JP2003195526A - 感光性平版印刷版の刷版方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 画像強度が著しく向上し、特に印刷初期の耐
刷性に優れる感光性平版印刷版の刷版方法を提供する。 【解決手段】 支持体上にエチレン性単量体、光重合開
始剤、高分子結合材を含む光重合性感光層を設けた感光
性平版印刷版を、レーザー露光した後、現像工程、水洗
工程、ガム液塗布工程を順次行う感光性平版印刷版の刷
版方法において、水洗工程とガム液塗布工程の間に、該
印刷版の乾燥処理を行うことを特徴とする感光性平版印
刷版の刷版方法。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は感光性平版印刷版の
刷版方法に関し、特に印刷版の作成に有利な画像形成方
法に関する。

【０００２】

【従来の技術】近年、画像形成技術の発展に伴い、高感
度な感光性材料が求められており、高い感応性を有する
フォトポリマーが有望視されている。特に生産性の大幅
な効率化の望めるレーザー走査露光への要求は高い。レ
ーザーの光源としてはＡｒレーザー、ＦＤ−ＹＡＧレー
ザー、Violetレーザー、半導体レーザー、ＹＡＧレーザ
ー等が挙げられる。この内でも特に可視光レーザーのＡ
ｒレーザーの４８８ｎｍ光、ＦＤ−ＹＡＧレーザーの５
３２ｎｍや、405nm近辺のViolet レーザーや、830nm等
を発振する赤外半導体レーザー等が有望視されている。

【０００３】

【発明が解決しようとする課題】このような光重合性感
光体においては、高感度化が非常に重要な性能であり、
高感度化に有利なラジカル重合を利用した感光体が数多
く研究、開発されている。しかし、感光層の感度は未だ
不十分で、レーザーの高速走査による露光を行った後に
通常の現像処理を行うだけでは、印刷機上で充分な枚数
の印刷を実施することが困難であった。

【０００４】一方で、レーザー走査露光後の処理方法を
改善することによって、得られた画像の強度を向上させ
ようとする試みもなされている。具体的には、レーザー
走査露光直後に加熱処理を施してから現像処理を行う方
法や、現像処理後に全面露光するなどの処理方法が知ら
れている。しかしながら、このような方法では、刷り出
し時の画像濃度や耐刷性の点で未だ十分な性能が得られ
ていない。

【０００５】本発明の目的は、感光材料において、レー
ザーの走査露光によって得られた画像に、印刷に十分耐
えうる画像強度を与える処理方法を提供することであ
る。

【０００６】

【課題を解決するための手段】本発明者らは上記目的を
達成すべく鋭意研究の結果、支持体上に感光層を設けた
印刷版をレーザーで走査露光後、現像、水洗、ガム液塗
布工程を順次行う際、ガム液塗布工程の前に印刷版を乾
燥すると印刷時の画像強度の増大が顕著であることを見
いだし、本発明に到達した。

【０００７】Ｉｎｔｅｒｐｌａｔｅｒ自動現像機（Ｇ＆
Ｊ社製）やスタブロン自動現像機（富士写真フィルム社
製）に見られるように従来は、現像処理に引き続くの水
洗処理の後に版面上の水をローラーなどでスキージする
だけでそのままガム液を塗設していたのに対して、水洗
後に印刷版を乾燥してからガム液を塗設する事が本発明
の特徴となっている。即ち、本発明の要旨は、支持体上
にエチレン性単量体、光重合開始剤、高分子結合材を含
む光重合性感光層を設けた感光性平版印刷版を、レーザ
ー露光した後、現像工程、水洗工程、ガム液塗布工程を
順次行う感光性平版印刷版の刷版方法において、水洗工
程とガム液塗布工程の間に、該印刷版の乾燥処理を行う
ことを特徴とする感光性平版印刷版の刷版方法、に存す
る。

【０００８】

【発明の実施の形態】以下本発明について詳細に説明す
る。本発明の光重合性感光層は、その成分として、
（Ａ）エチレン性単量体、光重合開始剤、具体的には
（Ｂ）増感色素、及び（Ｃ）ラジカル発生剤、更には
（Ｄ）高分子結合材を含有する。

【０００９】（Ａ）エチレン性単量体の説明 本発明に用いられる（Ａ）エチレン性単量体は、エチレ
ン性二重結合を一個以上有する化合物であり、エチレン
性二重結合を一個有する化合物としては、（メタ）アク
リル酸、（メタ）アクリル酸のアルキルエステル、アク
リロニトリル、スチレン、エチレン性不飽和結合を一個
有するカルボン酸と多（単）価アルコールのモノエステ
ル等が挙げられる。エチレン性単量体として１分子中に
エチレン性二重結合を二個以上有する多官能エチレン性
化合物を含有することが望ましい。

【００１０】かかる多官能エチレン性化合物の例として
は、例えば脂肪族ポリヒドロキシ化合物と不飽和カルボ
ン酸とのエステル；芳香族ポリヒドロキシ化合物と不飽
和カルボン酸とのエステル；脂肪族ポリヒドロキシ化合
物、芳香族ポリヒドロキシ化合物等の多価ヒドロキシ化
合物と不飽和カルボン酸及び多価カルボン酸とのエステ
ル化反応により得られるエステルなどが挙げられる。

【００１１】前記脂肪族ポリヒドロキシ化合物と不飽和
カルボン酸とのエステルは限定されないが、エチレング
リコールジアクリレート、トリエチレングリコールジア
クリレート、トリメチロールプロパントリアクリレー
ト、トリメチロールエタントリアクリレート、ペンタエ
リスリトールジアクリレート、ペンタエリスリトールト
リアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレ
ート、ジペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジ
ペンタエリスルトールペンタアクリレート、ジペンタエ
リスリトールペンタアクリレート、ジペンタエリスリト
ールヘキサアクリレートグリセロールアクリレート等の
脂肪族ポリヒドロキシ化合物のアクリル酸エステル、こ
れら例示化合物のアクリレートをメタクリレートに代え
たメタクリル酸エステル、同様にイタコネートに代えた
イタコン酸エステル、クロネートに代えたクロトン酸エ
ステルもしくはマレエートに代えたマレイン酸エステル
等が挙げられる。

【００１２】芳香族ポリヒドロキシ化合物と不飽和カル
ボン酸とのエステルとしては、ハイドロキノンジアクリ
レート、ハイドロキノンジメタクリレート、レゾルシン
ジアクリレート、レゾルシンジメタクリレート、ピロガ
ロールトリアクリレート等の芳香族ポリヒドロキシ化合
物のアクリル酸エステル及びメタクリル酸エステル等が
挙げられる。

【００１３】不飽和カルボン酸及び多価カルボン酸なら
びに多価ヒドロキシ化合物のエステル化反応により得ら
れるエステルとしては必ずしも単一物ではないが代表的
な具体例を挙げれば、アクリル酸、フタル酸、及びエチ
レングリコールの縮合物、アクリル酸、マレイン酸、及
びジエチレングリコールの縮合物、メタクリル酸、テレ
フタル酸及びペンタエリスリトールの縮合物、アクリル
酸、アジピン酸、ブタンジオール及びグリセリンの縮合
物等がある。

【００１４】その他、本発明に用いられる多官能エチレ
ン性単量体の例としては、ポリイソシアネート化合物と
水酸基含有（メタ）アクリル酸エステルまたはポリイソ
シアネート化合物とポリオールおよび水酸基含有（メ
タ）アクリル酸エステルを反応させて得られる様なウレ
タン（メタ）アクリレート類；多価エポキシ化合物とヒ
ドロキシ（メタ）アクリレート又は（メタ）アクリル酸
との付加反応物のようなエポキシアクリレート類：エチ
レンビスアクリルアミド等のアクリルアミド類；フタル
酸ジアリル等のアリルエステル類；ジビニルフタレート
等のビニル基含有化合物等が有用である。

【００１５】これら多官能エチレン性単量体の内、ウレ
タン（メタ）アクリレート類を含有する事が望ましい。
更に、本発明に用いられる好ましいエチレン性単量体と
して、少なくとも一つの（メタ）アクリロイル基を含有
するリン酸エステル化合物（以下、「リン酸エステル化
合物」と略す）が挙げられるが、該リン酸エステル化合
物を含有する場合、耐刷性及び非画線部の抜け性改良の
点で特に有用である。該化合物は、リン酸の水酸基の少
なくとも一部がエステル化された化合物であり、しか
も、（メタ）アクリロイル基を有する限り特に限定はさ
れないが、具体的には例えば下記一般式（Ｉａ）、（Ｉ
ｂ）で示される化合物が挙げられる。

【００１６】

【化１】

【００１７】（一般式（１）、（２）中、Ｒ¹及びＲ¹′
は各々独立に水素原子又はメチル基を表し、ｎは１〜２
５の整数を示し、ｍは１〜３の整数を示す。） 一般式（１）、（２）で表される化合物の内、ｎが１〜
１０、特に１〜４であるものが特に好ましい。一般式
（１）、（２）で表される化合物の内、特に好ましい化
合物の具体例としては、メタアクリルオキシエチルフォ
スフェート、ビス（メタアクリルオキシエチル）フォス
フェート、メタアクリルオキシエチレングリコールフォ
スフェート等が挙げられる。

【００１８】本発明で使用するリン酸エステル化合物は
単独でも、複数の化合物の混合物でも良い。リン酸エス
テル化合物を含有する場合、その含有量は、エチレン性
単量体中、１〜６０重量％が好ましく、特に５〜５０重
量％が好ましい。 （光重合開始剤） （Ｂ）増感色素の説明 次に、光重合開始剤の内の増感剤について説明する。本
発明における増感剤とは、前述のラジカル発生剤と共存
させることにより、光照射、好適には可視光線照射によ
り、ラジカル発生剤が効果的に活性ラジカルを発生しう
る化合物を意味している。

【００１９】（可視光線に好適な増感剤）まず488nmのA
rレーザーや532nmのFD-YAGレーザー等のような可視光レ
ーザーに特に適する増感剤の例としては、例えば米国特
許第３，４７９，１８５号明細書に開示されているロイ
コクリスタルバイオレットやロイコマラカイトグリーン
の様なトリフェニルメタン系ロイコ色素、エリスロシン
やエオシンＹのような光還元性染料、米国特許第３，５
４９，３６７号明細書、米国特許第３，６５２，２７５
号明細書等に開示されているミヒラーズケトンやアミノ
スチリルケトンの様なアミノフェニルケトン類、米国特
許第３，８４４，７９０号明細書に示されるβ−ジケト
ン類、米国特許第４，１６２，１６２号明細書に見られ
るインダノン類、特開昭５２−１１２６８１号公報に示
されるケトクマリン類、特開昭５９−５６４０３号公報
で開示されているアミノスチレン誘導体やアミノフェニ
ルブタジエン誘導体、米国特許第４，５９４，３１０号
明細書に見られるアミノフェニル複素環類、米国特許第
４，９６６，８３０号明細書に示されるジュロリジン複
素環類、特開平５−２４１３３８号公報に示されるピロ
メテン系色素等が挙げられる。

