JP2003205581A

JP2003205581A - 反射防止フィルム、光学素子および表示装置

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Publication number: JP2003205581A
Application number: JP2002268043A
Authority: JP
Inventors: Minoru Miyatake; 宮武　　稔; Tomoaki Masuda; 友昭増田; Takayuki Shigematsu; 崇之重松; Masahiro Yoshioka; 昌宏吉岡
Original assignee: Nitto Denko Corp
Current assignee: Nitto Denko Corp
Priority date: 2001-10-18
Filing date: 2002-09-13
Publication date: 2003-07-22
Anticipated expiration: 2022-09-13
Also published as: CN1412577A; US20040157065A1; US20030076596A1; US7156530B2; US6773121B2; JP3953922B2; CN1293393C

Abstract

(57)【要約】（修正有）【課題】ハードコート層が設けられ透明基板のハード
コート層の表面に、コーティングによって低屈折率の反
射防止層が積層された反射防止フィルムであって、アル
コキシシランのゾル−ゲル反応によって、比較的低温下
における短時間の硬化によっても耐擦傷性、汚染性の良
好な反射防止層が形成された反射防止フィルムを提供す
る。【解決手段】反射防止層３が、一般式（１）：Ｓｉ
（ＯＲ）_４（式中Ｒは、メチル基またはエチル基を示
す）で表されるテトラアルコキシシランを主成分する加
水分解性アルコキシシランを部分的に加水分解後縮重合
させたシロキサンオリゴマー（Ａ）と、フルオロアルキ
ル構造およびポリシロキサン構造を有する化合物（Ｂ）
を含有する溶液の乾燥硬化膜により形成されたものであ
ることを特徴とする反射防止フィルム。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、液晶ディスプレイ
（ＬＣＤ）、有機ＥＬ表示装置、ＰＤＰなどの表示装置
において画面の視認性の低下を抑えるために用いられて
いる反射防止フィルム、当該反射防止フィルムが設けら
れている光学素子に関する。また当該反射防止フィルム
または光学素子が装着されている表示装置に関する。さ
らには反射防止層形成剤、当該反射防止層形成剤により
形成された反射防止層に関する。

【０００２】

【従来の技術】液晶パネルは近年の研究開発によりディ
スプレイとしての確固たる地位を確保しつつある。しか
し、明るい照明下での使用頻度の高いカーナビゲーショ
ン用モニターやビデオカメラ用モニターは表面反射によ
る視認性の低下が顕著である。そのため液晶パネルに用
いる偏光板には反射防止処理を施すことが必要不可欠に
なりつつあり、屋外使用頻度の高い液晶ディスプレイの
ほとんどには反射防止処理を施した偏光板が使用されて
いる。

【０００３】反射防止処理は、一般的に真空蒸着法やス
パッタリング法、ＣＶＤ法等のドライ処理法により、屈
折率の異なる材料からなる複数の薄膜の多層積層体を作
製し、可視光領域の反射をできるだけ低減させるような
設計が行われている。しかし、上記のドライ処理での薄
膜の形成には真空設備が必要であり、処理費用が非常に
高価となる。そのため、最近ではウエットコーティング
での反射防止膜の形成により反射防止処理を行った反射
防止フィルムを作製している。反射防止フィルムの構成
は、通常、基材となる透明基板／ハードコート性付与の
ための樹脂層／低屈折率の反射防止層からなる構成とな
っている。かかる反射防止フィルムにおいて、反射率の
観点からハードコート層には高屈折率が求められ、反射
防止層にはより低い屈折率が求められる。

【０００４】前記反射防止層を形成する低屈折率材料と
しては、屈折率や防汚染性の観点からフッ素含有ポリマ
ーなどが用いられている。また、より低い屈折率を満た
す材料としてアルコキシシランやオルガノアルコキシシ
ランのゾル−ゲル反応を利用してポーラスな構造によっ
て低い屈折率を得る方法などが一般的になっている。し
かし、上記ゾル−ゲル反応では、反応性を制御してポー
ラスな構造を得ようとするため低温で焼成しようとする
と、どうしても硬化に時間がかかり、短時間で十分な耐
擦傷性の反射防止層を形成することができない。また上
記ゾル−ゲル反応で得られる皮膜表面は汚染性の点でも
問題があった。

【０００５】また、特開平９−２０８８９８号公報で
は、反射防止層にポリシロキサン構造を有するフッ素含
有化合物を用いることが提案されている。かかるフッ素
含有化合物による反射防止層の形成は、均一な反応であ
り、また液安定性と硬化後の膜の均一性に優れ、汚染性
も良好である。しかし、かかるフッ素含有化合物は硬化
反応速度がやや遅く、やはり低温での焼成では硬化に時
間がかかる。たとえば、偏光板の保護フィルムとして賞
用されるトリアセチルセルロースフィルムを透明基板と
して用い、この上にハードコート層を介して上記フッ素
含有化合物による反射防止層を形成するときなどのよう
に、高い温度での焼成が難しい場合には、十分な耐擦傷
性を得るのに、１００℃前後の温度で数日のキュア（エ
ージング）時間が必要となる。

【０００６】

【特許文献１】特開平９−２０８８９８号公報（第１−
２頁）

【発明が解決しようとする課題】本発明は、ハードコー
ト層が設けられ透明基板のハードコート層の表面に、コ
ーティングによって低屈折率の反射防止層が積層された
反射防止フィルムであって、アルコキシシランのゾル−
ゲル反応によって、比較的低温下における短時間の硬化
によっても耐擦傷性、汚染性の良好な反射防止層が形成
された反射防止フィルムを提供することを目的とする。
また、当該反射防止フィルムが設けられている光学素子
を提供することを目的とする。また当該反射防止フィル
ムまたは光学素子が装着されている表示装置を提供する
ことを目的とする。さらには、反射防止層形成剤、当該
反射防止層形成剤により形成された反射防止層を提供す
ることを目的とする。

【０００７】

【課題を解決するための手段】本発明者らは前記課題を
解決すべく鋭意検討を重ねた結果、以下に示す反射防止
フィルムにより前記目的を達成できることを見出し、本
発明を完成するに到った。

【０００８】すなわち本発明は、透明基板の片面に直接
または他の層を介してハードコート層が設けられてお
り、さらに当該ハードコート層の表面に反射防止層が積
層された反射防止フィルムにおいて、前記反射防止層
が、一般式（１）：Ｓｉ（ＯＲ) ₄ （式中Ｒは、メチル
基またはエチル基を示す）で表されるテトラアルコキシ
シランを主成分する加水分解性アルコキシシランを部分
的に加水分解後縮重合させたシロキサンオリゴマー
（Ａ）と、フルオロアルキル構造およびポリシロキサン
構造を有する化合物（Ｂ）とを含有する溶液の乾燥硬化
膜により形成されたものであることを特徴とする反射防
止フィルム、に関する。

【０００９】上記本発明の反射防止フィルムは、前記化
合物（Ｂ）を用いることにより、防汚性を向上させると
ともに、これにシロキサンオリゴマー（Ａ）を混合する
ことにより、反応性の緩やかな化合物（Ｂ）中のポリシ
ロキサンの硬化の遅さを、シロキサンオリゴマー（Ａ）
の反応性によって補っている。このように薄膜形成時の
反応性を制御するタイプのゾル−ゲルコーティング材料
（塗工液）によって比較的低温下における短時間の硬化
によっても耐擦傷性、汚染性の良好な反射防止層形成で
き、生産性よく反射防止フィルムが得られる。

【００１０】また、こうして形成された低屈折率の反射
防止層とハードコート層との密着性は、シロキサンオリ
ゴマー（Ａ）または化合物（Ｂ）を単独で用いた反射防
止層に比べて向上しており、密着性の信頼性試験などで
ハードコート層と反射防止層の界面で剥離が生じること
はない。

