JP2003217840A - 有機ｅｌ装置の製造方法および製造装置、並びに有機ｅｌ装置、電子機器および液滴吐出装置 - Google Patents
有機ｅｌ装置の製造方法および製造装置、並びに有機ｅｌ装置、電子機器および液滴吐出装置Info
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- H10K59/00—Integrated devices, or assemblies of multiple devices, comprising at least one organic light-emitting element covered by group H10K50/00
- H10K59/30—Devices specially adapted for multicolour light emission
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-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
- H10K71/00—Manufacture or treatment specially adapted for the organic devices covered by this subclass
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 発光機能材料を吐出して有機ＥＬ機能層を形
成する過程において、その変質を有効に防止することが
できる有機ＥＬ装置の製造方法および製造装置、並びに
有機ＥＬ装置、電子機器および液滴吐出装置を提供する
ことをその課題とする。 【解決手段】 発光機能材料を導入した機能液滴吐出ヘ
ッド７を基板Ｗに対し相対的に走査し、発光機能材料を
選択的に吐出して基板Ｗ上の多数の画素領域に有機ＥＬ
機能層をそれぞれ形成する有機ＥＬ素子の製造方法であ
って、発光機能材料を吐出する吐出工程を不活性ガスの
雰囲気中で行うものである。
成する過程において、その変質を有効に防止することが
できる有機ＥＬ装置の製造方法および製造装置、並びに
有機ＥＬ装置、電子機器および液滴吐出装置を提供する
ことをその課題とする。 【解決手段】 発光機能材料を導入した機能液滴吐出ヘ
ッド７を基板Ｗに対し相対的に走査し、発光機能材料を
選択的に吐出して基板Ｗ上の多数の画素領域に有機ＥＬ
機能層をそれぞれ形成する有機ＥＬ素子の製造方法であ
って、発光機能材料を吐出する吐出工程を不活性ガスの
雰囲気中で行うものである。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、インクジェットヘ
ッドに代表される機能液滴吐出ヘッドを用いた有機ＥＬ
装置の製造方法および製造装置、並びに有機ＥＬ装置、
電子機器および液滴吐出装置に関するものである。
ッドに代表される機能液滴吐出ヘッドを用いた有機ＥＬ
装置の製造方法および製造装置、並びに有機ＥＬ装置、
電子機器および液滴吐出装置に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】従来の、この種の機能液滴吐出ヘッドを
用いた有機ＥＬ装置の製造方法および製造装置は、実用
段階には至っていないが、理論的には知られている。こ
の場合、機能液滴吐出ヘッドに機能液として液体の発光
材料を導入し、これを多数の画素領域に吐出し、その後
発光材料中の溶剤を気化（乾燥）させて、有機ＥＬの発
光層を形成するようにしている。
用いた有機ＥＬ装置の製造方法および製造装置は、実用
段階には至っていないが、理論的には知られている。こ
の場合、機能液滴吐出ヘッドに機能液として液体の発光
材料を導入し、これを多数の画素領域に吐出し、その後
発光材料中の溶剤を気化（乾燥）させて、有機ＥＬの発
光層を形成するようにしている。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】このような、機能液滴
吐出ヘッドを用いた従来の有機ＥＬ装置の製造装置で
は、発光材料として空気中の酸素等と反応し易いものを
用いると、通常の環境下では、機能液滴吐出ヘッドから
吐出され飛行する発光材料が空気に広い面積で接触し、
変質が促進され易くなる問題が生ずる。また、着弾した
発光材料が酸素等と反応し、乾燥してゆく過程でクラッ
ク等が発生し易くなる問題がある。
吐出ヘッドを用いた従来の有機ＥＬ装置の製造装置で
は、発光材料として空気中の酸素等と反応し易いものを
用いると、通常の環境下では、機能液滴吐出ヘッドから
吐出され飛行する発光材料が空気に広い面積で接触し、
変質が促進され易くなる問題が生ずる。また、着弾した
発光材料が酸素等と反応し、乾燥してゆく過程でクラッ
ク等が発生し易くなる問題がある。
【０００４】本発明は、発光機能材料を吐出して有機Ｅ
Ｌ機能層を形成する過程において、その変質や損傷を有
効に防止することができる有機ＥＬ装置の製造方法およ
び製造装置、並びに有機ＥＬ装置、電子機器および液滴
吐出装置を提供することを課題としている。
Ｌ機能層を形成する過程において、その変質や損傷を有
効に防止することができる有機ＥＬ装置の製造方法およ
び製造装置、並びに有機ＥＬ装置、電子機器および液滴
吐出装置を提供することを課題としている。
【０００５】
【課題を解決するための手段】本発明の有機ＥＬ装置の
製造方法は、発光機能材料を導入した機能液滴吐出ヘッ
ドを基板に対し相対的に走査し、発光機能材料を選択的
に吐出して基板上の多数の画素領域に有機ＥＬ機能層を
それぞれ形成する有機ＥＬ装置の製造方法であって、発
光機能材料を吐出する吐出工程を不活性ガスの雰囲気中
で行うことを特徴とする。なお、不活性ガスとしては、
窒素、二酸化炭素、ヘリウム、ネオン、アルゴン、クリ
プトン、キセノンおよびラドンのいずれかであること
が、好ましい。
製造方法は、発光機能材料を導入した機能液滴吐出ヘッ
ドを基板に対し相対的に走査し、発光機能材料を選択的
に吐出して基板上の多数の画素領域に有機ＥＬ機能層を
それぞれ形成する有機ＥＬ装置の製造方法であって、発
光機能材料を吐出する吐出工程を不活性ガスの雰囲気中
で行うことを特徴とする。なお、不活性ガスとしては、
窒素、二酸化炭素、ヘリウム、ネオン、アルゴン、クリ
プトン、キセノンおよびラドンのいずれかであること
が、好ましい。
【０００６】この構成によれば、機能液滴吐出ヘッド
が、基板に対し発光機能材料を吐出する吐出工程を、不
活性ガスの雰囲気中で行うようにしているため、発光機
能材料の吐出から有機ＥＬ機能層を形成する過程におい
て、発光機能材料と大気（空気）との接触が絶たれ、発
光機能材料の変質や損傷が防止される。
が、基板に対し発光機能材料を吐出する吐出工程を、不
活性ガスの雰囲気中で行うようにしているため、発光機
能材料の吐出から有機ＥＬ機能層を形成する過程におい
て、発光機能材料と大気（空気）との接触が絶たれ、発
光機能材料の変質や損傷が防止される。
【０００７】この場合、有機ＥＬ機能層が、ＥＬ発光層
および正孔注入層のうち少なくともＥＬ発光層であるこ
とが、好ましい。
および正孔注入層のうち少なくともＥＬ発光層であるこ
とが、好ましい。
【０００８】この構成によれば、有機ＥＬ装置における
発光機能の主体を為す部分を、機能液滴吐出ヘッドで形
成することができるため、より微小な画素を且つ精度良
く形成することができ、高解像で且つ高画質の有機ＥＬ
装置を製造することができる。
発光機能の主体を為す部分を、機能液滴吐出ヘッドで形
成することができるため、より微小な画素を且つ精度良
く形成することができ、高解像で且つ高画質の有機ＥＬ
装置を製造することができる。
【０００９】これら場合、雰囲気中において、不活性ガ
スの気流が吐出工程を為す吐出エリアと交差すること
が、好ましい。
スの気流が吐出工程を為す吐出エリアと交差すること
が、好ましい。
【００１０】この構成によれば、雰囲気中における不活
性ガスの気流が、発光機能材料を吐出しながら機能液滴
吐出ヘッドが走査される吐出エリアと交差するため、発
光機能材料と大気（空気）との接触が確実に絶たれ、発
光機能材料の変質等を確実に防止することができる。
性ガスの気流が、発光機能材料を吐出しながら機能液滴
吐出ヘッドが走査される吐出エリアと交差するため、発
光機能材料と大気（空気）との接触が確実に絶たれ、発
光機能材料の変質等を確実に防止することができる。
【００１１】これらの場合、不活性ガスの補給と排気と
を常時行うことにより、雰囲気が維持されることが、好
ましい。
を常時行うことにより、雰囲気が維持されることが、好
ましい。
【００１２】この構成によれば、不活性ガスの雰囲気を
安定に維持することができると共に、気化した発光機能
材料の溶剤を、装置外に適宜排気することができる。な
お、排気した溶剤は、処理装置で回収することが好まし
い。
安定に維持することができると共に、気化した発光機能
材料の溶剤を、装置外に適宜排気することができる。な
お、排気した溶剤は、処理装置で回収することが好まし
い。
【００１３】これらの場合、導入される不活性ガスを介
して、雰囲気が所定の温度に維持されていることが、好
ましい。そして、この所定の温度が、２０℃±０．５℃
であることが好ましい。
して、雰囲気が所定の温度に維持されていることが、好
ましい。そして、この所定の温度が、２０℃±０．５℃
であることが好ましい。
【００１４】この構成によれば、発光機能材料の吐出か
ら有機ＥＬ機能層を形成する過程において、雰囲気が一
定の温度に維持されるため、質的に常に安定な有機ＥＬ
機能層を得ることができ、有機ＥＬ装置の歩留まりを向
上させることができる。
ら有機ＥＬ機能層を形成する過程において、雰囲気が一
定の温度に維持されるため、質的に常に安定な有機ＥＬ
機能層を得ることができ、有機ＥＬ装置の歩留まりを向
上させることができる。
【００１５】これらの場合、雰囲気が、所定の酸素濃度
以下に維持されていることが、好ましい。そして、この
所定の酸素濃度が、１０ｐｐｍであることが好ましい。
以下に維持されていることが、好ましい。そして、この
所定の酸素濃度が、１０ｐｐｍであることが好ましい。
【００１６】この構成によれば、発光機能材料の吐出か
ら有機ＥＬ機能層を形成する過程における酸素の影響
を、ほぼ廃除することができる。これにより、有機ＥＬ
装置の歩留まりを向上させることができる。
ら有機ＥＬ機能層を形成する過程における酸素の影響
を、ほぼ廃除することができる。これにより、有機ＥＬ
装置の歩留まりを向上させることができる。
【００１７】これらの場合、雰囲気が、所定の水分濃度
以下に維持されていることが、好ましい。そして、この
所定の水分濃度が、１０ｐｐｍであることが好ましい。
以下に維持されていることが、好ましい。そして、この
所定の水分濃度が、１０ｐｐｍであることが好ましい。
【００１８】この構成によれば、発光機能材料の吐出か
ら有機ＥＬ機能層を形成する過程における水分の影響、
すなわち水分に含まれる酸素や水素の影響を、ほぼ廃除
することができる。これにより、有機ＥＬ装置の歩留ま
りを向上させることができる。
ら有機ＥＬ機能層を形成する過程における水分の影響、
すなわち水分に含まれる酸素や水素の影響を、ほぼ廃除
することができる。これにより、有機ＥＬ装置の歩留ま
りを向上させることができる。
【００１９】これらの場合、画素領域に着弾した発光機
能材料の溶剤を気化させる乾燥工程を、更に備え、乾燥
工程を、不活性ガスの雰囲気中で行うことが、好まし
い。
能材料の溶剤を気化させる乾燥工程を、更に備え、乾燥
工程を、不活性ガスの雰囲気中で行うことが、好まし
い。
【００２０】この構成によれば、着弾した発光機能材料
の溶剤を気化させる乾燥工程をも、不活性ガスの雰囲気
中で行うようにしているため、乾燥工程における発光機
能材料の酸化等による変質や損傷を、有効に防止するこ
とができる。
の溶剤を気化させる乾燥工程をも、不活性ガスの雰囲気
中で行うようにしているため、乾燥工程における発光機
能材料の酸化等による変質や損傷を、有効に防止するこ
とができる。
【００２１】これらの場合、吐出工程を為す吐出エリア
と乾燥工程を為す乾燥エリアとの間で基板を搬送する搬
送工程を、更に備え、搬送工程を、不活性ガスの雰囲気
中で行うことが、好ましい。
と乾燥工程を為す乾燥エリアとの間で基板を搬送する搬
送工程を、更に備え、搬送工程を、不活性ガスの雰囲気
中で行うことが、好ましい。
【００２２】この構成によれば、搬送工程をも不活性ガ
スの雰囲気中で行うようにしているため、搬送中におけ
る発光機能材料の酸化等による変質等を、有効に防止す
ることができる。
スの雰囲気中で行うようにしているため、搬送中におけ
る発光機能材料の酸化等による変質等を、有効に防止す
ることができる。
【００２３】本発明の有機ＥＬ装置は、上記した本発明
の有機ＥＬ装置の製造方法により製造されたことを特徴
とする。
の有機ＥＬ装置の製造方法により製造されたことを特徴
とする。
【００２４】本発明の電子機器は、上記した本発明の有
機ＥＬ装置を備えたことを特徴とする。
機ＥＬ装置を備えたことを特徴とする。
【００２５】これらの構成によれば、多数の画素領域に
高品質の有機ＥＬ機能層を安定に作り込こんだ有機ＥＬ
装置自体を、簡単に製造することができ、低コストで信
頼性のある有機ＥＬ装置およびこれを備えた電子機器を
提供することができる。なお、有機ＥＬ装置はいわゆる
フラットディスプレイであり、この場合の電子機器は、
携帯電話、パーソナルコンピュータ等のフラットディス
プレイを備える各種機器である。
高品質の有機ＥＬ機能層を安定に作り込こんだ有機ＥＬ
装置自体を、簡単に製造することができ、低コストで信
頼性のある有機ＥＬ装置およびこれを備えた電子機器を
提供することができる。なお、有機ＥＬ装置はいわゆる
フラットディスプレイであり、この場合の電子機器は、
携帯電話、パーソナルコンピュータ等のフラットディス
プレイを備える各種機器である。
【００２６】本発明の有機ＥＬ装置の製造装置は、発光
機能材料を導入した機能液滴吐出ヘッドを基板に対し相
対的に走査し、発光機能材料を選択的に吐出して基板上
の多数の画素領域に有機ＥＬ機能層を形成する液滴吐出
手段と、液滴吐出手段を不活性ガスの雰囲気中に収容す
るチャンバ手段とを備えたことを特徴とする。なお、不
活性ガスとしては、窒素、二酸化炭素、ヘリウム、ネオ
ン、アルゴン、クリプトン、キセノンおよびラドンのい
ずれかであることが、好ましい。
機能材料を導入した機能液滴吐出ヘッドを基板に対し相
対的に走査し、発光機能材料を選択的に吐出して基板上
の多数の画素領域に有機ＥＬ機能層を形成する液滴吐出
手段と、液滴吐出手段を不活性ガスの雰囲気中に収容す
るチャンバ手段とを備えたことを特徴とする。なお、不
活性ガスとしては、窒素、二酸化炭素、ヘリウム、ネオ
ン、アルゴン、クリプトン、キセノンおよびラドンのい
ずれかであることが、好ましい。
【００２７】この構成によれば、液滴吐出手段が、不活
性ガスの雰囲気を構成するチャンバ手段に収容されてい
るため、液滴吐出手段による発光機能材料の吐出は、不
活性ガスの雰囲気中で行われる。このため、発光機能材
料の吐出から有機ＥＬ機能層を形成する過程において、
発光機能材料と大気（空気）との接触が絶たれ、発光機
能材料の変質や損傷を防止することができる。
性ガスの雰囲気を構成するチャンバ手段に収容されてい
るため、液滴吐出手段による発光機能材料の吐出は、不
活性ガスの雰囲気中で行われる。このため、発光機能材
料の吐出から有機ＥＬ機能層を形成する過程において、
発光機能材料と大気（空気）との接触が絶たれ、発光機
能材料の変質や損傷を防止することができる。
【００２８】この場合、有機ＥＬ機能層が、ＥＬ発光層
および正孔注入層のうち少なくともＥＬ発光層であるこ
とが、好ましい。
および正孔注入層のうち少なくともＥＬ発光層であるこ
とが、好ましい。
【００２９】この構成によれば、有機ＥＬ装置における
発光機能の主体を為す部分を、機能液滴吐出ヘッドで形
成することができるため、より微小な画素を且つ精度良
く形成することができ、高解像で且つ高画質の有機ＥＬ
装置を製造することができる。
発光機能の主体を為す部分を、機能液滴吐出ヘッドで形
成することができるため、より微小な画素を且つ精度良
く形成することができ、高解像で且つ高画質の有機ＥＬ
装置を製造することができる。
【００３０】これらの場合、チャンバ手段は、液滴吐出
手段と共にその付帯装置を収容していることが、好まし
い。
手段と共にその付帯装置を収容していることが、好まし
い。
【００３１】この構成によれば、外気が侵入し易いチャ
ンバ手段のシール部分を、極力少なくすることができる
ため、チャンバ手段内部の不活性ガスの雰囲気を、安定
に維持することができる。なお、付帯装置には、液滴吐
出手段に直接アクセスされる機能液の供給系、電力・制
御系、エアー供給系、クリーニング等のメンテナンス系
等の装置が含まれる。
ンバ手段のシール部分を、極力少なくすることができる
ため、チャンバ手段内部の不活性ガスの雰囲気を、安定
に維持することができる。なお、付帯装置には、液滴吐
出手段に直接アクセスされる機能液の供給系、電力・制
御系、エアー供給系、クリーニング等のメンテナンス系
等の装置が含まれる。
【００３２】この場合、チャンバ手段は、チャンバルー
ムと、送気口を介して、チャンバルームに不活性ガスを
供給するガス供給設備と、排気口を介して、チャンバル
ームから不活性ガスを排気するガス排気設備とを有する
ことが、好ましい。
ムと、送気口を介して、チャンバルームに不活性ガスを
供給するガス供給設備と、排気口を介して、チャンバル
ームから不活性ガスを排気するガス排気設備とを有する
ことが、好ましい。
【００３３】この構成によれば、液滴吐出手段を収容し
たチャンバルームに対し、ガス供給設備により不活性ガ
スを供給し、ガス排気設備により不活性ガスを排気する
ようにしているため、チャンバルーム内に、不活性ガス
の雰囲気を円滑に構成することができると共に、雰囲気
の制御等を容易に行うことができる。
たチャンバルームに対し、ガス供給設備により不活性ガ
スを供給し、ガス排気設備により不活性ガスを排気する
ようにしているため、チャンバルーム内に、不活性ガス
の雰囲気を円滑に構成することができると共に、雰囲気
の制御等を容易に行うことができる。
【００３４】この場合、チャンバルームの中心部には、
液滴吐出手段の吐出エリアが設定され、送気口と排気口
とを結ぶ気流の主流路が吐出エリアと交差することが好
ましい。
液滴吐出手段の吐出エリアが設定され、送気口と排気口
とを結ぶ気流の主流路が吐出エリアと交差することが好
ましい。
【００３５】この構成によれば、雰囲気中における不活
性ガスの気流が、発光機能材料を吐出しながら機能液滴
吐出ヘッドが走査される吐出エリアと交差するため、発
光機能材料と大気（空気）との接触が確実に絶たれ、発
光機能材料の変質等を確実に防止することができる。
性ガスの気流が、発光機能材料を吐出しながら機能液滴
吐出ヘッドが走査される吐出エリアと交差するため、発
光機能材料と大気（空気）との接触が確実に絶たれ、発
光機能材料の変質等を確実に防止することができる。
【００３６】この場合、チャンバルームは、略直方体形
状に形成され、送気口と排気口とは、相互に略対角位置
に配設されていることが、好ましい。
状に形成され、送気口と排気口とは、相互に略対角位置
に配設されていることが、好ましい。
【００３７】この構成によれば、チャンバルーム内に雰
囲気の滞留が生じ難く、不活性ガスを安定に供給するこ
とができる。また、不活性ガスの雰囲気を良好に維持す
ることができる。
囲気の滞留が生じ難く、不活性ガスを安定に供給するこ
とができる。また、不活性ガスの雰囲気を良好に維持す
ることができる。
【００３８】これらの場合、チャンバルームには、点検
用パネルが着脱自在に設けられ、点検用パネルは、内外
二重パネル構造を有していることが、好ましい。
用パネルが着脱自在に設けられ、点検用パネルは、内外
二重パネル構造を有していることが、好ましい。
【００３９】この構成によれば、点検用パネルを二重構
造とすることで、液滴吐出手段のメンテナンス等に支障
を生ずることなく、チャンバルームを気密に構成するこ
とができ、不活性ガスの漏れ等を極力防止することがで
きる。
造とすることで、液滴吐出手段のメンテナンス等に支障
を生ずることなく、チャンバルームを気密に構成するこ
とができ、不活性ガスの漏れ等を極力防止することがで
きる。
【００４０】この場合、チャンバルームには、点検用パ
ネルが２個所に設けられており、一方の点検用パネルは
液滴吐出手段に面し、他方の点検用ドアは付帯装置に面
していることが、好ましい。
ネルが２個所に設けられており、一方の点検用パネルは
液滴吐出手段に面し、他方の点検用ドアは付帯装置に面
していることが、好ましい。
【００４１】この構成によれば、液滴吐出手段および付
帯装置のメンテナンスに際し、チャンバルームによりそ
の作業性が損なわれることがない。
帯装置のメンテナンスに際し、チャンバルームによりそ
の作業性が損なわれることがない。
【００４２】これらの場合、ガス供給設備は、ガス供給
機器と、ガス供給機器と送気口との間のガス流路上に、
クーラ、ヒータ、ファンおよびフィルタを配設して成る
ガス調和機器とを有していることが、好ましい。
機器と、ガス供給機器と送気口との間のガス流路上に、
クーラ、ヒータ、ファンおよびフィルタを配設して成る
ガス調和機器とを有していることが、好ましい。
【００４３】この構成によれば、ガス調和機器により、
送気口を介してガス供給機器からチャンバルームに供給
する不活性ガスを、温度調節および湿度調節することが
できると共に、不活性ガス中の塵等の不純物を取り除く
ことができる。
送気口を介してガス供給機器からチャンバルームに供給
する不活性ガスを、温度調節および湿度調節することが
できると共に、不活性ガス中の塵等の不純物を取り除く
ことができる。
【００４４】この場合、ガス調和機器は、雰囲気を所定
の温度に維持することが、好ましい。そして、この所定
の温度が、２０℃±０．５℃であることが好ましい。
の温度に維持することが、好ましい。そして、この所定
の温度が、２０℃±０．５℃であることが好ましい。
【００４５】この構成によれば、液滴吐出手段による発
光機能材料の吐出から有機ＥＬ機能層を形成する過程に
おいて、雰囲気が一定の温度に維持されるため、質的に
常に安定な有機ＥＬ機能層を得ることができる。これに
より、有機ＥＬ装置の歩留まりを向上させることができ
る。
光機能材料の吐出から有機ＥＬ機能層を形成する過程に
おいて、雰囲気が一定の温度に維持されるため、質的に
常に安定な有機ＥＬ機能層を得ることができる。これに
より、有機ＥＬ装置の歩留まりを向上させることができ
る。
【００４６】これらの場合、ガス供給機器は、雰囲気を
所定の酸素濃度以下に維持することが、好ましい。そし
て、この所定の酸素濃度が、１０ｐｐｍであることが好
ましい。
所定の酸素濃度以下に維持することが、好ましい。そし
て、この所定の酸素濃度が、１０ｐｐｍであることが好
ましい。
【００４７】この構成によれば、液滴吐出手段による発
光機能材料の吐出から有機ＥＬ機能層を形成する過程に
おいて、酸素の影響をほぼ廃除することができる。これ
により、有機ＥＬ装置の歩留まりを向上させることがで
きる。
光機能材料の吐出から有機ＥＬ機能層を形成する過程に
おいて、酸素の影響をほぼ廃除することができる。これ
により、有機ＥＬ装置の歩留まりを向上させることがで
きる。
【００４８】これらの場合、ガス供給機器は、雰囲気を
所定の水分濃度以下に維持することが、好ましい。そし
て、この所定の水分濃度が、１０ｐｐｍであることが好
ましい。
所定の水分濃度以下に維持することが、好ましい。そし
て、この所定の水分濃度が、１０ｐｐｍであることが好
ましい。
【００４９】この構成によれば、液滴吐出手段による発
光機能材料の吐出から有機ＥＬ機能層を形成する過程に
おいて、水分の影響、すなわち水分に含まれる酸素や水
素の影響をほぼ廃除することができる。これにより、有
機ＥＬ装置の歩留まりを向上させることができる。
光機能材料の吐出から有機ＥＬ機能層を形成する過程に
おいて、水分の影響、すなわち水分に含まれる酸素や水
素の影響をほぼ廃除することができる。これにより、有
機ＥＬ装置の歩留まりを向上させることができる。
【００５０】これらの場合、ガス排気設備は、排気口に
連なる排気流路と、排気流路に介設した排気ダンパーと
を有し、排気ダンパーは、常時「開」に制御されている
ことが、好ましい。
連なる排気流路と、排気流路に介設した排気ダンパーと
を有し、排気ダンパーは、常時「開」に制御されている
ことが、好ましい。
【００５１】この構成によれば、チャンバルーム内の雰
囲気が少しずつ排気されるため、不活性ガスの一部と共
に気化した発光機能材料の溶剤も、装置外に適宜排気す
ることができる。このため、不活性ガスの濃度を安定に
