JP2003157585A

JP2003157585A - 追記型光記録媒体及び光ディスク装置

Info

Publication number: JP2003157585A
Application number: JP2001352549A
Authority: JP
Inventors: Noritake Omachi; 範威大間知; Koji Takazawa; 孝次高澤
Original assignee: Toshiba Corp
Current assignee: Toshiba Corp
Priority date: 2001-11-19
Filing date: 2001-11-19
Publication date: 2003-05-30

Abstract

(57)【要約】【課題】従来の追記型光記録媒体では、薄基板にグルー
ブを形成するため、グルーブ形成の過程での熱の影響に
より、グルーブが形成される面とは反対の面で光ビーム
の入射面の表面が荒れてしまい、これにより乱反射が生
じ、記録，再生に悪影響を及ぼすというという問題点が
あった。【解決手段】本発明の追記型光記録媒体では、薄基板
は、薄支持基板と、前記薄支持基板上に形成されるとと
もに、グルーブが形成されているグルーブ形成層とから
なる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、光ビームを照射し
て情報の記録若しくは再生を行う追記型光記録媒体及び
光ディスク装置に関する。

【０００２】

【従来の技術】現在、光ディスクとしては、再生専用タ
イプと記録可能なタイプとに大別される。このうち、記
録可能なタイプとしては、DVD-RAMに代表される何度で
も情報の記録，消去が可能な書き換えタイプと、CD-R，
DVD-R等の情報の追加記録が可能な追記タイプとに大別
される。

【０００３】上記に続いて、より大容量の情報の記録が
可能な次世代の光ディスクが検討されている。そして、
次世代の光ディスクは、高ＮＡ化に伴い、光透過層とし
て薄い基板を利用することが検討されている。そのた
め、この薄基板の作製方法，薄基板を使用した光記録媒
体などについて様々な検討が行われている。

【０００４】このうち、上記した追記タイプについて述
べると、薄基板を使用した追記型光記録媒体の中で現在
主流となっているグルーブ形状を変化させる方法では、
グルーブが形成された支持基板と薄基板の組み合わせで
は記録が困難になってしまう。これは、例えば、特開平
11-191240号公報に示されるように、次世代光ディスク
に対応した追記型光記録媒体を作製する際に、通常の書
き換え型光記録媒体と同様に、グルーブを形成した基板
上に、反射層，記録層の順に積層し、この記録層に薄基
板を貼り合わせることで作製する。そして、薄基板側か
ら光ビームを照射し、記録層に対する情報の記録若しく
は再生を行っている。そしてこの場合、光を吸収する記
録層と、グルーブ形状を形成した基板の間に反射層が挟
まれているため、グルーブ形状の変形を伴った記録が困
難であるという問題点があった。

【０００５】なお、特開平10-302310号公報には、薄基
板に案内溝(グルーブ)を形成する点の記載があるが、図
4，図12に示されているように、ポリカーボネート40か
ら作成される、グルーブが形成された光透過層12若しく
は薄板基板43は、スタンパ41とローラ42を用いてポリカ
ーボネート40にグルーブを形成するため、熱の影響によ
り、グルーブが形成される面とは反対の面であって、光
ビームが入射する面の表面が荒れ、入射する光ビームが
乱反射してしまう。このため、情報の記録のためには、
よりハイパワーの光源が必要となるとともに、情報の再
生の際にはノイズが増えてしまい、結果として、高密度
記録ができないという問題点があった。

【０００６】

【発明が解決しようとする課題】上述したように、従来
の追記型光記録媒体では、薄基板にグルーブを形成する
ため、グルーブ形成の過程での熱の影響により、グルー
ブが形成される面とは反対の面で光ビームの入射面の表
面が荒れてしまい、これにより乱反射が生じ、記録，再
生に悪影響を及ぼすというという問題点があった。

【０００７】本発明は、上述した問題点を解決し、光ビ
ームの入射面の表面が荒れることがなく、記録，再生に
悪影響を及ぼすことがない追記型光記録媒体及びこの媒
体に対して記録若しくは再生を行う光ディスク装置を提
供することを目的とする。