【００１１】前記反射防止フィルムにおいて、反射防止
層を形成する前記溶液中に、前記シロキサンオリゴマー
（Ａ）が、反射防止層として形成される乾燥硬化膜中の
乾燥硬化物として、固形分重量比が１０〜８０重量％と
なるように配合されていることが好ましい。

【００１２】前記シロキサンオリゴマー（Ａ）は反応性
が早く、これを単独で反射防止層の形成に用いた場合に
は不均一な膜を形成しやすく、膜も緻密に形成されるた
め屈折率の値もｎ_d ²⁰（２０℃の屈折率）が＝１．４５
前後になり、反射率（屈折率に依存）が上がる。そのた
め、反射防止層の形成には、反射率と硬化促進性のバラ
ンスの観点より、前記シロキサンオリゴマー（Ａ）の前
記配合比率を１０〜８０重量％とするのが好ましい。前
記シロキサンオリゴマー（Ａ）の前記配合比率は、硬化
促進性の点からは２０重量％以上とするのがより好まし
く、当該配合比率を上げれば上げるほど緻密な膜が形成
され、膜強度もそれに伴い上昇する。一方、低反射の観
点を考慮すると、前記シロキサンオリゴマー（Ａ）の前
記配合比率は、８０重量％以下とするのが好ましい。よ
り好ましくは５０重量％以下、さらに好ましくは４０重
量％以下である。なお反射防止層（低屈折率層）は、前
記屈折率が、一般的に１．４５以下程度、さらには１．
４１以下のものが好適である。また反射率は３％程度以
下、さらには２．５％以下のものが好適である。

【００１３】前記反射防止フィルムにおいて、ハードコ
ート層が、紫外線硬化型樹脂より形成されており、ｎ_d
²⁰（２０℃の屈折率）が１．４９以上であることが好ま
しい。

【００１４】ハードコート層の形成は、紫外線硬化型樹
脂による硬化処理にて、簡単な加工操作にて効率よく樹
脂皮膜層を形成することができる。また、低屈折率の反
射防止層に対し、屈折率はｎ_d ²⁰（２０℃の屈折率）
が１．４９以上、さらには１．５２以上であるものが好
ましい。

【００１５】前記反射防止フィルムにおいて、ハードコ
ート層の表面が凸凹形状となっており光防眩性を有する
ことが好ましい。また、前記反射防止フィルムにおい
て、ハードコート層中に微粒子を含有することが好まし
い。

【００１６】ハードコート層の表面を凸凹形状とするこ
とにより光拡散性を付与した防眩性フィルムとすること
ができ、微粒子を用いることにより、表面凹凸形状を有
する樹脂皮膜層を簡易かつ確実に実現できる。

【００１７】また本発明は、前記反射防止フィルムが、
光学素子の片面又は両面に設けられていることを特徴と
する光学素子に関する。本発明の反射防止フィルムは各
種の用途に用いることができ、たとえば、光学素子に用
いられる。本発明の反射防止フィルムを積層した偏光板
は、反射防止機能だけでなく、ハードコート性や耐擦傷
性、耐久性などにも優れる。

【００１８】さらに本発明は、前記反射防止フィルムま
たは前記光学素子を装着した表示装置に関する。本発明
の反射防止フィルム、光学素子は各種の用途に用いるこ
とができ、たとえば、表示装置の最表面等に設けられ
る。

【００１９】また本発明は、一般式（１）：Ｓｉ（Ｏ
Ｒ) ₄ （式中Ｒは、メチル基またはエチル基を示す）で
表されるテトラアルコキシシランを主成分する加水分解
性アルコキシシランを部分的に加水分解後縮重合させた
シロキサンオリゴマー（Ａ）とフルオロアルキル構造お
よびポリシロキサン構造を有する化合物（Ｂ）、を含有
する溶液からなる反射防止膜形成剤、関する。また当該
反射防止膜形成剤の乾燥硬化膜により形成された反射防
止膜、に関する。

【００２０】

【発明の実施の形態】以下に本発明の好ましい実施形態
を、図面を参照しながら説明する。図１は、透明基板１
上のハードコート層２の表面に反射防止層３が積層され
た反射防止フィルムである。図２は、ハードコート層２
中に微粒子４を分散させハードコート層２の表面を凹凸
形状とした反射防止フィルムである。なお、図１、図２
では、ハードコート層２を透明基板１上に直接積層して
いるが、ハードコート層２は複数設けることもでき、そ
の間には、別途、易接着層、導電層等の他の層を形成す
ることもできる。

【００２１】透明基板１は、可視光の光線透過率に優れ
（光線透過率９０％以上）、透明性に優れるもの（ヘイ
ズ値１％以下）であれば特に制限はない。透明基板１と
しては、例えばポリエチレンテレフタレート、ポリエチ
レンナフタレート等のポリエステル系ポリマー、ジアセ
チルセルロース、トリアセチルセルロース等のセルロー
ス系ポリマー、ポリカーボネート系ポリマー、ポリメチ
ルメタクリレート等のアクリル系ポリマー等の透明ポリ
マーからなるフィルムがあげられる。またポリスチレ
ン、アクリロニトリル・スチレン共重合体等のスチレン
系ポリマー、ポリエチレン、ポリプロピレン、環状ない
しノルボルネン構造を有するポリオレフィン、エチレン
・プロピレン共重合体等のオレフィン系ポリマー、塩化
ビニル系ポリマー、ナイロンや芳香族ポリアミド等のア
ミド系ポリマー等の透明ポリマーからなるフィルムもあ
げられる。さらにイミド系ポリマー、スルホン系ポリマ
ー、ポリエーテルスルホン系ポリマー、ポリエーテルエ
ーテルケトン系ポリマー、ポリフェニレンスルフィド系
ポリマー、ビニルアルコール系ポリマー、塩化ビニリデ
ン系ポリマー、ビニルブチラール系ポリマー、アリレー
ト系ポリマー、ポリオキシメチレン系ポリマー、エポキ
シ系ポリマーや前記ポリマーのブレンド物等の透明ポリ
マーからなるフィルムなどもあげられる。特に光学的に
複屈折の少ないものが好適に用いられる。偏光板の保護
フィルムの観点よりは、トリアセチルセルロース、ポリ
カーボネート、アクリル系ポリマー、シクロオレフィン
系樹脂、ノルボルネン構造を有するポリオレフィンなど
が好適である。本発明は、トリアセチルセルロースのよ
うに、高い温度での焼成が難しい透明基材について好適
である。なお、トリアセチルセルロースは、１３０℃以
上ではフィルム中の可塑剤が揮発し特性が著しく低下す
る。

【００２２】透明基板１の厚さは、適宜に決定しうる
が、一般には強度や取扱性等の作業性、薄層性などの点
より１０〜５００μｍ程度である。特に２０〜３００μ
ｍが好ましく、３０〜２００μｍがより好ましい。

【００２３】ハードコート層２はハードコート性に優
れ、皮膜層形成後に十分な強度を持ち、光線透過率の優
れたものであれば特に制限はない。当該ハードコート層
２を形成する樹脂としては、熱硬化型樹脂、熱可塑型樹
脂、紫外線硬化型樹脂、電子線硬化型樹脂、二液混合型
樹脂などがあげられるが、これらのなかでも紫外線照射
による硬化処理にて、簡単な加工操作にて効率よくハー
ドコート層を形成することができる紫外線硬化型樹脂が
好適である。

