JP2003187424A - 情報記録媒体用ガラス基板の製造方法及び情報記録媒体用ガラス基板 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 反り及びチッピングが発生するのを抑制する
ことができるとともに平坦度を向上させることができ、
さらに洗浄回数を低減することができる情報記録媒体用
ガラス基板の製造方法及び情報記録媒体用ガラス基板を
提供する。 【解決手段】 情報記録媒体用ガラス基板は、ガラス素
板１１が形状加工１２により円盤状に形成された後、面
取加工１３により内外周端面が研削されるとともに内外
周端面の角部が面取りされる。続いて、端面研磨加工１
４により内外周端面の表面粗さが細くなった後、化学強
化処理２２により化学強化される。次に洗浄処理１６に
より洗浄された後、ラップ研磨加工１５により主表面の
表面粗さが細くなる。さらに、各洗浄処理１６，１７，
１８，１９により洗浄され、第１及び第２研磨加工２
０，２１により主表面の表面粗さがより細くなる。そし
て、各洗浄処理１６，１７，１８，１９及び乾燥処理が
施されて製造されている。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、磁気ディスク、光
磁気ディスク、光ディスク等の情報記録媒体に用いられ
る情報記録媒体用ガラス基板の製造方法及び情報記録媒
体用ガラス基板に関するものである。さらに詳しくは、
反り及びチッピングが発生するのを抑制することができ
るとともに平坦度を向上させることができ、さらに洗浄
回数を低減することができる情報記録媒体用ガラス基板
の製造方法及び情報記録媒体用ガラス基板に関するもの
である。

【０００２】

【従来の技術】図７に示すように、従来、上記のような
情報記録媒体用ガラス基板（以下、単にガラス基板とも
いう）は、シート状のガラス素板１１が形状加工１２の
工程においてその中心に円孔を有する円盤状に形成され
た後、次のような工程を経て製造されている。即ち、ガ
ラス素板１１は、面取加工１３の工程においてその外径
寸法及び内径寸法を所定長さにするために内外周端面が
研削されるとともに、内外周端面の角部が面取りされ
る。

【０００３】次いで、端面研磨加工１４の工程におい
て、ガラス素板１１の内外周端面が研磨加工されて平滑
にされる。続いて、厚みが所定値となるように、粗研磨
加工としてのラップ研磨加工１５によってガラス素板１
１の主表面が研磨加工される。そして、ガラス素板１１
は、水等による洗浄処理１６、酸性洗浄液による酸洗浄
処理１７、アルカリ性洗浄液によるアルカリ洗浄処理１
８及びイソプロピルアルコール（ＩＰＡ）等による溶媒
洗浄処理１９が順番に施されて洗浄される。

【０００４】続いて、主表面の表面粗さを細くするため
に、粗研磨加工としての第１研磨加工２０及び精密研磨
加工としての第２研磨加工２１が順番に施される。そし
て、ガラス素板１１には、前述の各洗浄処理１６，１
７，１８，１９が施されて洗浄される。

【０００５】次いで、ガラス素板１１は、加熱溶融され
た硝酸カリウム溶液等の化学強化処理液に浸漬される。
このとき、ガラス素板１１中の表面近傍に存在するリチ
ウムイオンやナトリウムイオン等の一価の金属イオン
が、これよりイオン半径の大きい化学強化処理液中のカ
リウムイオンにイオン交換されることにより、ガラス素
板１１には化学強化処理２２が施される。このとき、ガ
ラス素板１１の表面には強化層が形成される。

【０００６】そして、さらに前述と同様に各洗浄処理１
６，１７，１８，１９を施した後、洗浄液の除去及び乾
燥することによりガラス基板が製造される。そして、こ
のようにして製造されたガラス基板の表面に磁性層等を
設けることにより、例えば磁気ディスク、光磁気ディス
ク等の情報記録媒体が製作される。

【０００７】

【発明が解決しようとする課題】ところが、この従来の
情報記録媒体用ガラス基板の製造方法においては、化学
強化処理２２によりガラス素板１１の表面に形成される
強化層の形成状態によって強化層の厚みが不均一となる
ために、ガラス素板１１に反り及びうねりが発生し、平
坦度が低下する。

