JP2003201590A - 多心フェルールの製造方法 - Google Patents
多心フェルールの製造方法Info
- Publication number
- JP2003201590A JP2003201590A JP2001403172A JP2001403172A JP2003201590A JP 2003201590 A JP2003201590 A JP 2003201590A JP 2001403172 A JP2001403172 A JP 2001403172A JP 2001403172 A JP2001403172 A JP 2001403172A JP 2003201590 A JP2003201590 A JP 2003201590A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- electrically insulating
- wire
- ferrule
- insulating thin
- electroforming
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Ceased
Links
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims abstract description 27
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims abstract description 17
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims abstract description 17
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 41
- 238000005323 electroforming Methods 0.000 claims description 29
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 claims description 17
- 239000004033 plastic Substances 0.000 claims description 17
- 229920002120 photoresistant polymer Polymers 0.000 claims description 15
- 238000003754 machining Methods 0.000 claims description 8
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 8
- 239000013307 optical fiber Substances 0.000 claims description 7
- 239000000835 fiber Substances 0.000 claims description 5
- 238000001312 dry etching Methods 0.000 claims description 4
- 229910003460 diamond Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 239000010432 diamond Substances 0.000 claims description 2
- 239000002245 particle Substances 0.000 claims description 2
- 239000007772 electrode material Substances 0.000 claims 1
- 238000005266 casting Methods 0.000 abstract 1
- 230000002950 deficient Effects 0.000 abstract 1
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 description 9
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 8
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 7
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 7
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 7
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 description 7
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical compound [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 6
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 5
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 5
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 5
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 5
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 4
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 4
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 4
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 4
