JP2003001998A - エンボスパターンの作成方法、エンボスパターン作成装置、化粧シート作成方法及び化粧シート - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】艶消し感を備えると共に、艶差があって、その
艶差が見る方向による変化する化粧シートを作成できる
エンボスパターンを作成する。 【解決手段】入力手段１から、割り付け対応関係テーブ
ル等の所定のパラメータを入力し、マスク画像入力手段
４から、各画素に色番号が定められたマスク画像を入力
する。梨地調パターン生成手段２により、方向性の無い
梨地調パターンを生成し、それを変倍手段３により、縦
方向と横方向にそれぞれ変倍する。そして、画像合成手
段５は、割り付け対応関係テーブルを参照して、作成画
像の着目画素と対応するマスク画像上の画素の色番号に
対応付けられた縦方向または横方向の梨地調パターン
の、当該着目画素に対応する画素の値を、作成画像の当
該着目画素の値とする動作を、作成画像の全ての画素に
ついて行ってエンボスパターンを作成する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、樹脂シートにエン
ボス加工を施すために用いるエンボスパターンの作成方
法、その作成装置、そして、エンボス加工を施した化粧
シートの作成方法、及びそのようにして作成した化粧シ
ートに関する。

【０００２】

【従来の技術】従来、無地あるいは適宜な絵柄を印刷し
た樹脂シート（以下、単に樹脂シートと称することにす
る）にエンボス加工を施してなる化粧シートは広く知ら
れている。このような化粧シートは内装材等、種々の用
途に用いられている。

【０００３】ところで、樹脂シートにエンボス加工を施
すためのパターンは様々であるが、その中に、一般に梨
地調と称されるパターンがある。図１０に梨地調パター
ンの例の拡大図を示すが、図１０に示すように、梨地調
パターンは、白地に黒点を撒き散らした柄ということが
できるものである。黒点は画像全体にわたって一様に存
在していてもよいことは勿論であるが、図１０に示すよ
うに、局所的には黒点が集中して存在したり、黒点が存
在しない箇所があってもよいものである。

【０００４】従って、梨地調パターンを作成し、その梨
地調パターンに基づいて、エンボス版を作成して、樹脂
シートにエンボス加工を施すことによって、梨地調の表
面形状を有する化粧シートを作成することができる。こ
のようにして作成された化粧シートの表面には小さな凹
凸が形成されており、その凹凸の様子が梨の切断面の状
態と似ているために梨地調と称されているものである。

【０００５】ここで、梨地調パターンの作成について付
言しておくと次のようである。梨地調パターンの作成
は、市販の画像作成用のアプリケーションソフトウェア
を用いて行うことができる。即ち、図１０に示す画像
は、別の見方をすればノイズ画像ということもでき、従
って、ノイズ画像を生成することが可能なソフトウェア
を用いれば、梨地調パターンを作成することができる。
なお、梨地調パターンは最終的には２値画像であるが、
アプリケーションソフトウェアで作成できるノイズ画像
が多階調である場合には、作成したノイズ画像に対し
て、ある適宜な閾値を設定して２値化の処理を施せばよ
い。

【０００６】また、本出願人が、例えば特開平１１−１
４９５６１号公報、特開２０００−２１８７１９号公報
で開示している方法を用いて梨地調パターンを作成する
ことも可能である。即ち、中点変位法等の周知の方法に
よってフラクタルな２次元スカラ場を生成したり、ある
いは上記公報記載の方法によって非フラクタルな多階調
の２次元スカラ場を生成し、その２次元スカラ場の各画
素の値を適宜な閾値によって２値化し、値が０の画素を
白、値が１の画素を黒として画像化すれば、図１０に示
すような梨地調パターンを作成することができる。特
に、特開平１１−１４９５６１号公報に開示している方
法によれば、揺らぎのパワースペクトルを所望のように
制御できる。

【０００７】以下、特開平１１−１４９５６１号公報に
開示している非フラクタルな２次元スカラ場の生成方法
について概略説明しておく。まず、次のようなスカラ値
からなる揺らぎ幅Ｚの数列を定義する。 Ｚ₂₀，Ｚ₂₁，…，Ｚ_2m，… …(1) ここで、各揺らぎ幅の値は任意に定めることができる。
この数列は、第０段階で定義される格子点に与えられる
スカラ値、第１段階で定義される格子点に与えるスカラ
値を計算する際に用いる揺らぎ幅となるスカラ値、…、
第ｎ段階で定義される格子点に与えるスカラ値を計算す
る際に用いる揺らぎ幅となるスカラ値からなる数列であ
る。