【０００８】さらに、ガラス素板１１は、化学強化処理
液に浸漬されるときには金属材料製のホルダーによって
保持されている。このため、ガラス素板１１には、ホル
ダーと接触することによりチッピングが発生しやすい。
ガラス素板１１に発生した反り、うねり及びチッピング
は化学強化処理２２以後の製造工程では除去されないた
めに、製造されたガラス基板に反り及びチッピングが残
るとともに、平坦度が低下するという問題があった。

【０００９】また、ガラス素板１１にラップ研磨加工１
５又は化学強化処理２２を施した後には各洗浄処理１
６，１７，１８，１９をそれぞれ施す必要があり、工程
数が多いという問題があった。

【００１０】本発明は、上記のような従来技術に存在す
る問題点に着目してなされたものである。その目的とす
るところは、反り及びチッピングが発生するのを抑制す
ることができるとともに平坦度を向上させることがで
き、さらに洗浄回数を低減することができる情報記録媒
体用ガラス基板の製造方法及び情報記録媒体用ガラス基
板を提供することにある。

【００１１】

【課題を解決するための手段】上記の目的を達成するた
めに、請求項１に記載の発明の情報記録媒体用ガラス基
板の製造方法は、円盤状に形成されたガラス素板を化学
強化塩が加熱溶融された化学強化処理液に浸漬し、ガラ
ス素板中の表面近傍に存在する一部のイオンを、同イオ
ンよりイオン半径の大きい化学強化処理液中のイオンに
イオン交換することによって化学強化するための化学強
化処理をガラス素板に施した後、ガラス素板の表面に粗
研磨加工を施すものである。

【００１２】請求項２に記載の発明の情報記録媒体用ガ
ラス基板の製造方法は、請求項１に記載の発明におい
て、前記粗研磨加工は、ガラス素板の主表面を研磨加工
するラップ研磨加工である。

【００１３】請求項３に記載の発明の情報記録媒体用ガ
ラス基板の製造方法は、請求項１又は請求項２に記載の
発明において、さらに、ガラス素板の端面を研磨加工す
る端面研磨加工を化学強化処理の前又は後に施すもので
ある。

【００１４】請求項４に記載の発明の情報記録媒体用ガ
ラス基板の製造方法は、請求項１から請求項３のいずれ
か一項に記載の発明において、前記粗研磨加工に引き続
き、ガラス素板の主表面に精密研磨加工を施すものであ
る。

【００１５】請求項５に記載の発明の情報記録媒体用ガ
ラス基板は、請求項１から請求項４のいずれか一項に記
載の情報記録媒体用ガラス基板の製造方法によって製造
されるものである。

【００１６】

【発明の実施の形態】以下、本発明の実施形態を図面に
基づいて詳細に説明する。尚、以下の説明においては、
ガラス基板が情報記録媒体用として用いられるときに情
報記録部が形成される面を主表面という。

【００１７】ガラス基板は、中心に円孔を有した円盤状
をなし、磁気ディスク、光磁気ディスク、光ディスク等
の情報記録媒体の基板として用いられるものである。ガ
ラス基板の材質としてはフロート法、ダウンドロー法、
リドロー法又はプレス法で製造されたソーダライムガラ
ス、アルミノシリケートガラス、ボロシリケートガラ
ス、結晶化ガラス等が挙げられる。そして、ガラス基板
は、例えば外径が９５ｍｍ、８４ｍｍ、６５ｍｍ等に形
成されるとともに、その厚みは０．６３ｍｍ等に形成さ
れる。

【００１８】次に、このガラス基板の製造方法について
説明する。図１に示すように、ガラス基板は、形状加工
１２の工程においてシート状のガラス素板１１を超硬合
金又はダイヤモンド製のカッターを用いて切断すること
により、その中心に円孔を有する円盤状に形成される。
このとき、外周面と内周面とを同時に切断してもよい
し、外周面を切断した後に内周面を切断してもよい。こ
こで、ガラス素板１１の材質は、前述のガラス基板と同
じである。