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000013019 agitation Methods 0.000 description 3
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 3
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 3
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 3
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 3
- 238000001039 wet etching Methods 0.000 description 3
- 229930182556 Polyacetal Natural products 0.000 description 2
- 238000005452 bending Methods 0.000 description 2
- 239000010941 cobalt Substances 0.000 description 2
- 229910017052 cobalt Inorganic materials 0.000 description 2
- GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N cobalt atom Chemical compound [Co] GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 2
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 description 2
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 2
- 239000012777 electrically insulating material Substances 0.000 description 2
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 2
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 2
- KERTUBUCQCSNJU-UHFFFAOYSA-L nickel(2+);disulfamate Chemical compound [Ni+2].NS([O-])(=O)=O.NS([O-])(=O)=O KERTUBUCQCSNJU-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 229920006122 polyamide resin Polymers 0.000 description 2
- 229920000728 polyester Polymers 0.000 description 2
- 229920013716 polyethylene resin Polymers 0.000 description 2
- 229920006324 polyoxymethylene Polymers 0.000 description 2
- 239000004800 polyvinyl chloride Substances 0.000 description 2
- 229920000915 polyvinyl chloride Polymers 0.000 description 2
- BSYNRYMUTXBXSQ-UHFFFAOYSA-N Aspirin Chemical compound CC(=O)OC1=CC=CC=C1C(O)=O BSYNRYMUTXBXSQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QYEXBYZXHDUPRC-UHFFFAOYSA-N B#[Ti]#B Chemical compound B#[Ti]#B QYEXBYZXHDUPRC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CWYNVVGOOAEACU-UHFFFAOYSA-N Fe2+ Chemical compound [Fe+2] CWYNVVGOOAEACU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-M Fluoride anion Chemical compound [F-] KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 229910021586 Nickel(II) chloride Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004677 Nylon Substances 0.000 description 1
- 229910001080 W alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- DDTRKTSYUPRJGP-UHFFFAOYSA-H [F-].[F-].[F-].[F-].[F-].[F-].[Ti+4].[Cu++] Chemical compound [F-].[F-].[F-].[F-].[F-].[F-].[Ti+4].[Cu++] DDTRKTSYUPRJGP-UHFFFAOYSA-H 0.000 description 1
- -1 alloys Chemical class 0.000 description 1
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 1
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 1
