JP2003505664A - 一体電極プラグ部材を有するセンサパッケージ - Google Patents
一体電極プラグ部材を有するセンサパッケージInfo
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N27/00—Investigating or analysing materials by the use of electric, electrochemical, or magnetic means
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- G01N27/414—Ion-sensitive or chemical field-effect transistors, i.e. ISFETS or CHEMFETS
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Abstract
(57)【要約】
イオン感応シリコンがハウジング内に内蔵されるエラストマー媒体密封部と導電性のエラストマーパッドとの間に配設される化学的センサ装置及びその方法が開示される。導電性エラストマーパッドはハウジングから延びるプリント回路板(PCB)と接触する。型、エラストマー及びPCBはPCBと接触し電気的に接続され電気的に導電性でプレス嵌めされるプラグにより固定される。プラグは装置のカウンタ電極として及びハウジング内で装置の所要構成部品を実質的に面一の密封状態で密封する機械的な固定装置として機能する。
Description
【0001】
(技術分野)
本発明はセンサをパッケージする方法及び装置、特にイオン感応の電界効果ト
ランジスタ(ISFET)のようなミクロ電子工学による基板がカウンタ電極と
一体的にパッケージされる場合のペーハセンサのような化学センサに関する。
ランジスタ(ISFET)のようなミクロ電子工学による基板がカウンタ電極と
一体的にパッケージされる場合のペーハセンサのような化学センサに関する。
【0002】
(背景技術)
各種のイオン感応電界効果トランジスタ(ISFET)、即ちミクロ電子工学
に基づくイオンセンサは当業者には周知である。このISFETは固体状態で、
小型且つ比較的製造費が安い場合のようなペーハセンサとしての使用には利点が
ある。
に基づくイオンセンサは当業者には周知である。このISFETは固体状態で、
小型且つ比較的製造費が安い場合のようなペーハセンサとしての使用には利点が
ある。
【0003】
半導体技術によれば小型センサを製造することができるが、物理的にサイズを
小さくするとパッケージに関し大きな問題が生じる。ISFET型には外部電子
素子と接続される複数の導線が含まれる。従来の半導体パッケージ構成にはワイ
ヤボンドのような電気接触構造体が使用され、電気接触構造体は化学検出ISF
ETと同一の型に作られている。検出ISFETは測定サンプルにより湿潤され
るので、特にISFETセンサが広い範囲の温度及び圧力下動作されているとき
、テスト流体サンプルとISFET電気接触とが絶縁されていることが極めて重
要である。パッケージの一体性を得る第1のステップはバクスタによる米国特許
第4,505,799号に開示されるようにISFET型の背面に接触領域を配
置することにある。これは重要な第1のステップであるが、外装ポリマー材料に
比べ低い熱膨張係数値のような一意的に異る化学的並びに物理的特性がシリコン
により処理され、これによりセンサ寿命の全期間にわたり処理サンプルに対し絶
縁を形成し維持することが困難となる。
小さくするとパッケージに関し大きな問題が生じる。ISFET型には外部電子
素子と接続される複数の導線が含まれる。従来の半導体パッケージ構成にはワイ
ヤボンドのような電気接触構造体が使用され、電気接触構造体は化学検出ISF
ETと同一の型に作られている。検出ISFETは測定サンプルにより湿潤され
るので、特にISFETセンサが広い範囲の温度及び圧力下動作されているとき
、テスト流体サンプルとISFET電気接触とが絶縁されていることが極めて重
要である。パッケージの一体性を得る第1のステップはバクスタによる米国特許
第4,505,799号に開示されるようにISFET型の背面に接触領域を配
置することにある。これは重要な第1のステップであるが、外装ポリマー材料に
比べ低い熱膨張係数値のような一意的に異る化学的並びに物理的特性がシリコン
により処理され、これによりセンサ寿命の全期間にわたり処理サンプルに対し絶
縁を形成し維持することが困難となる。
【0004】
ISFET型の直近での一体性を高める別の技術が米国特許第5,068,2
05号に開示されている。図1Aに示すこの周知技術においてはガラスヘッダ1
2が使用され、シリコン型(ISFET)17が内部の貫通穴15を通り硼珪酸
塩ガラス支承体16の第1の側部14に接着される。支承体16の貫通穴15内
にはISFET17の接触領域が覆われないように維持される。支承体16はま
た第2の側部20にリード線18を有し、支承体の縁部からISFET領域に対
し電気的に接近可能にする。ISFET基板17はガラス支承体14と静電気的
に接合される。リードワイヤ22がISFETとガラス支承体のリード線間に接