維持することができる。なお、排気した溶剤は、処理装
置で回収することが好ましい。
囲気が少しずつ排気されるため、不活性ガスの一部と共
に気化した発光機能材料の溶剤も、装置外に適宜排気す
ることができる。このため、不活性ガスの濃度を安定に
維持することができる。なお、排気した溶剤は、処理装
置で回収することが好ましい。
【００５２】これらの場合、チャンバ手段は、チャンバ
ルームに、不活性ガスに代えて外気を供給する外気供給
設備を、更に有することが好ましい。
ルームに、不活性ガスに代えて外気を供給する外気供給
設備を、更に有することが好ましい。
【００５３】この構成によれば、液滴吐出手段のメンテ
ナンス等において、外気供給設備により、チャンバルー
ム内に外気を円滑に取り込むことができる。すなわち、
チャンバルーム内の雰囲気を、不活性ガスから外気に簡
単に入れ替えることができる。
ナンス等において、外気供給設備により、チャンバルー
ム内に外気を円滑に取り込むことができる。すなわち、
チャンバルーム内の雰囲気を、不活性ガスから外気に簡
単に入れ替えることができる。
【００５４】この場合、外気供給設備は、送気口を介し
てチャンバルームに連通していることが、好ましい。
てチャンバルームに連通していることが、好ましい。
【００５５】この構成によれば、チャンバルームに、専
用の外気取入れ口を形成する必要がなく、外気供給設備
を簡単に構成することができる。
用の外気取入れ口を形成する必要がなく、外気供給設備
を簡単に構成することができる。
【００５６】本発明の有機ＥＬ装置は、上記した本発明
の有機ＥＬ装置の製造装置により製造されたことを特徴
とする。
の有機ＥＬ装置の製造装置により製造されたことを特徴
とする。
【００５７】本発明の電子機器は、上記した本発明の有
機ＥＬ装置を備えたことを特徴とする。
機ＥＬ装置を備えたことを特徴とする。
【００５８】これら構成によれば、多数の画素領域に高
品質の有機ＥＬ機能層を安定に作り込こんだ有機ＥＬ装
置自体を、簡単に製造することができ、低コストで信頼
性のある有機ＥＬ装置およびこれを備えた電子機器を提
供することができる。なお、有機ＥＬ装置はいわゆるフ
ラットディスプレイであり、この場合の電子機器は、携
帯電話、パーソナルコンピュータ等のフラットディスプ
レイを備える各種機器である。
品質の有機ＥＬ機能層を安定に作り込こんだ有機ＥＬ装
置自体を、簡単に製造することができ、低コストで信頼
性のある有機ＥＬ装置およびこれを備えた電子機器を提
供することができる。なお、有機ＥＬ装置はいわゆるフ
ラットディスプレイであり、この場合の電子機器は、携
帯電話、パーソナルコンピュータ等のフラットディスプ
レイを備える各種機器である。
【００５９】本発明の液滴吐出装置は、機能材料を導入
した機能液滴吐出ヘッドを基板に対し相対的に走査し、
機能材料を基板上に選択的に吐出して機能膜を形成する
液滴吐出手段と、液滴吐出手段を不活性ガスの雰囲気中
に収容するチャンバ手段とを備えたことを特徴とする。
した機能液滴吐出ヘッドを基板に対し相対的に走査し、
機能材料を基板上に選択的に吐出して機能膜を形成する
液滴吐出手段と、液滴吐出手段を不活性ガスの雰囲気中
に収容するチャンバ手段とを備えたことを特徴とする。
【００６０】この構成によれば、液滴吐出手段が、不活
性ガスの雰囲気を構成するチャンバ手段に収容されてい
るため、液滴吐出手段による機能材料の吐出は、不活性
ガスの雰囲気中で行われる。このため、機能材料の吐出
から機能膜を形成する過程において、機能材料と大気
（空気）との接触が絶たれ、空気中において損傷を受け
易い機能材料であっても、その変質や損傷を防止するこ
とができる。なお、機能材料としては、撥液（撥水）
用、金属配線用、配向膜用等の有機材料（液体）であっ
て、機能液滴吐出ヘッド（インクジェットヘッド）で吐
出可能なものを言う。
性ガスの雰囲気を構成するチャンバ手段に収容されてい
るため、液滴吐出手段による機能材料の吐出は、不活性
ガスの雰囲気中で行われる。このため、機能材料の吐出
から機能膜を形成する過程において、機能材料と大気
（空気）との接触が絶たれ、空気中において損傷を受け
易い機能材料であっても、その変質や損傷を防止するこ
とができる。なお、機能材料としては、撥液（撥水）
用、金属配線用、配向膜用等の有機材料（液体）であっ
て、機能液滴吐出ヘッド（インクジェットヘッド）で吐
出可能なものを言う。
【００６１】
【発明の実施の形態】以下、添付の図面を参照して、本
発明の実施形態について説明する。インクジェットプリ
ンタのインクジェットヘッド（液滴吐出ヘッド）は、微
小なインク滴（液滴）をドット状に精度良く吐出するこ
とができることから、例えば液滴（吐出対象液）に特殊
なインクや、発光性或いは感光性の樹脂等を用いること
により、各種部品の製造分野への応用が期待されてい
る。
発明の実施形態について説明する。インクジェットプリ
ンタのインクジェットヘッド（液滴吐出ヘッド）は、微
小なインク滴（液滴）をドット状に精度良く吐出するこ
とができることから、例えば液滴（吐出対象液）に特殊
なインクや、発光性或いは感光性の樹脂等を用いること
により、各種部品の製造分野への応用が期待されてい
る。
【００６２】本実施形態の有機ＥＬ装置の製造装置は、
いわゆるフラットディスプレイの一種である有機ＥＬ装
置の製造ラインに組み込まれるものであり、複数の機能
液滴吐出ヘッドを用い、その吐出ノズルから発光材料等
の機能液を吐出して（インクジェット方式）、有機ＥＬ
装置の発光機能を為す各画素のＥＬ発光層および正孔注
入層を形成するものである。
いわゆるフラットディスプレイの一種である有機ＥＬ装
置の製造ラインに組み込まれるものであり、複数の機能
液滴吐出ヘッドを用い、その吐出ノズルから発光材料等
の機能液を吐出して（インクジェット方式）、有機ＥＬ
装置の発光機能を為す各画素のＥＬ発光層および正孔注
入層を形成するものである。
【００６３】そこで、本実施形態では、先ず有機ＥＬ装
置の構造について説明すると共にその製造方法（製造プ
ロセス）について説明する。そして次に、搭載した機能
液滴吐出ヘッドを走査する描画装置とその周辺設備とか
ら成る有機ＥＬ装置の製造装置を、その製造方法と共に
説明する。なお、周辺設備として、チャンバ装置、搬送
装置および乾燥装置が存在するが、本実施形態では、そ
のうちのチャンバ装置を主に説明し、搬送装置および乾
燥装置については簡単に説明することとする。
置の構造について説明すると共にその製造方法（製造プ
ロセス）について説明する。そして次に、搭載した機能
液滴吐出ヘッドを走査する描画装置とその周辺設備とか
ら成る有機ＥＬ装置の製造装置を、その製造方法と共に
説明する。なお、周辺設備として、チャンバ装置、搬送
装置および乾燥装置が存在するが、本実施形態では、そ
のうちのチャンバ装置を主に説明し、搬送装置および乾
燥装置については簡単に説明することとする。
【００６４】図１ないし図１３は、有機ＥＬ素子を含む
有機ＥＬ装置の製造プロセスと共にその構造を表してい
る。この製造プロセスは、バンク部形成工程と、プラズ
マ処理工程と、正孔注入／輸送層形成工程及び発光層形
成工程からなる発光素子形成工程と、対向電極形成工程
と、封止工程とを具備して構成されている。
有機ＥＬ装置の製造プロセスと共にその構造を表してい
る。この製造プロセスは、バンク部形成工程と、プラズ
マ処理工程と、正孔注入／輸送層形成工程及び発光層形
成工程からなる発光素子形成工程と、対向電極形成工程
と、封止工程とを具備して構成されている。
【００６５】バンク部形成工程では、基板５０１に予め
形成した回路素子部５０２上及び電極５１１（画素電極
ともいう）上の所定の位置に、無機物バンク層５１２ａ
と有機物バンク層５１２ｂを積層することにより、開口
部５１２ｇを有するバンク部５１２を形成する。このよ
うに、バンク部形成工程には、電極５１１の一部に、無
機物バンク層５１２ａを形成する工程と、無機物バンク
層の上に有機物バンク層５１２ｂを形成する工程が含ま
れる。
形成した回路素子部５０２上及び電極５１１（画素電極
ともいう）上の所定の位置に、無機物バンク層５１２ａ
と有機物バンク層５１２ｂを積層することにより、開口
部５１２ｇを有するバンク部５１２を形成する。このよ
うに、バンク部形成工程には、電極５１１の一部に、無
機物バンク層５１２ａを形成する工程と、無機物バンク
層の上に有機物バンク層５１２ｂを形成する工程が含ま
れる。
【００６６】まず無機物バンク層５１２ａを形成する工
程では、図１に示すように、回路素子部５０２の第２層
間絶縁膜５４４ｂ上及び画素電極５１１上に、無機物バ
ンク層５１２ａを形成する。無機物バンク層５１２ａ
を、例えばＣＶＤ法、コート法、スパッタ法、蒸着法等
によって層間絶縁層５１４及び画素電極５１１の全面に
ＳｉＯ2、ＴｉＯ2等の無機物膜を形成する。
程では、図１に示すように、回路素子部５０２の第２層
間絶縁膜５４４ｂ上及び画素電極５１１上に、無機物バ
ンク層５１２ａを形成する。無機物バンク層５１２ａ
を、例えばＣＶＤ法、コート法、スパッタ法、蒸着法等
によって層間絶縁層５１４及び画素電極５１１の全面に
ＳｉＯ2、ＴｉＯ2等の無機物膜を形成する。
【００６７】次にこの無機物膜をエッチング等によりパ
ターニングして、電極５１１の電極面５１１ａの形成位
置に対応する下部開口部５１２ｃを設ける。このとき、
無機物バンク層５１２ａを電極５１１の周縁部と重なる
ように形成しておく必要がある。このように、電極５１
１の周縁部（一部）と無機物バンク層５１２ａとが重な
るように無機物バンク層５１２ａを形成することによ
り、発光層５１０の発光領域を制御することができる。
ターニングして、電極５１１の電極面５１１ａの形成位
置に対応する下部開口部５１２ｃを設ける。このとき、
無機物バンク層５１２ａを電極５１１の周縁部と重なる
ように形成しておく必要がある。このように、電極５１
１の周縁部（一部）と無機物バンク層５１２ａとが重な
るように無機物バンク層５１２ａを形成することによ
り、発光層５１０の発光領域を制御することができる。
【００６８】次に有機物バンク層５１２ｂを形成する工
程では、図２に示すように、無機物バンク層５１２ａ上
に有機物バンク層５１２ｂを形成する。有機物バンク層
５１２ｂをフォトリソグラフィ技術等によりエッチング
して、有機物バンク層５１２ｂの上部開口部５１２ｄを
形成する。上部開口部５１２ｄは、電極面５１１ａ及び
下部開口部５１２ｃに対応する位置に設けられる。
程では、図２に示すように、無機物バンク層５１２ａ上
に有機物バンク層５１２ｂを形成する。有機物バンク層
５１２ｂをフォトリソグラフィ技術等によりエッチング
して、有機物バンク層５１２ｂの上部開口部５１２ｄを
形成する。上部開口部５１２ｄは、電極面５１１ａ及び
下部開口部５１２ｃに対応する位置に設けられる。
【００６９】上部開口部５１２ｄは、図２に示すよう
に、下部開口部５１２ｃより広く、電極面５１１ａより
狭く形成することが好ましい。これにより、無機物バン
ク層５１２ａの下部開口部５１２ｃを囲む第１積層部５
１２ｅが、有機物バンク層５１２ｂよりも電極５１１の
中央側に延出された形になる。このようにして、上部開
口部５１２ｄ、下部開口部５１２ｃを連通させることに
より、無機物バンク層５１２ａ及び有機物バンク層５１
２ｂを貫通する開口部５１２ｇが形成される。
に、下部開口部５１２ｃより広く、電極面５１１ａより
狭く形成することが好ましい。これにより、無機物バン
ク層５１２ａの下部開口部５１２ｃを囲む第１積層部５
１２ｅが、有機物バンク層５１２ｂよりも電極５１１の
中央側に延出された形になる。このようにして、上部開
口部５１２ｄ、下部開口部５１２ｃを連通させることに
より、無機物バンク層５１２ａ及び有機物バンク層５１
２ｂを貫通する開口部５１２ｇが形成される。
【００７０】次にプラズマ処理工程では、バンク部５１
２の表面と画素電極の表面５１１ａに、親インク性を示
す領域と、撥インク性を示す領域を形成する。このプラ
ズマ処理工程は、予備加熱工程と、バンク部５１２の上
面（５１２ｆ）及び開口部５１２ｇの壁面並びに画素電
極５１１の電極面５１１ａを親インク性を有するように
加工する親インク化工程と、有機物バンク層５１２ｂの
上面５１２ｆ及び上部開口部５１２ｄの壁面を、撥イン
ク性を有するように加工する撥インク化工程と、冷却工
程とに大別される。
２の表面と画素電極の表面５１１ａに、親インク性を示
す領域と、撥インク性を示す領域を形成する。このプラ
ズマ処理工程は、予備加熱工程と、バンク部５１２の上
面（５１２ｆ）及び開口部５１２ｇの壁面並びに画素電
極５１１の電極面５１１ａを親インク性を有するように
加工する親インク化工程と、有機物バンク層５１２ｂの
上面５１２ｆ及び上部開口部５１２ｄの壁面を、撥イン
ク性を有するように加工する撥インク化工程と、冷却工
程とに大別される。
【００７１】まず、予備加熱工程では、バンク部５１２
を含む基板５０１を所定の温度まで加熱する。加熱は、
例えば基板５０１を載せるステージにヒータを取り付
け、このヒータで当該ステージごと基板５０１を加熱す
ることにより行う。具体的には、基板５０１の予備加熱
温度を、例えば７０〜８０℃の範囲とすることが好まし
い。
を含む基板５０１を所定の温度まで加熱する。加熱は、
例えば基板５０１を載せるステージにヒータを取り付
け、このヒータで当該ステージごと基板５０１を加熱す
ることにより行う。具体的には、基板５０１の予備加熱
温度を、例えば７０〜８０℃の範囲とすることが好まし
い。
【００７２】つぎに、親インク化工程では、大気雰囲気
中で酸素を処理ガスとするプラズマ処理（Ｏ2プラズマ
処理）を行う。このＯ2プラズマ処理により、図３に示
すように、画素電極５１１の電極面５１１ａ、無機物バ
ンク層５１２ａの第１積層部５１２ｅ及び有機物バンク
層５１２ｂの上部開口部５１２ｄの壁面ならびに上面５
１２ｆが親インク処理される。この親インク処理によ
り、これらの各面に水酸基が導入されて親インク性が付
与される。図３では、親インク処理された部分を一点鎖
線で示している。
中で酸素を処理ガスとするプラズマ処理（Ｏ2プラズマ
処理）を行う。このＯ2プラズマ処理により、図３に示
すように、画素電極５１１の電極面５１１ａ、無機物バ
ンク層５１２ａの第１積層部５１２ｅ及び有機物バンク
層５１２ｂの上部開口部５１２ｄの壁面ならびに上面５
１２ｆが親インク処理される。この親インク処理によ
り、これらの各面に水酸基が導入されて親インク性が付
与される。図３では、親インク処理された部分を一点鎖
線で示している。
【００７３】つぎに、撥インク化工程では、大気雰囲気
中で４フッ化メタンを処理ガスとするプラズマ処理（Ｃ
Ｆ4プラズマ処理）を行う。ＣＦ4プラズマ処理により、
図４に示すように、上部開口部５１２ｄ壁面及び有機物
バンク層の上面５１２ｆが撥インク処理される。この撥
インク処理により、これらの各面にフッ素基が導入され
て撥インク性が付与される。図４では、撥インク性を示
す領域を二点鎖線で示している。
中で４フッ化メタンを処理ガスとするプラズマ処理（Ｃ
Ｆ4プラズマ処理）を行う。ＣＦ4プラズマ処理により、
図４に示すように、上部開口部５１２ｄ壁面及び有機物
バンク層の上面５１２ｆが撥インク処理される。この撥
インク処理により、これらの各面にフッ素基が導入され
て撥インク性が付与される。図４では、撥インク性を示
す領域を二点鎖線で示している。
【００７４】次に、冷却工程では、プラズマ処理のため
に加熱された基板５０１を室温、またはインクジェット
工程（液滴吐出工程）の管理温度まで冷却する。プラズ
マ処理後の基板５０１を室温、または所定の温度（例え
ばインクジェット工程を行う管理温度）まで冷却するこ
とにより、次の正孔注入／輸送層形成工程を一定の温度
で行うことができる。
に加熱された基板５０１を室温、またはインクジェット
工程（液滴吐出工程）の管理温度まで冷却する。プラズ
マ処理後の基板５０１を室温、または所定の温度（例え
ばインクジェット工程を行う管理温度）まで冷却するこ
とにより、次の正孔注入／輸送層形成工程を一定の温度
で行うことができる。
【００７５】次に発光素子形成工程では、画素電極５１
１上に正孔注入／輸送層及び発光層を形成することによ
り発光素子を形成する。発光素子形成工程には、４つの
工程が含まれる。即ち、正孔注入／輸送層を形成するた
めの第１組成物を各前記画素電極上に吐出する第１液滴
吐出工程と、吐出された前記第１組成物を乾燥させて前
記画素電極上に正孔注入／輸送層を形成する正孔注入／
輸送層形成工程と、発光層を形成するための第２組成物
を前記正孔注入／輸送層の上に吐出する第２液滴吐出工
程と、吐出された前記第２組成物を乾燥させて前記正孔
注入／輸送層上に発光層を形成する発光層形成工程とが
含まれる。
１上に正孔注入／輸送層及び発光層を形成することによ
り発光素子を形成する。発光素子形成工程には、４つの
工程が含まれる。即ち、正孔注入／輸送層を形成するた
めの第１組成物を各前記画素電極上に吐出する第１液滴
吐出工程と、吐出された前記第１組成物を乾燥させて前
記画素電極上に正孔注入／輸送層を形成する正孔注入／
輸送層形成工程と、発光層を形成するための第２組成物
を前記正孔注入／輸送層の上に吐出する第２液滴吐出工
程と、吐出された前記第２組成物を乾燥させて前記正孔
注入／輸送層上に発光層を形成する発光層形成工程とが
含まれる。
【００７６】まず、第１液滴吐出工程では、インクジェ
ット法（液滴吐出法）により、正孔注入／輸送層形成材
料を含む第１組成物を電極面５１１ａ上に吐出する。な
お、この第１液滴吐出工程以降は、水、酸素の無い窒素
雰囲気、アルゴン雰囲気等の不活性ガス雰囲気で行うこ
とが好ましい。（なお、画素電極上にのみ正孔注入／輸
送層を形成する場合は、有機物バンク層に隣接して形成
される正孔注入／輸送層は形成されない）
ット法（液滴吐出法）により、正孔注入／輸送層形成材
料を含む第１組成物を電極面５１１ａ上に吐出する。な
お、この第１液滴吐出工程以降は、水、酸素の無い窒素
雰囲気、アルゴン雰囲気等の不活性ガス雰囲気で行うこ
とが好ましい。（なお、画素電極上にのみ正孔注入／輸
送層を形成する場合は、有機物バンク層に隣接して形成
される正孔注入／輸送層は形成されない）
【００７７】図５に示すように、インクジェットヘッド
（機能液滴吐出ヘッド）Ｈに正孔注入／輸送層形成材料
を含む第１組成物を充填し、インクジェットヘッドＨの
吐出ノズルを下部開口部５１２ｃ内に位置する電極面５
１１ａに対向させ、インクジェットヘッドＨと基板５０
１とを相対移動させながら、吐出ノズルから１滴当たり
の液量が制御された第１組成物滴５１０ｃを電極面５１
１ａ上に吐出する。
（機能液滴吐出ヘッド）Ｈに正孔注入／輸送層形成材料
を含む第１組成物を充填し、インクジェットヘッドＨの
吐出ノズルを下部開口部５１２ｃ内に位置する電極面５
１１ａに対向させ、インクジェットヘッドＨと基板５０
１とを相対移動させながら、吐出ノズルから１滴当たり
の液量が制御された第１組成物滴５１０ｃを電極面５１
１ａ上に吐出する。
【００７８】ここで用いる第１組成物としては、例え
ば、ポリエチレンジオキシチオフェン(PEDOT)等のポリ
チオフェン誘導体とポリスチレンスルホン酸(PSS)等の
混合物を、極性溶媒に溶解させた組成物を用いることが
できる。極性溶媒としては、例えば、イソプロピルアル
コール(IPA)、ノルマルブタノール、γ−ブチロラクト
ン、Ｎ−メチルピロリドン(NMP)、１，３−ジメチル−
２−イミダゾリジノン(DMI)及びその誘導体、カルビト
−ルアセテート、ブチルカルビト−ルアセテート等のグ
リコールエーテル類等を挙げることができる。なお、正
孔注入／輸送層形成材料は、Ｒ・Ｇ・Ｂの各発光層５１
０ｂに対して同じ材料を用いても良く、発光層毎に変え
ても良い。
ば、ポリエチレンジオキシチオフェン(PEDOT)等のポリ
チオフェン誘導体とポリスチレンスルホン酸(PSS)等の
混合物を、極性溶媒に溶解させた組成物を用いることが
できる。極性溶媒としては、例えば、イソプロピルアル
コール(IPA)、ノルマルブタノール、γ−ブチロラクト
ン、Ｎ−メチルピロリドン(NMP)、１，３−ジメチル−
２−イミダゾリジノン(DMI)及びその誘導体、カルビト
−ルアセテート、ブチルカルビト−ルアセテート等のグ
リコールエーテル類等を挙げることができる。なお、正
孔注入／輸送層形成材料は、Ｒ・Ｇ・Ｂの各発光層５１
０ｂに対して同じ材料を用いても良く、発光層毎に変え
ても良い。
【００７９】図５に示すように、吐出された第１組成物
滴５１０ｃは、親インク処理された電極面５１１ａ及び
第１積層部５１２ｅ上に広がり、下部、上部開口部５１
２ｃ、５１２ｄ内に満たされる。電極面５１１ａ上に吐
出する第１組成物量は、下部、上部開口部５１２ｃ、５
１２ｄの大きさ、形成しようとする正孔注入／輸送層の
厚さ、第１組成物中の正孔注入／輸送層形成材料の濃度
等により決定される。また、第１組成物滴５１０ｃは１
回のみならず、数回に分けて同一の電極面５１１ａ上に
吐出しても良い。
滴５１０ｃは、親インク処理された電極面５１１ａ及び
第１積層部５１２ｅ上に広がり、下部、上部開口部５１
２ｃ、５１２ｄ内に満たされる。電極面５１１ａ上に吐
出する第１組成物量は、下部、上部開口部５１２ｃ、５
１２ｄの大きさ、形成しようとする正孔注入／輸送層の
厚さ、第１組成物中の正孔注入／輸送層形成材料の濃度
等により決定される。また、第１組成物滴５１０ｃは１
回のみならず、数回に分けて同一の電極面５１１ａ上に
吐出しても良い。
【００８０】次に正孔注入／輸送層形成工程では、図６
に示すように、吐出後の第１組成物を乾燥処理及び熱処
理して第１組成物に含まれる極性溶媒を蒸発させること
により、電極面５１１ａ上に正孔注入／輸送層５１０ａ
を形成する。乾燥処理を行うと、第１組成物滴５１０ｃ
に含まれる極性溶媒の蒸発が、主に無機物バンク層５１
２ａ及び有機物バンク層５１２ｂに近いところで起き、
極性溶媒の蒸発に併せて正孔注入／輸送層形成材料が濃
縮されて析出する。
に示すように、吐出後の第１組成物を乾燥処理及び熱処
理して第１組成物に含まれる極性溶媒を蒸発させること
により、電極面５１１ａ上に正孔注入／輸送層５１０ａ
を形成する。乾燥処理を行うと、第１組成物滴５１０ｃ
に含まれる極性溶媒の蒸発が、主に無機物バンク層５１
２ａ及び有機物バンク層５１２ｂに近いところで起き、
極性溶媒の蒸発に併せて正孔注入／輸送層形成材料が濃
縮されて析出する。
【００８１】これにより図６に示すように、乾燥処理に
よって電極面５１１ａ上でも極性溶媒の蒸発が起き、こ
れにより電極面５１１ａ上に正孔注入／輸送層形成材料
からなる平坦部５１０ａが形成される。電極面５１１ａ
上では極性溶媒の蒸発速度がほぼ均一であるため、正孔
注入／輸送層の形成材料が電極面５１１ａ上で均一に濃
縮され、これにより均一な厚さの平坦部５１０ａが形成
される。
よって電極面５１１ａ上でも極性溶媒の蒸発が起き、こ
れにより電極面５１１ａ上に正孔注入／輸送層形成材料
からなる平坦部５１０ａが形成される。電極面５１１ａ
上では極性溶媒の蒸発速度がほぼ均一であるため、正孔
注入／輸送層の形成材料が電極面５１１ａ上で均一に濃
縮され、これにより均一な厚さの平坦部５１０ａが形成
される。
【００８２】次に第２液滴吐出工程では、インクジェッ
ト法（液滴吐出法）により、発光層形成材料を含む第２
組成物を正孔注入／輸送層５１０ａ上に吐出する。この
第２液滴吐出工程では、正孔注入／輸送層５１０ａの再
溶解を防止するために、発光層形成の際に用いる第２組
成物の溶媒として、正孔注入／輸送層５１０ａに対して
不溶な非極性溶媒を用いる。
ト法（液滴吐出法）により、発光層形成材料を含む第２
組成物を正孔注入／輸送層５１０ａ上に吐出する。この
第２液滴吐出工程では、正孔注入／輸送層５１０ａの再
溶解を防止するために、発光層形成の際に用いる第２組
成物の溶媒として、正孔注入／輸送層５１０ａに対して
不溶な非極性溶媒を用いる。
【００８３】しかしその一方で正孔注入／輸送層５１０
ａは、非極性溶媒に対する親和性が低いため、非極性溶
媒を含む第２組成物を正孔注入／輸送層５１０ａ上に吐
出しても、正孔注入／輸送層５１０ａと発光層５１０ｂ
とを密着させることができなくなるか、あるいは発光層
５１０ｂを均一に塗布できないおそれがある。そこで、
非極性溶媒ならびに発光層形成材料に対する正孔注入／
輸送層５１０ａの表面の親和性を高めるために、発光層
を形成する前に表面改質工程を行うことが好ましい。
ａは、非極性溶媒に対する親和性が低いため、非極性溶
媒を含む第２組成物を正孔注入／輸送層５１０ａ上に吐
出しても、正孔注入／輸送層５１０ａと発光層５１０ｂ
とを密着させることができなくなるか、あるいは発光層
５１０ｂを均一に塗布できないおそれがある。そこで、
非極性溶媒ならびに発光層形成材料に対する正孔注入／
輸送層５１０ａの表面の親和性を高めるために、発光層
を形成する前に表面改質工程を行うことが好ましい。
