JP2003504070A - ケトカルボン酸及びそのエステルの還元のための方法 - Google Patents
ケトカルボン酸及びそのエステルの還元のための方法Info
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Abstract
(57)【要約】
本発明は、ラクトバシラスの存在下に少なくとも1つのケト基を変換してヒドロキシ基にするジケトカルボン酸又はヒドロキシケトカルボン酸又はそのエステルの還元のための方法に関する。
Description
【0001】
本発明はジケトカルボン酸又はヒドロキシケトカルボン酸又はそのエステルを
ヒドロキシ化合物に還元するための方法に関する。
ヒドロキシ化合物に還元するための方法に関する。
【0002】
光学活性ヒドロキシ化合物は有用なキラル構成単位である。このようにキラル
のジオールは医薬品及び植物保護の多数の作用物質並びに触媒のための有用な原
料である。キラル化合物を製造するために、バイオテクノロジー的な方法を使用
でき、これらは微生物の全細胞又は単離された酵素の使用下にも作業できる。ア
ルコールの合成のために適当な酵素は、とりわけオキシドレダクターゼであり、
これらはEP91107067.0号(ラクトバシラス ケフィア(Lactobacill
us kefir)から)、EP07914A2及びPCT/DE99/00848号(
ラクトバシラス ブレビス(Lactobasillus brevis)から)に記載されている。
但し、これらの合成は適当な酵素を使用できるが可溶性補酵素(NADH、NA
DPH)の添加及び補酵素−再生系を必要とする。同様にWO97/00968
号においてケト基の還元のためにレダクターゼの使用が記載されている。
のジオールは医薬品及び植物保護の多数の作用物質並びに触媒のための有用な原
料である。キラル化合物を製造するために、バイオテクノロジー的な方法を使用
でき、これらは微生物の全細胞又は単離された酵素の使用下にも作業できる。ア
ルコールの合成のために適当な酵素は、とりわけオキシドレダクターゼであり、
これらはEP91107067.0号(ラクトバシラス ケフィア(Lactobacill
us kefir)から)、EP07914A2及びPCT/DE99/00848号(
ラクトバシラス ブレビス(Lactobasillus brevis)から)に記載されている。
但し、これらの合成は適当な酵素を使用できるが可溶性補酵素(NADH、NA
DPH)の添加及び補酵素−再生系を必要とする。同様にWO97/00968
号においてケト基の還元のためにレダクターゼの使用が記載されている。
【0003】
更にUS−PS5342767号においては、ラクトバシラス ケフィアから
のアルコール−デヒドロゲナーゼを使用して還元を実施する方法を記載している
。
のアルコール−デヒドロゲナーゼを使用して還元を実施する方法を記載している
。
【0004】
DE19610984.1号においてはアルコール−デヒドロゲナーゼを使用
する方法を記載している。精製された酵素の他に全細胞を使用してもよい。しか
しながらこの発明の対象は2個以上のケト基を有する化合物の反応ではない。同
様に、該方法はケトカルボン酸及びそのエステルの反応に関するものではない。
する方法を記載している。精製された酵素の他に全細胞を使用してもよい。しか
しながらこの発明の対象は2個以上のケト基を有する化合物の反応ではない。同
様に、該方法はケトカルボン酸及びそのエステルの反応に関するものではない。
【0005】
微生物は酵素に対する廉価な代替物である。但し、該方法はしばしば低い収率
をもたらす(F. Aragazzini et al., Appl. Mikrobiol. Biotechnol. (1986) 24
, 175-177)。更にしばしば収率低下を促す二次反応を引き起こし、生成物は常
に充分なエナンチオマー純度を有さない。生成物収率及び生成物品質は使用され
る菌株及び培養条件に強く依存する。
をもたらす(F. Aragazzini et al., Appl. Mikrobiol. Biotechnol. (1986) 24
, 175-177)。更にしばしば収率低下を促す二次反応を引き起こし、生成物は常
に充分なエナンチオマー純度を有さない。生成物収率及び生成物品質は使用され
る菌株及び培養条件に強く依存する。
【0006】
欧州特許出願0569998A2号から、最終的に種々の細菌をエーテル基を
有するジケトエステルの還元のために使用する方法が公知である。この発明の明
細書により使用可能な微生物には多くの酵母及び微生物が挙げられるが、ラクト
バシラス種は挙げられていない。
有するジケトエステルの還元のために使用する方法が公知である。この発明の明
細書により使用可能な微生物には多くの酵母及び微生物が挙げられるが、ラクト
バシラス種は挙げられていない。
【0007】
本発明の対象はそれに応じてジケトカルボン酸又はヒドロキシケトカルボン酸
又はそのエステルの還元のための方法であり、該方法は前記のような欠点をもは
や有さない。ヒドロキシ基とは本願においては保護基で保護されたヒドロキシ基
をも意味する。
又はそのエステルの還元のための方法であり、該方法は前記のような欠点をもは
や有さない。ヒドロキシ基とは本願においては保護基で保護されたヒドロキシ基
をも意味する。
【0008】
本発明はジケトカルボン酸又はヒドロキシケトカルボン酸又はそのエステルを
、ラクトバシラス種の存在下に少なくとも1つのケト基をヒドロキシ基に変換す
ることによって還元するための方法を特徴としている。特に有利な実施態様にお
いてはジオールへの還元を実施する。
、ラクトバシラス種の存在下に少なくとも1つのケト基をヒドロキシ基に変換す
ることによって還元するための方法を特徴としている。特に有利な実施態様にお
いてはジオールへの還元を実施する。
【0009】
本発明による方法は、特に式1:
【0010】
【化5】
【0011】
[式中、
A,BはC=O、CHOΣであり、その際、ΣはH又はヒドロキシ官能基のため