【００２０】この中でも特に、特開平６−３０１２０
８、特開平８−１４６６０５、特開平８−２１１６０
５、特開平８−１２９２５８、特開平８−１２９２５９
に記載の如きクマリン系色素及び特開平７−５６８５、
特願平１０−１４４２４２に記載の如きピロメテン系色
素が好ましい。 （Violetレーザー（４０５ｎｍ近辺）に好適な増感材）
Violetレーザーに好適な増感色素としては、３９０〜４
３０ｎｍの波長の光を吸収すると共に、ラジカル発生剤
との相互作用により、ラジカル発生剤からのラジカルの
発生を効率よく行う化合物であれば特に限定されない
が、ジアルキルアミノベンゼン系化合物が好ましい。ジ
アルキルアミノベンゼン系化合物としては、ジアルキル
アミノベンゼン構造を有し、任意の置換基を有していて
よいが、中でも、ジアルキルアミノベンゾフェノン系化
合物、ベンゼン環上のアミノ基に対してｐ−位の炭素原
子に芳香族複素環基を置換基として有するジアルキルア
ミノベンゼン系化合物、及びこれらの化合物のジアルキ
ルアミノ基を構成するアルキル基が互いに結合して、及
び／又は該アルキル基がベンゼン環上のアミノ基の結合
する炭素原子に隣接する炭素原子と結合して含窒素複素
環構造を形成した構造の化合物が好ましい。尚、上記に
おいて、ジアルキルアミノ基を構成するアミノ基は互い
に同一でも異なっていてもよく、炭素数１〜６が好まし
い。

【００２１】中でも好ましいジアルキルアミノベンゼン
化合物は、下記一般式（II）及び（III）で示される。

【００２２】

【化２】

【００２３】（式中、Ｒ² 〜Ｒ⁵ は、それぞれ独立し
て、炭素数１〜６のアルキル基を、Ｒ⁶〜Ｒ⁹ は、水素
原子又は炭素数１〜６のアルキル基を示すが、Ｒ² とＲ
³ 、Ｒ⁴とＲ⁵ 、Ｒ² とＲ⁶ 、Ｒ³ とＲ⁷ 、Ｒ⁴ と
Ｒ⁸ 、Ｒ⁵ とＲ⁹ は、それぞれ独立に結合して環を形成
していてもよい。）

【００２４】

【化３】

【００２５】（式中、Ｒ¹⁰、Ｒ¹¹はそれぞれ独立して炭
素数１〜６のアルキル基を、Ｒ¹³及びＲ¹⁴は独立して水
素原子又は炭素数１〜６のアルキル基を、Ｑは、Ｓ，
Ｏ，ジアルキルメチン又は

【００２６】

【化４】

【００２７】を示し、Ｒ¹⁵は水素原子又は、炭素１〜６
のアルキル基を示す。但しＲ¹⁰とＲ¹¹、Ｒ¹⁰とＲ¹³又は
Ｒ¹¹とＲ¹⁴がそれぞれ独立に結合して環を形成してもよ
い。）尚、ジアルキルメチレンのアルキル基の炭素数は
１〜６、好ましくは１である。

【００２８】式（II）及び（III）においてＲ²〜Ｒ¹⁴の
いずれかが結合して環を形成する場合、５又は６員環で
あるのが好ましく、特に６員環が好ましい。前記一般式
（II）で示される化合物としては、４，４′−ジメチル
アミノベンゾフェノン、４，４′−ジエチルアミノベン
ゾフェノン及び下記構造の化合物が挙げられる。

【００２９】

【化５】

【００３０】又、前記一般式（III）で表わされる化合
物としては、２−（ｐ−ジメチルアミノフェニル）ベン
ゾオキサゾール、２−（ｐ−ジエチルアミノフェニル）
ベンゾオキサゾール、２−（ｐ−ジメチルアミノフェニ
ル）ベンゾ〔４，５〕ベンゾオキサゾール、２−（ｐ−
ジメチルアミノフェニル）ベンゾ〔６，７〕ベンゾオキ
サゾール、２，５−ビス（ｐ−ジエチルアミノフェニ
ル）１，３，４−オキサゾール、２−（ｐ−ジメチルア
ミノフェニル）ベンゾチアゾール、２−（ｐ−ジエチル
アミノフェニル）ベンゾチアゾール、２−（ｐ−ジメチ
ルアミノフェニル）ベンズイミダゾール、２−（ｐ−ジ
エチルアミノフェニル）ベンズイミダゾール及び下記構
造の化合物が挙げられる。

【００３１】

【化６】

【００３２】式（II）、（III）以外の化合物としては、
２，５−ビス（ｐ−ジエチルアミノフェニル）１，３，
４−チアジアゾール、（ｐ−ジメチルアミノフェニル）
ピリジン、（ｐ−ジエチルアミノフェニル）ピリジン、
２−（ｐ−ジメチルアミノフェニル）キノリン、２−
（ｐ−ジエチルアミノフェニル）キノリン、２−（ｐ−
ジメチルアミノフェニル）ピリミジン、２−（ｐ−ジエ
チルアミノフェニル）ピリミジン等が挙げられる。

【００３３】（赤外レーザーに好適な増感材）更に、例
えば830nmや1016nm近辺の赤外レーザーに好適な増感材
の例としては、６５０〜１３００ｎｍの範囲の光照射を
受けたときに励起（電子遷移）され、その電子遷移エネ
ルギーを（Ｃ）成分のラジカル発生剤に受け渡す役割を
担う化合物である。このような増感色素は、６５０〜１
３００ｎｍの範囲の光照射によって、電子遷移する化合
物であればいずれも用いることができる。

【００３４】本発明において、これらの色素としては、
窒素原子、酸素原子、又は硫黄原子等の複素原子がポリ
メチン（−ＣＨ＝）_n 鎖で結合された構造を基本構造と
するものであり、代表的には、その複素原子が複素環を
形成し、ポリメチン鎖を介して複素環が結合された構造
を基本構造とする広義の所謂シアニン系色素、具体的に
は、例えば、キノリン系（所謂、シアニン系）、インド
ール系（所謂、インドシアニン系）、ベンゾチアゾール
系（所謂、チオシアニン系）、ピリリウム系、チアピリ
リウム系、スクアリリウム系、クロコニウム系、アズレ
ニウム系等、及び、ポリメチン鎖を介して非環式複素原
子が結合された構造の所謂ポリメチン系色素等が挙げら
れ、中で、キノリン系、インドール系、ベンゾチアゾー
ル系、ピリリウム系、チアピリリウム系等のシアニン系
色素、及びポリメチン系色素が好ましい。

【００３５】本発明においては、前記シアニン系色素の
中で、キノリン系色素としては、特に、下記一般式（IV
a) 、(IVb)、又は(IVc)で表されるものが好ましい。

【００３６】

【化７】

【００３７】〔式(IVa)、(IVb)、及び(IVc)中、Ｒ¹⁶ 及
びＲ¹⁷ は各々独立して、置換基を有していてもよいア
ルキル基、置換基を有していてもよいアルケニル基、置
換基を有していてもよいアルキニル基、又は置換基を有
していてもよいフェニル基を示し、Ｌ¹ は（１）色素分
子中で共鳴して、オキソニウムカチオンを生じるエーテ
ル結合、又はスルホニウムカチオンを生じるチオエーテ
ル結合を有する置換基を少なくとも有するトリ、ペン
タ、ヘプタ、ノナ、又はウンデカメチン基を示すか、又
は（２）該ペンタ、ヘプタ、ノナ、又はウンデカメチン
基上に少なくとも２つの置換基を有し、該２つの置換基
が、色素分子中で共鳴して、オキソニウムカチオンを生
じるエーテル結合、又はスルホニウムカチオンを生じる
チオエーテル結合で結合されて環状構造を形成する。該
ペンタ、ヘプタ、ノナ、又はウンデカメチン基上の２つ
の置換基が互いに連結して炭素数５〜７のシクロアルケ
ン環、シクロアルケノン環、シクロアルケンジオン環、
又はシクロアルケンチオン環を形成していてもよく、キ
ノリン環は置換基を有していてもよく、その場合、隣接
する２つの置換基が互いに連結して縮合ベンゼン環を形
成していてもよい。Ｘ _a ^- は対アニオンを示す。〕 ここで、式(IVa)、(IVb)、及び(IVc)中のＲ¹⁶ 及びＲ
¹⁷ がアルキル基であるときの炭素数は、通常１〜１
５、好ましくは１〜１０、アルケニル基、アルキニル基
であるときの炭素数は、通常２〜１５、好ましくは２〜
１０であり、フェニル基も含めたそれらの置換基として
は、炭素数が通常１〜１５、好ましくは１〜１０のアル
コキシ基、フェノキシ基、ヒドロキシ基、又はフェニル
基等が挙げられ、Ｌ¹ における前記エーテル結合又はチ
オエーテル結合を有する置換基以外の置換基としては、
同上炭素数のアルキル基、アミノ基、又はハロゲン原子
等が挙げられ、キノリン環における置換基としては、同
上炭素数のアルキル基、同上炭素数のアルコキシ基、ニ
トロ基、又はハロゲン原子等が挙げられる。

【００３８】又、インドール系、及びベンゾチアゾール
系色素としては、特に、下記一般式(Ｖ)で表されるもの
が好ましい。

【００３９】

【化８】

【００４０】〔式(Ｖ)中、Ｙ¹ 及びＹ² は各々独立し
て、ジアルキルメチレン基又は硫黄原子を示し、Ｒ¹⁸
及びＲ¹⁹ は各々独立して、置換基を有していてもよい
アルキル基、置換基を有していてもよいアルケニル基、
置換基を有していてもよいアルキニル基、又は置換基を
有していてもよいフェニル基を示し、Ｌ² は（１）置換
基として、色素分子中で共鳴して、オキソニウムカチオ
ンを生じるエーテル結合、又はスルホニウムカチオンを
生じるチオエーテル結合を有する置換基を少なくとも有
するトリ、ペンタ、ヘプタ、ノナ、又はウンデカメチン
基を示すか、又は（２）該ペンタ、ヘプタ、ノナ、又は
ウンデカメチン基上に少なくとも２つの置換基を有し、
該２つの置換基が、色素分子中で共鳴して、オキソニウ
ムカチオンを生じるエーテル結合、又はスルホニウムカ
チオンを生じるチオエーテル結合で結合されて環状構造
を形成する。該ペンタ、ヘプタ、ノナ、又はウンデカメ
チン基上の２つの置換基が互いに連結して炭素数５〜７
のシクロアルケン環、シクロアルケノン環、シクロアル
ケンジオン環、又はシクロアルケンチオン環を形成して
いてもよく、縮合ベンゼン環は置換基を有していてもよ
く、その場合、隣接する２つの置換基が互いに連結して
縮合ベンゼン環を形成していてもよい。Ｘ_a ^- は対アニ
オンを示す。〕 ここで、式(Ｖ)中のＲ¹⁸ 及びＲ¹⁹ がアルキル基である
ときの炭素数は、通常１〜１５、好ましくは１〜１０、
アルケニル基、アルキニル基であるときの炭素数は、通
常２〜１５、好ましくは２〜１０であり、フェニル基も
含めたそれらの置換基としては、炭素数が通常１〜１
５、好ましくは１〜１０のアルコキシ基、フェノキシ
基、ヒドロキシ基、又はフェニル基等が挙げられ、Ｌ²
における前記エーテル結合又はチオエーテル結合で置換
された置換基以外の置換基としては、同上炭素数のアル
キル基、アミノ基、又はハロゲン原子等が挙げられ、縮
合ベンゼン環における置換基としては、同上炭素数のア
ルキル基、同上炭素数のアルコキシ基、ニトロ基、又は
ハロゲン原子等が挙げられる。

