようにしたので、光軸が不明な被検レンズであっても、その光軸を求めて撮像素子の光軸に一致させることができる。
【0078】
請求項9に係る発明によれば、光軸外における少なくとも3ヶ所の異なる位置から基準チャートの光軸を求め、これらそれぞれの位置における基準チャートの光軸から演算処理手段により被検レンズの光軸を算出するようにしたので、被検レンズの光軸座標を高精度に求めることができる。
【0079】
請求項10に係る発明によれば、被検レンズの設計データを演算処理手段に入力し、この設計データから演算処理手段により被検レンズの光路を求め、この求めた光路に基づいて基準チャートと撮像素子との位置を移動させるようにしたので、装置光軸が設定されていない場合でも、被検レンズの主光線位置を求めることにより、被検レンズの光軸が求められ、これにより装置光軸と被検レンズの光軸とを合致させることができ、正確な被検レンズの傾き角およびMTFなどの光学性能を高精度に求めることができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】実施の形態1のレンズ測定装置の構成図である。
【図2】実施の形態1の物点距離を変更した測定時のレンズ測定装置の状態を示す説明図である。
【図3】実施の形態1の光軸外位置での測定時のレンズ測定装置の状態を示す説明図である。
【図4】実施の形態3のレンズ測定装置の構成図である。
【図5】実施の形態3の物点および像点の座標位置を示す説明図である。
【図6】実施の形態3のレンズ測定方法の手順を示すフローチャートである。
【図7】実施の形態3の図6におけるステップS3のAルーチンの内容を示すフローチャートである。
【図8】実施の形態3のCCD面上に描かれた円の説明図である。
【図9】実施の形態4の物点および像点の座標位置を示す説明図である。
【図10】実施の形態4のレンズ測定方法のフローチャートである。
【符号の説明】
1 被検レンズ
2 撮像素子
3 撮像素子アクチュエータ
4 チャート
10 チャートアクチュエータ
【発明の属する技術分野】
本発明は、銀塩フィルムを用いたカメラやデジタルカメラなどのレンズ測定装置および測定方法に関する。
【0002】
【従来の技術】
従来、一般にレンズの結像性能を測定する装置としてMTF測定機が知られている。MTFは、レンズ等の結像性能を総合的に表す量であり、レンズの空間周波数特性を示し、空間的な正弦波をレンズに入力したときのレンズによる像の振幅と物体側の振幅との比として表される。MTFは被検レンズによる点像・線像・エッジ像などの光強度分布を電気的に検出し、フーリエ変換等の信号処理を行って測定する。
【0003】
従来のレンズ性能測定装置としては、以下にその概要を記述する「光学性能評価測定装置」(従来例1)がある(例えば、特許文献1参照。)。
【0004】
光学性能評価測定装置は、投影手段に設けたテストパターンを測定光学系により受光手段に投影し、該受光手段で得られたテストパターン像を利用して演算手段により該測定光学系の光学性能を評価する際、該投影手段は光源からの光束を光ファイバーで導光し、該光ファイバーの射出面からの光束により該テストパターンの一部又は全部を照明する照明系を有していることを特徴としている。特に、前記投影手段は前記光ファイバーの射出面が前記テストパターン面と平行な面内において移動可能となる移動機構を有していることや、前記移動機構は前記光ファイバーへ射出面が複数の位置に移動可能となる自動移動機構より成り、前記投影手段は該光ファイバーの射出面の複数の移動位置を記憶するティーチング機構と、該光ファイバーの射出面を該複数の位置に移動させる移動制御機構を有していることを特徴としている。
【0005】
また、投影手段に設けたテストパターンを測定光学系により所定面上に投影し、該所定面上に投影したテストパターン像を用いて該測定光学系の光学性能を評価する際、該投影手段は光源からの光束を周囲に少なくとも1つのリミットセンサーを設けた光ファイバーで導光し、該光ファイバーの射出面からの光束により該テストパターンの一部又は全部を照明する照明系と該光ファイバーの射出面が該テストパターン面と平行な面内において移動可能な移動機構とを有していることを特徴としている。
【0006】
一般に、レンズの解像度を評価する性能評価法として、投影試験、撮影試験、空中像観測の3方法が用いられているが、このうち最も高い解像度を与える評価方法は空中像観測法である。この空中像観測法は被検レンズによって作られた空中像を顕微鏡などに用いられる高性能な像拡大検出光学系を通して観察する技術が周知である。この技術を用いると、肉眼では捉え難い高周波成分を高精度に捉えることが可能となる。
【0007】
上記結像光学系の空中像観測方法を用いたMTF測定装置として、以下に概要を記述する「レンズの解像性能検査装置」(従来例2)がある(特許文献2参照。)。
【0008】
レンズの解像性能検査装置は、顕微鏡によるチャートパターンの拡大像に応じて光電変換する固体撮像素子と、この固体撮像素子からの光電信号を電気的に演算処理することにより被検レンズの焦点位置および解像力を検査する演算手段とを設けてレンズの解像性能検査装置を構成してある。また、軸外方向に配列されたチャートパターンのうち一方をメリジオナル方向のチャートパターンとし、他方をサジタル方向のチャートパターンとした場合において、被検レンズをその光軸を中心に回動自在に保持する保持手段と、前記ザジタル方向のチャートパターンに応じて被検レンズの全周についてサジタル方向の解像力を検査する固体撮像素子と、前記メリジオナル方向のチャートパターンに応じて被検レンズの全周についてメリジオナル方向の解像力を評価する演算手段とを設けてレンズの解像性能検査装置を構成するようにしてもよい。
