JP2003183728A - 真空熱処理装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 真空熱処理装置において、複数の処理セル
の中の１つの処理セルから他の処理セルまで短時間で移
動させ、また、設置場所を増加させずに処理セルを増設
できるようにする。 【解決手段】 真空熱処理装置１は、気密チャンバー２
とこの中に配置された搬送機構５１と、気密チャンバー
２の外周に、気密加熱室４、６、ガス冷却室８、準備室
１０、気密油焼入室１２の各処理セルが配設されてい
る。これらの気密チャンバー２、処理セル４、６、８、
１０の少なくとも一方は、上下方向に２段以上に配設す
ることができる。気密加熱室４、６で加熱された処理物
は、搬送機構５１によりガス冷却室８或いは、気密油焼
入室１２に短時間で搬送されて焼き入れされる。どの処
理セルからも短時間で焼き入れのための移送が可能とな
る。処理セルを増設する場合は、気密チャンバー２の外
周に複数段に取付けられるので、省スペースとなる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、金属製の処理物を
加熱して真空熱処理を行なう真空熱処理装置に関し、特
に、処理物を複数の処理セルのうちの１つから他の処理
セルに搬送装置により搬送する機構を有する真空熱処理
装置に関するものである。

【０００２】

【従来の技術】真空熱処理装置として、特開平１１−２
３７１８５号公報に開示されたモジュール式真空熱処理
装置が知られている。この真空熱処理装置は、水平軸を
有する共通気密チャンバに対して、水平に連結されたい
くつかの処理セルを有している。この共通気密チャンバ
の一端に、他の処理セルを有するシリンダ状の伸張部の
形状のモジュールが、追加して接続されるようになって
いる。これにより、必要に応じて処理セルを水平方向に
延長して増設できるように構成されている。

【０００３】また、他の従来技術として、日本国特許第
３０９２１３６号に記載された真空熱処理装置がある。
この真空熱処理装置においては、ドーナツ形の気密チャ
ンバーの上部に複数の加熱室（処理セル）が星形状に配
列され、これらの処理セル間に処理物を搬送するために
ドーナツ形気密チャンバーの内筒に設置されるガイドレ
ールに沿って走行する搬送車が配置されている。この搬
送装置は、各処理セルの下部を通過するように回動し
て、特定の処理セルに処理物を移送するようになってい
る。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】前者の従来技術では、
処理セルの数が増加するほど共通チャンバが平面上で長
くなり、処理セルから処理セルへ処理物を移動させるの
に時間がかかるようになる。処理の内容によっては、短
時間で移動させる必要が生じる場合がある。特に真空熱
処理装置では、油焼入工程あるいはガス冷却工程におい
て、高温に加熱した金属加工部品即ち処理物を素早く焼
入油槽、或いはガス冷セルへ投入して焼き入れする必要
がある。この際、加熱を行なう処理セルから焼き入れを
行なう処理セルまでの搬送時間が長いと、油槽またはガ
ス冷却セルに投入する前に処理物の温度が下がってしま
い、十分な焼き入れが行われず、所望の品質の製品が得
られないという虞がある。さらに、処理セルは水平方向
に延長拡大されるため、増設する処理セルの数に比例し
て、設置スペースが増大するという問題がある。

【０００５】後者の従来技術にあっては、取り付けられ
る処理セルの数が気密チャンバーの大きさによって制約
を受けるので、処理量を増加するのに限界があり、生産
量の増大に対応することが困難である。

【０００６】本発明は、以上の点に鑑みてなされたもの
であり、処理物を複数の処理セルの中の１つの処理セル
から他の処理セルまで短時間で移動させることができる
真空熱処理装置を提供することを目的とする。

