JP2003511729A - 複屈折ポリマーを使用して製造される光学体 - Google Patents
複屈折ポリマーを使用して製造される光学体Info
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Abstract
Description
類の異なる材料を含有する多層光学体に関する。本発明は、複屈折性のポリエチ
レンナフタレートのコポリマーを含む光学フィルム(多層光学フィルムなど)に
も関する。
用途の1つとしては、所与の偏光および波長範囲を有する光を反射するミラーま
たは偏光子における用途が挙げられる。このような反射フィルムは、例えば、デ
ィスプレイの輝度を向上させグレアを減少させるために液晶ディスプレイのバッ
クライトと組み合わせて使用される。利用者とバックライトとの間に偏光フィル
ムを配置して、利用者の方に光を向け、光を偏光させることによって、グレアを
減少させることができる。ミラーフィルムをバックライトの後方に配置して、利
用者の方向に光を反射させることによって、輝度を向上させることができる。別
の用途として偏光フィルムは、光の強度およびまぶしさを減少させるためにサン
グラスなどの物品に使用される。
米国特許第5,825,543号および第5,867,316号、ならびにPC
T公開WO99/36262号およびWO97/32226号(これらの記載内
容を本明細書に援用する)などに記載されるポリエステルが挙げられる。ポリエ
ステル系偏光子の一例として、異なる組成のポリマー層を積重ねたスタックが挙
げられる。この層のスタックの構成の1つは、複屈折を有する第1の層の組と、
等方性屈折率を有する第2の層の組とを含む。第2の層の組が複屈折層と交互に
配置され、光を反射する一連の界面が形成される。
合成に使用されるモノマー材料によって決定されるが一般的である。ポリエステ
ルは、1種類以上の異なるカルボキシレートモノマー(例えば、2つ以上のカル
ボン酸またはエステル官能基を有する化合物)と1種類以上の異なるグリコール
モノマー(例えば、2つ以上のヒドロキシ官能基を有する化合物)との反応によ
って合成される。
置における該光学体の使用に関する。実施態様の1つは、複屈折性の第1の光学
層と、第1の光学層と交互に配置される第2の光学層とを含む多層光学フィルム
である。第1の光学層のそれぞれは、カルボキシレートサブユニットの70モル
%未満がナフタレートサブユニットであるポリエチレンナフタレートのコポリマ
ーを使用して形成される。632.8nmの光の場合、第2の光学層の面内複屈
折は、第1の光学層の面内複屈折よりも小さい。第1の光学層のコポリマーはラ
ンダムコポリマーであってもよいし、ブロックコポリマーであってもよい。本発
明は、この光学フィルムの製造方法および使用方法、ならびにこの光学フィルム
を備える装置も目的としている。
置される第2の光学層とを含む多層光学フィルムである。第1の光学層のそれぞ
れは、コポリマーのガラス転移温度より約5℃以下高温、あるいは必要に応じて
コポリマーのガラス転移温度以下の温度でポリマーを延伸した場合に、632.
8nmの光で少なくとも約0.16の面内複屈折を得ることができるポリマー(
例えばポリエチレンナフタレートのコポリマー)を使用して形成される。632
.8nmの光の場合、第2の光学層の面内複屈折は、第1の光学層の面内複屈折
よりも小さい。好ましくは、このポリマーは、コポリマーのガラス転移温度より
約5℃以下高温、あるいは必要に応じてコポリマーのガラス転移温度以下の温度
でポリマーを延伸した場合に、632.8nmの光で少なくとも0.18、好ま
しくは少なくとも0.19の面内複屈折を得ることができる。本発明は、この光
学フィルムの製造方法および使用方法、ならびにこの光学フィルムを備える装置
も目的としている。
置される第2の光学層とを含む多層光学フィルムである。第1の光学層のそれぞ
れは、示差走査熱量法で測定した結晶化度が約20%以下であるポリエチレンナ
フタレートのコポリマーを使用して形成される。632.8nmの光の場合、第
2の光学層の面内複屈折は、第1の光学層の面内複屈折よりも小さい。本発明は
、この光学フィルムの製造方法および使用方法、ならびにこの光学フィルムを備
える装置も目的としている。
クが形成される。この光学層のスタックは、ポリエチレンナフタレートのコポリ
マーを使用して製造された第1の光学層と、第1の光学層と光学界面を形成する
第2の光学層とを含む。第1の光学層の面内複屈折が少なくとも約0.16、好
ましくは少なくとも0.18、より好ましくは少なくとも0.19となるように
、コポリマーのガラス転移温度より約5℃以下高温、あるいは必要に応じてコポ
リマーのガラス転移温度以下の温度で第1の光学層が延伸される。
る第2の光学層とを含む多層光学フィルムである。第1の光学層のそれぞれは、
少なくとも約0.10の光学効率を得ることができるポリマー(例えばポリエチ
レンナフタレートのコポリマー)を使用して形成される。632.8nmの光の
場合、第2の光学層の面内複屈折は、第1の光学層の面内複屈折よりも小さい。
光学効率(optical efficacy)は(nz−ny)2/(nx−
ny)2で定義され、式中nx、ny、およびnzは光学層の屈折率である。
いて説明することを意図したものではない。以下の図面および詳細な説明によっ
て、いくつかの実施態様について例証する。
子やミラーなどの光学装置への光学体の使用に適用できると考えられる。本発明
は、コポリエチレンナフタレート(coPEN)の複屈折層を有する光学体(例
えば、多層光学フィルムなどの光学フィルム)、ならびにこれらの光学体の製造
方法および使用方法、ならびに光学体が取り入れられた物品も目的としている。
本発明を限定するものではないが、後出の実施例の説明によって本発明の種々の
態様が理解できるであろう。
いうことがないことを意味する。本明細書に記載されるポリマー層の場合は、x
軸とy軸は層の面内にあり、z軸は層の厚さまたは高さに対応するように軸が選
択される。
解することができる。
たはエステル交換などの反応などによって混和性混合物を形成可能なポリマーま
たはコポリマーを含むものとして理解することができる。他に明記しない限りは
、ブロックコポリマーとランダムコポリマーの両方が含まれる。
光の場合について記載している。
シレートサブユニットのXモル%のみがナフタレートサブユニットであるポリエ
ステルを意味している。
とも2種類のポリマー材料を使用して形成することができる。通常、これらのポ
リマー材料の中の少なくとも1種類は配向(例えば延伸)によって複屈折性とな
る。好適な光学体の1つは、交互に配置する各ポリマー材料層を含みこれによっ
て複数の反射界面が形成される多層光学フィルムである。
光学フィルム10を示している。フィルム10は、1層以上の第1の光学層12
と、1層以上の第2の光学層14と、1層以上の非光学層18とを含む。非光学
層18は、光学フィルムの表面上にスキン層として配置することができるし(図
1)、あるいは光学層の間に配置することもできる(図2)。第1の光学層12
は、一軸延伸または二軸延伸した複屈折ポリマー層が好ましい。ある実施態様で
は、第2の光学層14は、複屈折性であり一軸延伸または二軸延伸されたポリマ
ー層である。別の実施態様では、第2の光学層14は、第1の光学層12の少な
くとも1つの屈折率とは異なる等方性屈折率を有するポリマー層である。いずれ
の場合も、632.8nmの光の場合に第1の光学層の面内複屈折より小さな面
内複屈折を有するように第2の光学層が選択される。等方性屈折率を有する第2
の光学層14を含むフィルム10を使用して本発明を例示しているが、本明細書
に記載される原理および実施例は、複屈折性である第2の光学層14を有する多
層光学フィルムにも適用可能である。
配置されて層のスタック16が形成される。通常は、図1に示されるように光学
層12と14は1つおきの組で配列し、異なる光学的性質を有する層の間で一連
の界面を形成している。光学層12と14の厚さは1μm以下が一般的であり、
400nm以下の厚さである場合もある。
0は多数の光学層を含むことができる。好適な多層光学フィルムの例として、約
2〜5000層の光学層を有するフィルムが挙げられる。一般に、多層光学フィ
ルムは約25〜2000層の光学層を有し、通常は約50〜1500層の光学層
または約75〜1000層の光学層を有する。図1には1つのスタック16のみ
が示されているが、多層光学フィルム10は、複数のスタックから製造すること
ができ、これらのスタックを後で組み合わせてフィルム10を形成することがで
きるということは理解できるであろう。
ム10に使用することもできる。第1および第2の光学層の組に関して本明細書
に開示される設計の原則は、任意の別の光学層の組に適用可能である。
となどによって複屈折性にすることができる延伸可能なフィルムである。第1の
光学層12は、1方向に層を延伸するなどの方法で一軸延伸することができる。
直交する第2の方向は、くびれ(例えば、長さ、幅、または厚さの減少)が生じ
て元の長さよりもある程度短くなる場合もある。延伸方向は面内軸のいずれか(
例えばx軸またはy軸)に実質的に対応させることができるが、その他の方向を
選択することもできる。複屈折性の一軸延伸フィルムは、配向方向(すなわち延
伸方向)と平行な偏光面を有する入射光線の透過および/または反射と、横断方
向(すなわち延伸方向と直交する方向)と平行な偏光面を有する入射光線の透過