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 1
- 229910000361 cobalt sulfate Inorganic materials 0.000 description 1
- 229940044175 cobalt sulfate Drugs 0.000 description 1
- KTVIXTQDYHMGHF-UHFFFAOYSA-L cobalt(2+) sulfate Chemical compound [Co+2].[O-]S([O-])(=O)=O KTVIXTQDYHMGHF-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 229910000365 copper sulfate Inorganic materials 0.000 description 1
- ARUVKPQLZAKDPS-UHFFFAOYSA-L copper(II) sulfate Chemical compound [Cu+2].[O-][S+2]([O-])([O-])[O-] ARUVKPQLZAKDPS-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- ZHOLKSYCHRKNCU-UHFFFAOYSA-H copper;silicon(4+);hexafluoride Chemical compound [F-].[F-].[F-].[F-].[F-].[F-].[Si+4].[Cu+2] ZHOLKSYCHRKNCU-UHFFFAOYSA-H 0.000 description 1
- 230000008878 coupling Effects 0.000 description 1
- 238000010168 coupling process Methods 0.000 description 1
- 238000005859 coupling reaction Methods 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- XPPKVPWEQAFLFU-UHFFFAOYSA-N diphosphoric acid Chemical compound OP(O)(=O)OP(O)(O)=O XPPKVPWEQAFLFU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005553 drilling Methods 0.000 description 1
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000010292 electrical insulation Methods 0.000 description 1
- 230000005611 electricity Effects 0.000 description 1
- 238000007772 electroless plating Methods 0.000 description 1
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 1
- 238000001125 extrusion Methods 0.000 description 1
- 239000004744 fabric Substances 0.000 description 1
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 1
- 239000010419 fine particle Substances 0.000 description 1
- 238000000227 grinding Methods 0.000 description 1
- 230000001939 inductive effect Effects 0.000 description 1
- 238000001746 injection moulding Methods 0.000 description 1
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 1
- SQZYOZWYVFYNFV-UHFFFAOYSA-L iron(2+);disulfamate Chemical compound [Fe+2].NS([O-])(=O)=O.NS([O-])(=O)=O SQZYOZWYVFYNFV-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 description 1
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 1
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 1
- 229910021421 monocrystalline silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- QMMRZOWCJAIUJA-UHFFFAOYSA-L nickel dichloride Chemical compound Cl[Ni]Cl QMMRZOWCJAIUJA-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- LGQLOGILCSXPEA-UHFFFAOYSA-L nickel sulfate Chemical compound [Ni+2].[O-]S([O-])(=O)=O LGQLOGILCSXPEA-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 229910000363 nickel(II) sulfate Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000004767 nitrides Chemical class 0.000 description 1