【０００８】従って、第０段階で図１１に示すように正
方形の４頂点に格子点Ａ，Ｂ，Ｃ，Ｄを定義したとする
と、例えば格子点Ａには上記数列の初項のスカラ値Ｚ₂₀
（図１１ではａ）を与え、格子点Ｂには上記数列の第２
項のスカラ値Ｚ₂₁（図１１ではｂ）を与え、格子点Ｃに
は上記数列の第３項のスカラ値Ｚ₂₂（図１１ではｃ）を
与え、格子点Ｄには上記数列の第４項のスカラ値Ｚ
₂₃（図１１ではｄ）を与えるようにする。

【０００９】次に、第１段階として図１２に示すよう
に、格子点ＡＢ間、ＢＣ間、ＣＤ間、ＤＡ間のそれぞれ
の中点に格子点Ｅ，Ｆ，Ｇ，Ｈを定義するとともに、４
つの格子点ＡＢＣＤの２つの対角線の交点に、もうひと
つの第１段階の格子点Ｉを定義し、これらの格子点Ｅ〜
Ｉに対してスカラ値を計算する。この場合には揺らぎ幅
として上記数列の第５項〜第９項のスカラ値を与え、次
の式によって計算する。

【００１０】 ｅ＝（Ｚ₂₀＋Ｚ₂₁）／２＋Ｚ₂₄・ＲＮＤ …(2) ｆ＝（Ｚ₂₁＋Ｚ₂₂）／２＋Ｚ₂₅・ＲＮＤ …(3) ｇ＝（Ｚ₂₂＋Ｚ₂₃）／２＋Ｚ₂₆・ＲＮＤ …(4) ｈ＝（Ｚ₂₃＋Ｚ₂₀）／２＋Ｚ₂₇・ＲＮＤ …(5) ｉ＝（Ｚ₂₀＋Ｚ₂₁＋Ｚ₂₂＋Ｚ₂₃）／４＋Ｚ₂₈・ＲＮＤ …(6) ここで、ＲＮＤは乱数である。乱数としては適宜な分布
を有するもの、例えば、−１≦ＲＮＤ≦＋１となる範囲
の乱数を用いればよい。

【００１１】以下、同様にして第２段階から第ｎ段階ま
で計算を行っていけば、所望の特性を有する非フラクタ
ルな２次元スカラ場を生成することができる。なお、上
記数列の各項のスカラ値は所望の特性のスカラ場が得ら
れるような値となされることは当然である。

【００１２】また、ある段階で複数の格子点が定義され
る場合には、上記数列の中から当該段階で定義される格
子点の数だけのスカラ値が揺らぎ幅として用いられるこ
とになるが、それらの各スカラ値をどの格子点に対応さ
せるか、その順序は予め任意に定めておけばよい。

【００１３】以上のようであるので、従来用いられてい
た中点変位法では第１段階以降に定義される格子点のス
カラ値を計算する場合の揺らぎ幅は最大半振幅値によっ
て自動的に決定されてしまうのに対して、この非フラク
タルなスカラ場の生成方法によれば、第１段階以降に定
義される各格子点のスカラ値を計算する場合の揺らぎ幅
は任意に定めることができるので、所望の特性を持つ非
フラクタルなスカラ場を生成することができるのであ
る。

【００１４】例えば、第０段階で最初に定義される格子
点については適宜なスカラ値を与えるとして、第１段階
で定義される格子点に与えるスカラ値を計算する際に用
いる揺らぎ幅となるスカラ値としては任意の値αを与
え、第２段階で定義される格子点に与えるスカラ値を計
算する際に用いる揺らぎ幅となるスカラ値としてはα／
３を与え、第３段階で定義される格子点に与えるスカラ
値を計算する際に用いる揺らぎ幅となるスカラ値として
はα／ｎⁿ を与えるというようにすると、図１３のロで
示すように空間周波数の増加に伴って急速に揺らぎのパ
ワーが減少する特性のスカラ場を生成することができ
る。