および/または反射との間に差が生じるのが一般的である。例えば、延伸可能な
ポリエステルフィルムをx軸に沿って延伸する場合、通常はnx≠ny(式中n x とnyは、それぞれx軸およびy軸と平行な面に偏光した光の屈折率である)
となる。延伸方向に沿った屈折率の変化の程度は、例えば、延伸量、延伸速度、
延伸中のフィルムの温度、フィルムの厚さ、フィルムの厚さのばらつき、および
フィルムの組成などの要因によって変動する。通常、延伸後の第1の光学層12
の632.8nmの光に対する面内複屈折(nx−nyの絶対値)は0.1以上
であり、一般には約0.16以上である。好ましくは、632.8nmの光に対
する面内複屈折は約0.18以上であり、より好ましくは約0.l9以上であり
、さらにより好ましくは約0.20以上である。
ぼ等しい等方性屈折率を有する第2の光学層14と組み合わせることによって製
造することができる。あるいは、光学層12と14の両方を複屈折ポリマーから
形成し、1つの面内方向での屈折率がほぼ等しくなるように多重延伸工程によっ
て延伸する。いずれの場合も2つの光学層12と14の間の界面で光反射面が形
成される。2つの層の屈折率がほぼ等しくなる方向と平行な面内に偏光した光は
実質的に透過する。2つの層で異なる屈折率が得られる方向と平行な面内に偏光
した光は少なくとも部分的に反射する。層の数を増加させるか、あるいは第1お
よび第2の光学層12と14の間の屈折率差を増加させるかすることによって反
射率を増加させることができる。
の光学層を有する偏光子の場合、第2の光学層の面内屈折率(nxおよびny)
は、第1の光学層の面内屈折率の1つ(例えばny)とほぼ等しい。したがって
、第1の光学層の面内複屈折は多層光学フィルムの反射率の指標となる。通常は
面内複屈折が大きいと、多層光学フィルム反射率が良くなることが分かっている
。第1および第2の光学層の面外反射率(nz)が等しいかほぼ等しい(例えば
、差が0.1以下、好ましくは差が0.05以下)場合には、多層光学フィルム
はオフアングル色(off−angle color)も少なくなる。オフアン
グル色は、多層光学フィルムの面と垂直な方向以外の角度で光の透過が不均一と
なるために発生する。
全体の光学的厚さの2倍に相当する波長において得られる。光学的厚さは、光学
層の組の上面および下面から反射する光線の光路差を表すものである。光学フィ
ルムの面に対して90°で入射する光(垂直入射光)の場合、2つの層の光学的
厚さはn1d1+n2d2であり、式中のn1とn2は2つの層のz軸の屈折率
であり、d1とd2は対応する層の厚さである。各層の1つの面外屈折率(例え
ば、nz)のみを使用すれば、この式を使用して垂直入射光に対する光学層の調
整を行うことができる。その他の角度では光学距離は、層を通過して移動する距
離(層の厚さよりも大きい)と、層の3つの光軸のうちの少なくとも2つにおけ
る屈折率とに依存する。層12および14のそれぞれが四分の一波長の厚さであ
ってもよいし、あるいは光学的厚さの合計が波長の半分(またはその倍数)であ
るかぎりは層12および14が異なる光学的厚さであってもよい。3層以上の光
学層を有するフィルムは、ある波長範囲にわたってフィルムの反射率を増加させ
るために光学的厚さの異なる光学層を含むことができる。例えばフィルムは、特
定の波長を有する垂直入射光の反射が最適となるようにそれぞれ調整される層の
対または組を含むことができる。
ができる。光学層12を2つの方向に延伸する場合、選択した2つの直交する軸
に関して全体的に対称的な延伸となる場合もあるし非対称的な延伸となる場合も
ある。ミラーの形成の一例として、二軸延伸した光学層22を、二軸延伸層のい
ずれの面内屈折率とも異なる屈折率を有する第2の光学層24と組み合わせる方
法が挙げられる。2つの光学層12と14の間で屈折率が一致しないためにいず
れの偏光を有する光も反射することによってこのミラーは機能する。面内屈折率
が有意に異なる複数の一軸延伸層を組み合わせて、ミラーを製造することもでき
る。ミラーおよび偏光子の両方の製造に関して既知であり使用可能なその他の方
法および層の組み合わせも存在する。上述の個々の組み合わせは例として挙げた
ものである。
ルなどのポリマーで構成されるのが一般的である。偏光子またはミラーフィルム
の製造には非ポリエステルポリマーも有用である。ポリエステルはカルボキシレ
ートサブユニットとグリコールサブユニットを含み、例えば(a)カルボキシレ
ートモノマー分子とグリコールモノマー分子の反応、または(b)エステル交換
反応によって合成することができる。各カルボキシレートモノマー分子は2つ以
上のカルボン酸または官能基を有し、各グリコールモノマー分子は2つ以上のヒ
ドロキシ官能基を有する。ポリエステルは、1種類のカルボキシレートモノマー
分子を使用して形成することができるし、あるいは2種類以上の異なるカルボキ
シレートモノマー分子を使用して合成することもできる。グリコールモノマー分
子に関しても同様のことが言える。用語「ポリエステル」には、グリコールモノ
マー分子と炭酸エステルの反応から誘導されるポリカーボネートも含まれる。
って変動する。ポリエステル層のカルボキシレートサブユニットの形成に好適な
カルボキシレートモノマー分子としては、例えば、2,6−ナフタレンジカルボ
ン酸およびその異性体、テレフタル酸、イソフタル酸、フタル酸、アゼライン酸
、アジピン酸、セバシン酸、ノルボルネンジカルボン酸、ビシクロオクタンジカ
ルボン酸、1,6−シクロヘキサンジカルボン酸およびその異性体、t−ブチル
イソフタル酸、トリメリット酸、スルホン化イソフタル酸ナトリウム、2,2’
−ビフェニルジカルボン酸およびその異性体、ならびにこれらの酸の低級アルキ
ルエステル、例えばメチルエステルやエチルエステルが挙げられる。この場合「
低級アルキル」という用語はC1〜C10直鎖または分岐鎖アルキル基を意味す
る。
分子としては、エチレングリコール、プロピレングリコール、1,4−ブタンジ
オールおよびその異性体、1,6−ヘキサンジオール、ネオペンチルグリコール
、ポリエチレングリコール、ジエチレングリコール、トリシクロデカンジオール
、1,4−シクロヘキサンジメタノールおよびその異性体、ノルボルナンジオー
ル、ビシクロオクタンジオール、トリメチロールプロパン、ペンタエリスリトー
ル、1,4−ベンゼンジメタノールおよびその異性体、ビスフェノールA、1,
8−ジヒドロキシビフェニルおよびその異性体、ならびに1,3−ビス(2−ヒ
ドロキシエトキシ)ベンゼンが挙げられる。
のコポリマー(coPEN))のフィルムであり、第1の光学層12を1つ以上
の所望の方向に延伸するなどの方法で複屈折性にすることができる。通常、複屈
折光学層は、結晶化度が比較的高い材料を使用して製造されてきた。これらの結
晶性材料は、配向(例えば、第1の光学層のガラス転移温度よりも実質的に高い
温度でのフィルムの延伸)によって複屈折性にすることができる。ポリエチレン
ナフタレート(PEN)は比較的高い結晶化度(約50%)を有し、延伸によっ
て比較的大きな複屈折が得られる(例えば約0.22〜0.24の面内複屈折)
。
ートサブユニットを含有するPENのランダムコポリマーおよびブロックコポリ
マーの結晶化度のグラフである。結晶化度は、示差走査熱量法(DSC)を使用
して測定した。結晶化度の測定法の1つとして、ASTM E 793−95に
準拠したDSCによる融解熱測定が挙げられる。続いてパーセント結晶化度(%
C)は次式により計算され: %C=(Hsample×(1+R))/(H1+R×H2) 式中、Hsampleは試料の融解熱であり、H1は完全に結晶化したPET(
ポリエチレンテレフタレート)の融解熱[約126J/g]である、H2は完全
に結晶化したPEN(ポリエチレンナフタレート)の融解熱[約103J/g]
であり、Rはナフタレートサブユニットのテレフタレートサブユニットに対する
比である。
レフタレートモノマー材料、およびエチレングリコールモノマー材料を要求され
る比率で反応させることによって合成した。図3に示されるブロックコポリマー
は、PEN(またはcoPEN)とPET(ポリエチレンテレフタレート)(ま
たはcoPET)を所望の比率で押出混合しエステル交換することによって合成
した。エステル交換される量は、例えば加工温度、加工時間、押出機またはその
他の加工設備中の滞留時間、および出発物質の組成(例えば、出発物質として使
用されるPEN、coPEN、PET、またはcoPETの組成)などの種々の
要因によって変動しうる。
をテレフタレートサブユニットで置き換える量が増大すると、PENコポリマー
の結晶化度が減少することを図3は示している。さらに、ナフタレート含有率が
約60〜75モル%の間のランダムコポリマーの場合は、結晶化度(実質的に3
0%を超える値から10%未満まで)が大きく減少しているのが分かる。PEN
のランダムコポリマーの結晶化度の減少は、図4に示されるようにナフタレート
含有率85〜100モル%の範囲にわたってこれらのポリマーの複屈折の減少が
観察されるのに対応している。ナフタレート含有率が減少すると複屈折が減少す
るというこの傾向と、特に60〜75モル%の間のナフタレート含有率で結晶化
度が大きく減少すること考えると、ナフタレート含有率が約70モル%未満のラ
ンダムコポリマー(例えば低ナフタレート含有率coPEN)は第1の光学層へ
の使用にあまり好適ではないと思われた。
全体の複屈折が実質的に低くなると考えた。PETの複屈折は632.8nmの