の保護基であり、A及びBは同一又は異なっていてよく、 R1、R2はH又はアルキル、アルケニル、アルキニル、シクロアルキル、シク
ロアルケニル、アリール、アラルキル、シクロアルキルアルキルの群からなる成
分であり、その際、これらの成分はヘテロ原子、例えばSi、N、P、O、S、
F、Cl、Br又はIによって一置換又は多置換されているか、又は完全にヘテ
ロ原子によって置換されていてよく、 R3はH、金属カチオン又はアルキル、アルケニル、アルキニル、シクロアルキ
ル、シクロアルケニル、アリール、アラルキル、シクロアルキルアルキルの群か
らなる成分であり、その際、これらの成分もヘテロ原子、例えばSi、N、P、
O、S、F、Cl、Br又はIによって一置換又は多置換されていてよく、 Yはアルキル、アルケニル、アルキニル、シクロアルキル、シクロアルケニル、
アリール、アラルキル、シクロアルキルアルキルの群からなる成分であり、その
際、これらの成分もヘテロ原子、例えばSi、N、P、O、S、F、Cl、Br
又はIによって一置換又は多置換されていてよく、その際、Xがアルキル、アリ
ール、シクロアルキル、アラルキル又はシクロアルキルアルキルであってよいX
−CH2−O−CH2−は省き、 ハロゲンとはフッ素及び塩素が特に有利であり、 nは0〜10である]のプロキラルな3,5−ジオキソカルボン酸誘導体の触媒
的還元を含む。
の保護基であり、A及びBは同一又は異なっていてよく、 R1、R2はH又はアルキル、アルケニル、アルキニル、シクロアルキル、シク
ロアルケニル、アリール、アラルキル、シクロアルキルアルキルの群からなる成
分であり、その際、これらの成分はヘテロ原子、例えばSi、N、P、O、S、
F、Cl、Br又はIによって一置換又は多置換されているか、又は完全にヘテ
ロ原子によって置換されていてよく、 R3はH、金属カチオン又はアルキル、アルケニル、アルキニル、シクロアルキ
ル、シクロアルケニル、アリール、アラルキル、シクロアルキルアルキルの群か
らなる成分であり、その際、これらの成分もヘテロ原子、例えばSi、N、P、
O、S、F、Cl、Br又はIによって一置換又は多置換されていてよく、 Yはアルキル、アルケニル、アルキニル、シクロアルキル、シクロアルケニル、
アリール、アラルキル、シクロアルキルアルキルの群からなる成分であり、その
際、これらの成分もヘテロ原子、例えばSi、N、P、O、S、F、Cl、Br
又はIによって一置換又は多置換されていてよく、その際、Xがアルキル、アリ
ール、シクロアルキル、アラルキル又はシクロアルキルアルキルであってよいX
−CH2−O−CH2−は省き、 ハロゲンとはフッ素及び塩素が特に有利であり、 nは0〜10である]のプロキラルな3,5−ジオキソカルボン酸誘導体の触媒
的還元を含む。
【0012】
アルキルとは直鎖状、また分枝鎖状の飽和炭素鎖をも意味する。例えばメチル
、エチル、n−プロピル、i−プロピル、t−ブチル、ペンチル、i−ペンチル
、n−ヘキシル、i−ヘキシルを挙げることができる。
、エチル、n−プロピル、i−プロピル、t−ブチル、ペンチル、i−ペンチル
、n−ヘキシル、i−ヘキシルを挙げることができる。
【0013】
アルケニルによって、直鎖状及び分枝鎖状の不飽和炭化水素が示され、これに
関しては、例えばビニル、1−プロペニル、アリル、ブテニル、i−ブテニルを
挙げることができる。
関しては、例えばビニル、1−プロペニル、アリル、ブテニル、i−ブテニルを
挙げることができる。
【0014】
アルキニルによって、直鎖状及び分枝鎖状の不飽和炭化水素を示し、これは少
なくとも−C≡C−結合を有し、例えばエチニル又はプロピニルである。
なくとも−C≡C−結合を有し、例えばエチニル又はプロピニルである。
【0015】
シクロアルキルという概念には、飽和の環式の炭化水素鎖が含まれ、これは3
、4、5、6又は7個の炭素原子からなる。
、4、5、6又は7個の炭素原子からなる。
【0016】
シクロアルケニルは不飽和の環式の5、6、7又は8個の炭素原子を有する炭
化水素を示す。アリールとは芳香族系、閉じた複素芳香族化合物及び置換された
芳香族系、例えばフェニル、p−メチルフェニル又はフラニルを意味する。
化水素を示す。アリールとは芳香族系、閉じた複素芳香族化合物及び置換された
芳香族系、例えばフェニル、p−メチルフェニル又はフラニルを意味する。
【0017】
アラルキルとは、アルキル基を介して結合しているアリール基、例えばベンジ
ル基を意味している。
ル基を意味している。
【0018】
シクロアルキルアルキルという概念はアルキル基を介して結合しているシクロ
アルキル基を含む。
アルキル基を含む。
【0019】
同様に式2,3及び4による化合物の反応は可能である。
【0020】
【化6】
【0021】
本願ではR1、R2、R3及びYは式1と同じ意味を有する。
【0022】
ΣはH又はヒドロキシ官能のための保護基である。
【0023】
本発明による方法によって、それに応じて特に以下に示す式5:
【0024】
【化7】
【0025】
の3,5−ジヒドロキシカルボン酸誘導体を製造できる。
【0026】
ここではR1、R2、R3及びYは式1と同じ意味を有する。
【0027】
ΣはH又はヒドロキシ官能のための保護基である。
【0028】
特に本発明による方法を使用して従来の技術に反して基質としての式3及び4
による化合物を反応させることができる。
による化合物を反応させることができる。
【0029】
立体中心C−3及びC−5の配置に応じて、本発明により製造される式5の3
,5−ジヒドロキシカルボン酸誘導体はキラル天然物質、医薬品物質及び農業型
作用物質、触媒及び阻害剤の合成での目的に使用できる。このための例はメバロ
ン酸型のHMG−CoAレダクターゼ阻害剤及びリプスタチン(Lipstatin)型
のリパーゼ阻害剤である。
,5−ジヒドロキシカルボン酸誘導体はキラル天然物質、医薬品物質及び農業型
作用物質、触媒及び阻害剤の合成での目的に使用できる。このための例はメバロ
ン酸型のHMG−CoAレダクターゼ阻害剤及びリプスタチン(Lipstatin)型
のリパーゼ阻害剤である。
【0030】
別の天然物質又は作用物質はC−3及びC−5の位置での立体中心の別の配置