【００４１】又、ピリリウム系、及びチアピリリウム系
色素としては、特に、下記一般式(VIa)、(VIb)、又は(V
Ic)で表されるものが好ましい。

【００４２】

【化９】

【００４３】〔式(VIa)、(VIb)、及び(VIc)中、Ｚ¹ 及
びＺ² は各々独立して、酸素原子又は硫黄原子を示し、
Ｒ²⁰ 、Ｒ²¹ 、Ｒ²² 、及びＲ²³ は各々独立して、水素
原子又はアルキル基、又は、Ｒ²⁰ とＲ²¹ 、及びＲ²²
とＲ²³ が互いに連結して炭素数５又は６のシクロアル
ケン環を形成していてもよく、Ｌ³ は（１）置換基とし
て、色素分子中で共鳴して、オキソニウムカチオンを生
じるエーテル結合、又はスルホニウムカチオンを生じる
チオエーテル結合を有する置換基を少なくとも有するモ
ノ、トリ、ペンタ、又はヘプタメチン基を示すか、又は
（２）該ペンタ、ヘプタ、ノナ、又はウンデカメチン基
上に少なくとも２つの置換基を有し、該２つの置換基
が、色素分子中で共鳴して、オキソニウムカチオンを生
じるエーテル結合、又はスルホニウムカチオンを生じる
チオエーテル結合で結合されて環状構造を形成する。該
トリ、ペンタ、又はヘプタメチン基上の２つの置換基が
互いに連結して炭素数５〜７のシクロアルケン環、シク
ロアルケノン環、シクロアルケンジオン環、又はシクロ
アルケンチオン環を形成していてもよく、ピリリウム環
及びチアピリリウム環は置換基を有していてもよく、そ
の場合、隣接する２つの置換基が互いに連結して縮合ベ
ンゼン環を形成していてもよい。Ｘ_a ^- は対アニオンを
示す。〕 ここで、式(VIa)、(VIb)、及び(VIc)中のＲ²⁰ 、
Ｒ²¹ 、Ｒ²² 、及びＲ²³ がアルキル基であるときの炭
素数は、通常１〜１５、好ましくは１〜１０であり、Ｌ
³ における前記エーテル結合又はチオエーテル結合で置
換された置換基以外の置換基としては、同上炭素数のア
ルキル基、アミノ基、又はハロゲン原子等が挙げられ、
ピリリウム環及びチアピリリウム環における置換基とし
ては、フェニル基等のアリール基等が挙げられる。

【００４４】又、ポリメチン系色素としては、特に、下
記一般式(VII)で表されるものが好ましい。

【００４５】

【化１０】

【００４６】〔式(VII)中、Ｒ²⁴ 、Ｒ²⁵、Ｒ²⁶、及びＲ
²⁷は各々独立して、アルキル基を示し、Ｒ²⁸及びＲ²⁹は
各々独立して、置換基を有していてもよいアリール基、
フリル基、又はチエニル基を示し、Ｌ⁴は（１）置換基
として、色素分子中で共鳴して、オキソニウムカチオン
を生じるエーテル結合、又はスルホニウムカチオンを生
じるチオエーテル結合で置換された置換基を少なくとも
有するモノ、トリ、ペンタ、又はヘプタメチン基を示す
か、又は（２）該ペンタ、ヘプタ、ノナ、又はウンデカ
メチン基上に少なくとも２つの置換基を有し、該２つの
置換基が、色素分子中で共鳴して、オキソニウムカチオ
ンを生じるエーテル結合、又はスルホニウムカチオンを
生じるチオエーテル結合で結合されて環状構造を形成す
る。該トリ、ペンタ、又はヘプタメチン基上の２つの置
換基が互いに連結して炭素数５〜７のシクロアルケン
環、シクロアルケノン環、シクロアルケンジオン環、又
はシクロアルケンチオン環を形成していてもよく、キノ
ン環及びベンゼン環は置換基を有していてもよい。Ｘ_a
^- は対アニオンを示す。〕 ここで、式(VII)中のＲ²⁴ 、Ｒ²⁵、Ｒ²⁶、及びＲ²⁷のア
ルキル基の炭素数は、通常１〜１５、好ましくは１〜１
０、Ｒ²⁸及びＲ²⁹がアリール基であるときの炭素数は、
通常６〜２０、好ましくは６〜１５であり、Ｒ²⁸及びＲ
²⁹として具体的には、フェニル基、１−ナフチル基、２
−ナフチル基、２−フリル基、３−フリル基、２−チエ
ニル基、３−チエニル基等が挙げられ、それらの置換基
としては、同上炭素数のアルキル基、同上炭素数のアル
コキシ基、ジアルキルアミノ基、ヒドロキシ基、又はハ
ロゲン原子等が挙げられ、Ｌ⁴ における前記エーテル結
合又はチオエーテル結合で置換された置換基以外の置換
基としては、同上炭素数のアルキル基、アミノ基、又は
ハロゲン原子等が挙げられ、キノン環及びベンゼン環に
おける置換基としては、同上炭素数のアルキル基、同上
炭素数のアルコキシ基、ニトロ基、又はハロゲン原子等
が挙げられる。

【００４７】尚、前記一般式(IVa 〜c)、(Ｖ)、(VIa 〜
c)、及び(VII)における対アニオンＸ_a ^- としては、具
体的には、例えば、Ｃｌ^- 、Ｂｒ^- 、Ｉ^- 、Ｃｌ
Ｏ₄ ^- 、ＰＦ₆ ^- 、ＳｂＦ₆ ^- 、ＡｓＦ₆ ^- 、及び、Ｂ
Ｆ₄ ^- 、ＢＣｌ₄ ^- 等の無機硼素酸等の無機酸アニオ
ン、並びに、ベンゼンスルホン酸、トルエンスルホン
酸、ナフタレンスルホン酸、酢酸、及び、メチル、エチ
ル、プロピル、ブチル、フェニル、メトキシフェニル、
ナフチル、フルオロフェニル、ジフルオロフェニル、ペ
ンタフルオロフェニル、チエニル、ピロリル等の有機基
を有する有機硼素酸等の有機酸アニオンを挙げることが
できる。

【００４８】また、本発明に用いられる増感色素は、分
子内塩を形成しているものでもよい。分子内塩を形成し
ている増感色素としては、例えば、下記式（VIII）で表
される化合物が挙げられる。

【００４９】

【化１１】

【００５０】（式（VIII）中、Ｙ¹、Ｙ²、Ｒ³⁰、Ｒ
³¹は、前記式（Ｖ）におけるものと同義である。また、
Ｌ⁴は、トリ−、ペンタ−、ヘプタ−、ノナ−、又はウ
ンデカメチンから選ばれるポリメチン基を示し、該ポリ
メチン基上に下記式（VIII−２）で表されるバルビツル
酸残基又はチオバルビツル酸残基を有する。）

【００５１】

【化１２】

【００５２】（式（VIII−２）中、Ｘは、酸素原子また
は硫黄原子を示す。また、Ｒ³²及びＲ³³は各々独立して
水素原子、置換基を有していても良いアルキル基、置換
基を有していても良いアルケニル基、置換基を有してい
ても良いアルコキシ基、又は置換基を有していても良い
フェニル基を示す。） 以上の前記一般式(IVa 〜c)で表されるキノリン系、前
記一般式(Ｖ)で表されるインドール系又はベンゾチアゾ
ール系、前記一般式(VIa 〜c)で表されるピリリウム系
又はチアピリリウム系等のシアニン系色素、及び前記一
般式(VII)で表されるポリメチン系色素の中で、本発明
においては、前記一般式(Ｖ)で表されるインドール系又
はベンゾチアゾール系色素が特に好ましい。

【００５３】又、前記各式におけるＬ¹ 、Ｌ² 、Ｌ³ 、
及びＬ⁴ を含めたポリメチン鎖として、波長域７００〜
８５０ｎｍに対してはヘプタメチン鎖であるものが、波
長域８５０〜９５０ｎｍに対してはノナメチン鎖である
ものが、波長域９５０〜１３００ｎｍに対してはウンデ
カメチン鎖であるものが、それぞれ好ましい。本発明の
光重合性組成物を構成する（Ｃ）成分の光重合開始剤
は、（Ｂ）成分の前記色素との共存下で光照射されたと
きに、活性ラジカルを発生するラジカル発生剤であっ
て、例えば、ハロゲン化炭化水素誘導体、特開昭６２−
１４３０４４号、特開昭６２−１５０２４２号、特開平
９−１８８６８５号、特開平９−１８８６８６号、特開
平９−１８８７１０号、特許第２７６４７６９号等の各
公報、及び、Kunz,Martin "Rad Tech'98.Proceeding Ap
ril 19-22,1998,Chicago" 等に記載される有機硼素酸
塩、特開昭５９−１５２３９６号、特開昭６１−１５１
１９７号各公報等に記載されるチタノセン化合物、特公
平６−２９２８５号公報等に記載されるヘキサアリール
ビイミダゾール化合物、及び、ジアリールヨードニウム
塩、有機過酸化物等が挙げられ、本発明においては、ハ
ロゲン化炭化水素誘導体、及び有機硼素酸塩が好まし
い。

【００５４】（バンディング抑制剤）尚、更に６５０ｎ
ｍ〜１３００ｎｍの光を吸収するバンディング抑制剤を
更に含有することが望ましい。ここでいうバンディング
抑制剤とは上記範囲に吸収域を有する化合物である。本
発明におけるバンディング抑制剤の機能は以下のように
推定している。

【００５５】赤外光にて画像形成可能な光重合性組成物
において、増感色素の量は、通常、該光重合性組成物が
最高感度を示す様に設定される。ここで、光重合性組成
物における最高感度を示す増感色素の量は、（Ａ）エチ
レン性単量体、（Ｃ）ラジカル発生剤、その他の光重合
性組成物に含まれる成分の量比を一定にし、増感色素の
量比のみ変更して感度を測定することによって求めるこ
とができる。

【００５６】増感色素は、通常光重合性組成物（光重合
性平版印刷版であれば、光重合性組成物層）にほぼ均等
に分布しており、該光重合性組成物が最高感度を示す増
感色素の量であると、照射された光が、ほぼ全て増感色
素によって吸収され最大の増感作用を表しているものと
考えられる。増感色素の量が少な過ぎると、照射した光
が、光重合性組成物層の最深部に到達するまでに増感色
素で吸収されきれず、効率が低下する。また、一方増感
色素が多すぎると、光重合性組成物層の表面部に存在す
る増感色素によって全ての照射光が吸収されてしまい、
光が光重合性組成物層の深部まで到達せず、そのため深
部での光重合が起こらず、かえって感度が低下する。