光でわずか1.11である。
質としてPETを使用するにもかかわらず、ナフタレート含有率が70モル%未
満のcoPENで約0.18または0.19あるいはそれを超える値の面内複屈
折が実現可能であることを発見した。出発物質としてPETを使用しても、ブロ
ックcoPENはなお十分な複屈折と結晶化度を維持することを発見した。さら
に、ナフタレート含有率の減少に伴う複屈折の減少は、ナフタレート含有率が約
20〜70モル%の間のランダムcoPENに予測される減少量よりも少ない。
図5は、最もよい複屈折測定値が得られる温度および延伸比で延伸した種々のテ
レフタレート含有ランダムcoPEN(円形)およびブロック(三角形)coP
ENの複屈折のグラフである。
よりも少なくとも約10〜20℃高い温度でポリマーを延伸することによって行
うことが一般的であった。ガラス転移温度以下の温度などのより低い温度は、過
剰なフィルムのひずみ硬化やポリマーの結晶化が起こることが少なくとも一部の
原因で、延伸によってフィルムに空隙(例えばフィルムのクレージング)が形成
されるので使用されなかった。このためフィルムをさらに延伸することができな
かった。したがって、延伸温度および材料の結晶化度によって延伸量が制限され
た。場合によっては、低温でフィルムを延伸すると亀裂が生じたり破断したりす
ることもあった。これらの温度では延伸によってポリマーフィルムの透明性が低
下し、半透明または白色の領域が製造された。
は、ポリマーのガラス転移温度よりも5℃以下高温、あるいは必要に応じてガラ
ス転移温度以下の温度における延伸中に、これらのポリマーフィルムの非晶質領
域が配向すると考えられている。通常、より高温では、ポリマーの非晶質領域の
配向度が低くなり複屈折率も低下する。低ナフタレート含有率ランダムコポリマ
ーが結晶化度が比較的低いため(一般に約25重量%以下、通常約20重量%以
下)、延伸中のフィルムの結晶化またはひずみ硬化がほとんどみられない。この
ため、厚さ約12〜25nmのcoPENフィルムに関して以下の表に示される
ように、ナフタレート含有率が70モル%以上のcoPENフィルムよりも低温
でより大きな延伸比でフィルムを延伸することができる。
したので、フィルム温度は延伸温度と異なる。 d−結晶化度パーセントは融解熱のDSC測定から計算した
フィルムのその他の性質も向上させることができる。表1は、coPENフィル
ムに関する尺度Δx(|nx−ny|と定義される)およびΔz(|nz−ny |と定義される)を示している。Δxは、coPENフィルムの面内複屈折に相
当する。Δzは、第1の光学層と第2の光学層の間のz軸屈折率の差の尺度であ
り、第2の光学層が等方性またはほぼ等方性でありことと、第1および第2の光
学層のy軸屈折率が一致またはほぼ一致することとを仮定している。この尺度は
、オフアングル色が減少した偏光子の製造に有用である。第1および第2の光学
層のz軸屈折率を一致させると、フィルム面に対して90°未満の角度で入射す
る光の多層光学フィルムの透過がより均一になる。
びブロックcoPENフィルム(三角形)の光学効率を示している。光学効率は
(Δz)2/(Δx)2で表され、所与の量の複屈折におけるオフアングル色の
相対量(例えば反射能)の推定値に相当する。このグラフは、ナフタレート含有
率が70モル%未満であるランダムcoPENおよびブロックcoPENの両方
で、ナフタレート含有率のより高いcoPENよりも複屈折に対するオフアング
ル色が実質的に少なくなることを示している。好ましくは、光学効率((Δz) 2 /(Δx)2)は約0.20以下であり、より好ましくは光学効率は約0.1
0以下であり、最も好ましくは約0.08以下である。
は、例えばPETG(Eastman Chemical Co.(Kings
port、テネシー州)のポリエチレンテレフタレート非晶質ポリマー)または
70モル%のテレフタレートと30モル%のシクロヘキサネートとのカルボキシ
レートサブユニットと、99.5モル%のエチレングリコールと0.5モル%の
トリメチロールプロパンとのグリコールサブユニットとを含有するポリエチレン
テレフタレートコポリマー(coPET)などの好適な第2の光学層材料のz軸
屈折率とより良く一致する。従来使用されていた組み合わせの例では、PENの
z軸屈折率は約1.51である。PENと併用される第2の光学層は、ナフタレ
ート含有率が70モル%であるイソフタレート含有coPENであり、このz軸
屈折率は約1.625である。この場合の差は約0.11である。この組み合わ
せは、光を透過させるためにy軸屈折率を一致させる場合に選択される。
のz軸屈折率は約1.53である。PETGのz軸屈折率は1.57であり、上
述のシクロヘキサネート含有coPETのz軸屈折率は約1.55である。この
場合の差はそれぞれ約0.04および0.02である。異なるz軸屈折率を有す
る別の材料を、適切な低ナフタレート含有率coPENと適合させることもでき
る。好ましくは第1および第2の光学層の間のz軸屈折率は約0.07以下であ
り、より好ましくは約0.05以下である。
は、PENまたはナフタレート含有率のより高いcoPENよりもUV劣化に対
してより満足の行く安定性を得ることができることである。図7は、PEN(太
線)とナフタレート含有率が40モル%であるテレフタレート含有coPEN(
細線)の透過スペクトルを示している。これらのスペクトルは、coPENの吸
収帯がPENの吸収帯よりも短い波長にシフトしていることを示している。これ
は、約380〜400nmの範囲内のUV光を含む光による劣化はcoPENの
方が少ないことを示している。さらにより低いナフタレート含有率のcoPEN
の吸収帯はさらに短い波長の方向にシフトする。このようにより短い波長に吸収
帯がシフトすることによって可視領域までカバーする必要はないUVA(紫外線
吸収性)保護層を使用することができ、これらの保護層の(青色光を吸収するこ
とによる)黄色の外観を減少させることができる。
(PEN)のコポリマーを含む。通常、第1の光学層への使用に好適なPENコ
ポリマーは、面内複屈折が少なくとも約0.19、好ましくは約0.20となる
ように延伸可能である。好適な低ナフタレート含有率コポリマーとしては、ナフ
タレート含有率が70重量%未満、通常はナフタレート含有率が20〜70モル
%であるコポリマーが挙げられる。好ましくは、これらのコポリマーはナフタレ
ート含有率が約25〜65モル%であり、より好ましくはナフタレート含有率が
約30〜60モル%である。好適なコポリマーとしては、DSC測定を使用して
測定した結晶度が約20%以下であるPENのコポリマーも挙げられる。好適な
コポリマーとしては、ガラス転移温度より約5℃以下高温、必要に応じてガラス
転移温度以下の温度で延伸して好適な面内複屈折を得ることができるコポリマー
も挙げられる。ガラス転移温度はASTM D 3418−97に準拠して測定
することができる。ガラス転移温度は相対湿度の影響を受ける場合がある。好ま
しくは、ガラス転移温度は相対湿度約0%の試料で測定される。
レフタレート、イソフタレート、ビフェニルビベンゾエート、およびシクロヘキ
サネートが挙げられる。前述したように、ポリエチレンナフタレートの低ナフタ
レート含有率コポリマーは複屈折性の第1の光学層として使用されるが、同様の
性質(例えば、ガラス転移温度よりわずかに高温またはガラス転移温度以下で延
伸可能、あるいは低結晶化度など)を有する他のポリマーも使用可能である。
質を有するように第2の光学層14を製造することができる。実施態様の1つで
は、第1の光学層12の延伸に使用される条件で延伸した場合に検出可能な程度
の光学的な配向が起らないポリマー材料から第2の光学層14が製造される。こ
のような層は反射偏光フィルムの形成の場合に特に有用であるが、その理由は、
同時押出などによって層のスタック16を形成し、次に第2の光学層14が比較
的等方性(例えば、面内複屈折が0.05以下)を維持したまま第1の光学層1
2を延伸して配向させることができるからである。通常、第2の光学層14の屈
折率は延伸した第1の光学層12の面内屈折率の1つとほぼ等しく、それによっ
て屈折率が一致した方向と平行な面内に偏光した光が透過することができる。好
ましくは、この実施態様では、2つのほぼ等しい屈折率の差は、632.8nm
の光の場合で約0.05以下であり、より好ましくは約0.02以下である。あ
る実施態様では、第2の光学層14の屈折率は、延伸前の第1の光学層12の屈
折率とほぼ等しい。
12と14の2組の延伸後に、第2の光学層14の面内屈折率の一方は、第1の
光学層12の対応する屈折率と実質的に等しいが、もう一方の面内屈折率は第1
の光学層12の屈折率とは実質的に異なる。別の場合では、特にミラーの用途の
場合であるが、延伸後の光学層12と14の両方の面内屈折率が実質的に異なる
。
なポリマーの例としては、ビニルナフタレン、スチレン、無水マレイン酸、アク
リレート、およびメタクリレートなどのモノマーから合成されるビニルポリマー
およびコポリマーが挙げられる。このようなポリマーの例としては、ポリアクリ
レート、ポリ(メタクリル酸メチル)(PMMA)などのポリメタクリレート、
およびイソタクチックまたはシンジオタクチックポリスチレンが挙げられる。そ
の他のポリマーとしては、ポリスルホン、ポリアミド、ポリウレタン、ポリアミ
ド酸、およびポリイミドなどの縮合ポリマーが挙げられる。さらに、第2の光学
層14はポリエステルやポリカーボネートなどのポリマーから形成することがで
