[go: up one dir, main page]

JP2003113134A - ２−フェニルアセトフェノン誘導体の製造方法、ならびにそれらの製造用前駆体 - Google Patents

２−フェニルアセトフェノン誘導体の製造方法、ならびにそれらの製造用前駆体

Info

Publication number
JP2003113134A
JP2003113134A JP2002200186A JP2002200186A JP2003113134A JP 2003113134 A JP2003113134 A JP 2003113134A JP 2002200186 A JP2002200186 A JP 2002200186A JP 2002200186 A JP2002200186 A JP 2002200186A JP 2003113134 A JP2003113134 A JP 2003113134A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
formula
compound
producing
reaction
alkyl group
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2002200186A
Other languages
English (en)
Inventor
Takeshi Oshima
武 大島
Shigeyuki Nishimura
重幸 西村
Takayoshi Ando
孝芳 安東
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Ishihara Sangyo Kaisha Ltd
Original Assignee
Ishihara Sangyo Kaisha Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Ishihara Sangyo Kaisha Ltd filed Critical Ishihara Sangyo Kaisha Ltd
Priority to JP2002200186A priority Critical patent/JP2003113134A/ja
Publication of JP2003113134A publication Critical patent/JP2003113134A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】 医薬または農薬の中間体として有
用な特定の２−フェニルアセトフェノン誘導体の製造方
法を提供する。 【解決手段】 式（Ｉ）： 【化１】 〔式中、Ｘはアルキル基またはハロアルキル基であり、
Ｙは水素原子、ハロゲン原子または置換されてもよいア
ルキル基である〕で表される２−フェニルアセトフェノ
ン誘導体の製造方法であって、式(II)： 【化２】 〔式中、ＸおよびＹは前述の通りであり、Ｒは水素原子
またはアルキル基である〕で表される化合物と酸とを反
応させることを特徴とする前記２−フェニルアセトフェ
ノン誘導体の製造方法。

Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、各種化学品、医
薬、農薬の中間体として有用な後記式(I)で表される２
−フェニルアセトフェノン誘導体の製造方法ならびにそ
れらの製造用前駆体に関する。
【０００２】
【従来の技術】後記式(I)で表される２−フェニルアセ
トフェノン誘導体は、特開平5-279312号、特開平4-2702
48号、日本特許第2805255号などに記載されており、従
来から公知の方法の他、これら公報に記載された方法に
よっても製造できる。しかしながら、これら製造方法で
は、Ｘ、ＹおよびＲの置換基の種類、置換位置によって
は、製造困難であるか、あるいは反応工程数の多い複雑
な製造工程によってしか製造できなかった。また、これ
ら問題点を解決すべく提案された特開2000-132290号に
記載の方法では、高価な遷移金属触媒を使用するため、
工業的実施時には該触媒を回収使用する必要がある。
【０００３】本発明に関わる２−フェニルアセトフェノ
ン誘導体製造用前駆体である後記式(II)で表される化合
物に類似の化合物は、J.Org.Chem.2000,65,6398-6411、
特開昭60-13730号、特開昭60-13759号、特開平2-13963
号、特表平11-510163号などに記載されているが、式(I
I)で表される化合物は記載されていない。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】本発明が解決しようと