【００２４】紫外線硬化型樹脂としては、ポリエステル
系、アクリル系、ウレタン系、アミド系、シリコーン
系、エポキシ系等の各種のものがあげられ、紫外線硬化
型のモノマー、オリゴマー、ポリマー等が含まれる。好
ましく用いられる紫外線硬化型樹脂は、例えば紫外線重
合性の官能基を有するもの、なかでも当該官能基を２個
以上、特に３〜６個有するアクリル系のモノマーやオリ
ゴマーを成分を含むものがあげられる。また、紫外線硬
化型樹脂には、紫外線重合開始剤が配合されている。

【００２５】ハードコート層２の表面は微細凹凸構造に
して防眩性を付与することができる。表面に微細凹凸構
造を形成する方法は特に制限されず、適宜な方式を採用
することができる。たとえば、前記ハードコート層２の
形成に用いたフィルムの表面を、予め、サンドブラスト
やエンボスロール、化学エッチング等の適宜な方式で粗
面化処理してフィルム表面に微細凹凸構造を付与する方
法等により、ハードコート層２を形成する材料そのもの
の表面を微細凹凸構造に形成する方法があげられる。ま
た、ハードコート層２上に別途ハードコート層２を塗工
付加し、当該樹脂皮膜層表面に、金型による転写方式等
により微細凹凸構造を付与する方法があげられる。ま
た、図２のようにハードコート層２に微粒子４を分散含
有させて微細凹凸構造を付与する方法などがあげられ
る。これら微細凹凸構造の形成方法は、二種以上の方法
を組み合わせ、異なる状態の微細凹凸構造表面を複合さ
せた層として形成してもよい。前記ハードコート層２の
形成方法のなかでも、微細凹凸構造表面の形成性等の観
点より、微粒子４を分散含有するハードコート層２を設
ける方法が好ましい。

【００２６】以下、微粒子４を分散含有させてハードコ
ート層２を設ける方法について説明する。微粒子４とし
ては、各種金属酸化物、ガラス、プラスティックなどの
透明性を有するものを特に制限なく使用することができ
る。例えばシリカ、アルミナ、チタニア、酸化ジルコニ
ウム、酸化カルシウム、酸化錫、酸化インジウム、酸化
アンチモン等の無機系酸化物微粒子、ポリメチルメタク
リレート、ポリスチレン、ポリウレタン、アクリル−ス
チレン共重合体、ベンゾグアナミン、メラミン、ポリカ
ーボネート等の各種ポリマーからなる架橋又は未架橋の
有機系微粒子やシリコーン系微粒子などがあげられる。
なお、これらの形状は特に制限されずビーズ状の球形で
あってもよく、粉末等の不定型のものであってもよい。
これら微粒子４は１種または２種以上を適宜に選択して
用いることができる。微粒子の平均粒子径は１〜１０μ
ｍ、好ましくは２〜５μｍである。また、微粒子には、
屈折率制御や、導電性付与の目的で、金属酸化物の超微
粒子などを分散、含浸しても良い。微粒子４の割合は、
微粒子４の平均粒子径、ハードコート層の厚さ等を考慮
して適宜に決定されるが、一般的に、樹脂１００重量部
に対して、１〜２０重量部程度であり、さらには５〜１
５重量部とするのが好ましい。

【００２７】前記紫外線硬化型樹脂（ハードコート層２
の形成）には、レベリング剤、チクソトロピー剤、帯電
防止剤等の添加剤を用いることができる。チクソトロピ
ー剤を用いると、微細凹凸構造表面における突出粒子の
形成に有利である。チクソトロピー剤としては、０．１
μｍ以下のシリカ、マイカ、スメクタイト等があげられ
る。

【００２８】ハードコート層２の形成方法は特に制限さ
れず、適宜な方式を採用することができる。たとえば、
前記透明基板１上に、樹脂（微粒子４を適宜に含有す
る）を塗工し、乾燥後、硬化処理する。微粒子４を含有
する場合には表面に凹凸形状を呈するようなハードコー
ト層２を形成する。前記樹脂の塗工は、ファンテン、ダ
イコーター、キャスティング、スピンコート、ファンテ
ンメタリング、グラビア等の適宜な方式で塗工される。
なお、塗工にあたり、前記樹脂は、トルエン、酢酸エチ
ル、酢酸ブチル、メチルエチルケトン、メチルイソブチ
ルケトン、イソプロピルアルコール、エチルアルコール
等の一般的な溶剤で希釈してもよく、希釈することなく
そのまま塗工することもできる。また、ハードコート層
２の厚さは特に制限されないが、０．５〜２０μｍ程
度、特に１〜１０μｍとするのが好ましい。

【００２９】ハードコート層２の表面には反射防止層３
が積層される。反射防止層形成剤は、一般式（１）：Ｓ
ｉ（ＯＲ) ₄ （式中Ｒは、メチル基またはエチル基を示
す）で表されるテトラアルコキシシランを主成分する加
水分解性アルコキシシランを部分的に加水分解後縮重合
させたシロキサンオリゴマー（Ａ）と、フルオロアルキ
ル構造およびポリシロキサン構造を有する化合物（Ｂ）
を含有しており、通常、これらが前記所定割合で配合さ
れている。

【００３０】シロキサンオリゴマー（Ａ）は、加水分解
性アルコキシシランを大量のアルコール溶媒（たとえ
ば、メタノール、エタノール等）に入れ、水と酸触媒
（塩酸、硝酸など）の存在下、室温で数時間反応させ、
部分的に加水分解後縮重合させることによって得られ
る。シロキサンオリゴマー（Ａ）のＧＰＣによるエチレ
ングリコール／ポリエチレンオキサイド換算の相対分子
量は９００〜１０００の範囲であるのが好ましい。前記
シロキサンオリゴマー（Ａ）の相対分子量は加水分解性
アルコキシシランと水の添加量によって制御できる。

【００３１】加水分解性アルコキシシランは、一般式
（１）：Ｓｉ（ＯＲ) ₄ （式中Ｒは、メチル基またはエ
チル基を示す）で表されるテトラアルコキシシランを主
成分する。かかるテトラアルコキシシランは、テトラメ
トキシシランおよび／またはテトラエトキシシランであ
り、加水分解性アルコキシシランの、通常、８０モル％
以上とするのが好ましい。

【００３２】前記テトラアルコキシシラン以外に用いら
れる、加水分解性アルコキシシランとしては、テトラプ
ロポキシシラン、テトラブトキシシラン等のテトラアル
コキシシラン、メチルトリメトキシシラン、メチルトリ
エトキシシラン、エチルトリメトキシシラン、エチルト
リエトキシシラン、プロピルトリメトキシシラン、プロ
ピルトリエトキシシラン、ブチルトリメトキシシラン、
ブチルトリエトキシシラン、ペンチルトリメトキシシラ
ン、ペンチルトリエトキシシラン、ヘプチルトリメトキ
シシラン、ヘプチルトリエトキシシラン、オクチルトリ
メトキシシラン、オクチルトリエトキシシラン、ドデシ
ルトリメトキシシラン、ドデシルトリエトキシシラン、
ヘキサデシルトリメトキシシラン、ヘキサデシルトリエ
トキシシラン、オクタデシルトリメトキシシラン、オク
タデシルトリエトキシシラン、フェニルトリメトキシシ
ラン、フェニルトリエトキシシラン、ビニルトリメトキ
シシラン、ビニルトリエトキシシラン、γ−アミノプロ
ピルトリメトキシシラン、γ−アミノプロピルトリエト
キシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシ
ラン、γ−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、
γ−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、γ−
メタクリロキシプロピルトリエトキシシラン、ジメチル
ジメトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン等があげ
られる。