【０００８】

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、本発明の追記型光記録媒体では、照射された光ビー
ムにより情報の記録を行う追記型光記録媒体であって、
前記追記型光記録媒体は、前記光ビームが前記追記型光
記録媒体に入射する面に配置された光透過層と、前記光
透過層に形成された記録層と、前記記録層に形成された
反射層と、前記反射層に設けられた支持基板とを備え、
前記光透過層は、薄支持基板と、前記薄支持基板上に形
成されるとともに、グルーブが形成されているグルーブ
形成層とからなることを特徴とする。

【０００９】そして、光ビームの入射面に位置する光透
過層を、少なくとも薄支持基板とグルーブ形成層とで構
成することにより、グルーブ形成層へのグルーブ形成時
の熱の影響を光透過層に伝えることがないため、入射面
の表面性が優れるため乱反射が発生せず、より高密度な
記録が可能となる。

【００１０】また、前記追記型光記録媒体は、照射され
る前記光ビームにより前記グルーブ形成層に形成された
前記グルーブが変形することにより前記情報の記録が行
われることを特徴とする。

【００１１】そして、グルーブの形状が変形することに
よって情報の記録を行う追記型光記録媒体で、光透過層
にグルーブが形成されており、光透過層と記録層とが直
接接しているため、グルーブ形状の変形を伴う追記型光
記録媒体を実現することが出来る。

【００１２】また、前記追記型光記録媒体は、前記反射
層と前記支持基板とを接着する接着層を備えたことを特
徴とする。

【００１３】また、前記光透過層の厚みが、10〜198μm
であることを特徴とする。

【００１４】そして、高記録密度を可能にするために
は、高開口度のレンズが必要であり、このため、ワーキ
ングディスタンスが狭くなり、光ディスクとレンズ間の
距離を接近させるためには、198μm以下にする必要があ
る。また、10μm未満では、機械的特性が悪化するため
に、10μm以上が必要である。このため、上記厚みによ
り、機械的特性が悪化することなく、光ディスクとレン
ズ間の距離を接近させることができる。

【００１５】また、前記光透過層は、異なる2つの光透
過性樹脂層より構成されていることを特徴とする。

【００１６】そして、グルーブ形状の転写性，耐熱性，
成形性に優れ、複屈折が小さく、光学特性に優れた光記
録媒体とすることが可能である。

【００１７】また、前記支持基板の厚みが、0.5〜1.2mm
であることを特徴とする。

【００１８】そして、光透過層側から光ビームが入射さ
れて記録が行われるため、支持基板の光学的特性は問わ
れず、該厚みにしておけば、機械的特性および耐久性な
どを向上させることができる。

【００１９】また、前記グルーブの深さが、20〜200nm
であることを特徴とする。

【００２０】そして、該深さとすることにより、成形が
容易で、安定したトラッキングを行うことができる。こ
れは、200nmより厚いと成形が困難になり、20nm未満で
はトラッキング(サーボ)が不安定となってしまうことに
よる。

【００２１】この他、前記記録層は、有機色素膜からな
る。

【００２２】そして、これにより、他の有機材料に比べ
十分な屈折率(n)が得られる。

【００２３】また、前記反射層は、金、銀、銅、白金及
びアルミニウムからなる群より選ばれた少なくとも1種
類を含む合金であることを特徴とする。

【００２４】そして、上記合金とすることにより、反射
層として、反射特性、成膜後の表面性が優れている。

【００２５】また、前記記録層は、屈折率nが2以上、消
衰係数kが0.5〜2.5の材料であり、さらにこれらの窒化
物、酸化物、炭化物、ホウ化物、硫化物、フッ化物など
の単体、及びその混合物からから成ることを特徴とす
る。

【００２６】そして、記録層を上記にすることにより、
記録層，反射層全ての工程がスパッタリング装置で可能
なため、製造工程が短くなりコスト低下が可能である。

【００２７】また、前記記録層は、Si、Ge、さらにこれ
らの窒化物、酸化物、炭化物、ホウ化物、硫化物、フッ
化物などの単体、及びその混合物からから成ることを特
徴とする。

