JP2003248101A - 防眩性反射防止フィルム、偏光板およびディスプレイ装置 - Google Patents
防眩性反射防止フィルム、偏光板およびディスプレイ装置Info
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Abstract
善と文字ボケ・混色防止の両立した、高精細適性のある
防眩性反射防止フィルムを供給することである。 【解決手段】透明支持体上に、少なくとも1層の防眩性
ハードコート層を有する光学フィルムにおいて、透明支
持体側から光を入射し、透過した光の内の直進の光量
(I0°)に対する、透過した光の内の5°傾いた方向
に散乱された光量(I5°)の比が、3.5%以上であ
り、透過した光の内の直進の光量(I0°)に対する、
透過した光の内の20°傾いた方向に散乱された光量
(I20°)の比が、0.1%以下であることを特徴とす
る防眩性反射防止フィルム。
Description
射防止フィルム、偏光板、ディスプレイ装置に関する。
管表示装置(CRT)、プラズマディスプレイ(PD
P)、エレクトロルミネッセンスディスプレイ(EL
D)や液晶表示装置(LCD)のようなディスプレイ装
置において、外光の反射によるコントラスト低下や像の
映り込みを防止するために、表面突起による光の散乱
と、薄膜干渉によって、反射率を低減する機能を有して
おり、ディスプレイの最表面に配置される。
化、高速応答化と並び、高精細化、即ち高画質に対する
要求が非常に高い。この高精細化は、液晶セルサイズの
微小化により実現されるが、セルサイズが小さくなるに
つれて、防眩性反射防止フィルムの表面突起が微小なレ
ンズとなり、いわゆる「レンズ効果」によって、防眩性
反射防止フィルムを透過し、ユーザーの目に届く光には
輝度バラツキが生じ、即ち「ギラツキ」という問題が発
生し、表示品位が劣化するという問題があった。
号、特開平11−305010号、特開平11−326
608号、特開2000−338310号、特開200
1−154004号、特開2000−75133号、特
開2000−227509号などのように、防眩層の屈
折率と、これに含まれる透光性粒子との屈折率差をつけ
て、防眩層内を通過する光を内部散乱させて、このギラ
ツキを抑える方式が提案されている。
3pixels/inch)以上の超高精細の領域にな
ると、前記特許に記載のような内部散乱方式の単純な活
用では、ギラツキは改善できても、内部散乱を用いるが
故の文字ボケ、混色といった問題が新たな問題が生じ、
ギラツキ改善と文字ボケ・混色防止の両立には至らなか
った。
支持体上に少なくとも1層の防眩性ハードコート層と低
屈折率層を有する防眩性反射防止フィルムにおいて、十
分な反射防止性能を有しながら、ギラツキ改善と文字ボ
ケ・混色防止の両立した、高精細適性のある防眩性反射
防止フィルムを供給することである。
成の防眩性反射防止フィルム、偏光板及び画像表示装置
が提供され、上記目的が達成される。
の防眩性ハードコート層を有する光学フィルムにおい
て、透明支持体側から光を入射し、透過した光の内の直
進の光量(I0°)に対する、透過した光の内の5°傾
いた方向に散乱された光量(I5°)の比が、3.5%
以上であり、透過した光の内の直進の光量(I0°)に
対する、透過した光の内の20°傾いた方向に散乱され
た光量(I20°)の比が、0.1%以下であることを特
徴とする防眩性反射防止フィルム。 (2)防眩性ハードコート層上に屈折率が1.38〜
1.49の低屈折率層を有することを特徴とする、
(1)に記載の防眩性反射防止フィルム。 (3) 少なくとも1層の防眩性ハードコート層の屈折
率と、これに含有される透光性粒子の屈折率とが0.0
5〜0.15の範囲で異なることを特徴とする、
(1)、(2)に記載の防眩性反射防止フィルム。 (4) 前記透明支持体がトリアセチルセルロースであ
ることを特徴とする(1)〜(3)に記載の防眩性反射
防止フィルム。 (5) 前記(1)〜(4)に記載の防眩性反射防止フ
ィルムを、偏光板における偏光膜の2枚の保護フィルム
のうちの一方に用いたことを特徴とする偏光板。 (6) 前記偏光板における偏光膜の2枚の保護フィル
ムのうちの前記反射防止フィルム、または前記防眩性反
射防止フィルム以外のフィルムが、光学異方層を含んで
なる光学補償層を有する光学補償フィルムであり、該光
学異方性層がディスコティック構造単位を有する化合物
からなる負の複屈折を有する層であり、該ディスコティ
ック構造単位の円盤面が該表面保護フィルム面に対して
傾いており、且つ該ディスコティック構造単位の円盤面
と該表面保護フィルム面とのなす角度が、光学異方層の
深さ方向において変化していることを特徴とする(5)
記載の偏光板。 (7) 前記(5)、(6)に記載の偏光板の、該防眩
性反射防止フィルムとは反対側の保護フィルムに、λ/
4板を配置したことを特徴とする、反射防止機能を有す
る円偏光板。 (8) 前記偏光板の偏光膜が、連続的に供給されるポ
リマーフィルムの両端を保持手段により保持しつつ張力
を付与して延伸する方法において、少なくともフィルム
幅方向に1.1〜20.0倍に延伸し、フィルム両端の
保持装置の長手方向進行速度差が3%以内であり、フィ
ルム両端を保持する工程の出口におけるフィルムの進行
方向と、フィルムの実質延伸方向のなす角が、20〜7
0゜傾斜するようにフィルム進行方向をフィルム両端を
保持させた状態で屈曲させてなる延伸方法によって製造
された偏光膜であることを特徴とする(5)〜(7)に
記載の偏光板。 (9) 前記(1)〜(4)に記載の防眩性反射防止フ
ィルム、または、(5)〜(8)に記載の防眩性反射防
止フィルム付き偏光板を、ディスプレイの最表面に用い
たことを特徴とするディスプレイ装置。 (10) 前記(5)〜(8)に記載の偏光板を少なく
とも1枚有するTN、STN、VA、IPS、OCBの
モードの透過型、反射型、または半透過型のディスプレ
イ装置。 (11) 前記(5)〜(8)に記載の偏光板を少なく
とも1枚有する透過型または半透過型の液晶表示装置で
あり、視認側とは反対側の偏光板とバックライトとの間
に、偏光選択層を有する偏光分離フィルムを配置するこ
とを特徴とするディスプレイ装置。
な防眩性反射防止フィルムの基本的な構成を図面を参照
しながら説明する。
眩性反射防止フィルムの一例であり、この場合、防眩性
反射防止フィルム1は、透明支持体2、防眩性ハードコ
ート層3、そして低屈折率層4の順序の層構成を有す
る。防眩性ハードコート層3には、透光性粒子である防
眩性付与粒子5、あるいは更に、透光性粒子である内部
散乱付与粒子6が分散しており、防眩性ハードコート層
3の、透光性粒子5、6以外の部分の屈折率が1.48
〜1.70の範囲にあることが好ましく、低屈折率層4
の屈折率は1.38〜1.49の範囲にあることが好ま
しい。
支持体上に、少なくとも1層の防眩性ハードコート層を
有し、必要に応じ、更にその上層に低屈折率層を設け、
低反射率化を行い、また、必要に応じ、防眩性ハードコ
ート層の下層に、平滑なハードコート層を設け、フィル
ム強度をあげることができる。
下に説明する。防眩性ハードコート層はハードコート性
を付与するためのバインダー、防眩性や内部散乱性を付
与するための透光性粒子、および高屈折率化、架橋収縮
防止、あるいは高強度化のための無機微粒子フィラー、
などから形成される。
持体側から光を入射し、透過した光の内の直進の光量
(I0°)に対する、透過した光の内の5°傾いた方向
に散乱された光量(I5°)の比I5°/I0°は、3.5
%以上が好ましく、より好ましくは4.0%以上であ
る。上限としては好ましくは10%以下であり、より好
ましくは6%以下である。10%を越えると、ギラツキ
は良好であるが、正面輝度が低下し、表示画像が暗くな
り好ましくない。一方、透明支持体側から光を入射し、
透過した光の内の直進の光量(I0°)に対する、透過
した光の内の20°傾いた方向に散乱された光量(I20
°)の比I20°/I0° は、0.15%以下が好まし
く、より好ましくは0.10%以下であり、さらに好ま
しくは0.08%以下であり、特に好ましくは0.06
%以下である。I5°/I0°が3.5%を下回ると、ギ
ラツキの改良が不十分となり、I20°/I0° が、0.