合される。ガラス支承体のリード線18及びISFET17の背部は保護のため
絶縁カバー24で被覆される。図1Bに示すようにこのガラスヘッダ12は次に
プローブ胴体28から引き出し可能に柔軟な回路26と接続される。ヘッダ12
及び回路26の組合体は次に米国特許第4,851,104号に詳述されている
ようにJ形のHastelloyカウンタ電極27と共にプローブ胴体28内に
収められ、熱硬化性ポリマー内に入れられ、内部構成部品が通常腐食性の検出環
境の液体から遮断され得る。
05号に開示されている。図1Aに示すこの周知技術においてはガラスヘッダ1
2が使用され、シリコン型(ISFET)17が内部の貫通穴15を通り硼珪酸
塩ガラス支承体16の第1の側部14に接着される。支承体16の貫通穴15内
にはISFET17の接触領域が覆われないように維持される。支承体16はま
た第2の側部20にリード線18を有し、支承体の縁部からISFET領域に対
し電気的に接近可能にする。ISFET基板17はガラス支承体14と静電気的
に接合される。リードワイヤ22がISFETとガラス支承体のリード線間に接
合される。ガラス支承体のリード線18及びISFET17の背部は保護のため
絶縁カバー24で被覆される。図1Bに示すようにこのガラスヘッダ12は次に
プローブ胴体28から引き出し可能に柔軟な回路26と接続される。ヘッダ12
及び回路26の組合体は次に米国特許第4,851,104号に詳述されている
ようにJ形のHastelloyカウンタ電極27と共にプローブ胴体28内に
収められ、熱硬化性ポリマー内に入れられ、内部構成部品が通常腐食性の検出環
境の液体から遮断され得る。
【0005】
低コストの検出用途での実際の溶液としてISFETを用いる場合、他の問題
点が生じる。その他の問題点の一は商用目的でのイオン感応プローブの一部とし
てISFETを利用するために好適な胴部あるいはハウジングの外装である。通
常図1Aに示すISFETは熱硬化性ポリマー内に入れられ、このためセンサの
電子回路はテスト対象の液体の厳しい環境に晒されることを避けることができる
。効果的な熱硬化性ポリマーの外装には、活性ISFET面にボイドが生じるこ
とを避けその被覆を防止する微妙な組立処理が伴う。この処理は未硬化の熱硬化
性ポリマーの作業寿命に制限される。充填作業の完了の時に熱硬化性ポリマーは
通常材料を硬化するための時間が更に必要である。
点が生じる。その他の問題点の一は商用目的でのイオン感応プローブの一部とし
てISFETを利用するために好適な胴部あるいはハウジングの外装である。通
常図1Aに示すISFETは熱硬化性ポリマー内に入れられ、このためセンサの
電子回路はテスト対象の液体の厳しい環境に晒されることを避けることができる
。効果的な熱硬化性ポリマーの外装には、活性ISFET面にボイドが生じるこ
とを避けその被覆を防止する微妙な組立処理が伴う。この処理は未硬化の熱硬化
性ポリマーの作業寿命に制限される。充填作業の完了の時に熱硬化性ポリマーは
通常材料を硬化するための時間が更に必要である。
【0006】
上述したISFETセンサは特に産業環境でのペーパ測定のときにプローブと
して電位差・電気化学的測定システムに採用される際有用である。多くの場合接
地される溶液の場合、主に測定電極、関連する測定器あるいは分析器、及び測定
器接地との分析器電源を介して接地された溶液から流れる寄生漏れ電流のため、
ノイズを拾う。交流及び直流電圧が溶液と測定接地との間に存在する場合、最低
インピーダンス経路を経て電流が流れると考えられる。この経路には通常、測定
液体サンプル及び電極の最低インピーダンス経路(通常基準電極)を経て望まし
くない電流が流れる。この問題は特に107ジーメンス/cmあるいはそれ以下
の25度の導電率値を有する高純度水のサンプル測定の際顕著に現れる。この疑
似電流によりペーパ読み値が偏位されセンサ出力が偏位されて、測定システム精
度も相応して偏位される。この疑似電流及び不都合な効果を偏位し最小限に押さ
えるため、電気導電性の付加電極であるカウンタ電極を測定対象の溶液内に挿入
し、疑似電流を基準電極ではなくより低いインピーダンス電極を経て流す。カウ
ンタ電極は通常の電気導電性材料で作られ、測定システムの電子回路と接続され
、金属酸化物電界効果トランジスタ(MOS FET)の金属化処理したゲート
として機能する。即ちカウンタ電極はFETのドレイン電圧ないしはドレイン電
流を制御可能にする主電極である。電位差、電気化学測定システム内のカウンタ
電極のこの機能はコナリ等による米国特許第4,851,104号を参照すれば
より良好に理解されよう。
して電位差・電気化学的測定システムに採用される際有用である。多くの場合接
地される溶液の場合、主に測定電極、関連する測定器あるいは分析器、及び測定
器接地との分析器電源を介して接地された溶液から流れる寄生漏れ電流のため、
ノイズを拾う。交流及び直流電圧が溶液と測定接地との間に存在する場合、最低
インピーダンス経路を経て電流が流れると考えられる。この経路には通常、測定
液体サンプル及び電極の最低インピーダンス経路(通常基準電極)を経て望まし
くない電流が流れる。この問題は特に107ジーメンス/cmあるいはそれ以下