きる。以下の第2の光学層14ではポリエステルのコポリマーを例として挙げて
いる。しかしながら、前述の他のポリマーも使用可能であることは理解できるで
あろう。通常は、後述するコポリエステルの光学的性質に関する考慮と同様のこ
とが、他のポリマーおよびコポリマーにも適用可能である。
ナフタレート)、PET(ポリエチレンテレフタレート)、およびPBT(ポリ
ブチレンテレフタレート)などのコポリマーが挙げられる。複屈折性が低い好適
なポリエステルの例は、例えばPCT公開WO99/36262号およびWO9
9/36812号に記載されており、これらの記載内容を本明細書に援用する。
好適なポリマーとしては非晶質コポリマーも挙げられ、特に、第1の光学層の配
向に使用される条件下において実質的に配向せず複屈折性とはならない非晶質ポ
リマーが挙げられる。第1の光学層の延伸により得られる複屈折性が低い好適な
ポリエステルの市販されている例としては、Eastman Chemical
Co.(Kingsport、テネシー州)のPETGおよびPCTGなどの
改質coPETが挙げられる。
ができる。ジオールサブユニットとして使用するために好適な複屈折低下性コモ
ノマー材料の例は、1,6−ヘキサンジオール、トリメチロールプロパン、ペン
タエリスリトール、シクロヘキサンジメタノール、1,4−ブタンジオール、お
よびネオペンチルグリコールなどの脂肪族ジオールから誘導される。カルボキシ
レートサブユニットとして使用するために好適な複屈折低減性コモノマー材料の
例は、誘導されるシクロヘキサンジカルボン酸などの脂肪族二酸、およびt−ブ
チル−イソフタル酸、フタル酸、およびそれらの低級アルキルエステルなどの芳
香族二酸から誘導される。
工後の物理的損傷から光学層12および14を保護するなどの目的で、スタック
16の少なくとも1つの表面上のスキン層またはスキン層として1層以上の非光
学層18を形成することができる。これに加えて、あるいは別の方法として、図
2に示すように、スタックの機械的強度を増大させるため、あるいは加工中のス
タックを保護するために、1層以上の非光学層18を層のスタック16の内部に
形成することができる。
0の光学的性質の決定に有意に関与しないことが理想的である。通常は非光学層
18は複屈折性でも配向可能でもないが、場合によってはそうでないこともあり
うる。通常、非光学層18がスキン層として使用される場合は、少なくともある
程度の表面反射が起こる。多層光学フィルム10が偏光子となる場合は、非光学
層 が比較的低い屈折率を有することがこのましい。これによって表面反射量が
減少する。多層光学フィルム10がミラーとなる場合は、光の反射量を増加させ
るために非光学層18の屈折率が高いことが好ましい。
学層12や14と非光学層18とによって、少なくとも一部の光の偏光または反
射が起こるのが一般的である。しかしながら少なくとも一部の場合では、スタッ
ク16内部にある非光学層18によって反射される光が、可視光の偏光子または
ミラーの場合の赤外領域などの対象となる領域から外れた波長を有するような厚
さを有するように、非光学層18が選択される。非光学層18の厚さは、それぞ
れの光学層12および14の1層の厚さの、少なくとも2倍、通常は少なくとも
4倍、多くの場合は少なくとも10倍の厚さを有することができる。非光学層1
8の厚さは、特定の厚さの多層光学フィルム10を製造するために変動させるこ
とができる。光学層12および14によって透過、偏光、および/または反射が
起こる光の少なくとも一部が非光学層も透過する(すなわち、光学層12および
14を透過するかこれらによって反射する光の光路内に非光学層が配置される)
ように1層以上の非光学層18が配置されるのが一般的である。
任意のものを含むポリマー(例えばポリエステル)から形成される。ある実施態
様では、非光学層18として選択される材料は、第2の光学層14として選択さ
れる材料と同様または同一である。coPEN、coPET、またはその他のコ
ポリマー材料をスキン層に使用すると、多層光学フィルムの裂け(すなわち、ひ
ずみよって誘発される結晶化および延伸方向への大部分のポリマー分子の配向の
ためのフィルムの剥離)が減少する。一般に、coPENの非光学層は、第1の
光学層12の配向に使用される条件下で延伸した場合に配向が非常に少なく、そ
のためひずみによって誘発される結晶化がほとんどない。
化または向上させるために、種々の機能性層およびコーティング層を本発明のフ
ィルムおよび光学装置に加えることができる。このような層またはコーティング
層としては、例えば、スリップ剤、低接着性裏材料、導電性層、帯電防止コーテ
ィング層またはフィルム、バリア層、難燃剤、UV安定剤、耐摩耗性材料、光学
コーティング層、および/またはフィルムまたは装置の機械的完全性または強度
を向上させるために設計された基材を挙げることができる。また、WO95/1
7691号、WO99/36813号、およびWO99/36814号(これら
すべての記載内容を本明細書に援用する)などに記載されるように、二色性偏光
フィルムを多層光学フィルム上にコーティングするかあるいはこれらを同時押出
することもできる。
またはコーティング層を加えることもできる。したがって例えば、水や有機溶剤
などの液体、または酸素や二酸化炭素などの気体に対するフィルムまたは装置の
透過特性を変化させるために、バリアフィルムコーティング層をスキン層として
、あるいはスキン層中の一成分として加えることができる。したがって、例えば
水蒸気、有機溶剤、O2、またはCO2がフィルムを透過するのを防止するフィ
ルムまたはコーティング層を有する装置およびフィルムを提供することができる
。水分の透過によってフィルムまたは装置の構成要素にひずみが生じうる高湿度
環境において、バリアコーティング層が特に望ましくなりうる。
を向上させるために加えることもできる。したがって、例えば、例えばシリカ、
アルミナ、シリカ−アルミナ混合物、または非晶質ポリマーなどの粒子をポリマ
ーマトリックスに埋め込まれた状態で含有するスキン層を光学フィルムに加える
ことによってフィルムに耐摩耗性を付与することができ、当然ながら、フィルム
の意図する用途に要求される光学的性質がこのような層によって必要以上に損な
われることがないことが条件である。スキン層またはコーティング層中の粒子は
、多層光学フィルムが別のフィルムまたは表面と隣接して配置される場合にウェ
ットアウト(wet−out)またはニュートン環を防止または軽減するために
使用することができ、これらの粒子は米国特許出願第09/399,531号(
この記載内容を本明細書に援用する)に記載されるように拡散体としても作用し
うる。
引裂き抵抗性を付与または向上させるために加えることもできる。引裂き抵抗性
層の材料の選択に考慮すべき要素としては、パーセント破断時伸び、ヤング率、
引裂き強さ、内部層への接着性、対象となる電磁波帯域におけるパーセント透過
率および吸光度、光学的透明度またはヘイズ、周波数の関数としての屈折率、テ
クスチャーおよび粗さ、溶融物の熱安定性、分子量分布、溶融物のレオロジーお
よび同時押出性、スキン層と光学層の材料間の混和性および相互拡散速度、粘弾
性応答、延伸条件における緩和および結晶化挙動、使用温度における熱安定性、
耐候性、コーティング層への接着能力、および種々の気体および溶剤の浸透性が
挙げられる。貫入抵抗性または引裂き抵抗性スキン層は、製造工程中に適用する
ことができるし、あるいは後に多層光学フィルム上にコーティングまたは積層す
ることもできる。同時押出工程などによって製造工程中にこれらの層をフィルム
に接着すると、製造工程中にフィルムが保護されるという利点が得られる。ある
実施態様では、1層以上の貫入抵抗性または引裂き抵抗性層がフィルム内部に単
独で製造されるか、あるいは貫入抵抗性または引裂き抵抗性スキン層と組み合わ
せて製造される。
ーティングしてフィルムを処理することによって、多層光学フィルムに良好なス
リップ性を付与することができる。あるいは、フィルムの表面を滑りやすくする
ために、押出条件を操作することによってこれらの材料の表面の形態を変えるこ
とができ、このように表面の形態を変える方法は米国特許第5,759,467
号および米国特許出願第09/399,531号に記載されており、これらの記
載内容を本明細書に援用する。
では、ウレタン、シリコーン、またはフルオロカーボン化合物などを主成分とす
る低接着性バックサイズ(LAB)コーティング層またはフィルムで多層光学フ
ィルムを処理することが望ましいこともある。この方法で処理したフィルムは、
感圧接着剤(PSA)に対して適切な剥離特性を示すことができ、そのためこの
フィルムを接着剤で処理してロールに巻取ることが可能となる。この方法で製造
した接着テープは、装飾用途、あるいはテープ表面が拡散反射性または透過性で
あることが望ましい任意の用途に使用することができる。
な導電性層としては、例えば、金属(銀、金、銅、アルミニウム、クロム、ニッ
ケル、スズ、およびチタンなど)、合金(銀合金、ステンレス鋼、およびインコ
ネルなど)、および半導体金属酸化物(ドープ処理または未ドープ処理酸化スズ
、酸化亜鉛、および酸化インジウムスズ(ITO)など)を挙げることができる
。
もできる。このようなコーティング層またはフィルムとしては、例えばV2O5 とスルホン酸ポリマー塩、炭素、またはその他の導電性金属層が挙げられる。
フィルムを難燃剤で処理することもできる。好適な難燃剤としては、例えばアル