15%を越えると、画像のボケが問題となってくる。こ
れらの物性値は、防眩性反射防止フィルムの表面形状、
内部散乱特性が関係し、前者については、防眩層の厚
み、透光性微粒子(特に防眩性付与粒子)の粒径、使
用量、塗布液溶剤組成・塗布/乾燥条件、などで決ま
り、後者については、透光性微粒子(内部散乱性付与
粒子)の粒径、使用量、防眩層と透光性微粒子との屈
折率比などの制御により決定される。 各々の制御因子
に関わる説明は、以下に行っていく。
はポリエーテル鎖を主鎖として有するポリマーであるこ
とが好ましく、飽和炭化水素鎖を主鎖として有するポリ
マーであることがさらに好ましい。また、バインダーポ
リマーは架橋構造を有することが好ましい。飽和炭化水
素鎖を主鎖として有するバインダーポリマーとしては、
エチレン性不飽和モノマーの重合体が好ましい。飽和炭
化水素鎖を主鎖として有し、かつ架橋構造を有するバイ
ンダーポリマーとしては、二個以上のエチレン性不飽和
基を有するモノマーの(共)重合体が好ましい。高屈折
率にするには、このモノマーの構造中に芳香族環や、フ
ッ素以外のハロゲン原子、硫黄原子、リン原子、及び窒
素原子から選ばれた少なくとも1種の原子を含むことが
好ましい。
ノマーとしては、多価アルコールと(メタ)アクリル酸
とのエステル(例、エチレングリコールジ(メタ)アク
リレート、1,4−ジクロヘキサンジアクリレート、ペ
ンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート)、ペ
ンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、トリメ
チロールプロパントリ(メタ)アクリレート、トリメチ
ロールエタントリ(メタ)アクリレート、ジペンタエリ
スリトールテトラ(メタ)アクリレート、ジペンタエリ
スリトールペンタ(メタ)アクリレート、ペンタエリス
リトールヘキサ(メタ)アクリレート、1,2,3−シ
クロヘキサンテトラメタクリレート、ポリウレタンポリ
アクリレート、ポリエステルポリアクリレート)、ビニ
ルベンゼンおよびその誘導体(例、1,4−ジビニルベ
ンゼン、4−ビニル安息香酸−2−アクリロイルエチル
エステル、1,4−ジビニルシクロヘキサノン)、ビニ
ルスルホン(例、ジビニルスルホン)、アクリルアミド
(例、メチレンビスアクリルアミド)およびメタクリル
アミドが挙げられる。上記モノマーは2種以上併用して
もよい。
(4−メタクリロイルチオフェニル)スルフィド、ビニ
ルナフタレン、ビニルフェニルスルフィド、4−メタク
リロキシフェニル−4'−メトキシフェニルチオエーテ
ル等が挙げられる。これらのモノマーも2種以上併用し
てもよい。
マーの重合は、光ラジカル開始剤あるいは熱ラジカル開
始剤の存在下、電離放射線の照射または加熱により行う
ことができる。従って、エチレン性不飽和基を有するモ
ノマー、光ラジカル開始剤あるいは熱ラジカル開始剤、
マット粒子および無機フィラーを含有する塗液を調製
し、該塗液を透明支持体上に塗布後電離放射線または熱
による重合反応により硬化して防眩性反射防止フィルム
を形成することができる。光ラジカル重合開始剤として
は、例えば、アセトフェノン類、ベンゾフェノン類、ミ
ヒラーのベンゾイルベンゾエート、−アミロキシムエス
テル、テトラメチルチウラムモノサルファイドおよびチ
オキサントン類等が挙げられる。特に、光開裂型の光ラ
ジカル重合開始剤が好ましい。光開裂型の光ラジカル重
合開始剤については、最新UV硬化技術(P.159,発行
人;高薄一弘,発行所;(株)技術情報協会,1991
年発行)に記載されている市販の光開裂型の光ラジカル
重合開始剤としては、日本チバガイギー(株)製のイル
ガキュア(651,184,907)等が挙げられる。
光重合開始剤は、多官能モノマー100質量部に対し
て、0.1〜15質量部の範囲で使用することが好まし
く、より好ましくは1〜10質量部の範囲である。光重
合開始剤に加えて、光増感剤を用いてもよい。光増感剤
の具体例として、n−ブチルアミン、トリエチルアミ
ン、トリ−n−ブチルホスフィン、ミヒラーのケトンお
よびチオキサントンを挙げることができる。
は、多官能エポシキシ化合物の開環重合体が好ましい。
多官能エポシキ化合物の開環重合は、光酸発生剤あるい
は熱酸発生剤の存在下、電離放射線の照射または加熱に
より行うことができる。従って、多官能エポシキシ化合
物、光酸発生剤あるいは熱酸発生剤、マット粒子および
無機フィラーを含有する塗液を調製し、該塗液を透明支
持体上に塗布後電離放射線または熱による重合反応によ
り硬化して防眩性反射防止フィルムを形成することがで
きる。
ノマーの代わりにまたはそれに加えて、架橋性官能基を
有するモノマーを用いてポリマー中に架橋性官能基を導
入し、この架橋性官能基の反応により、架橋構造をバイ
ンダーポリマーに導入してもよい。架橋性官能基の例に
は、イソシアナート基、エポキシ基、アジリジン基、オ
キサゾリン基、アルデヒド基、カルボニル基、ヒドラジ
ン基、カルボキシル基、メチロール基および活性メチレ
ン基が含まれる。ビニルスルホン酸、酸無水物、シアノ
アクリレート誘導体、メラミン、エーテル化メチロー
ル、エステルおよびウレタン、テトラメトキシシランの
ような金属アルコキシドも、架橋構造を導入するための
モノマーとして利用できる。ブロックイソシアナート基
のように、分解反応の結果として架橋性を示す官能基を
用いてもよい。すなわち、本発明において架橋性官能基
は、すぐには反応を示すものではなくとも、分解した結
果反応性を示すものであってもよい。これら架橋性官能
基を有するバインダーポリマーは塗布後、加熱すること
によって架橋構造を形成することができる。
散乱性付与の目的で、平均粒径が1〜10μm、好まし
くは1.5〜7.0μm、より好ましくは1.8〜6.
0μmの透光性粒子、例えば無機化合物の粒子または有
機高分子(樹脂)粒子が含有される。
例えば無機化合物の粒子または有機高分子(樹脂)粒子
が含有される。透光性微粒子の屈折率としては、透光性
粒子以外の部分の防眩性ハードコート層の屈折率はとの
関係で選択すべきであるが、1.40〜1.80の範囲
にあることが好ましい。上記透光性粒子の具体例として
は、例えばシリカ粒子(例えば日本触媒(株)製シーホ
スタシリーズ 屈折率=1.43)、アルミナ粒子(例
えば住友化学工業(株)製スミコランダムシリーズ 屈
折率=1.64)、TiO2粒子等の無機化合物の粒
子、あるいは 架橋アクリル粒子(例えば綜研化学
(株)製MXシリーズ 屈折率=1.49)、架橋スチ
レン粒子(例えば綜研化学(株)製SXシリーズ 屈折
率=1.61)、架橋メラミン粒子、架橋ベンゾグアナ
ミン粒子(例えば日本触媒(株)製エポスターシリーズ
屈折率=1.68)等の樹脂粒子が好ましく挙げられ
る。なかでも架橋スチレン粒子が好ましい。透光性粒子
の形状は、真球あるいは不定形のいずれも使用できる
が、表面突起形状が揃う真球状粒子が好ましい。また、
異なる2種以上の透光性粒子を併用して用いてもよい。
素材種が2種類以上でも、粒径が2種類以上でも、その
制限は無い。上記透光性粒子は、形成された防眩性ハー
ドコート層中の含有量が、好ましくは100〜1000
mg/m 2、より好ましくは300〜800mg/m2と
なるように防眩性ハードコート層に含有される。また、
透光性粒子のうち、防眩性を付与する粒子は、防眩層の
厚みよりも大きな粒径の粒子が効率的で好ましい。一
方、防眩層の屈折率とは異なる、内部散乱に寄与する粒
子は、この防眩性を付与する粒子であっても構わない
し、または/更に防眩性付与に寄与せず、層内に埋め込
まれる粒子であってもよい。防眩性を高めすぎないため
に、この場合は、防眩層の厚みよりも小さな粒径の粒子
であることが好ましい。本発明において、光散乱性を発
現させるためには、防眩性を付与する粒子の粒径は、好
ましくは3μm〜7μm、より好ましくは4〜6μmで
あり、内部散乱性を付与する粒子の粒径は好ましくは2
〜5μm、より好ましくは3〜4μmである。散乱性を
調整するために、粒径は同じでも、屈折率の異なる粒子
を複数種混合して用いても良い。上記の様に好ましい範
囲はあるが、本発明に記載の要件を満たせば、含有量、
粒径に特に制限はない。
率を調整するために、上記の透光性粒子とは別に、珪
素、チタン、ジルコニウム、アルミニウム、インジウ
ム、亜鉛、錫、アンチモンのうちより選ばれる少なくと
も1種の金属の酸化物からなり、平均粒径が0.2μm
以下、好ましくは0.1μm以下、より好ましくは0.