する課題は、従来の方法では工業的に製造するのが困難
であった２−フェニルアセトフェノン誘導体を、工業的
に容易且つ安価に入手できる原料を使用して、短い反応
工程で、効率良く製造することである。
【０００５】
【課題を解決するための手段】本発明は、式(I)：
【化１０】
【０００６】〔式中、Ｘはアルキル基またはハロアルキ
ル基であり、Ｙは水素原子、ハロゲン原子または置換さ
れてもよいアルキル基である〕で表される２−フェニル
アセトフェノン誘導体の製造方法であって、式(II)：
【化１１】
【０００７】〔式中、ＸおよびＹは前述の通りであり、
Ｒは水素原子またはアルキル基である〕で表される化合
物と酸とを反応させることを特徴とする前記２−フェニ
ルアセトフェノン誘導体の製造方法に関する。
【０００８】また、本発明は、(1)式(III)：
【化１２】
【０００９】〔式中、Ｘはアルキル基またはハロアルキ
ル基であり、Halはハロゲン原子である〕で表される化
合物と、式(IV)：
【化１３】
【００１０】〔式中、Ｙは水素原子、ハロゲン原子また
は置換されてもよいアルキル基であり；Ｒは水素原子ま
たはアルキル基である〕で表される化合物とを塩基およ
び溶媒の存在下で反応させて、式(II)：
【００１１】
【化１４】 〔式中、Ｘ、ＹおよびＲは前述の通りである〕で表され
る化合物を製造する第一段階、
【００１２】(2)第一段階で製造された式(II)の化合物
と酸とを反応させて、式(I)：
【化１５】
【００１３】〔式中、ＸおよびＹは前述の通りである〕
で表される２−フェニルアセトフェノン誘導体を製造す
る第二段階から成る前記２−フェニルアセトフェノン誘
導体の製造方法に関する。
【００１４】さらに、本発明は前記２−フェニルアセト
フェノン誘導体の製造用前駆体である式(II)：
【化１６】
【００１５】〔式中、Ｘはアルキル基またはハロアルキ
ル基であり、Ｙは水素原子、ハロゲン原子または置換さ
れてもよいアルキル基であり、Ｒは水素原子またはアル
キル基である〕で表される化合物にも関する。
【００１６】式(I)および(II)中に含まれるＸおよびＹ
で表されるアルキル基またはアルキル部分としては、炭
素数１〜６のもの、例えばメチル、エチル、ｎ−プロピ
ル、イソプロピル、ｎ−ブチル、ｔ−ブチル、ペンチ
ル、ヘキシルなどが挙げられる。ハロゲン原子として
は、フッ素、塩素、臭素、ヨウ素の各原子が挙げられ
る。
【００１７】式(I)および(II)中のＹで表される置換さ
れてもよいアルキル基のその置換基としては、ハロゲン
原子；ハロゲン原子で置換されてもよいアルコキシ基；
ハロゲン原子で置換されてもよいアルキルチオ基などが
挙げられ、これら置換基の数は１または２以上であって
もよく、２以上の場合、それら置換基は同一でも相違し
てもよい。また、上記アルコキシ基またはアルキルチオ
基のアルキル部分としては、炭素数１〜６のものが挙げ
られ、ハロゲン原子としては、フッ素、塩素、臭素、ヨ
ウ素の各原子が挙げられる。
【００１８】式(I)および(II)中のＸとしてはハロアル
キル基が望ましく、その中でもフッ素原子で置換された
アルキル基がさらに望ましく、ジフルオロメチル、トリ
フルオロメチル、２，２，２−トリフルオロメチルまた
はヘプタフルオロプロピルが特に望ましく、トリフルオ
ロメチルが最も望ましい。また、式(I)および(II)中の
Ｙとしてはハロゲン原子が望ましく、その中でもフッ素
原子が最も望ましい。
【００１９】式(II)中に含まれるＲで表されるアルキル
基としては、炭素数１〜６のもの、例えばメチル、エチ
ル、ｎ−プロピル、イソプロピル、ｎ−ブチル、ｔ−ブ
チル、ペンチル、ヘキシルなどが挙げられる。
【００２０】式(II)の化合物は、酸性物質あるいは塩基
性物質との塩をとりうる。その酸性物質との塩として
は、例えば、塩酸塩、硫酸塩のような無機塩などが挙げ
られ、また、塩基性物質の塩としてはナトリウム塩、カ
リウム塩、カルシウム塩、アンモニウム塩、ジメチルア
ンモニウム塩などの無機塩基あるいは有機塩基との塩が
挙げられる。
【００２１】本発明の製造方法は、式（III）の化合物
と、式(IV）の化合物とを塩基および溶媒の存在下で反
応させて式(II)の化合物を製造する第一段階、式(II)の
化合物と酸とを反応させて式(I)の化合物を製造する第
二段階の反応から成る。各々の段階の反応については、
以下に詳述する。なお、第一段階の反応生成物である式
(II)の化合物は新規化合物である。また、この化合物に
は、Ｅ体およびＺ体の幾何異性体が存在し、それらの各
異性体及び各異性体の混合物が本発明に包含される。
【００２２】第一段階の反応において、式(III)および