ミニウム三水和物、三酸化アンチモン、五酸化アンチモン、および難燃性有機リ
ン酸塩化合物が挙げられる。
設けることもでき、これらはスキン層として適用することができる。このような
ものとしては、Rohm & Haas(Philadelphia、ペンシル
バニア州)より入手可能なAcryloid A−11およびParaloid
K−120Nなどのアクリル系ハードコート、米国特許第4,249,011
号に記載されるものやSartomer Corp.(Westchester
、ペンシルバニア州)より入手可能なものなどのウレタンアクリレート、および
脂肪族ポリイソシアネート(例えばMiles,Inc.(Pittsburg
h、ペンシルバニア州)より入手可能なDesmodur N−3300)とポ
リエステル(例えばUnion Carbide(Houston、テキサス州
)より入手可能なTone Polyol 0305)の反応によって得られる
ウレタンハードコートなどが挙げられる。
ルムを、例えばガラス、金属、アクリル樹脂、ポリエステル、およびその他のポ
リマーバッキングなどの剛性または半剛性基材に積層することができる。例えば
、所望の形状に型押またはその他の方法で形成してその形状を維持できるように
、多層光学フィルムを薄いアクリル樹脂製または金属製のバッキングに積層する
ことができる。他の破壊されやすいバッキングに適用される場合などの一部の用
途では、例えばPETフィルムや貫入抵抗性−引裂き抵抗性フィルムなどのさら
に別の層を使用することもできる。
とができる。この目的に好適なフィルムおよびコーティング層は、欧州特許第5
92284号および欧州特許第591055号(これらの記載内容を本明細書に
援用する)などの刊行物に記載されており、3M(St.Paul、ミネソタ州
)より市販されている。
および装置に使用したりあるいはこれらと併用したりすることもできる。このよ
うなものとしては、限定するわけではないが、磁気または光磁気コーティング層
またはフィルム、ディスプレイパネルやプライバシー保護窓などに使用される液
晶パネル、写真乳剤、織物、リニアフレネルレンズなどのプリズムフィルム、輝
度向上フィルム、ホログラフィックフィルムまたは画像、エンボス加工可能なフ
ィルム、改ざん防止フィルムまたはコーティング層、低放射性用途のIR透過性
フィルム、剥離フィルムまたは剥離剤コーティング紙、ならびに偏光子またはミ
ラーが挙げられる。
おり、上述のコーティング層またはフィルムの任意の組み合わせを使用すること
ができる。例えば多層光学フィルムに接着剤を適用する場合、全体の反射率を増
加させるために二酸化チタンなどの白色顔料を接着剤が含むことができ、あるい
は接着剤を光学的に透明にすることによって、基材による反射を多層光学フィル
ムの反射に追加することができる。
金属酸化物を真空めっきした光学フィルム、シリカゾルゲルコーティング層、お
よびDyneon THV(Dyneon LLC(Oakdale、ミネソタ
州)より入手可能な押出可能フルオロポリマー)などの低屈折率フルオロポリマ
ーから誘導される層などのコーティングまたは同時押出した反射防止層などの1
層以上の反射防止層またはコーティング層も含むことができる。このような層ま
たはコーティング層は、偏光に敏感である場合も敏感ではない場合もあり、透過
性を増大させ反射によるグレアを減少させるのに有用であり、コーティングやス
パッタエッチングなどの適当な表面処理によって多層光学フィルムに適用するこ
とができる。
けることができる。場合によっては、前述の反射防止層によって、反射防止性と
防曇性の両方をフィルムまたは装置に付与する二重の効果が得られる。種々の防
曇剤が当技術分野において公知である。しかし、通常このような材料としては、
疎水性をフィルム表面に付与しそれによって連続的で不透明性が低い水の薄膜の
形成が促進される脂肪酸エステルなどの物質が挙げられる。
報告されている。例えば、Leighに付与された米国特許第3,212,90
9号には、防曇性組成物を得るための、カルボン酸アルキルアンモニウムなどの
アンモニウムセッケンと、硫酸化またはスルホン化脂肪質である界面活性剤との
混合物の使用が開示されている。Eliasに付与された米国特許第3,075
,228号には、種々の表面を清浄にし防曇性を付与するのに有用な防曇性物品
を得るための、硫酸化アルキルアリールオキシポリアルコキシアルコールの塩、
ならびにアルキルベンゼンスルホン酸塩の使用が開示されている。Zmodaに
付与された米国特許第3,819,522号には、デシンジオール誘導体を含む
界面活性剤の組み合わせ、ならびにエトキシルアルキル硫酸塩を含む界面活性剤
混合物の防曇性窓拭き用界面活性剤混合物への使用が開示されている。特開平6
−41335号にはコロイドアルミナ、コロイドシリカ、および陰イオン性界面
活性剤を含む防曇防滴性組成物が開示されている。米国特許第4,478,90
9号(Taniguchiら)には、ポリビニルアルコール、微粉砕シリカ、お
よび有機ケイ素化合物を含む硬化防曇性コーティングフィルムが開示されており
、開示されるようなフィルム防曇性には炭素/ケイ素重量比が重要なようである
。コーティング剤に表面平滑性を付与するために、フッ素含有界面活性剤などの
種々の界面活性剤を使用することができる。その他の界面活性剤を含有する防曇
コーティング剤が、米国特許第2,803,552号、第3,022,178号
、および第3,897,356号に開示されている。PCT公開番号WO96/
18,691号(Scholtzら)には、コーティング剤によって防曇性と反
射防止性の両方を付与することができる方法が開示されている。
用することによってUV放射線から保護することができる。好適なUV安定化フ
ィルムおよびコーティング剤としては、ベンゾトリアゾール類またはヒンダード
アミン光安定剤(HALS)を含有するものが挙げられ、例えば、Tinuvi
nTM 292、326、および327(すべてCiba Geigy Cor
p.(Hawthorne、ニューヨーク州)より市販される)が挙げられる。
その他の好適なUV安定化フィルムおよびコーティング層としては、BASF
Corp.(Parsippany、ニュージャージー州)より市販されている
ベンゾフェノン類またはジフェニルアクリレート類を含むものが挙げられる。こ
のようなフィルムまたはコーティング剤は、光源がスペクトルのUV領域で有意
量の光を放出する屋外用途または照明器具に多層光学フィルムが使用される場合
に特に望ましくなりうる。
させたり特定の用途に適合させたりすることがでいる。したがって、例えばフィ
ルムをインクで処理したり、あるいは製品識別表示、公告、警告、装飾、または
その他の情報などを示すために使用されるその他の印刷表示でフィルムを処理し
たりすることができる。スクリーン印刷、凸版印刷、オフセット印刷、フレキソ
印刷、点描印刷、レーザー印刷などの種々の技術を使用してフィルムに印刷する
ことができ、一成分系および二成分系インク、酸化乾燥型およびUV乾燥型イン
ク、溶解インク、分散インク、および100%インク系などのさまざまな種類の
インクを使用することができる。ポリマーを使用する層の形成前または後のいず
れかにおいてポリマー中に染料または顔料を混合することもできる。
ム表面への適用、またはフィルムの製造に使用される1種類以上の材料への顔料
の混入などによってフィルムを着色することによって、多層光学フィルム10の
外観を変化させることもできる。可視染料および近赤外染料の両方を使用するこ
とができ、例えば、蛍光増白剤、ならびにUVおよび色彩スペクトルの可視領域
の蛍光を吸収する染料が挙げられる。
しては、例えば、不透明(黒色)層、拡散層、ホログラフィー画像またはホログ
ラフィー拡散体、および金属層が挙げられる。これらの層のそれぞれは、フィル
ムの一面または両面に直接適用することができるし、あるいはフィルムに積層さ
れる第2のフィルムまたは箔構造体の成分であってもよい。あるいは、乳白剤ま
たは拡散剤、あるいは有色顔料などの成分を、フィルムを別の面に積層するため
に使用する接着剤層に混入することができる。
熱分解、粉末コーティング、蒸着、陰極スパッタリング、イオンめっきなどによ
って、光学フィルムに直接金属層を適用することができる。金属箔または剛性金
属板を光学フィルムに積層することもできる。単独のポリマーフィルムまたはガ
ラス板またはプラスチックシートを最初に金属化してから、多層光学フィルムに
積層することもできる。
べき事項のより詳細な説明は、PCT公開番号WO99/36248号、WO9
9/06203号、およびWO99/36812号に見ることができ、これらす
べての記載内容を本明細書に援用する。
非光学層の形成に使用するポリマーの合成である(これらのポリマーが市販され
ていない場合)。通常、これらのポリマーは押出によって形成されるが、ポリマ
ー形成のその他の方法も使用することができる。押出条件は、ポリマー樹脂供給
流を連続かつ安全な方法で適切に供給、溶融、混合、および圧送が行えるように
選択される。最終溶融物流温度は、温度範囲の下限での凍結、結晶化、または過
度の圧力低下が軽減され、温度範囲の上限での劣化が軽減される範囲内となるよ
うに選択される。冷却ロール上でのフィルムキャスティングまでを含む2種類以
上のポリマーの全体溶融物流の加工は同時押出と呼ばれることが多い。
時押出が可能となるように同様のレオロジー特性(例えば溶融粘度)を有するよ
