JP2003038948A - 粒子加工装置 - Google Patents
粒子加工装置Info
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- JP2003038948A JP2003038948A JP2001229775A JP2001229775A JP2003038948A JP 2003038948 A JP2003038948 A JP 2003038948A JP 2001229775 A JP2001229775 A JP 2001229775A JP 2001229775 A JP2001229775 A JP 2001229775A JP 2003038948 A JP2003038948 A JP 2003038948A
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- particles
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 ガス体から粉粒体粒子を効率的に分離捕集し
て粒子加工ゾーンに効率よく戻し、洗浄作業も容易とす
る。 【解決手段】 処理容器21内の粉粒体粒子25にガス
体を通気して該粒子を乾燥または加工するための粒子加
工ゾーン(流動層)24を形成する。粒子加工ゾーン
(流動層)形成後に排出されるガス体中の粒子を分離捕
集する粒子捕集手段30と、粒子捕集手段30で分離捕
集した粒子を吸引して粒子加工ゾーン24に戻すエジェ
クター31を設ける。粒子捕集手段30は、螺旋状通路
30aと、螺旋状通路30aの外側にトラップゲート3
0gを介して連通する捕集粒子回収室30bとからな
り、該捕集粒子回収室30bがエジェクター31の負圧
発生部31aに連通されている。
て粒子加工ゾーンに効率よく戻し、洗浄作業も容易とす
る。 【解決手段】 処理容器21内の粉粒体粒子25にガス
体を通気して該粒子を乾燥または加工するための粒子加
工ゾーン(流動層)24を形成する。粒子加工ゾーン
(流動層)形成後に排出されるガス体中の粒子を分離捕
集する粒子捕集手段30と、粒子捕集手段30で分離捕
集した粒子を吸引して粒子加工ゾーン24に戻すエジェ
クター31を設ける。粒子捕集手段30は、螺旋状通路
30aと、螺旋状通路30aの外側にトラップゲート3
0gを介して連通する捕集粒子回収室30bとからな
り、該捕集粒子回収室30bがエジェクター31の負圧
発生部31aに連通されている。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、処理容器内の粉粒
体粒子にガス体を通気して該粒子を乾燥または加工する
と共に、前記処理容器から排出するガス体中の粒子を分
離捕集する粒子加工装置に関するもので、食品、医薬
品、農薬などの製造分野で使用されるものである。
体粒子にガス体を通気して該粒子を乾燥または加工する
と共に、前記処理容器から排出するガス体中の粒子を分
離捕集する粒子加工装置に関するもので、食品、医薬
品、農薬などの製造分野で使用されるものである。
【0002】
【従来の技術】従来、粉粒体粒子が混在したガス体から
該粒子を分離捕集する方法に、サイクロン方式とバッグ
フィルター方式とがある。
該粒子を分離捕集する方法に、サイクロン方式とバッグ
フィルター方式とがある。
【0003】数十ミクロン以上の比較的大きい粒子の分
離捕集には、工業的に前者が用いられるが、製薬・食品
・農薬などの分野における微小粒子の分離捕集は、図2
に示すような粒子加工装置(例えば流動層装置)では、
通常、分離捕集した粒子を粒子加工ゾーンに容易に戻す
ために、処理容器1の上部にバッグフィルター2を設置
し、バッグフィルター2で濾過分離捕集した粉粒体粒子
を、バッグフィルター2に付属して設置される払い落と
し機構(図示省略)で払い落とすことによって下部の粒
子加工ゾーン(流動層)3に戻す方法が採られている。
なお、図2の粒子加工装置は、処理容器1の下部のガス
体導入口4からガス体(例えば、空気)が導入され、こ
のガス体が多数の通気孔を有する分散板5を通して上向
きに分散供給され、これによって粉粒体粒子6の流動層
3を形成させ、乾燥させたり、またこの流動層3に向け
てスプレーノズル8から粒子加工用の液体9が噴霧供給
され、目的の粒子加工が施される。該液体9は、例え
ば、コーティング液やバインダー液などである。処理容
器1内に分散供給されたガス体は、粉粒体粒子6の流動
層3を形成しつつ分散、乾燥またはその他の加工に寄与
した後、処理容器1の上部のバッグフィルター2で濾過
固気分離し、ガス体のみとなって排気ダクト10から排
気される。
離捕集には、工業的に前者が用いられるが、製薬・食品
・農薬などの分野における微小粒子の分離捕集は、図2
に示すような粒子加工装置(例えば流動層装置)では、
通常、分離捕集した粒子を粒子加工ゾーンに容易に戻す
ために、処理容器1の上部にバッグフィルター2を設置
し、バッグフィルター2で濾過分離捕集した粉粒体粒子
を、バッグフィルター2に付属して設置される払い落と
し機構(図示省略)で払い落とすことによって下部の粒
子加工ゾーン(流動層)3に戻す方法が採られている。
なお、図2の粒子加工装置は、処理容器1の下部のガス
体導入口4からガス体(例えば、空気)が導入され、こ
のガス体が多数の通気孔を有する分散板5を通して上向
きに分散供給され、これによって粉粒体粒子6の流動層
3を形成させ、乾燥させたり、またこの流動層3に向け
てスプレーノズル8から粒子加工用の液体9が噴霧供給
され、目的の粒子加工が施される。該液体9は、例え
ば、コーティング液やバインダー液などである。処理容
器1内に分散供給されたガス体は、粉粒体粒子6の流動
層3を形成しつつ分散、乾燥またはその他の加工に寄与
した後、処理容器1の上部のバッグフィルター2で濾過
固気分離し、ガス体のみとなって排気ダクト10から排
気される。
【0004】バッグフィルター2では、比較的大きい粒
子はバッグフィルター2の網目で捕捉できるが、微小な
粉粒体粒子の捕捉は、運転の経過とともに生じる目詰ま
りによって初めて可能となる。従って、運転初期におけ
る粒子捕集効率が十分でなく、特に数十ミクロンより小
さい粉粒体粒子を取り扱う場合、運転初期のロスは無視
できず、捕集効率の増大は極めて重大な問題となってい