を必要とする。またこれは本発明によって可能である。
を必要とする。またこれは本発明によって可能である。
【0031】
本発明による方法は3,5−ジオキソカルボン酸誘導体の還元において、ヒド
ロキシ基をC−3又はC−5又はC−3及びC−5の位置に部位選択的導入を可
能にし、その際、r−配置を有する生成物が得られる。r−配置という概念に関
しては、以下の式3を例に説明する: 式3においては5位のOΣ−基は紙面から突出しており、一方でY及び炭素基
本骨格の炭素原子は紙面に横たわっている:
ロキシ基をC−3又はC−5又はC−3及びC−5の位置に部位選択的導入を可
能にし、その際、r−配置を有する生成物が得られる。r−配置という概念に関
しては、以下の式3を例に説明する: 式3においては5位のOΣ−基は紙面から突出しており、一方でY及び炭素基
本骨格の炭素原子は紙面に横たわっている:
【0032】
【化8】
【0033】
この配置は以下にYとは無関係にr−配置と呼称する。
【0034】
更に本発明による方法は式2の3,5−ジオキソカルボン酸誘導体の還元にお
いてC−2及びC−4の位置での立体中心の意図的な固定を可能にする。特にR 1 及びR2がHとは異なり、R1が例えばメチル基を表す場合に当てはまる。エ
ナンチオマー純度もジアステレオマー純度もここでは非常に高い(>95%)。
いてC−2及びC−4の位置での立体中心の意図的な固定を可能にする。特にR 1 及びR2がHとは異なり、R1が例えばメチル基を表す場合に当てはまる。エ
ナンチオマー純度もジアステレオマー純度もここでは非常に高い(>95%)。
【0035】
本発明によれば、還元法によって種々のヒドロキシ基含有率を有する化合物を
含有する混合物を製造することができる。このための例は、式3、4及び5の化
合物からなる混合物である(R1、R2=H;Y=−CH3又は−CH2Cl及
びR3=C(CH3)3)。
含有する混合物を製造することができる。このための例は、式3、4及び5の化
合物からなる混合物である(R1、R2=H;Y=−CH3又は−CH2Cl及
びR3=C(CH3)3)。
【0036】
本発明による方法はラクトバシラス種を使用して実施する。基本的に全てのラ
クトバシラス種が該当する。しかしながら、ラクトバシラス ケフィア及びラク
トバシラス ブレビスの使用が特に有利である。
クトバシラス種が該当する。しかしながら、ラクトバシラス ケフィア及びラク
トバシラス ブレビスの使用が特に有利である。
【0037】
本発明による方法は慣用の発酵条件下に、かつ慣用のリアクター中で実施でき
る。
る。
【0038】
補助基質としては、容易に代謝可能な炭素含有基質、例えばグルコースを使用
できる。これによって反応時に消費される還元当量が追加される。
できる。これによって反応時に消費される還元当量が追加される。
【0039】
これらの反応は本発明によれば10〜50℃、有利には15〜40℃の温度で
実施する。
実施する。
【0040】
pH値は2〜10、有利には4〜8である。しかしながら適当なpH値を保証
するためにその都度発酵技術において慣用の緩衝物質を使用できる。これらは、
例えばトリエタノールアミン、リン酸バッファー、リン酸−クエン酸バッファー
、2−アミノ−2−(ヒドロキシメチル)−1,3−プロパンジオール−バッフ
ァー、2−[N−モルホリノ]エタンスルホン酸−バッファー(MES)又はT
risバッファーである。これらのバッファーのための濃度範囲は、有利には5
0〜500ミリモル/lの範囲である。
するためにその都度発酵技術において慣用の緩衝物質を使用できる。これらは、
例えばトリエタノールアミン、リン酸バッファー、リン酸−クエン酸バッファー
、2−アミノ−2−(ヒドロキシメチル)−1,3−プロパンジオール−バッフ
ァー、2−[N−モルホリノ]エタンスルホン酸−バッファー(MES)又はT
risバッファーである。これらのバッファーのための濃度範囲は、有利には5
0〜500ミリモル/lの範囲である。
【0041】
リアクターとしては同様に全ての公知のリアクター型を使用できる。このよう
に従来慣用の撹拌リアクターも固相リアクターも使用できる。
に従来慣用の撹拌リアクターも固相リアクターも使用できる。
【0042】
本発明による方法の使用において、とりわけ高価であり、環境に不利なラセミ
体又はジアステレオマーの分離を省くことができる。ジアステレオ選択的な合成
において必要なホモキラルな補助基の化学量論的量の結合及び分離が回避される
。更に出発化合物中のジヒドロキシカルボン酸エステルの炭素骨格は既に完全で
ある、すなわち立体中心は全合成順序における後半の時点に導入される。これに
よってホモキラル材料の損失は低く保持される。同時に、本発明による方法によ
って非常に高い立体選択性が達成される。全細胞の使用によって更に、反応にお
いて更に高価な補酵素及び補酵素−再生系を使用する必要性が排除される。本発
明により製造される式1〜5による化合物は、特にキラルな天然物質、医薬物質
、農業物質、触媒及び阻害剤の製造のために使用できる。このための例はメビン
サン型のHMG−CoAレダクターゼ及びリプスタチン型のリパーゼ阻害剤であ
る。
体又はジアステレオマーの分離を省くことができる。ジアステレオ選択的な合成
において必要なホモキラルな補助基の化学量論的量の結合及び分離が回避される
。更に出発化合物中のジヒドロキシカルボン酸エステルの炭素骨格は既に完全で
ある、すなわち立体中心は全合成順序における後半の時点に導入される。これに
よってホモキラル材料の損失は低く保持される。同時に、本発明による方法によ
って非常に高い立体選択性が達成される。全細胞の使用によって更に、反応にお
いて更に高価な補酵素及び補酵素−再生系を使用する必要性が排除される。本発
明により製造される式1〜5による化合物は、特にキラルな天然物質、医薬物質
、農業物質、触媒及び阻害剤の製造のために使用できる。このための例はメビン
サン型のHMG−CoAレダクターゼ及びリプスタチン型のリパーゼ阻害剤であ
る。
【0043】
以下に本発明を実施例をもとに詳細に記載する:
例1:ラクトバシラス細胞(ラクトバシラス ケフィア)の製造
還元のための細胞は、ラクトバシラス ケフィア(例えばDSM20587)
の菌株培養を以下の培地で増殖させることによって得られる: 1Lあたり:10gの典型的に消化されたカゼインペプトン;10gの肉エキ
ス;5gの酵母抽出物、20gのグルコース;1gのTween 80;2gのK2H
PO4;5gの酢酸Na;2gのクエン酸二アンモニウム;0.2gのMgSO 4 ×7H2O;0.05gのMnSO4×H2O;pH=6.2〜6.5。
の菌株培養を以下の培地で増殖させることによって得られる: 1Lあたり:10gの典型的に消化されたカゼインペプトン;10gの肉エキ
ス;5gの酵母抽出物、20gのグルコース;1gのTween 80;2gのK2H
PO4;5gの酢酸Na;2gのクエン酸二アンモニウム;0.2gのMgSO 4 ×7H2O;0.05gのMnSO4×H2O;pH=6.2〜6.5。
【0044】
24時間の増殖後に細胞を遠心分離によって回収する。これらは凍結によって
保存できる。
保存できる。
【0045】
例2:ラクトバシラス ケフィアによる6−クロロ−3,5−ジオキソヘキサ
ン酸−t−ブチルエステル(I)の全細胞変換 第二級アルコール(S)−II、(R)−III及び(3R,5S)−IV(
式の図I)の合成 以下に記載の全細胞変換を室温において、例1に記載のように得られるラクト
バシラス ケフィアの細胞を使用して実施する。ジケト化合物IをM.Wolberg,W.H
ummel,M.Mueller,Ger.Pat.Appl.19847302.2,1998に記載のように製造する。
ン酸−t−ブチルエステル(I)の全細胞変換 第二級アルコール(S)−II、(R)−III及び(3R,5S)−IV(
式の図I)の合成 以下に記載の全細胞変換を室温において、例1に記載のように得られるラクト
バシラス ケフィアの細胞を使用して実施する。ジケト化合物IをM.Wolberg,W.H
ummel,M.Mueller,Ger.Pat.Appl.19847302.2,1998に記載のように製造する。
【0046】
【化9】
【0047】
微生物による還元の実施
50mlのビーカー中で0.61gの湿式細胞質量を0.5mlのリン酸−ク
エン酸バッファー(250mM、pH5.5)中に撹拌しながら懸濁させる。こ
の細胞懸濁液のうち、0.9mlを1mlのグルコース溶液(5M、オートクレ
ーブ済)、8mlのリン酸−クエン酸バッファー(250mM、pH5.5)及
び50μlの6−クロロ−3,5−ジオキソ−ヘキサン酸−t−ブチルエステル
(I)と混合する。反応混合物を磁気撹拌機で撹拌する。
エン酸バッファー(250mM、pH5.5)中に撹拌しながら懸濁させる。こ
の細胞懸濁液のうち、0.9mlを1mlのグルコース溶液(5M、オートクレ
ーブ済)、8mlのリン酸−クエン酸バッファー(250mM、pH5.5)及
び50μlの6−クロロ−3,5−ジオキソ−ヘキサン酸−t−ブチルエステル
(I)と混合する。反応混合物を磁気撹拌機で撹拌する。
【0048】
反応制御
1時間、2時間、6.5時間及び10.5時間後に、試料を採取する。これに
加えて40μlの反応溶液を200μlの酢酸エチルエステルに添加し、振出さ
せ、かつ有機相をガスクロマトグラフィーによって分析し、その際、検出器とし
て電子衝突イオン化(70eV)による四極子型質量分光分析計を使用する(G
C−MS直結)。
加えて40μlの反応溶液を200μlの酢酸エチルエステルに添加し、振出さ
せ、かつ有機相をガスクロマトグラフィーによって分析し、その際、検出器とし
て電子衝突イオン化(70eV)による四極子型質量分光分析計を使用する(G
C−MS直結)。
【0049】
GCキャピラリーカラム:HP−5MS(5%のフェニルメチル−シロキサン
;30.0m×250μm×0.25μm 名目上) 温度プログラム:1分間60℃、次いで280℃に(15℃/分) ガスフロー:1.0ml/分のヘリウム 注入:スプリット50:1 滞留時間: I: 8.21分 (S)−II: 8.10及び8.84分(以下参照) (R)−III: 9.06分 (3R,5S)−IV: 9.26分 ジケト化合物Iはフラノンとして検出され、同様にヒドロキシケトエステルは
(R)−IIIとしても検出される(インジェクター中でのHCl−分離、式の
図IVを参照)。ヒドロキシケトエステル(S)−IIはGC−インジェクター
中での部分的な熱的ラクトン形成によって2つのシグナルを生じる。
;30.0m×250μm×0.25μm 名目上) 温度プログラム:1分間60℃、次いで280℃に(15℃/分) ガスフロー:1.0ml/分のヘリウム 注入:スプリット50:1 滞留時間: I: 8.21分 (S)−II: 8.10及び8.84分(以下参照) (R)−III: 9.06分 (3R,5S)−IV: 9.26分 ジケト化合物Iはフラノンとして検出され、同様にヒドロキシケトエステルは
(R)−IIIとしても検出される(インジェクター中でのHCl−分離、式の
図IVを参照)。ヒドロキシケトエステル(S)−IIはGC−インジェクター
中での部分的な熱的ラクトン形成によって2つのシグナルを生じる。
【0050】
クロマトグラムをもとに、微生物による還元の経過を追跡する:第1の両方の
試料において、ヒドロキシケトン(S)−II及び(R)−IIIの割合の増大
が確認され、一方で後半部の時点に採取された試料中にジヒドロキシ化合物につ
いてのシグナルは強度を増す。同時にヒドロキシケトン(S)−II及び(R)
−IIIについてのシグナルは再び失われるので、ジヒドロキシ化合物(3R,
5S)−IVが中間生成するヒドロキシケトン(S)−II及び(R)−III
の微生物による還元によって形成されると仮定される。
試料において、ヒドロキシケトン(S)−II及び(R)−IIIの割合の増大
が確認され、一方で後半部の時点に採取された試料中にジヒドロキシ化合物につ
いてのシグナルは強度を増す。同時にヒドロキシケトン(S)−II及び(R)
−IIIについてのシグナルは再び失われるので、ジヒドロキシ化合物(3R,