【0009】
【特許文献1】
特開平7−5074号公報(第2頁−第5頁、図1−図10)
【特許文献2】
特開平2−103435号公報(第216頁−第217頁、第1図)
【0010】
【発明が解決しようとする課題】
しかるに、上記従来技術にはつぎのような問題点があった。すなわち、従来例1においては、チャートは被検レンズの画角・光軸外測定位置に対応させた全視野1枚のチャートであるため、測定する被検レンズ、もしくは物点距離・光軸外位置などの測定条件によりチャートを変更する必要があった。また、1枚のチャート上の決まった位置に物点であるスリット等が設けてあるため、光軸外デフォーカス測定時に入射角によりチャート像位置が外側(内側)に変化する影響や、レンズの偏心およびディストーション等により光軸位置や光軸外位置が変化する影響を受けてしまい、正しく像が結べないという問題があった。また、ファイバー光源や面光源によるチャート背面からの透過照明を用いた光軸外測定では、cosine4乗則や口径食(ビネット)によって光量が低下し、測定に必要な光量が得られないという問題が発生していた。
【0011】
また、従来例2においては、光学測定を行う場合、被検レンズの光軸と装置の光軸とがズレていると、例えばレンズの光軸の傾き角を測定した場合、被検レンズを回転させることにより、傾き角の絶対値は変化してしまう。このため測定装置の光軸と被検レンズの光軸とを合致させて測定する必要がある。しかしながら、上記レンズの解像性能検査装置では、被検レンズの取り付け誤差や光軸を調整する場合、機械的な方法を用いるため、光軸調整の精度はよくて数十ミクロン、または数十秒、悪い場合は百ミクロン、または一分を超えることもあるため、精度良く光軸を調整することは困難である。また、被検レンズの取り付け位置のばらつきも機械精度に影響され、光軸ズレが発生するという問題があった。
【0012】
本発明は、上記従来の問題点に鑑みてなされたもので、請求項1、2、3、4、5または6に係る発明の課題は、様々な被検レンズにフレキシブルに対応でき、なおかつ、様々な条件での測定を可能とするレンズ測定装置を提供することである。また、光軸外デフォーカス測定時の入射角によるチャート像位置の変化や、レンズの偏角およびディストーション等による光軸位置や光軸外位置の変化の影響を排除した測定ができるレンズ測定機を提供することである。さらに、光軸外測定時に発生する光量不足を防止できるレンズ測定装置を提供することである。
【0013】
請求項7、8、9または10に係る発明の課題は、被検レンズの傾き角やMTF等のレンズ性能を高精度に測定することができるレンズ測定方法を提供することである。
【0014】
【課題を解決するための手段】
上記課題を解決するために、請求項1、3、4、5または6に係る発明は、基準チャートと、被検レンズにより撮像面に結像した前記基準チャートの像の光強度分布を電気信号に変換する撮像素子とを有するレンズ測定装置において、前記基準チャートと前記撮像素子とを互いに独立して移動可能な移動手段を備えた。
【0015】
請求項2に係る発明は、光源と、該光源で照明された基準チャートと、被検レンズにより結像された該基準チャートの像を拡大する拡大光学系と、該拡大光学系により拡大された基準チャートの像の光強度分布を電気信号に変換する撮像素子とを有するレンズ測定装置において、前記基準チャートと前記撮像素子とを互いに独立して移動可能であり、かつそれぞれの位置座標を読み出し可能な移動手段と、被検レンズを回転可能に保持する保持回転手段と、読み出した座標位置情報を演算処理する演算処理手段とを備えた。
【0016】
請求項7、8、9または10に係る発明は、被検レンズにより基準チャートの像を撮像素子上に結像させて前記被検レンズの性能を測定するレンズ測定方法において、前記被検レンズの光軸を求める工程と、この光軸に前記撮像素子の光軸を一致させて被検レンズの性能を測定する工程とを有する。
【0017】
請求項1に係る発明のレンズ測定装置では、基準チャートと撮像素子とを互いに独立して移動可能な移動手段を備えたことにより、基準チャートの位置と撮像素子の位置とが移動手段により、基準チャートと撮像素子とは、互いに任意な撮像位置に配置可能となる。
【0018】
請求項2に係る発明のレンズ測定装置では、基準チャートと撮像素子とを互いに独立して移動可能であり、かつそれぞれの座標位置を読み出し可能な移動手段と、被検レンズを回転可能に保持する保持回転手段と、読み出した座標位置情報を演算処理する演算処理手段とを備えたことにより、基準チャートと撮像素子とは、互いに任意な撮像位置に配置可能となり、かつ、保持回転手段により被検レンズを回転させて、任意の回転位置における基準チャートのそれぞれの座標位置を読み出し、演算処理手段によりこの座標位置を演算して測定条件を設定する。
【0019】
請求項3に係る発明のレンズ測定装置では、撮像素子に結像した基準チャートの像に基づいて、この基準チャートの像が結像する座標位置を求める演算処理手段を備えるとともに、この求めた座標位置に前記撮像素子を移動させるように構成したことにより、常に基準チャートの像を撮像素子の中心に映し出す。
【0020】
請求項4に係る発明のレンズ測定装置では、被検レンズを回転可能に保持する保持回転手段を有することにより、保持回転手段により被検レンズを回転させ、任意の回転位置における基準チャートの像を撮像素子に映し出す。
【0021】
請求項5に係る発明のレンズ測定装置では、基準チャートの種類を切り替えるチャート切り替え手段を有することにより、チャート切り替え手段により基準チャートの種類を切り替える。