る。
子はバッグフィルター2の網目で捕捉できるが、微小な
粉粒体粒子の捕捉は、運転の経過とともに生じる目詰ま
りによって初めて可能となる。従って、運転初期におけ
る粒子捕集効率が十分でなく、特に数十ミクロンより小
さい粉粒体粒子を取り扱う場合、運転初期のロスは無視
できず、捕集効率の増大は極めて重大な問題となってい
る。
【0005】また、バッグフィルター2で濾過分離捕集
した粉粒体粒子を粒子加工ゾーン(流動層)3に戻すの
に、払い落とし機構が用いられているが、払い落とされ
た粒子の中で微小な粉粒体粒子はその質量が小さいた
め、再び舞い上がって、バッグフィルター2に付着しよ
うとして、粒子加工ゾーン3に戻りにくい。また、目詰
まりの除去や菌の発生やクロスコンタミネーションの防
止などのため必要な、作業後のバッグフィルター2の洗
浄作業が極めて厄介であるという問題がある。
した粉粒体粒子を粒子加工ゾーン(流動層)3に戻すの
に、払い落とし機構が用いられているが、払い落とされ
た粒子の中で微小な粉粒体粒子はその質量が小さいた
め、再び舞い上がって、バッグフィルター2に付着しよ
うとして、粒子加工ゾーン3に戻りにくい。また、目詰
まりの除去や菌の発生やクロスコンタミネーションの防
止などのため必要な、作業後のバッグフィルター2の洗
浄作業が極めて厄介であるという問題がある。
【0006】一方、粒子加工装置から排出される排気の
処理に従来のサイクロン方式を用いる場合、図3に示す
ように、粒子加工装置11から排出されるガス体をサイ
クロン容器12内の分離室13の上部に接線方向から導
入し、該分離室13内でガス体を旋回流動させ、その旋
回流動による遠心力でガス体中に含まれる粉粒体粒子を
外周側へ飛ばして分離させ、分離させた粉粒体粒子をサ
イクロン容器12の下部漏斗室14に自重で落下回収さ
せ、ガス体の方はサイクロン容器12の上部中心部から
排気させ、回収した粉粒体粒子の方は、適宜の時点で下
部漏斗室14からロータリーバルブ15を回転駆動する
ことによって取り出す。取り出した粒子を粒子加工装置
11に戻すには、粒子加工室壁を貫通する管を通して重
力を利用して落下させて行う必要があり、必ずしも粒子
加工処理に適した個所に戻せない。また、従来型サイク
ロン方式では、粒子分離効率が十分でないので、サイク
ロンの排気を更にバッグフィルターを通して、粒子分離
を補強する方法が採られる。バッグフィルターを接続す
ることなく、サイクロンのみで粉粒体粒子の捕集効率を
上げるために、ガス体導入口16のガス体流速を十分大
きくした上、分離室13の形状に工夫を加え、寸法を大
きくする必要がある。こうして上記構成からなるサイク
ロン方式を粒子加工装置容器内の上部に設けることは、
構造上及び操作上の制約から到底考えることはできな
い。従って図3のように粒子加工装置から出る排気を一
旦粒子加工装置の外に出した上で排気ガスの中に含まれ
る粉体粒子を分離捕集する必要がある。この場合、分離
捕集した粉体粒子を粒子加工装置内の所望の個所に戻す
には、特別の工夫が必要である。また、前述のように、
従来のバッグフィルター方式を粒子加工装置の外に設け
た場合にも、分離捕集した粒子を粒子加工ゾーンへ戻す
にも特別の工夫が要る。更に作業後の洗浄が大変である
などの問題も腹蔵する。
処理に従来のサイクロン方式を用いる場合、図3に示す
ように、粒子加工装置11から排出されるガス体をサイ
クロン容器12内の分離室13の上部に接線方向から導
入し、該分離室13内でガス体を旋回流動させ、その旋
回流動による遠心力でガス体中に含まれる粉粒体粒子を
外周側へ飛ばして分離させ、分離させた粉粒体粒子をサ
イクロン容器12の下部漏斗室14に自重で落下回収さ
せ、ガス体の方はサイクロン容器12の上部中心部から
排気させ、回収した粉粒体粒子の方は、適宜の時点で下
部漏斗室14からロータリーバルブ15を回転駆動する
ことによって取り出す。取り出した粒子を粒子加工装置
11に戻すには、粒子加工室壁を貫通する管を通して重
力を利用して落下させて行う必要があり、必ずしも粒子
加工処理に適した個所に戻せない。また、従来型サイク
ロン方式では、粒子分離効率が十分でないので、サイク
ロンの排気を更にバッグフィルターを通して、粒子分離
を補強する方法が採られる。バッグフィルターを接続す
ることなく、サイクロンのみで粉粒体粒子の捕集効率を
上げるために、ガス体導入口16のガス体流速を十分大
きくした上、分離室13の形状に工夫を加え、寸法を大
きくする必要がある。こうして上記構成からなるサイク
ロン方式を粒子加工装置容器内の上部に設けることは、
構造上及び操作上の制約から到底考えることはできな
い。従って図3のように粒子加工装置から出る排気を一
旦粒子加工装置の外に出した上で排気ガスの中に含まれ
る粉体粒子を分離捕集する必要がある。この場合、分離
捕集した粉体粒子を粒子加工装置内の所望の個所に戻す
には、特別の工夫が必要である。また、前述のように、
従来のバッグフィルター方式を粒子加工装置の外に設け
た場合にも、分離捕集した粒子を粒子加工ゾーンへ戻す
にも特別の工夫が要る。更に作業後の洗浄が大変である
などの問題も腹蔵する。
【0007】
【発明が解決しようとする課題】かくして粒子加工装置
に付設する粒子分離捕集機構において、捕集効率が高
く、分離捕集した粒子を効率よく粒子加工ゾーンに戻す
ことができ、できるだけ単純で、取り扱いおよび洗浄作
業も容易な粒子分離捕集機構が強く要望されてきた。
に付設する粒子分離捕集機構において、捕集効率が高
く、分離捕集した粒子を効率よく粒子加工ゾーンに戻す
ことができ、できるだけ単純で、取り扱いおよび洗浄作
業も容易な粒子分離捕集機構が強く要望されてきた。
【0008】本発明者らは、上記要望に応えるために鋭
意研究した結果、本発明を完成させるに至ったもので、
その目的とするところは、粉粒体粒子を含有するガス体
から、粉粒体粒子を効率的に分離捕集することができ、
かつ、分離捕集した粉粒体粒子を粒子加工ゾーンに効率
よく戻すことができ、取り扱いおよび洗浄作業が容易な
粉粒体粒子捕集手段を有する粒子加工装置を提供するこ
とにある。
意研究した結果、本発明を完成させるに至ったもので、
その目的とするところは、粉粒体粒子を含有するガス体
から、粉粒体粒子を効率的に分離捕集することができ、
かつ、分離捕集した粉粒体粒子を粒子加工ゾーンに効率