- 229920001778 nylon Polymers 0.000 description 1
- 230000000704 physical effect Effects 0.000 description 1
- 238000007747 plating Methods 0.000 description 1
- 238000005498 polishing Methods 0.000 description 1
- 239000011148 porous material Substances 0.000 description 1
- 238000007639 printing Methods 0.000 description 1
- 229940005657 pyrophosphoric acid Drugs 0.000 description 1
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004332 silver Substances 0.000 description 1
- XMVONEAAOPAGAO-UHFFFAOYSA-N sodium tungstate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-][W]([O-])(=O)=O XMVONEAAOPAGAO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000679 solder Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 1
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 1
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 1
- BDHFUVZGWQCTTF-UHFFFAOYSA-M sulfonate Chemical compound [O-]S(=O)=O BDHFUVZGWQCTTF-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 238000011282 treatment Methods 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000003466 welding Methods 0.000 description 1
- 238000004804 winding Methods 0.000 description 1
- 238000005491 wire drawing Methods 0.000 description 1
- LSWWNKUULMMMIL-UHFFFAOYSA-J zirconium(iv) bromide Chemical compound Br[Zr](Br)(Br)Br LSWWNKUULMMMIL-UHFFFAOYSA-J 0.000 description 1
Landscapes
- Mechanical Coupling Of Light Guides (AREA)
Abstract
用し、電鋳後、当該線材を除去してから機械加工する多
心フェルールの製造方法において、孔径及び位置の極め
て厳しい精度をクリアすることによって更に不良率を低
くすることと、生産性を向上して、全体の生産コストを
更に下げること。 【解決手段】電鋳部18の中心部19付近でカットし
て、寸法精度の出やすい電気絶縁性薄板9に接する付近
の先端面20を完成したフェルールの先端部に使用す
る。
Description
タ、デバイスなどに使用する多心フェルールの製造方法
に関するものである。
スなどに使用する多心フェルールは、例えば図1の側面
図に示すように二つのガイド孔2と0.125mmφ程
度の非常に細い孔3が複数個正確な位置に開いている奥
行8mm程度の形状で構成された多心フェルール1であ
り、材質は、プラスチックを使用したものが主流を占め
ている。
ェルールは、射出成形によって製造しているが、コアピ
ンの曲り、折れなどによって寸法精度の不足の問題、或
いは孔の詰りといった致命的な不良を発生することなど
が、しばしば有ることや、端面磨きが必要になる場合が
多いが、プラスチック製フェルールとシリコン製光ファ
イバの硬さの相違が非常に大きいために、端面磨きがう
まくできないなどの問題があった。
269号に於いて、金属またはプラスチックの線を母型
に使用し電鋳によりニッケルなどの金属で製造した金属
製の多心フェルールを提案している。
に示すような平面形状をフォトレジスト法における湿式
エッチング法によって正確な位置に孔を開けたガラス薄
板、セラミック薄板などの電気絶縁性薄板9を陰極治具
8の部品に使用して当該孔に線材を通す方法や、正確な
位置にV溝のあるガラス板、セラミック板などの電気絶
縁性の板を陰極治具8の部品に使用してV溝に寸法精度
の良好な線材を挟む方法を採用して電鋳する手段を用い
る方法であり、更に詳しく説明すると、図2は2心タイ
プの陰極治具の一実施例であるが、上板10と下板11
が4本又は3本の支柱12で固定されたものであり、上
板10と下板11は、ポリ塩化ビニル樹脂、ポリアミド
樹脂、ポリアセタール樹脂、ポリエチレン樹脂などの電
気絶縁材料を使用し、支柱12は、ステンレス、チタン
などの金属又はプラスチックを使用する。上板10と下
板11と支柱12は、ネジで固定し、上板10の左右2
か所にステンレスネジなどでステンレス製のバネ6を固
定する。下板11には上板10と対象の位置の左右の2
か所にはプラスチック製のクリップ13がネジ固定さ
れ、そしてエアーノズル用の円孔14が4か所に穿孔さ
れた構成となっている。まずステンレス製の線材5をフ
ォトレジスト法で製造した2心の孔の開いた電気絶縁性
薄板9の孔に通した後、ステンレス薄板などで作った支
板16の中央に孔の開いた電気絶縁性薄板9と同一形状
の凹部17に電気絶縁性薄板9を嵌合させ、ステンレス