の25度の導電率値を有する高純度水のサンプル測定の際顕著に現れる。この疑
似電流によりペーパ読み値が偏位されセンサ出力が偏位されて、測定システム精
度も相応して偏位される。この疑似電流及び不都合な効果を偏位し最小限に押さ
えるため、電気導電性の付加電極であるカウンタ電極を測定対象の溶液内に挿入
し、疑似電流を基準電極ではなくより低いインピーダンス電極を経て流す。カウ
ンタ電極は通常の電気導電性材料で作られ、測定システムの電子回路と接続され
、金属酸化物電界効果トランジスタ(MOS FET)の金属化処理したゲート
として機能する。即ちカウンタ電極はFETのドレイン電圧ないしはドレイン電
流を制御可能にする主電極である。電位差、電気化学測定システム内のカウンタ
電極のこの機能はコナリ等による米国特許第4,851,104号を参照すれば
より良好に理解されよう。
【0007】
カウンタ電極技術はセンサ性能に利点を与えるが、カウンタ電極に対し金属あ
るいは合金材料を用いるので、センサ内に液体が侵入するする可能性があり、内
部電極の導線間が電気的な漏れが生じ、この結果センサが故障することになる。
この液体の侵入は主にカウンタ電極とハウジングとの間の大きく異る物理的特性
並びにこれら材料間の熱膨張係数の差に因る。
るいは合金材料を用いるので、センサ内に液体が侵入するする可能性があり、内
部電極の導線間が電気的な漏れが生じ、この結果センサが故障することになる。
この液体の侵入は主にカウンタ電極とハウジングとの間の大きく異る物理的特性
並びにこれら材料間の熱膨張係数の差に因る。
【0008】
センサのパッケージ一体性を得る技術的構成には、異るレベルの保護層を与え
てセンサ導線とサンプル液体とを遮断する方法が含まれる。また背面接触、電気
的に接合される中間構造体その後センササブアセンブリ内に容れることが含まれ
る。この構成ではパッケージの一体性が得られるが、複雑でありこの結果組立コ
ストが構成及び処理の複雑さに正比例する。
てセンサ導線とサンプル液体とを遮断する方法が含まれる。また背面接触、電気
的に接合される中間構造体その後センササブアセンブリ内に容れることが含まれ
る。この構成ではパッケージの一体性が得られるが、複雑でありこの結果組立コ
ストが構成及び処理の複雑さに正比例する。
【0009】
従って不浸透ハウジング内に容易且つ低廉に内装でき、且つ媒体環境かれプロ
ーブの電子回路を効果的に密封することにより媒体がISFETセンサに接近可
能なイオン感応ミクロ電子工学センサパッケージが要望されている。更にセンサ
ハウジング内にカウンタ電極を一体化し且つ熱硬化性包封の欠点を除去可能なパ
ッケージング技術が望まれている。
ーブの電子回路を効果的に密封することにより媒体がISFETセンサに接近可
能なイオン感応ミクロ電子工学センサパッケージが要望されている。更にセンサ
ハウジング内にカウンタ電極を一体化し且つ熱硬化性包封の欠点を除去可能なパ
ッケージング技術が望まれている。
【0010】
導電性エラストマー密封部において圧電変換器を包封するいくつかの技術がモ
ウラーによる米国特許第5,184,107号に詳説されている。この特許には
プリモールドされたエラストマー密封部を有する低コストの圧電圧力変換器が開
示され、この場合少なくとも一の密封部が導電性である。厚手のリムを有する半
導体材料のダイヤフラムの形態の圧電式応力応動素子が二部材からなるハウジン
グ内で一対のプリモールドされたエラストマー密封部間にそのリムで保持される
。外部回路との電気接続はエラストマー密封部の一方を貫通する導電通路により
行われ、これによりハウジング壁を貫通する電気リード線と接触される。
ウラーによる米国特許第5,184,107号に詳説されている。この特許には
プリモールドされたエラストマー密封部を有する低コストの圧電圧力変換器が開
示され、この場合少なくとも一の密封部が導電性である。厚手のリムを有する半
導体材料のダイヤフラムの形態の圧電式応力応動素子が二部材からなるハウジン
グ内で一対のプリモールドされたエラストマー密封部間にそのリムで保持される
。外部回路との電気接続はエラストマー密封部の一方を貫通する導電通路により
行われ、これによりハウジング壁を貫通する電気リード線と接触される。
【0011】
(発明の開示)
本発明によれば、請求項1のイオン感応プローブが提供される。
【0012】
また本発明においてはプローブには請求項2〜5の一あるいはそれ以上の特徴
部が含まれる。本発明によれば請求項6ののセンサパッケージが提供される。本
発明においてはセンサパッケージには請求項7〜10のいずれかの特徴部が含ま
れる。
部が含まれる。本発明によれば請求項6ののセンサパッケージが提供される。本
発明においてはセンサパッケージには請求項7〜10のいずれかの特徴部が含ま
れる。
【0013】
イオン感応のペーハセンサの構成を簡素化し、カウンタ電極部品を装置の密封
機構の一部として一体化することにより、信頼性に大きな利点が得られ、且つ同
時にプローブの総合コストが大幅に低下される。
機構の一部として一体化することにより、信頼性に大きな利点が得られ、且つ同
時にプローブの総合コストが大幅に低下される。
【0014】
(発明を実施するための最良の形態)
本発明の特報及び利点は、図示の好ましい実施形態の以下の説明から明らかと