【００１５】また、第１段階〜第ｉ段階までで定義され
る格子点に与えるスカラ値を計算する際に用いる揺らぎ
幅は 0とし、第（ｉ＋１）段階以降で定義される格子点
に与えるスカラ値を計算する際に用いる揺らぎ幅として
0でない適宜な値を与えれば、図１３のハで示すような
特性を持つスカラ場を生成することができる。

【００１６】なお、図１３において、横軸は空間周波数
ｆ、縦軸は揺らぎのパワーを示している。また、図１３
においてイで示すものは、中点変位法によって生成され
たフラクタルなスカラ場の特性であり、双曲線状の曲線
である。従って、図１３のイに示すものは、１／ｆⁿ で
表現されるフラクタルなスカラ場の揺らぎパワースペク
トルということができる。これに対して、図１３のロで
示すように、揺らぎのパワースペクトルが空間周波数ｆ
の増加に伴って急速に小さくなるような特性、及び図１
３のハで示すように、ある空間周波数までは揺らぎのパ
ワーを 0となる特性は、１／ｆⁿ で表現できないスカラ
場であり、非フラクタルなスカラ場となる。

【００１７】

【発明が解決しようとする課題】ところで、梨地調の表
面形状を有する化粧シートは艶消し効果があることが知
られているが、化粧シートに形成される一つ一つの凸部
は略半球状となるので、巨視的に見れば、化粧シートの
艶は、どの方向から見ても全面にわたって均一なものと
なる。つまり、梨地調の表面形状を有する化粧シートは
艶の方向性が無いということができる。

【００１８】一方、光線の方向と、視線の方向との関係
で、艶のある部分、即ち明るく輝いて見える部分が変化
する化粧シートも知られている。このような化粧シート
は、例えば、こうせん彫りと称されるパターンを用いて
エンボス加工することによって作成することができる。
こうせん彫りパターンは、図１４に示すように、作成す
る画像サイズを適宜な形状の閉領域で分割し、各閉領域
にそれぞれ適宜な角度、適宜な間隔で平行なストライプ
を描画したものである。そして、このようなこうせん彫
りパターンに基づいてエンボス版を作成し、樹脂シート
にエンボス加工を施して化粧シートを作成する。

【００１９】このような化粧シートでは、光線の方向
と、視線の方向、及びエンボス加工されたストライプの
角度によって、艶のある領域と艶のない領域、即ち明る
く輝いて見える領域と暗く見える領域とが生じる。この
ように、艶のある領域と、艶の無い領域があることを艶
差があるという。

【００２０】つまり、こうせん彫りパターンがエンボス
加工された化粧シートは、領域による艶差が出現し、ま
たこの艶差が、照明環境や見る角度によって変化するの
であり、このことによって、明暗の逆転、即ち艶差の変
化が生じるという意匠上の効果が得られるのである。し
かし、こうせん彫りパターンがエンボス加工された化粧
シートでは、光の反射が非常に強いので、いわゆるギラ
ギラ感が強いという問題がある。

【００２１】そこで、本発明は、梨地調の表面形状を有
する化粧シートの有する艶消し感を備えると共に、艶差
があって、しかもその艶差が見る方向による変化する化
粧シートを作成できるエンボスパターンの作成方法、及
びエンボスパターン作成装置、更にそのような効果があ
る化粧シート及びその作成方法を提供することを目的と
するものである。