【０００７】本発明の他の目的は、生産量に応じて処理
セルを、設置場所を増加させずに増設することが可能な
真空熱処理装置を提供することにある。

【０００８】

【課題を解決するための手段】本発明の真空熱処理装置
は、処理物を処理セル内で熱処理する真空熱処理装置に
おいて、装置中央に配置された気密チャンバーと、この
気密チャンバーの外周に配設された複数の処理セルとを
備え、気密チャンバー内に、複数の処理セルとの間で処
理物を移動させる搬送機構が設けられていることを特徴
とするものである。

【０００９】上記気密チャンバーおよび複数の処理セル
の少なくとも一方は、上下方向に２段以上に亘って配設
されるよう構成することができる。

【００１０】また、搬送機構は、処理物を搭載する収容
函と、この収容函の水平方向の向きを変える回転機構部
と、収容函を上下に移動させる昇降機構部とによって構
成することができる。

【００１１】上記処理セルの１つが油焼入セルであり、
および／または、気密チャンバーの下部に油焼入セルが
配置されているよう構成することができる。

【００１２】また、収容函は、前記処理物を収納するバ
スケットを載置することができるテレスコープ式横移動
機構部を有することができ、上記気密チャンバの外周に
配置された油焼入セルは、処理物の搬入および搬出をす
るための搬入および搬出セルとしても使用することが可
能なものとすることができる。

【００１３】また、処理セルの１つをガス冷却セルとす
ることができ、さらに、ガス冷却セルを、処理物の搬入
および搬出をするための搬入および搬出セルとして使用
してもよい。

【００１４】上段の処理セルと下段の処理セルは、処理
セルの天井に突出した冷却ファンなどのモータのスペー
スを確保するため、気密チャンバーの外周に沿って互い
に半ピッチ、即ち隣接する処理セルとのなす角度の１／
２の角度だけ円周方向に角度をずらせて配置されること
が好ましい。

【００１５】

【発明の効果】本発明の真空熱処理装置は、気密チャン
バーと、この気密チャンバーの外周に配設された複数の
処理セルとを備え、気密チャンバー内には、複数の処理
セルとの間で処理物を移動させる搬送機構が設けられて
いるので、次の効果を奏する。

【００１６】即ち、全ての処理セルは、気密チャンバー
に隣接して気密チャンバーの外周方向に沿って配置され
ているので、気密チャンバーを経て処理物を短時間で処
理セル間を移動させて、連続した真空熱処理を行うこと
ができる。従って、必要とされる時間内に後続の処理を
開始して高品質の製品を得ることができる。

【００１７】これらの気密チャンバーおよび複数の処理
セルの少なくとも一方が、上下方向に２段以上に亘って
配設されている場合には、生産量に応じて、設置場所即
ち接地面積を増加させず処理セルを増設することが可能
となる。即ち、気密チャンバーの外周に沿って周方向
に、或いは気密チャンバーの上下方向に処理セルを増設
することができる、即ち立体的に増設することができる
ので、限られた接地スペースの中で生産量の増大に対応
することができる。

【００１８】搬送機構が、処理物を搭載する収容函と、
この収容函の水平方向の向きを変える回転機構部と、収
容函を上下に移動させる昇降機構部とを有する場合は、
搬送機構の少ない移動量で処理物を処理セル間で搬送で
きるので、迅速且つ自由に処理物を任意の処理セルに移
動させることができる。

【００１９】処理セルの１つを油焼入セルとした場合に
は、搬送機構の少ない移動量で短時間に焼き入れ処理す
ることができる。また、油焼入セルが、気密チャンバー
の下部に配置されている場合には、同じ段のどの処理セ
ルからも同程度の短時間で処理物を移動させて、油焼入
セルに投入することができるので、短時間で焼き入れ処
理することができ、安定的に高品質の製品を得ることが
できる。

【００２０】

【発明の実施の形態】以下、図面を参照して本発明の実
施の形態について説明する。図１は本発明の第１の実施
の形態を示す真空熱処理装置を側面からみた概略断面図
である。図２は、図１の真空熱処理装置の一部を省略し
て示す概略平面図である。