式(IV)の化合物の使用量は、それぞれの化合物の種類、
その他後記する反応条件の相違などによって異なり、一
概に規定できないが、式(III)の化合物1モルに対して、
式(IV)の化合物が通常0.9〜5.0モル、望ましくは0.9〜
1.5モル、更に望ましくは0.9〜1.0モルの割合で使用さ
れるが、等モル量又はその付近の量であっても式(II)の
化合物が収率良く得られるので、製造コスト面等、工業
的に有益である。
【００２３】第一段階の反応における反応温度および反
応時間は、式(III)および(IV)の化合物の種類、後記す
る反応条件の相違によって異なり、一概に規定できない
が、反応温度は、通常０〜100℃であり、望ましくは０
〜40℃であるが、常温又はその付近の温度であっても式
(II)の化合物が収率良く得られるので、製造コスト面
等、工業的に有益である。また、反応時間は通常0.1〜2
4時間であり、望ましくは１〜６時間である。
【００２４】第一段階の反応で使用できる塩基として
は、水素化ナトリウム、水素化カリウムなどのアルカリ
金属の水素化物；ｎ−ブチルリチウムなどの有機金属化
合物などが挙げられるが、アルカリ金属の水素化物を使
用するのが望ましく、その中でも水素化ナトリウムを使
用するのが望ましい。塩基は、式(III)の化合物1モルに
対して通常1.0〜2.0モル、望ましくは1.0〜1.5モル、更
に望ましくは1.0〜1.3モルの割合で使用されるが、等モ
ル量又はその付近の量であっても式(II)の化合物が収率
良く得られるので、製造コスト面等、工業的に有益であ
る。
【００２５】第一段階の反応で具体的に使用できる溶媒
としては、テトラヒドロフラン、ジオキサンなどのエー
テル類；ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミ
ド、Ｎ−メチル−２−ピロリドン、ジメチルスルホキシ
ド、スルホランなどの非プロトン性極性溶媒；トルエ
ン、クロロベンゼンなどの芳香族炭化水素類；脂肪族炭
化水素類などが挙げられるが、非プロトン性極性溶媒を
使用するのが望ましく、その中でもジメチルホルムアミ
ドを使用するのが最も望ましい。
【００２６】第一段階の反応は、不活性ガス雰囲気下で
行うのが望ましい。具体的に使用される不活性ガスとし
ては、窒素、アルゴン、ヘリウムなど反応に不活性なガ
スなら何でも使用できる。
【００２７】以上述べてきたような第一段階の反応にお
ける種々の条件、すなわち式(III)および(IV)の化合物
の使用量、式(III)および(IV)の化合物の種類によって
変わる種々の反応条件、反応温度ならびに反応時間各々
の設定に際しては、各々の条件毎に示された通常範囲の
数値と望ましい範囲の数値から適宜相互に選択し、組み
合わせることができる。
【００２８】第一段階の反応の製造用原料である式(IV)
の化合物は、特開昭52-90630号、USPNo.4551526、USPN
o.5017723などに記載されている化合物である。しかし
ながら、式(IV’)：
【００２９】
【化１７】 （式中、Ｒは水素原子またはアルキル基である）で表さ
れる化合物は、これら先行技術中に具体的には記載され
ていない。
【００３０】式(IV)の化合物は、USPNo.5017723第15欄
第20〜62行の記載に準じた方法で製造することができ
る。具体的には、式(V)：
【化１８】
【００３１】〔式中、Ｙは水素原子、ハロゲン原子また
は置換されてもよいアルキル基である〕で表される化合
物を、式(VI)：Ｍ−ＣＮ〔式中、Ｍはアルカリ金属元素
である〕で表される化合物および式(VII)：Ｒ2ＮＨ〔式
中、Ｒは水素原子またはアルキル基である〕で表される
化合物またはその塩と反応させて製造できる。
【００３２】式(VI)で表される化合物としては、シアン
化ナトリウムまたはシアン化カリウムが望ましい。式
(V)の化合物を、式(VI)の化合物および式(VII)の化合物
と反応させる場合は、酸の存在下で行われ、酸として
は、塩酸や硫酸のような鉱酸などが挙げられる。この場
合の酸は、式(VII)の化合物1モルに対して、通常0.2〜
1.0モルの割合で使用される。
【００３３】また、式(V)の化合物を、式(VI)の化合物
および式(VII)の化合物の塩と反応させる場合におけ
る、式(VII)の化合物の塩としては、例えば塩酸や硫酸
のような鉱酸との塩などが挙げられる。
【００３４】前述の式(IV)の化合物を製造する方法にお
いて、式(V)、式(VI)および式(VII)の化合物の使用量
は、それぞれの化合物の種類、その他後記する反応条件
の相違などによって異なり、一概に規定できないが、式
(VI)の化合物は、式(V)の化合物1モルに対して、通常0.