よく戻すことができ、取り扱いおよび洗浄作業が容易な
粉粒体粒子捕集手段を有する粒子加工装置を提供するこ
とにある。
【0009】
【課題を解決するための手段】前記目的を達成するた
め、本発明は、処理容器内の粉粒体粒子にガス体を通気
して該粒子を乾燥または造粒若しくはコーティングなど
処理加工するための粒子加工ゾーンを形成する粒子加工
装置において、バッグフィルターを極力用いることな
く、できるだけ単純な機構を用いて、ガス体の旋回運動
に伴う遠心力を利用して粒子を効率的に分離捕集する機
構を考案した。即ち、分離効率を上げるために、ガス体
の旋回流の旋回速度を上げるための手段と、効率的に分
離捕集するための手段と、分離捕集した粒子を効率的に
粒子加工ゾーンに戻すための手段を考案した。次に、こ
れを更に具体的に説明を加える。旋回流の旋回速度を上
げるために、粉末を含むガス体が旋回流路の中に、必要
に応じて旋回方向に圧縮空気を吹き込み、また旋回流路
を螺旋流路とし、その断面積を適当に設計するなどの手
段により、旋回流の流速を十分大きくし、粒子に加わる
遠心力を大きくすることによって、分離効率の増大を図
り、前記粒子加工ゾーン形成後に排出されるガス体中の
粒子を効率的に分離捕集する粒子捕集手段である。遠心
力によって旋回流路の外壁近傍に移動し流れる粒子を旋
回流の外に取り出すために、旋回流路の外壁にスリット
(30g,30h)を設け、該スリットから旋回流系外
に設けた粒子捕集室(30b)に粒子リッチなガス体を
導いた。ここに該スリットから最適量のガス体が流出す
るようにするためには、スリットの内外の圧バランスが
適当でなければならない。そのために、粒子捕集室(3
0b)とエジェクター(31)の吸引口を接続し、粒子
捕集室(30b)を適当に陰圧に調節した。粒子捕集室
を経て、エジェクター(31)の吸い込み口を粒子捕集
室の底部に設けることにより、粒子捕集室に沈降した粒
子はエジェクターに効率よく吸い込まれる。エジェクタ
ー(31)に吸い込まれた粒子は圧縮空気の気流によ
り、粒子加工処理ゾーンの適当な個所に戻すことは容易
になる。エジェクター(31)の採用は、図3のように
サイクロンを粒子加工装置の外においた場合でも、サイ
クロンの下部にエジェクターの吸引口を接続することに
より、粒子加工処理ゾーンの適当な個所に戻すことは容
易になる。このエジェクターは、圧縮空気等のガス体の
供給配管を接続しておくだけでよいためロータリーバル
ブのような開閉操作が不要となり、しかも、分離捕集し
た粉粒体粒子を負圧発生部に吸引させて圧縮空気等のガ
ス体に同伴させて粒子加工ゾーンへ効率よく戻すことが
できる。
め、本発明は、処理容器内の粉粒体粒子にガス体を通気
して該粒子を乾燥または造粒若しくはコーティングなど
処理加工するための粒子加工ゾーンを形成する粒子加工
装置において、バッグフィルターを極力用いることな
く、できるだけ単純な機構を用いて、ガス体の旋回運動
に伴う遠心力を利用して粒子を効率的に分離捕集する機
構を考案した。即ち、分離効率を上げるために、ガス体
の旋回流の旋回速度を上げるための手段と、効率的に分
離捕集するための手段と、分離捕集した粒子を効率的に
粒子加工ゾーンに戻すための手段を考案した。次に、こ
れを更に具体的に説明を加える。旋回流の旋回速度を上
げるために、粉末を含むガス体が旋回流路の中に、必要
に応じて旋回方向に圧縮空気を吹き込み、また旋回流路
を螺旋流路とし、その断面積を適当に設計するなどの手
段により、旋回流の流速を十分大きくし、粒子に加わる
遠心力を大きくすることによって、分離効率の増大を図
り、前記粒子加工ゾーン形成後に排出されるガス体中の
粒子を効率的に分離捕集する粒子捕集手段である。遠心
力によって旋回流路の外壁近傍に移動し流れる粒子を旋
回流の外に取り出すために、旋回流路の外壁にスリット
(30g,30h)を設け、該スリットから旋回流系外
に設けた粒子捕集室(30b)に粒子リッチなガス体を
導いた。ここに該スリットから最適量のガス体が流出す
るようにするためには、スリットの内外の圧バランスが
適当でなければならない。そのために、粒子捕集室(3
0b)とエジェクター(31)の吸引口を接続し、粒子
捕集室(30b)を適当に陰圧に調節した。粒子捕集室
を経て、エジェクター(31)の吸い込み口を粒子捕集
室の底部に設けることにより、粒子捕集室に沈降した粒
子はエジェクターに効率よく吸い込まれる。エジェクタ
ー(31)に吸い込まれた粒子は圧縮空気の気流によ
り、粒子加工処理ゾーンの適当な個所に戻すことは容易
になる。エジェクター(31)の採用は、図3のように
サイクロンを粒子加工装置の外においた場合でも、サイ
クロンの下部にエジェクターの吸引口を接続することに
より、粒子加工処理ゾーンの適当な個所に戻すことは容
易になる。このエジェクターは、圧縮空気等のガス体の
供給配管を接続しておくだけでよいためロータリーバル
ブのような開閉操作が不要となり、しかも、分離捕集し
た粉粒体粒子を負圧発生部に吸引させて圧縮空気等のガ
ス体に同伴させて粒子加工ゾーンへ効率よく戻すことが
できる。
【0010】前記粒子捕集手段を要約すれば、粒子を含
むガス体を通す旋回流路または螺旋状通路と、該旋回流
路または螺旋状通路の外側に設けた捕集粒子回収室と、
旋回流路または螺旋状通路と捕集粒子回収室とを連通さ
せる通路とを備え、捕集粒子回収室がエジェクターの負
圧発生部に連通された構造である。該螺旋状通路は旋回
流を規制し一定以上の流速の旋回流を形成するためのも
のである。この構成によって、ガス体中に含まれる粉粒
体粒子は、旋回流路または螺旋状通路を通る間に、遠心
力により該流路の外壁近傍に集まり、エジェクターの負
圧により、旋回流路外壁に設けたスリットを通じて捕集
粒子回収室に吸引捕集される。捕集された粒子は、エジ
ェクターにより吸引され、該エジェクターに供給されて
いる圧縮空気等のガス体に同伴させて粒子加工ゾーンへ
戻される。
むガス体を通す旋回流路または螺旋状通路と、該旋回流
路または螺旋状通路の外側に設けた捕集粒子回収室と、
旋回流路または螺旋状通路と捕集粒子回収室とを連通さ
せる通路とを備え、捕集粒子回収室がエジェクターの負
圧発生部に連通された構造である。該螺旋状通路は旋回
流を規制し一定以上の流速の旋回流を形成するためのも
のである。この構成によって、ガス体中に含まれる粉粒