【００２８】さらに、本発明の光ディスク装置では、追
記型光記録媒体に対して、光ビームを照射することによ
り、情報の記録を行う光ディスク装置であって、前記追
記型光記録媒体として、前記光ビームが前記追記型光記
録媒体に入射する面に配置された光透過層と、前記光透
過層に形成された記録層と、前記記録層に形成された反
射層と、前記反射層に設けられた支持基板とを備え、前
記光透過層は、薄支持基板と、前記薄支持基板上に形成
されるとともに、グルーブが形成されているグルーブ形
成層とからなり、前記追記型光記録媒体に前記光ビーム
を照射する光ビーム照射手段と、前記光ビーム照射手段
による前記光ビームを前記追記型光記録媒体の記録層に
集光させる集光手段と、前記集光手段により集光された
光ビームが前記記録層に位置するように制御する位置制
御手段とを備えたことを特徴とする。

【００２９】また、追記型光記録媒体に対して、光ビー
ムを照射することにより、情報の再生を行う光ディスク
装置であって、前記追記型光記録媒体として、前記光ビ
ームが前記追記型光記録媒体に入射する面に配置された
光透過層と、前記光透過層に形成された記録層と、前記
記録層に形成された反射層と、前記反射層に設けられた
支持基板とを備え、前記光透過層は、薄支持基板と、前
記薄支持基板上に形成されるとともに、グルーブが形成
されているグルーブ形成層とからなり、前記追記型光記
録媒体に前記光ビームを照射する光ビーム照射手段と、
前記光ビーム照射手段による前記光ビームを前記追記型
光記録媒体の記録層に集光させる集光手段と、前記集光
手段により集光された光ビームが前記記録層に位置する
ように制御する位置制御手段とを備えたことを特徴とす
る。

【００３０】

【発明の実施の形態】以下、本発明の追記型光記録媒体
の実施の形態を、図面を参照して説明する。

【００３１】図１は、実施の形態に係わる追記型光記録
媒体の断面図を示す。光ディスク100は、深さが20〜200
nmのグルーブ110が形成された厚さ10〜198μmの薄基板1
1上に、少なくとも有機色素などの記録層１１および反
射層１２を積層させ、そこに光学的特性を問わない厚さ
0.5〜1.2mmの支持基板１３を接着層135により貼り合わ
せた構成である。なお、薄基板11は、光硬化性樹脂21と
薄支持基板25からなる。即ち、薄基板11は、光硬化性樹
脂21及び薄支持基板25という異なる2つの光透過性樹脂
層により構成されている。また、薄基板11に設けられた
凹凸のうち、グルーブ110は、光ディスク100への光ビー
ムの入射面から離れた領域に相当する。そして情報を記
録するパワーを持った光ビームがA方向から光ディスク1
00の所定領域に照射されると、薄基板11を介した光ビー
ムの熱エネルギーが記録層12に吸収され、この熱の影響
によりグルーブ110の形状が変化することにより情報が
記録される。

【００３２】グルーブ110が形成される前の薄基板11
は、押し出し成形またはキャスト法などで作製する。そ
の際に、使用される樹脂材料としては、ポリカーボネー
ト樹脂、メタクリル樹脂、アクリル樹脂、ポリオレフィ
ン樹脂、エポキシ樹脂などの光透過性樹脂材料が使われ
る。

【００３３】その薄基板11に対して、2P法(Photo polym
erization法)または熱転写などでグルーブ110を形成す
る。なお、2P法では、薄基板11上にグルーブ110を形成
させるために、新たに光透過性樹脂として、主に光硬化
性樹脂を使用する。この方法については後述する。

【００３４】それに対し、熱転写を利用する方法では、
上記樹脂材料からのみ作製した薄基板11では、熱転写時
に薄基板11が劣化してしまうなどの理由により、上記樹
脂材料のみから成る薄基板11へグルーブ110を熱転写す
ることは困難である。このため、図１に示すように、薄
基板11を薄支持基板25と光硬化性樹脂21とから構成して
いる。これは、薄支持基板25に比べ低温で熱転写が可能
な、つまり、薄支持基板25の樹脂材料に比べ粘度平均分
子量(Mv)が低い樹脂材料からなる樹脂層として光硬化性
樹脂21を、上記薄支持基板25にラミネートし、粘度平均
分子量(Mv)が低い光硬化樹脂21の面にグルーブ110を熱
転写させることにより精密なグルーブ110の熱転写が可
能となる。

【００３５】そして、本発明の実施の形態では、記録時
にグルーブ110形状の変形を伴う追記型光記録媒体にお
いて、グルーブが形成されている支持基板上に反射膜、
記録膜を積層した光記録媒体では反射膜が基板変形を妨
げてしまい、記録することが困難であることから、グル
ーブ110が形成されている薄基板11を作製し、その上に
記録層12、反射層13を積層することで、記録時にグルー
ブ110形状の変形を伴う追記型光記録媒体を可能とし
た。