【００２１】図１および図２に示すように、真空熱処理
装置１は、円筒形の気密チャンバー２と、この気密チャ
ンバー２の外周に沿って２段に配設された処理セル４、
６、８、１０、・・・を有する。なお上段の処理セル
４、８と下段の処理セル６、１０は、図１では、便宜
上、上下に整列させて示しているが、実際は、図２に示
すように半ピッチだけ位置ずれさせている。ここでいう
１ピッチとは、処理セルとこの処理セルに円周方向に隣
接する同じ段の処理セルとのなす角度をいう。即ち、処
理セル４、８を含む上段の処理セル（以下、処理セルＡ
という）は、気密チャンバー２の周りに十字形となるよ
うに配置され、処理セル６、１０を含む下段の処理セル
（以下、処理セルＢという）は、上段の処理セルＡと４
５°位置ずれさせて同様に十字形に配列されている。ま
た、処理セル１０の下部には処理セル１２が連結されて
いる。

【００２２】気密チャンバー２の外周の上部には、４カ
所の矩形の開口２０（図１）が形成され、この開口２０
に上段の処理セルＡが図示しないボルト等により取付け
られている。また、上段の開口２０と４５°だけ、気密
チャンバー２の円周方向にずれて形成された下段の開口
２０にも処理セルＢが同様に取付けられている。これら
の開口２０のあるものは、通常は盲蓋にしておき、必要
が生じたときに処理セルを増設してもよい。処理セル
は、気密チャンバー２に着脱可能であってもよいし、着
脱不能に固定してもよい。図１および図２に示された処
理セルの内、処理セル４、６は、気密加熱室であり、処
理セル８はガス冷却室である。

【００２３】次に、気密加熱室４、６について説明す
る。気密加熱室４、６は、断熱壁２２により内部が囲ま
れており、ヒーター２４により内部が高温に熱せられ、
図示しない処理物を加熱するように構成されている。こ
れらの断熱壁２２は、例えばセラミックやグラファイト
などの耐熱材料、断熱材料からなることが好ましい。な
お、図示はしていないが、各気密加熱室４、６にはそれ
ぞれ、温度制御手段が設けられている。加熱される前の
前記処理物は、例えば、歯車、シャフトの如き金属加工
部品であって、表面硬化処理を必要とする未処理品であ
る。処理物は、断熱壁を兼ねた扉２６を開放して気密加
熱室４、６内の台２８上に載置され、扉２６が閉鎖され
た後、所定の温度、例えば約１０００°Ｃまで加熱され
る。なお図中３０で示すのは、処理物を搭載した金属製
のバスケットである。また、気密加熱室４、６では加熱
の際、気密チャンバー２とともに真空引きされる。

【００２４】また、ガス冷却室８には、チェーン駆動の
コンベア３２が配置され、この上に前述の気密加熱室
４、６で加熱された処理物が載置されて、ガス冷却によ
り焼き入れされる。ガス冷却室８と、気密チャンバー２
とは扉（シールドア）３６の開閉により、加熱された処
理物が搬入される。前述の扉２６、３６は、それが開い
たときに、各処理セルの該扉２６、３６近傍の側方に配
置されたドアポケット４４（図２）に収納されるように
なっている。また、外側の扉３８は、外部から搬送され
た、これから熱処理を行おうとする処理物を収容するた
めのもので、前述のコンベア３２は、このとき外部から
処理物をガス冷却室８に収容するときに使用される。ま
た、熱処理／焼き入れが完了した処理物をこのガス冷却
室８から外部に搬出することもできる。この場合は、ガ
ス冷却室８が処理物の搬入および搬出セルと兼用にな
る。