体粒子は、旋回流路または螺旋状通路を通る間に、遠心
力により該流路の外壁近傍に集まり、エジェクターの負
圧により、旋回流路外壁に設けたスリットを通じて捕集
粒子回収室に吸引捕集される。捕集された粒子は、エジ
ェクターにより吸引され、該エジェクターに供給されて
いる圧縮空気等のガス体に同伴させて粒子加工ゾーンへ
戻される。
【0011】また、前記粒子捕集手段は、旋回流路また
は螺旋状通路と捕集粒子回収室とを連通させる通路にト
ラップゲートを設け、必要に応じて鎧状に形成する。こ
の構成によって、ガス体中に含まれる粉粒体粒子は、旋
回流路または螺旋状通路を通る間に遠心力で該流路の外
壁方向に移行し、トラップゲートを通り抜けて捕集粒子
回収室に効率よく分離捕集される。
は螺旋状通路と捕集粒子回収室とを連通させる通路にト
ラップゲートを設け、必要に応じて鎧状に形成する。こ
の構成によって、ガス体中に含まれる粉粒体粒子は、旋
回流路または螺旋状通路を通る間に遠心力で該流路の外
壁方向に移行し、トラップゲートを通り抜けて捕集粒子
回収室に効率よく分離捕集される。
【0012】また、前記粒子捕集手段は、旋回流路内の
ガス体の旋回流速を加速するように設けたガス体噴射ノ
ズルを付設してもよい。この構成によれば、螺旋状通路
または旋回流路を通るガス体の旋回流を加速して、遠心
力が増大し、ガス体中に含まれる粉粒体粒子を旋回流路
外壁近傍に移動させ、分離捕集効率を一段と向上させる
ことができる。
ガス体の旋回流速を加速するように設けたガス体噴射ノ
ズルを付設してもよい。この構成によれば、螺旋状通路
または旋回流路を通るガス体の旋回流を加速して、遠心
力が増大し、ガス体中に含まれる粉粒体粒子を旋回流路
外壁近傍に移動させ、分離捕集効率を一段と向上させる
ことができる。
【0013】また、前記粒子捕集手段は、一般に用いら
れるサイクロンに比べて、粒子の分離捕集効率は高く、
殆どの粒子は捕集されるが、念のため旋回流路または螺
旋状通路の終端付近に最終分離捕集室を設け、ガス体中
に残存する僅少の粒子を完全に濾過分離して捕集する濾
材を配設してもよい。この構成によれば、粉粒体粒子の
回収効率が一層向上し、飛散ロスも極端に減少する。な
お、この構成は、旋回流路または螺旋状通路における遠
心力分離作用により大部分の粉粒体粒子が分離捕集さ
れ、残部の極く僅少の粉粒体を最終分離捕集室で分離捕
集するので、従来のバッグフィルター方式に比べて濾材
の濾過面積が極めて小さくて済む。したがって従来のバ
ッグフィルター方式に比べて取り扱いも容易で濾材の洗
浄作業も容易である。
れるサイクロンに比べて、粒子の分離捕集効率は高く、
殆どの粒子は捕集されるが、念のため旋回流路または螺
旋状通路の終端付近に最終分離捕集室を設け、ガス体中
に残存する僅少の粒子を完全に濾過分離して捕集する濾
材を配設してもよい。この構成によれば、粉粒体粒子の
回収効率が一層向上し、飛散ロスも極端に減少する。な
お、この構成は、旋回流路または螺旋状通路における遠
心力分離作用により大部分の粉粒体粒子が分離捕集さ
れ、残部の極く僅少の粉粒体を最終分離捕集室で分離捕
集するので、従来のバッグフィルター方式に比べて濾材
の濾過面積が極めて小さくて済む。したがって従来のバ
ッグフィルター方式に比べて取り扱いも容易で濾材の洗
浄作業も容易である。
【0014】また、前記粒子捕集手段は、処理容器内の
上部に配設されるものであり、この構成によれば、粒子
捕集手段を含む粒子加工装置をコンパクトに構成するこ
とができる。
上部に配設されるものであり、この構成によれば、粒子
捕集手段を含む粒子加工装置をコンパクトに構成するこ
とができる。
【0015】仮に、粒子分離捕集機構を粒子加工処理装
置外に本発明に係る機構を配設する場合でも満足に機能
することは当然である。一歩譲って、従来のサイクロン
方式の粒子分離捕集機構を粒子加工処理装置外に配設す
る場合でも、本発明に係るエジェクター機構は十分活用
できる。
置外に本発明に係る機構を配設する場合でも満足に機能
することは当然である。一歩譲って、従来のサイクロン
方式の粒子分離捕集機構を粒子加工処理装置外に配設す
る場合でも、本発明に係るエジェクター機構は十分活用
できる。
【0016】また、処理容器内に形成される粒子加工ゾ
ーンは、粉粒体粒子の流動層である。ここでの流動層に
は、転動、攪拌、噴流(ワースター方式を含む)の1種
以上を伴うものも含まれる。
ーンは、粉粒体粒子の流動層である。ここでの流動層に
は、転動、攪拌、噴流(ワースター方式を含む)の1種
以上を伴うものも含まれる。
【0017】
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の態様例を図
面に基づいて説明する。図1は本発明に係る粒子加工装
置の実施の形態を示す概略縦断面図であって、21は処
理容器、22はガス体導入口、23は分散板、24は粒
子加工ゾーン(流動層)、25は粉粒体粒子、27はス
プレーノズル、28はスプレーノズル27から流動層2
6に向けて噴射される粒子加工用のスプレー液、29は
排気ダクト、30は粒子捕集手段、31はエジェクタ
ー、32は捕集粒子排出管、33は捕集粒子フィードバ
ック管、34は最終分離捕集室、35は濾材を示してい
る。
面に基づいて説明する。図1は本発明に係る粒子加工装
置の実施の形態を示す概略縦断面図であって、21は処
理容器、22はガス体導入口、23は分散板、24は粒
子加工ゾーン(流動層)、25は粉粒体粒子、27はス
プレーノズル、28はスプレーノズル27から流動層2
6に向けて噴射される粒子加工用のスプレー液、29は
排気ダクト、30は粒子捕集手段、31はエジェクタ
ー、32は捕集粒子排出管、33は捕集粒子フィードバ
ック管、34は最終分離捕集室、35は濾材を示してい
る。
【0018】処理容器21は、略円筒状をなし、底部側
面にガス体導入口22が形成され、該底部から所定高さ
上方に分散板23が設置されている。分散板23は多数
の通気孔を有し、ガス体導入口22から導入されたガス
体を略均等に分散させて上方の粒子加工ゾーン(流動
層)24に噴出させ、該粒子加工ゾーン24に供給され
ている粉粒体粒子25の流動層24を形成させるための
ものである。スプレーノズル27は粒子加工用のスプレ
ー液28を流動層24に向けて噴射させるもので、これ