【００３６】次に、薄基板11のグルーブ110を、2P法に
より作成する方法について述べる。図２は、グルーブ11
0が形成された薄基板11を2P法により製造する方法につ
いて説明した図である。

【００３７】まず、図２(a)に示すように、押し出し成
形またはキャスト法で作製した薄支持基板25上に、光透
過性樹脂層として光硬化性樹脂２１を、薄支持基板25に
対して相対的に回転させながら薄支持基板25上にその円
周方向に沿ってリング状に塗布する。これにより、グル
ーブのない薄基板11が作成される。なお、光硬化性樹脂
21としては、例えば紫外線硬化樹脂を用いる。その後、
図２(b)に示すように、グルーブ110を作成するためにグ
ルーブ形状が形成されたスタンパ２２上に、図２(a)で
作成した薄基板11を、光硬化性樹脂２１が塗布された側
をスタンパ２２のグルーブ形状が形成された側に合致さ
せて衝合する。この状態で図示しない円柱状の押圧ロー
ラなどを用いて、例えばスタンパ２２上に配置された薄
支持基板25上から一定の荷重をかける。この動作によ
り、薄支持基板25とスタンパ２２との間に介在する光硬
化性樹脂２１が押圧されて、薄支持基板25およびスタン
パ２２の板面に沿って展延する。その後、図２(c)に示
すように、薄支持基板25の背面から紫外線ランプ（ＵＶ
ランプ）200によって紫外線照射を行ない、光硬化性樹
脂２１の硬化を行う。そして図示しないローラ等で搬送
し、スタンパ２２とグルーブが形成された光硬化性樹脂
２１及び薄支持基板25とを剥離する。これにより、図２
(d)に示すように、一方の面にグルーブ110が形成された
薄基板11が作製できる。

【００３８】図２では2P法により薄基板11を作成する方
法について述べたが、この他の方法により作成すること
も可能である。

【００３９】図３は、薄基板11へのグルーブの転写を熱
転写により行う場合の形成方法を示す図である。

【００４０】図３(a)に示すように、押し出し成形、ま
たはキャスト法で作られた薄支持基板35に対して、薄支
持基板35よりガラス転移温度が低い樹脂材料からなるグ
ルーブ形成層31を用意し、ローラ31，32を用いてこれら
を貼り合わせる。次に、グルーブ形成層31及び薄支持基
板35に対して、ガラス転移点よりも高い温度に熱せられ
たスタンパ22を接触させ、これらに対してローラ３３に
より圧力をかけて圧着させる。そして、ローラ33を薄支
持基板35から離した後、所定の大きさとして例えばディ
スク形状に加工することにより、図３(b)に示すよう
に、グルーブ形成層31にグルーブ110が転写された薄基
板311を作製できる。なお、グルーブ形成層31の材料と
しては、薄支持基板35よりガラス転移温度)が低い樹脂
材料として、例えばアクリル(PMMA)，アモルファスポリ
オレフィン(APO)が用いられる。

【００４１】また、薄基板11，311の厚さの上限は、押
し出し成形、キャスト法で厚さ精度良く作製できる薄基
板の厚さが概ね３１０μｍであるため、グルーブ110が
形成された薄基板の厚さは３１０μｍ以下であることが
必要である。一方、厚さの下限は、薄基板11，311は記
録層12あるいは反射層13を保護する役割も有するため、
該役割を達成できればよく、光ディスク100の信頼性
や、光ディスク100の記録若しくは再生に用いられる２
群レンズの薄基板11，311表面への衝突の影響を考慮す
ると、１０μｍ以上であることが必要である。

【００４２】図２若しくは図３で示した方法で作製した
グルーブ110が形成された薄基板11，311を光ディスク10
0として完成させるために、薄基板11，311上に有機色素
などの記録層12と反射層13を成膜する。