【0022】
請求項6に係る発明のレンズ測定装置では、基準チャートを回転中心にして、基準チャートを照明する光源を揺動させる揺動手段を有することにより、揺動手段により光源が基準チャートを回転中心にして揺動し、揺動された位置から斜めに基準チャートを照明する。
【0023】
請求項7に係る発明のレンズ測定方法では、被検レンズの光軸を求める工程と、この光軸に前記撮像素子の光軸を一致させて被検レンズの性能を測定する工程とを有することにより、被検レンズの光軸を求めてから、この光軸に撮像素子の光軸を一致させて、被検レンズの光学性能を測定する。
【0024】
請求項8に係る発明のレンズ測定方法では、被検レンズの光軸を求める工程は、基準チャートに対して被検レンズをその光軸を回転軸にして回転させて基準チャートの座標位置を取得する工程と、取得した座標位置に基づき演算処理手段により被検レンズの光軸を算出する工程とからなることにより、被検レンズを回転させて基準チャートの座標位置を把握し、演算処理手段により把握した基準チャートの座標位置を演算して被検レンズの光軸を求める。
【0025】
請求項9に係る発明のレンズ測定方法では、基準チャートを被検レンズに対して、光軸外の少なくとも3ヶ所の異なる位置に配置する工程と、それぞれの位置の基準チャートに対して被検レンズを回転させてそれぞれの位置における基準チャートの光軸を求める工程と、これらそれぞれの位置における基準チャートの光軸から演算処理手段により被検レンズの光軸を算出する工程とを有することにより、光軸外における少なくとも3ヶ所の異なる位置から基準チャートの光軸を求め、これらそれぞれの位置における基準チャートの光軸から演算処理手段により被検レンズの光軸を算出する。
【0026】
請求項10に係る発明のレンズ測定方法では、被検レンズの設計データを演算処理手段に入力する工程と、設計データに基づいて演算処理手段により被検レンズの光路を求める工程と、この求めた光路に基づいて基準チャートと撮像素子との位置を移動させる工程とを有することにより、被検レンズの設計データを演算処理手段に入力し、この設計データから演算処理手段により被検レンズの光路を求め、この求めた光路に基づいて基準チャートと撮像素子との位置をそれぞれ移動させる。
【0027】
【発明の実施の形態】
以下、具体的な実施の形態について説明する。
【0028】
(実施の形態1)
図1〜3は実施の形態1を示し、図1はレンズ測定装置の構成図、図2は物点距離を変更した測定時のレンズ測定装置の状態を示す説明図、図3は光軸外位置での測定時のレンズ測定装置の状態を示す説明図である。
【0029】
図1において、被検レンズ1は、レンズ測定装置のベース20の上面に立設された取付け台21上に固定されている。被検レンズ1の背面側(図中右側)には、撮像素子2が配設され、撮像素子2は移動手段としての撮像素子アクチュエータ3の移動面に装着されており、XYZの3次元移動が可能に構成されている。撮像素子アクチュエータ3は、X方向(図中奥行き方向)アクチュエータ3a、Y方向(図中上下方向)アクチュエータ3b、Z方向(図中左右方向)アクチュエータ3cから構成されている。Z方向アクチュエータ3cは、ベース20上に敷設され、Z方向アクチュエータ3cの移動ステージ上にはY方向アクチュエータ3bが立設され、Y方向アクチュエータ3b上にはX方向アクチュエータ3aが横設され、X方向アクチュエータ3a上には撮像素子2が取着されている。
【0030】
被検レンズ1の正面側(図中左側)には、基準チャートとしてのチャート4が配設され、その外径心を軸に矢印θ方向に回転可能となっており、隣設されたチャートモータ5の駆動により回転する。また、チャート4には、それぞれ径の異なるピンホールチャート4a、4b、4c、4dが配置されている。チャート4の背面側(図中チャート4の左側)には、光源としての光源ランプ6が配設され、チャート4を背面より透過照明する。光源ランプ6は、リンク7上に装着され、リンク7はリンクモータ8の駆動により、チャート4のピンホールチャート4c(図1で使用中の場合)の中心を回動中心にして矢印α方向に揺動可能となっている。また、光源ランプ6、リンク7およびリンクモータ8は一体で揺動手段としての光源ユニット22を構成し、回転モータ9の駆動により、光源ランプ6の光軸(被検レンズ1の光軸と一致している)を中心に矢印β方向に回転する。また、チャート4、チャートモータ5、光源ユニット22および回転モータ9は一体でチャート切り替え手段としてのチャートユニット23を構成し、後述するチャートアクチュエータ10の移動面に配設されている。
【0031】
移動手段としてのチャートアクチュエータ10は、撮像素子アクチュエータ3と同様に、X方向(図中奥行き方向)アクチュエータ10a、Y方向(図中上下方向)アクチュエータ10b、Z方向(図中左右方向)アクチュエータ10cから構成されている。Z方向アクチュエータ10cは、ベース20上に敷設され、Z方向アクチュエータ10cの移動ステージ上にはY方向アクチュエータ10bが立設され、Y方向アクチュエータ10b上にはX方向アクチュエータ10aが横設され、X方向アクチュエータ10a上にはチャートユニット23が取着されている。
【0032】
演算処理手段としての演算装置11は、撮像素子2からの画像信号が図示しない画像ケーブルにて入力され、さらに、撮像素子アクチュエータ3、チャートモータ5、リンクモータ8、回転モータ9およびチャートアクチュエータ10と図示しない制御線にてそれぞれ接続されている。
【0033】
つぎに、上記構成のレンズ測定装置を用いたレンズのMTFの測定方法にについて説明する。
【0034】