により、粉粒体粒子25の造粒やコーティング処理加工
が行われる。排気ダクト29は処理容器21の天井板の
中央部に接続されている。
面にガス体導入口22が形成され、該底部から所定高さ
上方に分散板23が設置されている。分散板23は多数
の通気孔を有し、ガス体導入口22から導入されたガス
体を略均等に分散させて上方の粒子加工ゾーン(流動
層)24に噴出させ、該粒子加工ゾーン24に供給され
ている粉粒体粒子25の流動層24を形成させるための
ものである。スプレーノズル27は粒子加工用のスプレ
ー液28を流動層24に向けて噴射させるもので、これ
により、粉粒体粒子25の造粒やコーティング処理加工
が行われる。排気ダクト29は処理容器21の天井板の
中央部に接続されている。
【0019】粒子捕集手段30は、処理容器21内の上
部に配設されている。この粒子捕集手段30は、粒子を
含むガス体を通す螺旋状通路30aと、螺旋状通路30
aの外側の捕集粒子回収室30bと、螺旋状通路30a
と捕集粒子回収室30bとを連通させる通路、例えば、
トラップゲート30gとを備え、該捕集粒子回収室30
bがエジェクター31の負圧発生部31aに捕集粒子排
出管32を介して接続連通されている。
部に配設されている。この粒子捕集手段30は、粒子を
含むガス体を通す螺旋状通路30aと、螺旋状通路30
aの外側の捕集粒子回収室30bと、螺旋状通路30a
と捕集粒子回収室30bとを連通させる通路、例えば、
トラップゲート30gとを備え、該捕集粒子回収室30
bがエジェクター31の負圧発生部31aに捕集粒子排
出管32を介して接続連通されている。
【0020】螺旋状通路30aは、粒子を含むガス体に
旋回流を発生させ、ガス体中の粒子を遠心力で外側の捕
集粒子回収室30bに分離捕集させるためのもので、円
筒状の外壁30cと内壁30dとの間の環状空間に上下
方向に所定ピッチで螺旋状仕切り板30eを配置するこ
とによって断面矩形の通路として形成されており、下端
中央部にガス体導入口30fが形成されている。ここで
螺旋状通路は旋回流を最適状態に発生するものである
が、旋回気流の速度が保証されれば、仕切り板を部分的
に省略することも可能である(図4参照)。
旋回流を発生させ、ガス体中の粒子を遠心力で外側の捕
集粒子回収室30bに分離捕集させるためのもので、円
筒状の外壁30cと内壁30dとの間の環状空間に上下
方向に所定ピッチで螺旋状仕切り板30eを配置するこ
とによって断面矩形の通路として形成されており、下端
中央部にガス体導入口30fが形成されている。ここで
螺旋状通路は旋回流を最適状態に発生するものである
が、旋回気流の速度が保証されれば、仕切り板を部分的
に省略することも可能である(図4参照)。
【0021】外壁30cの上端は、処理容器21の天井
板に固着され、内壁30dの上端はそれより短くされ、
内壁30dの上下両端または一端は閉鎖されている。そ
して、内壁30dの上端と処理容器21の天井板との間
の空間を最終分離捕集室34としてあり、この部分に濾
材35が排気ダクト29への接続口を囲繞するように取
り付けてあり、濾材35は、例えば、バッグフィルター
で構成され、周辺に旋回気流を加速する機構や捕集した
粒子の払い落とし機構(図示省略)が設けられる。
板に固着され、内壁30dの上端はそれより短くされ、
内壁30dの上下両端または一端は閉鎖されている。そ
して、内壁30dの上端と処理容器21の天井板との間
の空間を最終分離捕集室34としてあり、この部分に濾
材35が排気ダクト29への接続口を囲繞するように取
り付けてあり、濾材35は、例えば、バッグフィルター
で構成され、周辺に旋回気流を加速する機構や捕集した
粒子の払い落とし機構(図示省略)が設けられる。
【0022】捕集粒子回収室30bは、螺旋状通路30
aの外壁30cの外側に上下方向に形成され、上下部に
分割されていてもよい。この捕集粒子回収室30bと螺
旋状通路30aとの間の外壁30cには、螺旋状通路3
0aでの旋回流による遠心力で外側に飛ばされる粒子を
効率よく分離捕集するための通路としてトラップゲート
30gが多段状に形成されている。このトラップゲート
30gには、例えば、鎧戸のような開口度調節羽根30
hを取り付け、粒子の捕集粒子回収室30bへの取り込
みを容易にする。処理容器21に設けた鎧戸の開口度の
調節操作は外部から可能とすることができる。
aの外壁30cの外側に上下方向に形成され、上下部に
分割されていてもよい。この捕集粒子回収室30bと螺
旋状通路30aとの間の外壁30cには、螺旋状通路3
0aでの旋回流による遠心力で外側に飛ばされる粒子を
効率よく分離捕集するための通路としてトラップゲート
30gが多段状に形成されている。このトラップゲート
30gには、例えば、鎧戸のような開口度調節羽根30
hを取り付け、粒子の捕集粒子回収室30bへの取り込
みを容易にする。処理容器21に設けた鎧戸の開口度の
調節操作は外部から可能とすることができる。
【0023】旋回流路 または螺旋状通路30aには、
粉粒体粒子25を含むガス体の旋回流を加速するための
圧縮空気等のガス体を噴出するガス体噴射ノズル(図示
省略)を設置することができる。この噴射ノズルは、ガ
ス体導入口30f付近または途中適所に設置するもの
で、例えば、螺旋状通路30aに対して略接線方向から
ガス体の旋回流を加速し得るように設置される。
粉粒体粒子25を含むガス体の旋回流を加速するための
圧縮空気等のガス体を噴出するガス体噴射ノズル(図示
省略)を設置することができる。この噴射ノズルは、ガ
ス体導入口30f付近または途中適所に設置するもの
で、例えば、螺旋状通路30aに対して略接線方向から
ガス体の旋回流を加速し得るように設置される。
【0024】エジェクター31は、処理容器21の外部
に取り付けられるが、粒子加工容器内に設けてもよい。
このエジェクター31の負圧発生部31aは、捕集粒子
回収室30bの底部に設けた捕集粒子排出管32を介し
て接続されている。また、エジェクター31の先端圧縮
空気排出口は、捕集粒子フィードバック管33を介して
粒子加工ゾーン24の適所、例えば、スプレーゾーンな
どに接続され、捕集粒子回収室30bに回収された粉粒
体粒子25を負圧発生部31aに吸引させて圧縮空気ま
たは適宜のガス体と一緒に同伴させて戻すように構成さ
れている。
に取り付けられるが、粒子加工容器内に設けてもよい。