【００２２】

【課題を解決するための手段】上記の目的を達成するた
めに、本発明に係るエンボスパターンの作成方法は、請
求項１記載のように、各画素に色番号が定められたマス
ク画像を入力する工程と、マスク画像に定められた色番
号と、互いに異なる方向に方向性を有する、少なくとも
２つの梨地調パターンとが対応付けられた割り付け対応
関係テーブル、作成画像サイズ等の所定のパラメータを
入力する工程と、入力されたパラメータ値に基づいて、
方向性を有していない梨地調パターンを生成する工程
と、方向性を有していない梨地調パターンを、互いに異
なる方向にそれぞれ変倍して、少なくとも２つの、方向
性を有する梨地調パターンを作成する工程と、割り付け
対応関係テーブルを参照して、作成画像の着目画素と対
応するマスク画像上の画素の色番号に対応付けられた方
向性を有する梨地調パターンの、当該着目画素に対応す
る画素の値を、作成画像の当該着目画素の値とする動作
を、作成画像の全ての画素について行ってエンボスパタ
ーンを作成する工程とを備えることを特徴とする。本発
明に係るエンボスパターン作成装置は、請求項２記載の
ように、各画素に色番号が定められたマスク画像を入力
するマスク画像入力手段と、マスク画像に定められた色
番号と、互いに異なる方向に方向性を有する、少なくと
も２つの梨地調パターンとが対応付けられた割り付け対
応関係テーブル、作成画像サイズ等の所定のパラメータ
を入力する入力手段と、入力されたパラメータ値に基づ
いて、方向性を有していない梨地調パターンを生成する
梨地調パターン生成手段と、方向性を有していない梨地
調パターンを、互いに異なる方向にそれぞれ変倍して、
少なくとも２つの、方向性を有する梨地調パターンを作
成する変倍手段と、割り付け対応関係テーブルを参照し
て、作成画像の着目画素と対応するマスク画像上の画素
の色番号に対応付けられた方向性を有する梨地調パター
ンの、当該着目画素に対応する画素の値を、作成画像の
当該着目画素の値とする動作を、作成画像の全ての画素
について行ってエンボスパターンを作成する画像合成手
段とを備えることを特徴とする。本発明に係る化粧シー
ト作成方法は、請求項３記載のように、各画素に色番号
が定められたマスク画像を入力する工程と、マスク画像
に定められた色番号と、互いに異なる方向に方向性を有
する、少なくとも２つの梨地調パターンとが対応付けら
れた割り付け対応関係テーブル、作成画像サイズ等の所
定のパラメータを入力する工程と、入力されたパラメー
タ値に基づいて、方向性を有していない梨地調パターン
を生成する工程と、方向性を有していない梨地調パター
ンを、互いに異なる方向にそれぞれ変倍して、少なくと
も２つの、方向性を有する梨地調パターンを作成する工
程と、割り付け対応関係テーブルを参照して、作成画像
の着目画素と対応するマスク画像上の画素の色番号に対
応付けられた方向性を有する梨地調パターンの、当該着
目画素に対応する画素の値を、作成画像の当該着目画素
の値とする動作を、作成画像の全ての画素について行っ
てエンボスパターンを作成する工程と、作成したエンボ
スパターンに基づいてエンボス版を作成する工程と、そ
の作成したエンボス版によって樹脂シートにエンボス加
工を施す工程とを備えることを特徴とする。本発明に係
る化粧シートは、請求項４記載のように、互いに異なる
方向性を有する、少なくとも２つの２値の絵柄がエンボ
ス加工されてなることを特徴とする。

【００２３】

【発明の実施の形態】以下、図面を参照しつつ発明の実
施の形態について説明するが、先ず、以下の実施形態の
説明の理解を容易にするために、作成しようとする化粧
シートについて、その概念を簡単に説明する。

【００２４】いま、図１に示すように２つの領域Ａ，Ｂ
があり、領域Ａに形成される凸部は横長であり、領域Ｂ
に形成される凸部は縦長とする。なお、領域Ａに形成さ
れる凸部の全てが横長である必要はなく、数的に横長の
凸部が多数を占めていればよく、同様に、領域Ｂでは縦
長の凸部が数的に多数を占めていればよい。

【００２５】そして、図の矢印Ｃの方向の斜め上から光
が照明が当たっているとき、図の矢印Ｄの方向の斜め上
から見るとする。この状態で各凸部からの視線方向への
反射光を考えると、視線方向に向いている面積は横長の
凸部の方が縦長の凸部より大きいので、領域Ａからの反
射光量は領域Ｂからの反射光量よりも多くなる。従っ
て、この場合には、領域Ａは領域Ｂより明るく見える。
つまり、領域Ａと領域Ｂに艶差が生じる。

【００２６】しかし、照明の方向を同じにしたまま、視
線を図の矢印Ｅに変えると、同様な理由によって、今度
は逆に領域Ｂは領域Ａより明るく見える。つまり、視線
の方向を変えることによって、艶差が逆転するのであ
る。