図1は、被検レンズ1のある物点距離で光軸上のMTFを測定する場合を示している。チャート4は、光源ランプ6により背面から透過照明され、被検レンズ1の物点となる。被検レンズ1によって結像したチャート4の像の光強度分布を撮像素子2で観察し、その画像情報を演算装置11で画像処理・演算することにより、被検レンズ1のMTFを算出する。その際、得られた画像情報により撮像素子2にチャート4の像が結像するように、撮像素子アクチュエータ3のX方向アクチュエータ3aとY方向アクチュエータ3bとにより撮像素子2を移動させる。また、撮像素子2の光軸方向(図中矢印Z方向)は、撮像素子アクチュエータ3のZ方向アクチュエータ3cを所定の位置で固定し、既定の像面で評価を行ったり、Z方向アクチュエータ3cを作動させ、ベスト像面等を検出することも可能である。当然、Z方向アクチュエータ3cをあるピッチで移動させ、その都度、被検レンズ1のMTFを算出することも可能である。
【0035】
図2は、図1と異なる物点距離でMTFを測定する場合を示している。チャートアクチュエータ10のZ方向アクチュエータ10cを作動し、物点であるチャート4を任意の位置に移動する。図2に一点鎖線で示した図1におけるチャート位置に比較して遠い位置に物点を設定している。物点が遠いということは、被検レンズ1の状態が図1と変わらない場合、結像倍率が小さくなることを意味する。結像倍率が小さくなれば、同じ径のチャート4を用いた場合、像面上でのチャート4の像径も小さくなる。空間周波数〔本/mm〕=−1/(ピンホール径〔mm〕×結像倍率〔倍〕)で表せるため、測定する空間周波数を保持するには、ピンホール径を大きくする必要がある。そこでチャートモータ5を作動させ、ピンホルチャート4a、4b、4c、4dから所望の空間周波数を得られるピンホールチャートを選択する。
【0036】
図2では、図1でピンホールチャート4cを用いていたが、物点距離が遠くなり、結像倍率が下がったことから、ピンホール径の大きいピンホールチャート4dに切り換えて測定を行っている。物点距離等の変更はこの方法で対応する。被検レンズ1によって結像したピンホールチャート4dの像を撮像素子2で観察し、その画像情報を演算装置11で画像処理・演算することにより被検レンズ1のMTFを算出する。その際、得られた画像情報から結像したピンホールチャート4dの像が撮像素子2の中心を保持するように、撮像素子アクチュエータ3のX方向アクチュエータ3aとY方向アクチュエータ3bを追従動作させる。また、撮像素子2の光軸方向(図中矢印Z方向)は、撮像素子アクチュエータ3のZ方向アクチュエータ3cを所定の位置で固定し、既定の像面上で評価を行ったり、Z方向アクチュエータ3cを動作させ、ベスト像面等を検出することも可能である。当然、Z方向アクチュエータ3cをあるピッチで移動させ、その都度、被検レンズ1のMTFを算出することで、被検レンズ1のデフォーカス特性を測定することも可能である。
【0037】
図3は、図1と物点距離は同一で光軸外位置でMTF測定を行う場合を示している。被検レンズ1の測定像高と結像倍率とから、物点位置(光軸からの物点位置〔mm〕=測定像高〔mm〕/結像倍率〔倍〕)を算出する。チャートアクチュエータ10のX方向アクチュエータ10aとY方向アクチュエータ10bとを動作させ、その位置にチャート4を移動する。また、撮像素子アクチュエータ3のX方向アクチュエータ3aとY方向アクチュエータ3bとを作動させ、撮像素子2の中心が測定位置にくるように移動させる。その位置でのピンホールチャート4cから被検レンズ1への入射光線(簡略化して図示する)と、水平軸(被検レンズ1の光軸)とのなす角度をω、垂直軸とのなす角度をγとする。リンクモータ8を作動させ、光源ランプ6とピンホールチャート4cとを結ぶ光軸が水平軸となす角度αが、前記ωに等しくなるように矢印α方向に移動させる。また、回転モータ9を作動させ、光源ランプ6とピンホールチャート4cとを結ぶ光軸が垂直軸となす角度がγに等しくなるように移動させる。これにより、ピンホールチャート4cから被検レンズ1への入射光線軸と、光源ランプ6の光軸とを一致させることができる。光軸外位置等の変更時は、この方法で対応する。
【0038】
被検レンズ1によって結像したピンホールチャート4cの像を撮像素子2で観察し、その画像情報を演算装置11で画像処理・演算することにより、被検レンズ1のMTFを算出する。その際、得られた画像処理情報から結像したピンホールチャート4cの像が撮像素子2の中心を保持するように、撮像素子アクチュエータ3のX方向アクチュエータ3aとY方向アクチュエータ3bとを追従移動させる。また、撮像素子2の光軸方向(図中Z方向)は、撮像素子アクチュエータ3のZ方向アクチュエータ3cを所定の位置で固定し、既定の像面上で評価を行ったり、Z方向アクチュエータ3cを作動させ、ベスト像面等を検出することも可能である。当然、Z方向アクチュエータ3cをあるピッチで移動させ、その都度被検レンズ1のMTFを算出することで、被検レンズ1のデフォーカス特性を測定することも可能である。
【0039】
本実施の形態によれば、被検レンズ1の結像倍率に対応して物点であるピンホールチャート4a、4b、4c、4dを切り換え、なおかつ任意の位置にチャートアクチュエータ10により3次元移動することにより、様々な被検レンズにフレキシブルに対応でき、なおかつ様々な条件での測定を可能とするレンズ測定装置を提供することができる。
【0040】