【００８４】そこでまず、表面改質工程について説明す
る。表面改質工程は、発光層形成の際に用いる第１組成
物の非極性溶媒と同一溶媒またはこれに類する溶媒であ
る表面改質用溶媒を、インクジェット法（液滴吐出
法）、スピンコート法またはディップ法により正孔注入
／輸送層５１０ａ上に塗布した後に乾燥することにより
行う。
る。表面改質工程は、発光層形成の際に用いる第１組成
物の非極性溶媒と同一溶媒またはこれに類する溶媒であ
る表面改質用溶媒を、インクジェット法（液滴吐出
法）、スピンコート法またはディップ法により正孔注入
／輸送層５１０ａ上に塗布した後に乾燥することにより
行う。
【００８５】例えば、インクジェット法による塗布は、
図７に示すように、インクジェットヘッドＨに、表面改
質用溶媒を充填し、インクジェットヘッドＨの吐出ノズ
ルを基板（すなわち、正孔注入／輸送層５１０ａが形成
された基板）に対向させ、インクジェットヘッドＨと基
板５０１とを相対移動させながら、吐出ノズルＨから表
面改質用溶媒５１０ｄを正孔注入／輸送層５１０ａ上に
吐出することにより行う。そして、図８に示すように、
表面改質用溶媒５１０ｄを乾燥させる。
図７に示すように、インクジェットヘッドＨに、表面改
質用溶媒を充填し、インクジェットヘッドＨの吐出ノズ
ルを基板（すなわち、正孔注入／輸送層５１０ａが形成
された基板）に対向させ、インクジェットヘッドＨと基
板５０１とを相対移動させながら、吐出ノズルＨから表
面改質用溶媒５１０ｄを正孔注入／輸送層５１０ａ上に
吐出することにより行う。そして、図８に示すように、
表面改質用溶媒５１０ｄを乾燥させる。
【００８６】次に第２液滴吐出工程では、インクジェッ
ト法（液滴吐出法）により、発光層形成材料を含む第２
組成物を正孔注入／輸送層５１０ａ上に吐出する。図９
に示すように、インクジェットヘッドＨに、青色（Ｂ）
発光層形成材料を含有する第２組成物を充填し、インク
ジェットヘッドＨの吐出ノズルを下部、上部開口部５１
２ｃ、５１２ｄ内に位置する正孔注入／輸送層５１０ａ
に対向させ、インクジェットヘッドＨと基板５０１とを
相対移動させながら、吐出ノズルから１滴当たりの液量
が制御された第２組成物滴５１０ｅとして吐出し、この
第２組成物滴５１０ｅを正孔注入／輸送層５１０ａ上に
吐出する。
ト法（液滴吐出法）により、発光層形成材料を含む第２
組成物を正孔注入／輸送層５１０ａ上に吐出する。図９
に示すように、インクジェットヘッドＨに、青色（Ｂ）
発光層形成材料を含有する第２組成物を充填し、インク
ジェットヘッドＨの吐出ノズルを下部、上部開口部５１
２ｃ、５１２ｄ内に位置する正孔注入／輸送層５１０ａ
に対向させ、インクジェットヘッドＨと基板５０１とを
相対移動させながら、吐出ノズルから１滴当たりの液量
が制御された第２組成物滴５１０ｅとして吐出し、この
第２組成物滴５１０ｅを正孔注入／輸送層５１０ａ上に
吐出する。
【００８７】発光層形成材料としては、ポリフルオレン
系高分子誘導体や、（ポリ）パラフェニレンビニレン誘
導体、ポリフェニレン誘導体、ポリビニルカルバゾー
ル、ポリチオフェン誘導体、ペリレン系色素、クマリン
系色素、ローダミン系色素、あるいは上記高分子に有機
ＥＬ材料をドープして用いる事ができる。例えば、ルブ
レン、ペリレン、９，１０-ジフェニルアントラセン、
テトラフェニルブタジエン、ナイルレッド、クマリン
６、キナクリドン等をドープすることにより用いること
ができる。
系高分子誘導体や、（ポリ）パラフェニレンビニレン誘
導体、ポリフェニレン誘導体、ポリビニルカルバゾー
ル、ポリチオフェン誘導体、ペリレン系色素、クマリン
系色素、ローダミン系色素、あるいは上記高分子に有機
ＥＬ材料をドープして用いる事ができる。例えば、ルブ
レン、ペリレン、９，１０-ジフェニルアントラセン、
テトラフェニルブタジエン、ナイルレッド、クマリン
６、キナクリドン等をドープすることにより用いること
ができる。
【００８８】非極性溶媒としては、正孔注入／輸送層５
１０ａに対して不溶なものが好ましく、例えば、シクロ
へキシルベンゼン、ジハイドロベンゾフラン、トリメチ
ルベンゼン、テトラメチルベンゼン等を用いることがで
きる。このような非極性溶媒を発光層５１０ｂの第２組
成物に用いることにより、正孔注入／輸送層５１０ａを
再溶解させることなく第２組成物を塗布できる。
１０ａに対して不溶なものが好ましく、例えば、シクロ
へキシルベンゼン、ジハイドロベンゾフラン、トリメチ
ルベンゼン、テトラメチルベンゼン等を用いることがで
きる。このような非極性溶媒を発光層５１０ｂの第２組
成物に用いることにより、正孔注入／輸送層５１０ａを
再溶解させることなく第２組成物を塗布できる。
【００８９】図９に示すように、吐出された第２組成物
５１０ｅは、正孔注入／輸送層５１０ａ上に広がって下
部、上部開口部５１２ｃ、５１２ｄ内に満たされる。第
２組成物５１０ｅは１回のみならず、数回に分けて同一
の正孔注入／輸送層５１０ａ上に吐出しても良い。この
場合、各回における第２組成物の量は同一でも良く、各
回毎に第２組成物量を変えても良い。
５１０ｅは、正孔注入／輸送層５１０ａ上に広がって下
部、上部開口部５１２ｃ、５１２ｄ内に満たされる。第
２組成物５１０ｅは１回のみならず、数回に分けて同一
の正孔注入／輸送層５１０ａ上に吐出しても良い。この
場合、各回における第２組成物の量は同一でも良く、各
回毎に第２組成物量を変えても良い。
【００９０】次に発光層形成工程では、第２組成物を吐
出した後に乾燥処理及び熱処理を施して、正孔注入／輸
送層５１０ａ上に発光層５１０ｂを形成する。乾燥処理
は、吐出後の第２組成物を乾燥処理することにより第２
組成物に含まれる非極性溶媒を蒸発して、図１０に示す
ような青色（Ｂ）発光層５１０ｂを形成する。
出した後に乾燥処理及び熱処理を施して、正孔注入／輸
送層５１０ａ上に発光層５１０ｂを形成する。乾燥処理
は、吐出後の第２組成物を乾燥処理することにより第２
組成物に含まれる非極性溶媒を蒸発して、図１０に示す
ような青色（Ｂ）発光層５１０ｂを形成する。
【００９１】続けて、図１１に示すように、青色（Ｂ）
発光層５１０ｂの場合と同様にして、赤色（Ｒ）発光層
５１０ｂを形成し、最後に緑色（Ｇ）発光層５１０ｂを
形成する。なお、発光層５１０ｂの形成順序は、前述の
順序に限られるものではなく、どのような順番で形成し
ても良い。例えば、発光層形成材料に応じて形成する順
番を決める事も可能である。
発光層５１０ｂの場合と同様にして、赤色（Ｒ）発光層
５１０ｂを形成し、最後に緑色（Ｇ）発光層５１０ｂを
形成する。なお、発光層５１０ｂの形成順序は、前述の
順序に限られるものではなく、どのような順番で形成し
ても良い。例えば、発光層形成材料に応じて形成する順
番を決める事も可能である。
【００９２】次に対向電極形成工程では、図１２に示す
ように、発光層５１０ｂ及び有機物バンク層５１２ｂの
全面に陰極５０３（対向電極）を形成する。なお，陰極
５０３は複数の材料を積層して形成しても良い。例え
ば、発光層に近い側には仕事関数が小さい材料を形成す
ることが好ましく、例えばＣａ、Ｂａ等を用いることが
可能であり、また材料によっては下層にＬｉＦ等を薄く
形成した方が良い場合もある。また、上部側（封止側）
には下部側よりも仕事関数が高いものが好ましい。これ
らの陰極（陰極層）５０３は、例えば蒸着法、スパッタ
法、ＣＶＤ法等で形成することが好ましく、特に蒸着法
で形成することが、発光層５１０ｂの熱による損傷を防
止できる点で好ましい。
ように、発光層５１０ｂ及び有機物バンク層５１２ｂの
全面に陰極５０３（対向電極）を形成する。なお，陰極
５０３は複数の材料を積層して形成しても良い。例え
ば、発光層に近い側には仕事関数が小さい材料を形成す
ることが好ましく、例えばＣａ、Ｂａ等を用いることが
可能であり、また材料によっては下層にＬｉＦ等を薄く
形成した方が良い場合もある。また、上部側（封止側）
には下部側よりも仕事関数が高いものが好ましい。これ
らの陰極（陰極層）５０３は、例えば蒸着法、スパッタ
法、ＣＶＤ法等で形成することが好ましく、特に蒸着法
で形成することが、発光層５１０ｂの熱による損傷を防
止できる点で好ましい。
【００９３】また、フッ化リチウムは、発光層５１０ｂ
上のみに形成しても良く、更に青色（Ｂ）発光層５１０
ｂ上のみに形成しても良い。この場合、他の赤色（Ｒ）
発光層及び緑色（Ｇ）発光層５１０ｂ、５１０ｂには、
ＬｉＦからなる上部陰極層５０３ｂが接することとな
る。また陰極１２の上部には、蒸着法、スパッタ法、Ｃ
ＶＤ法等により形成したＡｌ膜、Ａｇ膜等を用いること
が好ましい。また、陰極５０３上に、酸化防止のために
ＳｉＯ2、ＳｉＮ等の保護層を設けても良い。
上のみに形成しても良く、更に青色（Ｂ）発光層５１０
ｂ上のみに形成しても良い。この場合、他の赤色（Ｒ）
発光層及び緑色（Ｇ）発光層５１０ｂ、５１０ｂには、
ＬｉＦからなる上部陰極層５０３ｂが接することとな
る。また陰極１２の上部には、蒸着法、スパッタ法、Ｃ
ＶＤ法等により形成したＡｌ膜、Ａｇ膜等を用いること
が好ましい。また、陰極５０３上に、酸化防止のために
ＳｉＯ2、ＳｉＮ等の保護層を設けても良い。
【００９４】最後に、図１３に示す封止工程では、窒
素、アルゴン、ヘリウム等の不活性ガス雰囲気中で、有
機ＥＬ素子５０４上に封止用基板５０５を積層する。封
止工程は、窒素、アルゴン、ヘリウム等の不活性ガス雰
囲気で行うことが好ましい。大気中で行うと、陰極５０
３にピンホール等の欠陥が生じていた場合にこの欠陥部
分から水や酸素等が陰極５０３に侵入して陰極５０３が
酸化されるおそれがあるので好ましくない。そして最後
に、フレキシブル基板の配線に陰極５０３を接続すると
ともに、駆動ＩＣに回路素子部５０２の配線を接続する
ことにより、本実施形態の有機ＥＬ装置５００が得られ
る。
素、アルゴン、ヘリウム等の不活性ガス雰囲気中で、有
機ＥＬ素子５０４上に封止用基板５０５を積層する。封
止工程は、窒素、アルゴン、ヘリウム等の不活性ガス雰
囲気で行うことが好ましい。大気中で行うと、陰極５０
３にピンホール等の欠陥が生じていた場合にこの欠陥部
分から水や酸素等が陰極５０３に侵入して陰極５０３が
酸化されるおそれがあるので好ましくない。そして最後
に、フレキシブル基板の配線に陰極５０３を接続すると
ともに、駆動ＩＣに回路素子部５０２の配線を接続する
ことにより、本実施形態の有機ＥＬ装置５００が得られ
る。
【００９５】なお、上記の撥インク膜、陰極５０３、画
素電極５１１等においても、それぞれ液体材料を用い、
インクジェット法で形成するようにしてもよい。
素電極５１１等においても、それぞれ液体材料を用い、
インクジェット法で形成するようにしてもよい。
【００９６】次に、有機ＥＬ装置の製造装置について説
明する。上述したように有機ＥＬ装置の製造プロセスに
おいて、正孔注入／輸送層（正孔注入層）を形成する正
孔注入／輸送層形成工程（第１液滴吐出工程＋乾燥工
程）と、表面改質工程と、発光層を形成する発光層形成
工程（第２液滴吐出工程＋乾燥工程）とは、機能液滴吐
出ヘッドを用いたインクジェット法で行われる。これに
対応し、本実施形態の有機ＥＬ装置の製造装置では、機
能液滴吐出ヘッドを、発光機能材料を吐出させながら走
査する描画装置が用いられている。
明する。上述したように有機ＥＬ装置の製造プロセスに
おいて、正孔注入／輸送層（正孔注入層）を形成する正
孔注入／輸送層形成工程（第１液滴吐出工程＋乾燥工
程）と、表面改質工程と、発光層を形成する発光層形成
工程（第２液滴吐出工程＋乾燥工程）とは、機能液滴吐
出ヘッドを用いたインクジェット法で行われる。これに
対応し、本実施形態の有機ＥＬ装置の製造装置では、機
能液滴吐出ヘッドを、発光機能材料を吐出させながら走
査する描画装置が用いられている。
【００９７】より具体的には、図１４に示すように、正
孔注入／輸送層形成工程（必要な場合には表面改質工程
を含む）を行う正孔注入層形成設備Ａは、第１液滴（発
光機能材料：正孔注入層材料）を導入する機能液滴吐出
ヘッドを搭載した上記の描画装置１ａと、乾燥装置２ａ
と、基板搬送装置３ａとを備えており、且つこれらを収
容するチャンバ装置４ａを備えている。上述したよう
に、正孔注入／輸送層形成工程は不活性ガスの雰囲気中
で行うことが好ましく、その手段としてチャンバ装置４
ａが設けられている。
孔注入／輸送層形成工程（必要な場合には表面改質工程
を含む）を行う正孔注入層形成設備Ａは、第１液滴（発
光機能材料：正孔注入層材料）を導入する機能液滴吐出
ヘッドを搭載した上記の描画装置１ａと、乾燥装置２ａ
と、基板搬送装置３ａとを備えており、且つこれらを収
容するチャンバ装置４ａを備えている。上述したよう
に、正孔注入／輸送層形成工程は不活性ガスの雰囲気中
で行うことが好ましく、その手段としてチャンバ装置４
ａが設けられている。
【００９８】チャンバ装置４ａは、描画装置１ａを収容
する主チャンバ４ａａと、乾燥装置２ａおよび基板搬送
装置３ａを収容すると共にこれらの連結部分（搬送路）
をトンネル状に収容する副チャンバ４ａｂとで構成され
ている。主チャンバ４ａａは、不活性ガスを連続的に流
して良好な雰囲気を構成する方式を採用しており（詳細
は後述する）、副チャンバ４ａｂは、不活性ガスを循環
させて良好な雰囲気を構成する方式を採用している。な
お、図中の符号５は、基板移載装置である。
する主チャンバ４ａａと、乾燥装置２ａおよび基板搬送
装置３ａを収容すると共にこれらの連結部分（搬送路）
をトンネル状に収容する副チャンバ４ａｂとで構成され
ている。主チャンバ４ａａは、不活性ガスを連続的に流
して良好な雰囲気を構成する方式を採用しており（詳細
は後述する）、副チャンバ４ａｂは、不活性ガスを循環
させて良好な雰囲気を構成する方式を採用している。な
お、図中の符号５は、基板移載装置である。
【００９９】同様に、図１５に示すように、発光層形成
工程を行う発光層形成設備Ｂは、第２液滴（発光機能材
料：Ｒ・Ｇ・Ｂ発光層材料）を導入する機能液滴吐出ヘ
ッドを搭載した上記の描画装置１ｂと、乾燥装置２ｂ
と、基板搬送装置３ｂとを色別に３組備えており、且つ
これらを収容するチャンバ装置４ｂを３組備えている。
上記と同様に、発光層形成工程は不活性ガスの雰囲気中
で行うことが好ましく、その手段としてチャンバ装置４
ｂが設けられている。そして、この場合のチャンバ装置
４ｂも、各描画装置１ｂを収容する３つの主チャンバ４
ｂａと、各乾燥装置２ｂおよび各基板搬送装置３ｂを収
容すると共にこれらの連結部分（搬送路）をトンネル状
に収容する３つの副チャンバ４ｂｂとで構成されてい
る。
工程を行う発光層形成設備Ｂは、第２液滴（発光機能材
料：Ｒ・Ｇ・Ｂ発光層材料）を導入する機能液滴吐出ヘ
ッドを搭載した上記の描画装置１ｂと、乾燥装置２ｂ
と、基板搬送装置３ｂとを色別に３組備えており、且つ
これらを収容するチャンバ装置４ｂを３組備えている。
上記と同様に、発光層形成工程は不活性ガスの雰囲気中
で行うことが好ましく、その手段としてチャンバ装置４
ｂが設けられている。そして、この場合のチャンバ装置
４ｂも、各描画装置１ｂを収容する３つの主チャンバ４
ｂａと、各乾燥装置２ｂおよび各基板搬送装置３ｂを収
容すると共にこれらの連結部分（搬送路）をトンネル状
に収容する３つの副チャンバ４ｂｂとで構成されてい
る。
【０１００】正孔注入層形成設備Ａの描画装置１ａおよ
び発光層形成設備Ｂの各描画装置１ｂは、それぞれの機
能液滴吐出ヘッドに導入する発光機能材料が異なるだけ
で、同一の構造を有している。また、各乾燥装置２ａ，
２ｂ、各基板搬送装置３ａ，３ｂおよび各チャンバ装置
４ａ，４ｂも、同一もしくは同様の構造を有している。
したがって、機能液滴吐出ヘッドの交換や、発光機能材
料の供給系の交換における手間を無視すれば、任意の１
組の設備（描画装置１、乾燥装置２、基板搬送装３およ
びチャンバ装置４）で、有機ＥＬ装置の製造は可能であ
る。
び発光層形成設備Ｂの各描画装置１ｂは、それぞれの機
能液滴吐出ヘッドに導入する発光機能材料が異なるだけ
で、同一の構造を有している。また、各乾燥装置２ａ，
２ｂ、各基板搬送装置３ａ，３ｂおよび各チャンバ装置
４ａ，４ｂも、同一もしくは同様の構造を有している。
したがって、機能液滴吐出ヘッドの交換や、発光機能材
料の供給系の交換における手間を無視すれば、任意の１
組の設備（描画装置１、乾燥装置２、基板搬送装３およ
びチャンバ装置４）で、有機ＥＬ装置の製造は可能であ
る。
【０１０１】そこで、本実施形態では、図１５における
左端の１組の設備、すなわちＢ色の発光層を形成する描
画装置１ｂ、乾燥装置２ｂ、基板搬送装３ｂおよびチャ
ンバ装置４ｂを例に、各構成装置を説明し、他の設備の
説明は省略する。
左端の１組の設備、すなわちＢ色の発光層を形成する描
画装置１ｂ、乾燥装置２ｂ、基板搬送装３ｂおよびチャ
ンバ装置４ｂを例に、各構成装置を説明し、他の設備の
説明は省略する。
【０１０２】図外の装置により、上記のバンク部形成工
程およびプラズマ処理工程を経た基板は、図１５の左端
に位置する基板移載装置５から基板搬送装置３（３ｂ）
に搬送され、ここで方向および姿勢転換されて描画装置
１（１ｂ）に搬送される。基板搬送装置３（３ｂ）から
描画装置１（１ｂ）に受け渡され基板は、描画装置１
（１ｂ）にセットされる。描画装置１（１ｂ）では、そ
の機能液滴吐出ヘッドにより、基板の多数の画素領域
（開口部５１２ｇ）にＢ色の発光材料（液滴）が吐出さ
れる（第２液滴吐出工程）。
程およびプラズマ処理工程を経た基板は、図１５の左端
に位置する基板移載装置５から基板搬送装置３（３ｂ）
に搬送され、ここで方向および姿勢転換されて描画装置
１（１ｂ）に搬送される。基板搬送装置３（３ｂ）から
描画装置１（１ｂ）に受け渡され基板は、描画装置１
（１ｂ）にセットされる。描画装置１（１ｂ）では、そ
の機能液滴吐出ヘッドにより、基板の多数の画素領域
（開口部５１２ｇ）にＢ色の発光材料（液滴）が吐出さ
れる（第２液滴吐出工程）。
【０１０３】次に、発光材料が塗着した基板は、描画装
置１（１ｂ）から基板搬送装置３（３ｂ）に受け渡さ
れ、基板搬送装置３（３ｂ）により乾燥装置２（２ｂ）
に導入される。乾燥装置２（２ｂ）では、基板を所定時
間、高温の不活性ガスの雰囲気に曝して、発光材料中の
溶剤を気化させる（乾燥工程）。ここで再度、基板を描
画装置１（１ｂ）に導入し第２液滴吐出工程が行われ
る。すなわち、この第２液滴吐出工程と乾燥工程とが複
数回繰り返され、発光層が所望の膜厚になったところ
で、基板は基板搬送装置３（３ｂ）を経て、Ｒ色の発光
層を形成すべく中間の描画装置１（１ｂ）に搬送され、
最後に、Ｇ色の発光層を形成すべく右端の描画装置１
（１ｂ）に搬送される。そして、これらの作業は、上記
のチャンバ装置４（４ｂ）内の不活性ガスの雰囲気中で
行われる。なお、Ｂ・Ｒ・Ｇの各色発光層の形成のため
の作業順は、任意である。
置１（１ｂ）から基板搬送装置３（３ｂ）に受け渡さ
れ、基板搬送装置３（３ｂ）により乾燥装置２（２ｂ）
に導入される。乾燥装置２（２ｂ）では、基板を所定時
間、高温の不活性ガスの雰囲気に曝して、発光材料中の
溶剤を気化させる（乾燥工程）。ここで再度、基板を描
画装置１（１ｂ）に導入し第２液滴吐出工程が行われ
る。すなわち、この第２液滴吐出工程と乾燥工程とが複
数回繰り返され、発光層が所望の膜厚になったところ
で、基板は基板搬送装置３（３ｂ）を経て、Ｒ色の発光
層を形成すべく中間の描画装置１（１ｂ）に搬送され、
最後に、Ｇ色の発光層を形成すべく右端の描画装置１
（１ｂ）に搬送される。そして、これらの作業は、上記
のチャンバ装置４（４ｂ）内の不活性ガスの雰囲気中で
行われる。なお、Ｂ・Ｒ・Ｇの各色発光層の形成のため
の作業順は、任意である。
【０１０４】なお、乾燥装置２および基板搬送装置３の
詳細な説明は省略するが、例えば乾燥装置２であれば、
不活性ガスを吹き付けるブロー乾燥や真空乾燥の他、ホ
ットプレートを用いるもの或いはランプ（赤外線ラン
プ）を用いるもの等が、好ましい。そして、乾燥温度
は、４０℃〜２００℃±２℃とすることが、好ましい。
詳細な説明は省略するが、例えば乾燥装置２であれば、
不活性ガスを吹き付けるブロー乾燥や真空乾燥の他、ホ
ットプレートを用いるもの或いはランプ（赤外線ラン
プ）を用いるもの等が、好ましい。そして、乾燥温度
は、４０℃〜２００℃±２℃とすることが、好ましい。
【０１０５】次に、本発明の主体を為す描画装置１およ
び主チャンバ（チャンバ手段）４について、詳細に説明
する。描画装置１は、図１６ないし図１９に示すよう
に、液滴吐出装置（液滴吐出手段）１０と、その付帯装
置１１とを備えている。付帯装置１１は、液滴吐出装置
１０に発光機能材料（発光材料：機能液）を供給すると
共に不要となった機能液を回収する機能液供給回収装置
１３、各構成部品への駆動・制御用等の圧縮エアーを供
給するエアー供給装置１４、エアーを吸引する真空吸引
装置１５および機能液滴吐出ヘッド７のメンテナンスに
供するメンテナンス装置１６等を有している。
び主チャンバ（チャンバ手段）４について、詳細に説明
する。描画装置１は、図１６ないし図１９に示すよう
に、液滴吐出装置（液滴吐出手段）１０と、その付帯装
置１１とを備えている。付帯装置１１は、液滴吐出装置
１０に発光機能材料（発光材料：機能液）を供給すると
共に不要となった機能液を回収する機能液供給回収装置
１３、各構成部品への駆動・制御用等の圧縮エアーを供
給するエアー供給装置１４、エアーを吸引する真空吸引
装置１５および機能液滴吐出ヘッド７のメンテナンスに
供するメンテナンス装置１６等を有している。
【０１０６】液滴吐出装置１０は、床上に設置した架台
２１と、架台２１上に設置した石定盤２２と、石定盤２
２上に設置したＸ軸テーブル２３およびこれに直交する
Ｙ軸テーブル２４と、Ｙ軸テーブル２４に吊設するよう
に設けたメインキャリッジ２５と、メインキャリッジ２
５に搭載したヘッドユニット２６とを有している。詳細
は後述するが、ヘッドユニット２６には、サブキャリッ
ジ（キャリッジ）４１を介して、複数の機能液滴吐出ヘ
ッド７が搭載されている。また、この複数の機能液滴吐
出ヘッド７に対応して、Ｘ軸テーブル２３の吸着テーブ
ル８１上に基板（機能液滴吐出対象物）Ｗがセットされ
るようになっている。
２１と、架台２１上に設置した石定盤２２と、石定盤２
２上に設置したＸ軸テーブル２３およびこれに直交する
Ｙ軸テーブル２４と、Ｙ軸テーブル２４に吊設するよう
に設けたメインキャリッジ２５と、メインキャリッジ２
５に搭載したヘッドユニット２６とを有している。詳細
は後述するが、ヘッドユニット２６には、サブキャリッ
ジ（キャリッジ）４１を介して、複数の機能液滴吐出ヘ
ッド７が搭載されている。また、この複数の機能液滴吐
出ヘッド７に対応して、Ｘ軸テーブル２３の吸着テーブ
ル８１上に基板（機能液滴吐出対象物）Ｗがセットされ
るようになっている。
【０１０７】本実施形態の液滴吐出装置１０では、機能
液滴吐出ヘッド７の駆動（機能液滴の選択的吐出）に同
期して基板Ｗが移動する構成であり、機能液滴吐出ヘッ
ド７のいわゆる主走査は、Ｘ軸テーブル２３のＸ軸方向
への往復の両動作により行われる。また、これに対応し
て、いわゆる副走査は、Ｙ軸テーブル２４により機能液
滴吐出ヘッド７のＹ軸方向への往動動作により行われ
る。なお、上記の主走査をＸ軸方向への往動（または復
動）動作のみで行うようにしてもよい。
液滴吐出ヘッド７の駆動（機能液滴の選択的吐出）に同
期して基板Ｗが移動する構成であり、機能液滴吐出ヘッ
ド７のいわゆる主走査は、Ｘ軸テーブル２３のＸ軸方向
への往復の両動作により行われる。また、これに対応し
て、いわゆる副走査は、Ｙ軸テーブル２４により機能液
滴吐出ヘッド７のＹ軸方向への往動動作により行われ
る。なお、上記の主走査をＸ軸方向への往動（または復
動）動作のみで行うようにしてもよい。
【０１０８】一方、ヘッドユニット２６のホーム位置
は、図１７および図１９における図示左端位置となって
おり、且つこの液滴吐出装置１０の左方からヘッドユニ
ット２６の運び込み或いは交換が行われる（詳細は後述
する）。また、図示の手前側には、上記の基板搬送装置
３が臨んでおり、基板Ｗはこの手前側から搬入・搬出さ
れる。そして、この液滴吐出装置１０の図示右側には、
上記付帯装置１１の主な構成装置が、一体的に添設され
ている。
は、図１７および図１９における図示左端位置となって
おり、且つこの液滴吐出装置１０の左方からヘッドユニ
ット２６の運び込み或いは交換が行われる（詳細は後述
する）。また、図示の手前側には、上記の基板搬送装置
３が臨んでおり、基板Ｗはこの手前側から搬入・搬出さ
れる。そして、この液滴吐出装置１０の図示右側には、
上記付帯装置１１の主な構成装置が、一体的に添設され
ている。
【０１０９】付帯装置１１は、キャビネット形式の共通
機台３１と、共通機台３１内の一方の半部に収容した上
記のエアー供給装置１４および真空吸引装置１５と、共
通機台３１内の一方の半部に主要装置を収容した上記の
機能液供給回収装置１３と、共通機台３１上に主要装置