【００３３】フルオロアルキル構造およびポリシロキサ
ン構造を有する化合物（Ｂ）は、たとえば、ゾル−ゲル
反応によって縮合可能なアルコキシシリル基を有するパ
ーフルオロアルキルアルコキシシランと、一般式
（２）：Ｓｉ（ＯＲ¹ ）₄ （式中、Ｒ¹ は炭素数１〜５
のアルキル基を示す）で表されるテトラアルコキシシラ
ンを主成分とする加水分解性アルコキシシランを、アル
コール溶媒（たとえば、メタノール、エタノール等）中
で有機酸（たとえばシュウ酸等）やエステル類の存在下
で加熱し縮重合させることにより得られる。得られた化
合物（Ｂ）中には、ポリシロキサン構造が導入されてい
る。

【００３４】なお、これらの反応成分の比率は特に制限
されないが、通常、パーフルオロアルキルアルコキシシ
ラン１モルに対して、加水分解性アルコキシシラン１〜
１００モル程度、さらには２〜１０モルとするのが好適
である。

【００３５】パーフルオロアルキルアルコキシシランと
しては、たとえば、一般式（３）：ＣＦ₃ （ＣＦ₂ ）_n
ＣＨ₂ ＣＨ₂ Ｓｉ（ＯＲ² ）₃ （式中、Ｒ² は、炭素数
１〜５個のアルキル基を示し、ｎは０〜１２の整数を示
す）で表される化合物があげられる。具体的には、たと
えば、トリフルオロプロピルトリメトキシシラン、トリ
フルオロプロピルトリエトキシシラン、トリデカフルオ
ロオクチルトリメトキシシラン、トリデカフルオロオク
チルトリエトキシシラン、ヘプタデカフルオロデシルト
リメトキシシラン、ヘプタデカフルオロデシルトリエト
キシシランなどがあげられる。これらのなかでも前記ｎ
が２〜６の化合物が好ましい。

【００３６】一般式（２）：Ｓｉ（ＯＲ¹ ）₄ （式中、
Ｒ¹ は炭素数１〜５のアルキル基を示す）で表されるテ
トラアルコキシシランとしては、テトラメトキシシラ
ン、テトラエトキシシラン、テトラプロポキシシラン、
テトラブトキシシランなどがあげられる。これらのなか
でもテトラメトキシシラン、テトラエトキシシランなど
が好ましい。なお、化合物（Ｂ）の調製にあたっては、
前記一般式（２）で例示のテトラアルコキシシランを、
加水分解性アルコキシシランの、通常、８０モル％以上
とし、これに一般式（２）に含まれない前述の加水分解
性アルコキシシランを用いることができる。

【００３７】前記シロキサンオリゴマー（Ａ）と、フル
オロアルキル構造およびポリシロキサン構造を有する化
合物（Ｂ）を含有する反射防止層形成剤は、これらを好
ましくは前記割合となるように混合した溶液として調製
できるが、これらは塗工の直前に混合するのが溶液の安
定性の観点からは望ましい。

【００３８】また反射防止層形成剤にはシリカ、アルミ
ナ、チタニア、ジルコニア、フッ化マグネシウム、セリ
ア等をアルコール溶媒に分散したゾルなどを添加しても
良い。その他、金属塩、金属化合物などの添加剤を適宜
に配合することができる。

【００３９】反射防止層形成剤（溶液）を、前記ハード
コート層２に塗工し、乾燥、硬化することにより反射防
止層３が形成される。反射防止層３が形成は、溶媒の揮
発とともにシロキサンオリゴマー（Ａ）と化合物（Ｂ）
のポリシロキサンの硬化が進むことにより被膜形成する
ものである。上記反射防止層形成剤の塗工方法は特に制
限されず、通常の方法、例えば、ディップ法、スピンコ
ート法、刷毛塗り法、ロールコート法、フレキソ印刷法
などがあげられる。

【００４０】乾燥、硬化温度は特に制限されないが６０
〜１５０℃、さらには７０〜１２０℃の低温において、
１００時間以下、さらには０．５〜１０時間の短時間で
行うことができる。なお、温度、時間は前記範囲に制限
されず、適宜に調整できるのはもとよりである。加熱
は、ホットプレート、オーブン、ベルト炉などの方法が
適宜に採用される。

【００４１】反射防止層の厚さは特に制限されないが、
０．０５〜０．３μｍ程度、特に０．１〜０．３μｍと
するのが好ましい。反射率低減の観点より、通常、厚み
（ｎｍ）×屈折率の値が１４０ｎｍ程度となるように設
定するのが好ましい。

【００４２】また、前記図１または図２の反射防止フィ
ルムの透明基板１には、光学素子を接着することができ
る（図示せず）。

【００４３】光学素子としては、偏光子があげられる。
偏光子は、特に制限されず、各種のものを使用できる。
偏光子としては、たとえば、ポリビニルアルコール系フ
ィルム、部分ホルマール化ポリビニルアルコール系フィ
ルム、エチレン・酢酸ビニル共重合体系部分ケン化フィ
ルム等の親水性高分子フィルムに、ヨウ素や二色性染料
等の二色性物質を吸着させて一軸延伸したもの、ポリビ
ニルアルコールの脱水処理物やポリ塩化ビニルの脱塩酸
処理物等ポリエン系配向フィルム等があげられる。これ
らのなかでもポリビニルアルコール系フィルムとヨウ素
などの二色性物質からなる偏光子が好適である。これら
偏光子の厚さは特に制限されないが、一般的に、５〜８
０μｍ程度である。

【００４４】ポリビニルアルコール系フィルムをヨウ素
で染色し一軸延伸した偏光子は、たとえば、ポリビニル
アルコールをヨウ素の水溶液に浸漬することによって染
色し、元長の３〜７倍に延伸することで作製することが
できる。必要に応じてホウ酸やヨウ化カリウムなどの水
溶液に浸漬することもできる。さらに必要に応じて染色
の前にポリビニルアルコール系フィルムを水に浸漬して
水洗してもよい。ポリビニルアルコール系フィルムを水
洗することでポリビニルアルコール系フィルム表面の汚
れやブロッキング防止剤を洗浄することができるほか
に、ポリビニルアルコール系フィルムを膨潤させること
で染色のムラなどの不均一を防止する効果もある。延伸
はヨウ素で染色した後に行っても良いし、染色しながら
延伸してもよし、また延伸してからヨウ素で染色しても
よい。ホウ酸やヨウ化カリウムなどの水溶液中や水浴中
でも延伸することができる。

【００４５】前記偏光子は、通常、片側または両側に透
明保護フィルムが設けられ偏光板として用いられる。透
明保護フィルムは透明性、機械的強度、熱安定性、水分
遮蔽性、等方性などに優れるものが好ましい。透明保護
フィルムとしては前記例示の透明基板と同様の材料のも
のが用いられる。前記透明保護フィルムは、表裏で同じ
ポリマー材料からなる透明保護フィルムを用いてもよ
く、異なるポリマー材料等からなる透明保護フィルムを
用いてもよい。前記反射防止フィルムを、偏光子(偏光
板）の片側または両側に設ける場合、反射防止フィルム
の透明基板は、偏光子の透明保護フィルムを兼ねること
ができる。

【００４６】その他、透明保護フィルムの偏光子を接着
させない面は、ハードコート層やスティッキング防止を
目的とした処理を施したものであってもよい。ハードコ
ート処理は偏光板表面の傷付き防止などを目的に施され
るものであり、例えばアクリル系、シリコーン系などの
適宜な紫外線硬化型樹脂による硬度や滑り特性等に優れ
る硬化皮膜を透明保護フィルムの表面に付加する方式な
どにて形成することができる。また、スティッキング防
止処理は隣接層との密着防止を目的に施される。なお、
前記ハードコート層、スティッキング防止層等は、透明
保護フィルムそのものに設けることができるほか、別途
光学層として透明保護フィルムとは別体のものとして設
けることもできる。