なろう。好ましい実施形態の説明を通し同一の構成部品は同一の符号を用い且つ
図示される。
なろう。好ましい実施形態の説明を通し同一の構成部品は同一の符号を用い且つ
図示される。
【0015】
図2を参照するにペーハセンサプローブ31としてここに示されるセンサ装置
はISFETハウジング33を有し、ISFETハウジング33には内部に貫通
穴35が具備されている。ハウジング33は企図した検出環境に好適な熱可塑性
エンジニアリング等級のプラスチックで作られる。終端部が導線39に配置され
るプリント基板(PCB)37がISFETハウジング33から延出している。
プリント基板37によりPCB37の第1の側面上に配置されるプリント配線4
1を介し導線39とISFET(図示せず)との間が電気的に接続される。IS
FETハウジング33及びPCB37はペーハセンサプローブ31の長手方向に
に沿って延び、外側胴部43と接合される。外側胴部43はプローブが露出され
る媒体環境に耐えるよう選択された材料で作られている。
はISFETハウジング33を有し、ISFETハウジング33には内部に貫通
穴35が具備されている。ハウジング33は企図した検出環境に好適な熱可塑性
エンジニアリング等級のプラスチックで作られる。終端部が導線39に配置され
るプリント基板(PCB)37がISFETハウジング33から延出している。
プリント基板37によりPCB37の第1の側面上に配置されるプリント配線4
1を介し導線39とISFET(図示せず)との間が電気的に接続される。IS
FETハウジング33及びPCB37はペーハセンサプローブ31の長手方向に
に沿って延び、外側胴部43と接合される。外側胴部43はプローブが露出され
る媒体環境に耐えるよう選択された材料で作られている。
【0016】
図3及び図5の簡略断面図に示すように、ミクロ電子工学ISFETハウジン
グ33は実質的に円筒状のハウジングであり、ハウジングの第1の側面に媒体貫
通穴35と、及びISFET47、媒体密封部49及び導電性密封部51のミク
ロ電子工学型が内部で貫通可能な実質的により大きなサイズの対向する貫通穴4
5とが形成され、これについては更に下述する。PCB37はISFETハウジ
ング33内に内蔵され、例えばプラグ部材53である。プラグ部材53は組立ら
れ密封されたISFETハウジングが完成される前の中間あるいは作業中位置が
示される。
グ33は実質的に円筒状のハウジングであり、ハウジングの第1の側面に媒体貫
通穴35と、及びISFET47、媒体密封部49及び導電性密封部51のミク
ロ電子工学型が内部で貫通可能な実質的により大きなサイズの対向する貫通穴4
5とが形成され、これについては更に下述する。PCB37はISFETハウジ
ング33内に内蔵され、例えばプラグ部材53である。プラグ部材53は組立ら
れ密封されたISFETハウジングが完成される前の中間あるいは作業中位置が
示される。
【0017】
この好ましい実施形態においてはプラグ部材53は20〜40%グラファイト
を充填されたエンジニアリング級の熱可塑性あるいはプラスチックの導電材料で
作られ、ペーハセンサプローブ31のペーパに感応しない電極としてのカウンタ
電極を形成している。導電性プラグ部材53はPCB37の第2の側面上に配置
される面54でプリント配線42と電気的に接触する。導電性プラグ部材53で
電界が発生され、これにより図1Bの胴部から出る図示の分離したJ形Hast
elloyカウンタ電極27を不要にするカウンタ電極が形成され、カウンタ電
極の熱膨張係数はISFETハウジング33と実質的に同一である。こ導電性プ
ラグ部材53はi)ISFETセンサの近傍に配置され、最良位置を与えISF
ETに作用する前に交流あるいは直流疑似電流を捕捉するよう機能しii)IS
FETハウジング33内でペーハセンサプローブ31の主要構成部品を密封する
よう機能する一部材としての一体電極プラグ部材をなすことは当業者には理解さ
れよう。
を充填されたエンジニアリング級の熱可塑性あるいはプラスチックの導電材料で
作られ、ペーハセンサプローブ31のペーパに感応しない電極としてのカウンタ
電極を形成している。導電性プラグ部材53はPCB37の第2の側面上に配置
される面54でプリント配線42と電気的に接触する。導電性プラグ部材53で
電界が発生され、これにより図1Bの胴部から出る図示の分離したJ形Hast
elloyカウンタ電極27を不要にするカウンタ電極が形成され、カウンタ電
極の熱膨張係数はISFETハウジング33と実質的に同一である。こ導電性プ
ラグ部材53はi)ISFETセンサの近傍に配置され、最良位置を与えISF
ETに作用する前に交流あるいは直流疑似電流を捕捉するよう機能しii)IS
FETハウジング33内でペーハセンサプローブ31の主要構成部品を密封する
よう機能する一部材としての一体電極プラグ部材をなすことは当業者には理解さ
れよう。
【0018】
ISFETハウジング33の中央開口部55は近傍端部57で拡大され、IS
FET47及びエラストマー密封部49、51を内蔵するための嵌合せ空洞部5
9が与えられる。空洞部59は媒体穴35と連通する。媒体穴35と対向する背
部穴45も中央開口部55と連通し、このため電極プラグ部材53がISFET