を収容した上記メンテナンス装置１６とを備えている。
機台３１と、共通機台３１内の一方の半部に収容した上
記のエアー供給装置１４および真空吸引装置１５と、共
通機台３１内の一方の半部に主要装置を収容した上記の
機能液供給回収装置１３と、共通機台３１上に主要装置
を収容した上記メンテナンス装置１６とを備えている。
【０１１０】メンテナンス装置１６は、機能液滴吐出ヘ
ッド７の定期的なフラッシング（全吐出ノズルからの機
能液の捨て吐出）を受ける大小２つのフラッシングユニ
ット３３と、機能液滴吐出ヘッド７の機能液吸引および
保管を行うクリーニングユニット３４と、機能液滴吐出
ヘッド７のノズル形成面をワイピングするワイピングユ
ニット３５とを有している。そして、クリーニングユニ
ット３４およびワイピングユニット３５は、上記の共通
機台３１上に配設されている。また、小さい方のフラッ
シングユニット３３Ａは、基板Ｗの近傍に配設され、大
きい方のフラッシングユニット３３Ｂは、ヘッドユニッ
ト２６のホーム位置近傍に配設されている（詳細は後述
する）。
ッド７の定期的なフラッシング（全吐出ノズルからの機
能液の捨て吐出）を受ける大小２つのフラッシングユニ
ット３３と、機能液滴吐出ヘッド７の機能液吸引および
保管を行うクリーニングユニット３４と、機能液滴吐出
ヘッド７のノズル形成面をワイピングするワイピングユ
ニット３５とを有している。そして、クリーニングユニ
ット３４およびワイピングユニット３５は、上記の共通
機台３１上に配設されている。また、小さい方のフラッ
シングユニット３３Ａは、基板Ｗの近傍に配設され、大
きい方のフラッシングユニット３３Ｂは、ヘッドユニッ
ト２６のホーム位置近傍に配設されている（詳細は後述
する）。
【０１１１】一方、主チャンバ４は、図１４および図１
５に示すように、チャンバルーム３７に、電気室３８お
よび機械室３９を併設した、いわゆるクリーンルームの
形態を有している。チャンバルーム３７には、不活性ガ
スである窒素ガスが導入され、これに収容した上記の液
滴吐出装置１０および付帯装置１１は、全体として窒素
ガスの雰囲気に曝され、窒素ガスの雰囲気中で稼動す
る。
５に示すように、チャンバルーム３７に、電気室３８お
よび機械室３９を併設した、いわゆるクリーンルームの
形態を有している。チャンバルーム３７には、不活性ガ
スである窒素ガスが導入され、これに収容した上記の液
滴吐出装置１０および付帯装置１１は、全体として窒素
ガスの雰囲気に曝され、窒素ガスの雰囲気中で稼動す
る。
【０１１２】ここで、図２０の模式図を参照して、窒素
ガスの雰囲気中で稼動する描画装置１の一連の動作を簡
単に説明する。先ず、準備段階として、ヘッドユニット
２６が液滴吐出装置１０に運び込まれ、これがメインキ
ャリッジ２５にセットされる。ヘッドユニット２６がメ
インキャリッジ２５にセットされると、Ｙ軸テーブル２
４がヘッドユニット２６を、図外のヘッド認識カメラの
位置に移動させ、ヘッド認識カメラによりヘッドユニッ
ト２６が位置認識される。ここで、この認識結果に基づ
いて、ヘッドユニット２６がθ補正され、且つヘッドユ
ニット２６のＸ軸方向およびＹ軸方向の位置補正がデー
タ上で行われる。位置補正後、ヘッドユニット（メイン
キャリッジ２５）２６はホーム位置に戻る。
ガスの雰囲気中で稼動する描画装置１の一連の動作を簡
単に説明する。先ず、準備段階として、ヘッドユニット
２６が液滴吐出装置１０に運び込まれ、これがメインキ
ャリッジ２５にセットされる。ヘッドユニット２６がメ
インキャリッジ２５にセットされると、Ｙ軸テーブル２
４がヘッドユニット２６を、図外のヘッド認識カメラの
位置に移動させ、ヘッド認識カメラによりヘッドユニッ
ト２６が位置認識される。ここで、この認識結果に基づ
いて、ヘッドユニット２６がθ補正され、且つヘッドユ
ニット２６のＸ軸方向およびＹ軸方向の位置補正がデー
タ上で行われる。位置補正後、ヘッドユニット（メイン
キャリッジ２５）２６はホーム位置に戻る。
【０１１３】一方、Ｘ軸テーブル２３の吸着テーブル８
１上に基板（この場合は、導入される基板毎）Ｗが導入
されると、この位置（受渡し位置）で後述する主基板認
識カメラ９０が基板を位置認識する。ここで、この認識
結果に基づいて、基板Ｗがθ補正され、且つ基板ＷのＸ
軸方向およびＹ軸方向の位置補正がデータ上で行われ
る。位置補正後、基板（吸着テーブル８１）Ｗはホーム
位置に戻る。なお、Ｘ軸およびＹ軸テーブル２３，２４
の初期調整時（いわゆる通り出し）には、吸着テーブル
８１上にアライメントマスクを導入し、後述する副基板
認識カメラ１０８により初期調整を行う。
１上に基板（この場合は、導入される基板毎）Ｗが導入
されると、この位置（受渡し位置）で後述する主基板認
識カメラ９０が基板を位置認識する。ここで、この認識
結果に基づいて、基板Ｗがθ補正され、且つ基板ＷのＸ
軸方向およびＹ軸方向の位置補正がデータ上で行われ
る。位置補正後、基板（吸着テーブル８１）Ｗはホーム
位置に戻る。なお、Ｘ軸およびＹ軸テーブル２３，２４
の初期調整時（いわゆる通り出し）には、吸着テーブル
８１上にアライメントマスクを導入し、後述する副基板
認識カメラ１０８により初期調整を行う。
【０１１４】このようにして準備が完了すると、実際の
液滴吐出作業では、先ずＸ軸テーブル２３が駆動し、基
板Ｗを主走査方向に往復動させると共に複数の機能液滴
吐出ヘッド７を駆動して、機能液滴の基板Ｗへの選択的
な吐出動作が行われる。基板Ｗが復動した後、こんどは
Ｙ軸テーブル２４が駆動し、ヘッドユニット２６を１ピ
ッチ分、副走査方向に移動させ、再度基板Ｗの主走査方
向への往復移動と機能液滴吐出ヘッド７の駆動が行われ
る。そしてこれを、数回繰り返すことで、基板Ｗの端か
ら端まで（全領域）液滴吐出が行われる。
液滴吐出作業では、先ずＸ軸テーブル２３が駆動し、基
板Ｗを主走査方向に往復動させると共に複数の機能液滴
吐出ヘッド７を駆動して、機能液滴の基板Ｗへの選択的
な吐出動作が行われる。基板Ｗが復動した後、こんどは
Ｙ軸テーブル２４が駆動し、ヘッドユニット２６を１ピ
ッチ分、副走査方向に移動させ、再度基板Ｗの主走査方
向への往復移動と機能液滴吐出ヘッド７の駆動が行われ
る。そしてこれを、数回繰り返すことで、基板Ｗの端か
ら端まで（全領域）液滴吐出が行われる。
【０１１５】なお、本実施形態では、ヘッドユニット２
６に対し、その吐出対象物である基板Ｗを主走査方向
（Ｘ軸方向）に移動させるようにしているが、ヘッドユ
ニット２６を主走査方向に移動させる構成であってもよ
い。また、ヘッドユニット２６を固定とし、基板Ｗを主
走査方向および副走査方向に移動させる構成であっても
よい。
６に対し、その吐出対象物である基板Ｗを主走査方向
（Ｘ軸方向）に移動させるようにしているが、ヘッドユ
ニット２６を主走査方向に移動させる構成であってもよ
い。また、ヘッドユニット２６を固定とし、基板Ｗを主
走査方向および副走査方向に移動させる構成であっても
よい。
【０１１６】次に、上記した液滴吐出装置１０、付帯装
置１１および主チャンバ４の各構成装置について、順を
追って説明するが、その前に、理解を容易にすべく、液
滴吐出装置１０の主要部となるヘッドユニット２６につ
いて詳細に説明する。
置１１および主チャンバ４の各構成装置について、順を
追って説明するが、その前に、理解を容易にすべく、液
滴吐出装置１０の主要部となるヘッドユニット２６につ
いて詳細に説明する。
【０１１７】図２１ないし図２４は、ヘッドユニットの
構造図である。これらの図に示すように、ヘッドユニッ
ト２６は、サブキャリッジ４１と、サブキャリッジ４１
に搭載した複数個（１２個）の機能液滴吐出ヘッド７
と、各機能液滴吐出ヘッド７をサブキャリッジ４１に個
々に取り付けるための複数個（１２個）のヘッド保持部
材４２とを備えている。１２個の機能液滴吐出ヘッド７
は、６個づつ左右に二分され、主走査方向に対し所定の
角度傾けて配設されている。
構造図である。これらの図に示すように、ヘッドユニッ
ト２６は、サブキャリッジ４１と、サブキャリッジ４１
に搭載した複数個（１２個）の機能液滴吐出ヘッド７
と、各機能液滴吐出ヘッド７をサブキャリッジ４１に個
々に取り付けるための複数個（１２個）のヘッド保持部
材４２とを備えている。１２個の機能液滴吐出ヘッド７
は、６個づつ左右に二分され、主走査方向に対し所定の
角度傾けて配設されている。
【０１１８】また、各６個の機能液滴吐出ヘッド７は、
副走査方向に対し相互に位置ずれして配設され、１２個
の機能液滴吐出ヘッド７の全吐出ノズル６８（後述す
る）が副走査方向において連続する（一部重複）ように
なっている。すなわち、実施形態のヘッド配列は、サブ
キャリッジ４１上において、同一方向に傾けて配置した
６個の機能液滴吐出ヘッド７を２列としたものであり、
且つ各ヘッド列間において機能液滴吐出ヘッド７が相互
に１８０°回転した配置となっている。
副走査方向に対し相互に位置ずれして配設され、１２個
の機能液滴吐出ヘッド７の全吐出ノズル６８（後述す
る）が副走査方向において連続する（一部重複）ように
なっている。すなわち、実施形態のヘッド配列は、サブ
キャリッジ４１上において、同一方向に傾けて配置した
６個の機能液滴吐出ヘッド７を２列としたものであり、
且つ各ヘッド列間において機能液滴吐出ヘッド７が相互
に１８０°回転した配置となっている。
【０１１９】もっとも、この配列パターンは一例であ
り、例えば、各ヘッド列における隣接する機能液滴吐出
ヘッド７同士を９０°の角度を持って配置（隣接ヘッド
同士が「ハ」字状）したり、各ヘッド列間における機能
液滴吐出ヘッド７を９０°の角度を持って配置（列間ヘ
ッド同士が「ハ」字状）したりすることは可能である。
いずれにしても、１２個の機能液滴吐出ヘッド７の全吐
出ノズル６８によるドットが副走査方向において連続し
ていればよい。
り、例えば、各ヘッド列における隣接する機能液滴吐出
ヘッド７同士を９０°の角度を持って配置（隣接ヘッド
同士が「ハ」字状）したり、各ヘッド列間における機能
液滴吐出ヘッド７を９０°の角度を持って配置（列間ヘ
ッド同士が「ハ」字状）したりすることは可能である。
いずれにしても、１２個の機能液滴吐出ヘッド７の全吐
出ノズル６８によるドットが副走査方向において連続し
ていればよい。
【０１２０】また、各種の基板Ｗに対し機能液滴吐出ヘ
ッド７を専用部品とすれば、機能液滴吐出ヘッド７をあ
えて傾けてセットする必要は無く、千鳥状や階段状に配
設すれば足りる。さらにいえば、所定長さのノズル列
（ドット列）を構成できる限り、これを単一の機能液滴
吐出ヘッド７で構成してもよいし複数の機能液滴吐出ヘ
ッド７で構成してもよい。すなわち、機能液滴吐出ヘッ
ド７の個数や列数、さらに配列パターンは任意である。
ッド７を専用部品とすれば、機能液滴吐出ヘッド７をあ
えて傾けてセットする必要は無く、千鳥状や階段状に配
設すれば足りる。さらにいえば、所定長さのノズル列
（ドット列）を構成できる限り、これを単一の機能液滴
吐出ヘッド７で構成してもよいし複数の機能液滴吐出ヘ
ッド７で構成してもよい。すなわち、機能液滴吐出ヘッ
ド７の個数や列数、さらに配列パターンは任意である。
【０１２１】サブキャリッジ４１は、一部が切り欠かれ
た略方形の本体プレート４４と、本体プレート４４の長
辺方向の中間位置に設けた左右一対の基準ピン４５，４
５と、本体プレート４４の両長辺部分に取り付けた左右
一対の支持部材４６，４６と、各支持部材４６の端部に
設けた左右一対のハンドル４７，４７とを有している。
左右のハンドル４７，４７は、例えば組み立てたヘッド
ユニット２６を上記の液滴吐出装置１０に載せ込む場合
に、ヘッドユニット２６を手持ちするための部位とな
る。また、左右の支持部材４６，４６は、サブキャリッ
ジ４１を液滴吐出装置１０のセット部に固定するときの
部位となる（いずれも詳細は後述する）。更に、一対の
基準ピン４５，４５は、画像認識を前提として、サブキ
ャリッジ（ヘッドユニット２６）４１をＸ軸、Ｙ軸およ
びθ軸方向に位置決め（位置認識）するための基準とな
るものである。
た略方形の本体プレート４４と、本体プレート４４の長
辺方向の中間位置に設けた左右一対の基準ピン４５，４
５と、本体プレート４４の両長辺部分に取り付けた左右
一対の支持部材４６，４６と、各支持部材４６の端部に
設けた左右一対のハンドル４７，４７とを有している。
左右のハンドル４７，４７は、例えば組み立てたヘッド
ユニット２６を上記の液滴吐出装置１０に載せ込む場合
に、ヘッドユニット２６を手持ちするための部位とな
る。また、左右の支持部材４６，４６は、サブキャリッ
ジ４１を液滴吐出装置１０のセット部に固定するときの
部位となる（いずれも詳細は後述する）。更に、一対の
基準ピン４５，４５は、画像認識を前提として、サブキ
ャリッジ（ヘッドユニット２６）４１をＸ軸、Ｙ軸およ
びθ軸方向に位置決め（位置認識）するための基準とな
るものである。
【０１２２】さらに、サブキャリッジ４１には、二分さ
れた機能液滴吐出ヘッド群７Ｓの上側に位置して、これ
ら機能液滴吐出ヘッド７に接続される左右一対の配管接
続アッセンブリ４９，４９および左右一対の配線接続ア
ッセンブリ５０，５０が設けられている。各配管接続ア
ッセンブリ４９は、描画装置１の機能液供給回収装置１
３に配管接続され、同様に各配線接続アッセンブリ５０
は、描画装置１の制御装置（ヘッドドライバ：図示省
略）に配線接続されるようになっている。なお、図２２
は、一方（左側）の配管接続アッセンブリ４９を省略し
て、描かれている。
れた機能液滴吐出ヘッド群７Ｓの上側に位置して、これ
ら機能液滴吐出ヘッド７に接続される左右一対の配管接
続アッセンブリ４９，４９および左右一対の配線接続ア
ッセンブリ５０，５０が設けられている。各配管接続ア
ッセンブリ４９は、描画装置１の機能液供給回収装置１
３に配管接続され、同様に各配線接続アッセンブリ５０
は、描画装置１の制御装置（ヘッドドライバ：図示省
略）に配線接続されるようになっている。なお、図２２
は、一方（左側）の配管接続アッセンブリ４９を省略し
て、描かれている。
【０１２３】なお、図２１および図２３にのみ示すよう
に、このヘッドユニット２６には更に、両配線接続アッ
センブリ５０を覆う基板カバー５１が設けられている。
基板カバー５１は、各配線接続アッセンブリ５０の側面
を覆う一対の側面カバー５３，５３と、一対の側面カバ
ー５３，５３間に渡した上面カバー５４とで構成されて
いる。このうち上面カバー５４は、ヘッドユニット２６
を液滴吐出装置１０にセットした後に取り付けるように
なっている。
に、このヘッドユニット２６には更に、両配線接続アッ
センブリ５０を覆う基板カバー５１が設けられている。
基板カバー５１は、各配線接続アッセンブリ５０の側面
を覆う一対の側面カバー５３，５３と、一対の側面カバ
ー５３，５３間に渡した上面カバー５４とで構成されて
いる。このうち上面カバー５４は、ヘッドユニット２６
を液滴吐出装置１０にセットした後に取り付けるように
なっている。
【０１２４】図２５に示すように、機能液滴吐出ヘッド
７は、いわゆる２連のものであり、２連の接続針６２，
６２を有する液体導入部６１と、液体導入部６１の側方
に連なる２連のヘッド基板６３と、液体導入部６１に下
方に連なる２連のポンプ部６４と、ポンプ部６４に連な
るノズル形成プレート６５とを備えている。液体導入部
６１には、上記の配管接続アッセンブリ４９が接続さ
れ、ヘッド基板６３の２連のコネクタ６６，６６には、
上記の配線接続アッセンブリ５０が接続されている。一
方、このポンプ部６４とノズル形成プレート６５とによ
り、サブキャリッジ４１裏面側に突出する方形のヘッド
本体６０が構成されている。また、ノズル形成プレート
６５のノズル形成面６７には、多数の吐出ノズル６８を
列設した２列のノズル列６９，６９が形成されている。
７は、いわゆる２連のものであり、２連の接続針６２，
６２を有する液体導入部６１と、液体導入部６１の側方
に連なる２連のヘッド基板６３と、液体導入部６１に下
方に連なる２連のポンプ部６４と、ポンプ部６４に連な
るノズル形成プレート６５とを備えている。液体導入部
６１には、上記の配管接続アッセンブリ４９が接続さ
れ、ヘッド基板６３の２連のコネクタ６６，６６には、
上記の配線接続アッセンブリ５０が接続されている。一
方、このポンプ部６４とノズル形成プレート６５とによ
り、サブキャリッジ４１裏面側に突出する方形のヘッド
本体６０が構成されている。また、ノズル形成プレート
６５のノズル形成面６７には、多数の吐出ノズル６８を
列設した２列のノズル列６９，６９が形成されている。
【０１２５】次に、液滴吐出装置１０の他の構成装置、
付帯装置１１および主チャンバ４の各構成装置につい
て、順を追って説明する。
付帯装置１１および主チャンバ４の各構成装置につい
て、順を追って説明する。
【０１２６】図２６ないし２９は、Ｘ軸テーブルを搭載
した液滴吐出装置の架台２１および石定盤２２を表して
いる。これら図に示すように、架台２１は、アングル材
等を方形に組んで構成され、下部に分散配置したアジャ
ストボルト付きの複数（９個）の支持脚７１を有してい
る。架台２１の上部には、各辺に対し２個の割合で、運
搬等の移動の際に石定盤２２を固定するための複数（８
個）の固定部材７２が、側方に張り出すように取り付け
られている。各固定部材７２は、ブラケット様に「Ｌ」
字状に形成され、基端側を架台２１の上部側面に固定さ
れ、先端側を調整ボルト７３を介して、石定盤２２の下
部側面に当接するようになっている。石定盤２２は、架
台２１に対し非締結状態で載っており、石定盤２２を運
搬する際にこの固定部材７２により、架台２１に対し石
定盤２２がＸ軸方向およびＹ軸方向（前後左右）に不動
に固定される。
した液滴吐出装置の架台２１および石定盤２２を表して
いる。これら図に示すように、架台２１は、アングル材
等を方形に組んで構成され、下部に分散配置したアジャ
ストボルト付きの複数（９個）の支持脚７１を有してい
る。架台２１の上部には、各辺に対し２個の割合で、運
搬等の移動の際に石定盤２２を固定するための複数（８
個）の固定部材７２が、側方に張り出すように取り付け
られている。各固定部材７２は、ブラケット様に「Ｌ」
字状に形成され、基端側を架台２１の上部側面に固定さ
れ、先端側を調整ボルト７３を介して、石定盤２２の下
部側面に当接するようになっている。石定盤２２は、架
台２１に対し非締結状態で載っており、石定盤２２を運
搬する際にこの固定部材７２により、架台２１に対し石
定盤２２がＸ軸方向およびＹ軸方向（前後左右）に不動
に固定される。
【０１２７】石定盤２２は、機能液滴吐出ヘッド７を精
度良く移動させるＸ軸テーブル２３およびＹ軸テーブル
２４が、周囲の環境条件や振動等により精度（特に平面
度）上の狂いが生じないように支持するものであり、平
面視長方形の無垢の石材で構成されている。石定盤２２
の下部には、これを架台２１上に支持するアジャストボ
ルト付きの３つの主支持脚７５および６つの補助脚７６
が設けられている。３つの主支持脚７５は、石定盤２２
を３点で支持し、その表面の平行度（水平度を含む）を
出すためのものであり、６つの補助脚７６は、石定盤２
２の３つの主支持脚７５から外れた部分を支持しその撓
みを抑制するものである。
度良く移動させるＸ軸テーブル２３およびＹ軸テーブル
２４が、周囲の環境条件や振動等により精度（特に平面
度）上の狂いが生じないように支持するものであり、平
面視長方形の無垢の石材で構成されている。石定盤２２
の下部には、これを架台２１上に支持するアジャストボ
ルト付きの３つの主支持脚７５および６つの補助脚７６
が設けられている。３つの主支持脚７５は、石定盤２２
を３点で支持し、その表面の平行度（水平度を含む）を
出すためのものであり、６つの補助脚７６は、石定盤２
２の３つの主支持脚７５から外れた部分を支持しその撓
みを抑制するものである。
【０１２８】このため、図２９に模式的に示すように、
３つの主支持脚７５，７５，７５は二等辺三角形をなす
ように配置され、その底辺を為す２つの主支持脚７５
が、石定盤２２の基板搬入側（同図では左側、図１６で
は手前側）に位置するように配設されている。また、６
つの補助脚７６，７６，７６，７６，７６，７６は、上
記３つの主支持脚７５，７５，７５を含んで縦横に３×
３となるように、均一且つ分散して配設されている。
３つの主支持脚７５，７５，７５は二等辺三角形をなす
ように配置され、その底辺を為す２つの主支持脚７５
が、石定盤２２の基板搬入側（同図では左側、図１６で
は手前側）に位置するように配設されている。また、６
つの補助脚７６，７６，７６，７６，７６，７６は、上
記３つの主支持脚７５，７５，７５を含んで縦横に３×
３となるように、均一且つ分散して配設されている。
【０１２９】この場合、石定盤２２上には、その長辺に
沿う中心線に軸線を合致させてＸ軸テーブル２３が設置
され、短辺に沿う中心軸に軸線を合致させてＹ軸テーブ
ル２４が設置されている。このため、Ｘ軸テーブル２３
は、石定盤２２上に直接固定され、Ｙ軸テーブル２４
は、その４本の支柱７８がそれぞれスペーサブロック７
９を介して石定盤２２上に固定されている。これによ
り、Ｙ軸テーブル２４は、Ｘ軸テーブル２３を跨いでそ
の上側に直交するように配設されている。なお、図２７
中の符号８０は、後述する主基板認識カメラを固定ため
の４つの小ブロックであり、主基板認識カメラも石定盤
２２上に固定されている。
沿う中心線に軸線を合致させてＸ軸テーブル２３が設置
され、短辺に沿う中心軸に軸線を合致させてＹ軸テーブ
ル２４が設置されている。このため、Ｘ軸テーブル２３
は、石定盤２２上に直接固定され、Ｙ軸テーブル２４
は、その４本の支柱７８がそれぞれスペーサブロック７
９を介して石定盤２２上に固定されている。これによ
り、Ｙ軸テーブル２４は、Ｘ軸テーブル２３を跨いでそ
の上側に直交するように配設されている。なお、図２７
中の符号８０は、後述する主基板認識カメラを固定ため
の４つの小ブロックであり、主基板認識カメラも石定盤
２２上に固定されている。
【０１３０】図２６ないし図２８のＸ軸移動系と図３０
ないし図３２のθ移動系に示すように、Ｘ軸テーブル２
３は、石定盤２２の長辺方向に延在しており、基板Ｗを
エアー吸引により吸着セットする吸着テーブル８１と、
吸着テーブル８１を支持するθテーブル８２と（図３０
ないし図３２参照）、θテーブル８２をＸ軸方向にスラ
イド自在に支持するＸ軸エアースライダ８３と、θテー
ブル８２を介して吸着テーブル８１上の基板ＷをＸ軸方
向に移動させるＸ軸リニアモータ８４と、Ｘ軸エアース
ライダ８３に併設したＸ軸リニアスケール８５と（図２
６ないし図２９参照）で構成されている。
ないし図３２のθ移動系に示すように、Ｘ軸テーブル２
３は、石定盤２２の長辺方向に延在しており、基板Ｗを
エアー吸引により吸着セットする吸着テーブル８１と、
吸着テーブル８１を支持するθテーブル８２と（図３０
ないし図３２参照）、θテーブル８２をＸ軸方向にスラ
イド自在に支持するＸ軸エアースライダ８３と、θテー
ブル８２を介して吸着テーブル８１上の基板ＷをＸ軸方
向に移動させるＸ軸リニアモータ８４と、Ｘ軸エアース
ライダ８３に併設したＸ軸リニアスケール８５と（図２
６ないし図２９参照）で構成されている。
【０１３１】Ｘ軸リニアモータ８４は、Ｘ軸エアースラ
イダ８３のヘッドユニット２６搬入側に位置し、Ｘ軸リ
ニアスケール８５は、Ｘ軸エアースライダ８３の付帯装
置１１側に位置しており、これらは、相互に平行に配設
されている。Ｘ軸リニアモータ８４、Ｘ軸エアースライ
ダ８３およびＸ軸リニアスケール８５は、石定盤２２上
に直接支持されている。吸着テーブル８１には、上記の
真空吸引装置１５に連なる真空チューブが接続されてお
り（図示省略）、そのエアー吸引によりセットされた基
板Ｗが平坦度を維持するようにこれを吸着する。
イダ８３のヘッドユニット２６搬入側に位置し、Ｘ軸リ
ニアスケール８５は、Ｘ軸エアースライダ８３の付帯装
置１１側に位置しており、これらは、相互に平行に配設
されている。Ｘ軸リニアモータ８４、Ｘ軸エアースライ
ダ８３およびＸ軸リニアスケール８５は、石定盤２２上
に直接支持されている。吸着テーブル８１には、上記の
真空吸引装置１５に連なる真空チューブが接続されてお
り（図示省略）、そのエアー吸引によりセットされた基
板Ｗが平坦度を維持するようにこれを吸着する。
【０１３２】また、Ｘ軸リニアスケール８５の付帯装置
１１側には、これに平行に位置して、石定盤２２上にボ
ックス８８に収容された状態で、Ｘ軸ケーブルベア８７
が配設されている。Ｘ軸ケーブルベア８７には、吸着テ
ーブル８１の真空チューブやθテーブル８２用のケーブ
ル等が、吸着テーブル８１およびθテーブル８２の移動
に追従するように、収容されている（図２７および図２
８参照）。
１１側には、これに平行に位置して、石定盤２２上にボ
ックス８８に収容された状態で、Ｘ軸ケーブルベア８７
が配設されている。Ｘ軸ケーブルベア８７には、吸着テ
ーブル８１の真空チューブやθテーブル８２用のケーブ