製のバネ6の引掛け部15に固定し、線材5を引っ張っ
てバネ6を伸ばしながらクリップ13で挟み、引っ張ら
れて2本の線材5が平行で真っ直ぐになった状態にして
電鋳すればよい。なお、図2においては、電気絶縁性薄
板9を7個用いた構成となっているが、この電気絶縁性
薄板9の個数は、電鋳間隔、電鋳長などによって任意に
選定できるが、2個も本発明の範囲内にあり、また丁度
一個分の多心フェルールの長さより僅かに長い間隔に電
気絶縁性薄板9を配置することにより、複数の線材5の
動きを確実に防止でき、それに伴って線材5の電気絶縁
性薄板9による固定部分に極めて近い部分が、完成した
フェルール同士の接触部となることから孔位置の精度を
更に向上できる。
ェルールの長さより僅かに長い間隔に電気絶縁性薄板9
を配置する構成を採用したことによって、サブミクロン
の精度の要求される孔径と孔位置の多心フェルールを製
造する方法が提案されているが、この方法の採用によっ
て寸法精度は向上するが、一個づつの生産であるために
生産性に問題があり、またフォトレジスト法ににおける
湿式エッチング法によって正確な位置に孔を開ける方法
を採用しているが、寸法精度が不足する場合が時々みら
れた。
金属など線材5の二本以上の複数本を母型に使用し、電
鋳後、当該線材を除去してから機械加工する多心フェル
ールの製造方法において、従来法を改良し、孔径及び位
置の極めて厳しい精度をクリアすることによって更に不
良率を低くすることと、生産性を向上して、全体の生産
コストを更に下げることを課題としている。
決するために、図2に示すようにフォトレジスト法にお
けるドライエッチング法、放電加工、NC加工における
特殊ドリル加工によって正確な位置に孔を開けたガラス
薄板、セラミック薄板、プラスチック薄板などの電気絶
縁性薄板9を陰極治具8にセットして当該孔に線材を通
して、一個分の多心フェルールの長さより僅かに長い程
度の間隔に電気絶縁性薄板9を配置することにより電鋳
する方法や、セラミック、プラスチックなどの電気絶縁
性のV溝を有する板に挟む方法で円柱体を位置固定する
方法や、図3に示すように、一定間隔の電鋳部18の中
心部19付近でカットして、寸法精度の出やすい電気絶
縁性薄板9に接する付近の先端面20を完成したフェル
ールの先端部に使用する手段を採用した。
電気絶縁性薄板9の一実施例であり、図4(a)は、四
心タイプで、図4(b)は、八心タイプであり、位置ガ
イド孔2を左右両端に二か所と孔1が正確な位置に一列
に並んだ構成となっており、厚さは、0.05〜0.8
mm程度とし、また例えば図4に示すような電気絶縁性
薄板9を使用して製造する多心フェルールの場合におい
ては、位置ガイド孔2を開けるのに、太い線を使用する
必要があるが、この場合には線ではなく、細棒と述べる
のが適当であるけれども、本発明においては、全てを線
材5と表現し、従って線材5とは、太さ0.02mm〜
3.0mmφ程度の断面真円形などの円柱形の線のこと
である。
陰極治具の一実施例であるが、上板10と下板11が4
本の支柱12で固定されたものであり、上板10と下板
11は、ポリ塩化ビニル樹脂、ポリアミド樹脂、ポリア
セタール樹脂、ポリエチレン樹脂などの電気絶縁材料を
使用し、支柱12は、ステンレス、チタンなどの金属又
はプラスチックを使用する。上板10と下板11と支柱
12は、ネジで固定し、上板10の左右2か所にステン
レスネジなどでステンレス製のバネ6を固定する。下板
11には上板10と対象の位置の左右の2か所にはプラ
スチック製のクリップ13がネジ固定され、そしてエア
ーノズル用の円孔14が4か所に穿孔された構成となっ
ている。まずステンレス製の線材5をフォトレジスト法
で製造した2心の孔の開いた電気絶縁性薄板9の孔に通
した後、ステンレス薄板などで作った支板16の中央に
孔の開いた電気絶縁性薄板9と同一形状の凹部17に電
気絶縁性薄板9を嵌合させ、ステンレス製のバネ6の引
掛け部15に固定し、線材5を引っ張ってバネ6を伸ば
しながらクリップ13で挟み、引っ張られて2本の線材
5が平行で真っ直ぐになった状態にして電鋳すればよ
い。なお、図3においては、電気絶縁性薄板9を7個用
いた構成となっているが、この電気絶縁性薄板9の個数
は、電鋳間隔、電鋳長などによって任意に選定できる
が、2個も本発明の範囲内にある。
ける方法において、フォトレジスト法におけるエッチン
グ法を採用する場合は、例えば特開平11−17091
号などで多数出願されている集積回路を製造する技術を
応用した技術を採用でき、ガラスなどの薄板にフォトレ
ジスト被膜を塗装、印刷などにより正確な位置と孔径を
形成し乾燥した後、露光用パターンマスクを介してレー
ザービーム等の光線を照射し、露光部を形成する。フォ
トレジストの部分を露出すると、フォトレジストに化学
変化が生じて、他の化学処理によってフォトレジストを
現像することができる。例えば、露出されない部分を可
溶性のままにして、露出された部分を不溶性にしたり、
又は特定の現像剤に対して非反応性にすることができ、
反対にフォトレジスト次第で、露出した部分を選択され
た現像剤に対して可溶性にすることもできる。従って、
ここでは、フォトレジストが「ポジ」又は「ネガ」のい
ずれのフォトレジストであるかに応じて、二つの製造方
式の一方を採用でき、例えばフォトレジスト被膜の露光
部を溶解させるための溶媒を用いて、吹き付けること等
により、露光部を除去しガラス、シリコンなどの電気絶
縁性薄板を露出させた後、フッ化物水溶液などの腐食液
による湿式エッチング法で孔を開けたり、或いは一般に
ドライエッチング法と言われる高密度プラズマを照射す
ることによって孔を開ける方法を採用でき、例えば高密
度プラズマをRFと磁場との誘導結合で発生させるヘリ
コンプラズマを使用する方法が、大面積の均一なイオン
電流密度が得られることから望ましく、精度と生産性の
高い加工が可能となる。
ージ使用のNC工作機を採用して、まずレーザ加工によ
って正確な位置にガイド孔を開け、続いて仕上に超硬材
料の表面にダイヤモンド粒子などを塗布した特殊ドリル
で精度の高い孔を開けたガラス、シリコンなどの電気絶
縁性薄板を使用する方法を採用してもよく、また市販さ