うに選択される。通常、第2の光学層と非光学層のガラス転移温度Tgは、第1
の光学層のガラス転移温度より低温であるか約40℃以下高温であるかのいずれ
かである。好ましくは、第2の光学層と非光学層のガラス転移温度は第1の光学
層のガラス転移温度よりも低温である。
ポンプに各溶融物流が送られる。静的混合装置を使用して、均一な溶融物流温度
でギヤポンプから多層フィードブロックにポリマー溶融物流を送ることができる
。通常は、溶融物流の流れをより均一にし、溶融加工中の劣化を軽減するために
溶融物流全体はできるかぎり均一に加熱される。
の層に分割され、これらの層が交互に配置され、これらの多数の層が1つの多層
流に重ね合わされる。任意の所与の溶融物流からの層は、主流路からの流れの一
部が連続的に取り出され、側流路からフィードブロックマニホールド内の層スロ
ットに送られることによって製造される。層の流れは、層の製造に使用される装
置、ならびに側流路管および層スロットのそれぞれの形状および物理的寸法を選
択することによって制御することができる。
層を形成するために交互に配置している。一般にフィードブロック下流側のマニ
ホールドは、組み合わせられた多層スタックの層を横方向に圧縮して均一に広げ
るような形状をしている。光学多層スタックの溶融物流を使用するか、あるいは
単独の溶融物流によって、保護境界層(PBL)として知られる厚い非光学層を
マニホールド壁近傍に供給することができる。前述したように、これらの非光学
層は、より薄い光学層を壁面の応力作用を防止し、さらにその結果生じる流れの
不安定化を防止するために使用することができる。
装置に入る。あるいは、流れを分割(好ましくはスタック中の層と直交方向)し
、2つ以上の多層流を形成し、これを積重ねることによって再度合流させる。流
れは層と垂直方向以外の角度で分割することもできる。流れを分割し重ね合わせ
る流路調節システムはマルチプライヤーと呼ばれる。分割した流れの幅(すなわ
ち、個々の層の厚さの和)は等しい場合も等しくない場合もある。流れのより広
い幅とより狭いの比としてマルチプライヤー比が定義される。流れの幅が等しく
ない(すなわちマルチプライヤー比が1より大きい)場合は、層の厚さに勾配を
つけるために有用となりうる。流れの幅が等しくない場合は、マルチプライヤー
によって、厚さと流れの方向に対して横断する方向により狭い流れを広げ、およ
び/またはより広い流れを圧縮して、積層した場合の層の厚さを一致させること
ができる。
非光学層は、マルチプライヤー内部でPBLとして作用する場合もある。倍増化
および積層の後、これらの層の一部は光学層環の内部境界層を形成し、他の層が
スキン層を形成することができる。
ャスティングホイールまたはキャスティングドラム戸も呼ばれる冷却ロール上に
キャストされる。このキャスティングは静電ピンニングが補助的に使用されるこ
とが多く、これに関する詳細はポリマーフィルム製造技術分野においては公知で
ある。ウェブは前多の厚さが均一になるようにキャストすることができるし、ダ
イリップ制御によってウェブ厚さの意図的な分布を生じさせることもできる。
偏光子の製造の代表的な方法の1つでは、1つの延伸工程が使用される。この工
程は、テンターまたは長さ方向延伸装置によって行うことができる。通常のテン
ターはウェブ経路に対する横断方向(TD)に延伸するが、一部のテンターは、
ウェブ経路方向すなわち機械方向(MD)にフィルム寸法を延伸または緩和(収
縮)する機構を備えている。したがって、この例の方法では、フィルムは1つの
面内方向で延伸される。第2の面内方向は、従来のテンターのように一定に維持
されるか、あるいは長さ方向延伸装置などのようにくびれを生じさせるかのいず
れかである。このようなくびれは大きくすることができ、延伸比によって増大さ
せることもできる。
に延伸するために2段階の延伸工程が使用される。この延伸工程は、2つの面内
方向に延伸を行う前述の1段階の工程の任意の組み合わせであってよい。さらに
、機械方向に沿って延伸可能なテンター、例えば連続的または同時に2方向に延
伸可能な二軸テンターを使用することができる。この後者の場合では、1段階の
二軸延伸工程を使用することができる。
個々の延伸工程に利用して、1つの同時押出多層フィルム内の異なる材料の異な
る層が互いに異なる延伸の程度および種類を有するようにする多重延伸工程が使
用される。ミラーもこの方法で形成することができる。
分子量(分岐モノマーは存在しない場合)と関連がある。通常、ポリエステルの
固有粘度は約0.4dL/g以上である。好ましくは固有粘度は約0.4〜0.
7dL/gの間である。本発明の開示内容の目的では、他に明記しない限り固有
粘度は60/40重量%のフェノール/o−ジクロロベンゼン溶媒中30℃で測
定している。
説明する。これらの実施例は単に説明的なものであり、本発明の範囲を限定する
ものとして解釈するべきものでは決してないことを理解されたい。
以下の供給元から市販されている。ナフタレンジカルボン酸ジメチルはAmoc
o(Decatur、アラバマ州)製、テレフタル酸ジメチルはHoechst
Celanese(Dallas、テキサス州)製、エチレングリコールはU
nion Carbide(Charleston、ウエストバージニア州)製
、1,6−ヘキサンジオール BASF(Charlotte、ノースカロライ
ナ州)製、三酢酸アンチモンはElf Atochem(Philadelph
ia、ペンシルバニア州)製、酢酸コバルトはHall Chemical(W
ickliffe、オハイオ州製)、酢酸亜鉛はG.T.Baker(Phil
lipsberg、ニュージャージー州)製、トリメチロールプロパンはHoe
chst−Celanese(Bishop、テキサス州)製、trans−シ
クロヘキサンジカルボン酸ジメチルはEastman Chemical(Ki
ngsport、テネシー州)、ホスホノ酢酸トリエチル Albright
& Wilson(Glen Allen、バージニア)製である。
造体は、多層フィードブロックで得られる209層の構造体を2回倍増化させる
ことによって層厚さを徐々に増加させた4つの多層光学スタックを含む。光学層
は、この構造体の厚さの約50%を占める。各スタックは、それぞれが全体厚さ
の約2%を占める3つの非光学内部保護境界層のうちの1層で分離される。最後
に、フィルムの両側には、それぞれが厚さの約11%を占める外部非光学スキン
層が設けられる。
」は、バックライトからの一方の偏光が光度計で測定されるようにするため、ス
ポット光度計と好適なバックライトの間に偏光子を配置することによって製造す
ることができる。好適なスポット光度計としてはMinolta LS−100
およびLS−110(Minolta Co.,Ltd.(Ramsey、ニュ
ージャージー州))が挙げられる。測定した利得の絶対値は、使用したバックラ
イト、バックライトに対する試料の方向、ならびに試料の大きさによって少なく
ともある程度は変動する。実施例で使用したバックライトはLandmarkか
ら入手したものであり、偏光子は、偏光子の通過軸がバックライトの長軸と重な
るように配置したハイコントラストディスプレイ偏光子であった。試料の通過軸
がハイコントラスト偏光子の通過軸と重なるように試験機に試料を挿入した。試
料は、バックライト全体を覆うのに十分な大きさとなるように製造した。
pec II PhotoDiode Array(Oriel Instru
ments(Stratfort、コネティカット州))を備えた分光計と、球
形照明装置とタングステンハロゲン光源とを使用して行った。透過率測定は、A
STM E275−93と実質的に同様の結果が得られる方法に従って実施した
。
のナフタレンジカルボン酸ジメチルと60モル%のテレフタル酸ジメチルとから
誘導されるカルボキシレートサブユニットと、100モル%のエチレングリコー
ルサブユニットから誘導されるグリコールサブユニットとを有するコポリエチレ
ンナフタレートから製造される第1の光学層と、70モル%のテレフタレートジ
カルボキシレートと30モル%のtrans−シクロヘキサンジカルボン酸ジメ
チルとから誘導されるカルボキシレートサブユニットと、99.5モル%のエチ
レングリコールと0.5モル%のトリメチロールプロパンとから誘導されるグリ
コールサブユニットを有するコポリエチレンテレフタレートから製造される第2
の光学層とを使用して、多層反射偏光フィルムを製造した。
装入量でバッチ反応器中で合成した。67.7pbw(parts by we
ight(重量部))のナフタレンジカルボン酸ジメチル、80.5pbwのテ
レフタル酸ジメチル、75pbwのエチレングリコール、0.027pbwの酢
酸亜鉛、0.027pbwの酢酸コバルト、および0.048pbwの三酢酸ア
ンチモン。2気圧の圧力下、メタノールが除去されるまでこの混合物を254℃
に加熱した。36pbwのメタノールが除去された後で、51pbwのホスホノ
酢酸トリエチルを反応器に装入し、続いて290℃に加熱しながら圧力を徐々に
1torrまで減圧した。60/40重量%のフェノール/o−ジクロロベンゼ
ン中で測定した固有粘度が0.55dL/gとなるポリマーが生成するまで縮合
反応副産物のエチレングリコールを連続的に除去した。
料装入量でバッチ反応器中で合成した。102pbwのテレフタル酸ジメチル、
44pbwのtrans−シクロヘキサンジカルボン酸ジメチル、99pbwの
エチレングリコール、0.363pbwのトリメチロールプロパン、0.036