【００５７】そこで、増感色素の量は、通常、該光重合
性組成物が最高感度を示す様に設定される。しかしなが
ら、光重合性組成物の場合、感度が非常に高いため、レ
ーザーから出る漏れ光によっても感光するというという
問題を生じる場合がある。レーザーの漏れ光の原因は定
かではないが、レーザー光照射装置の端部から通常の光
強度の１０分の１程度の光が、本来レーザー光を照射し
ないという信号を受けているにも係わらず、印刷版面に
向かって照射される現象である。

【００５８】漏れ光は、通常の露光強度よりもかなり弱
いため、光重合性組成物中の光吸収剤で吸収することに
より、漏れ光による重合を防ぐことができる。ここで、
６５０〜１３００ｎｍの光を吸収する物質をバンディン
グ抑制剤と称するが、これは通常のレーザー光も吸収す
るため、光重合性組成物の感度はその分低下することと
なる。従って、バンディング抑制剤をあまり量が多すぎ
ると感度が低下しすぎて画像形成が困難となるため、そ
の添加量は、増感色素との合計として、通常、最高感度
の１１０％〜１０００％であり、好ましくは１１０％〜
５００％であり、更に好ましくは１１０％〜２５０％で
ある。

【００５９】この様に配合することにより、通常のレー
ザー露光による感度の低下を最小限に押さえると共に、
漏れ光による光重合を防ぐことができる。このようなバ
ンディング抑制剤は、６５０ｎｍ〜１３００ｎｍの範囲
の光を吸収することができる化合物、即ち、６５０ｎｍ
〜１３００ｎｍの範囲の一部または全部に吸収域を有す
る化合物で有ればいずれも使用できるが、吸収効率の観
点から、６５０〜１３００ｎｍに極大吸収を有する化合
物を含むことが好ましい。

【００６０】また、実際的な観点からは、露光波長の光
を吸収する化合物が良く、現状の画像形成材料用のレー
ザー露光装置が、８３０ｎｍ及び１０１６ｎｍであるの
で、これらのいずれかの波長を吸収するものが好まし
い。これらの両方に吸収域を有する化合物で有れば、い
ずれの露光波長用の画像形成材料にも使用できる。 （Ｃ）ラジカル発生剤の説明 ラジカル発生剤としては、前記エチレン性単量体の重合
を開始させうるものは全て使用できる。このうち、光励
起された増感色素（Ｂ）と何らかの作用を及ぼしあうこ
とにより活性ラジカルを生成するラジカル発生剤として
は、例えば、チタノセン類、ヘキサアリールビイミダゾ
ール類、ハロゲン化炭化水素誘導体、ジアリールヨオー
ドニウム塩、有機過酸化物等公知のラジカル発生剤を挙
げることができる。

【００６１】（可視光線又はバイオレットレーザー（４
０５ｎｍ近辺）に好適なラジカル発生剤）可視光線又は
バイオレットレーザーに好適なラジカル発生剤として
は、チタノセン類やヘキサアリールビイミダゾール類が
挙げられる。チタノセン類としては、種々のものを用い
ることができるが、例えば特開昭５９−１５２３９６
号、特開昭６１−１５１１９７号各公報に記載されてい
る各種チタノセン類から適宜選んで用いることができ
る。更に具体的には、ジ−シクロペンタジエニル−Ｔｉ
−ジ−クロライド、ジ−シクロペンタジエニル−Ｔｉ−
ビス−フェニル、ジ−シクロペンタジエニル−Ｔｉ−ビ
ス−２，３，４，５，６−ペンタフルオロフェニ−１−
イル、ジ−シクロペンタジエニル−Ｔｉ−ビス−２，
３，５，６−テトラフルオロフェニ−１−イル、ジ−シ
クロペンタジエニル−Ｔｉ−ビス−２，４，６−トリフ
ルオロフェニ−１−イル、ジシクロペンタジエニル−Ｔ
ｉ−２，６−ジ−フルオロフェニ−１−イル、ジ−シク
ロペンタジエニル−Ｔｉ−ビス−２，４−ジ−フルオロ
フェニ−１−イル、ジ−メチルシクロペンタジエニル−
Ｔｉ−ビス−２，３，４，５，６−テトラフルオロフェ
ニ−１−イル、ジ−メチルシクロペンタジエニル−Ｔｉ
−ビス−２，６−ジフルオロフェニ−１−イル、ジ−シ
クロペンタジエニル−Ｔｉ−ビス−２，６−ジフルオロ
−３−（ピル−１−イル）−フェニ−１−イル等を挙げ
ることができる。これらは、二種以上を併用して用いて
も良い。

【００６２】ヘキサアリールビイミダゾール類として
は、例えば、２，２’−ビス（ｏ−クロルフェニル）−
４，４’，５，５’−テトラ（ｐ−フルオロフェニル）
ビイミダゾール、２，２’−ビス（ｏ−ブロムフェニ
ル）−４，４’，５，５’−テトラ（ｐ−ヨードフェニ
ル）ビイミダゾール、２，２’−ビス（ｏ−クロルフェ
ニル）−４，４’，５，５’−テトラ（ｐ−クロルナフ
チル）ビイミダゾール、２，２’−ビス（ｏ−クロルフ
ェニル）−４，４’５，５’−テトラ（ｐ−クロルフェ
ニル）ビイミダゾール、２，２’−ビス（ｏ−ブロムフ
ェニル）−４，４’，５，５’−テトラ（ｐ−クロル−
ｐ−メトキシフェニル）ビイミダゾール、２，２’−ビ
ス（ｏ−クロルフェニル）−４，４’，５，５’−テト
ラ（ｏ，ｐ−ジクロルフェニル）ビイミダゾール、２，
２’−ビス（ｏ−クロルフェニル）−４，４’５，５’
−テトラ（ｏ，ｐ−ジブロムフェニル）ビイミダゾー
ル、２，２’−ビス（ｏ−ブロムフェニル）−４，４’
５，５’−テトラ（ｏ，ｐ−ジクロルフェニル）ビイミ
ダゾール、２，２’−ビス（ｏ，ｐ−ジクロルフェニ
ル）−４，４’５，５’−テトラ（ｏ，ｐ−ジクロルフ
ェニル）ビイミダゾール類等のベンゼン環上にハロゲン
置換基を有するヘキサアリールビイミダゾール類が好ま
しい。

【００６３】これらのヘキサアリールビイミダゾール類
は、必要に応じ、多種のビイミダゾールと併用して使用
することもできる。ビイミダゾール類は例えばＢｕｌ
ｌ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．Ｊａｐａｎ．３３，５６５（１
９６０）及びＪ．Ｏｒｇ．Ｃｈｅｍ．３６[ １６] ２２
６２（１９７１）に開示されている方法により容易に合
成することができる。

【００６４】（赤外レーザーに好適なラジカル発生剤）
赤外レーザーに好適なラジカル発生剤は、（Ｂ）成分の
前記色素との共存下で赤外レーザー光照射されたとき
に、活性ラジカルを発生するラジカル発生剤であって、
例えば、ハロゲン化炭化水素誘導体、特開昭６２−１４
３０４４号、特開昭６２−１５０２４２号、特開平９−
１８８６８５号、特開平９−１８８６８６号、特開平９
−１８８７１０号、特許第２７６４７６９号等の各公
報、及び、Kunz,Martin "Rad Tech'98.Proceeding Apri
l 19-22,1998,Chicago" 等に記載される有機硼素酸塩、
特開昭５９−１５２３９６号、特開昭６１−１５１１９
７号各公報等に記載されるチタノセン化合物、特公平６
−２９２８５号公報等に記載されるヘキサアリールビイ
ミダゾール化合物、及び、ジアリールヨードニウム塩、
有機過酸化物等が挙げられ、本発明においては、ハロゲ
ン化炭化水素誘導体、及び有機硼素酸塩が好ましい。

【００６５】ここで、ハロゲン化炭化水素誘導体として
は、好適には、少なくとも一つのモノ、ジ、又はトリハ
ロゲン置換メチル基がｓ−トリアジン環に結合したｓ−
トリアジン誘導体、具体的には、例えば、２，４，６−
トリス（モノクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２，
４，６−トリス（ジクロロメチル）−ｓ−トリアジン、
２，４，６−トリス（トリクロロメチル）−ｓ−トリア
ジン、２−メチル−４，６−ビス（トリクロロメチル）
−ｓ−トリアジン、２−ｎ−プロピル−４，６−ビス
（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−（α，
α，β−トリクロロエチル）−４，６−ビス（トリクロ
ロメチル）−ｓ−トリアジン、２−フェニル−−４，６
−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−
（３，４−エポキシフェニル）−４，６−ビス（トリク
ロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−（ｐ−クロロフェ
ニル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリ
アジン、２−〔１−（ｐ−メトキシフェニル）−２，４
−ブタジエニル〕−４，６−ビス（トリクロロメチル）
−ｓ−トリアジン、２−スチリル−４，６−ビス（トリ
クロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−（ｐ−メトキシ
スチリル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−
トリアジン、２−（ｐ−ｉ−プロピルオキシスチリル）
−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジ
ン、２−（ｐ−トリル）−４，６−ビス（トリクロロメ
チル）−ｓ−トリアジン、２−（４−メトキシナフチ
ル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリア
ジン、２−フェニルチオ−４，６−ビス（トリクロロメ
チル）−ｓ−トリアジン、２−ベンジルチオ−４，６−
ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２，４，
６−トリス（ジブロモメチル）−ｓ−トリアジン、２，
４，６−トリス（トリブロモメチル）−ｓ−トリアジ
ン、２−メチル−４，６−ビス（トリブロモメチル）−
ｓ−トリアジン、２−メトキシ−４，６−ビス（トリブ
ロモメチル）−ｓ−トリアジン等が挙げられ、中でも、
２−メチル−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−
トリアジン、２−フェニル−４，６−ビス（トリクロロ
メチル）−ｓ−トリアジン、２−（ｐ−メトキシフェニ
ル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリア
ジン、２−（３，４−エポキシフェニル）−４，６−ビ
ス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−〔１−
（ｐ−メトキシフェニル）−２，４−ブタジエニル〕−
４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、
２−（ｐ−メトキシスチリル）−４，６−ビス（トリク
ロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−（ｐ−ｉ−プロピ
ルオキシスチリル）−４，６−ビス（トリクロロメチ
ル）−ｓ−トリアジン等のビス（トリハロメチル）−ｓ
−トリアジン化合物が経時安定性に優れ好ましい。

【００６６】又、その他のハロゲン化炭化水素誘導体と
しては、例えば、特開昭５３−１３３４２８号公報、特
開昭６２−５８２４１号公報、独国特許第３３３７０２
４号明細書、M.P.Hutt,E.F.Flslager,L.M.Werbel "Jurn
al of Heterocyclic Chemistry" Vol.7,No.3(1970)等に
記載されるものが挙げられる。又、有機硼素酸塩として
は、特に、下記一般式(IX)で表されるものが好ましい。