【００２７】このように、領域分割して、隣接する領域
に形成される凸部の方向を異ならせることによって、艶
差があり、しかも見る方向を変えることで艶差が変化す
る化粧シートを作成することができる。そして、凸部の
長さをあまり長くせず、ある程度の範囲に収めることに
よって、梨地調と同様な艶消し感を備えることができ
る。

【００２８】このように、横長の絵柄と、縦長の絵柄と
いう、互いに異なる方向性を有する絵柄が領域分割され
た２値画像を作成して、その画像に基づいてエンボス版
を作成し、樹脂シートにエンボス加工を施せば、艶差が
あり、しかも見る方向を変えることで艶差が変化する化
粧シートを作成することができることが分かる。

【００２９】そして、このことを一般化すれば、縦方向
と横方向に限らず、少なくとも２つの、互いに異なる方
向性を有する絵柄が領域分割された画像をエンボスパタ
ーンとすればよいということができる。

【００３０】本発明に係るエンボスパターン作成装置で
はそのようなエンボスパターンを作成しようとするので
あり、以下、実施形態について説明する。

【００３１】図２は本発明に係るエンボスパターン作成
装置の一実施形態を示す図であり、図中、１は入力手
段、２は梨地調パターン生成手段、３は変倍手段、４は
マスク画像入力手段、５は画像合成手段、６は画像出力
手段を示す。

【００３２】この図２に示すエンボスパターン作成装置
は、コンピュータシステムにより構成することができ
る。即ち、入力手段１はキーボード、ポインティングデ
バイスで構成することができ、梨地調パターン生成手段
２、変倍手段３、及び画像合成手段５は、ＣＰＵを含む
制御装置に、以下に説明する処理を行うソフトウェアを
搭載することで構成することができる。

【００３３】まず、図２に示すエンボスパターン作成装
置の各部について概略説明する。入力手段１は、目的と
するエンボスパターンを作成するための種々のパラメー
タ値を入力するためのものである。

【００３４】入力手段１から入力するパラメータとして
は、まず、最終的に作成する画像のサイズ（以下、これ
を作成画像サイズと称す）、その解像度がある。また、
変倍手段３で得られる、後述する縦方向梨地調パターン
と、横方向梨地調パターンとをマスク画像を用いて合成
する際に、作成画像のどこに縦方向梨地調パターンを割
り付け、作成画像のどこに横方向梨地調パターンを割り
付けるかを定める、割り付け対応関係テーブルを入力す
る。この割り付け対応関係テーブルは入力手段１から画
像合成手段５に与えられる。

【００３５】また、梨地調パターン生成手段２で梨地調
パターンを生成するについて入力すべきパラメータがあ
る場合にはそれを入力する。例えば、上述した特開平１
１−１４９５６１号公報に開示している非フラクタルな
２次元スカラ場の生成方法を用いて梨地調パターンを生
成する場合には、(1)式に示すような揺らぎ幅Ｚの数列
を入力する。また、梨地調パターンを生成する際の２値
化のための閾値がパラメータで指定するようになされて
いる場合には、その閾値を入力する。ここでは、２値化
を行うために用いる閾値は、予め梨地調パターン生成手
段２に登録されているものとする。

【００３６】更に、変倍手段３で梨地調パターンを変倍
するときの変倍率は、変倍手段３に固定的に登録してお
くことも可能であるが、変倍率をパラメータで指定する
ようになされている場合には、その変倍率を入力する。
なお、ここでは、変倍手段３で梨地調パターンを変倍す
るときの変倍率は、変倍手段３に予め登録されているも
のとする。

【００３７】梨地調パターン生成手段２は、入力手段１
で入力された作成画像サイズ、解像度で梨地調パターン
を生成するものである。この梨地調パターン生成手段２
は、上述したように、市販のノイズ画像を生成できるソ
フトウェアを用いて、先ずノイズ画像を生成し、そのノ
イズ画像の各画素の値を適宜な閾値によって２値化し
て、画像化する手段で構成することもでき、あるいは、
中点変位法等の周知の方法によってフラクタルな２次元
スカラ場を生成し、その２次元スカラ場の各画素の値を
適宜な閾値によって２値化し、画像化する手段で構成す
ることもでき、また、上述した方法により非フラクタル
な２次元スカラ場を生成し、その２次元スカラ場の各画
素の値を適宜な閾値によって２値化し、画像化する手段
で構成することもでき、何れの手段を用いてもよい。