ハウジング33と固定状態にプレス嵌めされるとき、電極プラグ部材53がPC
B37と接触し導電性密封部51と接触される。
FET47及びエラストマー密封部49、51を内蔵するための嵌合せ空洞部5
9が与えられる。空洞部59は媒体穴35と連通する。媒体穴35と対向する背
部穴45も中央開口部55と連通し、このため電極プラグ部材53がISFET
ハウジング33と固定状態にプレス嵌めされるとき、電極プラグ部材53がPC
B37と接触し導電性密封部51と接触される。
【0019】
図4を参照するに、ペーハセンサプローブ31の主要内部構成部品、即ち媒体
密封部49、ISFET47、導電性密封部51及びプリント配線41、42を
有したPCB37がISFETハウジング33(図示せず)内部の頂部から底部
への配置順序に示されている。媒体密封部49はその側壁が嵌合せ空洞部59の
壁部と当接接触した状態で嵌合するようなサイズにされる。媒体密封部49の中
央貫通穴61は媒体穴35と整合される。媒体密封部はセンサが浸漬される媒体
に対し不透過性でありエラストマー材料で作られる。媒体密封部の硬度及び圧縮
度は広い範囲の温度及び圧力にわたり化学環境内での企図した使用に対し効果的
に密封を与えるよう選択されることは理解されよう。例えば圧縮度が10〜35
%の50−60ジュロメータのエチレンプロピレンジエンモノマー(EDPM)
が現在考えられる最良の状態で使用され得る。媒体密封部にエラストマー材料が
ここで使用されるが、ガスケット、密封配合物等センサ装置の電子回路と媒体環
境との間を密封できる他の材料及び技術が代わりに使用できることは当業者には
理解されよう。
密封部49、ISFET47、導電性密封部51及びプリント配線41、42を
有したPCB37がISFETハウジング33(図示せず)内部の頂部から底部
への配置順序に示されている。媒体密封部49はその側壁が嵌合せ空洞部59の
壁部と当接接触した状態で嵌合するようなサイズにされる。媒体密封部49の中
央貫通穴61は媒体穴35と整合される。媒体密封部はセンサが浸漬される媒体
に対し不透過性でありエラストマー材料で作られる。媒体密封部の硬度及び圧縮
度は広い範囲の温度及び圧力にわたり化学環境内での企図した使用に対し効果的
に密封を与えるよう選択されることは理解されよう。例えば圧縮度が10〜35
%の50−60ジュロメータのエチレンプロピレンジエンモノマー(EDPM)
が現在考えられる最良の状態で使用され得る。媒体密封部にエラストマー材料が
ここで使用されるが、ガスケット、密封配合物等センサ装置の電子回路と媒体環
境との間を密封できる他の材料及び技術が代わりに使用できることは当業者には
理解されよう。
【0020】
ISFET型47は検出対象の媒体にイオン感応するよう調整されたISFE
T検出領域65を含む媒体密封部49と第1の側面63上で当接するように構成
される。型の第2の側面67はISFETの動作に必要なパターン化された電気
リード線69を含む型47の第2の側面67と当接するものはZ軸方向に即ち導
電性密封部の厚さ方向に電気を通し、これにより構成部品がISFETハウジン
グ(図示せず)内に互いに対向して詰められたとき、型47とPCB37のプリ
ント配線41とが電気的に接続されるよう内部に配置された導電性銀ストリップ
71を有する、「シルバースタックスコネクタ(silver stacks
connector)」と市場で呼ばれているエラストマー導電性密封部51で
ある。
T検出領域65を含む媒体密封部49と第1の側面63上で当接するように構成
される。型の第2の側面67はISFETの動作に必要なパターン化された電気
リード線69を含む型47の第2の側面67と当接するものはZ軸方向に即ち導
電性密封部の厚さ方向に電気を通し、これにより構成部品がISFETハウジン
グ(図示せず)内に互いに対向して詰められたとき、型47とPCB37のプリ
ント配線41とが電気的に接続されるよう内部に配置された導電性銀ストリップ
71を有する、「シルバースタックスコネクタ(silver stacks
connector)」と市場で呼ばれているエラストマー導電性密封部51で
ある。
【0021】
図3及び図4を参照するに媒体密封部49はその主平面が中央開口部55の長
手方向の軸と実質的に平行となるよう媒体穴35と連通する空洞部59内に配置
されることは理解されよう。ISFET47は次に媒体密封部49と接触して嵌
合させ空洞部59内に配置され、そのイオン検出領域65が媒体密封部の貫通穴
61と整合され、第2のISFET面67のパターン化された電気リード線69
が中央開口部55へ置かれる。詰められていない状態の導電性密封部51は詰め
られていない状態の空洞部59のカラー部73の僅か上部に配置される。次にP
CB37はISFETハウジング33中央開口部を貫通し挿入され、導電性密封
部51の上部に配置される。PCB37は次に押し下げられ、その間の密封部5
1、49間がカラー部73の所定の深さないしは圧縮力までプリロードされる。
PCBがこの位置にある間、電極プラグ部材53は背部穴45を貫通挿入され、
導電性密封部51とロード接触状態でPCB37を押している間ISFETハウ