06μm以下である無機フィラーが含有されることが好
ましい。無機フィラー形状は特に制限されるものではな
く、例えば、球状、板状、繊維状、棒状、不定形、中空
等のいずれも好ましく用いられるが、球状が分散性がよ
り良く好ましい。この無機フィラーは、その充填量によ
りカール防止、表面硬度向上にも寄与できる。無機フィ
ラーを防眩層が含有する場合、防眩層の屈折率は、防眩
層を構成する透明樹脂と無機フィラー各々の屈折率とこ
れらの混合比率で決まる。防眩層の屈折率と前記透光性
粒子のうちの内部散乱粒子との屈折率差は、0.05〜
0.15が好ましい。0.05未満であれば内部散乱性
が低く、多くの体積の内部散乱粒子を含有しなければな
らず、防眩性反射防止膜の膜強度の低下の懸念があるた
め、好ましくない。一方、0.15を超えると、散乱光
の散乱角度が大きくなるため、本発明に記載の要件を満
たすのが困難になる方向であるため、好ましくない。最
も好ましくは、屈折率差は0.07〜0.13である。
防眩層ハードコート層と透光性粒子の屈折率の大小は、
特に制限はないが、文字ボケをより少なくするために
は、上記記載の屈折率差の範囲内で、防弦層ハードコー
ト層の屈折率を低くする方が好ましいし、防眩性反射防
止フィルムとして、より反射率を低くするためには、防
眩層ハードコート層の屈折率を高くする方が好ましく、
設計コンセプトによって適宜選択される。
ィラーの具体例としては、TiO2、ZrO2、Al
2O3、In2O3、ZnO、SnO2、Sb2O3、IT
O、SiO 2等が挙げられる。SiO2、TiO2、およ
びZrO2が無機フィラーの中で、取り扱い性の点で特
に好ましい。該無機フィラーは表面をシランカップリン
グ処理又はチタンカップリング処理されることも好まし
く、フィラー表面にバインダー種と反応できる官能基を
有する表面処理剤が好ましく用いられる。これらの無機
フィラーの添加量は、防眩性ハードコート層の全質量の
10〜90%であることが好ましく、より好ましくは2
0〜70%であり、特に好ましくは30〜50%であ
る。 尚、このような無機フィラーは、粒径が光の波長
よりも十分小さいために散乱が生じず、樹脂バインダー
に該フィラーが分散した複合体は、前述の通り、光学的
に均一な物質として振舞う。
ハードコート層あるいは、樹脂バインダーが無機フィラ
ーを含有した防眩性ハードコート層の屈折率は、1.4
8〜1.70であることが好ましく、より好ましくは
1.50〜1.65である。屈折率を上記範囲とするに
は、前述の通り、樹脂バインダー及び無機フィラーの種
類及び量割合を適宜選択すればよい。どのように選択す
るかは、予め実験的に容易に知ることができる。
布ムラ、乾燥ムラ、点欠陥等の面状均一性を確保するた
めに、フッ素系、シリコーン系の何れかの界面活性剤、
あるいはその両者を防眩層形成用の塗布組成物中に含有
することができる。特にフッ素系の界面活性剤は、より
少ない添加量において、本発明の防眩性反射防止フィル
ムの塗布ムラ、乾燥ムラ、点欠陥等の面状故障を改良す
る効果が現れるため、好ましく用いられる。フッ素系の
界面活性剤の好ましい例としては、スリーエム社製のフ
ロラードFC−431等のパーフルオロアルキルスルホ
ン酸アミド基含有ノニオン、大日本インキ社製のメガフ
ァックF−171、F−172、F−173、F−17
6PF等のパーフルオロアルキル基含有オリゴマー等が
挙げられる。シリコーン系の界面活性剤としては、エチ
レングリコール、プロピレングリコール等のオリゴマー
等の各種の置換基で側鎖や主鎖の末端が変性されたポリ
ジメチルシロキサン等が挙げられる。
使用することにより、防眩層表面にF原子を含有する官
能基、および/またはSi原子を有する官能基が偏析す
ることにより、防眩層の表面エネルギーが低下し、上記
防眩層上に低屈折率層をオーバーコートしたときに反射
防止性能が悪化する問題が起こりえる。これは低屈折率
層を形成するために用いられる塗布組成物の濡れ性が悪
化するために低屈折率層の膜厚の目視では検知できない
微小なムラが悪化するためと推定される。このような問
題を解決するためには、フッ素系および/またはシリコ
ーン系の界面活性剤の構造と添加量を調整することによ
り、防眩層の表面エネルギーを好ましくは25mN・m
-1〜70mN・m-1に、より好ましくは35mN・m-1
〜70mN・m-1に制御することが効果的であり、さら
に後述するように低屈折率層の塗布溶剤を50〜100
質量パーセントが100℃以下の沸点を有するものとす
ることが効果的であること検討の中で見出した。また、
上記のような表面エネルギーを実現するためには、 X
線光電子分光法で測定したF原子由来のピークとC原子
由来のピークの比であるF/Cが0.40以下、および
/またはSi原子由来のピークとC原子由来のピークの
比であるSi/Cが0.30以下であることが必要であ
ることもわかっている。
〜10μmが好ましく、より好ましくは2〜7μm、更
に好ましくは3〜5μmである。膜厚が薄すぎると、防
眩性反射防止フィルムとしての表面硬度が低下する、好
ましい範囲の透光性粒子を含有できなくなる、といった
弊害が生じ、一方、膜厚が厚すぎると、塗液中のバイン
ダー成分の比率が高くなり、液粘度上昇による塗布性不
良といった弊害が生じるためである。防眩性ハードコー
ト層の厚みは、断面TEM(透過型電子顕微鏡)で調べ
る。防眩性ハードコート層の厚みの定義は、防眩性ハー
ドコート層の下層成分(あるいは、下層が無い場合は支
持体成分)の最も防眩性ハードコート層側箇所から、防
眩性ハードコート層の透光性微粒子が無い、最も薄い箇
所を基準として、その間の垂直距離とする。
起形状は、防眩性や内部散乱性を付与する透光性微粒
子の素材種、粒径、添加量、更には樹脂、あるいは樹
脂と無機フィラーの複合体から成る防眩層の厚み、塗
布液の溶剤組成、Wet塗布量、乾燥条件、電離
線硬化樹脂に対する硬化条件など、が制御因子として挙
げることができ、この中で、の影響が大きい。我々
が検討を進めた結果、同じ防眩性を与える、防眩性反射
防止フィルムであっても、このトータルの防眩性を発現
するための、ひとつひとつの表面突起形状が異なると、
ディスプレイ電源OFF時あるいは、液晶の黒表示の時
に、表面散乱性の違いで、外観状の黒の締まり(逆にい
うと、白味)が異なることがわかった。表面突起の突起
傾斜角が大きいと、広角域への表面散乱性が強くなるた
め、黒の締まりが損なわれ、白っぽくなり、高級感が失
われる。黒の締まりは、突起傾斜角度分布の角度の小さ
い側から95%頻度の角度とよく相関があることを明確
にし、好ましくは20°以下、より好ましくは15°以
下、更に好ましくは13°以下である。また、防眩性に
よく相関する、平均の表面突起傾斜角度は、より好まし
くは1〜5°、より好ましくは1.5〜4.5°、更に
好ましくは2〜4°である。
ィルム強度向上の目的で防眩性を持たない、いわゆる平
滑なハードコート層も好ましく用いられ、透明支持体と
防眩性ハードコート層の間に塗設される。
眩性を付与するための透光性粒子を用いないこと以外
は、防眩性ハードコート層において挙げたものと同様で
あり、樹脂バインダー、あるいは、樹脂バインダーと無
機フィラーの混合体から形成される。
フィラーとして、強度および汎用性の点でシリカ、アル
ミナが好ましく、特にシリカが好ましい。また該無機フ
ィラーは表面をシランカップリング処理されることが好
ましく、フィラー表面にバインダー種と反応できる官能
基を有する表面処理剤が好ましく用いられる。
コート層の全質量の10〜90%であることが好まし
く、より好ましくは20〜70%であり、特に好ましく
は30〜50%である。平滑なハードコート層の膜厚は
1〜10μmが好ましく、より好ましくは2〜7μm、
更に好ましくは3〜5μmである。
る。本発明の防眩性反射防止フィルムの低屈折率層の屈
折率は、1.38〜1.49、好ましくは1.38〜
1.44の範囲にある。さらに、低屈折率層は下記数式
(I)を満たすことが低反射率化の点で好ましい。
率層の屈折率であり、そして、d1は低屈折率層の膜厚
(nm)である。また、λは波長であり、500〜55
0nmの範囲の値である。なお、上記数式(I)を満た
すとは、上記波長の範囲において数式(I)を満たすm
(正の奇数、通常1である)が存在することを意味して
いる。
て以下に説明する。低屈折率層には、低屈折率バインダ
ーとして、動摩擦係数0.03〜0.15、水に対する
接触角90〜120°の熱または電離放射線により架橋
する含フッ素ポリマー、および膜強度向上のための無機
フィラー、が好ましく用いられる。
ポリマーとしてはパーフルオロアルキル基含有シラン化
合物(例えば(ヘプタデカフルオロ−1,1,2,2−
テトラデシル)トリエトキシシラン)等の他、含フッ素
モノマーと架橋性基付与のためのモノマーを構成単位と
する含フッ素ポリマーが挙げられる。含フッ素モノマー
単位の具体例としては、例えばフルオロオレフィン類
(例えばフルオロエチレン、ビニリデンフルオライド、
テトラフルオロエチレン、ヘキサフルオロエチレン、ヘ
キサフルオロプロピレン、パーフルオロ−2,2−ジメ
チル−1,3−ジオキソール等)、(メタ)アクリル酸
の部分または完全フッ素化アルキルエステル誘導体類
(例えばビスコート6FM(大阪有機化学製)やM−2
020(ダイキン製)等)、完全または部分フッ素化ビ
ニルエーテル類等である。架橋性基付与のためのモノマ
ーとしてはグリシジルメタクリレートのように分子内に
あらかじめ架橋性官能基を有する(メタ)アクリレート
モノマーの他、カルボキシル基やヒドロキシル基、アミ