また、被検レンズ1によって結像された撮像素子2上のピンホールチャート像位置を演算装置11により探知し、撮像素子2ならびにチャート4をそれぞれ撮像素子アクチュエータ3およびチャートアクチュエータ10で3次元移動させて、ピンホールチャート像が撮像素子2上の指定位置での結像を保持するように追従移動することにより、光軸外デフォーカス測定時の入射角によるチャート像の位置変化や、被検レンズ1の偏角およびディストーション等による光軸位置や光軸外位置の変化の影響を排除した測定ができるレンズ測定機を提供することができる。
【0041】
また、光源ランプ6を測定する被検レンズ1の軸外位置(像高)により変わる入射角に対応してリンク7およびリンクモータ8の動作で傾斜させることにより、光軸外測定時に発生する光量不足を防止できるレンズ測定機を提供することができる。
【0042】
(実施の形態2)
実施の形態2のレンズ測定装置は、基本的には実施の形態1のレンズ測定装置と同じ構成になっている。異なる点は、図1〜図3における演算装置11内には、光学的設計ツールもしくはその設計データ処理ツールがインストールされていることである。
【0043】
つぎに、上記構成のレンズ測定装置を用いたレンズのMTFの測定方法は、基本的に実施の形態1と同一であり、ここでは異なる部分について説明する。
【0044】
実施の形態1では、図1〜図3において、撮像素子アクチュエータ3およびチャートアクチュエータ10は、被検レンズ1の使用などから得られる近軸位置を基準に駆動していた。実施の形態2では、演算装置11にインストールされた光学的設計ツールもしくはその設計データ処理ツールにより、演算装置11に入力された被検レンズ1の光学設計データ等から、偏心およびディストーション等の影響を反映し、最適な測定条件を算出する。撮像素子アクチュエータ3およびチャートアクチュエータ10の移動位置に補正をかけることにより、その最適な測定条件を成立させる。
【0045】
本実施の形態によれば、被検レンズ1の光学設計データ等を演算装置11でリンクすることにより、被検レンズ1の偏心およびディストーション等の影響を反映することができる。それにより、予め撮像素子2の位置、ならびにチャート4の位置等の最適な測定条件を算出し、撮像素子アクチュエータ3とチャートアクチュエータ10を近軸位置ではなく実際結像位置に補正移動させることが可能 になり、より測定時間の短いレンズ測定装置を提供することができる。
【0046】
(実施の形態3)
図4〜図8は実施の形態3を示し、図4はレンズ測定装置の構成図、図5は物点および像点の座標位置を示す説明図、図6はレンズ測定方法の手順を示すフローチャート、図7は図6におけるステップS3のAルーチンの内容を示すフローチャート、図8はCCD面上に描かれた円の説明図である。
【0047】
まず、レンズ測定装置の構成について説明する。図4において、基準チャート101は、任意の円形開口部を設けており、レンズ測定装置の装置光軸と直交するように配設されている。この基準チャート101はハロゲンランプやキセノンランプなどからなる光源102により照明されており、ボールネジ付きステージ等の移動手段としての移動機構103、104、105でそれぞれ装置光軸方向(図中Z方向)、装置光軸方向に垂直な方向の図中X方向およびY方向に、即ち3次元的に移動可能に構成されている。移動機構103はレンズ測定装置の基台120の上面左端に固定されている。移動機構103の右方の基台120の上面には、基準チャート101に対して垂直な回転軸をもつ保持回転手段としての保持回転機構113が配設され、被検レンズ100が回転可能に保持されている。
【0048】
保持回転機構113の右方の基台120の上面には、ボールネジ付きステージ等の移動手段としての移動機構107、108、109が、それぞれ装置光軸方向に垂直な方向の図中X方向およびY方向、装置光軸方向(図中Z方向)に、即ち3次元的に移動可能に配設されている。移動機構107には、拡大光学系としての顕微鏡対物レンズ106が装着されており、顕微鏡対物レンズ106は、被検レンズ100の持つ収差に比べ、遙に良好な収差補正がなされた拡大光学系で形成され、その光軸は基準チャート101に直交する軸に平行に配置され、被検レンズ100による基準チャート101の縮小像を拡大し得るようになっている。
【0049】
顕微鏡対物レンズ106の右方には、撮像素子としての2次元のCCDセンサ110が配設され、CCDセンサ110は、被検レンズ100と顕微鏡対物レンズ106とにより生成された基準チャート101の像の結像位置に配置されている。CCDセンサ110も、顕微鏡対物レンズ106とともに、ボールネジ付きステージ等の移動機構107、108、109により3次元的に移動することが可能となっている。CCDセンサ110は、画像処理装置111に接続されており、画像処理装置111は演算処理手段としてのコンピュータ112に接続されている。コンピュータ112は、画像処理装置111から出力される基準チャート101の像の情報から、傾き角やMTFを算出するための演算処理を行う。また、移動機構103、104、105、107、108、109の移動方向および速度、保持回転機構113の回転方向および速度を制御するための信号をコントーラ114に送信し、各軸の制御が行われる。さらに、コンピュータ112は、コントローラ114、制御装置115を介して、各移動機構103、104、105、107、108、109および保持回転機構113の現在位置情報を読み出すことが可能になっている。
【0050】