ジング33に対しプレス嵌めされて機械的に係合される。導電性プラグ部材53
はISFETハウジング33の内面36に対し摩擦嵌めによって係合するように
延びた肩領域52を有する。電極プラグ部材53はランド突出部57が面48上
に載置されるまで背部穴45内に挿入される。電極プラグ部材53が背部穴45
内に載置されると、電極プラグ部材53は背部穴45の領域内でISFET胴部
33を密封する外壁と実質的に面一となり、媒体密封部49を介しISFETハ
ウジング33あとISFET型47との間を密封することは図8Aから理解され
よう。約10〜35%の圧縮力はハウジング33の内部に及び、ペーハセンサプ
ローブの内部構成部品に環境媒体が導入することを防止するに十分であることは
理解されよう。電極プラグ部材の面一となる装着は、本発明のすべての実施形態
においてプローブが流れる液体内に浸漬されるがプラグ部材及びハウジング外面
を対にする必要がないものと考えられる場合には好ましい。すべての内部電気部
品はISFETに対し必要なクッションを与えるエラストマー密封部で所定位置
に固定されて、機械的動作中、部品の破損を防止する。
手方向の軸と実質的に平行となるよう媒体穴35と連通する空洞部59内に配置
されることは理解されよう。ISFET47は次に媒体密封部49と接触して嵌
合させ空洞部59内に配置され、そのイオン検出領域65が媒体密封部の貫通穴
61と整合され、第2のISFET面67のパターン化された電気リード線69
が中央開口部55へ置かれる。詰められていない状態の導電性密封部51は詰め
られていない状態の空洞部59のカラー部73の僅か上部に配置される。次にP
CB37はISFETハウジング33中央開口部を貫通し挿入され、導電性密封
部51の上部に配置される。PCB37は次に押し下げられ、その間の密封部5
1、49間がカラー部73の所定の深さないしは圧縮力までプリロードされる。
PCBがこの位置にある間、電極プラグ部材53は背部穴45を貫通挿入され、
導電性密封部51とロード接触状態でPCB37を押している間ISFETハウ
ジング33に対しプレス嵌めされて機械的に係合される。導電性プラグ部材53
はISFETハウジング33の内面36に対し摩擦嵌めによって係合するように
延びた肩領域52を有する。電極プラグ部材53はランド突出部57が面48上
に載置されるまで背部穴45内に挿入される。電極プラグ部材53が背部穴45
内に載置されると、電極プラグ部材53は背部穴45の領域内でISFET胴部
33を密封する外壁と実質的に面一となり、媒体密封部49を介しISFETハ
ウジング33あとISFET型47との間を密封することは図8Aから理解され
よう。約10〜35%の圧縮力はハウジング33の内部に及び、ペーハセンサプ
ローブの内部構成部品に環境媒体が導入することを防止するに十分であることは
理解されよう。電極プラグ部材の面一となる装着は、本発明のすべての実施形態
においてプローブが流れる液体内に浸漬されるがプラグ部材及びハウジング外面
を対にする必要がないものと考えられる場合には好ましい。すべての内部電気部
品はISFETに対し必要なクッションを与えるエラストマー密封部で所定位置
に固定されて、機械的動作中、部品の破損を防止する。
【0022】
本発明には更に、センサが高温及び高圧の動作環境下で使用することを参酌す
る場合、媒体環境から電極プラグ部材53を密封する手段が含まれる。図5、図
6及び図7を参照するに、ISFETハウジングの背部穴45は一体の円周カラ
ー部75を有し、一体の円周カラー部75は肩部83の外側縁部から外側へ延び
、背部穴45とカラー部75との間に延びていることは理解されよう。背部穴4
5及び中央開口部55へと通じるその領域の形状は電極プラグ部材53を受容し
プレス嵌め固定するよう構成される(図6参照)。電極プラグ部材53の外面7
7における半径は実質的に円状形状であるISFETハウジング33の外壁の半
径と実質的に同一にされる。一体の円周カラー部79は電極プラグ部材53の外
面77から延びている。
る場合、媒体環境から電極プラグ部材53を密封する手段が含まれる。図5、図
6及び図7を参照するに、ISFETハウジングの背部穴45は一体の円周カラ
ー部75を有し、一体の円周カラー部75は肩部83の外側縁部から外側へ延び
、背部穴45とカラー部75との間に延びていることは理解されよう。背部穴4
5及び中央開口部55へと通じるその領域の形状は電極プラグ部材53を受容し
プレス嵌め固定するよう構成される(図6参照)。電極プラグ部材53の外面7
7における半径は実質的に円状形状であるISFETハウジング33の外壁の半
径と実質的に同一にされる。一体の円周カラー部79は電極プラグ部材53の外
面77から延びている。
【0023】
一たん電極プラグ部材53がISFETハウジングの背部穴45内にプレス嵌
めされると、各部材の円周カラー延長部75、79は底部が肩部83をなす円周
カラー延長部75、79間の井戸部85としての空間と整合される。所望の最終
形状、この場合は面一で円筒状の成型部材として機能するために適切な半径の熱
密封アンビル87が下動され、ハウジング及びプラグカラー部材が共に溶融され
る。次にカラー材料は溶融し井戸部85内に流れ込み、このときアンビル87は