【００４３】記録層12は、有機色素材料を記録材料とし
て含有している。具体的に有機色素材料としては、シア
ニン系、フタロシアン系、アゾ金属錯体系及びこれらの
構成元素を他の元素及び置換基で置換したことを置換し
た有機色素などの有機色素系材料を例示することが出来
る。この記録層12を形成する際には、まず、記録材料で
ある有機色素材料をアルコールなどの溶媒に溶解して塗
料化する。そして、有機材料を含有する塗料をスピンコ
ーティングなどの手法を用いて所定の厚みとして、その
後、スピンコーティング法により形成された塗膜を乾燥
することによって、約１２０ｎｍの厚みの記録層12が形
成される。また、この記録層12は、有機色素系材料以外
にも、使用する波長で十分な光吸収を行なえばよく、屈
折率ｎが２以上、消衰係数ｋが０．５〜２．５の材料で
も可能である。例として、Ｓｉ、Ｇｅなど、あるいはこ
れらの窒化物、酸化物、炭化物、ホウ化物、硫化物、フ
ッ化物などの単体、及びその混合物からなる材料が挙げ
られる。例えば、ＳｉＮを成膜する場合、Ｓｉターゲッ
トあるいはＳｉＮターゲットを配設したスパッタリング
装置でスパッタリングガスとしてＡｒ＋Ｎ２の混合気体
を使用して反応性スパッタを行うことにより成膜でき
る。

【００４４】次に、反射層13は、記録若しくは再生時
に、照射された光ビームの薄基板11，311での反射率を
向上させるために配設されたものであり、記録層12と支
持基板14の間に形成される。具体的に、反射層13の材料
としては、Ａｌ、Ａｕ、Ａｇ、Cu、Pt等の金属材料が用
いられる。特に、反射特性の観点からは、少なくともＡ
ｌを含む材料を用いると好ましい。また、光ディスク10
0のような追記型光記録媒体では、高密度記録を目的と
して短波長のレーザ光を使用する傾向にあり、例えば、
波長が４００ｎｍ程度のレーザ光が使用されるようにな
ってきている。したがって、反射層13としては、短波長
のレーザ光、例えば、波長が４００ｎｍ程度のレーザ光
に対して優れた反射率を示すような材料を使用すること
が好ましい。これら、短波長のレーザ光に対して優れた
反射率を示し、且つ、成膜プロセス後の表面性に優れた
材料としては、Ａｇ、Ａｇ合金、Ａｌ合金等が好まし
く、特にＡｇを使用することが好ましい。また、この反
射層13は、上記の材料をイオンビームスパッタ、マグネ
トロンスパッタ又は真空蒸着法等の何れかの方法により
形成されている。具体的に、スパッタリング法によりＡ
ｇを約１００ｎｍの厚みで成膜して反射膜１２としてい
る。

【００４５】その後、別途射出成形にて作製した例えば
厚さ１．１ｍｍの支持基板14上に、接着層135として紫
外線硬化性樹脂を滴下し、記録層12さらに反射層13が積
層された薄基板11を載置して圧着し、支持基板14側から
紫外線を照射して接着し、追記型光記録媒体である光デ
ィスク100を作製することができる。なお、薄基板11，3
11側から光ビームが入射されて(図１ではA方向)記録が
行われるために、支持基板１4の光透過性は無くても構
わない。これにより、支持基板14の材料として任意の材
料を選択できるため、機械的特性および耐久性などの更
なる機能向上を図ることができる。また、支持基板14の
厚みは、0.5〜1.2mmの間で任意に決定してよい。

【００４６】なお、上述した実施の形態では、片面に1
つの記録層12がある光ディスク100について説明した
が、図４に示すように、両面光ディスク400の両面に記
録層12を有してもよい。この場合、各面の支持基板14は
材料として例えばポリカーボネートを用い、これを約50
μm塗布して接着層4135とし、これに接着させる。これ
により、A方向に加えてB方向から光ビームを入射される
ことにより2つの記録層12への情報の記録若しくは再生
が可能となる。

【００４７】また、図４の変形例として、支持基板14，
接着層4135，支持基板14を合わせて1枚の支持基板とし
てもよい。この場合、支持基板の厚みは約1.0μmとす
る。そして、これによりより製造が容易となる。

【００４８】また、図４の変形例として、図５に示すよ
うに、図４の一方の支持基板14〜薄基板11に代えて、記
録層のないダミー板50を設けてよい。この場合、ダミー
板50は材料として例えばポリカーボネートを用い、これ
を接着層4135を介して支持基板14に接着させる。そし
て、ダミー板50の厚さを調節することにより、光ディス
ク100全体の厚さを図４の両面光ディスク400と同じにす
ることができる。