【００１９】形状加工１２を施されたガラス素板１１
は、面取加工１３の工程において、その外径寸法及び内
径寸法が所定長さとなるように内外周端面が研削される
とともに、内外周端面の角部が研磨加工されて面取りさ
れる。具体的には、図２及び図４（ａ）に示すように、
ガラス素板１１は、ダイヤモンド砥粒等の砥粒が付着し
た砥石２３によって、その内外周端面２４が研削される
とともに、内外周端面２４の角部が面取りされる。

【００２０】このとき、ガラス素板１１の面取加工１３
は、例えば＃３２５及び＃５００（又は＃６００）等の
ように粗いダイヤモンド砥粒と細いダイヤモンド砥粒と
によって２段階に分けて行うことができる。また、前述
の形状加工１２において、ガラス素板１１の外径寸法及
び内径寸法が所定長さに近似した寸法に形成されている
ときには、面取加工１３は１段階のみで行うことができ
る。

【００２１】図１に示すように、面取加工１３を施され
たガラス素板１１は、端面研磨加工１４の工程におい
て、その内外周端面の表面粗さを細くするために、研磨
材によって内外周端面２４が研磨加工される。

【００２２】このときの研磨量は好ましくは５〜２０μ
ｍである。５μｍ未満では内外周端面２４の表面粗さを
細くしにくい。一方、２０μｍを超えて研磨加工しても
それ以上内外周端面２４の表面粗さを細くしにくい。ま
た、研磨材の具体例としては、酸化セリウムや酸化ラン
タン等の希土類酸化物、酸化ジルコニウム、二酸化マン
ガン、酸化アルミニウム、コロイダルシリカ等が挙げら
れる。これらの中でも、研磨効率が優れていることから
希土類酸化物が好ましく、酸化セリウムがより好まし
い。

【００２３】端面研磨加工１４を施されたガラス素板１
１は、情報記録媒体の基板として要求される耐衝撃性、
耐振動性、耐熱性等を向上させるために、化学強化工程
において化学強化処理２２が施される。この化学強化処
理２２とは、ガラス素板１１の組成中に含まれるリチウ
ムイオンやナトリウムイオン等の一価の金属イオンを、
これと比較してそのイオン半径が大きなナトリウムイオ
ンやカリウムイオン等の一価の金属イオンにイオン交換
することをいう。そして、ガラス素板１１の表面に圧縮
応力を作用させて化学強化する方法である。

【００２４】この化学強化処理２２は、化学強化塩を加
熱溶融した化学強化処理液に、金属材料製のホルダーに
よって保持されたガラス素板１１を所定時間浸漬するこ
とによって行われる。化学強化塩の具体例としては、硝
酸カリウム、硝酸ナトリウム、硝酸銀等をそれぞれ単
独、あるいは少なくとも２種を混合したもの等が挙げら
れる。また、化学強化処理液の温度は、ガラス素板１１
の材質の歪点よりも好ましくは５０〜１５０℃程度低い
温度であり、より好ましくは化学強化処理液自身の温度
が３５０〜４００℃程度である。

【００２５】ガラス素板１１の材質の歪点よりも１５０
℃程度低い温度未満では、ガラス素板１１を十分に化学
強化処理することができない。一方、ガラス素板１１の
材質の歪点よりも５０℃程度低い温度を超えると、ガラ
ス素板１１を化学強化処理２２するときに、ガラス素板
１１に歪みが発生しやすい。

【００２６】図４（ｂ）に示すように、化学強化処理２
２が施されたガラス素板１１の表面には強化層２５が形
成される。この強化層２５の厚みは、ガラス素板１１表
面から好ましくは２０〜２５０μｍである。２０μｍ未
満では、ガラス素板１１は強度が低下する恐れが大き
い。一方、２５０μｍを超える場合には化学強化処理液
の温度を高くしたり、ガラス素板１１を化学強化処理液
に浸漬する時間を長くする必要があるために、ガラス基
板の生産効率が低下しやすい。

【００２７】強化層２５は、その形成状態によって厚み
が不均一となるために、反り及びうねりが発生し、平坦
度が低下する。さらに、ガラス素板１１には、化学強化
処理２２が施されるときにホルダーによって保持される
ために、ホルダーに接触した箇所にその幅及び深さが数
十〜数百μｍのチッピングが発生する場合がある。