5S)−IVが中間生成するヒドロキシケトン(S)−II及び(R)−III
の微生物による還元によって形成されると仮定される。
【0051】
後処理:
12.5時間後に、反応を細胞の遠心分離によって中断する。細胞ペレット及
び遠心分離上清を分離して、互いに酢酸エチルエステルで2回ずつ抽出する。精
製された有機相を硫酸ナトリウムで乾燥させ、かつ回転蒸発器上で濃縮した後に
44mgの粗生成物が得られる。
び遠心分離上清を分離して、互いに酢酸エチルエステルで2回ずつ抽出する。精
製された有機相を硫酸ナトリウムで乾燥させ、かつ回転蒸発器上で濃縮した後に
44mgの粗生成物が得られる。
【0052】
生成物分析
a)粗生成物中の反応生成物の割合の測定
非破壊のガスクロマトグラフィー分析(GC−MS、上記参照の方法)のため
に、1.5mlのGC−ガラスバイアル中に1.5mgの微生物的な還元の粗生
成物を0.5mlのジクロロメタン中に取り、10μlのトリフルオロ酢酸無水
物(TFAA)及び10μlのピリジンを混合する。引き続きガラスバイアルを
隔壁で閉じ、40℃で30分間保持する(水浴)。
に、1.5mlのGC−ガラスバイアル中に1.5mgの微生物的な還元の粗生
成物を0.5mlのジクロロメタン中に取り、10μlのトリフルオロ酢酸無水
物(TFAA)及び10μlのピリジンを混合する。引き続きガラスバイアルを
隔壁で閉じ、40℃で30分間保持する(水浴)。
【0053】
後続のGC−MS分析によって4つのメインシグナルが得られ、これらを属す
る質量スペクトルをもとに誘導体生成物(3R,5S)−V、(S)−IV、(
S)−VII及びVIIIに割り当てることができる(式の図II)。
る質量スペクトルをもとに誘導体生成物(3R,5S)−V、(S)−IV、(
S)−VII及びVIIIに割り当てることができる(式の図II)。
【0054】
【化10】
【0055】
誘導体(3R,5S)−Vは微生物の還元生成物(3R,5S)−IVから形
成され、一方でヒドロキシケトン(S)−IIが反応して、2つの立体異性体の
ビスアシル化生成物(S)−VI及び(S)−VIIになる。環式の誘導体VI
IIはフラノンIXから形成され、その微生物による反応の間のジケト化合物I
からの形成は公知である(分子内アルキル化による副生成物、M. Wolberg, W. H
ummel, M. Mueller, Ger. Pat. Appl. 19857302.2, 1998を参照)。ヒドロキシ
ケトエステル(R)−IIIの誘導体は粗生成物中に見いだすことができる。こ
の中間生成する化合物はここで選択される反応の操作(12.5時間後の反応の
中断)において完全にジヒドロキシ化合物(3R,5S)−IVに変換される。
成され、一方でヒドロキシケトン(S)−IIが反応して、2つの立体異性体の
ビスアシル化生成物(S)−VI及び(S)−VIIになる。環式の誘導体VI
IIはフラノンIXから形成され、その微生物による反応の間のジケト化合物I
からの形成は公知である(分子内アルキル化による副生成物、M. Wolberg, W. H
ummel, M. Mueller, Ger. Pat. Appl. 19857302.2, 1998を参照)。ヒドロキシ
ケトエステル(R)−IIIの誘導体は粗生成物中に見いだすことができる。こ
の中間生成する化合物はここで選択される反応の操作(12.5時間後の反応の
中断)において完全にジヒドロキシ化合物(3R,5S)−IVに変換される。
【0056】
ガスクロマトグラムにおける4つのメインシグナルの積分によって以下の相対
強度((S)−IV及び(S)−VIIをまとめる、括弧中に滞留時間): (3R,5S)−V: 34%(8.14分) (S)−VI/(S)−VII: 61%(8.30/7.84分) VIII: 5%(6.85分) ここで記載される微生物的な還元の反応の操作においては、従って主にヒドロ
キシケトン(S)−IIからなる粗生成物が得られる。この結果はNMR分光分
析法で測定する(以下参照)。
強度((S)−IV及び(S)−VIIをまとめる、括弧中に滞留時間): (3R,5S)−V: 34%(8.14分) (S)−VI/(S)−VII: 61%(8.30/7.84分) VIII: 5%(6.85分) ここで記載される微生物的な還元の反応の操作においては、従って主にヒドロ
キシケトン(S)−IIからなる粗生成物が得られる。この結果はNMR分光分
析法で測定する(以下参照)。
【0057】
反応の操作の変更によって粗生成物の組成に明らかに影響を及ぼすことができ
る。
る。
【0058】
前記の誘導体化及びGC−MS分析は、無関係の合成によって得られたラセミ
体のヒドロキシケトエステルrac−II及びジヒドロキシ化合物のジアステレ
オマー混合物syn−/anti−IV(式の図III)を使用して調査した。
体のヒドロキシケトエステルrac−II及びジヒドロキシ化合物のジアステレ
オマー混合物syn−/anti−IV(式の図III)を使用して調査した。
【0059】
【化11】
【0060】
これらのラセミ体試料の滞留時間及び質量スペクトルは微生物による還元の生
成物の滞留時間及び質量スペクトルと一致する。それぞれのTFA誘導体に関し
ても同様のことが言える(式の図II)。
成物の滞留時間及び質量スペクトルと一致する。それぞれのTFA誘導体に関し
ても同様のことが言える(式の図II)。
【0061】
フラノンIXを同様に無関係の合成において製造した(式の図IV)。
【0062】
【化12】
【0063】
またここでは滞留時間及び質量スペクトルは微生物による還元の粗生成物のス
ペクトルにおける類似のシグナルと一致する。
ペクトルにおける類似のシグナルと一致する。
【0064】
b)ジアステレオマー比の測定
ジアステレオマーsyn−IV及びanti−IVは使用されるガスクロマト
グラフィーによる方法では分離されない。ベースライン分離はTFAA/ピリジ
ンにでの誘導体化によって達成できる(式の図V)。
グラフィーによる方法では分離されない。ベースライン分離はTFAA/ピリジ
ンにでの誘導体化によって達成できる(式の図V)。
【0065】
【化13】