【００３８】変倍手段３は、梨地調パターン生成手段２
によって生成された梨地調パターンを、縦方向と横方向
に、それぞれ予め設定されている変倍率で変倍するもの
である。縦方向の変倍率と横方向の変倍率はそれぞれ任
意に定めることができるが、ここでは両者とも３倍に設
定されているものとする。

【００３９】この変倍手段３により、縦方向に所定倍率
で変倍された梨地調パターンと、横方向に所定倍率で変
倍された梨地調パターンの２つの梨地調パターンができ
る。本明細書では、前者を縦方向梨地調パターンと称
し、後者を横方向梨地調パターンと称する。

【００４０】マスク画像入力手段４は、縦方向梨地調パ
ターンと横方向梨地調パターンを合成するために用いる
マスク画像を入力するためのものである。マスク画像デ
ータがフレキシブルディスク等の適宜な記憶媒体に記憶
されているのであれば、マスク画像入力手段４は、当該
記憶媒体からマスク画像データを読み取る手段で構成す
ることができ、マスク画像データが他のコンピュータシ
ステムに記憶されている場合には、マスク画像入力手段
４は、そのコンピュータシステムと通信によりマスク画
像データを取り込むことができる手段で構成することが
でき、あるいはマスク画像入力手段４を線画を描画でき
るソフトウェアで構成することもでき、この場合には当
該エンボスパターン作成装置において所望のマスク画像
を作成することができる。

【００４１】そして、マスク画像の各画素には色番号が
定められる。この実施形態では、縦方向梨地調パターン
と、横方向梨地調パターンの２つのパターンを合成する
ので、マスク画像の各画素に定められる色番号は２種類
でよいが、Ｍ種類の方向に変倍された梨地調パターンを
合成する場合には、マスク画像の各画素に定められる色
番号はＭ種類となる。例えば、縦方向梨地調パターン
と、横方向梨地調パターンと、４５°の方向に変倍され
た３つの梨地調パターンを合成するのであれば、色番号
は３種類必要となる。

【００４２】画像合成手段５は、変倍手段３から渡され
た縦方向梨地調パターンと横方向梨地調パターンとを、
マスク画像入力手段４から渡されたマスク画像データ及
び入力手段１から与えられた割り付け対応関係テーブル
に基づいて合成してエンボスパターンを作成するもので
ある。その動作については後述する。

【００４３】画像出力手段６は、画像合成手段５で得ら
れたエンボスパターンの画像データを出力するものであ
り、表示装置やプリンタ、あるいはフィルム出力装置、
またはハードディスク装置等の外部記憶装置で構成する
ことができる。勿論、画像出力手段６として、これらの
ものを全て備えてもよい。

【００４４】［動作の説明］以上、図２に示すエンボス
パターン作成装置の各部について概略説明したが、次
に、動作について、エンボスパターン作成方法の処理手
順と共に説明する。［パラメータの入力］まず、オペレ
ータは入力手段１により所定のパラメータの値を入力す
る。パラメータについては上述したとおりである。な
お、ここでは、縦方向梨地調パターンと横方向梨地調パ
ターンとの割り付け対応関係テーブルは図３のように入
力され、画像合成手段５に与えられるとする。図３に示
すように、割り付け対応関係テーブルは、マスク画像の
画素に定められる色番号と、変倍手段３で変倍され、方
向性を持たされた梨地調パターンとが対応付けられたテ
ーブルであり、図３に示す割り付け対応関係テーブルに
よれば、作成画像上の画素位置と対応するマスク画像上
の画素の色番号が１である場合、作成画像上の当該画素
位置には、横方向梨地調パターン上の、作成画像上の当
該画素位置に対応する位置の画素値が割り付けられ、マ
スク画像上の対応する画素の色番号が２である場合、作
成画像上の当該画素位置には、縦方向梨地調パターン上
の、作成画像上の当該画素位置に対応する位置の画素値
が割り付けられることになる。

【００４５】［マスク画像データの入力］また、オペレ
ータは、マスク画像入力手段５により、画像合成手段５
において縦方向梨地調パターンと横方向梨地調パターン
を合成する際に用いるマスク画像の画像データを入力す
る。マスク画像のサイズは、作成画像サイズと同じとす
るのが実用上便利であるが、マスク画像の各画素と作成
画像の各画素との一対一対応がとれればサイズは任意で
ある。ここでは、マスク画像は図４に示すようであると
し、図４のＡで示す領域の各画素の色番号は「１」とな
され、Ｂで示す領域の各画素の色番号は「２」となされ
ているものとする。