ル等が、吸着テーブル８１およびθテーブル８２の移動
に追従するように、収容されている（図２７および図２
８参照）。
【０１３３】このように構成されたＸ軸テーブル２３
は、Ｘ軸リニアモータ８４の駆動により、基板Ｗを吸着
した吸着テーブル８１およびθテーブル８２が、Ｘ軸エ
アースライダ８３を案内にしてＸ軸方向に移動する。こ
のＸ軸方向の往復移動において、基板搬入側から奥側に
向かう往動動作により、機能液滴吐出ヘッド７の相対的
な主走査が行われる。また、後述する主基板認識カメラ
９０の認識結果に基づいて、θテーブル８２による基板
Ｗのθ補正（水平面内における角度補正）が行われる。
は、Ｘ軸リニアモータ８４の駆動により、基板Ｗを吸着
した吸着テーブル８１およびθテーブル８２が、Ｘ軸エ
アースライダ８３を案内にしてＸ軸方向に移動する。こ
のＸ軸方向の往復移動において、基板搬入側から奥側に
向かう往動動作により、機能液滴吐出ヘッド７の相対的
な主走査が行われる。また、後述する主基板認識カメラ
９０の認識結果に基づいて、θテーブル８２による基板
Ｗのθ補正（水平面内における角度補正）が行われる。
【０１３４】図３３は、主基板認識カメラを表してい
る。同図に示すように、吸着テーブル８１の直上部に
は、基板の搬入位置（受渡し位置）に臨むように、一対
の主基板基板認識カメラ９０，９０が配設されている。
一対の主基板基板認識カメラ９０，９０は、基板の２つ
の基準位置（図示省略）を同時に画像認識するようにな
っている。
る。同図に示すように、吸着テーブル８１の直上部に
は、基板の搬入位置（受渡し位置）に臨むように、一対
の主基板基板認識カメラ９０，９０が配設されている。
一対の主基板基板認識カメラ９０，９０は、基板の２つ
の基準位置（図示省略）を同時に画像認識するようにな
っている。
【０１３５】図３４、図３５および図３６に示すよう
に、Ｙ軸テーブル２４は、石定盤２２の短辺方向に延在
しており、上記のメインキャリッジ２５を吊設するブリ
ッジプレート９１と、ブリッジプレート９１を両持ちで
且つＹ軸方向にスライド自在に支持する一対のＹ軸スラ
イダ９２，９２と、Ｙ軸スライダ９２に併設したＹ軸リ
ニアスケール９３と、一対のＹ軸スライダ９２，９２を
案内にしてブリッジプレート９１をＹ軸方向に移動させ
るＹ軸ボールねじ９４と、Ｙ軸ボールねじ９４を正逆回
転させるＹ軸モータ９５とを備えている。また、一対の
Ｙ軸スライダ９２，９２の両側に位置して、一対のＹ軸
ケーブルベア９６，９６がそれぞれボックス９７，９７
に収容した状態で、配設されている。
に、Ｙ軸テーブル２４は、石定盤２２の短辺方向に延在
しており、上記のメインキャリッジ２５を吊設するブリ
ッジプレート９１と、ブリッジプレート９１を両持ちで
且つＹ軸方向にスライド自在に支持する一対のＹ軸スラ
イダ９２，９２と、Ｙ軸スライダ９２に併設したＹ軸リ
ニアスケール９３と、一対のＹ軸スライダ９２，９２を
案内にしてブリッジプレート９１をＹ軸方向に移動させ
るＹ軸ボールねじ９４と、Ｙ軸ボールねじ９４を正逆回
転させるＹ軸モータ９５とを備えている。また、一対の
Ｙ軸スライダ９２，９２の両側に位置して、一対のＹ軸
ケーブルベア９６，９６がそれぞれボックス９７，９７
に収容した状態で、配設されている。
【０１３６】Ｙ軸モータ９５はサーボモータで構成され
ており、Ｙ軸モータ９５が正逆回転すると、Ｙ軸ボール
ねじ９４を介してこれに螺合しているブリッジプレート
９１が、一対のＹ軸スライダ９２，９２を案内にしてＹ
軸方向に移動する。すなわち、ブリッジプレート９１の
Ｙ軸方向への移動に伴って、メインキャリッジ２５がＹ
軸方向に移動する。このメインキャリッジ（ヘッドユニ
ット２６）２５のＹ軸方向の往復移動において、ホーム
位置側から付帯装置１１側に向かう往動動作により、機
能液滴吐出ヘッド７の副走査が行われる。
ており、Ｙ軸モータ９５が正逆回転すると、Ｙ軸ボール
ねじ９４を介してこれに螺合しているブリッジプレート
９１が、一対のＹ軸スライダ９２，９２を案内にしてＹ
軸方向に移動する。すなわち、ブリッジプレート９１の
Ｙ軸方向への移動に伴って、メインキャリッジ２５がＹ
軸方向に移動する。このメインキャリッジ（ヘッドユニ
ット２６）２５のＹ軸方向の往復移動において、ホーム
位置側から付帯装置１１側に向かう往動動作により、機
能液滴吐出ヘッド７の副走査が行われる。
【０１３７】一方、上記の４本の支柱７８上には、メイ
ンキャリッジ２５の移動経路の部分を長方形開口９８ａ
とした載置台プレート９８が支持されており、載置台プ
レート９８上には、長方形開口９８ａを逃げて一対のＹ
軸スライダ９２，９２およびＹ軸ボールねじ９４が、相
互に平行に配設されている。また、載置台プレート９８
から外側に張り出した一対の支持板９９，９９上には、
上記の一対のＹ軸ケーブルベア９６，９６が、そのボッ
クス９７，９７と共に載置されている。
ンキャリッジ２５の移動経路の部分を長方形開口９８ａ
とした載置台プレート９８が支持されており、載置台プ
レート９８上には、長方形開口９８ａを逃げて一対のＹ
軸スライダ９２，９２およびＹ軸ボールねじ９４が、相
互に平行に配設されている。また、載置台プレート９８
から外側に張り出した一対の支持板９９，９９上には、
上記の一対のＹ軸ケーブルベア９６，９６が、そのボッ
クス９７，９７と共に載置されている。
【０１３８】基板搬入側のＹ軸ケーブルベア９６には、
主にヘッドユニット２６に接続されるケーブルが収容さ
れ、逆側のＹ軸ケーブルベアには、主にヘッドユニット
２６に接続される機能液用のチューブが収容されている
（いずれも図示省略）。そして、これらケーブルおよび
チューブは、上記のブリッジプレート９１を介してヘッ
ドユニット２６の複数の機能液滴吐出ヘッド７に接続さ
れている。
主にヘッドユニット２６に接続されるケーブルが収容さ
れ、逆側のＹ軸ケーブルベアには、主にヘッドユニット
２６に接続される機能液用のチューブが収容されている
（いずれも図示省略）。そして、これらケーブルおよび
チューブは、上記のブリッジプレート９１を介してヘッ
ドユニット２６の複数の機能液滴吐出ヘッド７に接続さ
れている。
【０１３９】図３７および図３８に示すように、メイン
キャリッジ２５は、上記のブリッジプレート９１に下側
から固定される外観「Ｉ」形の吊設部材１０１と、吊設
部材１０１の下面に取り付けたθテーブル１０２と、θ
テーブル１０２の下面に吊設するように取り付けたキャ
リッジ本体１０３とで構成されている。そして、この吊
設部材１０１が、上記の載置台プレート９８の長方形開
口９８ａに臨んでいる。
キャリッジ２５は、上記のブリッジプレート９１に下側
から固定される外観「Ｉ」形の吊設部材１０１と、吊設
部材１０１の下面に取り付けたθテーブル１０２と、θ
テーブル１０２の下面に吊設するように取り付けたキャ
リッジ本体１０３とで構成されている。そして、この吊
設部材１０１が、上記の載置台プレート９８の長方形開
口９８ａに臨んでいる。
【０１４０】キャリッジ本体１０３は、ヘッドユニット
２６が着座するベースプレート１０４と、ベースプレー
ト１０４を垂設するように支持するアーチ部材１０５
と、ベースプレート１０４の一方の端部に突出するよう
に設けた一対の仮置きアングル１０６，１０６と、ペー
スプレート１０４の他方の端部に設けたストッパプレー
ト１０７とを備えている。また、ストッパプレート１０
７の外側には、基板Ｗを認識する上記の一対の副基板認
識カメラ１０８が、配設されている。
２６が着座するベースプレート１０４と、ベースプレー
ト１０４を垂設するように支持するアーチ部材１０５
と、ベースプレート１０４の一方の端部に突出するよう
に設けた一対の仮置きアングル１０６，１０６と、ペー
スプレート１０４の他方の端部に設けたストッパプレー
ト１０７とを備えている。また、ストッパプレート１０
７の外側には、基板Ｗを認識する上記の一対の副基板認
識カメラ１０８が、配設されている。
【０１４１】ベースプレート１０４には、ヘッドユニッ
ト２６の本体プレート４４が遊嵌する方形開口１１１が
形成され、またこの方形開口１１１を構成するベースプ
レート１０４の左右の各開口縁部１１２には、ヘッドユ
ニット２６を位置決め固定するためのボルト孔１１３，
１１３、２つの貫通孔１１４，１１４および位置決めピ
ン１１５とが設けられている。
ト２６の本体プレート４４が遊嵌する方形開口１１１が
形成され、またこの方形開口１１１を構成するベースプ
レート１０４の左右の各開口縁部１１２には、ヘッドユ
ニット２６を位置決め固定するためのボルト孔１１３，
１１３、２つの貫通孔１１４，１１４および位置決めピ
ン１１５とが設けられている。
【０１４２】このように構成されたメインキャリッジ２
５には、ヘッドユニット２６が、その両ハンドル４７，
４７により手持ちされて運び込まれ、セットされるよう
になっている。すなわち、運び込まれたヘッドユニット
２６は、いったん両仮置きアングル１０６，１０６上に
載置される（仮置き）。ここで、ブリッジプレート９１
上に配設した機能液供給回収装置１３に連なるチューブ
を、ヘッドユニット２６の配管接続アッセンブリ４９に
配管接続すると共に、制御系のケーブルを配線接続アッ
センブリ５０に配線接続する。さらに、上記の上面カバ
ー５４を取り付ける。そして、再度ハンドル４７，４７
を把持し、両仮置きアングル１０６，１０６をガイドに
してヘッドユニット２６を先方に押し入れ、これをベー
スプレート１０４の左右の開口縁部１１２，１１２にセ
ットするようになっている。
５には、ヘッドユニット２６が、その両ハンドル４７，
４７により手持ちされて運び込まれ、セットされるよう
になっている。すなわち、運び込まれたヘッドユニット
２６は、いったん両仮置きアングル１０６，１０６上に
載置される（仮置き）。ここで、ブリッジプレート９１
上に配設した機能液供給回収装置１３に連なるチューブ
を、ヘッドユニット２６の配管接続アッセンブリ４９に
配管接続すると共に、制御系のケーブルを配線接続アッ
センブリ５０に配線接続する。さらに、上記の上面カバ
ー５４を取り付ける。そして、再度ハンドル４７，４７
を把持し、両仮置きアングル１０６，１０６をガイドに
してヘッドユニット２６を先方に押し入れ、これをベー
スプレート１０４の左右の開口縁部１１２，１１２にセ
ットするようになっている。
【０１４３】次に、付帯装置１１の共通機台３１につい
て説明する。図３９ないし図４２に示すように、共通機
台３１は、隔壁を介して大小の２つの収容室１２２ａ，
１２２ｂを形成したキャビネット形式の機台本体１２１
と、機台本体１２１上に設けた移動テーブル１２３と、
移動テーブル１２３上に固定した共通ベース１２４と、
機台本体１２１上の移動テーブル１２３から外れた端位
置に設けたタンクベース１２５とを備えている。共通ベ
ース１２４には、クリーニングユニット３４およびワイ
ピングユニット３５が載置され、タンクベース１２５に
は、後述する機能液供給回収装置１３の中間タンク１２
６が載置されている。
て説明する。図３９ないし図４２に示すように、共通機
台３１は、隔壁を介して大小の２つの収容室１２２ａ，
１２２ｂを形成したキャビネット形式の機台本体１２１
と、機台本体１２１上に設けた移動テーブル１２３と、
移動テーブル１２３上に固定した共通ベース１２４と、
機台本体１２１上の移動テーブル１２３から外れた端位
置に設けたタンクベース１２５とを備えている。共通ベ
ース１２４には、クリーニングユニット３４およびワイ
ピングユニット３５が載置され、タンクベース１２５に
は、後述する機能液供給回収装置１３の中間タンク１２
６が載置されている。
【０１４４】機台本体１２１の下面には、アジャストボ
ルト付きの６つの支持脚１２８と、４つのキャスタ１２
９が設けられており、また液滴吐出装置１０側には、液
滴吐出装置１０の架台２１と連結するための一対の連結
ブラケット１３０，１３０が設けられている。これによ
り、液滴吐出装置１０と付帯装置（共通機台３１）１１
と一体化され、且つ必要に応じて付帯装置１１を分離
し、移動できるようになっている。
ルト付きの６つの支持脚１２８と、４つのキャスタ１２
９が設けられており、また液滴吐出装置１０側には、液
滴吐出装置１０の架台２１と連結するための一対の連結
ブラケット１３０，１３０が設けられている。これによ
り、液滴吐出装置１０と付帯装置（共通機台３１）１１
と一体化され、且つ必要に応じて付帯装置１１を分離
し、移動できるようになっている。
【０１４５】機台本体１２１の小さい方の収容室１２２
ｂには、エアー供給装置１４および真空吸引装置１５の
主要部分が収容され、大きい方の収容室１２２ａには、
機能液供給回収装置１３のタンク類が収容されている。
そして、このタンク類に接続するための継手群１３１
が、機台本体１２１の端部上面に形成した矩形開口１２
１ａに臨んでいる（図示左端図）。また、この矩形開口
１２１ａの近傍に位置して、後述する廃液ポンプ１５２
が設けられている（図１６参照）。
ｂには、エアー供給装置１４および真空吸引装置１５の
主要部分が収容され、大きい方の収容室１２２ａには、
機能液供給回収装置１３のタンク類が収容されている。
そして、このタンク類に接続するための継手群１３１
が、機台本体１２１の端部上面に形成した矩形開口１２
１ａに臨んでいる（図示左端図）。また、この矩形開口
１２１ａの近傍に位置して、後述する廃液ポンプ１５２
が設けられている（図１６参照）。
【０１４６】移動テーブル１２３は、機台本体１２１の
長手方向に延在しており、共通ベース１２４を支持する
方形テーブル１３３と、方形テーブル１３３をスライド
自在に支持する一対の移動スライダ１３４，１３４と、
一対の移動スライダ１３４，１３４間に配設されたボー
ルねじ１３５と、ボールねじ１３５を正逆回転させる移
動モータ１３６とを備えている。移動モータ１３６は、
カップリング１３７を介してボールねじ１３５の端に接
続され、方形テーブル１３３は、雌ねじこま１３８を介
してボールねじ１３５に螺合している。これにより、移
動モータ１３６が正逆回転すると、ボールねじ１３５を
介して方形テーブル１３３および共通ベース１２４が、
Ｘ軸方向に進退する。
長手方向に延在しており、共通ベース１２４を支持する
方形テーブル１３３と、方形テーブル１３３をスライド
自在に支持する一対の移動スライダ１３４，１３４と、
一対の移動スライダ１３４，１３４間に配設されたボー
ルねじ１３５と、ボールねじ１３５を正逆回転させる移
動モータ１３６とを備えている。移動モータ１３６は、
カップリング１３７を介してボールねじ１３５の端に接
続され、方形テーブル１３３は、雌ねじこま１３８を介
してボールねじ１３５に螺合している。これにより、移
動モータ１３６が正逆回転すると、ボールねじ１３５を
介して方形テーブル１３３および共通ベース１２４が、
Ｘ軸方向に進退する。
【０１４７】移動テーブル１２３は、共通ベース１２４
上に載置したクリーニングユニット３４とワイピングユ
ニット３５とを移動させるが、移動テーブル１２３が駆
動するときには、上記のＹ軸テーブル２４により、ヘッ
ドユニット２６がクリーニングユニット３４の直上部に
臨んでいる。クリーニングユニット３４が、ヘッドユニ
ット２６の複数の機能液滴吐出ヘッド７に密着して機能
液を吸引すると、各機能液滴吐出ヘッド７のノズル形成
面６７が汚れるため、続いて移動テーブル１２３によ
り、複数の機能液滴吐出ヘッド７にワイピングユニット
３５が接近して、ノズル形成面６７が汚れを拭き取るよ
うに動作する（詳細は後述する）。
上に載置したクリーニングユニット３４とワイピングユ
ニット３５とを移動させるが、移動テーブル１２３が駆
動するときには、上記のＹ軸テーブル２４により、ヘッ
ドユニット２６がクリーニングユニット３４の直上部に
臨んでいる。クリーニングユニット３４が、ヘッドユニ
ット２６の複数の機能液滴吐出ヘッド７に密着して機能
液を吸引すると、各機能液滴吐出ヘッド７のノズル形成
面６７が汚れるため、続いて移動テーブル１２３によ
り、複数の機能液滴吐出ヘッド７にワイピングユニット
３５が接近して、ノズル形成面６７が汚れを拭き取るよ
うに動作する（詳細は後述する）。
【０１４８】また、移動テーブル１２３の脇には、これ
に平行にケーブルベア１３９が配設されている。ケーブ
ルベア１３９は、共通機台３１上に固定されると共に先
端部が共通ベース１２４に固定されていて、両ユニット
３４，３５用のケーブルやエアーチューブ、或いは後述
する洗浄用のチューブや廃液（再利用）用のチューブ等
が、収容されている（図示省略）。
に平行にケーブルベア１３９が配設されている。ケーブ
ルベア１３９は、共通機台３１上に固定されると共に先
端部が共通ベース１２４に固定されていて、両ユニット
３４，３５用のケーブルやエアーチューブ、或いは後述
する洗浄用のチューブや廃液（再利用）用のチューブ等
が、収容されている（図示省略）。
【０１４９】次に、図４３ないし図４６を参照して、機
能液供給回収装置１３について説明する。図４３の配管
系統図に示すように、機能液供給回収装置１３は、ヘッ
ドユニット２６の各機能液滴吐出ヘッド７に機能液を供
給する機能液供給系１４１と、クリーニングユニット３
４で吸引した機能液を回収する機能液回収系１４２と、
ワイピングユニット３５に、機能液の溶剤を洗浄用とし
て供給する洗浄液供給系１４３と、フラッシングユニッ
ト３３から機能液の廃液を回収する廃液回収系１４４と
で構成されている。
能液供給回収装置１３について説明する。図４３の配管
系統図に示すように、機能液供給回収装置１３は、ヘッ
ドユニット２６の各機能液滴吐出ヘッド７に機能液を供
給する機能液供給系１４１と、クリーニングユニット３
４で吸引した機能液を回収する機能液回収系１４２と、
ワイピングユニット３５に、機能液の溶剤を洗浄用とし
て供給する洗浄液供給系１４３と、フラッシングユニッ
ト３３から機能液の廃液を回収する廃液回収系１４４と
で構成されている。
【０１５０】図４４および図４５は、上記の共通機台３
１の大きい方の収容室１２２ａに収容したタンク群であ
り、引出し形式の防液パン１４６上に、複数のタンクが
載置されている。防液パン１４６上には、タンク群を構
成する、図示左側から洗浄液供給系１４３の洗浄タンク
１４７、機能液回収系１４２の再利用タンク１４８およ
び機能液供給系１４１の加圧タンク１４９が横並びに配
設されると共に、洗浄タンク１４７および再利用タンク
１４８の近傍に、小型に形成した廃液回収系１４４の廃
液タンク１５０が配設されている。
１の大きい方の収容室１２２ａに収容したタンク群であ
り、引出し形式の防液パン１４６上に、複数のタンクが
載置されている。防液パン１４６上には、タンク群を構
成する、図示左側から洗浄液供給系１４３の洗浄タンク
１４７、機能液回収系１４２の再利用タンク１４８およ
び機能液供給系１４１の加圧タンク１４９が横並びに配
設されると共に、洗浄タンク１４７および再利用タンク
１４８の近傍に、小型に形成した廃液回収系１４４の廃
液タンク１５０が配設されている。
【０１５１】図４３に示すように、廃液タンク１５０
は、廃液ポンプ１５２を介してフラッシングユニット３
３に接続され、各機能液滴吐出ヘッド７によりフラッシ
ングユニット３３に吐出した機能液を、廃液タンク１５
０に回収する。再利用タンク１４８は、クリーニングユ
ニット３４の吸引ポンプ１５３に接続されており、吸引
ポンプ１５３により各機能液滴吐出ヘッド７から吸引し
た機能液を回収する。なお、図４６に示すように、廃液
ポンプ１５２と後述する中間タンク１２６上流側の開閉
バルブ１５４とは、支持プレート１５５に固定されてお
り、上述のように、機台本体１２１の端部上面に取り付
けられている（図１６参照）。
は、廃液ポンプ１５２を介してフラッシングユニット３
３に接続され、各機能液滴吐出ヘッド７によりフラッシ
ングユニット３３に吐出した機能液を、廃液タンク１５
０に回収する。再利用タンク１４８は、クリーニングユ
ニット３４の吸引ポンプ１５３に接続されており、吸引
ポンプ１５３により各機能液滴吐出ヘッド７から吸引し
た機能液を回収する。なお、図４６に示すように、廃液
ポンプ１５２と後述する中間タンク１２６上流側の開閉
バルブ１５４とは、支持プレート１５５に固定されてお
り、上述のように、機台本体１２１の端部上面に取り付
けられている（図１６参照）。
【０１５２】図４３に示すように、洗浄タンク１４７に
は、流入側がエアー供給装置１４に接続され、流出側が
ワイピングユニット３５の洗浄液噴霧ヘッド噴霧ノズル
（後述する）１９５に接続されている。すなわち、洗浄
タンク１４７は、エアー供給装置１４から導入される圧
縮エアーにより、内部の洗浄液を洗浄液噴霧ヘッド１９
５に圧力供給する。詳細は後述するが、洗浄液噴霧ヘッ
ド１９５が吐出した洗浄液は、機能液滴吐出ヘッド７を
拭き取るワイピンクングシート１８２に含浸される。な
お、洗浄タンク１４７には、更にタンク加圧用のチュー
ブ１５６が接続されている。
は、流入側がエアー供給装置１４に接続され、流出側が
ワイピングユニット３５の洗浄液噴霧ヘッド噴霧ノズル
（後述する）１９５に接続されている。すなわち、洗浄
タンク１４７は、エアー供給装置１４から導入される圧
縮エアーにより、内部の洗浄液を洗浄液噴霧ヘッド１９
５に圧力供給する。詳細は後述するが、洗浄液噴霧ヘッ
ド１９５が吐出した洗浄液は、機能液滴吐出ヘッド７を
拭き取るワイピンクングシート１８２に含浸される。な
お、洗浄タンク１４７には、更にタンク加圧用のチュー
ブ１５６が接続されている。
【０１５３】加圧タンク１４９には、流入側がエアー供
給装置１４に接続され、流出側が機能液供給系１４１の
中間タンク１２６に接続されており、この中間タンク１
２６とヘッドユニット（の一対の配管接続アッセンブリ
４９，４９）２６が複数本のチューブ１５７で接続され
ている。加圧タンク１４９は、機能液のメインタンクで
あり、エアー供給装置１４から導入される圧縮エアーに
より、内部の機能液を中間タンク１２６に圧力供給す
る。また、加圧タンク１４９には、更にタンク加圧用の
チューブ１５８が接続されている。
給装置１４に接続され、流出側が機能液供給系１４１の
中間タンク１２６に接続されており、この中間タンク１
２６とヘッドユニット（の一対の配管接続アッセンブリ
４９，４９）２６が複数本のチューブ１５７で接続され
ている。加圧タンク１４９は、機能液のメインタンクで
あり、エアー供給装置１４から導入される圧縮エアーに
より、内部の機能液を中間タンク１２６に圧力供給す
る。また、加圧タンク１４９には、更にタンク加圧用の
チューブ１５８が接続されている。
【０１５４】この場合、機能液は、所定の水頭圧で加圧
タンク１４９から中間タンク１２６に供給されるが、中
間タンク１２６では、この加圧タンク１４９側の水頭圧
が縁切りされ、主に機能液滴吐出ヘッド７のポンピング
動作、すなわち圧電素子のポンプ駆動により機能液が供
給される。これは、機能液滴吐出ヘッド７の吐出ノズル
６８から機能液がたれるのを防止せんとするものであ
る。したがって、中間タンク１２６から機能液滴吐出ヘ
ッド７に無用な水頭圧が加わらないように、中間タンク
１２６の高さ位置が、上記のタンクベース１２５等よっ
て調節されている。
タンク１４９から中間タンク１２６に供給されるが、中
間タンク１２６では、この加圧タンク１４９側の水頭圧
が縁切りされ、主に機能液滴吐出ヘッド７のポンピング
動作、すなわち圧電素子のポンプ駆動により機能液が供
給される。これは、機能液滴吐出ヘッド７の吐出ノズル
６８から機能液がたれるのを防止せんとするものであ
る。したがって、中間タンク１２６から機能液滴吐出ヘ
ッド７に無用な水頭圧が加わらないように、中間タンク
１２６の高さ位置が、上記のタンクベース１２５等よっ
て調節されている。
【０１５５】図４７ないし図４９は、中間タンク１２６
を表している。中間タンク１２６は、上記のタンクベー
ス１２５上に固定されており、両側に液位窓１６２，１
６２を有すると共にフランジ形式で閉蓋された矩形のタ
ンク本体１６１と、両液位窓１６２，１６２に臨んで機
能液の液位（水位）を検出する液位検出器１６３と、タ
ンク本体１６１が載置されるパン１６４と、パン１６４
を介してタンク本体１６１を支持するタンクスタンド１
６５とを備えている。
を表している。中間タンク１２６は、上記のタンクベー
ス１２５上に固定されており、両側に液位窓１６２，１
６２を有すると共にフランジ形式で閉蓋された矩形のタ
ンク本体１６１と、両液位窓１６２，１６２に臨んで機
能液の液位（水位）を検出する液位検出器１６３と、タ
ンク本体１６１が載置されるパン１６４と、パン１６４
を介してタンク本体１６１を支持するタンクスタンド１
６５とを備えている。
【０１５６】タンクスタンド１６５は、取付けプレート
１６７と、取付けプレート１６７上に立設した２本の支
柱状部材１６８，１６８とから成り、この２本の支柱状
部材１６８により、タンク本体１６１の高さおよび水平
が微調節できるようになっている。タンク本体（の蓋
体）１６１の上面には、加圧タンク１４９に連なる供給