このエジェクター31の負圧発生部31aは、捕集粒子
回収室30bの底部に設けた捕集粒子排出管32を介し
て接続されている。また、エジェクター31の先端圧縮
空気排出口は、捕集粒子フィードバック管33を介して
粒子加工ゾーン24の適所、例えば、スプレーゾーンな
どに接続され、捕集粒子回収室30bに回収された粉粒
体粒子25を負圧発生部31aに吸引させて圧縮空気ま
たは適宜のガス体と一緒に同伴させて戻すように構成さ
れている。
【0025】本発明装置の実施の形態は以上の構成から
なり、次に、その動作を説明する。ガス体導入口22か
ら適宜のガス体、例えば、ホットエアを適宜の流量、例
えば、粒子加工ゾーン24での粉粒体粒子25の流動層
を形成するのに適正な流量で供給し、分散板23を通し
て粒子加工ゾーン24の全域に分散供給する。これによ
り、粒子加工ゾーン24において、粉粒体粒子25が分
散板23の多数の通気孔から噴き出すホットエアの墳出
力で吹き上げられ、やがて自重で落下し、途中から再び
吹き上げられ、これを反復して粉粒体粒子25の流動層
24が形成され、この流動層24にスプレーノズル27
から粒子加工用のスプレー液28が噴霧供給されること
によって、所定の造粒またはコーティング処理加工並び
に乾燥などが行われる。
なり、次に、その動作を説明する。ガス体導入口22か
ら適宜のガス体、例えば、ホットエアを適宜の流量、例
えば、粒子加工ゾーン24での粉粒体粒子25の流動層
を形成するのに適正な流量で供給し、分散板23を通し
て粒子加工ゾーン24の全域に分散供給する。これによ
り、粒子加工ゾーン24において、粉粒体粒子25が分
散板23の多数の通気孔から噴き出すホットエアの墳出
力で吹き上げられ、やがて自重で落下し、途中から再び
吹き上げられ、これを反復して粉粒体粒子25の流動層
24が形成され、この流動層24にスプレーノズル27
から粒子加工用のスプレー液28が噴霧供給されること
によって、所定の造粒またはコーティング処理加工並び
に乾燥などが行われる。
【0026】上記粉粒体粒子25の流動層24の形成に
寄与したホットエアは、処理容器21内の粒子を流動分
散状態にし、適当な粒子加工処理に供された後、粒子捕
集手段30のガス体導入口30fから旋回流路(螺旋状
通路)30aを旋回しながら通り、ガス体中の粉粒体粒
子を遠心力で外壁方向に移行させ、トラップゲート30
gから捕集粒子回収室30b内に分離捕集させ、さらに
最終分離捕集室34に至ってその周囲を旋回し、ここに
もトラップゲート30gが設けてあるため、ガス体中の
粉粒体粒子を遠心力で捕集粒子回収室30b内に分離捕
集させる。さらに、濾材35で粉粒体粒子を完全に濾過
分離した後、粉粒体粒子が殆ど皆無となったガス体が排
気ダクト29から系外に排出される。
寄与したホットエアは、処理容器21内の粒子を流動分
散状態にし、適当な粒子加工処理に供された後、粒子捕
集手段30のガス体導入口30fから旋回流路(螺旋状
通路)30aを旋回しながら通り、ガス体中の粉粒体粒
子を遠心力で外壁方向に移行させ、トラップゲート30
gから捕集粒子回収室30b内に分離捕集させ、さらに
最終分離捕集室34に至ってその周囲を旋回し、ここに
もトラップゲート30gが設けてあるため、ガス体中の
粉粒体粒子を遠心力で捕集粒子回収室30b内に分離捕
集させる。さらに、濾材35で粉粒体粒子を完全に濾過
分離した後、粉粒体粒子が殆ど皆無となったガス体が排
気ダクト29から系外に排出される。
【0027】エジェクター31には、圧縮空気等のガス
体を前記ホットエアの流量およびホットエアに含まれる
粒子濃度に応じて適切な供給圧に設定する。これによ
り、エジェクター31のスロート部、即ち、負圧発生部
31aに最適な負圧が発生し、ガス内に含まれる粒子は
捕集粒子回収室30b内に分離捕集される。下部に沈降
する粉粒体粒子は捕集粒子排出管32を介して吸引さ
れ、これをエジェクター31に供給している圧縮空気ま
たはガス体に同伴させて捕集粒子フィードバック管33
から粒子加工ゾーン24にフィードバックさせ、粒子加
工に供される。
体を前記ホットエアの流量およびホットエアに含まれる
粒子濃度に応じて適切な供給圧に設定する。これによ
り、エジェクター31のスロート部、即ち、負圧発生部
31aに最適な負圧が発生し、ガス内に含まれる粒子は
捕集粒子回収室30b内に分離捕集される。下部に沈降
する粉粒体粒子は捕集粒子排出管32を介して吸引さ
れ、これをエジェクター31に供給している圧縮空気ま
たはガス体に同伴させて捕集粒子フィードバック管33
から粒子加工ゾーン24にフィードバックさせ、粒子加
工に供される。
【0028】螺旋状通路30aの通路断面積は、処理容
器21内に導入されるガス体の流量との関係で適正に設
定されるものであって、粉粒体粒子の分離捕集効率を所
定水準に維持させるために、例えば、ガス体の流速が5
0m/s以上になるようにし、必要に応じて、ガス体導
入口30fの付近や途中の適所に圧縮空気等のガス体噴
射ノズル(図示省略)を設置して、ガス体の旋回流を加
速することができるようにしておくのが好ましい。ま
た、分離捕集効率の増大を図るため、粒子の粒径および
濃度に応じて、螺旋状通路30aの長さを適当に設計す
る。なお、エジェクター31へ供給する圧縮空気は、捕
集粒子回収室の回収状態が最適になるように圧力調節さ
れる。また、捕集粒子フィードバック管33の先端はそ
れぞれ粒子加工に最適な個所および方向に挿入する。
器21内に導入されるガス体の流量との関係で適正に設
定されるものであって、粉粒体粒子の分離捕集効率を所
定水準に維持させるために、例えば、ガス体の流速が5
0m/s以上になるようにし、必要に応じて、ガス体導
入口30fの付近や途中の適所に圧縮空気等のガス体噴
射ノズル(図示省略)を設置して、ガス体の旋回流を加
速することができるようにしておくのが好ましい。ま
た、分離捕集効率の増大を図るため、粒子の粒径および
濃度に応じて、螺旋状通路30aの長さを適当に設計す
る。なお、エジェクター31へ供給する圧縮空気は、捕
集粒子回収室の回収状態が最適になるように圧力調節さ
れる。また、捕集粒子フィードバック管33の先端はそ
れぞれ粒子加工に最適な個所および方向に挿入する。
【0029】ここで説明した実施例では、粒子加工用装
置の内部に粒子分離捕集装置を設けたが、粒子加工装置