れているガラス、シリコン、プラスチックなどのV溝基
板に線材5を挟んで固定する方法を採用してもよい。
7340号で出願している通電性セラミック薄板を使用
して、放電加工によって多孔を開けたものを位置決めに
使用する方法も使用可能であり、例えば非酸化物系、炭
化物系、チッ化物系などに常温で僅かに通電性のあるも
のであれば可能で、また三成分系の酸化物の中にも通電
性のあるものが有り採用可能であるが、例えば出来るだ
け細かい粒度の焼結体の硼化ジルコニウム、硼化チタ
ン、サイアロン、CZ法によるN型単結晶シリコンなど
が適性があり、放電加工によって多孔を開ける方法を採
用するが、放電加工とは、放電に伴う電極消耗の現象を
利用した加工法で、工作物には直接触れない非接触加工
であることから、非常に微細な加工に適しており、原理
は工具に相当する電極と加工物とを対抗させ、一定の間
隔を保ちつつ、その状態でサイクル数の多い(数十〜数
十万/秒)パルス状の放電電流を発生させて、金属など
を溶融させながら加工するものであり、細い電極を高速
回転させながら細孔を加工する細孔放電加工機と、ワイ
ヤ電極を巻取りながら、糸鋸式に二次元輪郭を加工する
ワイヤ放電加工機(W.EDM)と、細い電極をワイヤ
放電研削加工法によって直径数μmまで成形して、その
電極を任意に動かすことによって微細孔や三次元的な加
工を行う方法が適性がある。
線材5を位置決めした状態を示す平面図であり、図5
(b)は側面図であるが、V溝はプラスチック成形品や
シリコンなどのセラミック板を研磨加工によって製造し
たものなどを使用することができる。
あり、電鋳液18、プラス電極19、陰極治具8、空気
撹拌ノズル21、バネ6、マイナス電極20、線材5、
電気絶縁性薄板9で構成され、電鋳液18は、目的とす
る電鋳金属の材質で、それぞれ異なっているが、例えば
ニッケル又はその合金、鉄又はその合金、銅又はその合
金、コバルト又はその合金、タングステン合金、微粒子
分散金属などの電鋳金属が採用可能であり、スルファミ
ン酸ニツケル、塩化ニッケル、硫酸ニッケル、スルファ
ミン酸第一鉄、ホウフッ化第一鉄、ピロリン酸胴、硫酸
銅、ホウフッ化銅、ケイフッ化銅、チタンフッ化銅、ア
ルカノールスルフォン酸銅、硫酸コバルト、タングステ
ン酸ナトリウムなどの水溶液を主成分とする水溶液が使
用される。これらのうち特にスルファミン酸ニッケルを
主成分とする浴が、電鋳のやり易さ、硬度などの物性の
多様性、化学的安定性、溶接の容易性などの面で適して
いる。そして、電鋳液は、濾過精度0.1〜5μm程度
のフィルターで高速濾過し、また加温して±3℃程度の
適性温度範囲に温度コントロールすればよい。
より異なっており、ニッケル、鉄、銅、コバルトなどか
ら選定され、板状、球状のものを適宜使用する。球状の
ものを使用する場合は、チタン製のバスケットに入れ、
ポリエステル製の布袋で覆って使用すればよい。そして
線材5を中心にして4本のプラス電極19を配した構成
とし、そして空気撹拌ノズル21の孔から少量のエアー
を吹き出して撹拌を実施する。ただし、この撹拌はエア
ー撹拌に限定されず、他にプロペラ、超音波、超振動な
どの撹拌が採用できる。
ムまたはその合金、銅またはその合金などの金属線、及
びこの金属線または細棒の上に薄いハンダメッキをした
もの、及びナイロン、ポリエステルなどのプラスチック
線または細棒から適宜選択使用される。このうちプラス
チックの場合は、表面に導電性の付与のためニッケル、
銀などの無電解メッキなどが必要となり、線材5は、太
さと真円度と直線性に高い精度が要求され、ダイスによ
る押し出し、伸線、センタレス加工などによる方法など
により製造される。
なるが、電鋳は、直流電流を3〜8A/dm2程度の電
流密度で実施し、所定の大きさに成長させた後、電鋳槽
から取り出してよく水洗した後乾燥させるが、本発明者
が以前に出願している特願2000−104113号公
報などに記載されている陰極治具8とプラス電極19と
の間隔を同程度とし、線材5を中心にして回転させなが
ら電鋳する方法を採用するのが偏肉、曲りなどを防止で
きることから望ましい。
たガラス薄板、セラミック薄板などの電気絶縁性薄板9
を陰極治具8にセットして当該孔に線材5を通して、一
個分の多心フェルールの長さより僅かに長い程度の間隔
に電気絶縁性薄板9を配置することにより電鋳して、一
個のフェルールを製造する方法を採用することによっ
て、寸法精度の極めて良い多心フェルールを製造でき
る。
部19付近でカットして、寸法精度の最も出ている電気
絶縁性薄板9に接する付近の先端面20を完成したフェ
ルールの先端部に使用する方法を採用してもよく、図7
は、その一例であるが、フェルール本体24の先端に、
電鋳部18の先端面20を表面に使用して圧入したもの
であり、この場合には、電気絶縁性薄板9の間隔が一個
分の多心フェルールの長さより適宜長くして、加工をし
やすくする手段を採用しても差支えなく、この方法の採
用によって、前記一個分の多心フェルールの長さ程度の
間隔にする場合には、一個分しか出来ないが、二個分の
生産が出来ることから、生産性を二倍に向上でき、また
電鋳において電気絶縁性薄板9の間隔をラフにできるこ
とから電鋳治具への線材5のセットが容易になる。
属などの二本以上の複数の線材5を母型に使用し、電鋳
後、当該円柱体を除去する多心フェルールの製造方法に
於いて、陰極治具の線材5の位置決めにフォトレジスト
法におけるドライエッチング法や、特殊ドリルによるN
C加工、放電加工で製造した電気絶縁性薄板9を採用す
ることにより、陰極治具の母型に要求される精度をクリ
アし、また丁度一個分の多心フェルールの長さより僅か
に長い間隔に電気絶縁性薄板9などを配置する構成を採
用することによって、更に寸法精度が良好となり、また
図3に示すように、電鋳部18の中心部19付近でカッ
トして、寸法精度の出やすい電気絶縁性薄板9に接する
付近の先端面20を完成したフェルールの先端部に使用
する手段を採用することによって、寸法精度と生産性の
著しい向上を図れるなどの効果を奏する。
断面図と側面図である。
を示す側面図である。