pbwの酢酸亜鉛、0.036pbwの酢酸コバルト、および0.065pbw
の三酢酸アンチモン。2気圧の圧力下、メタノールが除去されるまでこの混合物
を254℃に加熱した。48pbwのメタノールが除去された後で、0.070
pbwのホスホノ酢酸トリエチルを反応器に装入し、続いて290℃に加熱しな
がら圧力を徐々に1torrまで減圧した。60/40重量%のフェノール/o
−ジクロロベンゼン中で測定した固有粘度が0.70dL/gとなるポリマーが
生成するまで縮合反応副産物のエチレングリコールを連続的に除去した。
び第2の光学層が交互に836層配置する多層フィルムを製造した。この個々の
多層反射フィルムは、第2の光学層と同じコ(ポリエチレンテレフタレート)で
製造した内部および外部保護層も含んだ。得られたキャストフィルムを93℃に
設定した熱風が送り込まれるオーブン中で加熱し、次に6:1の延伸比で一軸延
伸し、厚さ約125μmの反射偏光子を得た。第1の光学層のcoPENのガラ
ス転移温度は約95℃である。
した。ディスプレイの輝度は55%増加し、これは輝度利得1.55に対応する
。垂直入射光の場合、透過偏光を有する光の81%と、別の(非透過)偏光を有
する光の3.9%とがこの多層反射偏光フィルムを透過した。オフアングル光(
垂直方向から60°)の場合は、透過偏光の81%が多層反射偏光フィルムを透
過した。
光子を88℃の温度で一軸延伸したことを除けば、実施例1に記載のようにして
多層反射偏光フィルムを製造した。第1の光学層のcoPENのガラス転移温度
は約95℃である。
した。ディスプレイの輝度は54%増加し、これは輝度利得1.54に対応する
。垂直入射光の場合、透過偏光を有する光の88%と、別の(非透過)偏光を有
する光の1.9%とがこの多層反射偏光フィルムを透過した。オフアングル光(
垂直方向から60°)の場合は、透過偏光の85%が多層反射偏光フィルムを透
過した。
光子を82℃の温度で一軸延伸したことを除けば、実施例1に記載のようにして
多層反射偏光フィルムを製造した。第1の光学層のcoPENのガラス転移温度
は約95℃である。
した。ディスプレイの輝度は54%増加し、これは輝度利得1.54に対応する
。垂直入射光の場合、透過偏光を有する光の87%と、別の(非透過)偏光を有
する光の2.5%とがこの多層反射偏光フィルムを透過した。オフアングル光(
垂直方向から60°)の場合は、透過偏光の87%が多層反射偏光フィルムを透
過した。
0モル%のナフタレンジカルボン酸ジメチルと60モル%のテレフタル酸ジメチ
ルとから誘導されるカルボキシレートサブユニットと、100モル%のエチレン
グリコールサブユニットから誘導されるグリコールサブユニットとを有するコポ
リエチレンナフタレートから製造される第1の光学層と、85モル%のテレフタ
レートジカルボキシレートと15モル%のtrans−シクロヘキサンジカルボ
ン酸ジメチルとから誘導されるカルボキシレートサブユニットと、99.5モル
%のエチレングリコールと0.5モル%のトリメチロールプロパンとから誘導さ
れるグリコールサブユニットとを有するコポリエチレンテレフタレートから製造
される第2の光学層とを使用して、多層反射偏光フィルムを製造した。
ポリエチレンナフタレート(PET)と、45重量%のcoPEN(92モル%
のナフタレンジカルボン酸ジメチルと8モル%のテレフタル酸ジメチルとから誘
導されるカルボキシレートサブユニットと、100モル%のエチレングリコール
サブユニットから誘導されるグリコールサブユニットとを有する)との混合物か
ら調製した。
でバッチ反応器中で合成した。138pbwのテレフタル酸ジメチル、93pb
wのエチレングリコール、0.027pbwの酢酸亜鉛、0.027pbwの酢
酸コバルト、および0.048pbwの三酢酸アンチモン。2気圧の圧力下、メ
タノールが除去されるまでこの混合物を254℃に加熱した。45pbwのメタ
ノールが除去された後で、0.052pbwのホスホノ酢酸トリエチルを反応器
に装入し、続いて290℃に加熱しながら圧力を徐々に1torrまで減圧した
。60/40重量%のフェノール/o−ジクロロベンゼン中で測定した固有粘度
が0.60dL/gとなるポリマーが生成するまで縮合反応副産物のエチレング
リコールを連続的に除去した。
入量でバッチ反応器中で合成した。126pbwのナフタレンジカルボン酸ジメ
チル、11pbwのテレフタル酸ジメチル、75pbwのエチレングリコール、
0.027pbwの酢酸亜鉛、0.027pbwの酢酸コバルト、および0.0
48pbwの三酢酸アンチモン。2気圧の圧力下、メタノールが除去されるまで
この混合物を254℃に加熱した。36pbwのメタノールが除去された後で、
0.049pbwのホスホノ酢酸トリエチルを反応器に装入し、続いて290℃
に加熱しながら圧力を徐々に1torrまで減圧した。60/40重量%のフェ
ノール/o−ジクロロベンゼン中で測定した固有粘度が0.50dL/gとなる
ポリマーが生成するまで縮合反応副産物のエチレングリコールを連続的に除去し
た。
料装入量でバッチ反応器中で合成した。125pbwのテレフタル酸ジメチル、
22pbwのtrans−シクロヘキサンジカルボン酸ジメチル、94pbwの
エチレングリコール、0.363pbwのトリメチロールプロパン、0.036
pbwの酢酸亜鉛、0.036pbwの酢酸コバルト、および0.065pbw
の三酢酸アンチモン。2気圧の圧力下、メタノールが除去されるまでこの混合物
を254℃に加熱した。48pbwのメタノールが除去された後で、0.070
pbwのホスホノ酢酸トリエチルを反応器に装入し、続いて290℃に加熱しな
がら圧力を徐々に1torrまで減圧した。60/40重量%のフェノール/o
−ジクロロベンゼン中で測定した固有粘度が0.70dL/gとなるポリマーが
生成するまで縮合反応副産物のエチレングリコールを連続的に除去した。
び第2の光学層が交互に836層配置する多層フィルムを製造した。この個々の
多層反射フィルムは、第2の光学層と同じコ(ポリエチレンテレフタレート)で
製造した内部および外部保護層も含んだ。得られたキャストフィルムを99℃に
設定した熱風が送り込まれるオーブン中で加熱し、次に6:1の延伸比で一軸延
伸し、厚さ約125μmの反射偏光子を得た。第1の光学層のcoPENのガラ
ス転移温度は約95℃である。
した。ディスプレイの輝度は51%増加し、これは輝度利得1.51に対応する
。垂直入射光の場合、透過偏光を有する光の89%と、別の(非透過)偏光を有
する光の8.5%とがこの多層反射偏光フィルムを透過した。オフアングル光(
垂直方向から60°)の場合は、透過偏光の86%が多層反射偏光フィルムを透
過した。
層反射偏光子を93℃の温度で一軸延伸したことを除けば、実施例4に記載のよ
うにして多層反射偏光フィルムを製造した。第1の光学層のcoPENのガラス
転移温度は約95℃である。
した。ディスプレイの輝度は55%増加し、これは輝度利得1.55に対応する
。垂直入射光の場合、透過偏光を有する光の89%と、別の(非透過)偏光を有
する光の4.8%とがこの多層反射偏光フィルムを透過した。オフアングル光(
垂直方向から60°)の場合は、透過偏光の87%が多層反射偏光フィルムを透
過した。
ナフタレンジカルボン酸ジメチルと50モル%のテレフタル酸ジメチルとから誘
導されるカルボキシレートサブユニットと、100モル%のエチレングリコール
サブユニットから誘導されるグリコールサブユニットとを有するコポリエチレン
ナフタレートから製造される第1の光学層と、100モル%のテレフタレートジ
カルボキシレートから誘導されるカルボキシレートサブユニットと、エチレング
リコールとシクロヘキサンジメタノールとから誘導されるグリコールサブユニッ
トとを有するコポリエチレンテレフタレート(coPET)から製造される第2
の光学層とを使用して、多層反射偏光フィルムを製造することができる。このc
oPETは、Eastman Chemical Co.(Kingsport
、テネシー州)よりPETGとして入手可能である。
料装入量でバッチ反応器中で合成することができる。83pbwのナフタレンジ
カルボン酸ジメチル、66pbwのテレフタル酸ジメチル、87pbwのエチレ
ングリコール、0.027pbwの酢酸亜鉛、0.027pbwの酢酸コバルト
、および0.048pbwの三酢酸アンチモン。2気圧の圧力下、メタノールが
除去されるまでこの混合物を254℃に加熱する。43pbwのメタノールが除
去された後で、0.051pbwのホスホノ酢酸トリエチルを反応器に装入し、
続いて290℃に加熱しながら圧力を徐々に1torrまで減圧する。60/4
0重量%のフェノール/o−ジクロロベンゼン中で測定した固有粘度が0.55
dL/gとなるポリマーが生成するまで縮合反応副産物のエチレングリコールを
連続的に除去する。
び第2の光学層が交互に836層配置する多層フィルムを製造する。この多層反
射フィルムは、第2の光学層と同じコ(ポリエチレンテレフタレート)で製造し
た内部および外部保護層を含むこともできる。得られるキャストフィルムを約1
10℃に設定した熱風が送り込まれるオーブン中で加熱し、次に6:1の延伸比
で一軸延伸し、厚さ約125μmの反射偏光子を得る。
ナフタレンジカルボン酸ジメチルと40モル%のテレフタル酸ジメチルとから誘
導されるカルボキシレートサブユニットと、100モル%のエチレングリコール
サブユニットから誘導されるグリコールサブユニットとを有するコポリエチレン