【００２５】次に、処理セル１０、１２について説明す
る。これらの処理セル１０、１２は、上下に重なってお
り、上側に位置するのは、両側に気密の扉３６、３８を
有する準備室として使用される処理セルであり、その下
側に位置するのは、油槽即ち気密油焼入室（以下、油焼
入セルという）１２である。準備室として使用される処
理セル１０は、外部から処理物を扉３８を開放して収容
する。この処理セル１０に処理物を収容した後、空気を
排除して真空にする。そして次に、不活性ガス、例え
ば、窒素ガス、アルゴンガス等が気密チャンバー２と同
じ気圧になるまで充填される。なお、気密チャンバー２
は、通常、大気圧より低い気圧に保たれている。同じ気
圧にされた後、扉３６が開放されて、後述する搬送機構
５１により他の処理セルに移送される。また、気密チャ
ンバー２は、前述の如く、気密加熱室４、６で加熱が行
われるときは、真空状態となる。

【００２６】処理セル１０の下部に連結された油焼入セ
ル１２には、焼き入れ用の油４０が満たされており、こ
の油４０に前述の加熱された処理物を投入して焼き入れ
を行うようになっている。具体的には、処理セル１０の
扉３６を開いて、処理セル１０に処理物が一旦搬入さ
れ、図示しない吊り下げ手段により吊り下げられる。そ
してこの吊り下げ手段が降下して油焼入セル１２に投入
される。この油焼入セル１２は、図２に示すように処理
セル１０の両側に張り出すサイズの寸法を有し、両側に
取付けられた下向きの攪拌用のモータ４２により油４０
を攪拌してムラなく処理物を冷却するようになってい
る。

【００２７】なお、各処理セルには、真空引きするため
の図示しない真空弁が設けられ、各加熱室には各加熱室
内に必要に応じて不活性ガスあるいは浸炭ガスを導入す
るガス導入弁（図示せず）および圧力を調整するための
バイパス弁（図示せず）がそれぞれ設けられている。こ
れについては、後述する他の実施形態についても同様で
ある。

【００２８】次に気密チャンバー２について説明する。
気密チャンバー２は、前述の如く円筒形であり、内部に
枠状のレール部材５２を有する搬送機構５１が配置され
ている。このレール部材５２は、上下の両端中央に、気
密チャンバー２の中央に支持された垂直軸５０を有し、
この垂直軸５０を中心に気密チャンバー２内で、図示し
ない回転機構部により回転可能に配置されている。図１
ではレール部材５２は、紙面と垂直方向に位置している
ので、レール部材５２の片側のみ示されている。

【００２９】このレール部材５２は、レール部材５２に
より上下方向に案内されるゴンドラ即ち収容函５４を有
する。収容函５４は、レール部材５２に保持されたカム
従動子５６によりレール部材５２に沿って、図示しない
昇降機構部により昇降可能に保持されるようになってい
る。また、レール部材５２が回転機構部により回動する
と、それにともなって収容函５４も回動するようになっ
ている。収容函５４はレール部材５２内に位置した状態
で回動されるので、回動させるためのモーメントが小さ
くて済み、重量の大きい処理物でも素早く回動させるこ
とができる。また、それに要する駆動力も小さくて済
む。

【００３０】この収容函５４には、テレスコープタイプ
の横移動機構部５８が取付けられている。この横移動機
構部５８は、通常は収容函５４に取付けられて、気密チ
ャンバー２内を収容函５４とともに回動するが、２段或
いは３段になった伸縮可能なフォーク状部材５８ａが横
方向に延出可能になっている。この横移動機構部５８の
フォーク状部材５８ａに、レー６０が載置されており、
このトレー６０にバスケット３０が取付けられている。
そして、横移動機構部５８が横方向に延びると、それに
載置されたバスケット３０が横方向に移動するようにな
っている。前述の回転機構部、昇降機構部、横移動機構
部５８は図示しない駆動源、例えば電気モータ、油圧シ
リンダ等により駆動される。以上の構成により搬送機構
５１が構成されている。