8〜3.0モルの割合で使用される。また、式(VII)の化合
物は、式(V)の化合物1モルに対して、通常0.8〜3.0モル
の割合で使用される。
【００３５】前述の式(IV)の化合物を製造する反応にお
ける反応温度および反応時間は、式(V)、式(VI)および
式(VII)の化合物の種類、その他後記する反応条件の相
違などによって異なり、一概に規定できないが、反応温
度は、通常５℃〜還流温度である。また、反応時間は通
常、１〜24時間である。
【００３６】前述の式(IV)の化合物を製造する反応は、
溶媒の存在下で行うのが望ましい。具体的に使用できる
溶媒としては、水；メタノールなどのアルコール類；水
とアルコール類との混合溶媒；アセトニトリル；トルエ
ン、クロロベンゼンなどの芳香族炭化水素類などが挙げ
られる。
【００３７】以上述べてきたような式(IV)の化合物を製
造する反応における種々の条件、すなわち式(V)、式(V
I)および式(VII)の化合物の使用量、式(V)、式(VI)およ
び式(VII)の化合物の種類によって変わる種々の反応条
件、反応温度ならびに反応時間各々の設定に際しては、
各々の条件毎に示された通常範囲の数値と望ましい範囲
の数値から適宜相互に選択し、組み合わせることができ
る。
【００３８】第一段階の反応終了後、式(II)の化合物を
反応系から常法により単離し、必要に応じ蒸留法、再結
晶法などにより精製することができる。このように、単
離、精製した式(II)の化合物を第二段階の反応原料とし
て供給することができる。しかしながら、式(II)の化合
物を第一段階の反応の反応系から単離、精製せず、その
まま第二段階の反応に供することもできるので、第一段
階の反応と、第二段階の反応を同一反応器内で連続して
行うことができる。これにより、製造コストを削減でき
るので、工業的に有益である。
【００３９】第二段階の反応において使用される酸とし
ては、塩酸、硫酸、硝酸、臭化水素酸、リン酸などの鉱
酸；酢酸、プロピオン酸などの有機酸などが挙げられる
が、鉱酸を使用するのが望ましく、その中でも塩酸また
は硫酸を使用するのが望ましい。また、酸の使用量は、
式(II)の化合物の種類、後記する反応条件の相違によっ
て異なり、一概に規定できないが、式(II)の化合物1モ
ルに対して、通常1〜30モル、望ましくは1.5〜15モル、
更に望ましくは1.5〜8モルの割合で使用される。
【００４０】第二段階の反応における反応温度および反
応時間は、式(II)の化合物の種類、後記する反応条件の
相違によって異なり、一概に規定できないが、反応温度
は、通常25〜140℃であり、望ましくは70〜120℃であ
る。また、反応時間は通常0.1〜24時間であり、望まし
くは0.3〜4時間である。
【００４１】第二段階の反応は、溶媒の存在下で行うの
が望ましいが、具体的に使用できる溶媒としては、水；
メタノールなどのアルコール類；第一段階で使用される
溶媒などが挙げられる。また、酢酸などのように溶媒と
しても機能する酸を使用した場合には、酸と溶媒を兼ね
ることができる。
【００４２】以上述べてきた第二段階における種々の条
件、すなわち式(II)の化合物および酸の使用量、式(II)
の化合物および酸の種類によって変わる種々の反応条
件、反応温度ならびに反応時間各々の設定に際しては、
各々の条件毎に示された通常範囲の数値と望ましい範囲
の数値から適宜相互に選択し、組み合わせることができ
る。また、第一段階における種々の条件と、第二段階に
おける種々の条件とを適宜相互に組み合わせることもで
きる。
【００４３】第二段階の反応終了後、式(I)の２−フェ
ニルアセトフェノン誘導体を反応系から常法により単離
し、必要に応じ蒸留法、再結晶法などにより精製するこ
とができる。
【００４４】
【発明の実施形態】次に本発明における望ましい実施形