【００４７】光学素子としては、実用に際して、前記偏
光板に、他の光学素子（光学層）を積層した光学フィル
ムを用いることができる。その光学層については特に限
定はないが、例えば反射板や半透過板、位相差板（１／
2 や１／４等の波長板を含む）、視角補償フィルムなど
の液晶表示装置等の形成に用いられることのある光学層
を１層または２層以上用いることができる。特に、偏光
板に更に反射板または半透過反射板が積層されてなる反
射型偏光板または半透過型偏光板、偏光板に更に位相差
板が積層されてなる楕円偏光板または円偏光板、偏光板
に更に視角補償フィルムが積層されてなる広視野角偏光
板、あるいは偏光板に更に輝度向上フィルムが積層され
てなる偏光板が好ましい。

【００４８】反射型偏光板は、偏光板に反射層を設けた
もので、視認側（表示側）からの入射光を反射させて表
示するタイプの液晶表示装置などを形成するためのもの
であり、バックライト等の光源の内蔵を省略できて液晶
表示装置の薄型化を図りやすいなどの利点を有する。反
射型偏光板の形成は、必要に応じ、前記透明保護フィル
ム等を介して偏光板の片面に金属等からなる反射層を付
設する方式などの適宜な方式にて行うことができる。

【００４９】反射型偏光板の具体例としては、必要に応
じマット処理した透明保護フィルムの片面に、アルミニ
ウム等の反射性金属からなる箔や蒸着膜を付設して反射
層を形成したものなどがあげられる。

【００５０】反射板は前記偏光板の透明保護フィルムに
直接付与する方式に代えて、その透明フィルムに準じた
適宜なフィルムに反射層を設けてなる反射シートなどと
して用いることもできる。なお反射層は、通常、金属か
らなるので、その反射面が透明保護フィルムや偏光板等
で被覆された状態の使用形態が、酸化による反射率の低
下防止、ひいては初期反射率の長期持続の点や、保護層
の別途付設の回避の点などより好ましい。

【００５１】なお、半透過型偏光板は、上記において反
射層で光を反射し、かつ透過するハーフミラー等の半透
過型の反射層とすることにより得ることができる。半透
過型偏光板は、通常液晶セルの裏側に設けられ、液晶表
示装置などを比較的明るい雰囲気で使用する場合には、
視認側（表示側）からの入射光を反射させて画像を表示
し、比較的暗い雰囲気においては、半透過型偏光板のバ
ックサイドに内蔵されているバックライト等の内蔵光源
を使用して画像を表示するタイプの液晶表示装置などを
形成できる。すなわち、半透過型偏光板は、明るい雰囲
気下では、バックライト等の光源使用のエネルギーを節
約でき、比較的暗い雰囲気下においても内蔵光源を用い
て使用できるタイプの液晶表示装置などの形成に有用で
ある。

【００５２】偏光板に更に位相差板が積層されてなる楕
円偏光板または円偏光板について説明する。直線偏光を
楕円偏光または円偏光に変えたり、楕円偏光または円偏
光を直線偏光に変えたり、あるいは直線偏光の偏光方向
を変える場合に、位相差板などが用いられる。特に、直
線偏光を円偏光に変えたり、円偏光を直線偏光に変える
位相差板としては、いわゆる１／4 波長板（λ／4 板と
も言う）が用いられる。１／2 波長板（λ／2 板とも言
う）は、通常、直線偏光の偏光方向を変える場合に用い
られる。

【００５３】楕円偏光板はスパーツイストネマチック
（ＳＴＮ）型液晶表示装置の液晶層の複屈折により生じ
た着色（青又は黄）を補償（防止）して、前記着色のな
い白黒表示する場合などに有効に用いられる。更に、三
次元の屈折率を制御したものは、液晶表示装置の画面を
斜め方向から見た際に生じる着色も補償（防止）するこ
とができて好ましい。円偏光板は、例えば画像がカラー
表示になる反射型液晶表示装置の画像の色調を整える場
合などに有効に用いられ、また、反射防止の機能も有す
る。上記した位相差板の具体例としては、ポリカーボネ
ート、ポリビニルアルコール、ポリスチレン、ポリメチ
ルメタクリレート、ポリプロピレンやその他のポリオレ
フィン、ポリアリレート、ポリアミドの如き適宜なポリ
マーからなるフィルムを延伸処理してなる複屈折性フィ
ルムや液晶ポリマーの配向フィルム、液晶ポリマーの配
向層をフィルムにて支持したものなどがあげられる。位
相差板は、例えば各種波長板や液晶層の複屈折による着
色や視角等の補償を目的としたものなどの使用目的に応
じた適宜な位相差を有するものであってよく、２種以上
の位相差板を積層して位相差等の光学特性を制御したも
のなどであってもよい。

【００５４】また上記の楕円偏光板や反射型楕円偏光板
は、偏光板又は反射型偏光板と位相差板を適宜な組合せ
で積層したものである。かかる楕円偏光板等は、（反射
型）偏光板と位相差板の組合せとなるようにそれらを液
晶表示装置の製造過程で順次別個に積層することによっ
ても形成しうるが、前記の如く予め楕円偏光板等の光学
フィルムとしたものは、品質の安定性や積層作業性等に
優れて液晶表示装置などの製造効率を向上させうる利点
がある。

【００５５】視角補償フィルムは、液晶表示装置の画面
を、画面に垂直でなくやや斜めの方向から見た場合で
も、画像が比較的鮮明にみえるように視野角を広げるた
めのフィルムである。このような視角補償位相差板とし
ては、例えば位相差フィルム、液晶ポリマー等の配向フ
ィルムや透明基材上に液晶ポリマー等の配向層を支持し
たものなどからなる。通常の位相差板は、その面方向に
一軸に延伸された複屈折を有するポリマーフィルムが用
いられるのに対し、視角補償フィルムとして用いられる
位相差板には、面方向に二軸に延伸された複屈折を有す
るポリマーフィルムとか、面方向に一軸に延伸され厚さ
方向にも延伸された厚さ方向の屈折率を制御した複屈折
を有するポリマーや傾斜配向フィルムのような二方向延
伸フィルムなどが用いられる。傾斜配向フィルムとして
は、例えばポリマーフィルムに熱収縮フィルムを接着し
て加熱によるその収縮力の作用下にポリマーフィルムを
延伸処理又は／及び収縮処理したものや、液晶ポリマー
を斜め配向させたものなどが挙げられる。位相差板の素
材原料ポリマーは、先の位相差板で説明したポリマーと
同様のものが用いられ、液晶セルによる位相差に基づく
視認角の変化による着色等の防止や良視認の視野角の拡
大などを目的とした適宜なものを用いうる。

【００５６】また視認の広い視野角を達成する点などよ
り、液晶ポリマーの配向層、特にディスコティック液晶
ポリマーの傾斜配向層からなる光学的異方性層をトリア
セチルセルロースフィルムにて支持した光学補償位相差
板が好ましく用いうる。