【００４９】次に本実施の形態の追記型光記録媒体への
情報の記録及び再生を行う光ディスク装置について説明
する。

【００５０】図６は、本実施の形態の追記型光記録媒体
に係る光ディスク装置の概略構成を示す図である。この
光ディスク装置は、上記説明した光ディスク100に対し
て目的の情報(データ)を記録したり、この光ディスク10
0に記録されたデータを再生したりする。

【００５１】図６に示すように、光ディスク装置は、変
調回路602、レーザ制御回路603、レーザ604、コリメー
トレンズ605、偏光ビームスプリッタ(以下、PBS)606、
４分の１波長板607、対物レンズ608、集光レンズ609、
光検出器610、信号処理回路611、復調回路612、フォー
カスエラー信号生成回路613、トラッキングエラー信号
生成回路614、フォーカス制御回路616、トラッキング制
御回路617を備えている。

【００５２】まず、この光ディスク装置によるデータの
記録について説明する。記録データは、変調回路602に
より所定のチャネルビット系列に変調される。記録デー
タに対応したチャネルビット系列は、レーザ制御回路60
3によりレーザ駆動波形に変換される。レーザ制御回路6
03は、レーザ604をパルス駆動し、所望のビット系列に
対応したデータを光ディスク100上に記録する。レーザ6
04から放射された記録用の光ビームは、コリメートレン
ズ605で平行光となり、PBS606に入射し、透過する。PBS
606を透過したビームは４分の１波長板607を透過し、対
物レンズ608により光ディスク100の情報記録面に集光さ
れる。集光されたビームは、フォーカス制御回路616に
よるフォーカス制御及びトラッキング制御回路617によ
るトラッキング制御により、記録面上に最良の微小スポ
ットが得られる状態で維持される。

【００５３】続いて、この光ディスク装置によるデータ
の再生について説明する。データ再生指示に基づき、レ
ーザ604は再生用の光ビームを放射する。レーザ604から
放射された再生用の光ビームは、コリメートレンズ605
で平行光となり、PBS606に入射し、透過する。PBS606を
透過した光ビームは４分の１波長板607を透過し、対物
レンズ608により光ディスク100の情報記録面に集光され
る。集光されたビームは、フォーカス制御回路616によ
るフォーカス制御及びトラッキング制御回路617による
トラッキング制御により、記録面上に最良の微小スポッ
トが得られる状態で維持される。このとき、光ディスク
１上に照射された再生用の光ビームは、光ディスク100
の記録層12，反射層13により反射される。反射光は対物
レンズ608を逆方向に透過し、再度平行光となる。反射
光は４分の１波長板607を透過し、入射光に対して垂直
な偏光を持ち、PBS606では反射される。PBS606で反射さ
れたビームは集光レンズ609により収束光となり、光検
出器610に入射される。光検出器610は、例えば、４分割
のフォトディテクタから構成されている。光検出器610
に入射した光束は光電変換されて電気信号となり増幅さ
れる。増幅された信号は信号処理回路611にて等化され
２値化され、復調回路612に送られる。復調回路612では
所定の変調方式に対応した復調動作を施されて、再生デ
ータが出力される。

【００５４】また、光検出器610から出力される電気信
号の一部に基づき、フォーカスエラー信号生成回路613
によりフォーカスエラー信号が生成される。同様に、光
検出器610から出力される電気信号の一部に基づき、ト
ラッキングエラー信号生成回路614によりトラッキング
エラー信号が生成される。フォーカス制御回路616は、
フォーカスエラー信号に基づきビームスポットのフォー
カスを制御する。トラッキング制御回路617は、トラッ
キングエラー信号に基づきビームスポットのトラッキン
グを制御する。

【００５５】

【発明の効果】以上説明したように、本発明の追記型光
記録媒体によれば、光ビームの入射面の表面が荒れるこ
とがなく、記録，再生に悪影響を及ぼすことがないとい
う効果を得ることができる。また、この効果は、光ディ
スク装置においても同様である。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の実施の形態による追記型光記録媒体の
断面図。