チューブ１６９が繋ぎこまれており、またヘッドユニッ
ト２６に連なるチューブ（図４３の符号１５８）用の６
つのコネクタ１７０ａおよび大気開放用の１つのコネク
タ１７０ｂが、設けられている。
１６７と、取付けプレート１６７上に立設した２本の支
柱状部材１６８，１６８とから成り、この２本の支柱状
部材１６８により、タンク本体１６１の高さおよび水平
が微調節できるようになっている。タンク本体（の蓋
体）１６１の上面には、加圧タンク１４９に連なる供給
チューブ１６９が繋ぎこまれており、またヘッドユニッ
ト２６に連なるチューブ（図４３の符号１５８）用の６
つのコネクタ１７０ａおよび大気開放用の１つのコネク
タ１７０ｂが、設けられている。
【０１５７】液位検出器１６３は、上下に僅かに離間し
て配設した満液検出器１６３ａおよび減液検出器１６３
ｂから成り、この満液検出器１６３ａと減液検出器１６
３ｂとは、タンクスタンド１６５に対し、基部側で個々
に高さ調節自在に取り付けられている。満液検出器１６
３ａおよび減液検出器１６３ｂは、いずれもタンク本体
１６１の両液位窓１６２，１６２に向かっての延びる一
対の板状アーム１６３ｃ，１６３ｃを有しており、一対
の板状アーム１６３ｃ，１６３ｃの一方には、一方の液
位窓１６２に臨む発光素子１６３ｄが、他方には他方の
液位窓１６２に臨む受光素子１６３ｅが取り付けられて
いる。すなわち、この発光素子１６３ｄおよび受光素子
１６３ｅにより、透過型の液位センサが構成されてい
る。
て配設した満液検出器１６３ａおよび減液検出器１６３
ｂから成り、この満液検出器１６３ａと減液検出器１６
３ｂとは、タンクスタンド１６５に対し、基部側で個々
に高さ調節自在に取り付けられている。満液検出器１６
３ａおよび減液検出器１６３ｂは、いずれもタンク本体
１６１の両液位窓１６２，１６２に向かっての延びる一
対の板状アーム１６３ｃ，１６３ｃを有しており、一対
の板状アーム１６３ｃ，１６３ｃの一方には、一方の液
位窓１６２に臨む発光素子１６３ｄが、他方には他方の
液位窓１６２に臨む受光素子１６３ｅが取り付けられて
いる。すなわち、この発光素子１６３ｄおよび受光素子
１６３ｅにより、透過型の液位センサが構成されてい
る。
【０１５８】中間タンク１２６に接続される上記の供給
チューブ１６９の上流側には、開閉バルブ１５４が介設
されており（図４３および図４６参照）、開閉バルブ１
５４により、中間タンク１２６への機能液の供給が制御
される。すなわち、満液検出器１６３ａの液位センサ
（満水検知）および減液検出器１６３ｂの液位センサ
（減水検知）により、開閉バルブ１５４が開閉制御さ
れ、中間タンク１２６の液位が常に満液と減液の間にあ
るように調整される。これにより、中間タンク１２６か
ら各機能液滴吐出ヘッド７に供給される機能液におけ
る、水頭圧の変動を極力少なくするようにしている。
チューブ１６９の上流側には、開閉バルブ１５４が介設
されており（図４３および図４６参照）、開閉バルブ１
５４により、中間タンク１２６への機能液の供給が制御
される。すなわち、満液検出器１６３ａの液位センサ
（満水検知）および減液検出器１６３ｂの液位センサ
（減水検知）により、開閉バルブ１５４が開閉制御さ
れ、中間タンク１２６の液位が常に満液と減液の間にあ
るように調整される。これにより、中間タンク１２６か
ら各機能液滴吐出ヘッド７に供給される機能液におけ
る、水頭圧の変動を極力少なくするようにしている。
【０１５９】なお、図４３に示すように、中間タンク１
２６から複数（１２個であって２４ノズル列６９）の機
能液滴吐出ヘッド７に至る配管は、中間タンク１２６か
らの６本のチューブ１５７がヘッダパイプ１６６を介し
て１２本に分岐し、この各チューブが各機能液滴吐出ヘ
ッド７の近傍でＹ字継手により、それぞれ２つに分岐し
ている（計２４本）。これにより、中間タンク１２６か
ら複数の機能液滴吐出ヘッド７に至るそれぞれの管路に
おいて、管路長が同一となって圧力損失（管摩擦損失）
が同一となる。
２６から複数（１２個であって２４ノズル列６９）の機
能液滴吐出ヘッド７に至る配管は、中間タンク１２６か
らの６本のチューブ１５７がヘッダパイプ１６６を介し
て１２本に分岐し、この各チューブが各機能液滴吐出ヘ
ッド７の近傍でＹ字継手により、それぞれ２つに分岐し
ている（計２４本）。これにより、中間タンク１２６か
ら複数の機能液滴吐出ヘッド７に至るそれぞれの管路に
おいて、管路長が同一となって圧力損失（管摩擦損失）
が同一となる。
【０１６０】次に、メンテナンス装置１６について、ワ
イピングユニット３５、クリーニングユニット３４、フ
ラッシングユニット３３の順で説明する。
イピングユニット３５、クリーニングユニット３４、フ
ラッシングユニット３３の順で説明する。
【０１６１】図５０ないし図５５に示すように、ワイピ
ングユニット３５は、別個独立に構成された巻取りユニ
ット（図５０ないし図５２）１７１と拭取りユニット
（図５３ないし図５５）１７２とから成り、上記の共通
ベース１２４上に、突き合わせた状態で配設されてい
る。巻取りユニット１７１は共通ベース１２４の手前側
に、拭取りユニット１７２は共通ベース１２４の奥側、
すなわちクリーニングユニット３４側に配設されてい
る。
ングユニット３５は、別個独立に構成された巻取りユニ
ット（図５０ないし図５２）１７１と拭取りユニット
（図５３ないし図５５）１７２とから成り、上記の共通
ベース１２４上に、突き合わせた状態で配設されてい
る。巻取りユニット１７１は共通ベース１２４の手前側
に、拭取りユニット１７２は共通ベース１２４の奥側、
すなわちクリーニングユニット３４側に配設されてい
る。
【０１６２】実施形態のワイピングユニット３５は、ク
リーニングユニット３４の直上部、すなわちクリーング
位置に停止しているヘッドユニット２６に対し、後述す
るワイピングシート１８２を走行させながら、上記の移
動テーブル１２３により全体としてＸ軸方向に移動し、
複数の機能液滴吐出ヘッド７を拭き取るものである。こ
のため、ワイピングユニット３５は、巻取りユニット１
７１から繰り出され、拭取り動作のために拭取りユニッ
ト１７２を周回して巻取りユニット１７１に巻き取られ
るようになっている。
リーニングユニット３４の直上部、すなわちクリーング
位置に停止しているヘッドユニット２６に対し、後述す
るワイピングシート１８２を走行させながら、上記の移
動テーブル１２３により全体としてＸ軸方向に移動し、
複数の機能液滴吐出ヘッド７を拭き取るものである。こ
のため、ワイピングユニット３５は、巻取りユニット１
７１から繰り出され、拭取り動作のために拭取りユニッ
ト１７２を周回して巻取りユニット１７１に巻き取られ
るようになっている。
【０１６３】図５０、図５１および図５２に示すよう
に、巻取りユニット１７１は、片持ち形式のフレーム１
７４と、フレーム１７４に回転自在に支持した上側の繰
出しリール１７５および下側の巻取りリール１７６と、
巻取りリール１７６を巻取り回転させる巻取りモータ１
７７とを備えている。また、フレーム１７４の上側部は
サブフレーム１７８が固定されており、このサブフレー
ム１７８には、繰出しリール１７５の先方に位置するよ
うに速度検出ローラ１７９および中間ローラ１８０が、
両持ちで支持されている。さらに、これら構成部品の下
側には、洗浄液を受ける洗浄液パン１８１が配設されて
いる。
に、巻取りユニット１７１は、片持ち形式のフレーム１
７４と、フレーム１７４に回転自在に支持した上側の繰
出しリール１７５および下側の巻取りリール１７６と、
巻取りリール１７６を巻取り回転させる巻取りモータ１
７７とを備えている。また、フレーム１７４の上側部は
サブフレーム１７８が固定されており、このサブフレー
ム１７８には、繰出しリール１７５の先方に位置するよ
うに速度検出ローラ１７９および中間ローラ１８０が、
両持ちで支持されている。さらに、これら構成部品の下
側には、洗浄液を受ける洗浄液パン１８１が配設されて
いる。
【０１６４】繰出しリール１７５には、ロール状のワイ
ピングシート１８２が挿填され、繰出しリール１７５か
ら繰り出されたワイピングシート１８２は、速度検出ロ
ーラ１７９および中間ローラ１８０を介して拭取りユニ
ット１７２に送り込まれる。巻取りリール１７６と巻取
りモータ１７７との間にはタイミングベルト１８３が掛
け渡され、巻取りリール１７６は巻取りモータ１７７に
より回転してワイピングシート１８２を巻き取る。
ピングシート１８２が挿填され、繰出しリール１７５か
ら繰り出されたワイピングシート１８２は、速度検出ロ
ーラ１７９および中間ローラ１８０を介して拭取りユニ
ット１７２に送り込まれる。巻取りリール１７６と巻取
りモータ１７７との間にはタイミングベルト１８３が掛
け渡され、巻取りリール１７６は巻取りモータ１７７に
より回転してワイピングシート１８２を巻き取る。
【０１６５】詳細は後述するが、拭取りユニット１７２
にもワイピングシート１８２を送るモータ（拭取りモー
タ１９４）が設けられており、繰出しリール１７５は、
これに設けたトルクリミッタ１８４により、拭取りモー
タ１９４に抗するように制動回転する。速度検出ローラ
１７９は、自由回転する上下２つのローラ１７９ａ，１
７９ｂから成るグリップローラであり、これに設けた速
度検出器１８５により、巻取りモータ１７７を制御す
る。すなわち、繰出しリール１７５は、ワイピングシー
ト１８２を張った状態で送り出し、巻取りリール１７６
は、ワイピングシート１８２を弛みが生じないように巻
き取る。
にもワイピングシート１８２を送るモータ（拭取りモー
タ１９４）が設けられており、繰出しリール１７５は、
これに設けたトルクリミッタ１８４により、拭取りモー
タ１９４に抗するように制動回転する。速度検出ローラ
１７９は、自由回転する上下２つのローラ１７９ａ，１
７９ｂから成るグリップローラであり、これに設けた速
度検出器１８５により、巻取りモータ１７７を制御す
る。すなわち、繰出しリール１７５は、ワイピングシー
ト１８２を張った状態で送り出し、巻取りリール１７６
は、ワイピングシート１８２を弛みが生じないように巻
き取る。
【０１６６】図５３、図５４および図５５に示すよう
に、拭取りユニット１７２は、左右一対のスタンド１９
１，１９１と、一対のスタンド１９１，１９１に支持さ
れた断面略「Ｕ」字状のベースフレーム１９２と、ベー
スフレーム１９２に両持ちで回転自在に支持された拭取
りローラ１９３と、拭取りローラ１９３を回転させる拭
取りモータ１９４と、拭取りローラ１９３に平行に対峙
する洗浄液噴霧ヘッド１９５と、ベースフレーム１９２
を昇降させる複動形式の一対のエアーシリンダ１９６，
１９６とを備えている。
に、拭取りユニット１７２は、左右一対のスタンド１９
１，１９１と、一対のスタンド１９１，１９１に支持さ
れた断面略「Ｕ」字状のベースフレーム１９２と、ベー
スフレーム１９２に両持ちで回転自在に支持された拭取
りローラ１９３と、拭取りローラ１９３を回転させる拭
取りモータ１９４と、拭取りローラ１９３に平行に対峙
する洗浄液噴霧ヘッド１９５と、ベースフレーム１９２
を昇降させる複動形式の一対のエアーシリンダ１９６，
１９６とを備えている。
【０１６７】一対のスタンド１９１，１９１は、それぞ
れ外側に位置する固定スタント１９８と、固定スタント
１９８の内側に、上下方向にスライド自在に取り付けた
可動スタンド１９９とから成り、各固定スタンド１９８
のベース部に上記のエアーシリンダ１９６が立設されて
いる。各エアーシリンダ１９６のプランジャ１９６ａ
は、可動スタンド１９９に固定されており、同時に駆動
する一対のエアーシリンダ１９６，１９６により、ベー
スフレーム１９２およびこれに支持された拭取りローラ
１９３や拭取りモータ１９４等が昇降する。
れ外側に位置する固定スタント１９８と、固定スタント
１９８の内側に、上下方向にスライド自在に取り付けた
可動スタンド１９９とから成り、各固定スタンド１９８
のベース部に上記のエアーシリンダ１９６が立設されて
いる。各エアーシリンダ１９６のプランジャ１９６ａ
は、可動スタンド１９９に固定されており、同時に駆動
する一対のエアーシリンダ１９６，１９６により、ベー
スフレーム１９２およびこれに支持された拭取りローラ
１９３や拭取りモータ１９４等が昇降する。
【０１６８】拭取りローラ１９３は、タイミングベルト
２０１を介して拭取りモータ１９４に連結した駆動ロー
ラ２０２と、ワイピングシート１８２を挟んで駆動ロー
ラ２０２に接触する従動ローラ２０３とから成る、グリ
ップローラで構成されている。駆動ローラ２０２は、例
えばコア部分に弾力性或いは柔軟性を有するゴムを巻回
したゴムローラで構成され、これに周回するワイピング
シート１８２を、走行させながら機能液滴吐出ヘッド７
のノズル形成面６７に押し付けるようになっている。
２０１を介して拭取りモータ１９４に連結した駆動ロー
ラ２０２と、ワイピングシート１８２を挟んで駆動ロー
ラ２０２に接触する従動ローラ２０３とから成る、グリ
ップローラで構成されている。駆動ローラ２０２は、例
えばコア部分に弾力性或いは柔軟性を有するゴムを巻回
したゴムローラで構成され、これに周回するワイピング
シート１８２を、走行させながら機能液滴吐出ヘッド７
のノズル形成面６７に押し付けるようになっている。
【０１６９】洗浄液噴霧ヘッド１９５は、拭取りローラ
（駆動ローラ２０２）１９３の近傍にあって、上記の中
間ローラ１８０から送られてくるワイピングシート１８
２に、機能液の溶剤等で構成した洗浄液を吹き付ける。
このため、洗浄液噴霧ヘッド１９５の前面、すなわち拭
取りローラ１９３側には、複数の噴霧ノズル２０４がワ
イピングシート１８２の幅に合わせて横並びに設けら
れ、後面には、上記の洗浄タンク１４７に連なるチュー
ブ接続用の複数のコネクタ２０５が設けられている。
（駆動ローラ２０２）１９３の近傍にあって、上記の中
間ローラ１８０から送られてくるワイピングシート１８
２に、機能液の溶剤等で構成した洗浄液を吹き付ける。
このため、洗浄液噴霧ヘッド１９５の前面、すなわち拭
取りローラ１９３側には、複数の噴霧ノズル２０４がワ
イピングシート１８２の幅に合わせて横並びに設けら
れ、後面には、上記の洗浄タンク１４７に連なるチュー
ブ接続用の複数のコネクタ２０５が設けられている。
【０１７０】洗浄液を吹き付けられたワイピングシート
１８２は、洗浄液を含浸し、機能液滴吐出ヘッド７に臨
んでこれを拭き取るようになっている。なお、拭取りロ
ーラ１９３の下方に位置して、ベースフレーム１９２に
も洗浄液パンが設けられており、巻取りユニット１７１
の洗浄液パン１８１と共に、ワイピングシート１８２か
ら滴る洗浄液を受け得るようになっている。
１８２は、洗浄液を含浸し、機能液滴吐出ヘッド７に臨
んでこれを拭き取るようになっている。なお、拭取りロ
ーラ１９３の下方に位置して、ベースフレーム１９２に
も洗浄液パンが設けられており、巻取りユニット１７１
の洗浄液パン１８１と共に、ワイピングシート１８２か
ら滴る洗浄液を受け得るようになっている。
【０１７１】ここで、図５６の模式図を参照して、一連
の拭取り動作を簡単に説明する。ヘッドユニット２６の
クリーニングが完了すると、移動テーブル１２３が駆動
し、ワイピングユニット３５を前進させてヘッドユニッ
ト２６に十分に接近させる。拭取りローラ１９３が機能
液滴吐出ヘッド７の近傍まで移動したら、移動テーブル
１２３を停止し、両エアーシリンダ１９６，１９６を駆
動して、機能液滴吐出ヘッド７に接触（押し付ける）す
るように拭取りローラ１９３を上昇させる。
の拭取り動作を簡単に説明する。ヘッドユニット２６の
クリーニングが完了すると、移動テーブル１２３が駆動
し、ワイピングユニット３５を前進させてヘッドユニッ
ト２６に十分に接近させる。拭取りローラ１９３が機能
液滴吐出ヘッド７の近傍まで移動したら、移動テーブル
１２３を停止し、両エアーシリンダ１９６，１９６を駆
動して、機能液滴吐出ヘッド７に接触（押し付ける）す
るように拭取りローラ１９３を上昇させる。
【０１７２】ここで、巻取りモータ１７７および拭取り
モータ１９４を駆動して、ワイピングシート１８２を拭
取り送りすると共に、洗浄液の噴霧を開始する。また、
これと同時に、再度移動テーブル１２３を駆動し、ワイ
ピングシート１８２の送りを行いながら、拭取りローラ
１９３を、複数の機能液滴吐出ヘッド７の下面を拭き取
るように前進させる。拭取り動作が完了したら、ワイピ
ングシート１８２の送りを停止し且つ拭取りローラ１９
３を下降させ、さらに移動テーブル１２３によりワイピ
ングユニット３５を、元の位置に後退させる。
モータ１９４を駆動して、ワイピングシート１８２を拭
取り送りすると共に、洗浄液の噴霧を開始する。また、
これと同時に、再度移動テーブル１２３を駆動し、ワイ
ピングシート１８２の送りを行いながら、拭取りローラ
１９３を、複数の機能液滴吐出ヘッド７の下面を拭き取
るように前進させる。拭取り動作が完了したら、ワイピ
ングシート１８２の送りを停止し且つ拭取りローラ１９
３を下降させ、さらに移動テーブル１２３によりワイピ
ングユニット３５を、元の位置に後退させる。
【０１７３】次に、図５７ないし図６０を参照して、ク
リーニングユニット３４について説明する。クリーニン
グユニット３４は、１２個の機能液滴吐出ヘッド７に対
応して１２個のキャップ２１２を、キャップベース２１
３に配置したキャップユニット２１１と、キャップユニ
ット２１１を支持する支持部材２１４と、支持部材２１
４を介してキャップユニット２１１を昇降させる昇降機
構２１５とを備えている。また、図４３に示すように、
クリーニングユニット３４には、各キャップ２１２に連
なる吸引チューブ２１６と、１２本の吸引チューブ２１
６が接続されるヘッダパイプ２１７と、ヘッダパイプ２
１７の下流側に設けた吸引ポンプ１５３とが設けられて
いる。そして、吸引ポンプ１５３は、再利用タンク１４
８に連通している。
リーニングユニット３４について説明する。クリーニン
グユニット３４は、１２個の機能液滴吐出ヘッド７に対
応して１２個のキャップ２１２を、キャップベース２１
３に配置したキャップユニット２１１と、キャップユニ
ット２１１を支持する支持部材２１４と、支持部材２１
４を介してキャップユニット２１１を昇降させる昇降機
構２１５とを備えている。また、図４３に示すように、
クリーニングユニット３４には、各キャップ２１２に連
なる吸引チューブ２１６と、１２本の吸引チューブ２１
６が接続されるヘッダパイプ２１７と、ヘッダパイプ２
１７の下流側に設けた吸引ポンプ１５３とが設けられて
いる。そして、吸引ポンプ１５３は、再利用タンク１４
８に連通している。
【０１７４】支持部材２１４は、上端にキャップユニッ
ト２１１を支持する支持プレート２４１を有する支持部
材本体２４２と、支持部材本体２４２を上下方向にスラ
イド自在に支持するスタンド２４３とを備えている。支
持プレート２４１の長手方向の両側下面には、一対の大
気開放シリンダ（エアー圧シリンダ）２４４，２４４が
固定されており、この一対の大気開放シリンダ２４４，
２４４により、操作プレート２４５を介して後述する大
気開放弁２３１が開閉（下動で「開」、上動で「閉」）
されるようになっている。
ト２１１を支持する支持プレート２４１を有する支持部
材本体２４２と、支持部材本体２４２を上下方向にスラ
イド自在に支持するスタンド２４３とを備えている。支
持プレート２４１の長手方向の両側下面には、一対の大
気開放シリンダ（エアー圧シリンダ）２４４，２４４が
固定されており、この一対の大気開放シリンダ２４４，
２４４により、操作プレート２４５を介して後述する大
気開放弁２３１が開閉（下動で「開」、上動で「閉」）
されるようになっている。
【０１７５】昇降機構２１５は、上昇降機構（エアー圧
シリンダ）２４６と下昇降機構（エアー圧シリンダ）２
４７とから成り、下昇降機構２４７はスタンドベース２
４８上に固定されていて上昇降機構２４６を昇降させ、
上昇降機構２４６はそのプランジャが支持プレート２４
１に固定されていて、支持部材本体２４２を昇降させ
る。この場合、ヘッドユニット２６の下面（機能液滴吐
出ヘッド７のノズル形成面６７）とキャップユニット２
１１の上面とは、所定のギャップ有しており、このギャ
ップ分の昇降を上昇降機構２４６で行い、このギャップ
調整のための昇降を下昇降機構２４７が行う。したがっ
て、通常の運転時には上昇降装置２４６のみが駆動す
る。
シリンダ）２４６と下昇降機構（エアー圧シリンダ）２
４７とから成り、下昇降機構２４７はスタンドベース２
４８上に固定されていて上昇降機構２４６を昇降させ、
上昇降機構２４６はそのプランジャが支持プレート２４
１に固定されていて、支持部材本体２４２を昇降させ
る。この場合、ヘッドユニット２６の下面（機能液滴吐
出ヘッド７のノズル形成面６７）とキャップユニット２
１１の上面とは、所定のギャップ有しており、このギャ
ップ分の昇降を上昇降機構２４６で行い、このギャップ
調整のための昇降を下昇降機構２４７が行う。したがっ
て、通常の運転時には上昇降装置２４６のみが駆動す
る。
【０１７６】１２個のキャップ２１２は、１２個の機能
液滴吐出ヘッド７のヘッド本体６０に対応しており、１
２個のヘッド本体６０と同じ並びで且つ同じ傾き姿勢
で、キャップベース２１３に固定されている。各キャッ
プ２１２は、図６１に示すように、キャップ本体２１９
とキャップホルダ２２０とから成り、キャップ本体２１
９は、２つのばね２２１，２２１で上方に付勢され且つ
僅かに上下動可能な状態でキャップホルダ２２０に保持
されている。キャップベース２１３には、１２個のキャ
ップ２１２に対応して１２個の取付け開口２２３が形成
されると共に、この取付け開口２２３を含むように１２
個の浅溝２２４が形成されている。各キャップ２１２
は、下部を取付け開口２２３に挿入し、そのキャップホ
ルダ２２０を浅溝２２４に位置決めされた状態で、浅溝
２２４の部分にねじ止めされている（図６０参照）。
液滴吐出ヘッド７のヘッド本体６０に対応しており、１
２個のヘッド本体６０と同じ並びで且つ同じ傾き姿勢
で、キャップベース２１３に固定されている。各キャッ
プ２１２は、図６１に示すように、キャップ本体２１９
とキャップホルダ２２０とから成り、キャップ本体２１
９は、２つのばね２２１，２２１で上方に付勢され且つ
僅かに上下動可能な状態でキャップホルダ２２０に保持
されている。キャップベース２１３には、１２個のキャ
ップ２１２に対応して１２個の取付け開口２２３が形成
されると共に、この取付け開口２２３を含むように１２
個の浅溝２２４が形成されている。各キャップ２１２
は、下部を取付け開口２２３に挿入し、そのキャップホ
ルダ２２０を浅溝２２４に位置決めされた状態で、浅溝
２２４の部分にねじ止めされている（図６０参照）。
【０１７７】各キャップ本体２１９の表面には、ヘッド
本体６０の２本のノズル列６９，６９を包含する凹部２
２６が形成され、凹部２２６の周縁部にはシールパッキ
ン２２７が取り付けられ、また底部位には吸収材２２８
が敷設されている。そして、凹部２２６の底部位には小
孔２２９が形成され、この小孔２２９が、吸引チューブ
２１６が接続されるＬ字継手２３０に連通している。機
能液を吸引する場合には、機能液滴吐出ヘッド７のヘッ
ド本体６０に、シールパッキン２２７を押し付けて、２
列のノズル列６９，６９を包含するようヘッド本体６０
のノズル形成面６７を封止する。なお、図中の符号２３
１は、大気開放弁であり、機能液の吸引動作の最終段階
で、上記の大気開放シリンダによりこれを「開」とする
ことで、吸収材２２８に含浸されている機能液も吸引で
きるようになっている。
本体６０の２本のノズル列６９，６９を包含する凹部２
２６が形成され、凹部２２６の周縁部にはシールパッキ
ン２２７が取り付けられ、また底部位には吸収材２２８
が敷設されている。そして、凹部２２６の底部位には小
孔２２９が形成され、この小孔２２９が、吸引チューブ
２１６が接続されるＬ字継手２３０に連通している。機
能液を吸引する場合には、機能液滴吐出ヘッド７のヘッ
ド本体６０に、シールパッキン２２７を押し付けて、２
列のノズル列６９，６９を包含するようヘッド本体６０
のノズル形成面６７を封止する。なお、図中の符号２３
１は、大気開放弁であり、機能液の吸引動作の最終段階
で、上記の大気開放シリンダによりこれを「開」とする
ことで、吸収材２２８に含浸されている機能液も吸引で
きるようになっている。
【０１７８】このように構成されたクリーニングユニッ
ト３４は、移動テーブル１２３によりクリーニング位置
に移動しており、これに対しヘッドユニット２６がＹ軸
テーブル２４により移動して、クリーニングユニット３
４の直上部に臨む。ここで、昇降機構（上昇降装置２４
６）２１５が駆動し、ヘッドユニット２６の１２個の機
能液滴吐出ヘッド７に、下側から１２個のキャップ２１
２を押し付ける。各機能液滴吐出ヘッド７に押し付けら
れたキャップ２１２は、自身の２つのばね２２１，２２
１に抗してそのキャップ本体２１９が幾分沈み込み、そ
のシールパッキン２２７がヘッド本体６０のノズル形成