【００２８】化学強化処理２２により、主表面２６の内
外周端縁には、内外周端面２４と主表面２６とからの圧
縮応力が作用するために膨らみ２７が形成される。この
ため、ガラス素板１１の主表面２６の平坦度がさらに数
μｍ低下する。一方、ガラス素板１１の表面には、化学
強化塩のガラス素板１１表面への侵食に起因する細かい
凹凸（図示しない）が多数形成される。このため、ガラ
ス素板１１の表面が粗くなる。

【００２９】化学強化処理２２が施されたガラス素板１
１の表面には、化学強化塩等の付着物が付着している。
このため、図１に示すように、ガラス素板１１は、付着
物を取除くために洗浄工程において水等に浸漬されて洗
浄処理１６される。

【００３０】洗浄処理１６が施されたガラス素板１１
は、粗研磨加工としてのラップ研磨加工１５の工程にお
いて、その主表面２６が研磨加工される。このラップ研
磨加工１５は、ガラス素板１１の厚みを所定値にすると
ともに、反りやうねりを取除いたり、凹凸、クラック及
びチッピング等の欠陥を取除くために行われる。

【００３１】ここで、ラップ研磨加工１５についてより
詳しく説明する。図３に示すように、ガラス素板１１の
主表面２６を研磨加工するための研磨加工装置２８は、
互いに平行となるように上下に配設された円盤状をなす
一対の定盤２９と、下方位置の定盤２９上に載せられた
円盤状をなす複数の遊星歯車としてのキャリア３０とを
備えている。

【００３２】下方位置の定盤２９には、その中心に太陽
歯車３１が取付けられるとともに、その内周面には外周
歯車３２が形成されている。そして、各キャリア３０の
外周面３３の一部が太陽歯車３１及び外周歯車３２に噛
合するようにそれぞれ構成されている。さらに、各キャ
リア３０には複数の収容孔３４が透設され、各収容孔３
４内にはガラス素板１１が収容されている。そして、研
磨液を供給しながら太陽歯車３１を回転させることによ
り、各キャリア３０は自転しながら太陽歯車３１の周り
を公転し、各ガラス素板１１の主表面２６が研磨加工さ
れるようになっている。

【００３３】ラップ研磨加工１５においては、研磨液に
は、アルミナ砥粒を研磨材とし、これを水に２０重量％
の濃度で分散させてスラリー状にしたものが用いられ
る。ラップ研磨加工１５は、例えば＃６００及び＃１２
００等のように粗いアルミナ砥粒と細いアルミナ砥粒と
によって２段階に分けて行うことができる。

【００３４】このときの研磨量は、片側の主表面２６に
おいて、好ましくはその強化層２５の厚みを半分以上削
る量、より好ましくは強化層２５をほぼ全て削る量であ
る。研磨量が強化層２５の厚みの半分未満では、ガラス
基板に反りが発生しやすい。さらに、研磨量は、ガラス
素板１１の表側の主表面２６と裏側の主表面２６とでは
同じ量が好ましい。研磨量が表側の主表面２６と裏側の
主表面２６とで異なるときには、ガラス基板に反りが発
生しやすい。

【００３５】図５に示すように、強化層２５の厚みが例
えば１１０μｍのガラス素板１１では、ラップ研磨加工
１５の研磨量が増加するに伴ってガラス基板の破壊強度
は低下する。しかし、ガラス基板の内外周端面には強化
層２５が形成されている。このため、例えば主表面２６
の強化層２５を全て削ったときにも、ガラス基板の強度
は基板として所望される強度、例えば９８Ｎを維持する
ことができる。

【００３６】ここで、ガラス基板の破壊強度の測定につ
いて説明する。ガラス基板の破壊強度を測定するときに
は、まずガラス基板の内周部の上部に、金属材料により
形成されるとともにその直径がガラス基板の内径よりも
大きいボールを配置する。次いで、このボールにガラス
基板を押圧することによりガラス基板に荷重を加える。
そして、ガラス基板が破壊されたときの荷重を破壊強度
として測定する。