溶融点以下の温度にされプラスチックが硬化されて除去され、これによりISF
ETハウジング33の背部穴領域内の密封部と実質的に面一にされることは図8
Bから理解されよう。好ましい実施形態においてはプラグカラー部79が電極プ
ラグ部材53から離れて溶融し胴部材料と混合し、面77で導電性で熱可塑性の
材料が確実に残るように構成され得る。更に解放領域89がハウジングの胴部に
カラー溶融材料の溜めとして与えられ、ハウジング胴部の外壁を面一に維持する
(図8B参照)。上述した熱密封法は、例えばレーザ、超音波、放射熱等を用い
る材料溶融技術を用い、ISFETハウジング33に対し導電性プラグ部材53
を密封するのに使用可能な多くの方法の一であることは当業者には十分に理解さ
れよう。更に解放領域89内に液体あるいは半液体の密封化合物を与えて密封部
を形成することによっても密封が達成可能であり、これは本発明を制限するもの
ではない。
めされると、各部材の円周カラー延長部75、79は底部が肩部83をなす円周
カラー延長部75、79間の井戸部85としての空間と整合される。所望の最終
形状、この場合は面一で円筒状の成型部材として機能するために適切な半径の熱
密封アンビル87が下動され、ハウジング及びプラグカラー部材が共に溶融され
る。次にカラー材料は溶融し井戸部85内に流れ込み、このときアンビル87は
溶融点以下の温度にされプラスチックが硬化されて除去され、これによりISF
ETハウジング33の背部穴領域内の密封部と実質的に面一にされることは図8
Bから理解されよう。好ましい実施形態においてはプラグカラー部79が電極プ
ラグ部材53から離れて溶融し胴部材料と混合し、面77で導電性で熱可塑性の
材料が確実に残るように構成され得る。更に解放領域89がハウジングの胴部に
カラー溶融材料の溜めとして与えられ、ハウジング胴部の外壁を面一に維持する
(図8B参照)。上述した熱密封法は、例えばレーザ、超音波、放射熱等を用い
る材料溶融技術を用い、ISFETハウジング33に対し導電性プラグ部材53
を密封するのに使用可能な多くの方法の一であることは当業者には十分に理解さ
れよう。更に解放領域89内に液体あるいは半液体の密封化合物を与えて密封部
を形成することによっても密封が達成可能であり、これは本発明を制限するもの
ではない。
【0024】
以上本発明は具体的な好ましい実施形態に沿って説明した。
【図1A】
図1Aは周知のISFETセンサを示す。
【図1B】
図1Bは周知のISFETセンサを示す。
【図2】
図2は本発明によるセンサプローブの部分切断斜視図を示す。
【図3】
図3は本発明による一部完成されたセンサプローブの断面図を示す。
【図4】
図4は本発明の媒体密封部、ミクロ電子工学構造体、導電性密封部及びPCB
の分解図を示す。
の分解図を示す。
【図5】
図5は内部部品を装着する前のセンサプローブの断面図を示す。
【図6】
図6は本発明のプラグ部材およびハウジングの断面図及び頂部斜視図を示す。
【図7】
図7は本発明のプラグ部材およびハウジングの断面図及び頂部斜視図を示す
。
。
【図8A】
図8Aは本発明による完成したセンサプローブの断面図を示す。
【図8B】
図8Bはプラグ部材を密封した後の図8Aの完成したセンサプローブの断面図
を示す。
を示す。
Claims (10)
- 【請求項1】 a)中央開口部55及び中央開口部に対し開口する第1の端
部と中央開口部と流体が通過可能に連通される背部穴45及びハウジング33と
媒体穴と流体が通過可能に連通する空洞部57とを有するハウジング33と、b
)内部に媒体穴と流体が通過可能に連通する貫通穴61を有し、空洞部内に適合
可能なサイズにされ媒体穴を介し中央貫通穴61を経ることを除き中央開口部へ
の流体通路を密封するエラストマー密封部49と、c)空洞部内に設けられ検出
領域を有する第1の側面と媒体密封部の貫通穴内で流体連通する検出領域と電気
的に連係するパターン化された電気リード線を有する第2の対向側面とを有する
イオン感応半導体47と、d)第1のハウジング開口部及び中央開口部を経て延
び、第1及び第2の面上に電気リード線を有するPCB37と、PCBの第1の
面上の電気リード線の少なくとも一部がイオン感応半導体と接触され、e)背部
穴内に挿入可能に構成され、プラグと接触するPCBの第2の面上にPCBの電
気リード線の少なくとも一部を有し、プラグを背部穴内に機械的に係合され媒体
密封部をハウジング33に対し密封位置に押し付けるように構成される電気的に
導電性のプラグ53とを備えたイオン感応プローブ。 - 【請求項2】 第1の側面から第2の側面へ延びるパターン化された導線を
有した空洞部内に設けられるエラストマー導電性密封部を備え、第1の側面の導
電性の導線がイオン感応半導体のパターン化された電気リード線と電気的に連係
される請求項1のイオン感応プローブ。 - 【請求項3】 プラグが電気的に導電性の材料で作られカウンタ電極として
機能するように構成される請求項1のイオン感応プローブ。 - 【請求項4】 ハウジングに対しプラグを密封する手段を備える請求項3の
イオン感応プローブ。 - 【請求項5】 中央開口部の第1の端部を密封する手段を備える請求項1の
イオン感応プローブ。 - 【請求項6】 a)媒体穴、背部穴及び流体路を含む空洞部を有する熱可塑