【図２】本発明の実施の形態による追記型光記録媒体へ
のグルーブ形成方法(2P法)を示す図。

【図３】本発明の実施の形態による追記型光記録媒体へ
のグルーブ形成方法(熱転写法)を示す図。

【図４】本発明の実施の形態による両面タイプの追記型
光記録媒体を示す図。

【図５】本発明の実施の形態による追記型光記録媒体の
変形例を示す図。

【図６】本発明の実施の形態による追記型光記録媒体へ
の情報の記録及び再生を行う光ディスク装置の概略構成
を示すブロック図。

【符号の説明】

11，311…薄基板 12…記録層 13…反射層 14…支持基板 21…光硬化性樹脂 22…スタンパ 25，35…薄支持基板 31…グルーブ形成層 50…ダミー板 100…光ディスク 110…グルーブ 135，4135…接着層 200…紫外線ランプ 400…両面光ディスク 602…変調回路 603…レーザ制御回路 604…レーザ 605…コリメートレンズ 606…偏光ビームスプリッタ(PBS) 607…４分の１波長板 608…対物レンズ 609…集光レンズ 610…光検出器 611…信号処理回路 612…復調回路 613…フォーカスエラー信号生成回路 614…トラッキングエラー信号生成回路 616…フォーカス制御回路 617…トラッキング制御回路

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】照射された光ビームにより情報の記録を行
う追記型光記録媒体であって、前記追記型光記録媒体は、前記光ビームが前記追記型光記録媒体に入射する面に配
置された光透過層と、前記光透過層に形成された記録層と、前記記録層に形成された反射層と、前記反射層に設けられた支持基板とを備え、前記光透過層は、薄支持基板と、前記薄支持基板上に形成されるとともに、グルーブが形
成されているグルーブ形成層とからなることを特徴とす
る追記型光記録媒体。
【請求項２】前記追記型光記録媒体は、照射される前記
光ビームにより前記グルーブ形成層に形成された前記グ
ルーブが変形することにより前記情報の記録が行われる
ことを特徴とする請求項１記載の追記型光記録媒体。
【請求項３】前記追記型光記録媒体は、前記反射層と前
記支持基板とを接着する接着層を備えたことを特徴とす
る請求項１記載の追記型光記録媒体。
【請求項４】前記光透過層の厚みが、10〜198μmである
ことを特徴とする請求項１記載の追記型光記録媒体。
【請求項５】前記光透過層は、異なる2つの光透過性樹
脂層より構成されていることを特徴とする請求項１記載
の光記録媒体。
【請求項６】前記支持基板の厚みが、0.5〜1.2mmである
ことを特徴とする請求項１記載の追記型光記録媒体。
【請求項７】前記グルーブの深さが、20〜200nmである
ことを特徴とする請求項１記載の追記型光記録媒体。
【請求項８】追記型光記録媒体に対して、光ビームを照
射することにより、情報の記録を行う光ディスク装置で
あって、前記追記型光記録媒体として、前記光ビームが前記追記型光記録媒体に入射する面に配
置された光透過層と、前記光透過層に形成された記録層と、前記記録層に形成された反射層と、前記反射層に設けられた支持基板とを備え、前記光透過層は、薄支持基板と、前記薄支持基板上に形成されるとともに、グルーブが形
成されているグルーブ形成層とからなり、前記追記型光記録媒体に前記光ビームを照射する光ビー
ム照射手段と、前記光ビーム照射手段による前記光ビームを前記追記型
光記録媒体の記録層に集光させる集光手段と、前記集光手段により集光された光ビームが前記記録層に
位置するように制御する位置制御手段とを備えたことを
特徴とする光ディスク装置。
【請求項９】追記型光記録媒体に対して、光ビームを照
射することにより、情報の再生を行う光ディスク装置で
あって、前記追記型光記録媒体として、前記光ビームが前記追記型光記録媒体に入射する面に配
置された光透過層と、前記光透過層に形成された記録層と、前記記録層に形成された反射層と、前記反射層に設けられた支持基板とを備え、前記光透過層は、薄支持基板と、前記薄支持基板上に形成されるとともに、グルーブが形
成されているグルーブ形成層とからなり、前記追記型光記録媒体に前記光ビームを照射する光ビー
ム照射手段と、前記光ビーム照射手段による前記光ビームを前記追記型
光記録媒体の記録層に集光させる集光手段と、前記集光手段により集光された光ビームが前記記録層に
位置するように制御する位置制御手段とを備えたことを
特徴とする光ディスク装置。