つぎに、上記構成のレンズ測定装置を用いたレンズ測定方法について、図4〜図7を参照しながら説明する。図6において、ステップS1で、移動機構103、104、105により、基準チャート101を任意の物点位置の測定ポイントへ移動する。つぎに、顕微鏡対物レンズ106を移動機構107、108により基準チャート101の結像位置に移動する。このとき、基準チャート101の像がCCDセンサ110に映らない場合には、移動機構104、105により装置光軸に垂直な面に沿って基準チャート101を移動させ、基準チャート101の像をサーチする。続いてステップS2で、移動機構109により顕微鏡対物レンズ106を装置光軸方向(図4中Z方向)に移動させてピント検出を行い、顕微鏡対物レンズ106のピント位置を座標(XO,YO,ZP)に固定する(図5参照)。
【0051】
ステップS3で、図7に示すAルーチンに入り、ステップS100で回転機構113を用いて被検レンズ100を回転機構113の回転軸を中心にθ°回転する。ステップS101で装置光軸と垂直な方向(図4中X、Y方向)に基準チャート101を移動させ、この移動によって生ずるCCDセンサ110上における基準チャート101の像の移動量から、被検レンズ100の結像倍率mを求める。ステップS102で、ステップS101で測定した被検レンズ100の結像倍率および顕微鏡対物レンズ106の倍率を用いて、CCDセンサ110の中心に基準チャート101の像がくるように移動機構104、105を駆動して基準チャート101を移動させ、被検レンズ100を介して、基準チャート101と顕微鏡対物レンズ106とが主光線上に位置するように設定する。
【0052】
ステップS103で、現在の基準チャート101の座標位置(Xn,Yn)をコントローラ114、制御装置115を介して読み出し、コンピュータ112の読み出しメモリに格納する。続いて、被検レンズ110をθ°回転させ、同様に基準チャート101の座標位置(Xn,Yn)をメモリに格納する。上記ステップS100〜S104をcnt回繰り返す(ステップS104)。但し、cntは3回以上とする。ステップS105で主光線と基準チャート101の交点座標を算出する。被検レンズ100を回転させると、図8に示すように、被検レンズ100の傾き角の影響で、CCDセンサ110面上には円が描かれる。この円の中心が被検レンズ100の光軸となるため、上記ステップS100〜S104により測定した結果(Xn,Yn)から、最小自乗法などにより円の中心座標(Xc,Yc)を算出する。つぎに、図6に示すフローチャートのステップS4で被検レンズ100の光軸位置を算出する。
【0053】
図5において、被検レンズ100の光軸位置を通る水平面から、基準チャート101の座標位置(Xn,Yn)までの距離a、bをX方向にaX、bX、Y方向にaY、bYとすると、それぞれ下記のような関係が成立する。
(aX+bX,aY+bY)=(XC−XO,YC−YO)
ただし(XO,YO)は設備光軸とする。
【0054】
【数1】
【0055】
光軸座標は(XOL,YOL)は以下のようになる。
(aX+bX,aY−bY)=(XC−XO,YC−YO)
ステップS5で被検レンズ100の光軸位置(XOL,YOL)に、装置光軸位置を合わせることにより、ステップ6で精度良く被検レンズ100の傾き角およびMTFの測定を行う。なお万が一、基準チャート101のX、Yと顕微鏡対物レンズ106のX、Yとの絶対位置関係が分からない場合には、顕微鏡対物レンズ106の光軸座標位置(XIL,YIL)を下記のように算出する。
(XIL,YIL)=(bX×m−XIO,bY×m−YIO)
ただし、(XIO,YIO)は、顕微鏡対物レンズ106側の装置光軸座標である。
【0056】
同様にして、被検レンズ100を回転させたときの、CCDセンサ110に映し出される基準チャート101の像の描く円の軌跡と被検レンズ100の結像倍率とを用いて、像面側すなわち顕微鏡対物レンズ106側で被検レンズ100の光軸を求めてもよい。
【0057】
本実施の形態によれば、被検レンズの主光線位置を求めることにより、被検レンズの光軸を求められるので、これにより装置光軸と被検レンズの光軸とを合致させることができる。こうして、被検レンズの傾き角およびMTFなどの光学性能を高精度に測定することができる。
【0058】
(実施の形態4)
図9および図10は実施の形態4を示し、図9は物点および像点の座標位置を示す説明図、図10はレンズ測定方法のフローチャートである。本実施の形態のレンズ測定方法に用いるレンズ測定装置は実施の形態3のものと同一のため、図4を参照して説明するとともに、図10のフローチャートのステップS3では、図7のAサブルーチンを引用して説明する。
【0059】
図10において、ステップS1では、移動機構103、104、105(図4参照)により、図9に示すように、基準チャート101を任意の物点位置の測定ポイントZ1 へ移動する。つぎに顕微鏡対物レンズ106を移動機構107、108により、基準チャート101の結像位置に移動する。このとき、基準チャート101の像がCCDセンサ110に映らない場合には、基準チャート101を移動機構104、105により装置光軸に垂直な面(図4中X−Y平面)に沿って移動させサーチする。ステップS2では、顕微鏡対物レンズ106を移動機構109により装置光軸方向(図4中Z方向)に移動させてピント検出を行い、ピント位置に固定する。
【0060】
ステップS3では、図7に示すAルーチンに入り、主光線と基準チャート101の交点座標(XC1,YC1)を算出する。ステップS4では、基準チャート101を測定ポイントZ1以外の任意の物点位置の測定ポイントZ2へ移動する。このとき、基準チャート101の像がCCDセンサ110に映らない場合には、移動機構104、105により装置光軸と垂直な面(図4中X−Y平面)に沿って基準チャート101を移動させサーチする。ステップS5では、顕微鏡対物レンズ106を移動手段109により、図4中Z方向に移動させてピント検出を行い、ピント位置に固定する。ステップS6では、図7に示すAルーチンに入り、主光線と基準チャート101の交点座標(XC2,YC2)を算出する。