ノ基、スルホン酸基等を有する(メタ)アクリレートモ
ノマー(例えば(メタ)アクリル酸、メチロール(メ
タ)アクリレート、ヒドロキシアルキル(メタ)アクリ
レート、アリルアクリレート等)が挙げられる。後者は
共重合の後、架橋構造を導入できることが特開平10−
25388号および特開平10−147739号に知ら
れている。
るポリマーだけでなく、フッ素原子を含有しないモノマ
ーとの共重合体を用いてもよい。併用可能なモノマー単
位には特に限定はなく、例えばオレフィン類(エチレ
ン、プロピレン、イソプレン、塩化ビニル、塩化ビニリ
デン等)、アクリル酸エステル類(アクリル酸メチル、
アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸2−
エチルヘキシル)、メタクリル酸エステル類(メタクリ
ル酸メチル、メタクリル酸エチル、メタクリル酸ブチ
ル、エチレングリコールジメタクリレート等)、スチレ
ン誘導体(スチレン、ジビニルベンゼン、ビニルトルエ
ン、α−メチルスチレン等)、ビニルエーテル類(メチ
ルビニルエーテル等)、ビニルエステル類(酢酸ビニ
ル、プロピオン酸ビニル、桂皮酸ビニル等)、アクリル
アミド類(N−tertブチルアクリルアミド、N−シ
クロヘキシルアクリルアミド等)、メタクリルアミド
類、アクリロ二トリル誘導体等を挙げることができる。
ては低屈折率のものが好ましく用いられ、好ましい無機
フィラーは、シリカ、フッ化マグネシウムであり、特に
シリカが好ましい。該無機フィラーの平均粒径は0.0
01〜0.2μmであることが好ましく、0.001〜
0.05μmであることがより好ましい。フィラーの粒
径はなるべく均一(単分散)であることが好ましい。該
無機フィラーの添加量は、低屈折率層の全重量の5〜7
0質量%であることが好ましく、10〜50質量%であ
ると更に好ましく、15〜30質量%が特に好ましい。
ことも好ましい。表面処理法としてはプラズマ放電処理
やコロナ放電処理のような物理的表面処理とカップリン
グ剤を使用する化学的表面処理があるが、カップリング
剤の使用が好ましい。カップリング剤としては、後述す
る一般式(1)の化合物も含めたオルガノアルコキシメ
タル化合物(例、チタンカップリング剤、シランカップ
リング剤)が好ましく用いられる。該無機フィラーがシ
リカの場合はシランカップリング処理が特に有効であ
る。一般式(1)の化合物は、低屈折率層の無機フィラ
ーの表面処理剤として該層塗布液調製以前にあらかじめ
表面処理を施すために用いても良いし、該層塗布液調製
時にさらに添加剤として添加して該層に含有させても良
い。
用いる塗布液の溶媒組成としては、単独および混合のい
ずれでもよく、混合のときは、沸点が100℃以下の溶
媒が50〜100%であることが好ましく、より好まし
くは80〜100%、より好ましくは90〜100%で
ある。沸点が100℃以下の溶媒が50%以下である
と、乾燥速度が非常に遅くなり、塗布面状が悪化し、塗
布膜厚にもムラが生じるため、反射率などの光学特性も
悪化する。本発明では、沸点が100℃以下の溶媒を多
く含む塗布液を用いる事により、この問題を解決した。
ば、ヘキサン(沸点68.7℃)、ヘプタン(98.4
℃)、シクロヘキサン(80.7℃)、ベンゼン(8
0.1℃)などの炭化水素類、ジクロロメタン(39.
8℃)、クロロホルム(61.2℃)、四塩化炭素(7
6.8℃)、1,2−ジクロロエタン(83.5℃)、
トリクロロエチレン(87.2℃)などのハロゲン化炭
化水素類、ジエチルエーテル(34.6℃)、ジイソプ
ロピルエーテル(68.5℃)、ジプロピルエーテル
(90.5℃)、テトラヒドロフラン(66℃)などの
エーテル類、ギ酸エチル(54.2℃)、酢酸メチル
(57.8℃)、酢酸エチル(77.1℃)、酢酸イソ
プロピル(89℃)などのエステル類、アセトン(5
6.1℃)、2−ブタノン(=メチルエチルケトン、7
9.6℃)などのケトン類、メタノール(64.5
℃)、エタノール(78.3℃)、2−プロパノール
(82.4℃)、1−プロパノール(97.2℃)など
のアルコール類、アセトニトリル(81.6℃)、プロ
ピオニトリル(97.4℃)などのシアノ化合物類、二
硫化炭素(46.2℃)、などがある。このうちケトン
類、エステル類が好ましく、特に好ましくはケトン類で
ある。ケトン類の中では2−ブタノンが特に好ましい。
沸点が100℃を以上の溶媒としては、例えば、オクタ
ン(125.7℃)、トルエン(110.6℃)、キシ
レン(138℃)、テトラクロロエチレン(121.2
℃)、クロロベンゼン(131.7℃)、ジオキサン
(101.3℃)、ジブチルエーテル(142.4
℃)、酢酸イソブチル(118℃)、シクロヘキサノン
(155.7℃)、2−メチル−4−ペンタノン(=M
IBK、115.9℃)、1−ブタノール(117.7
℃)、N,N−ジメチルホルムアミド(153℃)、
N,N−ジメチルアセトアミド(166℃)、ジメチル
スルホキシド(189℃)、などがある。好ましくは、
シクロヘキサノン、2−メチル−4−ペンタノン、であ
る。
の溶媒で希釈することにより本発明の低屈折率層用塗布
液が調製される。塗布液濃度は、塗布液の粘度、低屈折
率層素材の比重などを考慮して適宜調節される事が好ま
しいが、0.1〜20質量%が好ましく、より好ましく
は1〜10質量%である。
ハードコート層、低屈折率層のうちの少なくとも1層
に、下記一般式(1)の化合物が含有されることが、耐
擦傷性に対して好ましい。 一般式(1) (R1)m−Si(OR2)n 一般式(1)式中、R1は置換もしくは無置換のアルキ
ル基もしくは、アリール基を表す。R2は置換もしくは
無置換のアルキル基もしくはアシル基を表す。mは0〜
3の整数を表す。nは1〜4の整数を表す。mとnの合
計は4である。一般式(1)で表される化合物について
説明する。一般式(1)においてR1は置換もしくは無
置換のアルキル基もしくはアリール基を表す。アルキル
基としてはメチル、エチル、プロピル、イソプロピル、
ヘキシル、t−ブチル、sec−ブチル、ヘキシル、デシ
ル、ヘキサデシル等が挙げられる。アルキル基として好
ましくは炭素数1〜30、より好ましくは炭素数1〜1
6、特に好ましくは1〜6のものである。アリール基と
してはフェニル、ナフチル等が挙げられ、好ましくはフ
ェニル基である。置換基としては特に制限はないが、ハ
ロゲン(フッ素、塩素、臭素等)、水酸基、メルカプト
基、カルボキシル基、エポキシ基、アルキル基(メチ
ル、エチル、i−プロピル、プロピル、t−ブチル
等)、アリール基(フェニル、ナフチル等)、芳香族ヘ
テロ環基(フリル、ピラゾリル、ピリジル等)、アルコ
キシ基(メトキシ、エトキシ、i−プロポキシ、ヘキシ
ルオキシ等)、アリールオキシ(フェノキシ等)、アル
キルチオ基(メチルチオ、エチルチオ等)、アリールチ
オ基(フェニルチオ等)、アルケニル基(ビニル、1−
プロペニル等)、アルコキシシリル基(トリメトキシシ
リル、トリエトキシシリル等)、アシルオキシ基(アセ
トキシ、アクリロイルオキシ、メタクリロイルオキシ
等)、アルコキシカルボニル基(メトキシカルボニル、
エトキシカルボニル等)、アリールオキシカルボニル基
(フェノキシカルボニル等)、カルバモイル基(カルバ
モイル、N−メチルカルバモイル、N,N−ジメチルカ
ルバモイル、N−メチル−N−オクチルカルバモイル
等)、アシルアミノ基(アセチルアミノ、ベンゾイルア
ミノ、アクリルアミノ、メタクリルアミノ等)等が好ま
しい。これらのうちで更に好ましくは水酸基、メルカプ
ト基、カルボキシル基、エポキシ基、アルキル基、アル
コキシシリル基、アシルオキシ基、アシルアミノ基であ
り、特に好ましくはエポキシ基、重合性のアシルオキシ
基(アクリロイルオキシ、メタクリロイルオキシ)、重
合性のアシルアミノ基(アクリルアミノ、メタクリルア
ミノ)である。またこれら置換基は更に置換されていて
も良い。R2は置換もしくは無置換のアルキル基もしく
はアシル基を表す。アルキル基、アシル基ならびに置換
基の説明はR1と同じである。R2として好ましくは無置
換のアルキル基もしくは無置換のアシル基であり、特に
好ましくは無置換のアルキル基である。mは0〜3の整
数を表す。nは1〜4の整数を表す。mとnの合計は4
である。R1もしくはR2が複数存在するとき、複数のR
1もしくはR2はそれぞれ同じであっても異なっていても
良い。mとして好ましくは0、1、2であり、特に好ま
しくは1である。以下に一般式(1)で表される化合物
の具体例を示すが、これらに限定されるものではない。
2)、(18)、(19)等が特に好ましい。一般式
(1)の化合物の適宜な添加量は、該化合物を含有する
層の全固形分の1〜300質量%が好ましく、3〜20
0質量%がより好ましく、5〜100質量%が最も好ま
しい。一般式(1)で表される化合物は、防眩性ハード
コート層乃至低屈折率層の少なくとも1層の塗布液に含
有させて、層中に含有させることができる。
持体としては、プラスチックフィルムを用いることが好
ましい。プラスチックフィルムを形成するポリマーとし
ては、セルロースエステル(例、トリアセチルセルロー
ス、ジアセチルセルロース)、ポリアミド、ポリカーボ
ネート、ポリエステル(例、ポリエチレンテレフタレー
ト、ポリエチレンナフタレート)、ポリスチレン、ポリ
オレフィン、ノルボルネン系樹脂(アートン:商品名、
JSR社製)、非晶質ポリオレフィン(ゼオネックス:
商品名、日本ゼオン社製)、などが挙げられる。このう
ちトリアセチルセルロース、ポリエチレンテレフタレー
ト、ポリエチレンナフタレート、が好ましく、特にトリ