【００３１】次に真空熱処理について説明する。処理物
は一旦、外部から、例えば処理セル１０に搬入された
後、処理物の酸化を防止するため酸素を含む空気が排出
されて、処理セル１０内が真空とされ、所謂真空パージ
がなされる。その後搬送機構５１により、予め真空状態
にされている気密チャンバー２を経て、例えば、同様に
真空状態の気密加熱室４に搬送される。この後加熱が開
始される。加熱時間は、処理物のサイズ、材質および量
によって変わるが、約２時間以上、場合によっては十数
時間加熱処理される。

【００３２】加熱を開始後、徐々に温度が上昇し、ある
時間経過して所定の温度に達したときに、浸炭ガス、例
えば、アセチレンガス等の炭素含有ガス（浸炭ガス）が
気密加熱室４に導入される。そして、さらに所定時間、
加熱を継続してガス中の炭素成分が処理物の組織表面に
進入し、金属表面がセメンタイトの組織となる。この真
空浸炭の時間が長ければ長いほど、炭素成分は処理物の
表面から内部に浸透するが、必要とされる深さまで浸炭
できる時間が経過すると加熱処理が完了する。次に不活
性ガスが供給されて拡散と称される処理工程に移行し、
組織中の炭素が拡散して表面組織の炭素濃度が低下し、
所定の値、例えば０．８％になると真空浸炭処理（真空
熱処理）工程が終了する。

【００３３】加熱処理工程、即ち真空浸炭処理が完了す
ると、扉２６が開放され、搬送機構５１の前述の横移動
機構部５８のフォーク状部材５８ａが気密加熱室４に進
入して、処理物を搭載したバスケット３０を載置し、気
密加熱室４から気密チャンバー２内に引き戻し、次にガ
ス冷却室８或いは、気密油焼入室１２で焼き入れを行な
う。ガス冷却室８で焼入を行うときは、扉３６を開放し
て、横移動機構部５８により処理物がガス冷却室８に搬
入される。次に、扉３６が閉じられてガス冷却室８が気
密状態とされる。そして、窒素ガス、ヘリウムガス等の
不活性ガスが充填されて、モータ３５に連結されたファ
ン３４により内部のガスが攪拌されて冷却される。これ
により、処理物の焼き入れ即ち表面硬化処理が行われ
る、ガスを使用したこの種の焼入は、内部のガスの比熱
が小さいため比較的ゆっくりと焼き入れが行われる。急
激に冷却して焼入を行うと、処理物に、割れや変形が生
じる場合にこの方法が採用される。

【００３４】気密油焼入室１２で焼き入れを行なう場合
は、一旦、収容函５４は、図１に示す下段まで降下さ
れ、次に収容函５４内に収容されているバスケット３０
をフォーク状の横移動機構部５８で準備室となる処理セ
ル１０に移送される。そして、前述の如く気密油焼入室
１２内の油４０に落とし込むように投入されて急激に冷
却されて、金属表面の組織がオーステナイト域からマル
テンサイトになるように焼き入れがなされる。このとき
の油４０の温度は約６０°から２００°Ｃ、好ましくは
１５０°Ｃであり、油４０の沸騰を防ぐために気密油焼
入室１２内の気圧は高くされている。

【００３５】焼き入れに要する時間は、通常、１５分か
ら２０分程度であるのに対して、真空浸炭に要する時間
は、前述の如く２時間以上要するのが普通である。この
ため、真空熱処理装置１には、気密加熱室を多く配置
し、焼き入れのためのガス冷却室８および気密油焼入室
１２を少なく配置することによって、ガス冷却室８およ
び気密油焼入室１２を遊ばせることなく、効率よく処理
セルを使用することができるようになっている。真空熱
処理装置１には、ガス冷却室８と気密油焼入室１２とを
共に設置してもよいし、用途に応じていずれか一方を設
置してもよい。２種類の焼き入れ室を設けた場合には、
処理物の材質に応じて、例えばＳＫＤ等の場合はガス冷
却室８を使用する等、適切な方を選択すればよい。これ
は、後述の他の実施形態の場合についても同様なことが
いえる。