の外部に粒子分離捕集装置を設置し、粒子捕集回収室に
溜まった粒子を同じくエジェクターで粒子加工装置に戻
してもよい。また、従来型のサイクロンを粒子加工装置
の外部に設置し、サイクロンに溜まった粒子をエジェク
ターで粒子加工装置に戻してもよい(図5参照)。
置の内部に粒子分離捕集装置を設けたが、粒子加工装置
の外部に粒子分離捕集装置を設置し、粒子捕集回収室に
溜まった粒子を同じくエジェクターで粒子加工装置に戻
してもよい。また、従来型のサイクロンを粒子加工装置
の外部に設置し、サイクロンに溜まった粒子をエジェク
ターで粒子加工装置に戻してもよい(図5参照)。
【0030】
【発明の効果】本発明によれば、従来、固気分離特性や
分離粒子の粒子加工ゾーンへのフィードバック、操作後
の洗浄作業など、問題とされてきたバッグフィルターを
用いることなく、本装置によれば、殆ど完全に固気分離
が可能で、分離捕集した粒子を、粒子加工ゾーンの所望
の個所にフィードバックでき、操作後の洗浄も容易にな
ることは、製薬、食品、農薬などの分野における裨益は
量り知れない。最近、製薬・食品の生産現場では、粒子
の機能性を付与するために、微粒子を原料として用いる
ことが多くなり、粒子加工ゾーンからの飛散ロスが大き
くなる傾向があるが、原料のロスを極力低減するために
もその経済効果は極めて大きい。
分離粒子の粒子加工ゾーンへのフィードバック、操作後
の洗浄作業など、問題とされてきたバッグフィルターを
用いることなく、本装置によれば、殆ど完全に固気分離
が可能で、分離捕集した粒子を、粒子加工ゾーンの所望
の個所にフィードバックでき、操作後の洗浄も容易にな
ることは、製薬、食品、農薬などの分野における裨益は
量り知れない。最近、製薬・食品の生産現場では、粒子
の機能性を付与するために、微粒子を原料として用いる
ことが多くなり、粒子加工ゾーンからの飛散ロスが大き
くなる傾向があるが、原料のロスを極力低減するために
もその経済効果は極めて大きい。
【0031】またGMP(Good Management Practice)
の立場からも問題の多いバッグフィルターが不要になる
ことの裨益することは計り知れない。即ち、バッグフィ
ルターを用いる場合、バッグに付着した粉粒体粒子の洗
浄が不充分であると、次回の粒子加工に当たり、前回の
付着粒子が異物となって品質を損なう欠点があり、十分
な洗浄が必要であるため、洗浄に手間を要していたが、
本発明によれば、粒子捕集手段が前記のように目詰まり
を起こす心配のない構造であり、粒子加工後の洗浄過程
でジェット水流などによる自動洗浄が可能で、自動化で
き、GMP的に最適のプロセスが構築できる。また運転
初期から終わりまで分離捕集機能は変わらないので、バ
ッグフィルター方式のように運転初期におけるロスはな
い。従って、本発明は、製薬・食品の生産現場に多大な
貢献をもたらし得るものである。
の立場からも問題の多いバッグフィルターが不要になる
ことの裨益することは計り知れない。即ち、バッグフィ
ルターを用いる場合、バッグに付着した粉粒体粒子の洗
浄が不充分であると、次回の粒子加工に当たり、前回の
付着粒子が異物となって品質を損なう欠点があり、十分
な洗浄が必要であるため、洗浄に手間を要していたが、
本発明によれば、粒子捕集手段が前記のように目詰まり
を起こす心配のない構造であり、粒子加工後の洗浄過程
でジェット水流などによる自動洗浄が可能で、自動化で
き、GMP的に最適のプロセスが構築できる。また運転
初期から終わりまで分離捕集機能は変わらないので、バ
ッグフィルター方式のように運転初期におけるロスはな
い。従って、本発明は、製薬・食品の生産現場に多大な
貢献をもたらし得るものである。
【0032】また、粒子捕集手段は、処理容器内の上部
に配設することによって、粒子捕集手段を含む粒子加工
装置をコンパクトに構成することができる。
に配設することによって、粒子捕集手段を含む粒子加工
装置をコンパクトに構成することができる。
【図1】螺旋流路を用いた本発明に係る粒子加工装置の
実施の形態を示す概略縦断面図。
実施の形態を示す概略縦断面図。
【図2】バッグフィルター方式の粒子捕集手段を備えた
従来の粒子加工装置の概略縦断面図。
従来の粒子加工装置の概略縦断面図。
【図3】サイクロン方式の粒子捕集手段を備えた従来の
粒子加工装置の概略縦断面図。
粒子加工装置の概略縦断面図。
【図4】螺旋状仕切り板のない旋回流路を用いた本発明
に係る粒子加工装置の実施の形態を示す概略縦断面図。
に係る粒子加工装置の実施の形態を示す概略縦断面図。
【図5】従来のサイクロン方式粒子分離捕集装置を粒子
加工装置の外部に設け、捕集した粒子をエジェクターに
より粒子加工装置に戻す機構の概略図。
加工装置の外部に設け、捕集した粒子をエジェクターに
より粒子加工装置に戻す機構の概略図。
【符号の説明】
21 処理容器
22 ガス体導入口
23 分散板
24 粒子加工ゾーン(流動層)
25 粉粒体粒子
27 スプレーノズル
28 粒子加工用のスプレー液
29 排気ダクト
30 捕集手段
30a 螺旋状通路
30b 捕集粒子回収室
30g トラップゲート
31 エジェクター
31a 負圧発生部
32 捕集粒子排出管
33 捕集粒子フィードバック管
34 最終分離捕集室
35 濾材
─────────────────────────────────────────────────────
フロントページの続き
(72)発明者 大石 和男
京都府京田辺市棚倉31−15
Fターム(参考) 3L113 AA07 AB03 AC01 AC58 AC67
BA02 DA04 DA14 DA24
4D031 AC02 AC04 BA01 BA03 BB00
DA01
4G004 AA01 BA02
Claims (9)
- 【請求項1】 処理容器内の粉粒体粒子にガス体を通気
して該粒子を乾燥または造粒若しくはコーティング処理
加工するための粒子加工ゾーンを形成する粒子加工装置
において、 前記粒子加工ゾーン形成後に排出されるガス体中の粒子
を分離捕集する粒子捕集手段と、該粒子捕集手段で分離
捕集した粒子を吸引して前記粒子加工ゾーンに戻すエジ
ェクターを具備したことを特徴とする粒子加工装置。 - 【請求項2】 粒子捕集手段が、粒子を含むガス体を通
す旋回流路と、該旋回流路の外周部に設けた捕集粒子回
収室と、旋回流路と捕集粒子回収室とを連通させる通路