アセチルセルロースが好ましい。トリアセチルセルロー
スは、単層または複数の層からなる。単層のトリアセチ
ルセルロースは、公開特許公報の特開平7−11055
等で開示されているドラム流延、あるいはバンド流延等
により作成され、後者の複数の層からなるトリアセチル
セルロースは、公開特許公報の特開昭61−9472
5、特公昭62−43846等で開示されている、いわ
ゆる共流延法により作成される。すなわち、原料フレー
クをハロゲン化炭化水素類(ジクロロメタン等、アルコ
ール類(メタノール、エタノール、ブタノール等)、エ
ステル類(蟻酸メチル、酢酸メチル等)、エーテル類
(ジオキサン、ジオキソラン、ジエチルエーテル等)等
の溶剤にて溶解し、これに必要に応じて可塑剤、紫外線
吸収剤、劣化防止剤、滑り剤、剥離促進剤等の各種の添
加剤を加えた溶液(ドープと称する)を、水平式のエン
ドレスの金属ベルトまたは回転するドラムからなる支持
体の上に、ドープ供給手段(ダイと称する)により流延
する際、単層ならば単一のドープを単層流延し、複数の
層ならば高濃度のセルロースエステルドープの両側に低
濃度ドープを共流延し、支持体上である程度乾燥して剛
性が付与されたフィルムを支持体から剥離し、次いで各
種の搬送手段により乾燥部を通過させて溶剤を除去する
ことからなる方法である。
溶解するための溶剤としては、ジクロロメタンが代表的
である。しかし地球環境や作業環境の観点から、溶剤は
ジクロロメタン等のハロゲン化炭化水素を実質的に含ま
ないことが好ましい。「実質的に含まない」とは、有機
溶剤中のハロゲン化炭化水素の割合が5質量%未満(好
ましくは2質量%未満)であることを意味する。ジクロ
ロメタン等を実質的に含まない溶剤を用いてトリアセチ
ルセルロースのドープを調整する場合には、後述するよ
うな特殊な溶解法が必須となる。
下に説明する。まず室温近辺の温度(−10〜40℃)
で溶剤中にトリアセチルセルロースを撹拌しながら徐々
に添加する。次に、混合物は−100〜−10℃(好ま
しくは−80〜−10℃、さらに好ましくは−50〜−
20℃、最も好ましくは−50〜−30℃)に冷却す
る。冷却は、例えば、ドライアイス・メタノール浴(−
75℃)や冷却したジエチレングリコール溶液(−30
〜−20℃)中で実施できる。このように冷却すると、
トリアセチルセルロースと溶剤の混合物は固化する。さ
らに、これを0〜200℃(好ましくは0〜150℃、
さらに好ましくは0〜120℃、最も好ましくは0〜5
0℃)に加温すると、溶剤中にトリアセチルセルロース
が流動する溶液となる。昇温は、室温中に放置するだけ
でもよし、温浴中で加温してもよい。
に説明する。まず室温近辺の温度(−10〜40℃)で
溶剤中にトリアセチルセルロースを撹拌しながら徐々に
添加される。本発明のトリアセチルセルロース溶液は、
各種溶剤を含有する混合溶剤中にトリアセチルセルロー
スを添加し予め膨潤させることが好ましい。本法におい
て、トリアセチルセルロースの溶解濃度は30質量%以
下が好ましいが、フィルム製膜時の乾燥効率の点から、
なるべく高濃度であることが好ましい。次に有機溶剤混
合液は、0.2MPa〜30MPaの加圧下で70〜2
40℃に加熱される(好ましくは80〜220℃、更に
好ましく100〜200℃、最も好ましくは100〜1
90℃)。次にこれらの加熱溶液はそのままでは塗布で
きないため、使用された溶剤の最も低い沸点以下に冷却
する必要がある。その場合、−10〜50℃に冷却して
常圧に戻すことが一般的である。冷却はトリアセチルセ
ルロース溶液が内蔵されている高圧高温容器やライン
を、室温に放置するだけでもよく、更に好ましくは冷却
水などの冷媒を用いて該装置を冷却してもよい。ジクロ
ロメタン等のハロゲン化炭化水素を実質的に含まないセ
ルロースアセテートフィルムおよびその製造法について
は発明協会公開技報(公技番号2001−1745、2
001年3月15日発行、以下公開技報2001−17
45号と略す)に記載されている。
示装置に用いる場合、片面に粘着層を設ける等してディ
スプレイの最表面に配置する。該透明支持体がトリアセ
チルセルロースの場合は偏光板の偏光層を保護する保護
フィルムとしてトリアセチルセルロースが用いられるた
め、本発明の防眩性反射防止フィルムをそのまま保護フ
ィルムに用いることがコストの上では好ましい。
光板は、透明支持体上に含フッ素ポリマーを主体とする
最外層を形成した後、鹸化処理を実施することにより得
られる。鹸化処理は、公知の手法、例えば、アルカリ液
の中に該フィルムを適切な時間浸漬して実施される。ア
ルカリ液に浸漬した後は、該フィルムの中にアルカリ成
分が残留しないように、水で十分に水洗したり、希薄な
酸に浸漬してアルカリ成分を中和することが好ましい。
鹸化処理することにより、最外層を有する側とは反対側
の透明支持体の表面が親水化される。親水化された表面
は、ポリビニルアルコールを主成分とする偏向膜との接
着性を改良するのに特に有効である。また、親水化され
た表面は、空気中の塵埃が付着しにくくなるため、偏向
膜と接着させる際に偏向膜と防眩性反射防止フィルムの
間に塵埃が入りにくく、塵埃による点欠陥を防止するの
に有効である。鹸化処理は、最外層を有する側とは反対
側の透明支持体の表面の水に対する接触角が40゜以下
になるように実施することが好ましい。更に好ましくは
30゜以下、特に好ましくは20゜以下である。
光板は、偏光層の2枚の保護フィルムのうち少なくとも
1枚に上記防眩性反射防止フィルムを用いてなる。本発
明の防眩性反射防止フィルムを最表面に使用することに
より、外光の映り込み等が防止され、高精細適性のあ
る、防汚性、耐擦傷性等も優れた偏光板とすることがで
きる。また、本発明の偏光板において防眩性反射防止フ
ィルムが保護フィルムを兼ねることで、製造コストを低
減できる。
の表面保護フィルムの片側として用いる場合には、透明
支持体の反射防止層が形成される面とは反対側の面をア
ルカリによって鹸化処理することが必要であることは前
記で述べた通りである。アルカリ鹸化処理の具体的手段
としては、以下の2つから選択することができる。
(1)透明持体上に反射防止層を形成後に、アルカリ液
中に少なくとも1回浸漬することで、該フィルムの裏面
を鹸化処理する。(2)透明支持体上に反射防止層を形
成する前または後に、アルカリ液を該防眩性反射防止フ
ィルムの防眩性反射防止フィルムを形成する面とは反対
側の面に塗布し、加熱、水洗および/または中和するこ
とで、該フィルムの裏面だけを鹸化処理する。汎用のト
リアセチルセルロースフィルムと同一の工程で処理でき
る点で(1)が優れているが、防眩性反射防止フィルム
面まで鹸化処理されるため、表面がアルカリ加水分解さ
れて、膜が劣化する懸念がある点、鹸化処理液成分の乾
固物が残ると汚れになる点が問題になり得る。その場合
には、特別な工程となるが、(2)が優れる。
方法で形成することができるが、この方法に制限されな
い。まず、各層を形成するための成分を含有した塗布液
が調製される。次に、防眩性ハードコート層を形成する
ための塗布液を、リバースグラビア法(グラビアコート
法、マイクログラビアコート法などに分類される)、デ
ィップコート法、エアーナイフコート法、カーテンコー
ト法、ローラーコート法、ワイヤーバーコート法、エク
ストルージョンコート法(米国特許2681294号明
細書参照)により透明支持体上に塗布し、加熱・乾燥す
るが、マイクログラビアコート法が特に好ましい。その
後、光照射あるいは加熱して、防眩性ハードコート層を
形成するためのモノマーを重合して硬化する。これによ
り防眩性ハードコート層が形成される。ここで、必要で
あれば前記防眩性ハードコート層塗布の前に同様な方法
で平滑なハードコート層塗布および硬化を行えばよい。
次に、同様にして低屈折率層を形成するための塗布液を
防眩性ハードコート層上に塗布し、光照射あるいは加熱
し低屈折率層が形成される。このようにして、本発明の
防眩性反射防止フィルムが得られる。
塗設する際に用いるマイクログラビアコート法とは、直
径が約20〜50mmで全周にグラビアパターンが刻印
されたグラビアロールを支持体の下方に、かつ支持体の
搬送方向に対してグラビアロールを逆回転させると共
に、該グラビアロールの表面からドクターブレードによ
って余剰の塗布液を掻き落として、定量の塗布液を前記
支持体の上面が自由状態にある位置におけるその支持体
の下面に塗布液を転写させて塗工することを特徴とする
コート法である。
反射防止フィルムは、ヘイズ値が10〜70%、好まし
くは30〜50%の範囲にあり、そして450nmから
650nmの平均反射率が2.2%以下、好ましくは
1.9%以下である。
範囲のヘイズ値及び平均反射率であることにより、透過
画像の劣化を伴なわずに良好な防眩性反射防止性が得ら
れる。
表示装置(LCD)、プラズマディスプレイパネル(P
DP)、エレクトロルミネッセンスディスプレイ(EL
D)や陰極管表示装置(CRT)のような画像表示装置
に適用することができる。本発明の防眩性反射防止フィ
ルムは透明支持体を有しているので、透明支持体側を画
像表示装置の画像表示面に接着して用いられる。
は、偏光膜、透明支持体およびディスコティック液晶の
配向を固定した光学異方層から構成される光学補償フィ
ルム、並びに光散乱層からなる偏光板と組み合わせて用
いられることが好ましい。光散乱層からなる偏光板は、
例えば特開平11−305010号公報等に記載があ
る。さらに詳述すると、本発明の防眩性反射防止フィル
ムは、偏光膜の表面保護フィルムの片側として用いた場
合、 ツイステットネマチック(TN)、スーパーツイ