【００３７】図６に示すように、このガラス素板１１で
は、ラップ研磨加工１５の研磨量が増加するに伴って、
ガラス基板の平坦度は研磨量が０μｍのときの４μｍか
ら向上する。尚、図５及び図６において、ラップ研磨加
工１５の研磨量は、ガラス基板の片側の主表面２６にお
ける量を示している。

【００３８】ガラス素板１１の表面には、研磨粉や研磨
材、粉塵等の付着物が付着している。このため、図１に
示すように、ガラス素板１１は洗浄処理１６されること
により付着物が取除かれる。

【００３９】洗浄処理１６が施されたガラス素板１１
は、例えばガラス素板１１の表面に食い込んでしまった
研磨材等のような前述の洗浄処理１６では取除くことが
できない付着物をエッチングにより取除くために、酸性
洗浄液によって酸洗浄処理１７される。酸性洗浄液の具
体例としては、フッ酸、硫酸、スルファミン酸、塩酸、
硝酸、リン酸等が挙げられる。具体的には、ガラス素板
１１は、酸性洗浄液に浸漬された状態で超音波が照射さ
れることによって酸洗浄処理１７される。

【００４０】続いて、ガラス素板１１は、アルカリ性洗
浄液によってアルカリ洗浄処理１８される。アルカリ性
洗浄液の具体例としては、水酸化カリウム、水酸化ナト
リウム、アンモニア、テトラメチル水酸化物等が挙げら
れる。具体的には、ガラス素板１１は、アルカリ性洗浄
液に浸漬された状態で超音波が照射されることによって
アルカリ洗浄処理１８される。

【００４１】ここで、ガラス素板１１に対して酸洗浄処
理１７の後にアルカリ洗浄処理１８を施す理由について
述べる。酸性溶液中においては、ガラス素板１１は負極
性に帯電するとともに、その表面に付着した付着物は正
極性に帯電しようとする。このため、酸性洗浄液のみで
ガラス素板１１を洗浄処理した場合、ガラス素板１１か
ら取除かれて溶液中に分散された付着物が静電気によっ
てガラス素板１１の表面に再び付着してしまうおそれが
ある。

【００４２】これとは逆に、アルカリ性溶液中において
は、ガラス素板１１は負極性に帯電するとともに、その
表面に付着した付着物も同様に負極性に帯電しようとす
る。このため、同じ極性に帯電したガラス素板１１と付
着物とが反発しあい、ガラス素板１１の表面に対して付
着物が再び付着するのを防止することができる。

【００４３】酸洗浄処理１７及びアルカリ洗浄処理１８
が施されたガラス素板１１は、各洗浄液を取除くため
に、ＩＰＡ等によって溶媒洗浄処理１９される。そし
て、溶媒洗浄処理１９が施されたガラス素板１１には、
粗研磨加工としての第１研磨加工２０及び精密研磨加工
としての第２研磨加工２１が順番に施される。

【００４４】この第１研磨加工２０において、ガラス素
板１１は、表面粗さを揃えるために図３に示す研磨加工
装置２８等の加工装置によって主表面２６が研磨加工さ
れる。このとき、定盤２９には、ガラス素板１１との接
触面に発泡樹脂製のパッドが貼付されたものが用いられ
る。また、研磨液には、例えば平均粒径３μｍ前後の酸
化セリウム及び酸化ランタンよりなる研磨材を水に２０
重量％前後の濃度で分散させてスラリー状にしたものが
用いられる。

【００４５】第１研磨加工２０の研磨量は、片側の主表
面２６において、好ましくは１０〜４０μｍである。１
０μｍ未満では表面粗さを揃えにくい。一方、４０μｍ
を超えて研磨加工すると、研磨加工時間を長くする必要
があるために、ガラス基板の生産効率が低下しやすい。

【００４６】続いて、第２研磨加工２１において、ガラ
ス素板１１は、表面粗さを情報記録媒体の基板として要
求される細さにするために、図３に示す研磨加工装置２
８等の加工装置によって主表面２６が研磨加工される。
このとき、定盤２９にはガラス素板１１との接触面にス
ウェード製のパッドが貼付されたものが用いられる。