【００６７】

【化１３】

【００６８】〔式(IX)中、Ｒ³⁴、Ｒ³⁵、Ｒ³⁶、及びＲ³⁷
は各々独立して、置換基を有していてもよいアルキル
基、置換基を有していてもよいアルケニル基、置換基を
有していてもよいアルキニル基、置換基を有していても
よいアリール基、又は複素環基を示し、これらは互いに
連結して環状構造を形成していてもよく、これらのうち
少なくとも一つは置換基を有していてもよいアルキル基
である。Ｘ_b ⁺ は対カチオンである。〕 ここで、式(IX)中のＲ³⁴、Ｒ³⁵、Ｒ³⁶、及びＲ³⁷がアル
キル基であるときの炭素数は通常１〜１５、好ましくは
１〜５、アルケニル基、アルキニル基であるときの炭素
数は通常２〜１５、好ましくは２〜５、アリール基であ
るときの炭素数は通常６〜２０、好ましくは６〜１５、
複素環基であるときの炭素数は通常４〜２０、好ましく
は４〜１５であり、それらにおける置換基としては、ハ
ロゲン原子、アルキル基、アルコキシ基、トリフルオロ
メチル基、トリメチルシリル基等が挙げられる。

【００６９】これらの式(IX)で表される有機硼素塩の有
機硼素アニオンとしては、具体的には、例えば、ｎ−ブ
チル−メチル−ジフェニル硼素アニオン、ｎ−ブチル−
トリフェニル硼素アニオン、ｎ−ブチル−トリス（２，
４，６−トリメチルフェニル）硼素アニオン、ｎ−ブチ
ル−トリス（ｐ−メトキシフェニル）硼素アニオン、ｎ
−ブチル−トリス（ｐ−フルオロフェニル）硼素アニオ
ン、ｎ−ブチル−トリス（ｍ−フルオロフェニル）硼素
アニオン、ｎ−ブチル−トリス（２，６−ジフルオロフ
ェニル）硼素アニオン、ｎ−ブチル−トリス（２，４，
６−トリフルオロフェニル）硼素アニオン、ｎ−ブチル
−トリス（２，３，４，５，６−ペンタフルオロフェニ
ル）硼素アニオン、ｎ−ブチル−トリス（ｐ−クロロフ
ェニル）硼素アニオン、ｎ−ブチル−トリス（トリフル
オロフェニル）硼素アニオン、ｎ−ブチル−トリス
（２，６−ジフルオロ−３−ピロリルフェニル）−硼素
アニオン、ｎ−ブチル−トリス（３−フルオロ−４−メ
チルフェニル）−硼素アニオン等が挙げられる。

【００７０】又、対カチオンＸ_b ⁺ としては、例えば、
アルカリ金属カチオン、アンモニウムカチオン、ホスホ
ニウムカチオン、スルホニウムカチオン、ヨードニウム
カチオン等のオニウム化合物、及び、ピリリウムカチオ
ン、チアピリリウムカチオン、インドリウムカチオン等
を挙げることができるが、テトラアルキルアンモニウム
等の有機アンモニウムカチオンが好ましい。

【００７１】上記の（Ｃ）成分の中では、ビス（トリハ
ロメチル）−ｓ−トリアジン化合物、又は有機硼素酸塩
を使用する場合、特に高感度で好ましい。本発明におい
て、前記（Ｂ）成分の色素と前記（Ｃ）成分の光重合開
始剤としての有機硼素酸塩を光重合性組成物中に存在さ
せるには、前記色素の色素カチオンと適宜選択した対ア
ニオンとの塩と、前記有機硼素酸塩の有機硼素アニオン
と適宜選択した対カチオンとの塩とを配合する通常の方
法の他、前記色素の色素カチオンと前記有機硼素酸塩の
有機硼素アニオンとで形成された塩を配合する方法も採
ることができ、本発明においては、この後者方法が好適
である。

【００７２】（Ｄ）高分子結合材の説明 次に、本発明の高分子結合材（Ｄ）について説明する。
具体例としては、例えば、（メタ）アクリル酸、（メ
タ）アクリル酸エステル、（メタ）アクリルアミド、マ
レイン酸、（メタ）アクリロニトリル、スチレン、酢酸
ビニル、塩化ビニリデン、マレイミド等の単独もしくは
共重合体、その他、ポリエチレンオキサイド、ポリビニ
ルピロリドン、ポリアミド、ポリウレタン、ポリエステ
ル、ポリエーテル、ポリエチレンテレフタレート、アセ
チルセルロース、又はポリビニルブチラール等が挙げら
れる。高分子結合材（Ｄ）としては、アルカリ性現像液
に対する溶解性の点で分子内にカルボキシル基を有する
高分子結合材が好ましく、中でも（メタ）アクリル酸エ
ステルの少なくとも一種と（メタ）アクリル酸を共重合
成分として含有する共重合体が好ましい。（メタ）アク
リル酸エステルのエステルを構成する基としては、特に
限定されないが、Ｃ₁ 〜Ｃ₁₆程度の脂肪族又は芳香族炭
化水素基が一般的である。分子内にカルボキシル基を有
する高分子結合材の好ましい酸価の値は１０〜２５０で
あり、好ましい重量平均分子量（以下Ｍｗと略す）は５
千から１００万である。これらの高分子結合材は、側鎖
に不飽和結合を有する事が望ましく、特に下記一般式
（Ｘ−１）〜（Ｘ−３）で示される少なくとも一種の不
飽和結合を有する事が好ましい。

【００７３】

【化１４】

【００７４】（式中、Ｒ³⁸は水素原子又はメチル基を示
す。また、Ｒ³⁹〜Ｒ⁴³は各々独立して水素原子、ハロゲ
ン原子、アミノ基、ジアルキルアミノ基、カルボキシル
基、アルコキシカルボニル基、スルホ基、ニトロ基、シ
アノ基、置換基を有していてもよいアルキル基、置換基
を有していてもよいアリール基、置換基を有していても
よいアルコキシ基、置換基を有していてもよいアリール
オキシ基、置換基を有していてもよいアルキルアミノ
基、置換基を有していてもよいアリールアミノ基、置換
基を有していてもよいアルキルスルホニル基、又は置換
基を有していてもよいアリールスルホニル基を有し、Ｚ
は酸素原子、硫黄原子、イミノ基、又はアルキルイミノ
基を示す。） このような高分子結合材の合成法としては、大別して下
記の２手法がある。

【００７５】（合成法１）分子内にカルボキシル基を有
する高分子結合材の不活性有機溶剤溶液（例えばアルコ
ール系、エステル系、芳香族炭化水素系、脂肪族炭化水
素系等が挙げられる。）とエポキシ基含有不飽和化合物
とを約８０〜１２０℃、約１〜５０時間の反応条件で反
応させることにより合成する方法。エポキシ基含有不飽
和化合物と反応させるカルボキシル基の割合は本発明の
効果を達成しうる範囲であれば特に限定されないが、全
カルボキシル基に対して５〜９０ｍｏｌ％を反応させる
のが好ましく、より好ましくは２０〜８０モル％、更に
好ましくは３０〜７０モル％である。上記範囲であると
現像性が良好であると共に接着性が良好である。

【００７６】側鎖に不飽和基を有するエチレン性高分子
結合材の製造に用いるエポキシ基含有不飽和化合物は、
一分子中に少なくとも一つの付加重合可能な不飽和結合
と、エポキシ基とを有する化合物である。エポキシ基含
有不飽和化合物としては、グリシジル（メタ）アクリレ
ート、アリルグリシジルエーテル、α−エチルグリシジ
ルアクリレート、クロトニルグリシジルエーテル、グリ
シジルクロトネート、グリシジルイソクロトネート、イ
タコン酸モノアルキルエステルモノグリシジルエステ
ル、フマール酸モノアルキルエステルモノグリシジルエ
ステル、マレイン酸モノアルキルエステルモノグリシジ
ルエステル等の脂肪族エポキシ基含有不飽和化合物及び
下記一般式（Ｘ−４）〜（Ｘ−１７）で示される脂環式
エポキシ基含有不飽和化合物が挙げられる。

【００７７】

【化１５】

【００７８】

【化１６】

【００７９】（各一般式中、Ｒ⁴⁴は水素原子又はメチル
基を示す。Ｒ⁴⁵は炭素数１〜６の２価の脂肪族飽和炭化
水素基を示す。Ｒ⁴⁶は炭素数１〜１０の２価の炭化水素
基を示す。ｋは０〜１０の整数を示す。） 上記エポキシ基含有不飽和化合物の好ましい具体例とし
ては、グリシジルメタアクリレート、アリルグリシジル
エーテル、３，４−エポキシシクロヘキシルメチルアク
リレート等が挙げられる。これらの中で特に好ましい化
合物は、アリルグリシジルエーテル、３，４−エポキシ
シクロヘキシルメチルアクリレートである。

【００８０】（合成法２）前記一般式（Ｘ−２）及び
（Ｘ−３）で示されるような、反応性の低い不飽和結合
を１種類以上とこれらより反応性に富む不飽和結合１種
類の合計２種以上の不飽和結合を有する化合物と不飽和
カルボン酸とを共重合させて合成する方法。一般式（Ｘ
−２）で示される不飽和基を有する化合物の具体例とし
ては、アリル（メタ）アクリレート、３−アリルオキシ
−２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、Ｎ，
Ｎ−ジアリル（メタ）アクリルアミド、シンナミル（メ
タ）アクリレート、クロトニル（メタ）アクリレート、
メタリル（メタ）アクリレート等が挙げられる。

【００８１】一般式（Ｘ−３）で示される不飽和基を有
する化合物の具体例としては、ビニル（メタ）アクリレ
ート、ビニルクロトネート、１−プロペニル（メタ）ア
クリレート、１−クロロビニル（メタ）アクリレート、
２−フェニルビニル（メタ）アクリレート、ビニル（メ
タ）アクリルアミド等が挙げられる。これら（Ｘ−
２）、（Ｘ−３）の構造を有する化合物の中で好ましい
化合物としては、アリル（メタ）アクリレート、ビニル
（メタ）アクリレートが挙げられる。これらのモノマー
を不飽和カルボン酸、好ましくはアクリル酸又はメタク
リル酸と共重合させることにより該不飽和基を有する共
重合体を得る。共重合するモノマーは不飽和カルボン酸
に加えて他のモノマーが共重合されてもよく、例えばア
クリル酸アルキル、メタクリル酸アルキル、アクリロニ
トリル、スチレン等が挙げられる。共重合させる（Ｘ−
２）、（Ｘ−３）の構造を有する化合物の、ポリマー全
体の成分に占める割合は１０〜９０ｍｏｌ％、更に好ま
しくは、３０〜８０ｍｏｌ％である。この範囲より少な
いと画像再現性に劣り、多くなると現像性が悪くなる。

【００８２】（組成物中の各成分の使用比率）以上、本
発明に用いられる光重合組成物の主要構成成分について
詳述してきたが、それらの好適な使用比率は、（Ａ）エ
チレン性単量体１００重量部に対して（Ｂ）増感色素
が、好ましくは０．０１〜２０重量部、特に好ましいの
は０．０５〜１０重量部、（Ｃ）ラジカル活性剤が好ま
しくは０．１〜８０重量部、特に好ましいのは０．５〜
６０重量部、また（Ｄ）高分子結合材が好ましくは１０
〜４００重量部、特に好ましくは２０〜２００重量部の
範囲である。