ステットネマチック(STN)、バーティカルアライメ
ント(VA)、インプレインスイッチング(IPS)、
オプティカリーコンペンセイテットベンドセル(OC
B)等のモードの透過型、反射型、または半透過型の液
晶表示装置に好ましく用いることができる。特にTNモ
ードやIPSモードの液晶表示装置に対しては、特開2
001−100043等に記載されているように、視野
角拡大効果を有する光学補償フィルムを、偏光膜の裏表
2枚の保護フィルムの内の本発明の反射防止フィルムと
は反対側の面に用いることにより、1枚の偏光板の厚み
で反射防止効果と視野角拡大効果を有する偏光板を得る
ことができ、特に好ましい。
とができ、ヨウ素系偏光膜、二色性染料を用いる染料系
偏光膜やポリエン系偏光膜が挙げられる。ヨウ素系偏光
膜および染料系偏光膜は、一般にポリビニルアルコール
系フィルムを用いて製造することができる。偏光膜とし
て、例えばポリビニルアルコール系フィルムを連続的に
供給し、その両端を保持手段により保持しつつ張力を付
与して延伸する際に、フィルムの一方端の実質保持開始
点から実質保持解除点までの保持手段の軌跡L1と、も
う一端の実質保持開始点から実質保持解除点までの保持
手段の軌跡L2が、左右の実質保持解除点の距離Wに対
し、下記式(2)の関係にあると共に、左右の実質保持
開始点を結ぶ直線は、保持工程に導入されるフィルムの
中心線と略直交するものとし、左右の実質保持解除点を
結ぶ直線は、次工程に送り出されるフィルムの中心線と
略直交するようにして延伸したものであってもよい(図
2参照。米国特許公開2002−8840A1参照。) 式(2) |L2−L1|>0.4W
置に用いる場合には、市販の輝度向上フィルム(偏光選
択層を有する偏光分離フィルム、例えば住友3M(株)
製のD−BEFなど)と併せて用いることにより、さら
に視認性の高い表示装置を得ることができる。また、λ
/4板と組み合わせることで、反射型液晶用の偏光板
や、有機ELディスプレイ用表面保護板として表面およ
び内部からの反射光を低減するのに用いることができ
る。さらに、PET、PEN等の透明支持体上に本発明
の反射防止層を形成して、プラズマディスプレイパネル
(PDP)や陰極管表示装置(CRT)のような画像表
示装置に適用できる。
施例を挙げて説明するが、本発明はこれらに限定される
ものではない。
(微粒子シリカ。平均粒径約15nm)含有UV硬化型ハ
ードコート液(デソライトKZ7317、JSR(株)
製、固形分濃度約72%、固形分中SiO2含率約38
%、重合性モノマーDPHA、重合開始剤含有)61.
3質量部をメチルイソブチルケトン8.4質量部で希釈
した。この溶液を塗布、紫外線硬化して得られた塗膜の
屈折率は1.51であった。さらにこの溶液に、平均粒
径3.5μmの架橋ポリスチレン粒子(商品名:SX−
350H、綜研化学(株)製、屈折率1.61)の25
%メチルイソブチルケトン分散液をポリトロン分散機に
て10000rpmで30分分散した分散液を11.0
質量部加え、次いで、平均粒径5μmの架橋ポリスチレ
ン粒子(商品名:SX−500H、綜研化学(株)製、
屈折率1.61)の25%メチルイソブチルケトン分散
液をポリトロン分散機にて10000rpmで30分分
散した分散液を14.4質量部加えた。更に、3−アク
リロキシプロピルトリメトキシシラン(KBM−510
3信越化学工業(株)製)を4.9質量部加えた。上記
混合液を孔径30μmのポリプロピレン製フィルターで
ろ過して、防眩性ハードコート層の塗布液を調製し
た。
1.42の熱架橋性含フッ素ポリマー(JN−722
8、固形分濃度6%、JSR(株)製)55.2質量部
に、コロイダルシリカ分散液(MEK−ST、平均粒径
10〜20nm、固形分濃度30%、日産化学社製)
4.8質量部、メチルエチルケトン28.0質量部、シ
クロヘキサノン2.8質量部、3−アクリロキシプロピ
ルトリメトキシシラン(KBM−5103信越化学工業
(株)製)を9.2質量部を添加、攪拌の後、孔径1μ
mのポリプロピレン製フィルターでろ過して、低屈折率
層用塗布液Aを調製した。
率層用塗布液A、それぞれを以下のようにして塗布し
た。積層の組み合わせは表1に記載の通りに行った。 (1)防眩性ハードコート層の塗設 80μmの厚さのトリアセチルセルロースフイルム(T
AC−TD80UL、富士写真フイルム(株)製)をロ
ール形態で巻き出して、上記の防眩性ハードコート層用
塗布液を線数110本/インチ、深度35μmのグラ
ビアパターンを有する直径50mmのマイクログラビア
ロールとドクターブレードを用いて、グラビアロール回
転数40rpm、搬送速度10m/分の条件で塗布し、
120℃、2分で乾燥の後、酸素濃度0.1%以下の窒
素パージ下で240W/cmの空冷メタルハライドラン
プ(アイグラフィックス(株)製)を用いて、照度40
0mW/cm2、照射量300mJ/cm2の紫外線を照
射して塗布層を硬化させ、乾燥膜厚4.3μmの防眩性
ハードコート層を形成し、巻き取った。防眩層ハードコ
ート層の屈折率は、1.51であった。
出して、上記低屈折率層用塗布液Aを線数200本/イ
ンチ、深度35μmのグラビアパターンを有する直径5
0mmのマイクログラビアロールとドクターブレードを
用いて、グラビアロール回転数40rpm、搬送速度1
0m/分の条件で塗布し、80℃で2分乾燥の後、さら
に酸素濃度0.1%以下の窒素パージ下で240W/c
mの空冷メタルハライドランプ(アイグラフィックス
(株)製)を用いて、照度400mW/cm2、照射量
300mJ/cm2の紫外線を照射し、続けて140℃
で8分間熱架橋し、厚さ0.096μmの低屈折率層を
形成し、巻き取った。低屈折率層の屈折率は、1.43
であった。(実施例試料1の防眩性反射防止フィルムの
完成)
施例試料1について、以下の処理を行った。1.5Nの
水酸化ナトリウム水溶液を調製し、50℃に保温した。
更に、0.01Nの希硫酸水溶液を調製した。 作製し
た防眩性反射防止フィルムを、上記の水酸化ナトリウム
水溶液に2分間浸漬した後、水に浸漬し水酸化ナトリウ
ム水溶液を十分に洗い流した。次いで、上記の希硫酸水
溶液に1分間浸漬した後、水に浸漬し希硫酸水溶液を十
分に洗い流した。更に、この防眩性反射防止フィルムを
100℃の温度で十分に乾燥させた。このようにして、
鹸化処理済み防眩性反射防止フィルムを作製した。これ
により、実施例試料1の防眩性反射防止フィルム裏面の
TACは、鹸化処理されることで、親水化された。
実装)次に、鹸化処理した実施例試料1を用いて、防眩
性反射防止偏光板を作成した。更に、市販の高精細タイ
プのノートPC((株)DELL社製、15インチUX
GAノートPC)の、外面の防眩性反射防止フィルム
を、粘着層ごときれいに剥がし、改めて粘着層の鹸化さ
れた裏面TACに付与し、防眩性反射防止層が外面に向
くようにして、張り合わせ、実装させた。
たフィルムについて、以下の項目の評価を行った。
製15インチUXGAノートPCに実装し、ルーバーな
しのむき出し蛍光灯(8000cd/m2)を映し、蛍
光灯の反射像のボケの程度を、以下の基準で目視評価し
た。 蛍光灯の輪郭がわからない(防眩性十分あり) :○ 蛍光灯はぼけているが、輪郭は識別できる :△ 蛍光灯がほとんどぼけない (防眩性不足) :×
製15インチUXGAノートPCに実装し、ギラツキ
(防眩性反射防止フィルムの表面突起のレンズ効果が原
因の輝度バラツキ)の程度を、以下の基準で目視評価し
た。 全くギラツキが見られない :○○ ほとんどギラツキが見られない :○ わずかにギラツキがある :× 不快なギラツキがある :××
15インチUXGAノートPCに実装し、文字ボケの程
度を以下の基準で評価した。 全く文字ボケが見られない :○○○ ほとんど文字ボケが見られない :○○ わずかに文字ボケがあるが問題ない :○ 文字ボケがある :× 文字がボケて視認性が明確に劣る :××
位置関係にて、透過光の散乱角度分布を測定した。装置
は、(株)村上色材研究所社製の「ゴニオフォトメー
タ」機を用いて測定した。
した通りに、実施例試料1に準じて、防眩性付与粒子、
内部散乱性付与粒子の素材種(屈折率)、粒径、使用量
や、防眩性ハードコート層内の無機フィラーの種類、使
用量、あるいは防眩性ハードコート層厚みを制御因子に
して、I5°/I0°、I20°/I0°を表記の所望値に調
整した以外は、実施例試料1と全く同じにして作成した
試料を実施例試料2〜20、比較例試料1〜20とす
る。
〜20の鹸化処理したフィルムを、偏光板と貼り合わせ
て防眩性反射防止付き偏光板を作製し、この偏光板を用
いて防眩性反射防止層を最表面に配置したディスプレイ
装置を作製したところ、実施例試料1〜20は外光の映
り込みがないために優れたコントラストが得られ、更に
画素サイズが微小な、高画質タイプの高精細液晶ディス
プレイでも、ギラツキが無く、文字ボケが無く、優れた
視認性を有するディスプレイ装置となった。一方、比較
例試料1〜20の内、I5°/I0°が3.5%以上でな
いと、ギラツキが問題となり、I20°/I0°が0.1%
を超えると、文字ボケで問題になるようになり、視認性
として劣るディスプレイ装置であった。表1から分かる
ように、I5°/I0°は、3.5%以上が好ましく、よ
り好ましくは4%以上である一方、正面輝度を低下させ
ないためには、上限は10%以下であり、より好ましく
は6%以下である。また、I20°/I0°は0.15%以
下が好ましく、より好ましくは0.10%以下であり、
更に好ましくは0.08%以下であり、特に好ましくは