【００４７】また、研磨液には、例えば平均粒径０．５
〜１μｍ程度の研磨材を水に２０重量％の濃度で分散さ
せてスラリー状にしたものが用いられる。研磨材の具体
例としては、酸化セリウム、酸化ランタン、酸化ジルコ
ニウム、酸化珪素、ニ酸化マンガン、酸化鉄、コロイダ
ルシリカ等を単独、あるいは２種以上を混合したもの等
が挙げられる。

【００４８】図４（ｃ）に示すように、第２研磨加工２
１が施されたガラス素板１１は、凹凸やクラック等が取
除かれて主表面２６が平滑になるとともに、化学強化処
理２２によって主表面２６の外周端縁に生じた膨らみ２
７が取除かれている。尚、図４（ｃ）においては、図４
（ｂ）のニ点鎖線３５で示す位置まで研磨加工された状
態のガラス素板１１を示している。

【００４９】第１研磨加工２０及び第２研磨加工２１を
施されたガラス素板１１の表面には、研磨粉や研磨材、
粉塵等の付着物が付着している。このため、ガラス素板
１１には、各洗浄処理１６，１７，１８，１９が施され
る。そして、各洗浄処理１６，１７，１８，１９が施さ
れたガラス素板１１が乾燥処理の工程において乾燥処理
されることにより、ガラス基板が製造される。

【００５０】具体的には、ガラス素板１１が低沸点の有
機溶媒の蒸気に晒される。低沸点の有機溶媒は、酸性及
びアルカリ性の洗浄液と水とを溶解可能、即ち親水性を
有するものを用いることが好ましく、主としてＩＰＡが
用いられる。

【００５１】このＩＰＡは、ガラス素板１１がその蒸気
に晒されたときには、水、アルカリ性の洗浄液等といっ
た液体を主には溶け込ませながら、これらを除去しつつ
迅速に蒸発し、ガラス素板１１の表面を乾燥させる。こ
のため、ガラス素板１１の表面に、水が流れた痕跡や塩
の析出等を発生させることなく乾燥が行われる。

【００５２】以上詳述した本実施形態によれば、次のよ
うな効果が発揮される。 ・ 本実施形態の情報記録媒体用ガラス基板の製造方法
及び情報記録媒体用ガラス基板においては、ガラス基板
は、ガラス素板１１が化学強化処理２２を施された後に
ラップ研磨加工１５が施されて製造されている。よっ
て、強化層２５の形成状態によりガラス素板１１に発生
する反りをラップ研磨加工１５によって取除くことがで
きる。このため、ラップ研磨加工１５が施されるときの
ガラス素板１１において、例えば従来のガラス基板の製
造方法では使用することができない程の反りを有するガ
ラス素板１１も使用することができる。また、化学強化
処理２２によってガラス素板１１の外周部に発生したチ
ッピングもラップ研磨加工１５によって取除くことがで
きる。よって、得られるガラス基板に反り及びチッピン
グが発生するのを抑制することができる。

【００５３】さらに、ガラス素板１１に発生する反り及
びうねりをラップ研磨加工１５によって取除くことがで
きる。このため、ラップ研磨加工１５により、化学強化
処理２２によって例えば約１０μｍとなったガラス素板
１１の平坦度を５μｍ以下にすることができる。よっ
て、得られるガラス基板の平坦度を向上させることがで
きる。

【００５４】また、従来のガラス基板の製造方法に対し
て、酸洗浄処理１７、アルカリ洗浄処理１８及び溶媒洗
浄処理１９の回数を低減することができるために、ガラ
ス基板の製造工程における洗浄回数を低減することがで
きる。さらに、ガラス素板１１にラップ研磨加工１５を
施すことにより、その厚みを容易に所定値にすることが
できる。

【００５５】・ 本実施形態の情報記録媒体用ガラス基
板の製造方法及び情報記録媒体用ガラス基板において
は、化学強化処理２２によってガラス素板１１の表面に
強化層２５が形成される。このため、ラップ研磨加工１
５によってガラス素板１１の主表面２６にクラックが発
生するのを抑制することができる。よって、得られるガ
ラス基板の主表面２６にクラックが発生するのを抑制す
ることができる。例えば、１０００枚のガラス基板にお
いて３０〜５０枚程度のガラス基板にクラックが発生し
ていた従来のガラス基板の製造方法に対して、本実施形
態のガラス基板の製造方法では、１０００枚中において
５枚以下までクラックの発生を抑制することができる。