【0061】
ステップ7では、被検レンズ100の光軸位置を以下のように算出する。2点間の交点座標から主光線を図4中のX−Z、Y−Z関数を求める。
【0062】
【数2】
【0063】
図9に示すように、被検レンズ100の入射瞳位置をZEとすると、Z=ZEとなるX、Y座標が被検レンズ100の光軸位置となる。被検レンズ100の光軸座標(XO,YO)を、下記のように算出する。
【0064】
【数3】
【0065】
ステップS8では、被検レンズ100の傾き角およびMTFの測定を行う。万が一、基準チャート101のX、Yと顕微鏡対物レンズ106のX、Yとの絶対位置関係が分からない場合には、顕微鏡対物レンズ106の光軸座標位置(XIL,YIL)を下記のように算出する。
【0066】
【数4】
【0067】
但し、(XC1、YC1)はステップS105で算出する測定ポイントZ1のときの基準チャート座標、m1はステップS102で測定する測定ポイントZ1のときの被検レンズ100の結像倍率、(XI,YI)は顕微鏡対物レンズ106側の現在座標位置とする。
【0068】
同様にして、被検レンズ100を回転させたときの、CCDセンサ110に写し出される基準チャート101の像の描く円の軌跡と被検レンズ100の結像倍率を用いて、像面側、すなわち、顕微鏡対物レンズ106側で被検レンズ100の光軸を求めてもよい。
【0069】
本実施の形態によれば、装置光軸が設定されていない場合でも、被検レンズの主光線位置を求めることにより、被検レンズの光軸が求められ、これにより装置光軸と被検レンズの光軸とを合致させることができ、正確な被検レンズの傾き角およびMTFなどの光学性能を高精度に求めることができる。
【0070】
【発明の効果】
請求項1に係る発明によれば、基準チャートの位置と撮像素子の位置とが移動手段により、基準チャートと撮像素子とは、互いに任意な撮像位置に配置可能となるようにしたので、様々な被検レンズにフレキシブルに対応することができる。
【0071】
請求項2に係る発明によれば、基準チャートと撮像素子とは、互いに任意な撮像位置に配置可能となり、かつ、保持回転手段により被検レンズを回転させて、任意の回転位置における基準チャートのそれぞれの座標位置を読み出し、演算処理手段によりこの座標位置を演算して測定条件を設定するようにしたので、様々な被検レンズにフレキシブルに対応することができ、なおかつ様々な条件での光学性能の測定を行うことができるとともに、光軸外デフォーカス測定時の入射角によるチャート像位置の変化や、被検レンズの偏角およびディストーション等による光軸位置や光軸外位置の変化の影響を排除した測定をすることができる。
【0072】
請求項3に係る発明によれば、常に基準チャートの像を撮像素子の中心に映し出すようにしたので、光軸外デフォーカス測定時の入射角によるチャート像の位置変化や、被検レンズの偏角およびディストーションによる光軸位置や光軸該位置の変化の影響を排除した測定をすることができる。
【0073】
請求項4に係る発明によれば、保持回転手段により被検レンズを回転させ、任意の回転位置における基準チャートの像を撮像素子に写し出すようにしたので、様々な被検レンズに対応でき、なおかつ様々な条件での光学性能の測定を行うことができる
【0074】
請求項5に係る発明によれば、チャート切り替え手段により基準チャートの種類を切り換えるようにしたので、様々な条件での光学性能の測定を行うことができる。
【0075】
請求項6に係る発明によれば、揺動手段により光源が基準チャートを回転中心にして揺動し、揺動された位置から斜めに基準チャートを照明するようにしたので、光軸外測定時に発生する光量不足を防止することができる。
【0076】
請求項7に係る発明によれば、被検レンズの光軸を求めてから、この光軸に撮像素子の光軸を一致させて、光学性能を測定するようにしたので、被検レンズの傾き角やMTF等のレンズ性能を高精度に測定することができる。
【0077】
請求項8に係る発明によれば、被検レンズを回転させて基準チャートの位置座標を把握し、演算処理手段により把握した基準チャートの位置座標を演算して被検レンズの光軸を求めるようにしたので、光軸が不明な被検レンズであっても、その光軸を求めて撮像素子の光軸に一致させることができる。
【0078】
請求項9に係る発明によれば、光軸外における少なくとも3ヶ所の異なる位置から基準チャートの光軸を求め、これらそれぞれの位置における基準チャートの光軸から演算処理手段により被検レンズの光軸を算出するようにしたので、被検レンズの光軸座標を高精度に求めることができる。
【0079】
請求項10に係る発明によれば、被検レンズの設計データを演算処理手段に入力し、この設計データから演算処理手段により被検レンズの光路を求め、この求めた光路に基づいて基準チャートと撮像素子との位置を移動させるようにしたので、装置光軸が設定されていない場合でも、被検レンズの主光線位置を求めることにより、被検レンズの光軸が求められ、これにより装置光軸と被検レンズの光軸とを合致させることができ、正確な被検レンズの傾き角およびMTFなどの光学性能を高精度に求めることができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】実施の形態1のレンズ測定装置の構成図である。
【図2】実施の形態1の物点距離を変更した測定時のレンズ測定装置の状態を示す説明図である。
【図3】実施の形態1の光軸外位置での測定時のレンズ測定装置の状態を示す説明図である。