0.06%以下である。また、防眩性ハードコート層の
屈折率と、防眩性付与粒子、内部散乱性付与粒子との屈
折率との差が0.15を越えると、同じギラツキ改良効
果を得るときに、文字ボケが悪化する方向となり、あま
り好ましくない(実施例試料1に対し、実施例試料1
9、実施例試料8に対し、実施例試料20)。
素2.0g/l、ヨウ化カリウム4.0g/lの水溶液
に25℃にて240秒浸漬し、さらにホウ酸10g/l
の水溶液に25℃にて60秒浸漬後、図3の形態のテン
ター延伸機に導入し、5.3倍に延伸し、テンターを延
伸方向に対し図3の如く屈曲させ、以降幅を一定に保っ
た。80℃雰囲気で乾燥させた後テンターから離脱し
た。左右のテンタークリップの搬送速度差は、0.05
%未満であり、導入されるフィルムの中心線と次工程に
送られるフィルムの中心線のなす角は、46゜であっ
た。ここで|L1−L2|は0.7m、Wは0.7mで
あり、|L1−L2|=Wの関係にあった。テンター出
口における実質延伸方向Ax−Cxは、次工程へ送られ
るフィルムの中心線22に対し45゜傾斜していた。テ
ンター出口におけるシワ、フィルム変形は観察されなか
った。さらに、PVA((株)クラレ製PVA−117
H)3%水溶液を接着剤として鹸化処理した富士写真フ
イルム(株)製フジタック(セルローストリアセテー
ト、レターデーション値3.0nm)と貼り合わせ、さ
らに80℃で乾燥して有効幅650mmの偏光板を得
た。得られた偏光板の吸収軸方向は、長手方向に対し4
5゜傾斜していた。この偏光板の550nmにおける透
過率は43.7%、偏光度は99.97%であった。さ
らに図4の如く310×233mmサイズに裁断したと
ころ、91.5%の面積効率で辺に対し45゜吸収軸が
傾斜した偏光板を得た。次に、実施例試料1の鹸化処理
したフィルムを、上記偏光板と貼り合わせて防眩性反射
防止付き偏光板を作製した。この偏光板を用いて防眩性
反射防止層を最表面に配置したディスプレイ装置を作製
したところ、外光の映り込みがないために優れたコント
ラストが得られ、更に画素サイズが微小な、高画質タイ
プの高精細液晶ディスプレイでも、ギラツキが無く、文
字ボケが無く、優れた視認性を有するディスプレイ装置
となった。
45°吸収軸が傾斜した偏光板作製の中の、「富士写真
フイルム(株)製フジタック(セルローストリアセテー
ト、レターデーション値3.0nm)」の代わりに実施
例試料1の鹸化処理したフィルムを張り合わせて防眩性
反射防止付き偏光板を作製した。この偏光板を用いて防
眩性反射防止層を最表層に配置したディスプレイ装置を
作製したところ、実施例試料1同様に、外光の映り込み
がないために優れたコントラストが得られ、更に画素サ
イズが微小な、高画質タイプの高精細液晶ディスプレイ
でも、ギラツキが無く、文字ボケが無く、優れた視認性
を有するディスプレイ装置となった。
1.5規定、55℃のNaOH水溶液中に2分間浸漬し
たあと中和、水洗してフィルムの裏面のトリアセチルセ
ルロース面を鹸化処理し、80μmの厚さのトリアセチ
ルセルロースフイルム(TAC−TD80U、富士写真
フイルム(株)製)を同条件で鹸化処理したフィルムに
ポリビニルアルコールにヨウ素を吸着させ、延伸して作
製した偏光膜の両面を接着、保護して偏光板を作製し
た。このようにして作製した偏光板を、反射防止膜側が
最表面となるように透過型TN液晶表示装置搭載のノー
トパソコンの液晶表示装置(偏光選択層を有する偏光分
離フィルムである住友3M(株)製のD−BEFをバッ
クライトと液晶セルとの間に有する)の視認側の偏光板
と貼り代えたところ、外光の映り込みがないために優れ
たコントラストが得られ、更に画素サイズが微小な、高
画質タイプの高精細液晶ディスプレイでも、ギラツキが
無く、文字ボケが無く、優れた視認性を有するディスプ
レイ装置となった。
りつけた透過型TN液晶セルの視認側の偏光板の液晶セ
ル側の保護フィルム、およびバックライト側の偏光板の
液晶セル側の保護フィルムに、ディスコティック構造単
位の円盤面が透明支持体面に対して傾いており、且つ該
ディスコティック構造単位の円盤面と透明支持体面との
なす角度が、光学異方層の深さ方向において変化してい
る光学補償層を有する視野角拡大フィルム(ワイドビュ
ーフィルムSA−12B、富士写真フイルム(株)製)
を用いたところ、明室でのコントラストに優れ、更に画
素サイズが微小な、高画質タイプの高精細液晶ディスプ
レイでも、ギラツキが無く、文字ボケが無く、優れた視
認性を有し、且つ、上下左右の視野角が非常に広く、極
めて良好な表示品位の高いディスプレイ装置が得られ
た。
EL表示装置の表面のガラス板に粘着剤を介して貼り合
わせたところ、ガラス表面での反射が抑えられ、極めて
視認性の高い、良好なディスプレイ装置が得られた。
面反射防止フィルム付き偏光板を作製し、偏光板の反射
防止膜を有している側の反対面にλ/4板を張り合わ
せ、有機EL表示装置の表面のガラス板に貼り付けたと
ころ、表面反射および、表面ガラスの内部からの反射が
カットされ、極めて視認性の高い、良好なディスプレイ
装置が得られた。
模式図である。
である。
る。
ある。
延伸の起点位置(実質保持開始点:右) B1 フィルムの保持手段への噛み込み位置(左) C1 フィルム延伸の起点位置(実質保持開始点:左) Cx フィルム離脱位置とフィルム延伸の終点基準位置
(実質保持解除点:左) Ay フィルム延伸の終点基準位置(実質保持解除点:
右) |L1−L2| 左右のフィルム保持手段の行程差 W フィルムの延伸工程終端における実質幅 θ 延伸方向とフィルム進行方向のなす角 11 導入側フィルムの中央線 12 次工程に送られるフィルムの中央線 13 フィルム保持手段の軌跡(左) 14 フィルム保持手段の軌跡(右) 15 導入側フィルム 16 次工程に送られるフィルム 17、17’ 左右のフィルム保持開始(噛み込み)点 18、18’ 左右のフィルム保持手段からの離脱点 21 導入側フィルムの中央線 22 次工程に送られるフィルムの中央線 23 フィルム保持手段の軌跡(左) 24 フィルム保持手段の軌跡(右) 25 導入側フィルム 26 次工程に送られるフィルム 27、27’ 左右のフィルム保持開始(噛み込み)点 28、28’ 左右のフィルム保持手段からの離脱点 81 偏光板吸収軸 82 長手方向
Claims (3)
- 【請求項1】 透明支持体上に、少なくとも1層の防眩
性ハードコート層を有する光学フィルムにおいて、透明
支持体側から光を入射し、透過した光の内の直進の光量
(I0°)に対する、透過した光の内の5°傾いた方向
に散乱された光量(I5°)の比が、3.5%以上であ
り、透過した光の内の直進の光量(I0°)に対する、
透過した光の内の20°傾いた方向に散乱された光量
(I20°)の比が、0.1%以下であることを特徴とす
る防眩性反射防止フィルム。 - 【請求項2】 請求項1に記載の防眩性反射防止フィル
ムを、偏光板における偏光子の2枚の保護フィルムのう
ちの一方に用いたことを特徴とする偏光板。 - 【請求項3】 請求項1に記載の防眩性反射防止フィル
ム、または請求項2に記載の防眩性反射防止フィルム付
き偏光板を、ディスプレイの最表面に用いたことを特徴
とするディスプレイ装置。
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|---|---|
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Cited By (14)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2005075589A1 (ja) * | 2004-02-06 | 2005-08-18 | Nitto Denko Corporation | コーティング用塗料、それを用いた光学フィルムの製造方法、光学フィルム、偏光板および画像表示装置 |
| WO2005116694A1 (ja) * | 2004-05-31 | 2005-12-08 | Fujifilm Corporation | 光学フイルム、偏光板、及びそれを用いた画像表示装置 |
| JP2006106290A (ja) * | 2004-10-04 | 2006-04-20 | Daicel Chem Ind Ltd | 防眩性フィルム |
| WO2007142321A1 (ja) | 2006-06-02 | 2007-12-13 | Nitto Denko Corporation | 非相溶性物質偏在ポリマー層を有するポリマー部材、及び該ポリマー部材からなる表面凹凸テープ又はシート |
| WO2008020578A1 (en) * | 2006-08-18 | 2008-02-21 | Dai Nippon Printing Co., Ltd. | Front filter for plasma display, and plasma display |
| JP2009042554A (ja) * | 2007-08-09 | 2009-02-26 | Dainippon Printing Co Ltd | 光学積層体、偏光板、及び、画像表示装置 |
| JP2009271547A (ja) * | 2004-08-10 | 2009-11-19 | Kimoto & Co Ltd | 光学機器用遮光部材 |
| WO2009144970A1 (ja) * | 2008-05-27 | 2009-12-03 | シャープ株式会社 | 反射防止膜及び表示装置 |