【００５６】・ 本実施形態の情報記録媒体用ガラス基
板の製造方法及び情報記録媒体用ガラス基板において
は、ガラス素板１１は端面研磨加工１４によってその内
外周端面２４が研磨加工されている。このため、ガラス
基板の内外周端面２４の表面粗さを細くすることができ
る。

【００５７】・ 本実施形態の情報記録媒体用ガラス基
板の製造方法及び情報記録媒体用ガラス基板において
は、ガラス素板１１は第２研磨加工２１によってその主
表面２６が研磨加工されている。このため、ガラス基板
の主表面２６の表面粗さを基板として要求される細さに
することができる。

【００５８】・ 本実施形態の情報記録媒体用ガラス基
板の製造方法及び情報記録媒体用ガラス基板において
は、ガラス素板１１は、化学強化処理２２が施された後
にその主表面２６に各研磨加工１５，２０，２１が施さ
れる。よって、化学強化処理２２によりガラス素板１１
の主表面２６に形成された凹凸は各研磨加工１５，２
０，２１によって取除かれるために、ガラス素板１１の
主表面２６の表面粗さを細くすることができる。このた
め、得られるガラス基板の主表面２６の表面粗さを細く
することができる。さらに、化学強化処理２２によって
形成されたガラス素板１１のうねりはラップ研磨加工１
５によって取除かれるために、ガラス基板の平坦度を向
上させることができる。また、ガラス素板１１の主表面
２６は、順番に化学強化処理２２、ラップ研磨加工１
５、第１研磨加工２０、第２研磨加工２１が施されるに
従ってその表面粗さが細かくなる。よって、ガラス素板
１１の主表面２６の表面粗さを容易にコントロールする
ことができる。

【００５９】一方、従来の情報記録媒体用ガラス基板の
製造方法においては、ガラス素板１１は、その主表面２
６に各研磨加工１５，２０，２１が施された後に化学強
化処理２２が施される。よって、各研磨加工１５，２
０，２１によってその表面粗さが細くなった主表面２６
には化学強化処理２２によって凹凸が形成されるため
に、ガラス素板１１の主表面２６の表面粗さは粗くな
る。このため、得られるガラス基板の主表面２６の表面
粗さは粗くなる。さらに、化学強化処理２２によってガ
ラス素板１１にはうねりが形成されるために、ガラス基
板の平坦度は低下する。また、ガラス素板１１の主表面
２６は、順番にラップ研磨加工１５、第１研磨加工２
０、第２研磨加工２１が施されるに従ってその表面粗さ
が細くなるが、化学強化処理２２が施されることによっ
て表面粗さは粗くなる。よって、ガラス素板１１の主表
面２６の表面粗さをコントロールしにくい。

【００６０】なお、前記実施形態を次のように変更して
構成することもできる。 ・ 前記端面研磨加工１４の工程を、化学強化処理２２
後にガラス素板１１に施してもよい。さらに、ガラス素
板１１がシート状に形成されるときに所定厚さに近似し
た厚さに形成されているときには、ラップ研磨加工１５
の工程を省略してもよい。このとき、第１研磨加工２０
では時間をかけてガラス素板１１の主表面２６を研磨す
る必要がある。

【００６１】・ 前記洗浄処理１６において、ガラス素
板１１を水等に浸漬しつつ、超音波をガラス素板１１に
照射してもよい。また、水等をガラス素板１１に噴霧し
つつ、洗浄パッドによって付着物をガラス素板１１から
擦り落としてもよい。このときの洗浄パッドの材質は、
スウェード製のもの、ポリビニルアルコール製のスポン
ジ等の有機材料のほか、無機材料、金属材料又はそれら
の複合材料が使用され、硬質又は軟質のいずれであって
もよい。

【００６２】次に、前記実施形態から把握できる技術的
思想について以下に記載する。 ・ 前記ラップ研磨加工の研磨量は、片側の主表面にお
いて、化学強化処理によってガラス素板の主表面に形成
された強化層の厚みを半分以上削る量である請求項２に
記載の情報記録媒体用ガラス基板の製造方法。この構成
によれば、ガラス基板の平坦度をより向上させることが
できる。