ナフタレートから製造される第1の光学層と、100モル%のテレフタレートジ
カルボキシレートから誘導されるカルボキシレートサブユニットと、エチレング
リコールとシクロヘキサンジメタノールとから誘導されるグリコールサブユニッ
トとを有するコポリエチレンテレフタレート(coPET)から製造される第2
の光学層とを使用して、多層反射偏光フィルムを製造することができる。このc
oPETは、Eastman Chemical Co.(Kingsport
、テネシー州)よりPETGとして入手可能である。
料装入量でバッチ反応器中で合成することができる。98pbwのナフタレンジ
カルボン酸ジメチル、52pbwのテレフタル酸ジメチル、87pbwのエチレ
ングリコール、0.027pbwの酢酸亜鉛、0.027pbwの酢酸コバルト
、および0.048pbwの三酢酸アンチモン。2気圧の圧力下、メタノールが
除去されるまでこの混合物を254℃に加熱する。41pbwのメタノールが除
去された後で、0.051pbwのホスホノ酢酸トリエチルを反応器に装入し、
続いて290℃に加熱しながら圧力を徐々に1torrまで減圧する。60/4
0重量%のフェノール/o−ジクロロベンゼン中で測定した固有粘度が0.53
dL/gとなるポリマーが生成するまで縮合反応副産物のエチレングリコールを
連続的に除去する。
び第2の光学層が交互に836層配置する多層フィルムを製造する。この多層反
射フィルムは、第2の光学層と同じコ(ポリエチレンテレフタレート)で製造し
た内部および外部保護層を含むこともできる。得られるキャストフィルムを約1
15℃に設定した熱風が送り込まれるオーブン中で加熱し、次に6:1の延伸比
で一軸延伸し、厚さ約125μmの反射偏光子を得る。
求項によって完全に記載される本発明のすべての態様を包含するものであると理
解するべきである。本発明を適用可能な種々の変形、同等の工程、ならびに多数
の構造は、本明細書を研究する際に本発明に向けられている当業者には容易に明
らかとなるであろう。
によって本発明をより十分に理解できるであろう。
マー(正方形)およびテレフタレート含有ポリエチレンナフタレートのブロック
コポリマー(ひし形)のパーセント結晶化度のグラフである。
−135℃で延伸)およびイソフタル酸ジメチル(DMI)(三角形−130℃
で延伸、アスタリスク−135℃で延伸)を使用し異なるナフタレート含有率(
モル%NDC)を使用して形成したポリエチレンナフタレートのコポリマーの複
屈折のグラフである。
マー(円形)およびテレフタレート含有ポリエチレンナフタレートのブロックコ
ポリマー(三角形)の複屈折のグラフである。
マー(円形、実線)およびテレフタレート含有ポリエチレンナフタレートのブロ
ックコポリマー(三角形、点線)の光学パラメーターのグラフである。
ート含有率40モル%のテレフタレート含有ポリエチレンナフタレートのランダ
ムコポリマーの透過スペクトル(細線)と比較しているグラフである。 本発明は種々の修正および代替形態が可能であるが、その具体例を図面に示し
、詳細に説明している。しかしながら、記載される特定の実施態様に本発明が限
定されることを意図するものではないことを理解されたい。逆に、本発明の意図
および範囲内にあるすべての修正、同等物、および代案を包含することを意図し
ている。
Claims (25)
- 【請求項1】 複数の複屈折性の第1の光学層であって、各第1の光学層が
ポリエチレンナフタレートのコポリマーを含み、前記コポリマーのカルボキシレ
ートサブユニットの70モル%未満がナフタレートサブユニットである第1の光
学層と、 前記第1の光学層と交互に配置される複数の第2の光学層とを含み、632.
8nmの光の場合に、前記第2の光学層が、前記第1の光学層よりも小さい面内
複屈折を有する多層光学体。 - 【請求項2】 各第1の光学層の面内複屈折が、632.8nmの光の場合
に少なくとも0.19である、請求項1に記載の多層光学体。 - 【請求項3】 前記ポリエチレンナフタレートのコポリマーがランダムコポ
リマーである、請求項1に記載の多層光学体。 - 【請求項4】 前記ポリエチレンナフタレートのコポリマーがブロックコポ
リマーである、請求項1に記載の多層光学体。 - 【請求項5】 前記コポリマーの前記カルボキシレートサブユニットの約2
5〜65モル%がナフタレートサブユニットであるポリエチレンナフタレートの
コポリマーを前記第1の光学層の各々が含む、請求項1に記載の多層光学体。 - 【請求項6】 前記第2の光学層の面内複屈折が、632.8nmの光の場
合に約0.04以下である、請求項1に記載の多層光学体。 - 【請求項7】 前記第2の光学層の各々がポリエチレンテレフタレートコポ
リマーを含む、請求項1に記載の多層光学体。 - 【請求項8】 前記ポリエチレンテレフタレートコポリマーが、テレフタレ
ートサブユニットと、エチレングリコールサブユニットと、脂肪族二酸および脂
肪族ジオールからなる群より選択される少なくとも1種類の化合物から誘導され
るコモノマーサブユニットとを含む、請求項7に記載の多層光学体。 - 【請求項9】 前記ポリエチレンナフタレートのコポリマーが、ポリエチレ
ンナフタレートよりも380〜400nmの範囲の光を実質的に多く透過する、
請求項1に記載の多層光学体。 - 【請求項10】 前記ポリエチレンナフタレートのコポリマーが、前記コポ
リマーのガラス転移温度以下の温度で延伸可能であり、それによって632.8
nmの光の場合に少なくとも0.19の面内複屈折が得られる、請求項1に記載
の多層光学体。 - 【請求項11】 コポリマーのガラス転移温度付近またはそれより低温で延
伸した後に、632.8nmで少なくとも約0.16の面内複屈折を得ることが
できるポリマーをそれぞれが含む複数の複屈折性の第1の光学層と、 前記第1の光学層と交互に配置される複数の第2の光学層とを含み、632.
8nmの光の場合に、前記第2の光学層が、前記第1の光学層よりも小さい面内
複屈折を有する多層光学体。 - 【請求項12】 前記第1の光学層の前記ポリマーがポリエチレンナフタレ
ートのコポリマーである、請求項11に記載の多層光学体。 - 【請求項13】 前記ポリエチレンナフタレートのコポリマーがランダムコ
ポリマーである、請求項11に記載の多層光学体。 - 【請求項14】 前記各第1の光学層のポリマーの面内複屈折が、632.
8nmの光の場合に少なくとも約0.16である、請求項11に記載の多層光学
体。 - 【請求項15】 前記ポリマーが、前記コポリマーのガラス転移温度付近ま
たはそれより低温で延伸した後に、632.8nmで少なくとも0.19の面内
複屈折を得ることができる、請求項11に記載の多層光学体。 - 【請求項16】 示差走査熱量法を使用して測定した結晶化度が約20%以
下であるポリエチレンナフタレートのコポリマーをそれぞれが含む複数の複屈折
性の第1の光学層と、 前記第1の光学層と交互に配置される複数の第2の光学層とを含み、632.
8nmの光の場合に、前記第2の光学層が、前記第1の光学層よりも小さい面内
複屈折を有する多層光学体。 - 【請求項17】 各第1の光学層の面内複屈折が、632.8nmの光の場
合に少なくとも0.19である、請求項16に記載の多層光学体。 - 【請求項18】 前記ポリエチレンナフタレートのコポリマーが延伸可能で
あり、それによって632.8nmの光の場合に少なくとも0.19の面内複屈
折が得られる、請求項16に記載の多層光学体。 - 【請求項19】 ポリマー光学層のスタックを形成する工程であって、 ポリマーを各々が含む複数の第1の光学層と、 前記第1の光学層と複数の光学界面を形成する複数の第2の光学層と、 を含む工程と、 前記第1の光学層の前記ポリマーのガラス転移温度付近またはそれより低温で
前記第1の光学層を延伸して、前記第1の光学層の面内複屈折を少なくとも約0
.16にする工程と、 を含む多層光学体の製造方法。 - 【請求項20】 層のスタックを形成する工程が、ポリエチレンナフタレー
トのコポリマーを含む複数の第1の光学層を含む層のスタックを形成する工程を
含む、請求項19に記載の方法。 - 【請求項21】 前記光学層のスタックを形成する工程が、カルボキシレー
トサブユニットの70モル%未満かつ少なくとも約20モル%がナフタレートサ
ブユニットであるポリエチレンナフタレートのコポリマーを使用して前記複数の
第1の光学層を形成する工程を含む、請求項20に記載の方法。 - 【請求項22】 前記光学層のスタックを形成する工程が、カルボキシレー
トサブユニットの約25〜65モル%がナフタレートサブユニットであるポリエ
チレンナフタレートのコポリマーを使用して前記複数の第1の光学層を形成する
工程を含む、請求項20に記載の方法。 - 【請求項23】 前記光学層のスタックを形成する工程が、示差走査熱量法
を使用して測定した結晶化度が約20%以下であるポリマーを使用して前記複数
の第1の光学層を製造する工程を含む、請求項19に記載の方法。 - 【請求項24】 約0.10以下の光学効率を各々が有する複数のポリマー
性の第1の光学層と、 前記第1の光学層と交互に配置される複数のポリマー性の第2の光学層とを含
み、632.8nmの光の場合に、前記第2の光学層が、前記第1の光学層より
も小さい面内複屈折を有する多層光学体。 - 【請求項25】 前記第1の光学層の各々がポリエチレンナフタレートのコ
ポリマーを含む、請求項24に記載の多層光学体。
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