| US8110128B2 (en) | 2005-09-21 | 2012-02-07 | Konica Minolta Opto, Inc. | Method of manufacturing an anti-glare anti-reflection film |
| WO2013054805A1 (ja) * | 2011-10-12 | 2013-04-18 | 大日本印刷株式会社 | 画像表示装置用防眩シート |
| WO2013054804A1 (ja) * | 2011-10-12 | 2013-04-18 | 大日本印刷株式会社 | 画像表示装置用防眩シート |
| WO2013168569A1 (ja) * | 2012-05-09 | 2013-11-14 | 大日本印刷株式会社 | 光学フィルム、偏光板、液晶パネルおよび画像表示装置 |
| JP2021056518A (ja) * | 2015-06-16 | 2021-04-08 | スリーエム イノベイティブ プロパティズ カンパニー | 切換可能なバックライト及び前面フィルムを含むディスプレイ |
| US12422592B2 (en) | 2020-03-05 | 2025-09-23 | Xinmei Fontana Holding (Hong Kong) Limited | Anti-glare film, polarizing plate and display apparatus |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH11281818A (ja) * | 1998-03-31 | 1999-10-15 | Casio Comput Co Ltd | 偏光板及びそれを用いた表示装置 |
| JP2004126495A (ja) * | 2001-12-17 | 2004-04-22 | Daicel Chem Ind Ltd | 防眩性フィルム、それを用いた光学部材及び液晶表示装置 |
-
2002
- 2002-02-25 JP JP2002048051A patent/JP2003248101A/ja active Pending
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH11281818A (ja) * | 1998-03-31 | 1999-10-15 | Casio Comput Co Ltd | 偏光板及びそれを用いた表示装置 |
| JP2004126495A (ja) * | 2001-12-17 | 2004-04-22 | Daicel Chem Ind Ltd | 防眩性フィルム、それを用いた光学部材及び液晶表示装置 |
Cited By (27)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100818951B1 (ko) * | 2004-02-06 | 2008-04-07 | 닛토덴코 가부시키가이샤 | 코팅용 도료, 그것을 사용한 광학 필름의 제조 방법, 광학필름, 편광판 및 화상 표시 장치 |
| WO2005075589A1 (ja) * | 2004-02-06 | 2005-08-18 | Nitto Denko Corporation | コーティング用塗料、それを用いた光学フィルムの製造方法、光学フィルム、偏光板および画像表示装置 |
| WO2005116694A1 (ja) * | 2004-05-31 | 2005-12-08 | Fujifilm Corporation | 光学フイルム、偏光板、及びそれを用いた画像表示装置 |
| US7524553B2 (en) | 2004-05-31 | 2009-04-28 | Fujifilm Corporation | Optical film, polarizing plate and image display using the same |
| JP2009271547A (ja) * | 2004-08-10 | 2009-11-19 | Kimoto & Co Ltd | 光学機器用遮光部材 |
| JP2006106290A (ja) * | 2004-10-04 | 2006-04-20 | Daicel Chem Ind Ltd | 防眩性フィルム |
| US8110128B2 (en) | 2005-09-21 | 2012-02-07 | Konica Minolta Opto, Inc. | Method of manufacturing an anti-glare anti-reflection film |
| WO2007142321A1 (ja) | 2006-06-02 | 2007-12-13 | Nitto Denko Corporation | 非相溶性物質偏在ポリマー層を有するポリマー部材、及び該ポリマー部材からなる表面凹凸テープ又はシート |
| WO2008020578A1 (en) * | 2006-08-18 | 2008-02-21 | Dai Nippon Printing Co., Ltd. | Front filter for plasma display, and plasma display |
| JP5035236B2 (ja) * | 2006-08-18 | 2012-09-26 | 大日本印刷株式会社 | プラズマディスプレイ用前面フィルタ、及びプラズマディスプレイ |
| US7982380B2 (en) | 2006-08-18 | 2011-07-19 | Dai Nippon Printing Co., Ltd. | Front filter for plasma display and plasma display |
| JP2009042554A (ja) * | 2007-08-09 | 2009-02-26 | Dainippon Printing Co Ltd | 光学積層体、偏光板、及び、画像表示装置 |
| WO2009144970A1 (ja) * | 2008-05-27 | 2009-12-03 | シャープ株式会社 | 反射防止膜及び表示装置 |
| US9507057B2 (en) | 2011-10-12 | 2016-11-29 | Dai Nippon Printing Co., Ltd. | Anti-glare sheet for image display device |
| JPWO2013054804A1 (ja) * | 2011-10-12 | 2015-03-30 | 大日本印刷株式会社 | 画像表示装置用防眩シート |
| KR101934607B1 (ko) * | 2011-10-12 | 2019-01-02 | 다이니폰 인사츠 가부시키가이샤 | 화상 표시 장치용 방현 시트 |
| KR20140072865A (ko) * | 2011-10-12 | 2014-06-13 | 다이니폰 인사츠 가부시키가이샤 | 화상 표시 장치용 방현 시트 |
| CN103975258A (zh) * | 2011-10-12 | 2014-08-06 | 大日本印刷株式会社 | 图像显示装置用防眩片 |
| TWI461748B (zh) * | 2011-10-12 | 2014-11-21 | Dainippon Printing Co Ltd | 圖像顯示裝置用防眩光片材、其製造方法及改善圖像顯示裝置之圖像之方法 |
| JPWO2013054805A1 (ja) * | 2011-10-12 | 2015-03-30 | 大日本印刷株式会社 | 画像表示装置用防眩シート |
| WO2013054804A1 (ja) * | 2011-10-12 | 2013-04-18 | 大日本印刷株式会社 | 画像表示装置用防眩シート |
| WO2013054805A1 (ja) * | 2011-10-12 | 2013-04-18 | 大日本印刷株式会社 | 画像表示装置用防眩シート |
| WO2013168569A1 (ja) * | 2012-05-09 | 2013-11-14 | 大日本印刷株式会社 | 光学フィルム、偏光板、液晶パネルおよび画像表示装置 |
| US10295706B2 (en) | 2012-05-09 | 2019-05-21 | Dai Nippon Printing Co., Ltd. | Optical film, polarizing plate, liquid crystal panel, and image display apparatus |
| JP2021056518A (ja) * | 2015-06-16 | 2021-04-08 | スリーエム イノベイティブ プロパティズ カンパニー | 切換可能なバックライト及び前面フィルムを含むディスプレイ |
| US12422592B2 (en) | 2020-03-05 | 2025-09-23 | Xinmei Fontana Holding (Hong Kong) Limited | Anti-glare film, polarizing plate and display apparatus |
| US12468072B2 (en) | 2020-03-05 | 2025-11-11 | Xinmei Fontana Holding (Hong Kong) Limited | Optical film and micro LED display comprising thereof |
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