面６７に均一に密着する。
ト３４は、移動テーブル１２３によりクリーニング位置
に移動しており、これに対しヘッドユニット２６がＹ軸
テーブル２４により移動して、クリーニングユニット３
４の直上部に臨む。ここで、昇降機構（上昇降装置２４
６）２１５が駆動し、ヘッドユニット２６の１２個の機
能液滴吐出ヘッド７に、下側から１２個のキャップ２１
２を押し付ける。各機能液滴吐出ヘッド７に押し付けら
れたキャップ２１２は、自身の２つのばね２２１，２２
１に抗してそのキャップ本体２１９が幾分沈み込み、そ
のシールパッキン２２７がヘッド本体６０のノズル形成
面６７に均一に密着する。
【０１７９】続いて、吸引ポンプ１５３を駆動し、キャ
ップユニット２１１を介して、１２個の機能液滴吐出ヘ
ッド７の全吐出ノズル６８から機能液を吸引する。そし
て、吸引完了の直前に大気開放弁２３１を開弁して、吸
引を完了する。吸引動作が完了したら、再度、昇降機構
（上昇降装置２４６）２１５を駆動してキャップユニッ
ト２１１を下降させる。なお、装置の稼動を停止してい
るとき等のヘッド保管時には、上記のキャップユニット
２１１を上昇させ、各機能液滴吐出ヘッド７を各キャッ
プ２１２で封止して、保管状態とする。
ップユニット２１１を介して、１２個の機能液滴吐出ヘ
ッド７の全吐出ノズル６８から機能液を吸引する。そし
て、吸引完了の直前に大気開放弁２３１を開弁して、吸
引を完了する。吸引動作が完了したら、再度、昇降機構
（上昇降装置２４６）２１５を駆動してキャップユニッ
ト２１１を下降させる。なお、装置の稼動を停止してい
るとき等のヘッド保管時には、上記のキャップユニット
２１１を上昇させ、各機能液滴吐出ヘッド７を各キャッ
プ２１２で封止して、保管状態とする。
【０１８０】次に、図６２ないし図６６を参照して、フ
ラッシングユニット３３について説明する。フラッシン
グユニット３３は、機能液滴吐出ヘッド７が吐出した機
能液滴を受けるものであり、実施形態の描画装置１で
は、Ｘ軸テーブル２３により基板（吸着テーブル８１）
Ｗと共に移動する可動形式の小型のフラッシングユニッ
ト（図６２および図６３）３３Ａと、上記の石定盤２２
上に直接固定される固定形式の大型のフラッシングユニ
ット（図６４ないし図６６）３３Ｂとが搭載されてい
る。
ラッシングユニット３３について説明する。フラッシン
グユニット３３は、機能液滴吐出ヘッド７が吐出した機
能液滴を受けるものであり、実施形態の描画装置１で
は、Ｘ軸テーブル２３により基板（吸着テーブル８１）
Ｗと共に移動する可動形式の小型のフラッシングユニッ
ト（図６２および図６３）３３Ａと、上記の石定盤２２
上に直接固定される固定形式の大型のフラッシングユニ
ット（図６４ないし図６６）３３Ｂとが搭載されてい
る。
【０１８１】可動形式のフラッシングユニット３３Ａ
は、主にヘッドユニット２６の液滴吐出動作時のフラッ
シングに使用され、固定形式のフラッシングユニット３
３Ｂは、主にヘッドユニット２６の待機時のフラッシン
グに使用される。
は、主にヘッドユニット２６の液滴吐出動作時のフラッ
シングに使用され、固定形式のフラッシングユニット３
３Ｂは、主にヘッドユニット２６の待機時のフラッシン
グに使用される。
【０１８２】そこで先ず、図６２および図６３を参照し
て、可動形式のフラッシングユニット３３Ａから説明す
る。このフラッシングユニット３３Ａは、上記したＸ軸
ケーブルベア８７のボックス８８上に配設されている
（図３０参照）。フラッシングユニット３３Ａは、Ｘ軸
ケーブルベア８７上に固定したスライドベース２５１
と、スライドベース２５１上に進退自在に設けた長板状
のスライダ２５２と、スライダ２５２の両端部に固定し
た一対のフラッシングボックス２５３，２５３と、各フ
ラッシングボックス２５３内に敷設した一対の機能液吸
収材２５４，２５４とで構成されている。
て、可動形式のフラッシングユニット３３Ａから説明す
る。このフラッシングユニット３３Ａは、上記したＸ軸
ケーブルベア８７のボックス８８上に配設されている
（図３０参照）。フラッシングユニット３３Ａは、Ｘ軸
ケーブルベア８７上に固定したスライドベース２５１
と、スライドベース２５１上に進退自在に設けた長板状
のスライダ２５２と、スライダ２５２の両端部に固定し
た一対のフラッシングボックス２５３，２５３と、各フ
ラッシングボックス２５３内に敷設した一対の機能液吸
収材２５４，２５４とで構成されている。
【０１８３】一対のフラッシングボックス２５３，２５
３は、ヘッドユニット２６の各機能液滴吐出ヘッド群７
ａに対応する幅を有すると共に、各機能液滴吐出ヘッド
群７ａの副走査方向の移動範囲に対応する長さを有し
て、細長形状に形成されている。そして、この一対のフ
ラッシングボックス２５３，２５３は、スライダ２５２
からＸ軸テーブル２３の上側に直角に延在し、且つ吸着
テーブル８１を挟むように配設されている。また、各フ
ラッシングボックス２５３，２５３の中央部底面には、
ドレン口を構成する排水継手２５６が取り付けられてい
る。この排水継手２５６に接続した排水チューブ（図示
省略）は、Ｘ軸ケーブルベア８７内を通って上記の廃液
タンク１５０に接続されている。
３は、ヘッドユニット２６の各機能液滴吐出ヘッド群７
ａに対応する幅を有すると共に、各機能液滴吐出ヘッド
群７ａの副走査方向の移動範囲に対応する長さを有し
て、細長形状に形成されている。そして、この一対のフ
ラッシングボックス２５３，２５３は、スライダ２５２
からＸ軸テーブル２３の上側に直角に延在し、且つ吸着
テーブル８１を挟むように配設されている。また、各フ
ラッシングボックス２５３，２５３の中央部底面には、
ドレン口を構成する排水継手２５６が取り付けられてい
る。この排水継手２５６に接続した排水チューブ（図示
省略）は、Ｘ軸ケーブルベア８７内を通って上記の廃液
タンク１５０に接続されている。
【０１８４】スライダ２５２には、一対のフラッシング
ボックス２５３，２５３間に位置して、Ｘ軸テーブル２
３のθテーブル８２に向かって延びる一対の取付け片２
５７，２５７が固定されており、この一対の取付け片２
５７，２５７の先端部が、θテーブル８２のベース部に
固定されている。すなわち、スライダ２５２を介して、
一対のフラッシングボックス２５３，２５３が、スライ
ドベース２５１に案内されてθテーブル８２と共に移動
するようになっている。
ボックス２５３，２５３間に位置して、Ｘ軸テーブル２
３のθテーブル８２に向かって延びる一対の取付け片２
５７，２５７が固定されており、この一対の取付け片２
５７，２５７の先端部が、θテーブル８２のベース部に
固定されている。すなわち、スライダ２５２を介して、
一対のフラッシングボックス２５３，２５３が、スライ
ドベース２５１に案内されてθテーブル８２と共に移動
するようになっている。
【０１８５】このように構成された可動形式のフラッシ
ングユニット３３Ａでは、図３０に示すように、θテー
ブル８２と共にフラッシングユニット３３Ａが往道して
行くと、最初に同図示の右側のフラッシングボックス２
５３がヘッドユニット２６の直下を通過する。このと
き、複数（１２個）の機能液滴吐出ヘッド７が順にフラ
ッシング動作を行い、ヘッドユニット２６は、そのまま
通常の液滴吐出動作に移行する。同様に、フラッシング
ユニット３３Ａが復道して行くと、最初に左側のフラッ
シングボックス２５３がヘッドユニット２６の直下を通
過する。このとき、複数の機能液滴吐出ヘッド７が順に
フラッシング動作を行い、ヘッドユニット２６は、その
まま通常の液滴吐出動作に移行する。
ングユニット３３Ａでは、図３０に示すように、θテー
ブル８２と共にフラッシングユニット３３Ａが往道して
行くと、最初に同図示の右側のフラッシングボックス２
５３がヘッドユニット２６の直下を通過する。このと
き、複数（１２個）の機能液滴吐出ヘッド７が順にフラ
ッシング動作を行い、ヘッドユニット２６は、そのまま
通常の液滴吐出動作に移行する。同様に、フラッシング
ユニット３３Ａが復道して行くと、最初に左側のフラッ
シングボックス２５３がヘッドユニット２６の直下を通
過する。このとき、複数の機能液滴吐出ヘッド７が順に
フラッシング動作を行い、ヘッドユニット２６は、その
まま通常の液滴吐出動作に移行する。
【０１８６】すなわち、可動形式のフラッシングユニッ
ト３３Ａでは、ヘッドユニット２６が、主走査のための
往復動中に適宜フラッシングが行われる。したがって、
フラッシング動作のためにのみヘッドユニット２６等が
移動することはなく、フラッシングがタクトタイムに影
響することがない。
ト３３Ａでは、ヘッドユニット２６が、主走査のための
往復動中に適宜フラッシングが行われる。したがって、
フラッシング動作のためにのみヘッドユニット２６等が
移動することはなく、フラッシングがタクトタイムに影
響することがない。
【０１８７】次に、図６４、図６５および図６６を参照
して、固定形式のフラッシングユニット３３Ｂについて
説明する。フラッシングユニット３３Ｂ、機能液滴を受
けるべく上面を開放したフラッシングボックス２６１，
２６１と、フラッシングボックス２６１内に敷設した２
組の機能液吸収材２６２，２６２と、フラッシングボッ
クス２６１を昇降させる昇降シリンダ２６３と、フラッ
シングボックス３３Ｂを支持するボックススタンド２６
４とを備えている。
して、固定形式のフラッシングユニット３３Ｂについて
説明する。フラッシングユニット３３Ｂ、機能液滴を受
けるべく上面を開放したフラッシングボックス２６１，
２６１と、フラッシングボックス２６１内に敷設した２
組の機能液吸収材２６２，２６２と、フラッシングボッ
クス２６１を昇降させる昇降シリンダ２６３と、フラッ
シングボックス３３Ｂを支持するボックススタンド２６
４とを備えている。
【０１８８】フラッシングボックス３３Ｂは、方形に形
成された浅いトレイ様のものであり、内部には、ヘッド
ユニット２６の２列の機能液滴吐出ヘッド群７ａ，７ａ
に対応して２組の機能液吸収材２６２，２６２が離間し
て配設されている。また、フラッシングボックス２６１
内には、各機能液吸収材２６２を両側から挟み込むよう
にして、フラッシング時の機能液滴の飛散を防止する飛
散防止板２６６が設けられている。また、フラッシング
ボックス３３Ｂの底板には、各機能液吸収材２６２に対
応して２個所、計４個所のドレン口となる排水継手２６
７が設けられている。そして、この排水継手２６７に接
続した排水チューブ（図示省略）が、上記の廃液タンク
１５０に接続されている。
成された浅いトレイ様のものであり、内部には、ヘッド
ユニット２６の２列の機能液滴吐出ヘッド群７ａ，７ａ
に対応して２組の機能液吸収材２６２，２６２が離間し
て配設されている。また、フラッシングボックス２６１
内には、各機能液吸収材２６２を両側から挟み込むよう
にして、フラッシング時の機能液滴の飛散を防止する飛
散防止板２６６が設けられている。また、フラッシング
ボックス３３Ｂの底板には、各機能液吸収材２６２に対
応して２個所、計４個所のドレン口となる排水継手２６
７が設けられている。そして、この排水継手２６７に接
続した排水チューブ（図示省略）が、上記の廃液タンク
１５０に接続されている。
【０１８９】ボックススタンド２６４は、固定スタント
２６８と、固定スタント２６８の側面に上下方向スライ
ド自在に取り付けた可動スタンド２６９と、固定スタン
ド２６８を支持するスタンドベース２７０とで構成され
ている。スタンドベース２７０には、固定スタント２６
８に対峙するように上記の昇降シリンダ２６３が立設さ
れており、昇降シリンダ２６３のプランジャ２６３ａ
が、ブラケット２７１を介して可動スタンド２６９に固
定されている。
２６８と、固定スタント２６８の側面に上下方向スライ
ド自在に取り付けた可動スタンド２６９と、固定スタン
ド２６８を支持するスタンドベース２７０とで構成され
ている。スタンドベース２７０には、固定スタント２６
８に対峙するように上記の昇降シリンダ２６３が立設さ
れており、昇降シリンダ２６３のプランジャ２６３ａ
が、ブラケット２７１を介して可動スタンド２６９に固
定されている。
【０１９０】装置稼動時のフラッシングボックス３３Ｂ
は、昇降シリンダ２６３により上昇位置にあるが、非稼
動時には、メンテナンス等の邪魔にならないように下降
位置に移動している。そして、実施形態の液滴吐出装置
１０では、機能液滴の吐出と基板の往動とが行われた
後、基板Ｗが復動している間に、Ｙ軸テーブル２４によ
りヘッドユニット２６がフラッシングユニット３３Ｂの
位置に移動して、フラッシングを行うようになってい
る。
は、昇降シリンダ２６３により上昇位置にあるが、非稼
動時には、メンテナンス等の邪魔にならないように下降
位置に移動している。そして、実施形態の液滴吐出装置
１０では、機能液滴の吐出と基板の往動とが行われた
後、基板Ｗが復動している間に、Ｙ軸テーブル２４によ
りヘッドユニット２６がフラッシングユニット３３Ｂの
位置に移動して、フラッシングを行うようになってい
る。
【０１９１】次に、図６７ないし図７１を参照して、主
チャンバ４について説明する。なお、主チャンバ４の説
明では、図６７における紙面の下側を「前」、上側
「後」、左側を「左」、右側を「右」して説明する。主
チャンバ４は、上記の描画装置１を収容するチャンバル
ーム３７と、チャンバルーム３７の右前部に併設した電
気室３８と、チャンバルーム３７の右後部に併設した機
械室（ガス供給設備）３９とを備えている。なお、チャ
ンバルーム３７に充填する不活性ガスとしては、窒素、
二酸化炭素、ヘリウム、ネオン、アルゴン、クリプト
ン、キセノンおよびラドンのいずれかを用いることが好
ましいが、本実施形態では、コストおよび安全性を考慮
し窒素（窒素ガス）を用いている。
チャンバ４について説明する。なお、主チャンバ４の説
明では、図６７における紙面の下側を「前」、上側
「後」、左側を「左」、右側を「右」して説明する。主
チャンバ４は、上記の描画装置１を収容するチャンバル
ーム３７と、チャンバルーム３７の右前部に併設した電
気室３８と、チャンバルーム３７の右後部に併設した機
械室（ガス供給設備）３９とを備えている。なお、チャ
ンバルーム３７に充填する不活性ガスとしては、窒素、
二酸化炭素、ヘリウム、ネオン、アルゴン、クリプト
ン、キセノンおよびラドンのいずれかを用いることが好
ましいが、本実施形態では、コストおよび安全性を考慮
し窒素（窒素ガス）を用いている。
【０１９２】不活性ガス（窒素ガス）は、図外のガス製
造装置からガス導入ユニット３０１を介して機械室３９
に導入され、ここで調和処理されてチャンバルーム３７
に導入される。また、チャンバルーム３７内の不活性ガ
スは、チャンバルーム３７の左前部に添設した排気ダク
ト３０２から適宜は排気され、図外のガス処理装置に送
られる。すなわち、ガス製造装置、ガス導入ユニット３
０１および機械室３９等によりガス供給設備が構成さ
れ、排気ダクト３０２およびガス処理装置によりガス排
気設備が構成されている。
造装置からガス導入ユニット３０１を介して機械室３９
に導入され、ここで調和処理されてチャンバルーム３７
に導入される。また、チャンバルーム３７内の不活性ガ
スは、チャンバルーム３７の左前部に添設した排気ダク
ト３０２から適宜は排気され、図外のガス処理装置に送
られる。すなわち、ガス製造装置、ガス導入ユニット３
０１および機械室３９等によりガス供給設備が構成さ
れ、排気ダクト３０２およびガス処理装置によりガス排
気設備が構成されている。
【０１９３】チャンバルーム３７は、左側壁３１１、右
側壁３１２、前部二重パネル３１３、後部二重パネル３
１４、床壁３１５および天壁３１６を、エアータイト材
で相互にシールして組み上げたプレハブ形式のものであ
る。一方、チャンバルーム３７の内部に収容される液滴
吐出装置１０は、前後方向をＹ軸方向とし、左右方向を
Ｘ軸方向とした姿勢で収容されている。前部二重パネル
３１３および後部二重パネル３１４は着脱パネルであ
り、メンテナンス等を考慮して、描画装置１の付帯装置
１１は前部二重パネル３１３に面し、ヘッドユニット２
６の運び込み等を考慮して、ヘッドユニット２６のホー
ム位置側が後部二重パネル３１４に面している。また、
左側壁３１１には、基板Ｗの搬入搬出を行うためのシャ
ッタ付き受渡し開口３１７が形成されている。
側壁３１２、前部二重パネル３１３、後部二重パネル３
１４、床壁３１５および天壁３１６を、エアータイト材
で相互にシールして組み上げたプレハブ形式のものであ
る。一方、チャンバルーム３７の内部に収容される液滴
吐出装置１０は、前後方向をＹ軸方向とし、左右方向を
Ｘ軸方向とした姿勢で収容されている。前部二重パネル
３１３および後部二重パネル３１４は着脱パネルであ
り、メンテナンス等を考慮して、描画装置１の付帯装置
１１は前部二重パネル３１３に面し、ヘッドユニット２
６の運び込み等を考慮して、ヘッドユニット２６のホー
ム位置側が後部二重パネル３１４に面している。また、
左側壁３１１には、基板Ｗの搬入搬出を行うためのシャ
ッタ付き受渡し開口３１７が形成されている。
【０１９４】前部二重パネル３１３および後部二重パネ
ル３１４は、いずれも着脱形式の窓付きの２枚の外パネ
ル３１３ａ，３１４ａおよび２枚の内パネル３１３ｂ，
３１４ｂとから成り、チャンバルーム３７内に外気を導
入した時のみ開放可能となるように、インターロックさ
れている。右側壁３１２の後上部には、機械室３９に連
なる送気口３１９が形成され、これに対応して左側壁の
前下部には、排気ダクト３０２に連なる排気口３２０が
形成されている。
ル３１４は、いずれも着脱形式の窓付きの２枚の外パネ
ル３１３ａ，３１４ａおよび２枚の内パネル３１３ｂ，
３１４ｂとから成り、チャンバルーム３７内に外気を導
入した時のみ開放可能となるように、インターロックさ
れている。右側壁３１２の後上部には、機械室３９に連
なる送気口３１９が形成され、これに対応して左側壁の
前下部には、排気ダクト３０２に連なる排気口３２０が
形成されている。
【０１９５】本実施形態では、不活性ガスの補給（送
気）および排気を連続させて、チャンバルーム３７内に
不活性ガスの雰囲気を構成するようになっており、送気
口３１９から流入した不活性ガスは、そのチャンバルー
ム３７内を対角方向に流れて排気口３２０に至るように
なっている。そして、この対角方向に気流の主流路上に
は、液滴吐出装置１０の液滴吐出動作を行う領域、すな
わち吐出エリアが臨んでいる。
気）および排気を連続させて、チャンバルーム３７内に
不活性ガスの雰囲気を構成するようになっており、送気
口３１９から流入した不活性ガスは、そのチャンバルー
ム３７内を対角方向に流れて排気口３２０に至るように
なっている。そして、この対角方向に気流の主流路上に
は、液滴吐出装置１０の液滴吐出動作を行う領域、すな
わち吐出エリアが臨んでいる。
【０１９６】機械室３９の上部には、ガス製造装置に連
なるガス導入ユニット３０１が設けられており、また機
械室３９の内部は、適宜隔壁３２１で仕切られ、ガス導
入ユニット３０１から上記の送気口３１９に至るガス流
路３２２が形成されている。ガス流路３２２は、ガス導
入ユニット３０１の下流側で分岐し、後述するガス調和
機器３０３を通過して送気口３１９に至る一方の主ガス
流路３２３と、ガス調和機器３０３のフィルタ３３０を
介して直接送気口３１９に至る他方のバイパス流路３２
４とで構成されている（図６７参照）。
なるガス導入ユニット３０１が設けられており、また機
械室３９の内部は、適宜隔壁３２１で仕切られ、ガス導
入ユニット３０１から上記の送気口３１９に至るガス流
路３２２が形成されている。ガス流路３２２は、ガス導
入ユニット３０１の下流側で分岐し、後述するガス調和
機器３０３を通過して送気口３１９に至る一方の主ガス
流路３２３と、ガス調和機器３０３のフィルタ３３０を
介して直接送気口３１９に至る他方のバイパス流路３２
４とで構成されている（図６７参照）。
【０１９７】なお、主ガス流路３２３とバイパス流路３
２４とは、主チャンバ４を設置したときにその手動ダン
パー３２５，３２５により、流量調整が行われる。した
がって、通常運転時における不活性ガスは、適宜主ガス
流路３２３およびバイパス流路３２４からチャンバルー
ム３７内に送り込まれる。
２４とは、主チャンバ４を設置したときにその手動ダン
パー３２５，３２５により、流量調整が行われる。した
がって、通常運転時における不活性ガスは、適宜主ガス
流路３２３およびバイパス流路３２４からチャンバルー
ム３７内に送り込まれる。
【０１９８】この主ガス流路３２３には、クーラ（チー
リングユニット）３２７、ヒータ（電気ヒータ）３２
８、ファン（シロッコファン）３２９およびフィルタ
（ヘパフィルタ）３３０から成るガス調和機器３０３が
介設されている。これにより、チャンバルーム３７内の
不活性ガスの雰囲気が、所定の温度および湿度に維持さ
れるようになっている。例えば、実施形態の雰囲気は、
２０℃±０．５℃に維持される。なお、ろ過面積を広く
取るべく、フィルタ３３０を天壁３１６の直下に設けて
もよい。すなわち、チャンバルーム３７内において、天
壁３１６の直下に隔壁様にフィルタ３３０を設けるよう
にしてもよい。
リングユニット）３２７、ヒータ（電気ヒータ）３２
８、ファン（シロッコファン）３２９およびフィルタ
（ヘパフィルタ）３３０から成るガス調和機器３０３が
介設されている。これにより、チャンバルーム３７内の
不活性ガスの雰囲気が、所定の温度および湿度に維持さ
れるようになっている。例えば、実施形態の雰囲気は、
２０℃±０．５℃に維持される。なお、ろ過面積を広く
取るべく、フィルタ３３０を天壁３１６の直下に設けて
もよい。すなわち、チャンバルーム３７内において、天
壁３１６の直下に隔壁様にフィルタ３３０を設けるよう
にしてもよい。
【０１９９】また、ガス調和機器３０３の上流側におい
て主ガス流路３２３には、外気流路３３２が合流してい
る。外気流路３３２の外気取入れ口３３３は、機械室３
９の下部側面に開口しており、外気流路３３２の下流端
は、クーラ３２７の上流側で主ガス流路３２３に合流し
ている。また、外気流路３３２には２つの高気密ダンパ
ー３３４，３３４および電磁弁３４２が介設されてい
て、通常運転時における外気の流入を確実に阻止できる
ようになっている。
て主ガス流路３２３には、外気流路３３２が合流してい
る。外気流路３３２の外気取入れ口３３３は、機械室３
９の下部側面に開口しており、外気流路３３２の下流端
は、クーラ３２７の上流側で主ガス流路３２３に合流し
ている。また、外気流路３３２には２つの高気密ダンパ
ー３３４，３３４および電磁弁３４２が介設されてい
て、通常運転時における外気の流入を確実に阻止できる
ようになっている。
【０２００】例えば、描画装置１のメンテナンスを行う
場合には、上記の各二重扉３１３，３１４を開放する前
に、チャンバルーム３７の雰囲気を不活性ガスから外気
に入れ替える必要がある。かかる場合には、ガス導入ユ
ニット３０１のガスダンパー３３５、電動弁３４３およ
び電磁弁３４４を閉じると共に外気流路３３２の両高気
密ダンパー３３４，３３４を開き、さらに後述する排気
ダンパー３４０，３４０を開き、ファン３２９を駆動し
て外気をチャンバルーム３７に送り込む。このように外
気を強制的に送り込むようにしているため、短時間で外
気置換を行うことができる。
場合には、上記の各二重扉３１３，３１４を開放する前
に、チャンバルーム３７の雰囲気を不活性ガスから外気
に入れ替える必要がある。かかる場合には、ガス導入ユ
ニット３０１のガスダンパー３３５、電動弁３４３およ
び電磁弁３４４を閉じると共に外気流路３３２の両高気
密ダンパー３３４，３３４を開き、さらに後述する排気
ダンパー３４０，３４０を開き、ファン３２９を駆動し
て外気をチャンバルーム３７に送り込む。このように外
気を強制的に送り込むようにしているため、短時間で外
気置換を行うことができる。
【０２０１】一方、チャンバルーム３７内には、酸素濃
度計３３７および水分計３３８が設置されており、これ
ら計器の計測結果に基づいて、ガス導入ユニット３０１
の電動弁３４３が制御され、酸素濃度および水分濃度が
いずれも１０ｐｐｍ以下に維持されるようになってい
る。
度計３３７および水分計３３８が設置されており、これ
ら計器の計測結果に基づいて、ガス導入ユニット３０１
の電動弁３４３が制御され、酸素濃度および水分濃度が
いずれも１０ｐｐｍ以下に維持されるようになってい
る。
【０２０２】排気ダクト３０２には、２つの排気ダンパ
ー３４０，３４０が介設されており、一方のダンパー３
４０は開閉制御され、他方のダンパー３４０は、チャン
バルーム３７内の圧力計３４１の計測結果に基づいて、
チャンバルーム３７内が常に正圧になるように制御され
る。これにより、チャンバルーム３７内に、シール部分
（エアータイト材の不備部分）等から外気が流入するの
を防止している。
ー３４０，３４０が介設されており、一方のダンパー３
４０は開閉制御され、他方のダンパー３４０は、チャン
バルーム３７内の圧力計３４１の計測結果に基づいて、