【００８３】（その他の添加剤）本発明の光重合性組成
物は前記の各必須成分の他に、その目的に応じて更に他
の物質を含有することができる。例えば、ハイドロキノ
ン、ｐ−メトキシフェノール、２，６−ジ−ｔ−ブチル
−ｐ−クレゾール等の熱重合防止剤；有機又は無機の染
顔料からなる着色剤；ジオクチルフタレート、ジドデシ
ルフタレート、トリクレジルホスフェート等の可塑剤、
三級アミンやチオールのような感度特性改善剤、その他
色素前駆体等の添加剤も加えることができる。

【００８４】また、本発明の光重合性組成物は、塗布性
改良剤として界面活性剤を含有することが出来る。その
中でも特に好ましいのはフッ素系界面活性剤である。以
上述べた添加剤の好ましい添加量は、（Ａ）エチレン性
化合物１００重量部に対して熱重合防止剤２重量部以
下、着色剤２０重量部以下、可塑剤４０重量部以下、色
素前駆体３０重量部以下、界面活性剤１０重量部以下の
範囲である。

【００８５】以上述べた光重合性組成物は、適当な溶媒
で希釈して、支持体上に塗布・乾燥し感光層を形成する
ことにより画像形成材料を得る。溶媒としては特に限定
されないが、例えばメチルセロソルブ、エチルセロソル
ブ、メチルセロソルブアセテート、アセトン、メチルエ
チルケトン、メタノール、ジメチルホルムアミド、ジメ
チルスルホキシド、プロピレングリコールモノメチルエ
ーテル、プルピレングリコールモノエチルエーテル、プ
ロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、乳
酸メチル、乳酸エチル、シクロヘキサノン、ジアセトン
アルコール、４−ヒドロキシー２−ブタノン、メチルジ
グリコール、水又はこれらの混合物などが用いられる。

【００８６】（支持体の説明）本発明において支持体と
しては各種金属が採用できるが、アルミニウム板（アル
ミニウム合金板も含む）が特に好ましく、その厚さは通
常０．０１〜１０ｍｍ程度、好ましくは０．０５〜１ｍ
ｍ程度である。この支持体は、表面を粗面化処理した
後、デスマット処理を施し、更に陽極酸化処理を実施す
る。この他必要に応じて脱脂処理、封孔処理、下引き処
理などを施しても良い。通常粗面化処理の前に脱脂処理
が行われるが、脱脂処理は、溶剤を用いてふき取り、浸
積または蒸気洗浄する方法、アルカリ水溶液を用いて浸
積、又は噴霧した後酸水溶液で中和する方法、界面活性
剤を用いて浸積、又は噴霧する方法などの常法に従って
なされる。

【００８７】粗面化処理（砂目立て処理）は、ボール研
磨法、ブラシ研磨法、ブラスト研磨法、ホーニング研磨
法、バフ研磨法などの機械的処理方法、あるいは、電解
エッチング法、化学エッチング法等の常法により、ＪＩ
Ｓ Ｂ０６０１に規定される平均粗さＲａが０．１〜
１．５μｍ程度、好ましくは０．２〜１．０μｍ程度と
なるようになされる。この中でも特に塩酸や硝酸による
電解エッチングが好ましい。

【００８８】又デスマット処理は、硫酸、硝酸、塩酸、
燐酸、クロム酸等の酸、又は水酸化ナトリウム、水酸化
カリウム、メタ珪酸ナトリウム、燐酸ナトリウム、ピロ
燐酸ナトリウム、燐酸カリウム、アルミン酸ナトリウム
等のアルカリの水溶液を用いて浸積、又は噴霧する等の
常法に従ってなされる。尚特に限定されないがデスマッ
ト処理の程度として、粗面化処理工程直後の反射濃度を
Ａ、陽極酸化処理工程後の反射濃度をＢとした場合、Ａ
−Ｂ≦０．１とすることが望ましい。このデスマット処
理は、粗面化処理によって生じた支持体表面のスマット
を取り除くために行われるものであるが、実はこのスマ
ットは支持体と感光層との接着性に大きく関わってい
る。

【００８９】反射濃度の測定は、反射濃度計を用い、フ
ィルターを使用しないビジュアルモードにて実施され
る。本発明の条件となるデスマット処理は、用いるアル
カリ水溶液や、粗面化処理の状態にもよるが、例えば濃
度０．１〜４重量％で液温５〜３０℃程度のNaOH水溶液
に１〜１０秒程度浸積するなどの条件が挙げられる。こ
うして得られたアルミニウム板は、通常、陽極酸化処理
されるが、特に好ましくは、硫酸を含む電解液で処理す
る方法が挙げられる。硫酸を含む電解液で陽極酸化する
方法は、従来公知の方法、例えば特開昭５８−２１３８
９４号公報に記載の方法等に準じて行われる。具体的に
は、例えば硫酸５〜５０重量％、好ましくは１５〜３０
％が用いられ、温度は５〜５０℃程度、好ましくは１５
〜３５℃であり、電流密度１〜６０Ａ／ｄｍ² で５秒〜
６０秒間程度で行なわれる。これにより形成される酸化
被膜量は、１〜１００ｍｇ／ｄｍ²、特に１０〜５０mg/
dm²であるのが好ましい。

【００９０】また、更に必要に応じて珪酸ソーダ処理等
の珪酸アルカリや熱水による処理、その他カチオン性４
級アンモニウム基を有する樹脂やポリビニルホスホン酸
やカルボキシメチルセルロース等の水性高分子化合物を
含有する水溶液への浸漬等による表面処理を行うことが
できる。感光性組成物の塗布方法としては、ディップコ
ート、コーティングロッド、スピナーコート、スプレー
コート、ロールコート等の周知の方法により塗布するこ
とが可能である。膜厚は特に限定されないが０．１〜１
０ｇ／ｍ² 、より好ましくは０．５〜５ｇ／ｍ² が好ま
しい。

【００９１】本発明において前述の光重合性感光層上
に、酸素の重合禁止作用を防止するために酸素遮断層を
設けるのが望ましい。 （酸素遮断層）酸素遮断層の具体例としては、ポリビニ
ルアルコール、ポリビニルピロリドン、ポリエチレンオ
キサイド、セルロース等の水溶性高分子が挙げられる。
この内、特に酸素ガスバリア性の高いポリビニルアルコ
ールを含むものが好ましい。

【００９２】ポリビニルアルコールは、ポリ酢酸ビニル
をアルカリ、酸、アンモニア水等で鹸化することにより
得ることが出来る。本発明におけるポリビニルアルコー
ルの重量平均分子量は０．２万〜５０万が好ましく、よ
り好ましくは０．４万〜１０万である。好ましくは鹸化
度が７０mol%〜１００mol%、更に好ましくは鹸化度が８
０mol%〜１００mol%のものが望ましい。鹸化度が上記範
囲より小さい場合、水あるいはアルカリ水への溶解性が
劣り除去性が悪くなる傾向にあり、また上記範囲より大
きい場合、効果が充分に得られない怖れがある。具体的
には、例えばＮＫ−０５、ＫＰ−０６，ＫＰ−０８，Ｋ
Ｌ−０５，ＫＭ−１１，ＫＨ−１７、ＫＨ−２０、ＧＬ
−０３，ＧＬ−０５，ＧＭ−１４，ＧＨ−１７，ＧＨ−
２０、ＧＨ−２３，ＡＬ−０６、ＡＨ−１７、ＡＨ−２
６，ＮＬ−０５，ＮＭ−１１，ＮＭ−１４、Ｎ−３０
０，ＮＨ−２０、ＮＨ−２６（いずれも日本合成化学工
業株式会社製）等が挙げられる。また、重量平均分子
量、鹸化度が上記範囲内であり、水あるいはメタノー
ル、エタノール、プロパノール、イソノニルアルコール
等のアルコール、テトラヒドロフラン等の水混和性有機
溶剤と水との混合物に可溶なポリビニルアルコールの誘
導体も使用することが出来る。この様な誘導体の例とし
ては、例えばポリビニルアルコールを部分的にアセター
ル化したもの、４級アンモニウム塩によりカチオン変性
した変成ポリビニルアルコール、或いはスルホン酸ソー
ダ等によりアニオン変成したもの等が挙げられる。具体
例としては、Ｔ−３３０Ｈ、Ｔ−３３０ＳＴ，Ｔ−３５
０，Ｔ−２３０，Ｔ−２１５、Ｋ−２１０，Ｚ−２０
０，Ｚ−２００Ｈ，Ｚ−２１０，Ｚ−１００、Ｆ−７８
（いずれも日本合成化学工業株式会社製）等が挙げられ
る。ポリビニルアルコールの酸素遮断層中にしめる重量
比は特に限定されないが、１０ｗｔ％〜１００ｗｔ％で
あることが望ましく、好ましくは２０ｗｔ％〜９５ｗｔ
％であることが望ましい。

【００９３】その他光重合性感光層と酸素遮断層の接着
を強固にするためにピロリドン化合物、アクリル系エマ
ルジョン、ジイソシアネート化合物、ｐ−トルエンスル
ホン酸、ヒドロキシ酢酸等様々な添加物や方法を採って
良い。中でも、ビニルピロリドンをその構成単位として
含有する化合物は特に有用である。例えば、ポリビニル
ピロリドンやビニルピロリドン／酢酸ビニルの共重合体
などが挙げられる。例えば、ポリビニルピロリドンやビ
ニルピロリドンと酢酸ビニルの共重合体等がその例とし
てあげられる。酸素遮断層中のビニルピロリドン単位構
造の総量の全酸素遮断層中に占める重量比は特に限定さ
れないが、５ｗｔ％〜７０ｗｔ％であることが望まし
く、好ましくは１０ｗｔ％〜６５ｗｔ％、更に好ましく
は１５ｗｔ％〜６０ｗｔ％であることが望ましい。その
他酸素遮断層には、保存性改良のためにコハク酸などの
有機酸やＥＤＴＡ等の有機酸塩等も添加しても良い。

【００９４】酸素遮断層には前記以外にもそれの使用目
的に応じて更に他の物質を添加混合することが出来る。
例えば、ポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテル
等のノニオン性界面活性剤、ドデシルベンゼンスルホン
酸ナトリウム等のアニオン性界面活性剤、その他消泡
材、色素、可塑剤、ｐＨ調整剤等が挙げられる。以上述
べた各種添加剤の好ましい含有量は、酸素遮断層中の１
０重量％以下、より好ましくは５重量％以下である。

【００９５】本発明の酸素遮断層の乾燥重量は特に限定
されないが１ｇ／ｍ² 以上１０ｇ／ｍ² 以下が好まし
い。より好ましくは１．５〜７ｇ／ｍ² である。１ｇ／
ｍ² 未満では光重合性感光材料の感度が低くなる傾向が
あり、一方１０ｇ／ｍ２を越えると現像性が悪くなる傾
向がある。酸素遮断層の塗布方法としては、水又はこれ
と水混和性有機溶剤との混合溶媒に溶解して感光層上に
塗布乾燥して設けられる。塗布方法は、ディップコー
ト、コーティングロッド、スピナーコート、スプレーコ
ート、ロールコート、ダイコート等の周知の方法により
塗布することが可能である。