とを備え、捕集粒子回収室がエジェクターの負圧発生部
に連通されてなる請求項1に記載の粒子加工装置。 - 【請求項3】 請求項2において、旋回流路が螺旋状通
路を形成することを特徴とする請求項2に記載する粒子
加工装置。 - 【請求項4】 請求項3において、螺旋状通路と捕集粒
子回収室とを連通させる通路がトラップゲートを多段状
に形成したものである請求項2に記載の粒子加工装置。 - 【請求項5】 旋回流路または螺旋状通路内のガス体の
旋回流を加速するガス体噴射ノズルを設けてなる請求項
3,4,または5に記載の粒子加工装置。 - 【請求項6】 旋回流路または螺旋状通路の終端付近に
最終分離捕集室を設け、その中にガス体中の粒子を濾過
分離する濾材を配設してなる請求項2〜5のいずれかに
記載の粒子加工装置。 - 【請求項7】 粒子捕集手段が、処理容器内の上部に配
設されてなる請求項1〜6のいずれかに記載の粒子加工
装置。 - 【請求項8】 粒子を捕集分離する手段が粒子加工処理
容器の外に設けられ、捕集分離した粒子をエジェクター
により吸引してエジェクター排気とともに、粒子加工ゾ
ーンに戻すことを特徴とする粒子加工装置。 - 【請求項9】 処理容器内に形成される粒子加工ゾーン
が、粉粒体粒子の流動層である請求項1〜8のいずれか
に記載の粒子加工装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001229775A JP2003038948A (ja) | 2001-07-30 | 2001-07-30 | 粒子加工装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001229775A JP2003038948A (ja) | 2001-07-30 | 2001-07-30 | 粒子加工装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2003038948A true JP2003038948A (ja) | 2003-02-12 |
Family
ID=19062075
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2001229775A Withdrawn JP2003038948A (ja) | 2001-07-30 | 2001-07-30 | 粒子加工装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2003038948A (ja) |
Cited By (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2008298657A (ja) * | 2007-06-01 | 2008-12-11 | Japan Agengy For Marine-Earth Science & Technology | 粉粒体回収装置 |
| JP2009156509A (ja) * | 2007-12-26 | 2009-07-16 | Earth Technica:Kk | 回転翼式攪拌装置および回転翼式攪拌装置による原料の乾燥方法 |
| JP2015511165A (ja) * | 2011-12-02 | 2015-04-16 | ドザコートヴィチ アバイエフ、アレクサンドル | 汚染多成分要素を除去することによって流体媒体を浄化するための方法及び装置 |
| WO2016001813A1 (en) | 2014-07-04 | 2016-01-07 | Tubitak | Circulating fluidized bed gasification or combustion system |
| JP2016026867A (ja) * | 2014-06-30 | 2016-02-18 | 株式会社パウレック | 連続式粒子製造装置 |
| CN107530664A (zh) * | 2015-06-30 | 2018-01-02 | 株式会社保锐士 | 连续式粒子制造装置 |
| CN109126632A (zh) * | 2018-08-01 | 2019-01-04 | 遵义大兴复肥有限责任公司 | 肥料制造器 |
| CN111569535A (zh) * | 2020-05-22 | 2020-08-25 | 重庆开山压缩机有限公司 | 一种可精确控制的除水罐 |
| KR102857777B1 (ko) * | 2025-04-07 | 2025-09-10 | (주)태린 | 양극제 파우더 회수 공급장치 |
-
2001
- 2001-07-30 JP JP2001229775A patent/JP2003038948A/ja not_active Withdrawn
Cited By (13)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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| CN107530664B (zh) * | 2015-06-30 | 2021-03-19 | 株式会社保锐士 | 连续式粒子制造装置 |
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| CN109126632B (zh) * | 2018-08-01 | 2020-12-08 | 遵义大兴复肥有限责任公司 | 肥料制造器 |
| CN111569535A (zh) * | 2020-05-22 | 2020-08-25 | 重庆开山压缩机有限公司 | 一种可精确控制的除水罐 |
| KR102857777B1 (ko) * | 2025-04-07 | 2025-09-10 | (주)태린 | 양극제 파우더 회수 공급장치 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A300 | Withdrawal of application because of no request for examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300 Effective date: 20081007 |