【0066】
極性の異性体anti−Vはsyn−異性体に対してより長い滞留時間を有す
る。両方のシグナルは同一の質量スペクトルを有する。
る。両方のシグナルは同一の質量スペクトルを有する。
【0067】
微生物的な還元の粗生成物に使用して該方法によりジアステレオマーsyn−
V及びanti−Vに関して135:1の比がもたらされる。従って微生物的な
還元によって非常に高い過剰においてsyn異性体がもたらされる。この結果は
NMR分光分析によって示される(以下参照)。ほぼ比選択的なNaBH4還元
の生成物のTFA誘導体に関してGCシグナルの積分によって1.4:1.0n
比が得られる。
V及びanti−Vに関して135:1の比がもたらされる。従って微生物的な
還元によって非常に高い過剰においてsyn異性体がもたらされる。この結果は
NMR分光分析によって示される(以下参照)。ほぼ比選択的なNaBH4還元
の生成物のTFA誘導体に関してGCシグナルの積分によって1.4:1.0n
比が得られる。
【0068】
c)NMR−分光分析法
微生物による還元の粗生成物のNMRスペクトルはGC−MS分析の結果を確
認する。1H−NMRスペクトルは化合物(S)−II、(3R,5S)−IV
及びIXの個々のスペクトルの重なりを示し、その際、ヒドロキシケトン(S)
−IIのシグナルが明らかに優勢であり、一方でフラノンIXのシグナルは弱く
見られるにすぎない。
認する。1H−NMRスペクトルは化合物(S)−II、(3R,5S)−IV
及びIXの個々のスペクトルの重なりを示し、その際、ヒドロキシケトン(S)
−IIのシグナルが明らかに優勢であり、一方でフラノンIXのシグナルは弱く
見られるにすぎない。
【0069】
ヒドロキシケトエステル(S)−II:1
H−NMR(300MHz,CDCl3,22℃、ケト形のシグナルのみが示
される)δ:4.31(m,1H,CHOH),3.6(m,化合物(3R,5
S)−IVの多重線との重なりによって認識不可能な微細構造;2×H6),3
.41(s,2H,H2),2.90(dd,J=17.5,5.0Hz,1H
,H4),2.83(dd,J=17.5,7.3Hz,1H,H4),1.4
6(s,3×CH 3,化合物(3R,5S)−IV及びIXの類似のシグナルと
の重なり)。ケト:エノール=約95:5.13C−NMR(75.5MHz,
CDCl3,ケト形のシグナルのみが示される)δ:28.13(OC(CH3 )3),46.57,48.43,(C4,C6),51.31(C2),67
.58(C5),82.73(OC(CH3)3),166.22(COOtB
u),202.93(C3)。
される)δ:4.31(m,1H,CHOH),3.6(m,化合物(3R,5
S)−IVの多重線との重なりによって認識不可能な微細構造;2×H6),3
.41(s,2H,H2),2.90(dd,J=17.5,5.0Hz,1H
,H4),2.83(dd,J=17.5,7.3Hz,1H,H4),1.4
6(s,3×CH 3,化合物(3R,5S)−IV及びIXの類似のシグナルと
の重なり)。ケト:エノール=約95:5.13C−NMR(75.5MHz,
CDCl3,ケト形のシグナルのみが示される)δ:28.13(OC(CH3 )3),46.57,48.43,(C4,C6),51.31(C2),67
.58(C5),82.73(OC(CH3)3),166.22(COOtB
u),202.93(C3)。
【0070】
ジヒドロキシ化合物(3R,5S)−IV:1
H−NMR(300MHz,CDCl3,22℃)δ:4.22(m,1H,
H5),4.05(m,1H,H3),3.6(m,化合物(S)−IIの多重
線との重なりによって認識不可能な微細構造;2×H6),2.43(d,J=
6.3Hz,2H,H2),1.70(m,2H,H4),1.46(s,3×
CH 3,化合物(S)−II及びIXの類似のシグナルとの重なり).13C−
NMR(75.5MHz,CDCl3)δ:28.27(OC(CH3)3),
39.45,42.47(C2,C4),49.17(C6),68.35(C
3),71.57(C5),81.90(OC(CH3)3),172.21( C OOtBu)。
H5),4.05(m,1H,H3),3.6(m,化合物(S)−IIの多重
線との重なりによって認識不可能な微細構造;2×H6),2.43(d,J=
6.3Hz,2H,H2),1.70(m,2H,H4),1.46(s,3×
CH 3,化合物(S)−II及びIXの類似のシグナルとの重なり).13C−
NMR(75.5MHz,CDCl3)δ:28.27(OC(CH3)3),
39.45,42.47(C2,C4),49.17(C6),68.35(C
3),71.57(C5),81.90(OC(CH3)3),172.21( C OOtBu)。
【0071】
フラノンIX:1
H−NMR(300MHz,CDCl3,22℃)δ5.69(s,1H,H
3),4.54(s,2H,H5),3.48(s.2H,H6),1.47(
s,3×CH 3,化合物(S)−II及び(3R,5S)−IVの類似のシグナ
ルとの重なり)。
3),4.54(s,2H,H5),3.48(s.2H,H6),1.47(
s,3×CH 3,化合物(S)−II及び(3R,5S)−IVの類似のシグナ
ルとの重なり)。
【0072】
挙げられたシフトはCDCl3のCHCl3に関連し(1H−NMR:δ=7
.27;13C−NMR:δ=77.23)、無関係の経路で合成された比較化
合物rac−II、syn/anti−IV及びIX(式の図III)のデータ
と一致する。
.27;13C−NMR:δ=77.23)、無関係の経路で合成された比較化
合物rac−II、syn/anti−IV及びIX(式の図III)のデータ
と一致する。
【0073】
立体異性体化合物syn−IVのそれとは異なるジヒドロキシ化合物のシグナ
ルは微生物による還元の粗生成物の13C−NMRスペクトルで観察され得ない
。これは非常に高い割合のsyn−異性体の更なる裏付けである(前記参照)。
ルは微生物による還元の粗生成物の13C−NMRスペクトルで観察され得ない