【００９６】酸素遮断層を設けた後は、使用前まで外か
ら余分な湿気が侵入するのを妨げる包装形態で保管され
るのが望ましい。具体的には、防湿紙などがあげられ
る。また包装内部に湿気を除去する塩化カルシウムなど
の乾燥剤を含んでいても良い。 （レーザー露光）本発明の画像形成方法に適用し得るレ
ーザー露光光源としては、特に限定されないが例えば、
４０５nmを発振するVioletレーザー、４８８nmを発振す
るＡｒレーザー、５３２ｎｍのFD-YAGレーザー、８３０
ｎｍの赤外半導体レーザー 更には１０１６ｎｍを発振
するＹＡＧレーザーなどがその好適な例として挙げられ
る。

【００９７】（現像工程）本発明の画像形成方法は、か
かるレーザー露光機にて感光性平版印刷版の画像様露光
を行った後、界面活性剤とアルカリ剤を含有する水溶液
および、又は有機溶剤を用いて現像すれば支持体上に画
像を形成することができる。現像液には、更に有機溶
剤、緩衝剤、染料または顔料を含有することができる。
適当なアルカリ剤としては、珪酸ナトリウム、珪酸カリ
ウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化リチ
ウム、第三リン酸ナトリウム、第二リン酸ナトリウム、
炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、重炭酸ナトリウム等の
無機アルカリ剤、及びトリメチルアミン、ジエチルアミ
ン、イソプロピルアミン、ｎ−ブチルアミン、モノエタ
ノールアミン、ジエタノールアミン、トリエタノールア
ミン類などの有機アミン化合物などが挙げられ、これら
は単独もしくは組み合わせて使用できる。

【００９８】界面活性剤としては、例えば、ポリオキシ
エチレンアルキルエーテル類、ポリオキシエチレンアル
キルアリールエーテル類、ポリオキシエチレンアルキル
エステル類、ソルビタンアルキルエステル類、モノグリ
セリドアルキルエステル類等のノニオン系界面活性剤；
アルキルベンゼンスルホン酸塩類、アルキルナフタレン
スルホン酸塩類、アルキル硫酸塩類、アルキルスルホン
酸塩類、スルホコハク酸エステル塩類等のアニオン界面
活性像液のｐＨは通常９〜１４である。また、有機溶剤
としては例えば、イソプロピルアルコー剤；アルキルベ
タイン類、アミノ酸類等の両性界面活性剤が使用可能で
ある。アルカリ現ル、ベンジルアルコール、エチルセロ
ソルブ、ブチルセロソルブ、フェニルセロソルブ、プロ
ピレングリコール、ジアセトンアルコール等を必要によ
り含有させることが可能である。

【００９９】現像方法としては特に限定されないが、現
像液に浸積揺動する方法や物理的にブラシなどで現像液
で溶解しかかった非画像部を除去する方法や、現像液を
スプレー状に吹き付けて非画線部を除く方法などが挙げ
られる。現像時間は、上記現像方法に応じて未露光部が
十分に除去できる時間を選定すればよく５秒〜１０分の
範囲から適宜選ばれる。

【０１００】尚、上記現像処理の前に、加熱処理を行う
ことや、また酸素遮断層を有する場合には水洗処理等で
であらかじめ現像前に酸素遮断層を除去することも好適
に行える。長い期間を通じて同じ現像性能を保持するた
めに、現像液とは別に現像補充液を別途用いるのが一般
的である。現像補充液には、基本的に現像液と同じく適
当なアルカリ剤や界面活性剤を、必要に応じて現像液比
少ないかもしくは同じ、またはそれ以上に含有していて
も良い。現像補充液に含まれるアルカリ剤や界面活性剤
などの量は特に限定されないが、現像液に含まれている
量に対して、０．１倍〜５０倍の範囲内であるのが一般
的である。好ましくは０．５倍〜３０倍である。

【０１０１】また、現像液も現像補充液も輸送の簡便化
の意味から、実使用時の数倍に濃縮しても良い。濃縮の
割合は通常１．１倍〜５０倍、より好ましくは２倍から
３０倍である。 （乾燥工程）本発明は、上記現像処理の後に、水洗で現
像液を洗い流してから印刷版を乾燥した後に、ガム液を
塗布することを特徴としている。つまり、ガム液塗設工
程の前に印刷版の表面を乾燥することがその特色であ
る。

【０１０２】この点が、従来法、即ち、現像処理後の水
洗に引き続いて、平版印刷版の表面が濡れた状態のまま
ガム液を塗布していた工程とは異なる。本発明の方法に
よれば、印刷時の耐刷性能、特に印刷初期の耐刷性能が
大幅に向上する。水洗後の乾燥処理方法としては、特に
限定されないが、例えば水洗後にある程度水をローラー
で絞った後に、風を吹きかける方法で版面から水を完全
に飛ばす方法、ヒーターなどを用いて版面から水を除去
する方法、ドライヤーなどで熱と共に風を吹きかけるこ
とによって版面から水を除去する方法、熱ローラーを用
いて水を絞りつつ蒸発させる方法、水洗後風乾する方
法、または上記手段の組合せなどが挙げられる。特に好
ましいのはドライヤーを用いる方法であり、例えば１０
℃〜２００℃、好ましくは２０〜１００℃程度の風を版
面に１〜６０秒程度あてて乾燥させる方法である。乾燥
は印刷版の表面から目視で水分が観測されない程度まで
行うのがよい。例えば、パルプ紙を刷の表面に押しあて
ても紙の表面に水分が移らない程度であればよい。

【０１０３】何故、このような乾燥処理を行うと画像強
度が増大し印刷に有利であるのかは定かではないが、従
来法では現像処理で膨潤したままの状態の画像にガム液
が塗設されたために、ガム液が画像部に浸透してダメー
ジを強く与えていたことが考えられる。ガム自体は、印
刷初期時に画像表面から剥離されるが、従来法ではこの
際にガムと共に膨潤して弱くなった画像も一緒に剥がれ
てしまうことが想像される。一方、乾燥処理してからガ
ム液を塗設すれば、既に画像部の膨潤は収まっているた
めにガム液が画像に浸透する割合が大幅に抑制され、そ
のために特に印刷初期時における画像の剥離が抑制され
るのではないかと考えている。

【０１０４】乾燥処理後は、速やかにガム液を塗布する
ことが好ましく、通常乾燥後１時間以内、好ましくは３
０分以内にガム液を塗布するのがよい。ガム液として
は、ＤＩＡＭＯＮＤ ＰＬＡＴＥ ＰＬＵＳ−ＦＩＮＩ
ＳＨＥＲ（Ｗｅｓｔｅｒｎ Ｌｉｔｈｏｔｅｃ社）やＧ
Ｗ−３（三菱化学社製）が使用できる。尚、本発明のガ
ム液塗設前の乾燥工程は、現像・水洗後であり、かつ印
刷前に行うのが必須条件である。一度印刷にかけてしま
えば、すでに画像は印刷時の衝撃によってダメージを受
けてしまっており、本発明の工程の効果である印刷時
の、特に印刷初期時のダメージを軽減するという目的を
全く果たさなくなってしまう。この意味で、印刷後の感
光性平版印刷版の再利用・保護を目的とした再ガム液塗
布とは、その方法も効果も全く異なる。

【０１０５】（後処理関連）本発明は、上記現像処理後
に全面露光を行なうことによって更にその画像強度を増
進させることも出来る。全面後露光の光源としては特に
限定されはしないが例えば、カーボンアーク、高圧水銀
灯、超高圧水銀灯、低圧水銀灯、ＤｅｅｐＵＶランプ、
キセノンランプ、メタルハライドランプ、蛍光ランプ、
タングステンランプ、ハロゲンランプ、エキシマーＵＶ
ランプなどが挙げられる。これらの光源から発せられる
光はフィルターなどによって波長制限して用いる場合も
あり得る。好ましくは、後露光の光源が半値幅３０ｎｍ
以下の輝線を有することが望ましい。

【０１０６】好ましい光源の具体例としては、エキシマ
ーＵＶランプや水銀灯やメタルハライドランプが好まし
く、特に好ましくはエキシマーＵＶランプや高圧水銀
灯、低圧水銀灯が挙げられる。特に限定されないが、全
面露光時の版面到達露光強度（単位時間当たりの露光
量）が５ｍＷ／ｃｍ²以上である場合が好ましい。光強
度が５ｍＷ／ｃｍ²より低いと、たとえ総露光量が同一
であったとしても、かかる効果が不十分となる場合があ
る。後露光時の版面到達露光強度を５ｍＷ／ｃｍ²以上
にする方法は特に限定されないが、一つには露光光源の
ランプ出力（Ｗ）を上げる方法がある。例えば、単純に
ランプ出力を大きくする方法や、棒状タイプのランプの
場合は単位長さ辺りの出力（Ｗ／ｃｍ）を大きくする方
法がある。

【０１０７】もう一つには例えば、単純に露光光源を画
像形成材料に接近させる方法がある。この方法で有れば
露光光源のランプ出力が比較的弱い場合でも、容易に画
像形成材料に届く光強度を上げることが可能になる。特
に限定されないが、好ましい光強度は５ｍＷ／ｃｍ²〜
１Ｗ／ｃｍ²以下、より好ましくは１０ｍＷ／ｃｍ²〜５
００ｍＷ／ｃｍ²である。

【０１０８】また、各種光源の点灯方式としては例えば
通常の定常光ランプ、フラッシュ照射タイプ、瞬時点灯
タイプなどが挙げられる。後露光の波長としては２００
〜１１００ｎｍの波長の光が使用できる。後露光の方法
としては、画像を停止させた状態で行っても、画像を処
理方向に連続的に搬送している状態で行ったも良い。ま
た、その露光量は特に限定されるものではなく、大きい
ほど効果が期待できるが、画像形成工程の合理化という
意味から１０ｍＪ／ｃｍ² 以上、好ましくは５０ｍＪ／
ｃｍ² 以上、１０Ｊ／ｃｍ ² 以下、好ましくは８Ｊ／ｃ
ｍ² 以下が望ましい。

【０１０９】後露光時の画像形成材料の温度が４０℃〜
３００℃に加熱もしくは保持することは、他に不都合が
生じない限り、画像の強度を向上させる点で特に有効で
ある。その条件や方法は特に限定されないが、ホットプ
レートやドライヤーなどの温風、セラミックヒーターや
強力な光源等の輻射熱等が挙げられる。特に好ましく
は、後露光に利用する光源の輻射熱を利用することが簡
便で好ましい。尚、高温になりすぎると支持体が変形す
るなどの不具合が生じるので適当な温度範囲に収まるよ
うに、冷却装置やＩＲ輻射熱を低減するコールドミラー
やＩＲカットフィルターを適宜使用することも望まし
い。

【０１１０】また本発明は、上記現像処理後に全面後加
熱処理を行なうことによって更にその画像強度を増進さ
せることも出来る。加熱の方法としては、特に限定され
ないがＩＲセラミックヒーターの放射熱による方法、オ
ーブンによる方法、ホットプレートによる方法、加熱ロ
ーラーによる方法などが挙げられる。また先に挙げた後
露光光源からの輻射熱の利用も同様に挙げられる。