態のいくつかを例示する。 (1) 式(II)の化合物と酸とを反応させて、式(I)の２−
フェニルアセトフェノン誘導体を製造する方法。 (2) 式(III)の化合物と、式(IV)の化合物とを塩基およ
び溶媒の存在下で反応させて、式(II)の化合物を製造す
る第一段階；第一段階で製造された式(II)の化合物を酸
と反応させて、式(I)の２−フェニルアセトフェノン誘
導体を製造する第二段階から成る(1)の方法。 (3) 式(V)の化合物を、式(VI)の化合物および式(VII)
の化合物またはその塩と反応させて、式(IV)の化合物を
製造し、このものと、式(III)の化合物とを塩基および
溶媒の存在下で反応させて、式(II)の化合物を製造する
第一段階；第一段階で製造された式(II)の化合物を酸と
反応させて、式(I)の２−フェニルアセトフェノン誘導
体を製造する第二段階から成る(2)の方法。 (4) 式(II)の化合物を鉱酸と反応させる(1)、(2)また
は(3)の方法。 (5) 第一段階の反応と、第二段階の反応とを同一反応
器内で連続して行う(2)または(3)の方法。
【００４５】(6) 式(V)の化合物を、式(VI)の化合物お
よび式(VII)の化合物と反応させて、式(IV)の化合物を
製造する方法。 (7) 式(III)の化合物と式(IV)の化合物とを塩基および
溶媒の存在下で反応させて、式(II)の化合物を製造する
方法。
【００４６】(8) 式(III)の化合物から式(II)の化合物
を製造する反応を不活性ガスの存在下で行う(2)、(3)、
(5)または(7)の方法。 (9) 式(III)の化合物から式(II)の化合物を製造する反
応を０〜100℃の反応温度で行う(2)、(3)、(5)、(7)ま
たは(8)の方法。 (10) 式(III)の化合物から式(II)の化合物を製造する
反応を０〜40℃の反応温度で行う(9)の方法。
【００４７】実施例１ ２−（４−フルオロフェニ
ル）−２−（N，N−ジメチルアミノ）アセトニトリルの
合成 温度計、攪拌器および滴下ロートを備えた１リットル四
つ口フラスコに４−フルオロベンズアルデヒド49.6ｇ
(0.4mol)およびアセトニトリル480mlを仕込み、攪拌
下、シアン化ナトリウム29.4ｇ(0.64mol)、ジメチルア
ミン塩酸塩81.6ｇ(1mol)および水200mlの溶液を20〜30
℃で15分要して滴下した後、同温度で18時間反応させ
た。反応終了後、混合物を分液し有機層を分取してアセ
トニトリルを留去した。残渣を酢酸エチル400mlで抽出
し、５％の炭酸水素ナトリウム水溶液および水で洗浄し
た後、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。酢酸エチルを留
去し、得られた油状物を減圧下蒸留し、目的化合物（沸
点100〜101℃/1KPa）を64.5ｇ（収率90.5％）得た。こ
のもののNMRスペクトルデータは以下の通りである。1 H-NMR δppm (Solvent : CDCl3 / 400 MHz) 2.29(s,6H),4.79(s,1H),7.07(m,2H),7.48(m,2H)
【００４８】実施例２ ２−（４−フルオロフェニ
ル）−２−（N，N−ジメチルアミノ）アセトニトリルの
合成 温度計、攪拌器および滴下ロートを備えた１リットル四
つ口フラスコにシアン化ナトリウム30.9ｇ(0.6mol)、ジ
メチルアミン塩酸塩85.7ｇ(1.05mol)、ベンジルトリ−
ｎ−ブチルアンモニウムクロリド1.2ｇおよび水200mlを
仕込み、攪拌下、４−フルオロベンズアルデヒド62.1ｇ
(0.5mol)およびトルエン150ｍｌの溶液を20〜30℃で30
分要して滴下した後、45〜50℃で４時間反応させた。反
応終了後、水200mlを加え、混合物を分液し有機層を分
取して５％の炭酸水素ナトリウム水溶液および水で洗浄