。これは非常に高い割合のsyn−異性体の更なる裏付けである(前記参照)。
【0074】
ジヒドロキシ化合物anti−IV(無関係の合成から、式の図IIIを参照
):13 C−NMR(75.5MHz,CDCl3)δ:28.27(OC(CH3 )3),39.33,42.22(C2,C4),49.60(C6),65.
46(C3),68.94(C5),81.87(OC(CH3)3),172
.54(COOtBu)。
):13 C−NMR(75.5MHz,CDCl3)δ:28.27(OC(CH3 )3),39.33,42.22(C2,C4),49.60(C6),65.
46(C3),68.94(C5),81.87(OC(CH3)3),172
.54(COOtBu)。
【0075】
異性体混合物syn−/anti−IVの13C−NMR−スペクトルにおけ
るシグナル組のジアステレオマーへの割り当ては、炭素原子C−3及びC−5(
式の図VI)の特徴的な化学シフトをもとに行う。
るシグナル組のジアステレオマーへの割り当ては、炭素原子C−3及びC−5(
式の図VI)の特徴的な化学シフトをもとに行う。
【0076】
【化14】
【0077】
問題となる化合物クラス(1,3−ジオール)の場合は、ヒドロキシルを有す
るsyn異性体の炭素原子のシグナルはanti異性体の類似のシグナルと比較
して大抵、深いフィールドシフトを有する。そのための比較: a)F. G. Kathawala et al., Helv. Chim. Acta 1986, 69, 803-805 b)K.-M. Chen et al., Tetrahedron Lett. 1987, 28, 155-158 c)C. Bonini et al., Gazz. Chem. Ital. 1991, 121, 75-80 粗生成物の13C−NMRはここに記載の微生物による還元においてsyn異
性体が形成されることに応じて証明する。
るsyn異性体の炭素原子のシグナルはanti異性体の類似のシグナルと比較
して大抵、深いフィールドシフトを有する。そのための比較: a)F. G. Kathawala et al., Helv. Chim. Acta 1986, 69, 803-805 b)K.-M. Chen et al., Tetrahedron Lett. 1987, 28, 155-158 c)C. Bonini et al., Gazz. Chem. Ital. 1991, 121, 75-80 粗生成物の13C−NMRはここに記載の微生物による還元においてsyn異
性体が形成されることに応じて証明する。
【0078】
d)絶対配置及びエナンチオマー純度の測定
立体中心C−3の配置は立体配置C−5と比較して既に13C−NMR分光分
析によって明確なので、更なる分析は立体中心C−5の配置の調査に限定する。
このために、微生物による還元の粗生成物を環式の誘導体(S)−Xに変える(
式の図VII)。
析によって明確なので、更なる分析は立体中心C−5の配置の調査に限定する。
このために、微生物による還元の粗生成物を環式の誘導体(S)−Xに変える(
式の図VII)。
【0079】
【化15】
【0080】
同じ方法でヒドロキシケトエステルrac−IIから得られるラセミの誘導体
rac−X(式の図VIII)はキラルの固定相でHPLCによって分離できる
。
rac−X(式の図VIII)はキラルの固定相でHPLCによって分離できる
。
【0081】
HPLC条件:Chiracel OB(DAISO);25℃;1ml/分 i−ヘキサン/
i−プロパノール(80:20);210nmで検出 滞留時間: (S)−X:24.7分 (R)−X:21.5分 分離されたエナンチオマーの絶対配置の割り当ては、ラセミの誘導体rac−
Xと同様にヒドロキシケトン(S)−II(>99%ee)から製造されるラク
トン(S)−Xの信頼できる試料の滞留時間との比較によって行う(式の図VI
II)。エナンチオマー純粋なヒドロキシケトン(S)−IIは公知の指示によ
って得られる(M. Wolberg, W. Hummel, M. Mueller, Ger. Pat. Appl. 1985730
2.2, 1998)。
i−プロパノール(80:20);210nmで検出 滞留時間: (S)−X:24.7分 (R)−X:21.5分 分離されたエナンチオマーの絶対配置の割り当ては、ラセミの誘導体rac−
Xと同様にヒドロキシケトン(S)−II(>99%ee)から製造されるラク
トン(S)−Xの信頼できる試料の滞留時間との比較によって行う(式の図VI
II)。エナンチオマー純粋なヒドロキシケトン(S)−IIは公知の指示によ
って得られる(M. Wolberg, W. Hummel, M. Mueller, Ger. Pat. Appl. 1985730
2.2, 1998)。
【0082】
【化16】
【0083】
微生物による還元の粗生成物から製造した誘導体(S)−Xのシグナルの積分
はエナンチオマー過剰99.4%を算出する。
はエナンチオマー過剰99.4%を算出する。
─────────────────────────────────────────────────────
フロントページの続き
(51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考)
(C12P 7/50
C12R 1:225)
(C12P 7/62
C12R 1:225)
(81)指定国 EP(AT,BE,CH,CY,
DE,DK,ES,FI,FR,GB,GR,IE,I
T,LU,MC,NL,PT,SE),JP,US
(72)発明者 ヴェルナー フンメル
ドイツ連邦共和国 ティッツ クラウディ
ウスシュトラーセ 11
(72)発明者 クリスティアン ヴァンドレー
ドイツ連邦共和国 ユーリッヒ ヴォルフ
スホーフェナー シュトラーセ 139
Fターム(参考) 4B064 AD30 CA02 CB18 CC07 DA01
DA11 DA16
Claims (12)
- 【請求項1】 ジケトカルボン酸又はヒドロキシケトカルボン酸又はそのエ