【００３６】次に、図３を参照して、本発明の真空熱処
理装置の第２の実施形態について説明する。図３は、第
２の実施形態の真空熱処理装置１００の、図１と同様な
側面からみた概略断面図である。なお説明にあたり、図
１と同じ部品については、同じ参照番号を使用して説明
する。第１の実施形態と異なるのは、気密油焼入室１１
２が気密チャンバー１０２の下に配置されている点であ
る。これによって、第２の実施形態では、気密チャンバ
ー１０２は３段になっている。また、気密油焼き入れ室
１１２を使用するときは、加圧状態で行われ、同時に処
理セル（気密加熱室）４，６が使用される時は真空状態
で熱処理が行われるので、気密チャンバー１０２と処理
セル４、６との間には、互いに気密状態にして分離する
ための扉１３７が設けられている。他の処理セル４、
６、８、１０の種類および配置は、第１の実施形態の真
空熱処理装置１と同じである。

【００３７】本実施形態では、気密油焼入室１１２を気
密チャンバー２の下部に配置したことによって、油焼入
処理が同じ段のどの処理セルからも、略同じ距離にな
り、短時間で焼き入れ処理が可能になる点が最大の特徴
である。具体的には、各処理セル（気密加熱室）４、６
で、例えば、真空浸炭等の処理が完了した処理物を、気
密チャンバー２内の搬送機構１５１によって気密チャン
バー１０２内に引き戻した後、処理物を搭載した収容函
５４を降下させ、或いは落下させて直ちに気密油焼入室
１１２に投入することができる。従って、収容函５４を
他の段で一旦停止させて、横移動機構部５８により他の
処理セルに移動させる必要がないので、極めて短時間で
油焼き入れを行うことができる。この第２の実施形態に
おいては、搬送機構１５１は第１の実施形態の搬送機構
５１よりも１段分長くされ、３段の気密チャンバー１０
２に対応して３段に位置決め可能となっている。

【００３８】次に、本発明の第３の実施形態の真空熱処
理装置２００について、図４および図５を参照して説明
する。図４は、第３の実施形態の、図１と同様な側面か
らみた概略断面図、図５は図４の真空熱処理装置２００
の平面図である。この第３の実施形態の特徴は、処理セ
ル（気密加熱室）２０４、処理セル（ガス冷却室）２０
８が気密チャンバー２０２に、図５に示すように１段で
放射状即ち星形に配設され、他の処理セル即ち油焼入セ
ル２１２が気密チャンバー２０２の下部に位置して、気
密チャンバー２０２が全体として２段になっている点で
ある。なお、この第３の実施形態においては、ドアポケ
ット２４４は各処理セル２０４、２０８の上方に突設さ
れている。また、気密チャンバー２０２には、各処理セ
ルとの間を気密状態にする真空シール扉２６１が開閉可
能に設けられている。この真空シール扉２６１は、気密
チャンバー２０２との気圧差を確保するためのものであ
る。この実施形態では、気密チャンバー２０２の上部
は、モータ２６３および冷却ファン２６５を有するガス
冷却室としても使用できるよう構成されているので、必
要に応じて気密チャンバー２０２の上部でガス冷却を行
ってもよい。

【００３９】この第３の実施形態では、２段の気密チャ
ンバー２０２の下部が気密油焼入セル２１２なので、第
２の実施形態と同様に、加熱された処理物を短時間で油
焼入することができる。なお、図５において２６６で示
すのは、処理物が移送される搬送路である。

【００４０】次に、第４の実施形態について図６を参照
して説明する。図６は第４の実施形態の真空熱処理装置
３００を示す図１と同様な断面図である。この真空熱処
理装置３００は、気密チャンバー３０２が１段であり、
この気密チャンバー３０２の周りに気密加熱室３０６
と、ガス冷却室３０８が配置されている。そして、ガス
冷却室３０８の下に気密油焼入セル３１２が、配置され
ている。この真空熱処理装置３００の真空熱処理および
油焼入処理の方法は、図１の実施形態と同様であるの
で、説明は省略する。