【００５７】偏光板と輝度向上フィルムを貼り合わせた
偏光板は、通常液晶セルの裏側サイドに設けられて使用
される。輝度向上フィルムは、液晶表示装置などのバッ
クライトや裏側からの反射などにより自然光が入射する
と所定偏光軸の直線偏光または所定方向の円偏光を反射
し、他の光は透過する特性を示すもので、輝度向上フィ
ルムを偏光板と積層した偏光板は、バックライト等の光
源からの光を入射させて所定偏光状態の透過光を得ると
共に、前記所定偏光状態以外の光は透過せずに反射され
る。この輝度向上フィルム面で反射した光を更にその後
ろ側に設けられた反射層等を介し反転させて輝度向上フ
ィルムに再入射させ、その一部又は全部を所定偏光状態
の光として透過させて輝度向上フィルムを透過する光の
増量を図ると共に、偏光子に吸収させにくい偏光を供給
して液晶表示画像表示等に利用しうる光量の増大を図る
ことにより輝度を向上させうるものである。すなわち、
輝度向上フィルムを使用せずに、バックライトなどで液
晶セルの裏側から偏光子を通して光を入射した場合に
は、偏光子の偏光軸に一致していない偏光方向を有する
光は、ほとんど偏光子に吸収されてしまい、偏光子を透
過してこない。すなわち、用いた偏光子の特性によって
も異なるが、およそ５０％の光が偏光子に吸収されてし
まい、その分、液晶画像表示等に利用しうる光量が減少
し、画像が暗くなる。輝度向上フィルムは、偏光子に吸
収されるような偏光方向を有する光を偏光子に入射させ
ずに輝度向上フィルムで一旦反射させ、更にその後ろ側
に設けられた反射層等を介して反転させて輝度向上フィ
ルムに再入射させることを繰り返し、この両者間で反
射、反転している光の偏光方向が偏光子を通過し得るよ
うな偏光方向になった偏光のみを、輝度向上フィルムは
透過させて偏光子に供給するので、バックライトなどの
光を効率的に液晶表示装置の画像の表示に使用でき、画
面を明るくすることができる。

【００５８】輝度向上フィルムと上記反射層等の間に拡
散板を設けることもできる。輝度向上フィルムによって
反射した偏光状態の光は上記反射層等に向かうが、設置
された拡散板は通過する光を均一に拡散すると同時に偏
光状態を解消し、非偏光状態となる。すなわち、拡散板
は偏光を元の自然光状態にもどす。この非偏光状態、す
なわち自然光状態の光が反射層等に向かい、反射層等を
介して反射し、再び拡散板を通過して輝度向上フィルム
に再入射することを繰り返す。このように輝度向上フィ
ルムと上記反射層等の間に、偏光を元の自然光状態にも
どす拡散板を設けることにより表示画面の明るさを維持
しつつ、同時に表示画面の明るさのむらを少なくし、均
一で明るい画面を提供することができる。かかる拡散板
を設けることにより、初回の入射光は反射の繰り返し回
数が程よく増加し、拡散板の拡散機能と相俟って均一の
明るい表示画面を提供することができたものと考えられ
る。

【００５９】前記の輝度向上フィルムとしては、例えば
誘電体の多層薄膜や屈折率異方性が相違する薄膜フィル
ムの多層積層体の如き、所定偏光軸の直線偏光を透過し
て他の光は反射する特性を示すもの、コレステリック液
晶ポリマーの配向フィルムやその配向液晶層をフィルム
基材上に支持したものの如き、左回り又は右回りのいず
れか一方の円偏光を反射して他の光は透過する特性を示
すものなどの適宜なものを用いうる。

【００６０】従って、前記した所定偏光軸の直線偏光を
透過させるタイプの輝度向上フィルムでは、その透過光
をそのまま偏光板に偏光軸を揃えて入射させることによ
り、偏光板による吸収ロスを抑制しつつ効率よく透過さ
せることができる。一方、コレステリック液晶層の如く
円偏光を投下するタイプの輝度向上フィルムでは、その
まま偏光子に入射させることもできるが、吸収ロスを抑
制する点よりその円偏光を位相差板を介し直線偏光化し
て偏光板に入射させることが好ましい。なお、その位相
差板として１／４波長板を用いることにより、円偏光を
直線偏光に変換することができる。

【００６１】可視光域等の広い波長範囲で１／４波長板
として機能する位相差板は、例えば波長５５０ｎｍの淡
色光に対して１／４波長板として機能する位相差層と他
の位相差特性を示す位相差層、例えば１／２波長板とし
て機能する位相差層とを重畳する方式などにより得るこ
とができる。従って、偏光板と輝度向上フィルムの間に
配置する位相差板は、１層又は２層以上の位相差層から
なるものであってよい。

【００６２】なお、コレステリック液晶層についても、
反射波長が相違するものの組み合わせにして２層又は３
層以上重畳した配置構造とすることにより、可視光領域
等の広い波長範囲で円偏光を反射するものを得ることが
でき、それに基づいて広い波長範囲の透過円偏光を得る
ことができる。

【００６３】また、偏光板は、上記の偏光分離型偏光板
の如く、偏光板と２層又は３層以上の光学層とを積層し
たものからなっていてもよい。従って、上記の反射型偏
光板や半透過型偏光板と位相差板を組み合わせた反射型
楕円偏光板や半透過型楕円偏光板などであってもよい。

【００６４】前記光学素子への反射防止フィルムの積
層、さらには偏光板への各種光学層の積層は、液晶表示
装置等の製造過程で順次別個に積層する方式にても行う
ことができるが、これらを予め積層したのものは、品質
の安定性や組立作業等に優れていて液晶表示装置などの
製造工程を向上させうる利点がある。積層には粘着層等
の適宜な接着手段を用いうる。前記の偏光板やその他の
光学フィルムの接着に際し、それらの光学軸は目的とす
る位相差特性などに応じて適宜な配置角度とすることが
できる。

【００６５】前述した偏光板や、偏光板を少なくとも１
層積層されている光学フィルム等の光学素子の少なくと
も片面には、前記反射防止フィルムが設けられている
が、反射防止フィルムが設けられていない面には、液晶
セル等の他部材と接着するための粘着層を設けることも
できる。粘着層を形成する粘着剤は特に制限されない
が、例えばアクリル系重合体、シリコーン系ポリマー、
ポリエステル、ポリウレタン、ポリアミド、ポリエーテ
ル、フッ素系やゴム系などのポリマーをベースポリマー
とするものを適宜に選択して用いることができる。特
に、アクリル系粘着剤の如く光学的透明性に優れ、適度
な濡れ性と凝集性と接着性の粘着特性を示して、耐候性
や耐熱性などに優れるものが好ましく用いうる。

【００６６】また上記に加えて、吸湿による発泡現象や
剥がれ現象の防止、熱膨張差等による光学特性の低下や
液晶セルの反り防止、ひいては高品質で耐久性に優れる
液晶表示装置の形成性などの点より、吸湿率が低くて耐
熱性に優れる粘着層が好ましい。

【００６７】粘着層は、例えば天然物や合成物の樹脂
類、特に、粘着性付与樹脂や、ガラス繊維、ガラスビー
ズ、金属粉、その他の無機粉末等からなる充填剤や顔
料、着色剤、酸化防止剤などの粘着層に添加されること
の添加剤を含有していてもよい。また微粒子を含有して
光拡散性を示す粘着層などであってもよい。

【００６８】偏光板、光学フィルム等の光学素子への粘
着層の付設は、適宜な方式で行いうる。その例として
は、例えばトルエンや酢酸エチル等の適宜な溶剤の単独
物又は混合物からなる溶媒にベースポリマーまたはその
組成物を溶解又は分散させた１０〜４０重量％程度の粘
着剤溶液を調製し、それを流延方式や塗工方式等の適宜
な展開方式で光学素子上に直接付設する方式、あるいは
前記に準じセパレータ上に粘着層を形成してそれを光学
素子上に移着する方式などがあげられる。粘着層は、各
層で異なる組成又は種類等のものの重畳層として設ける
こともできる。粘着層の厚さは、使用目的や接着力など
に応じて適宜に決定でき、一般には１〜５００μｍであ
り、５〜２００μｍが好ましく、特に１０〜１００μｍ
が好ましい。