した後、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。トルエンを留
去し、得られた油状物を減圧下蒸留し、目的化合物(沸
点100〜101℃／1KPa）を79.3ｇ(収率89％)得た。
【００４９】実施例３ １−（４−フルオロフェニル）
−２−（４−トリフルオロメチルフェニル）−Ｎ，Ｎ−
ジメチルエテニルアミンの合成 温度計、攪拌器、滴下ロートおよびＮ２ガス導入管を備
えた200ml四つ口フラスコに容器内がＮ２雰囲気となる
ようにＮ２ガスを導入した。ジメチルホルムアミド40ml
および水素化ナトリウム(62％オイル懸濁物)2.4ｇ(61.6
mmol)を仕込み、氷水冷下、２−（４−フルオロフェニ
ル）−２−（N，N−ジメチルアミノ）アセトニトリル10
ｇ(56mmol)および４−（トリフルオロメチル）ベンジル
クロライド10.9ｇ(56mmol)の溶液を５〜10℃で１時間要
して滴下した後、更に20〜30℃で１時間反応させた。反
応終了後、200mlの水を加え、酢酸エチル200mlで抽出
し、５％の炭酸水素ナトリウム水溶液および水で洗浄し
た後、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。酢酸エチルを留
去し、得られた油状物を減圧下蒸留し、目的化合物(沸
点130〜135℃/0.6Kpa)を15.3ｇ(収率88.3％)得た。この
もののNMRスペクトルデータは以下の通りである。1 H-NMR δppm (Solvent : CDCl3 / 400 MHz) 2.68(s,6H),5.42(s,1H),6.71(m,2H),7.03(m,2H),7.20
(m,4H)
【００５０】実施例４ ４’−フルオロ−２−（４−
トリフルオロメチルフェニル）アセトフェノンの合成 温度計、攪拌器および還流器を備えた200ml四つ口フラ
スコに１−（４−フルオロフェニル）−２−（４−トリ
フルオロメチルフェニル）−Ｎ，Ｎ−ジメチルエテニル
アミン15.5ｇ(50mmol)、酢酸80mlおよび濃塩酸30mlを仕
込み、オイルバスによる加熱還流下２時間攪拌しながら
反応させた。反応終了後、水500mlを加え析出した結晶
をろ別し、２％の炭酸水素ナトリウム水溶液および水で
洗浄した後、更にｎ−へキサン20mlで洗浄精製した後真
空乾燥して淡黄色の結晶である目的化合物(融点93〜95
℃)を12.7ｇ(収率90.3％)得た。
【００５１】実施例５ ４’−フルオロ−２−（４−
トリフルオロメチルフェニル）アセトフェノンの合成 温度計、攪拌器、滴下ロートおよびＮ２ガス導入管を備
えた１リットル四つ口フラスコに容器内がＮ２雰囲気と
なるようにＮ２ガスを導入した。ジメチルホルムアミド
250mlおよび水素化ナトリウム(62％オイル懸濁物)16.5
ｇ(0.426mol)を仕込み、２−（４−フルオロフェニル）
−２−（N，N−ジメチルアミノ）アセトニトリル69ｇ
(0.387mol)および４−（トリフルオロメチル）ベンジル
クロライド75.4ｇ(0.387mol)の溶液を氷水冷下、10〜15
℃で１時間要して滴下した後、更に20〜30℃で１時間反
応させた。次いで、この反応混合物に40％硫酸280mlを
加え、80〜90℃で１時間反応させた。反応終了後、水２
リットルを加え析出した結晶をろ別し、２％の炭酸水素
ナトリウム水溶液および水で洗浄した後、更にｎ−へキ
サン100mlで洗浄精製した後真空乾燥して淡黄色の結晶
である目的化合物（融点93〜95℃）を97.7ｇ(収率89.4
％)得た。
【００５２】実施例６ ２−（４−フルオロフェニ
ル）−２−（N，N−ジメチルアミノ）アセトニトリルの
合成 温度計、攪拌器および滴下ロートを備えた１リットル四
つ口フラスコに50.7％ジメチルアミン水溶液144.5g（1.