【００４１】また、第５の実施形態として、図には示さ
ないが、１つの気密チャンバーの外周に処理セルを平面
的、即ち１段に配置した構成とすることもできる。この
場合も、他の実施形態と同様に気密チャンバー内に搬送
機構を有する。この搬送機構も、処理セル内に、或いは
処理セルから取り出すときに収容函を上下させる昇降機
構部および回転機構部を有する。

【００４２】以上のように、本発明の真空熱処理装置
１、１００、２００および３００は、夫々、気密チャン
バー２、１０２、２０２、３０２の外周に複数の処理セ
ルを配置した構成であるので、追加の処理セルを、外周
方向に、或いは上下方向に増設することが可能となり、
設置スペースを増大させずに生産量を増加させることが
できる。また、加熱処理後の処理物も加熱温度を維持し
たまま、約１分以内に油焼入セルに投入することが可能
となる。特に油焼入セルが気密チャンバーの下部に位置
する場合は、処理物を落下させることにより、一層早く
投入することができるので、温度低下が急激な小物の処
理物の場合でも、必要な時間内に焼入処理を行うことが
できるので、所望の高品質の製品を得ることができる。

【００４３】また、気密チャンバー２、１０２、２０
２、３０２は上記実施形態では円筒形として示されてい
るが、円筒形に限定されるものではなく、正方形、正多
角形等、種々の形状が考えられる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の第１の実施の形態を示す真空熱処理装
置を側面からみた概略断面図

【図２】図１の真空熱処理装置の一部を省略して示す概
略平面図

【図３】本発明の第２の実施形態の真空熱処理装置の、
図１と同様な側面からみた概略断面図

【図４】本発明の第３の実施形態の真空熱処理装置の、
図１と同様な側面からみた概略断面図

【図５】図４の真空熱処理装置の平面図

【図６】本発明の第４の実施形態の真空熱処理装置を示
す図１と同様な断面図

【符号の説明】

１、１００、２００、３００ 真空熱処理装置 ２、１０２、２０２、３０２ 気密チャンバー ４、６、２０４、３０４ 気密加熱室（処理セル） ８、２０８、３０８ ガス冷却室（処理セル） １０ 準備室（処理セル） １２、１１２、２１２、３１２ 気密油焼入室（油焼
入セル） ５１、１５１ 搬送機構 ５４ 収容函

Claims (5)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 処理物を処理セル内で熱処理する真空熱
   処理装置において、 装置中央に配置された気密チャンバーと、該気密チャン
   バーの外周に配設された複数の処理セルとを備え、 前記気密チャンバー内に、前記複数の処理セルとの間で
   前記処理物を移動させる搬送機構が設けられていること
   を特徴とする真空熱処理装置。
2. 【請求項２】 前記気密チャンバーおよび前記複数の処
   理セルの少なくとも一方が上下方向に２段以上に亘って
   配設されていることを特徴とする請求項１記載の真空熱
   処理装置。
3. 【請求項３】 前記搬送機構が、前記処理物を搭載する
   収容函と、該収容函の水平方向の向きを変える回転機構
   部と、前記収容函を上下に移動させる昇降機構部とを有
   することを特徴とする請求項１または２記載の真空熱処
   理装置。
4. 【請求項４】 前記処理セルの１つが油焼入セルであ
   り、および／または、前記気密チャンバーの下部に前記
   油焼入セルが配置されていることを特徴とする請求項１
   から３いずれか１項記載の真空熱処理装置。
5. 【請求項５】 前記処理セルの１つが、ガス冷却セルで
   あることを特徴とする請求項１から４いずれか１項記載
   の真空熱処理装置。