【００６９】粘着層の露出面に対しては、実用に供する
までの間、その汚染防止等を目的にセパレータが仮着さ
れてカバーされる。これにより、通例の取扱状態で粘着
層に接触することを防止できる。セパレータとしては、
上記厚さ条件を除き、例えばプラスチックフィルム、ゴ
ムシート、紙、布、不織布、ネット、発泡シートや金属
箔、それらのラミネート体等の適宜な薄葉体を、必要に
応じシリコーン系や長鎖アルキル系、フッ素系や硫化モ
リブデン等の適宜な剥離剤でコート処理したものなど
の、従来に準じた適宜なものを用いうる。

【００７０】なお本発明において、上記した光学素子を
形成する偏光子や透明保護フィルムや光学層等、また粘
着層などの各層には、例えばサリチル酸エステル系化合
物やべンゾフェノール系化合物、ベンゾトリアゾール系
化合物やシアノアクリレート系化合物、ニッケル錯塩系
化合物等の紫外線吸収剤で処理する方式などの方式によ
り紫外線吸収能をもたせたものなどであってもよい。

【００７１】本発明の反射防止フィルムを設けた光学素
子は液晶表示装置等の各種装置の形成などに好ましく用
いることができる。液晶表示装置の形成は、従来に準じ
て行いうる。すなわち液晶表示装置は一般に、液晶セル
と光学素子、及び必要に応じての照明システム等の構成
部品を適宜に組立てて駆動回路を組込むことなどにより
形成されるが、本発明においては本発明による光学素子
を用いる点を除いて特に限定はなく、従来に準じうる。
液晶セルについても、例えばＴＮ型やＳＴＮ型、π型な
どの任意なタイプのものを用いうる。

【００７２】液晶セルの片側又は両側に前記光学素子を
配置した液晶表示装置や、照明システムにバックライト
あるいは反射板を用いたものなどの適宜な液晶表示装置
を形成することができる。その場合、本発明による光学
素子は液晶セルの片側又は両側に設置することができ
る。両側に光学素子を設ける場合、それらは同じもので
あってもよいし、異なるものであってもよい。さらに、
液晶表示装置の形成に際しては、例えば拡散板、アンチ
グレア層、反射防止膜、保護板、プリズムアレイ、レン
ズアレイシート、光拡散板、バックライトなどの適宜な
部品を適宜な位置に１層又は２層以上配置することがで
きる。

【００７３】次いで有機エレクトロルミネセンス装置
（有機ＥＬ表示装置）について説明する。一般に、有機
ＥＬ表示装置は、透明基板上に透明電極と有機発光層と
金属電極とを順に積層して発光体（有機エレクトロルミ
ネセンス発光体）を形成している。ここで、有機発光層
は、種々の有機薄膜の積層体であり、例えばトリフェニ
ルアミン誘導体等からなる正孔注入層と、アントラセン
等の蛍光性の有機固体からなる発光層との積層体や、あ
るいはこのような発光層とペリレン誘導体等からなる電
子注入層の積層体や、またあるいはこれらの正孔注入
層、発光層、および電子注入層の積層体等、種々の組み
合わせをもった構成が知られている。

【００７４】有機ＥＬ表示装置は、透明電極と金属電極
とに電圧を印加することによって、有機発光層に正孔と
電子とが注入され、これら正孔と電子との再結合によっ
て生じるエネルギーが蛍光物資を励起し、励起された蛍
光物質が基底状態に戻るときに光を放射する、という原
理で発光する。途中の再結合というメカニズムは、一般
のダイオードと同様であり、このことからも予想できる
ように、電流と発光強度は印加電圧に対して整流性を伴
う強い非線形性を示す。

【００７５】有機ＥＬ表示装置においては、有機発光層
での発光を取り出すために、少なくとも一方の電極が透
明でなくてはならず、通常酸化インジウムスズ（ＩＴ
Ｏ）などの透明導電体で形成した透明電極を陽極として
用いている。一方、電子注入を容易にして発光効率を上
げるには、陰極に仕事関数の小さな物質を用いることが
重要で、通常Ｍｇ−Ａｇ、Ａｌ−Ｌｉなどの金属電極を
用いている。

【００７６】このような構成の有機ＥＬ表示装置におい
て、有機発光層は、厚さ１０ｎｍ程度ときわめて薄い膜
で形成されている。このため、有機発光層も透明電極と
同様、光をほぼ完全に透過する。その結果、非発光時に
透明基板の表面から入射し、透明電極と有機発光層とを
透過して金属電極で反射した光が、再び透明基板の表面
側へと出るため、外部から視認したとき、有機ＥＬ表示
装置の表示面が鏡面のように見える。

【００７７】電圧の印加によって発光する有機発光層の
表面側に透明電極を備えるとともに、有機発光層の裏面
側に金属電極を備えてなる有機エレクトロルミネセンス
発光体を含む有機ＥＬ表示装置において、透明電極の表
面側に偏光板を設けるとともに、これら透明電極と偏光
板との間に位相差板を設けることができる。

【００７８】位相差板および偏光板は、外部から入射し
て金属電極で反射してきた光を偏光する作用を有するた
め、その偏光作用によって金属電極の鏡面を外部から視
認させないという効果がある。特に、位相差板を1 ／4
波長板で構成し、かつ偏光板と位相差板との偏光方向の
なす角をπ／4 に調整すれば、金属電極の鏡面を完全に
遮蔽することができる。

【００７９】すなわち、この有機ＥＬ表示装置に入射す
る外部光は、偏光板により直線偏光成分のみが透過す
る。この直線偏光は位相差板により一般に楕円偏光とな
るが、とくに位相差板が1 ／4 波長板でしかも偏光板と
位相差板との偏光方向のなす角がπ／4 のときには円偏
光となる。

【００８０】この円偏光は、透明基板、透明電極、有機
薄膜を透過し、金属電極で反射して、再び有機薄膜、透
明電極、透明基板を透過して、位相差板に再び直線偏光
となる。そして、この直線偏光は、偏光板の偏光方向と
直交しているので、偏光板を透過できない。その結果、
金属電極の鏡面を完全に遮蔽することができる。

【００８１】

【実施例】以下に、実施例によって本発明を具体的に説
明するが、本発明はこれら実施例によって何等限定され
るものではない。

【００８２】実施例１（反射防止層形成剤の調製）テトラメトキシシラン３０
ｇとメタノール２４０ｇを４つ口反応フラスコに入れ液
温を３０℃に保ちながら撹拌し、次いで、これに水６ｇ
に硝酸２ｇを加えた水溶液を加えて３０℃で５時間撹拌
し、シロキサンオリゴマーのアルコール溶液（溶液Ａ）
を得た。シロキサンオリゴマーのＧＰＣによるエチレン
グリコール／ポリエチレンオキサイド換算の相対分子量
は９５０であった。

【００８３】別途、４つ口反応フラスコにメタノールを
３００ｇを入れた後、シュウ酸３０ｇを撹拌しながら混
合した。この溶液を加熱し環流させながらテトラメトキ
シシラン３０ｇおよびトリデカフルオロオクチルトリメ
トキシシラン８ｇを滴下し５時間環流下で加熱した後、
冷却し、フルオロアルキル構造およびポリシロキサン構
造を有するフッ素化合物の溶液（溶液Ｂ）を得た。

【００８４】溶液Ａ３０ｇおよび溶液Ｂ１００ｇを撹拌
混合して、混合塗工液中の固形分濃度が１重量％となる
ように酢酸ブチルにて希釈を行い反射防止層形成剤（塗
工液）を得た。

【００８５】（反射防止フィルムの作製）トリアセチル
セルロースフィルム上に、市販の紫外線硬化型アクリル
系ハードコート樹脂のトルエン溶液をワイヤーバーを用
いて塗布し溶媒乾燥後に低圧ＵＶランプにて紫外線照射
し５μｍ厚みのハードコート層を形成した。ハードコー
ト層を形成した樹脂の屈折率は１．５２であった。