ットして、寸法精度の出やすい電気絶縁性薄板9などに
接する付近の先端面20を完成したフェルールの先端部
に使用する手段の説明のための、側断面図である。
る場合の、電気絶縁性薄板9の形状の一実施例を示す平
面図である。
態を示す平面図と側面図である。
略構成図である。
鋳部18の先端面20を表面に使用して圧入した状態を
示す側断面図である。
孔 3 線保持部材 4 孔 5 線材 6 バネ 8 陰極治具 9 電気絶
縁性薄板 10 上板 11 下板 12 支柱 13 クリッ
プ 14 円孔 15 引掛け
部 16 支板 17 線位置
決クリップ 18 電鋳液 19 プラス
電極 20 マイナス電極 21 空気撹
拌ノズル 22 位置ガイド孔 23 V溝 24 フェルール本体
Claims (7)
- 【請求項1】金属、プラスチックなどの2本以上の複数
本の線材5を張ったものを母型に使用し、電鋳してから
当該線材5を除去する多心フェルールの製造方法に於い
て、電鋳用の陰極治具の線材5の位置決めに、フォトレ
ジスト法におけるドライエッチング法で所定位置に孔を
あけた電気絶縁性薄板9の複数個を、孔位置を一直線上
に配して、当該電気絶縁性薄板9の孔に線材5を通し
て、電鋳することを特徴とする多心フェルールの製造方
法。 - 【請求項2】電鋳用の陰極治具の線材5の位置決めに、
超硬材料の表面にダイヤモンド粒子などを塗布した特殊
ドリルを使用したNC加工で多孔を開けた電気絶縁性薄
板9の複数個を使用して電鋳することを特徴とする請求
項1記載の多心フェルールの製造方法。 - 【請求項3】電鋳用の陰極治具の線材5の位置決めに、
放電加工によって多孔を開けた電気絶縁性薄板9の複数
個を使用して電鋳することを特徴とする請求項1記載の
多心フェルールの製造方法。 - 【請求項4】一個分の多心フェルールの長さより僅かに
長い間隔に電気絶縁性薄板9を配置することを特徴とす
る請求項1、2、3記載の光ファイバ用多心フェルール
の製造方法。 - 【請求項5】金属、プラスチックなどの2本以上の線材
5を張ったものを母型に使用し、電鋳してから当該線材
5を除去する多心フェルールの製造方法に於いて、一定
間隔で、孔位置を一直線上に配置した電気絶縁性薄板9
の間の電鋳部18の中間付近19でカットし、当該電気
絶縁性薄板9に接する付近の先端面20を完成したフェ
ルールの先端部に使用する手段を採用することを特徴と
する光ファイバ用多心フェルールの製造方法。 - 【請求項6】電気絶縁性薄板9の代りに、正確な寸法の
V溝のある複数のプラスチックなどの電気絶縁性の板を
陰極治具8の部品に使用して、V溝に線材5を挟んで線
材5の位置を決める方法を採用することを特徴とする請
求項5記載の多心フェルールの製造方法。 - 【請求項7】陰極治具8の線材5と陽極との間隔をほぼ
同距離にして、陰極治具8の線材5を、ほぼ中心にして
回転しながら電鋳することを特徴とする請求項1〜6記
載の光ファイバ用多心フェルールの製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001403172A JP2003201590A (ja) | 2001-12-28 | 2001-12-28 | 多心フェルールの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001403172A JP2003201590A (ja) | 2001-12-28 | 2001-12-28 | 多心フェルールの製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2003201590A true JP2003201590A (ja) | 2003-07-18 |
Family
ID=27640478
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2001403172A Ceased JP2003201590A (ja) | 2001-12-28 | 2001-12-28 | 多心フェルールの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2003201590A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2004067810A1 (en) * | 2003-01-27 | 2004-08-12 | Graphion Technologies Usa, Llc | The manufacturing method of cut electro-forming member and cut electro-forming member made by it |
| JP2006063434A (ja) * | 2004-08-26 | 2006-03-09 | Tetsuo Tanaka | 電鋳法による高精度な金属微細管の製造方法。 |
| KR20060135352A (ko) * | 2005-06-24 | 2006-12-29 | 히토시 미카지리 | 전기주조에 의한 다심관의 제조방법 |
-
2001
- 2001-12-28 JP JP2001403172A patent/JP2003201590A/ja not_active Ceased
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2004067810A1 (en) * | 2003-01-27 | 2004-08-12 | Graphion Technologies Usa, Llc | The manufacturing method of cut electro-forming member and cut electro-forming member made by it |
| JP2006063434A (ja) * | 2004-08-26 | 2006-03-09 | Tetsuo Tanaka | 電鋳法による高精度な金属微細管の製造方法。 |