【０１１１】後加熱は、版を停止させた状態で行って
も、版を処理方向に連続的に搬送している状態で行って
も良い。加熱の温度は、好ましくは版面で８０℃〜３０
０℃程度、特に好ましくは１００℃〜２５０℃程度が好
ましい。加熱時間も特に限定はされないが、１秒〜１５
分程度特に好ましくは１秒〜１０分程度が挙げられる。
更に場合によっては必要に応じて、本願発明に記載の処
理方法に加えてレーザー露光直後、（現像前）に加熱工
程を加えることも、場合によって画像の強度を向上させ
る点で有効である。この場合もその条件や方法は特に限
定されないが画像形成材料を５０〜３００℃でホットプ
レートやドライヤーなどの温風、セラミックヒーターや
強力な光源等のの輻射熱等が挙げられる。加熱時には、
画像を停止させた状態でも画像を処理方向に連続して搬
送している状態で行っても良い。

【０１１２】

【実施例】以下、本発明を実施例及び比較例により更に
具体的に説明するが、本発明はこれら実施例により限定
されるものではない。 ＜支持体の作成＞アルミニウム板（厚さ０．２４ｍｍ）
を３重量％水酸化ナトリウム水溶液で脱脂した後、１
８．０ｇ／リットル硝酸浴中で、２５℃、９０Ａ／ｄｍ
² の電流密度で１１秒間、電解エッチングした。次いで
３０℃の４．５重量％水酸化ナトリウム水溶液で２秒間
デスマット処理した後、２５℃の１０重量％硝酸水溶液
で５秒間中和し、水洗後、３０重量％硫酸浴中で、３０
℃、１０Ａ／ｄｍ² の電流密度で１６秒間、陽極酸化処
理し、水洗、乾燥して支持体−１を得た。

【０１１３】＜高分子結合材の合成＞メチルメタクリレ
ート／メタアクリル酸＝８０／２０ｍｏｌ％（仕込み
比）の共重合体、Ｍｗ＝５万（以下「結合材−１」と略
す。）を３８．９重量部、下記脂環式エポキシ含有不飽
和化合物７．２８重量部、

【０１１４】

【化１７】

【０１１５】ｐ−メトキシフェノール０．０４４重量
部、テトラブチルアンモニウムクロライド０．１７重量
部、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテー
ト８７．４重量部を反応容器中に加え、１１０℃、２４
時間空気中で攪拌反応させてエチレン性高分子結合材
（酸価５３、結合材−１のメタアクリル酸成分全体の５
割に不飽和基が反応。以下「結合材−２」と略す。）溶
液を得た。

【０１１６】＜実施例１〜３及び比較例１＞上記支持体
−１上に、下記の光重合性組成物塗布液−１をプロピレ
ングリコールモノメチルエーテルアセテートとシクロヘ
キサノン（重量比で５：５）に固形分が１２ｗｔ％にな
るように溶解し、バーコーターを用いて乾燥膜厚２ｇ／
ｍ²となるように塗布乾燥した。更にこの上に、ポリビ
ニルアルコール（商品名ＧＬ−０３。日本合成化学社
製）とポリビニルピロリドン（商品名Ｋ−３０。ＢＡＳ
Ｆ社製）の混合水溶液（ポリビニルアルコール：ポリビ
ニルピロリドン＝７０重量％：３０重量％）をバーコー
ターを用いて乾燥膜厚が３ｇ／ｍ² となるように塗布
し、７０℃４分乾燥して酸素遮断層を形成することによ
り、感光性平版印刷版−１を作成した。

【０１１７】 （光重合性組成物塗布液−１） ラジカル発生剤Ｒ−１ １５ 重量部 増感剤Ｓ−１ ９ 重量部 ２−メルカプトベンゾチアゾール ５ 重量部 Ｎ−フェニルグリシンベンジルエステル ３ 重量部 エチレン性単量体Ｅ−１ ２２ 重量部 エチレン性単量体Ｅ−２ ２２ 重量部 エチレン性単量体Ｅ−３ ６ 重量部 エチレン性単量体Ｅ−４ １１ 重量部 高分子結合材Ｐ−１ ４５ 重量部 トリベンジルアミン ９ 重量部 フタロシアニン顔料 ４ 重量部 Disperbyk 161 （ビックケミー社製分散剤） ２ 重量部 エマルゲン１０４Ｐ（花王社製） ２ 重量部 Ｓ−３８１（フッ素系界面活性剤） ０．３ 重量部 尚、光重合性組成物の成分の内、ラジカル発生剤、増感
剤、エチレン単量体、高分子結合材の各化合物の構造は
下記の通りである。

【０１１８】

【化１８】

【０１１９】

【化１９】

【０１２０】

【化２０】

【０１２１】

【化２１】

【０１２２】得られた感光性平版印刷版−１について以
下の評価を行った。 ＜画像形成方法及び印刷性能の測定＞下記表−１記載の
条件で、405nmを発振するViolet レーザー照射装置（商
品名Cobalt 8；Escher-Grad社製）にて露光（露光量は
３５μJ/cm²）を行った。その後Pre水洗ユニット付きの
自動現像機（商品名 Interplater；Glunz & Jansen社
製）にて下記表−１に記載の操作及び条件で画像形成を
行った。尚、自現機中の現像液は、Ａ珪酸カリウムを３
重量％、ペレックスＮＢＬ（花王（株）社製）５重量％
を含む水溶液（Ｋ液）であった。刷り出し時の紙面上で
の濃度（％）は、ｃｃＤＯＴ（Ｃｅｎｔｕｒａｆａｘ社
製）で測定した。ガム液はＤｉａｍｏｎｄＰlａｔｅ
ＰＬＵＳ−ＦＩＮＩＳＨＥＲ（Ｗｅｓｔｅｒｎ Ｌｉｔ
ｈｏtｅｃ社）の１．５倍希釈水溶液を使用した。

【０１２３】

【表１】

【０１２４】＜実施例４〜６及び比較例２、３＞上記支
持体−１上に、下記の光重合性組成物塗布液−２をプロ
ピレングリコールモノメチルエーテルアセテートとシク
ロヘキサノン（重量比で５：５）に固形分が１２ｗｔ％
になるように溶解し、バーコーターを用いて乾燥膜厚２
ｇ／ｍ²となるように塗布乾燥した。更にこの上に、ポ
リビニルアルコール（商品名ＧＬ−０３。日本合成化学
社製）とポリビニルピロリドン（商品名Ｋ−３０。ＢＡ
ＳＦ社製）の混合水溶液（ポリビニルアルコール：ポリ
ビニルピロリドン＝７０重量％：３０重量％）をバーコ
ーターを用いて乾燥膜厚が３ｇ／ｍ² となるように塗布
し、７０℃４分乾燥して酸素遮断層を形成することによ
り、感光性平版印刷版−２を作成した。

【０１２５】 （光重合性組成物塗布液−２） 下記ラジカル発生剤Ｒ−２ ５ 重量部 ２−メルカプトベンゾチアゾール ５ 重量部 Ｎ−フェニルグリシンベンジルエステル ５ 重量部 下記増感剤Ｓ−２ １ 重量部 上記エチレン性単量体Ｅ−１ ２２ 重量部 上記エチレン性単量体Ｅ−２ ２２ 重量部 上記エチレン性単量体Ｅ−３ ８ 重量部 上記高分子結合材Ｐ−１ ４５ 重量部 顔料（Ｐ．Ｂ．１５：６） ４ 重量部 エマルゲン１０４Ｐ（花王社（株）製） ２ 重量部 Ｓ−３８１（旭硝子（株）製 フッ素系界面活性剤） ０．３ 重量部 Disperbyk 161（ビックケミー社製分散剤） ２ 重量部 尚、光重合性組成物の内、ラジカル発生剤Ｒ−２、増感
剤Ｓ−２の構造は下記の通りである。

【０１２６】得られた感光性平版印刷版−２について以
下の評価を行った。

【０１２７】

【化２２】

【０１２８】

【化２３】

【０１２９】＜画像形成方法及び印刷性能の測定＞下記
表−２記載の条件で、532nmを発振するFD-YAGレーザー
照射装置（商品名PlateJet；CYMBOLIC SCIENCE社製）に
て露光（露光量は１５０μJ/cm²）を行った。その後Pre
水洗ユニット付きの自動現像機（商品名 Interplate
r；Glunz & Jansen社製）にて下記表−２に記載の操作
及び条件で画像形成を行った。尚、自現機中の現像液
は、Ａ珪酸カリウムを３重量％、ペレックスＮＢＬ（花
王（株）社製）５重量％を含む水溶液（Ｋ液）であっ
た。その後、平版印刷版をDAIYA-１F-2型印刷機（三菱
重工（株）社製）にかけ耐刷テストを行った。耐刷性は
５万枚時点での１７５線・１％の点の残り具合を評価し
た。

【０１３０】小点が欠けずに残っている場合を○、一部
飛んでいるものの大半が残っている状態を△、小点が殆
ど残っていない状態を×で評価した。結果は表−２に示
した。

【０１３１】

【表２】

【０１３２】

【発明の効果】本発明によれば、平版印刷版を現像、水
洗、ガム液塗布する一連の工程において、水洗工程とガ
ム液塗布工程の間に、乾燥という簡便な処理を行うこと
で、画像強度が著しく向上し、特に印刷初期の耐刷性に
優れる画像を形成することが可能となる。

フロントページの続き (72)発明者 片山 利昭 神奈川県横浜市青葉区鴨志田町1000番地 三菱化学株式会社横浜総合研究所内 (72)発明者 利光 恵理子 神奈川県横浜市青葉区鴨志田町1000番地 三菱化学株式会社横浜総合研究所内 Ｆターム(参考） 2H096 AA07 AA08 BA05 BA20 EA04 GA08 GA17 GA20 HA02 JA04 LA16

Claims (5)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 支持体上にエチレン性単量体、光重合開
   始剤、高分子結合材を含む光重合性感光層を設けた感光
   性平版印刷版を、レーザー露光した後、現像工程、水洗
   工程、ガム液塗布工程を順次行う感光性平版印刷版の刷
   版方法において、水洗工程とガム液塗布工程の間に、該
   印刷版の乾燥処理を行うことを特徴とする感光性平版印
   刷版の刷版方法。
2. 【請求項２】 現像工程、水洗工程、乾燥工程、ガム液
   塗布工程を連続した一連の工程により行う請求項１に記
   載の感光性平版印刷版の刷版方法。
3. 【請求項３】 乾燥処理が、ドライヤーにより温風を印
   刷版の表面にあて、印刷版の表面温度を２５〜１００℃
   の温度に１〜６０秒間維持することによる請求項１又は
   ２に記載の感光性平版印刷版の刷版方法。
4. 【請求項４】 乾燥処理後３０分以内にガム液を塗布す
   る請求項１〜３のいずれかに記載の感光性平版印刷版の
   刷版方法。
5. 【請求項５】 光重合開始剤が、増感色素及びラジカル
   発生剤からなる請求項１〜４のいずれかに記載の感光性
   平版印刷版の刷版方法。