【００８６】続いて、上記で調製した塗工液をワイヤー
バーを用いて硬化後の厚みが約１００ｎｍとなるように
塗工し、９０℃で１時間加熱硬化して反射防止層を形成
し反射防止フィルムを作製した。反射防止層の屈折率は
１．４０であった。また反射防止層は、乾燥硬化物とし
て、シロキサンオリゴマーの固形分重量比が約３０重量
％であった。

【００８７】実施例２実施例１の（反射防止フィルムの作製）において、ハー
ドコート層を形成する際に樹脂の固形分１００重量部に
対して５重量部の粒子径２μｍのシリカビーズを添加し
たトルエン溶液を用いたこと以外は実施例１と同様にし
て防眩機能付きハードコート層を形成し、また実施例１
と同様にして反射防止フィルムを作製した。

【００８８】実施例３実施例１の（反射防止層形成剤の調製）において、溶液
Ａ７０ｇおよび溶液Ｂ３０ｇを撹拌混合し、混合液中の
固形分濃度を１重量％に調整したこと以外は実施例１と
同様にして反射防止層形成剤（塗工液）を得た。また当
該反射防止層形成剤を用いたこと以外は実施例１の（反
射防止フィルムの作製）と同様にして反射防止フィルム
を作製した。反射防止層の屈折率は１．４２であった。
また反射防止層は、乾燥硬化物として、シロキサンオリ
ゴマーの固形分重量比が約７０重量％であった。

【００８９】比較例１実施例１の（反射防止フィルムの作製）において、塗工
液として溶液Ｂのみを用いたこと以外は実施例１と同様
にして反射防止フィルムを得た。反射防止層の屈折率は
１．３９であった。

【００９０】比較例２実施例１の（反射防止フィルムの作製）において、塗工
液として溶液Ａのみを用いたこと以外は実施例１と同様
にして反射防止フィルムを得た。反射防止層の屈折率は
１．４５であった。

【００９１】実施例および比較例で得られた反射防止フ
ィルムについて下記の評価を行った。結果を表１に示
す。

【００９２】（スチールウール試験）スチールウール＃
００００に加重０．０５ＭＰａをかけた状態で反射防止
フィルム表面（反射防止層）を１０回擦り、試験後の傷
つき具合を以下の基準で目視にて判定した。 ○：傷は認められない。 ×：傷が認められる。

【００９３】（反射率）反射防止フィルムの裏（反射防
止層を形成していない面）をサンドペーパーで削り表面
を荒らした後、黒ラッカーにて塗料を塗布し裏面の反射
をなくしたサンプルを傾斜積分球付き分光光度計（島津
製作所製，ＵＶ−２４００）を用いて全反射率（％）を
測定した。

【００９４】（指紋拭き取り性）反射率測定に用いたサ
ンプルの表面に皮脂を強制的に付けティシュペーパーで
の拭き取り性を以下の基準で目視にて判定した。 ○：指紋の拭き取り後は認められない。 ×：指紋を拭き取れないまたは拭き取りあとが認められ
る。

【００９５】（密着性）ハードコート層と反射防止層の
密着性を、ＪＩＳＫ−５４００記載の碁盤目テープ剥
離試験により行った。剥離数／１００で表した。

【００９６】

【表１】上記、結果に示すとおり実施例の反射防止フィルムは、
９０℃で１時間の比較的低温下での短時間の硬化によっ
て耐擦傷性、汚染性の良好な反射防止層が形成され、反
射防止特性および実用特性に優れるものであることが分
かる。

【００９７】また、実施例１〜３の反射防止フィルムを
偏光板の保護層（保護フィルム）として用いたところ、
上記特性を維持した、実用性の高い反射防止機能付きの
偏光板が得られた。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の反射防止フィルムの断面図の一例であ
る。

【図２】本発明の反射防止フィルムの断面図の一例であ
る。

【符号の説明】

１：透明基板２：ハードコート層３：反射防止層４：微粒子

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁷ 識別記号ＦＩテーマコート゛(参考）Ｇ０２Ｆ 1/1335 ５００Ｇ０２Ｂ 1/10 Ａ (72)発明者重松崇之大阪府茨木市下穂積１丁目１番２号日東電工株式会社内 (72)発明者吉岡昌宏大阪府茨木市下穂積１丁目１番２号日東電工株式会社内Ｆターム(参考） 2H042 BA02 BA03 BA15 BA20 2H049 BA02 BA03 BA04 BA25 BA27 BA42 BA43 BB03 BB33 BB43 BB45 BB47 BB48 BB51 BB63 BB65 BC03 BC09 BC12 BC22 2H091 FA08X FA08Z FA31X FA37X FB02 FB04 FD06 GA16 LA02 LA07 2K009 AA04 AA15 BB13 BB14 BB23 BB24 BB28 CC03 CC14 CC26 CC34 CC35 CC42 DD02 DD06 4F100 AH05D AH06D AJ06A AK01C AK17D AK52D AL05D AR00A AR00C AT00B BA04 BA07 BA10A BA10D DD07C DE01C GB41 JB14C JK12C JN01A JN06 JN18C JN30 YY00C YY00D

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】透明基板の片面に直接または他の層を介
してハードコート層が設けられており、さらに当該ハー
ドコート層の表面に反射防止層が積層された反射防止フ
ィルムにおいて、前記反射防止層が、一般式（１）：Ｓｉ（ＯＲ) ₄ （式中Ｒは、メチル基ま
たはエチル基を示す）で表されるテトラアルコキシシラ
ンを主成分する加水分解性アルコキシシランを部分的に
加水分解後縮重合させたシロキサンオリゴマー（Ａ）
と、フルオロアルキル構造およびポリシロキサン構造を
有する化合物（Ｂ）を含有する溶液の乾燥硬化膜により
形成されたものであることを特徴とする反射防止フィル
ム。
【請求項２】前記溶液中に、前記シロキサンオリゴマ
ー（Ａ）が、反射防止層として形成される乾燥硬化膜中
の乾燥硬化物として、固形分重量比が１０〜８０重量％
となるように配合されていることを特徴とする請求項１
記載の反射防止フィルム。
【請求項３】ハードコート層が、紫外線硬化型樹脂よ
り形成されており、ｎ_d ²⁰（２０℃の屈折率）が１．４
９以上であることを特徴とする請求項１または２記載の
反射防止フィルム。
【請求項４】ハードコート層の表面が凸凹形状となっ
ており光防眩性を有することを特徴とする請求項１〜３
のいずれかに記載の反射防止フィルム。
【請求項５】ハードコート層中に微粒子を含有するこ
とを特徴とする請求項１〜４のいずれかに記載の反射防
止フィルム。
【請求項６】請求項１〜５のいずれかに記載の反射防
止フィルムが、光学素子の片面又は両面に設けられてい
ることを特徴とする光学素子。
【請求項７】請求項１〜５のいずれかに記載の反射防
止フィルムまたは請求項６記載の光学素子を装着した表
示装置。
【請求項８】一般式（１）：Ｓｉ（ＯＲ) ₄ （式中Ｒ
は、メチル基またはエチル基を示す）で表されるテトラ
アルコキシシランを主成分する加水分解性アルコキシシ
ランを部分的に加水分解後縮重合させたシロキサンオリ
ゴマー（Ａ）と、フルオロアルキル構造およびポリシロ
キサン構造を有する化合物（Ｂ）を含有する溶液からな
る反射防止層形成剤。
【請求項９】請求項８記載の反射防止層形成剤の乾燥
硬化膜により形成された反射防止層。