性ハウジングと、b)背部穴を経て空洞部内に導入可能に構成されるイオン感応
センサと、c)空洞部を経て延びセンサを電気的に接続する電気接続手段と、d
)背部穴内に導入可能であり電気接続手段と接続され流体路及び電気接続手段と
連係可能にセンサをロードするよう構成される電極とを備え、e)イオン感応電
極が背部穴内に一杯に挿入され機械的に係合されるときセンサをハウジングに対
し密封するようにハウジングが構成されるセンサパッケージ。 - 【請求項7】 イオン感応電極のロード力からセンサを緩衝する弾性手段を
備える請求項4のセンサパッケージ。 - 【請求項8】 イオン感応電極が背部穴内で機械的に係合されるときセンサ
とハウジングとの間を密封する密封手段を備える請求項4のセンサパッケージ。 - 【請求項9】 イオン感応電極が電気的に導電性のプラスチック材料で作ら
れる請求項4のセンサパッケージ。 - 【請求項10】 電極が背部穴内で機械的に係合された後ハウジングに対し
イオン感応電極を密封する手段を備える請求項9のセンサパッケージ。
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US09/074,304 | 1998-05-06 | ||
| US09/074,304 US6117292A (en) | 1998-05-06 | 1998-05-06 | Sensor packaging having an integral electrode plug member |
| PCT/US1999/009500 WO1999057552A1 (en) | 1998-05-06 | 1999-04-30 | Sensor packaging having an integral electrode plug member |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2003505664A true JP2003505664A (ja) | 2003-02-12 |
Family
ID=22118868
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2000547467A Pending JP2003505664A (ja) | 1998-05-06 | 1999-04-30 | 一体電極プラグ部材を有するセンサパッケージ |
Country Status (6)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US6117292A (ja) |
| EP (1) | EP1076818B1 (ja) |
| JP (1) | JP2003505664A (ja) |
| CA (1) | CA2331733C (ja) |
| DE (1) | DE69936199T2 (ja) |
| WO (1) | WO1999057552A1 (ja) |
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|---|---|---|---|---|
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| JP2015025802A (ja) * | 2013-07-29 | 2015-02-05 | ハネウェル・インターナショナル・インコーポレーテッド | ISFETダイのピエゾ抵抗を維持するように構成された基板又は接合層を有するpHセンサ |
| JP2015025801A (ja) * | 2013-07-29 | 2015-02-05 | ハネウェル・インターナショナル・インコーポレーテッド | パターン状に配置される接合剤を有するpHセンサ |
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| DE102012111813B8 (de) | 2012-12-05 | 2025-07-17 | Endress+Hauser Conducta Gmbh+Co. Kg | Sensor zur Erfassung einer Analytkonzentration |
| DE102013106032A1 (de) | 2013-06-11 | 2014-12-11 | Endress + Hauser Conducta Gesellschaft für Mess- und Regeltechnik mbH + Co. KG | Sensor zur Erfassung einer Analytkonzentration |
| DE102013013601A1 (de) | 2013-08-19 | 2015-03-12 | Endress + Hauser Conducta Gesellschaft für Mess- und Regeltechnik mbH + Co. KG | Sensor zur Erfassung einer Analytkonzentration |
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