| KR20060135352A (ko) * | 2005-06-24 | 2006-12-29 | 히토시 미카지리 | 전기주조에 의한 다심관의 제조방법 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| Masuzawa et al. | A combined electrical machining process for micronozzle fabrication | |
| Davydov et al. | Electrochemical local maskless micro/nanoscale deposition, dissolution, and oxidation of metals and semiconductors (a review) | |
| CN104001998A (zh) | 基于阴极优化的阵列微细群电极制备方法及装置 | |
| JP3217999B2 (ja) | 部品製作方法及び部品製作装置 | |
| JP2003201590A (ja) | 多心フェルールの製造方法 | |
| US6711802B2 (en) | Method of manufacturing multi-core ferrule | |
| KR100498672B1 (ko) | 금속페룰의 제조방법 및 그 제조장치 | |
| KR100358290B1 (ko) | 전해가공을 이용한 탐침 제조방법 | |
| JPS593152B2 (ja) | 微細孔形成方法 | |
| JP4596500B2 (ja) | 光ファイバコネクタ用部品の製造方法 | |
| JP2002258108A (ja) | 光ファイバ用多心フェル−ルの製造方法 | |
| JP2002267889A (ja) | 多心フェルールの製造方法 | |
| JP3750268B2 (ja) | 放電加工用工具電極の製造方法 | |
| JP2002332588A (ja) | 電鋳による高精度管状部品の製造方法 | |
| JP3363858B2 (ja) | 光ファイバコネクタ用部品の製造方法 | |
| JP2000202718A (ja) | 加工工具用電極の製造方法及び加工方法 | |
| JP2001172787A (ja) | 光ファイバコネクタ用部品の製造方法 | |
| JP2001192882A (ja) | 金属フェルール形成用微細円柱の製法 | |
| JP2004078133A (ja) | 電鋳による光コネクタ用多心フェルールなどの多心金属管の製造方法 | |
| JP4342062B2 (ja) | 金属フェルール形成用微細円柱の製法 | |
| JP4342066B2 (ja) | 芯線ホルダー | |
| JP2004078134A (ja) | 丸型多心フェルール同士の孔位置合わせ接合方法及び製造方法 | |
| JP2002146583A (ja) | フェルールの製造方法 | |
| JP3944391B2 (ja) | 光デバイス用多心フェルールの製造方法 | |
| JP2001290048A (ja) | 光ファイバコネクタ用部品の製造方法、及びこの方法で製造した製品 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A711 | Notification of change in applicant |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A711 Effective date: 20041101 |
|
| RD02 | Notification of acceptance of power of attorney |
Effective date: 20041214 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7422 |
|
| A621 | Written request for application examination |
Effective date: 20041224 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 |
|
| A711 | Notification of change in applicant |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A711 Effective date: 20050204 |
|
| A977 | Report on retrieval |
Effective date: 20060223 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20060301 |
|
| A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20060425 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Effective date: 20070306 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 |
|
| A521 | Written amendment |
Effective date: 20070501 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 |
|
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Effective date: 20081125 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
| A045 | Written measure of dismissal of application |
Effective date: 20090324 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A045 |