チャンバルーム３７内が常に正圧になるように制御され
る。これにより、チャンバルーム３７内に、シール部分
（エアータイト材の不備部分）等から外気が流入するの
を防止している。
【０２０３】このように、液滴吐出装置１０および付帯
装置１１をチャンバルーム３７に収容し、液滴吐出装置
１０による液滴吐出作業を不活性ガスの雰囲気中で行う
ようにしているため、基板Ｗ上に着弾した機能液滴（発
光材料）が変質したり損傷したりすることがなく、有機
ＥＬ装置を安定に製造することができる。
装置１１をチャンバルーム３７に収容し、液滴吐出装置
１０による液滴吐出作業を不活性ガスの雰囲気中で行う
ようにしているため、基板Ｗ上に着弾した機能液滴（発
光材料）が変質したり損傷したりすることがなく、有機
ＥＬ装置を安定に製造することができる。
【０２０４】
【発明の効果】以上のように、本発明の有機ＥＬ装置の
製造方法および製造装置によれば、機能液滴吐出ヘッド
による発光機能材料の吐出工程を、不活性ガスの雰囲気
中で行うようにしているため、発光機能材料の変質が有
効に防止され、高品質の有機ＥＬ装置を簡単に製造する
ことができる。
製造方法および製造装置によれば、機能液滴吐出ヘッド
による発光機能材料の吐出工程を、不活性ガスの雰囲気
中で行うようにしているため、発光機能材料の変質が有
効に防止され、高品質の有機ＥＬ装置を簡単に製造する
ことができる。
【０２０５】また、本発明の有機ＥＬ装置および電子機
器によれば、高品質で且つ信頼性の高い有機ＥＬ装置お
よび有機ＥＬ装置を、低コストで提供することができ
る。
器によれば、高品質で且つ信頼性の高い有機ＥＬ装置お
よび有機ＥＬ装置を、低コストで提供することができ
る。
【０２０６】さらに、本発明の液滴吐出装置によれば、
機能材料の吐出から機能膜を形成する過程において、機
能材料と大気（空気）との接触が絶たれるため、空気中
において損傷を受け易い機能材料であっても、その変質
や損傷を有効に防止することができる。
機能材料の吐出から機能膜を形成する過程において、機
能材料と大気（空気）との接触が絶たれるため、空気中
において損傷を受け易い機能材料であっても、その変質
や損傷を有効に防止することができる。
【図１】 実施形態に係る有機ＥＬ装置の製造方法にお
けるバンク部形成工程（無機物バンク）の断面図であ
る。
けるバンク部形成工程（無機物バンク）の断面図であ
る。
【図２】 実施形態に係る有機ＥＬ装置の製造方法にお
けるバンク部形成工程（有機物バンク）の断面図であ
る。
けるバンク部形成工程（有機物バンク）の断面図であ
る。
【図３】 実施形態に係る有機ＥＬ装置の製造方法にお
けるプラズマ処理工程（親水化処理）の断面図である。
けるプラズマ処理工程（親水化処理）の断面図である。
【図４】 実施形態に係る有機ＥＬ装置の製造方法にお
けるプラズマ処理工程（撥水化処理）の断面図である。
けるプラズマ処理工程（撥水化処理）の断面図である。
【図５】 実施形態に係る有機ＥＬ装置の製造方法にお
ける正孔注入層形成工程（液滴吐出）の断面図である。
ける正孔注入層形成工程（液滴吐出）の断面図である。
【図６】 実施形態に係る有機ＥＬ装置の製造方法にお
ける正孔注入層形成工程（乾燥）の断面図である。
ける正孔注入層形成工程（乾燥）の断面図である。
【図７】 実施形態に係る有機ＥＬ装置の製造方法にお
ける表面改質工程（液滴吐出）の断面図である。
ける表面改質工程（液滴吐出）の断面図である。
【図８】 実施形態に係る有機ＥＬ装置の製造方法にお
ける表面改質工程（乾燥）の断面図である。
ける表面改質工程（乾燥）の断面図である。
【図９】 実施形態に係る有機ＥＬ装置の製造方法にお
けるＢ発光層形成工程（液滴吐出）の断面図である。
けるＢ発光層形成工程（液滴吐出）の断面図である。
【図１０】 実施形態に係る有機ＥＬ装置の製造方法に
おけるＢ発光層形成工程（乾燥）の断面図である。
おけるＢ発光層形成工程（乾燥）の断面図である。
【図１１】 実施形態に係る有機ＥＬ装置の製造方法に
おけるＲ・Ｇ・Ｂ発光層形成工程の断面図である。
おけるＲ・Ｇ・Ｂ発光層形成工程の断面図である。
【図１２】 実施形態に係る有機ＥＬ装置の製造方法に
おける対向電極形成工程の断面図である。
おける対向電極形成工程の断面図である。
【図１３】 実施形態に係る有機ＥＬ装置の製造方法に
おける封止工程の断面図である。
おける封止工程の断面図である。
【図１４】 実施形態に係る正孔注入層形成設備の概念
図である。
図である。
【図１５】 実施形態に係る発光層形成設備の概念図で
ある。
ある。
【図１６】 実施形態に係る描画装置の外観斜視図であ
る。
る。
【図１７】 実施形態に係る描画装置の外観正面図であ
る。
る。
【図１８】 実施形態に係る描画装置の外観側面図であ
る。
る。
【図１９】 実施形態に係る描画装置の外観平面図であ
る。
る。
【図２０】 実施形態に係る描画装置の液滴吐出装置の
模式図である。
模式図である。
【図２１】 実施形態に係る液滴吐出装置のヘッドユニ
ットの全体斜視図である。
ットの全体斜視図である。
【図２２】 実施形態に係る液滴吐出装置のヘッドユニ
ットの平面図である。
ットの平面図である。
【図２３】 実施形態に係る液滴吐出装置のヘッドユニ
ットの側面図である。
ットの側面図である。
【図２４】 実施形態に係る液滴吐出装置のヘッドユニ
ットの正面図である。
ットの正面図である。
【図２５】 実施形態に係る液滴吐出装置の機能液滴吐
出ヘッドの外観斜視図である。
出ヘッドの外観斜視図である。
【図２６】 実施形態に係る液滴吐出装置の石定盤廻り
の側面図である。
の側面図である。
【図２７】 実施形態に係る液滴吐出装置の石定盤廻り
の平面図である。
の平面図である。
【図２８】 実施形態に係る液滴吐出装置の石定盤廻り
の正面図である。
の正面図である。
【図２９】 実施形態に係る液滴吐出装置の石定盤の支
持形態を示す模式図である。
持形態を示す模式図である。
【図３０】 実施形態に係る液滴吐出装置のＸ軸テーブ
ルの平面図である。
ルの平面図である。
【図３１】 実施形態に係る液滴吐出装置のＸテーブル
の側面図である。
の側面図である。
【図３２】 実施形態に係る液滴吐出装置のＸテーブル
の正面図である。
の正面図である。
【図３３】 実施形態に係る液滴吐出装置の主基板認識
カメラ廻りの斜視図である。
カメラ廻りの斜視図である。
【図３４】 実施形態に係る液滴吐出装置のＹ軸テーブ
ルの平面図である。
ルの平面図である。
【図３５】 実施形態に係る液滴吐出装置のＹ軸テーブ
ルの側面図である。
ルの側面図である。
【図３６】 実施形態に係る液滴吐出装置のＹ軸テーブ
ルの正面図である。
ルの正面図である。
【図３７】 実施形態に係るＹ軸テーブルのメインキャ
リッジの斜視図である。
リッジの斜視図である。
【図３８】 実施形態に係るＹ軸テーブルのメインキャ
リッジの平面図である。
リッジの平面図である。
【図３９】 実施形態に係る液滴吐出装置の共通機台の
斜視図である。
斜視図である。
【図４０】 実施形態に係る液滴吐出装置の共通ベース
を取り去った共通機台の斜視図である。
を取り去った共通機台の斜視図である。
【図４１】 実施形態に係る液滴吐出装置の共通機台の
側面図である。
側面図である。
【図４２】 実施形態に係る液滴吐出装置の共通機台の
平面図である。
平面図である。
【図４３】 実施形態に係る液滴吐出装置の機能液供給
回収装置の配管系統図である。
回収装置の配管系統図である。
【図４４】 実施形態に係る機能液供給回収装置のポン
プ群廻りの斜視図である。
プ群廻りの斜視図である。
【図４５】 実施形態に係る機能液供給回収装置のポン
プ群廻りの平面図である。
プ群廻りの平面図である。
【図４６】 実施形態に係る機能液供給回収装置の廃液
ポンプ廻りの斜視図である。
ポンプ廻りの斜視図である。
【図４７】 実施形態に係る機能液供給回収装置の中間
タンクの斜視図である。
タンクの斜視図である。
【図４８】 実施形態に係る機能液供給回収装置の中間
タンクの側面図である。
タンクの側面図である。
【図４９】 実施形態に係る機能液供給回収装置の中間
タンクの正面図である。
タンクの正面図である。
【図５０】 ワイピングユニットにおける巻取りユニッ
トの斜視図である。
トの斜視図である。
【図５１】 ワイピングユニットにおける巻取りユニッ
トの平面図である。
トの平面図である。
【図５２】 ワイピングユニットにおける巻取りユニッ
トの正面図である。
トの正面図である。
【図５３】 ワイピングユニットにおける拭取りユニッ
トの斜視図である。
トの斜視図である。
【図５４】 ワイピングユニットにおける拭取りユニッ
トの平面図である。
トの平面図である。
【図５５】 ワイピングユニットにおける拭取りユニッ
トの正面図である。
トの正面図である。
【図５６】 実施形態に係るワイピングユニットの動作
を示す模式図である。
を示す模式図である。
【図５７】 実施形態に係るクリーニングユニットの外
観斜視図である。
観斜視図である。
【図５８】 実施形態に係るクリーニングユニットの正
面図である。
面図である。
【図５９】 実施形態に係るクリーニングユニットの側
面図である。
面図である。
【図６０】 実施形態に係るクリーニングユニットの平
面図である。
面図である。
【図６１】 クリーニングユニットのキャップの拡大断
面図である。
面図である。
【図６２】 実施形態に係るフラッシングユニット（可
動型）の斜視図である。
動型）の斜視図である。
【図６３】 実施形態に係るフラッシングユニット（可
動型）の平面図である。
動型）の平面図である。
【図６４】 実施形態に係るフラッシングユニット（固
定型）の斜視図である。
定型）の斜視図である。
【図６５】 実施形態に係るフラッシングユニット（固
定型）の平面図である。
定型）の平面図である。
【図６６】 実施形態に係るフラッシングユニット（固
定型）の側面図である。
定型）の側面図である。
【図６７】 実施形態に係る主チャンバのシステム図で
ある。
ある。
【図６８】 実施形態に係る主チャンバの平面図であ
る。
る。
【図６９】 実施形態に係る主チャンバの正面姿図であ
る。
る。
【図７０】 実施形態に係る主チャンバの右側面姿図で
ある。
ある。
【図７１】 実施形態に係る主チャンバの左側面姿図で
ある。
ある。
Ａ 正孔注入層形成設備 Ｂ 発光層形
成設備 Ｗ 基板 １ 描画装置 ４ 主チャンバ ７ 機能液滴
吐出ヘッド １０ 液滴吐出装置 １１ 付帯装
置 １３ 機能液供給回収装置 １４ エアー
供給装置 １５ 真空吸引装置 １６ メンテ
ナンス装置 ２３ Ｘ軸テーブル ２４ Ｙ軸テ
ーブル ２５ メインキャリッジ ２６ ヘッド
ユニット ３７ チャンバルーム ３８ 電気室 ３９ 機械室 ３０１ ガス導
入ユニット ３０２ 排気ダクト ３０３ ガス
調和機器 ３１３ 前部二重扉 ３１４ 後部
二重扉 ３１７ 受渡し開口 ３１９ 送気
口 ３２０ 排気口 ３２２ ガス
流路 ３２７ クーラ ３２８ ヒー
タ ３２９ ファン ３３０ フィ
ルタ ３３２ 外気流路 ３３３ 外気
取入れ口 ３３５ ガスダンパー ３３７ 酸素
濃度計 ３３９ 水分計 ３４０ 排気
ダンパー ３４１ 圧力計 ５００ 有機
ＥＬ装置 ５０１ 基板 ５０２ 回路
素子部 ５０４ 有機ＥＬ素子 ５１０ａ 正孔
注入／輸送層 ５１０ｂ 発光層
成設備 Ｗ 基板 １ 描画装置 ４ 主チャンバ ７ 機能液滴
吐出ヘッド １０ 液滴吐出装置 １１ 付帯装
置 １３ 機能液供給回収装置 １４ エアー
供給装置 １５ 真空吸引装置 １６ メンテ
ナンス装置 ２３ Ｘ軸テーブル ２４ Ｙ軸テ
ーブル ２５ メインキャリッジ ２６ ヘッド
ユニット ３７ チャンバルーム ３８ 電気室 ３９ 機械室 ３０１ ガス導
入ユニット ３０２ 排気ダクト ３０３ ガス
調和機器 ３１３ 前部二重扉 ３１４ 後部
二重扉 ３１７ 受渡し開口 ３１９ 送気
口 ３２０ 排気口 ３２２ ガス
流路 ３２７ クーラ ３２８ ヒー
タ ３２９ ファン ３３０ フィ
ルタ ３３２ 外気流路 ３３３ 外気
取入れ口 ３３５ ガスダンパー ３３７ 酸素
濃度計 ３３９ 水分計 ３４０ 排気
ダンパー ３４１ 圧力計 ５００ 有機
ＥＬ装置 ５０１ 基板 ５０２ 回路
素子部 ５０４ 有機ＥＬ素子 ５１０ａ 正孔
注入／輸送層 ５１０ｂ 発光層
Claims (37)
- 【請求項１】 発光機能材料を導入した機能液滴吐出ヘ
ッドを基板に対し相対的に走査し、前記発光機能材料を
選択的に吐出して前記基板上の多数の画素領域に有機Ｅ
Ｌ機能層をそれぞれ形成する有機ＥＬ装置の製造方法で
あって、 前記発光機能材料を吐出する吐出工程を不活性ガスの雰
囲気中で行うことを特徴とする有機ＥＬ装置の製造方
法。 - 【請求項２】 前記有機ＥＬ機能層が、ＥＬ発光層およ
び正孔注入層のうち少なくとも前記ＥＬ発光層であるこ
とを特徴とする請求項１に記載の有機ＥＬ装置の製造方
法。 - 【請求項３】 前記雰囲気中において、前記不活性ガス
の気流が前記吐出工程を為す吐出エリアと交差すること
を特徴とする請求項１または２に記載の有機ＥＬ装置の
製造方法。 - 【請求項４】 前記不活性ガスの補給と排気とを常時行
うことにより、前記雰囲気が維持されることを特徴とす
る請求項１、２または３に記載の有機ＥＬ装置の製造方
法。 - 【請求項５】 導入される前記不活性ガスを介して、前
記雰囲気が所定の温度に維持されていることを特徴とす
る請求項１ないし４のいずれかに記載の有機ＥＬ装置の
製造方法。 - 【請求項６】 前記所定の温度が、２０℃±０．５℃で
あることを特徴とする請求項５に記載の有機ＥＬ装置の
製造方法。 - 【請求項７】 前記雰囲気が、所定の酸素濃度以下に維
持されていることを特徴とする請求項１ないし６のいず
れかに記載の有機ＥＬ装置の製造方法。 - 【請求項８】 前記所定の酸素濃度が、１０ｐｐｍであ
ることを特徴とする請求項７に記載の有機ＥＬ装置の製
造方法。 - 【請求項９】 前記雰囲気が、所定の水分濃度以下に維
持されていることを特徴とする請求項１ないし８のいず
れかに記載の有機ＥＬ装置の製造方法。 - 【請求項１０】 前記所定の水分濃度が、１０ｐｐｍで
あることを特徴とする請求項９に記載の有機ＥＬ装置の
製造方法。 - 【請求項１１】 前記画素領域に着弾した前記発光機能
材料の溶剤を気化させる乾燥工程を、更に備え、前記乾
燥工程を、前記不活性ガスの雰囲気中で行うことを特徴
とする請求項１ないし１０のいずれかに記載の有機ＥＬ
装置の製造方法。 - 【請求項１２】 前記吐出工程を為す吐出エリアと前記
乾燥工程を為す乾燥エリアとの間で前記基板を搬送する
搬送工程を、更に備え、 前記搬送工程を、前記不活性ガスの雰囲気中で行うこと
を特徴とする請求項１ないし１１のいずれかに記載の有
機ＥＬ装置の製造方法。 - 【請求項１３】 前記不活性ガスが、窒素、二酸化炭
素、ヘリウム、ネオン、アルゴン、クリプトン、キセノ
ンおよびラドンのいずれかであることを特徴とする請求
項１ないし１２のいずれかに記載の有機ＥＬ装置の製造
方法。 - 【請求項１４】 請求項１ないし１３のいずれかに記載
の有機ＥＬ装置の製造方法により製造されたことを特徴
とする有機ＥＬ装置。 - 【請求項１５】 請求項１４に記載の有機ＥＬ装置を備
えたことを特徴とする電子機器。 - 【請求項１６】 発光機能材料を導入した機能液滴吐出
ヘッドを基板に対し相対的に走査し、前記発光機能材料
を選択的に吐出して前記基板上の多数の画素領域に有機
ＥＬ機能層を形成する液滴吐出手段と、 前記液滴吐出手段を不活性ガスの雰囲気中に収容するチ
ャンバ手段とを備えたことを特徴とする有機ＥＬ装置の
製造装置。 - 【請求項１７】 前記有機ＥＬ機能層が、ＥＬ発光層お
よび正孔注入層のうち少なくとも前記ＥＬ発光層である
ことを特徴とする請求項１６に記載の有機ＥＬ装置の製
造装置。 - 【請求項１８】 前記チャンバ手段は、前記液滴吐出手
段と共にその付帯装置を収容していることを特徴とする
請求項１６または１７に記載の有機ＥＬ装置の製造装
置。 - 【請求項１９】 前記チャンバ手段は、チャンバルーム
と、 送気口を介して、前記チャンバルームに前記不活性ガス
を供給するガス供給設備と、 排気口を介して、前記チャンバルームから前記不活性ガ
スを排気するガス排気設備とを有することを特徴とする
請求項１８に記載の有機ＥＬ装置の製造装置。 - 【請求項２０】 前記チャンバルームの中心部には、前
記液滴吐出手段の吐出エリアが設定され、 前記送気口と前記排気口とを結ぶ気流の主流路が前記吐
出エリアと交差することを特徴とする請求項１９に記載
の有機ＥＬ装置の製造装置。 - 【請求項２１】 前記チャンバルームは、略直方体形状
に形成され、 前記送気口と前記排気口とは、相互に略対角位置に配設
されていることを特徴とする請求項２０に記載の有機Ｅ
Ｌ装置の製造装置。 - 【請求項２２】 前記チャンバルームには、点検用パネ
ルが着脱自在に設けられ、 前記点検用パネルは、内外二重パネル構造を有している
ことを特徴とする請求項１９ないし２１のいずれかに記
載の有機ＥＬ装置の製造装置。 - 【請求項２３】 前記チャンバルームには、前記点検用
パネルが２個所に設けられており、 一方の前記点検用パネルは前記液滴吐出手段に面し、他
方の点検用パネルは前記付帯装置に面していることを特
徴とする請求項２２に記載の有機ＥＬ装置の製造装置。 - 【請求項２４】 前記ガス供給設備は、ガス供給機器
と、 前記ガス供給機器と前記送気口との間のガス流路上に、
クーラ、ヒータ、ファンおよびフィルタを配設して成る
ガス調和機器とを有していることを特徴とする請求項１
９ないし２３のいずれかに記載の有機ＥＬ装置の製造装
置。 - 【請求項２５】 前記ガス調和機器は、前記雰囲気を所
定の温度に維持することを特徴とする請求項２４に記載
の有機ＥＬ装置の製造装置。 - 【請求項２６】 前記所定の温度が、２０℃±０．５℃
であることを特徴とする請求項２５に記載の有機ＥＬ装
置の製造装置。 - 【請求項２７】 前記ガス供給機器は、前記雰囲気を所
定の酸素濃度以下に維持することを特徴とする請求項２
４、２５または２６に記載の有機ＥＬ装置の製造装置。 - 【請求項２８】 前記所定の酸素濃度が、１０ｐｐｍで
あることを特徴とする請求項２７に記載の有機ＥＬ装置
の製造装置。 - 【請求項２９】 前記ガス供給機器は、前記雰囲気を所
定の水分濃度以下に維持することを特徴とする請求項２
４ないし２８のいずれかに記載の有機ＥＬ装置の製造装
置。 - 【請求項３０】 前記所定の水分濃度が、１０ｐｐｍで
あることを特徴とする請求項２９に記載の有機ＥＬ装置
の製造装置。 - 【請求項３１】 前記ガス排気設備は、前記排気口に連
なる排気流路と、前記排気流路に介設した排気ダンパー
とを有し、 前記排気ダンパーは、常時「開」に制御されていること
を特徴とする請求項１９ないし３０のいずれかに記載の
有機ＥＬ装置の製造装置。 - 【請求項３２】 前記チャンバ手段は、 前記チャンバルームに、前記不活性ガスに代えて外気を
供給する外気供給設備を、更に有することを特徴とする
請求項１９ないし３１のいずれかに記載の有機ＥＬ装置
の製造装置。 - 【請求項３３】 前記外気供給設備は、前記送気口を介
して前記チャンバルームに連通していることを特徴とす
る請求項３２に記載の有機ＥＬ装置の製造装置。 - 【請求項３４】 前記不活性ガスが、窒素、二酸化炭
素、ヘリウム、ネオン、アルゴン、クリプトン、キセノ
ンおよびラドンのいずれかであることを特徴とする請求
項１６ないし３３のいずれかに記載の有機ＥＬ装置の製
造装置。 - 【請求項３５】 請求項１６ないし３４のいずれかに記
載の有機ＥＬ装置の製造装置により製造されたことを特
徴とする有機ＥＬ装置。 - 【請求項３６】 請求項３５に記載の有機ＥＬ装置を備
えたことを特徴とする電子機器。 - 【請求項３７】 機能材料を導入した機能液滴吐出ヘッ
ドを基板に対し相対的に走査し、前記機能材料を前記基
板上に選択的に吐出して機能膜を形成する液滴吐出手段
と、 前記液滴吐出手段を不活性ガスの雰囲気中に収容するチ
ャンバ手段とを備えたことを特徴とする液滴吐出装置。
Priority Applications (7)
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|---|---|---|---|
| JP2002014029A JP4066661B2 (ja) | 2002-01-23 | 2002-01-23 | 有機ｅｌ装置の製造装置および液滴吐出装置 |
| KR10-2002-0078242A KR100503139B1 (ko) | 2002-01-23 | 2002-12-10 | 유기 ｅｌ 장치의 제조 방법 및 제조 장치, 유기 ｅｌ장치, 전자기기 및 액체방울 토출 장치 |
| TW091137512A TW200302678A (en) | 2002-01-23 | 2002-12-26 | Manufacturing method of organic EL device, organic EL device, electronic machine and liquid drop spraying device |
| TW093109607A TW200420179A (en) | 2002-01-23 | 2002-12-26 | Apparatus for manufacturing organic EL device, organic EL device, electronic device, and liquid droplet ejection apparatus |
| US10/347,268 US7517549B2 (en) | 2002-01-23 | 2003-01-21 | Method of, and apparatus for, manufacturing organic EL device; organic EL device; electronic device; and liquid droplet ejection apparatus |
| CNA2006101492600A CN1956209A (zh) | 2002-01-23 | 2003-01-23 | 有机el装置及其制造装置、电子机器及液滴喷出装置 |
| CNB031019188A CN1291626C (zh) | 2002-01-23 | 2003-01-23 | 有机el装置及其制造方法和制造装置、及液滴喷出装置 |
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| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2002014029A JP4066661B2 (ja) | 2002-01-23 | 2002-01-23 | 有機ｅｌ装置の製造装置および液滴吐出装置 |
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| JP2003102023A Division JP3901119B2 (ja) | 2003-04-04 | 2003-04-04 | 描画装置、有機ｅｌ装置の製造方法および製造装置、並びに有機ｅｌ装置および電子機器 |
| JP2003402119A Division JP3945475B2 (ja) | 2003-12-01 | 2003-12-01 | メンテナンス装置およびこれを備えた描画装置 |
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|---|---|
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|---|---|---|---|
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|---|---|
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| KR (1) | KR100503139B1 (ja) |
| CN (2) | CN1956209A (ja) |
| TW (2) | TW200420179A (ja) |
Cited By (16)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006043889A (ja) * | 2004-07-30 | 2006-02-16 | Olympus Corp | 画像記録装置 |
| WO2006064600A1 (ja) | 2004-12-17 | 2006-06-22 | Sharp Kabushiki Kaisha | 有機エレクトロルミネッセンスディスプレイの製造方法及び製造装置 |
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