【図4】実施の形態3のレンズ測定装置の構成図である。
【図5】実施の形態3の物点および像点の座標位置を示す説明図である。
【図6】実施の形態3のレンズ測定方法の手順を示すフローチャートである。
【図7】実施の形態3の図6におけるステップS3のAルーチンの内容を示すフローチャートである。
【図8】実施の形態3のCCD面上に描かれた円の説明図である。
【図9】実施の形態4の物点および像点の座標位置を示す説明図である。
【図10】実施の形態4のレンズ測定方法のフローチャートである。
【符号の説明】
1 被検レンズ
2 撮像素子
3 撮像素子アクチュエータ
4 チャート
10 チャートアクチュエータ
Claims (10)
- 基準チャートと、被検レンズにより撮像面に結像した前記基準チャートの像の光強度分布を電気信号に変換する撮像素子とを有するレンズ測定装置において、
前記基準チャートと前記撮像素子とを互いに独立して移動可能な移動手段を備えたことを特徴とするレンズ測定装置。 - 光源と、該光源で照明された基準チャートと、被検レンズにより結像された該基準チャートの像を拡大する拡大光学系と、該拡大光学系により拡大された基準チャートの像の光強度分布を電気信号に変換する撮像素子とを有するレンズ測定装置において、
前記基準チャートと前記撮像素子とを互いに独立して移動可能であり、かつそれぞれの座標位置を読み出し可能な移動手段と、被検レンズを回転可能に保持する保持回転手段と、読み出した座標位置情報を演算処理する演算処理手段とを備えたことを特徴とするレンズ測定装置。 - 前記撮像素子に結像した前記基準チャートの像に基づいて、この基準チャートの像が結像する座標位置を求める演算処理手段を備えるとともに、この求めた座標位置に前記撮像素子を移動させるように構成したことを特徴とする請求項1記載のレンズ測定装置。
- 前記被検レンズを回転可能に保持する保持回転手段を有することを特徴とする請求項1記載のレンズ測定装置。
- 前記基準チャートの種類を切り替えるチャート切り替え手段を有することを特徴とする請求項1記載のレンズ測定装置。
- 前記基準チャートを回転中心にして、前記基準チャートを照明する前記光源を揺動させる揺動手段を有することを特徴とする請求項1記載のレンズ測定装置。
- 被検レンズにより基準チャートの像を撮像素子上に結像させて前記被検レンズの性能を測定するレンズ測定方法において、
前記被検レンズの光軸を求める工程と、この光軸に前記撮像素子の光軸を一致させて被検レンズの性能を測定する工程とを有することを特徴とするレンズ測定方法。 - 前記被検レンズの光軸を求める工程は、前記基準チャートに対して前記被検レンズをその光軸を回転軸にして回転させて前記基準チャートの座標位置を取得する工程と、該取得した座標位置に基づき演算処理手段により前記被検レンズの光軸を算出する工程とからなることを特徴とする請求項7記載のレンズ測定方法。
- 前記基準チャートを前記被検レンズに対して、光軸外の少なくとも3ヶ所の異なる位置に配置する工程と、それぞれの位置の前記基準チャートに対して前記被検レンズを回転させてそれぞれの位置における前記基準チャートの光軸を求める工程と、これらそれぞれの位置における基準チャートの光軸から前記演算処理手段により被検レンズの光軸を算出する工程とを有することを特徴とする請求項7記載のレンズ測定方法。
- 前記被検レンズの設計データを演算処理手段に入力する工程と、前記設計データに基づいて前記演算処理手段により前記被検レンズの光路を求める工程と、この求めた光路に基づいて前記基準チャートと前記撮像素子との位置を移動させる工程とを有することを特徴とする請求項7記載のレンズ測定方法。
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| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2002328140A JP2004163207A (ja) | 2002-11-12 | 2002-11-12 | レンズ測定装置および測定方法 |
Applications Claiming Priority (1)
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|---|---|---|---|
| JP2002328140A JP2004163207A (ja) | 2002-11-12 | 2002-11-12 | レンズ測定装置および測定方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2004163207A true JP2004163207A (ja) | 2004-06-10 |
Family
ID=32806521
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2002328140A Pending JP2004163207A (ja) | 2002-11-12 | 2002-11-12 | レンズ測定装置および測定方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2004163207A (ja) |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
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|
| A977 | Report on retrieval |
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