【００６３】・ 前記端面研磨加工の研磨量は５〜２０
μｍである請求項３に記載の情報記録媒体用ガラス基板
の製造方法。この構成によれば、ガラス基板の端面の表
面粗さをより細くすることができる。

【００６４】

【発明の効果】本発明は、以上のように構成されている
ため、次のような効果を奏する。請求項１に記載の発明
の情報記録媒体用ガラス基板の製造方法によれば、反り
及びチッピングが発生するのを抑制することができると
ともに平坦度を向上させることができ、さらに洗浄回数
を低減することができる。

【００６５】請求項２に記載の発明の情報記録媒体用ガ
ラス基板の製造方法によれば、請求項１に記載の発明の
効果に加え、ガラス素板の厚みを容易に所定値にするこ
とができる。

【００６６】請求項３に記載の発明の情報記録媒体用ガ
ラス基板の製造方法によれば、請求項１又は請求項２に
記載の発明の効果に加え、情報記録媒体用ガラス基板の
端面の表面粗さを細くすることができる。

【００６７】請求項４に記載の発明の情報記録媒体用ガ
ラス基板の製造方法によれば、請求項１から請求項３の
いずれか一項に記載の発明の効果に加え、ガラス基板の
主表面の表面粗さを細くすることができる。

【００６８】請求項５に記載の発明の情報記録媒体用ガ
ラス基板によれば、反り及びチッピングが発生するのを
抑制することができるとともに平坦度を向上させること
ができ、さらに洗浄回数を低減することができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】 実施形態のガラス基板の製造工程の一部を示
すフロー図。

【図２】 ガラス素板の面取工程を示す概略断面図。

【図３】 ガラス素板の主表面の研磨加工を示す概略分
解斜視図。

【図４】 （ａ）は面取加工が施されたガラス素板を示
す要部拡大断面図、（ｂ）は化学強化処理が施されたガ
ラス素板を示す要部拡大断面図、（ｃ）は第２研磨加工
が施されたガラス素板を示す要部拡大断面図。

【図５】 ラップ研磨加工の研磨量とガラス基板の破壊
強度との関係を示すグラフ。

【図６】 ラップ研磨加工の研磨量とガラス基板の平坦
度との関係を示すグラフ。

【図７】 従来のガラス基板の製造工程の一部を示すフ
ロー図。

【符号の説明】

１１…ガラス素板、１４…端面研磨加工、１５…ラップ
研磨加工、２０…粗研磨加工としての第１研磨加工、２
１…精密研磨加工としての第２研磨加工、２２…化学強
化処理、２４…端面としての内外周端面、２６…主表
面。

Claims (5)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 円盤状に形成されたガラス素板を化学強
   化塩が加熱溶融された化学強化処理液に浸漬し、ガラス
   素板中の表面近傍に存在する一部のイオンを、同イオン
   よりイオン半径の大きい化学強化処理液中のイオンにイ
   オン交換することによって化学強化するための化学強化
   処理をガラス素板に施した後、ガラス素板の表面に粗研
   磨加工を施すことを特徴とする情報記録媒体用ガラス基
   板の製造方法。
2. 【請求項２】 前記粗研磨加工は、ガラス素板の主表面
   を研磨加工するラップ研磨加工である請求項１に記載の
   情報記録媒体用ガラス基板の製造方法。
3. 【請求項３】 さらに、ガラス素板の端面を研磨加工す
   る端面研磨加工を化学強化処理の前又は後に施す請求項
   １又は請求項２に記載の情報記録媒体用ガラス基板の製
   造方法。
4. 【請求項４】 前記粗研磨加工に引き続き、ガラス素板
   の主表面に精密研磨加工を施す請求項１から請求項３の
   いずれか一項に記載の情報記録媒体用ガラス基板の製造
   方法。
5. 【請求項５】 請求項１から請求項４のいずれか一項に
   記載の情報記録媒体用ガラス基板の製造方法によって製
   造されることを特徴とする情報記録媒体用ガラス基板。