ステルを、ラクトバシラス種の存在下に少なくとも1つのケト基をヒドロキシ基
に変換することによって還元するための方法。 - 【請求項2】 ジオールに還元する、請求項1記載の方法。
- 【請求項3】 ジオール及びモノアルコールからなる混合物に還元する、請
求項1又は2記載の方法。 - 【請求項4】 式1: 【化1】 [式中、 A,BはC=O、CHOΣであり、その際、ΣはH又はヒドロキシ官能基のため
の保護基であり、A及びBは同一又は異なっていてよく、 R1、R2はH又はアルキル、アルケニル、アルキニル、シクロアルキル、シク
ロアルケニル、アリール、アラルキル、シクロアルキルアルキルの群からなる成
分であり、その際、これらの成分はヘテロ原子、例えばSi、N、P、O、S、
F、Cl、Br又はIによって一置換又は多置換されているか、又は完全にヘテ
ロ原子によって置換されていてよく、 R3はH、金属カチオン又はアルキル、アルケニル、アルキニル、シクロアルキ
ル、シクロアルケニル、アリール、アラルキル、シクロアルキルアルキルの群か
らなる成分であり、その際、これらの成分もヘテロ原子、例えばSi、N、P、
O、S、F、Cl、Br又はIによって一置換又は多置換されていてよく、 Yはアルキル、アルケニル、アルキニル、シクロアルキル、シクロアルケニル、
アリール、アラルキル、シクロアルキルアルキルの群からなる成分であり、その
際、これらの成分もヘテロ原子、例えばSi、N、P、O、S、F、Cl、Br
又はIによって一置換又は多置換されていてよく、その際、Xがアルキル、アリ
ール、シクロアルキル、アラルキル又はシクロアルキルアルキルであってよいX
−CH2−O−CH2−は省き、 nは0〜10である]の化合物を反応させる、請求項1から3までのいずれか1
項記載の方法。 - 【請求項5】 式2: 【化2】 [式中、 R1、R2、R3及びYは式1と同じ意味を有する]の化合物を使用する、請求
項1から3までのいずれか1項記載の方法。 - 【請求項6】 式3: 【化3】 [式中、 R1、R2、R3及びYは式1と同じ意味を有し、ΣはH又はヒドロキシ官能の
ための保護基である]の化合物又はそのエナンチオマーを使用する、請求項1か
ら3までのいずれか1項記載の方法。 - 【請求項7】 式4: 【化4】 [式中、 R1、R2、R3及びYは式1を同じ意味を有し、ΣはH又はヒドロキシ官能の
ための保護基である]の化合物又はそのエナンチオマーを使用する、請求項1か
ら3までのいずれか1項記載の方法。 - 【請求項8】 ラクトバシラス ケフィア又はラクトバシラス ブレビス又は
これらの微生物の混合培養を使用する、請求項1から7までのいずれか1項記載
の方法。 - 【請求項9】 該方法を2〜10のpH値で実施する、請求項1から8まで
のいずれか1項記載の方法。 - 【請求項10】 該方法を4〜8のpH値で実施する、請求項1から8まで
のいずれか1項記載の方法。 - 【請求項11】 請求項1から10までのいずれか1項記載の方法によって
製造される少なくとも1つのヒドロキシ基を有する化合物。 - 【請求項12】 キラルの天然物質、医薬物質及び農業作用物質、触媒又は
阻害物質の製造のための、請求項11記載の化合物の使用。
Applications Claiming Priority (5)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DE19932038.1 | 1999-07-09 | ||
| DE19932038 | 1999-07-09 | ||
| DE19937825A DE19937825B4 (de) | 1999-07-09 | 1999-08-11 | Verfahren zur Reduktion von Hydroxyketo-Carbonsäuren und deren Estern |
| DE19937825.8 | 1999-08-11 | ||
| PCT/EP2000/006287 WO2001004336A1 (de) | 1999-07-09 | 2000-07-05 | Verfahren zur reduktion von keto-carbonsäuren und deren estern |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
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Family
ID=26054116
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| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2001509540A Pending JP2003504070A (ja) | 1999-07-09 | 2000-07-05 | ケトカルボン酸及びそのエステルの還元のための方法 |
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| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US6689591B2 (ja) |
| EP (1) | EP1194582A1 (ja) |
| JP (1) | JP2003504070A (ja) |
| WO (1) | WO2001004336A1 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2007533628A (ja) * | 2003-10-01 | 2007-11-22 | ビーエーエスエフ アクチェンゲゼルシャフト | 3−メチルアミノ−1−(チエン−2−イル)プロパン−1−オールの製造方法 |
Families Citing this family (20)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
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