6mol）と水118.5gを仕込み、攪拌下25％硫酸水159.4g
（0.38mol）を20℃以下で15分要して滴下した後、シア
ン化ナトリウム67.4g（1.38mol）を投入した。次いで４
−フルオロベンズアルデヒド155.1g（1.25mol）を20〜3
0℃で20分要して滴下した。その後、50℃で4時間反応さ
せた。反応終了後、反応混合物を分液し有機層を分取し
て50℃の温水500mlで洗浄し、純度98.4％（GC分析）の
目的化合物を222.8g得た。(収率98.4％)
【００５３】実施例７ ４’−フルオロ−２−（４−
トリフルオロメチルフェニル）アセトフェノンの合成 温度計、攪拌器、滴下ロートおよびＮ２ガス導入管を備
えた２リットル四つ口フラスコに容器内がＮ２雰囲気と
なるようにＮ２ガスを導入した。ジメチルホルムアミド
400mlおよび水素化ナトリウム(62％オイル懸濁物)35.0
ｇ(0.9mol)を仕込み、２−（４−フルオロフェニル）−
２−（N，N−ジメチルアミノ）アセトニトリル133.5ｇ
(0.75mol)、４−（トリフルオロメチル）ベンジルクロ
ライド145.9ｇ(0.75mol)およびジメチルホルムアミド28
0mlの混合液を水冷下、10〜25℃で１時間要して滴下し
た後、更に20〜30℃で１時間反応させた。次いで、この
反応混合物に40％硫酸水330gを加え、80〜90℃で１時間
反応させた。反応終了後、反応物を水２リットルに加え
析出した結晶を減圧ろ別し、水で洗浄した後、イソプロ
ピルアルコール500mlを用いて20℃で洗浄精製した後、
温風乾燥して純度98.4％（HPLC分析）の目的化合物を20
4.7ｇ(収率95.2％)得た。
【００５４】
【発明の効果】本発明によれば、２−フェニルアセトフ
ェノン誘導体を工業的有利に製造することが可能となっ
た。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Ｆターム(参考） 4H006 AA01 AA02 AB84 AC44 BB61 BC10 BC31 BD70

Claims (11)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】 式(I)： 【化１】 〔式中、Ｘはアルキル基またはハロアルキル基であり、
    Ｙは水素原子、ハロゲン原子または置換されてもよいア
    ルキル基である〕で表される２−フェニルアセトフェノ
    ン誘導体の製造方法であって、式(II)： 【化２】 〔式中、ＸおよびＹは前述の通りであり、Ｒは水素原子
    またはアルキル基である〕で表される化合物と酸とを反
    応させることを特徴とする前記２−フェニルアセトフェ
    ノン誘導体の製造方法。
  2. 【請求項２】 (1)式(III)： 【化３】 〔式中、Ｘはアルキル基またはハロアルキル基であり、
    Halはハロゲン原子である〕で表される化合物と、式(I
    V)： 【化４】 〔式中、Ｙは水素原子、ハロゲン原子または置換されて
    もよいアルキル基であり；Ｒは水素原子またはアルキル
    基である〕で表される化合物とを塩基および溶媒の存在
    下で反応させて、式(II)： 【化５】 〔式中、Ｘ、ＹおよびＲは前述の通りである〕で表され
    る化合物を製造する第一段階、(2)第一段階で製造され
    た式(II)の化合物と酸とを反応させて、式(I)： 【化６】 〔式中、ＸおよびＹは前述の通りである〕で表される２
    −フェニルアセトフェノン誘導体を製造する第二段階か
    ら成ることを特徴とする請求項１の２−フェニルアセト
    フェノン誘導体の製造方法。
  3. 【請求項３】 請求項２に記載の２−フェニルアセトフ
    ェノン誘導体の製造方法であって、式(V)： 【化７】 〔式中、Ｙは水素原子、ハロゲン原子または置換されて
    もよいアルキル基である〕で表される化合物を、式(V
    I)：Ｍ−ＣＮ〔式中、Ｍはアルカリ金属元素である〕で
    表される化合物および式(VII)：Ｒ２ＮＨ〔式中、Ｒは
    水素原子またはアルキル基である〕で表される化合物ま
    たはその塩と反応させて、式(IV)： 【化８】 〔式中、ＹおよびＲは前述の通りである〕で表される化
    合物を製造し、このものを第一段階の反応に供すること
    を特徴とする前記２−フェニルアセトフェノン誘導体の
    製造方法。
  4. 【請求項４】 酸を、式(II)の化合物1モルに対して1〜
    30モルの割合で使用することを特徴とする請求項１また
    は２の製造方法。
  5. 【請求項５】 式(II)の化合物を鉱酸と反応させること
    を特徴とする請求項１または２の製造方法。
  6. 【請求項６】 式(IV)の化合物を、式(III)の化合物1モ
    ルに対して0.9〜5.0モルの割合で使用することを特徴と
    する請求項２の製造方法。
  7. 【請求項７】 塩基を、式(III)の化合物1モルに対して
    1.0〜2.0モルの割合で使用することを特徴とする請求項
    ２の製造方法。
  8. 【請求項８】 第一段階の反応を不活性ガス存在下で行
    うことを特徴とする請求項２の製造方法。
  9. 【請求項９】 第一段階の反応を０〜100℃の反応温度
    で行うことを特徴とする請求項２の製造方法。
  10. 【請求項１０】 第一段階の反応と、第二段階の反応と
    を同一反応器内で連続して行うことを特徴とする請求項
    ２の製造方法。
  11. 【請求項１１】 式(II)： 【化９】 〔式中、Ｘはアルキル基またはハロアルキル基であり、
    Ｙは水素原子、ハロゲン原子または置換されてもよいア
    ルキル基であり、Ｒは水素原子またはアルキル基であ
    る〕で表される化合物。
JP2002200186A 2001-08-03 2002-07-09 ２−フェニルアセトフェノン誘導体の製造方法、ならびにそれらの製造用前駆体 Pending JP2003113134A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2002200186A JP2003113134A (ja) 2001-08-03 2002-07-09 ２−フェニルアセトフェノン誘導体の製造方法、ならびにそれらの製造用前駆体

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2001236818 2001-08-03
JP2001-236818 2001-08-03
JP2002200186A JP2003113134A (ja) 2001-08-03 2002-07-09 ２−フェニルアセトフェノン誘導体の製造方法、ならびにそれらの製造用前駆体

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2003113134A true JP2003113134A (ja) 2003-04-18

Family

ID=26619948

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2002200186A Pending JP2003113134A (ja) 2001-08-03 2002-07-09 ２−フェニルアセトフェノン誘導体の製造方法、ならびにそれらの製造用前駆体

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2003113134A (ja)

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US6156925A (en) Process for the preparation of halogenated phenylmaloates
JP2004513941A (ja) イミダゾール類の製造法
US20100113778A1 (en) Process for preparing o-chloromethylphenylglyoxylic esters, improved process for preparing (e)-2-(2-chloromethylphenyl)-2-alkoximinoacetic esters, and novel intermediates for their preparation
PL213708B1 (pl) Sposób wytwarzania kombrestatyn
US9440917B2 (en) Method for producing 4-haloalkyl-3-mercapto-substituted 2-hydroxy-benzoic acid derivatives
US7368464B2 (en) Preparation for the production of 1,2,4-triazolylmethyl-oxiranes
JP2003113134A (ja) ２−フェニルアセトフェノン誘導体の製造方法、ならびにそれらの製造用前駆体
US7141693B2 (en) Process for producing β-oxonitrile compound or alkali metal salt thereof
JP4032861B2 (ja) β−オキソニトリル誘導体又はそのアルカリ金属塩の製法
EP1002788B1 (en) Process for preparing halogenated phenylmalonates
US20030176721A1 (en) Method for the production of trifluoroethoxy-substituted benzoic acids
US6956132B2 (en) Process for producing 2-phenylacetophenone derivatives and precursors therefor
JP4649733B2 (ja) トリフルオロメチル基含有アセトフェノン化合物の製造方法
JP4696258B2 (ja) アルコキシトリアゾリノン類の製造方法
JP2808322B2 (ja) シクロペンテン、シクロペンタンおよびシクロヘキサン誘導体の製造方法
JP2022529000A (ja) 置換２－［２－（フェニル）エチルアミノ］アルカンアミド誘導体の製造方法
KR20080031910A (ko) １-[시아노(４-하이드록시페닐)메틸]사이클로헥사놀화합물의 제조 방법
JP5205971B2 (ja) テトラヒドロピラン化合物の製造方法
JP3855686B2 (ja) ３，３−ジアルコキシ−２−ヒドロキシイミノ誘導体及びその製造法
JPWO2003101921A1 (ja) Ｃｆ３−ｃｈｆ−ｃｆ２−ｎｒ２合成方法
JP2882057B2 (ja) ベンゾイル酢酸エステル類の製造方法
JPH08245595A (ja) ピラゾールの製造方法
JP3013760B2 (ja) ４−ヒドロキシ−２−ピロリドンの製法
JPH0611718B2 (ja) 芳香族フツ素化合物の製造方法
JPH0611719B2 (ja) フツ化ジアリ−ルヨ−ドニウム類の製造方法