【００４６】［梨地調パターンの生成］梨地調パターン
生成手段２は、入力手段１から入力されたパラメータ値
が与えられると、そのパラメータ値に基づいて、指定さ
れた作成画像サイズで、指定された解像度の梨地調パタ
ーンを生成する。そして、生成した梨地調パターンの画
像データを変倍手段３に渡す。ここで生成される梨地調
パターンは図１０に示すようであって従来と同じであ
り、その絵柄は方向性を有していないから、この梨地調
パターンに基づいてエンボス加工された化粧シートは、
艶の方向性が無いものである。

【００４７】［変倍］変倍手段３は、梨地調パターン生
成手段２から与えられた梨地調パターンを、縦方向と横
方向のそれぞれに予め設定されている変倍率で変倍して
縦方向梨地調パターンと、横方向梨地調パターンの２つ
のパターンを生成する。そして、生成した縦方向梨地調
パターンと横方向梨地調パターンとを画像合成手段５に
与える。

【００４８】縦方向梨地調パターンの例を図５に示し、
横方向梨地調パターンの例を図６に示す。図５は、図１
０に示す梨地調パターンを縦方向に３倍に変倍したもの
の拡大図の一部を示し、図６は、図１０に示す梨地調パ
ターンを横方向に３倍に変倍したものの拡大図の一部を
示している。

【００４９】例えば、図７（ｂ）は、図７（ａ）に示す
黒円を横方向に３倍だけ変倍したものであり、図７
（ｃ）は図７（ａ）に示す黒円を縦方向に３倍だけ変倍
したものであるが、このことからも、図１０に示す梨地
調パターンを横方向に変倍した画像では、横長の黒の略
楕円状の絵柄が多数を占め、縦方向に変倍した画像で
は、縦長の黒の略楕円状の絵柄が多数を占めることが分
かる。実際、図５、図６と図１０とを比較すると、明ら
かに、図５のパターンでは絵柄は縦方向の方向性を有
し、図６のパターンでは絵柄は横方向の方向性を有して
いる。

【００５０】［画像合成］画像合成手段５は、変倍手段
３から縦方向梨地調パターンと横方向梨地調パターン
が、マスク画像入力手段４からマスク画像データが、そ
して入力手段１から割り付け対応関係テーブルが与えら
れると、画像合成を開始する。このときの動作を図８を
参照して説明すると次のようである。

【００５１】まず、作成画像上の一つの画素Ｐ（ｘ，
ｙ）に着目し、当該作成画像上の着目画素Ｐの位置
（ｘ，ｙ）に対応するマスク画像上の画素Ｑ（ｘ，ｙ）
を求めて、その画素Ｑの色番号を認識する。

【００５２】なお、上述したようにマスク画像のサイズ
は任意としてよい。従って、マスク画像のサイズと作成
画像サイズとが異なっている場合、作成画像上の着目画
素Ｐ（ｘ，ｙ）と対応するマスク画像上の画素を求める
には、両者のサイズを正規化するなどして、一対一に対
応する画素位置を求めるようにすればよい。作成画像上
の着目画素Ｐ（ｘ，ｙ）と対応する縦方向梨地調パター
ンの画素を求める場合、及び作成画像上の着目画素Ｐ
（ｘ，ｙ）と対応する横方向梨地調パターンの画素を求
める場合についても同様である。

【００５３】さて、いま、図８（ａ）の作成画像上の画
素Ｐに対応するマスク画像上の画素が図８（ｂ）に示す
ようにＱであり、当該画素Ｑの色番号が「１」であると
する。この場合には、画像合成手段５は、割り付け対応
関係テーブルを参照して、作成画像上の当該画素Ｐに割
り付けるパターンが縦方向梨地調パターンか、横方向梨
地調パターンかを認識する。図３によれば、この場合に
は横方向梨地調パターンを割り付ける用に設定されてい
る。そこで、画像合成手段５は、次に、作成画像上の着
目画素Ｐに対応する横方向梨地調パターン上の画素を求
める。その画素が図８（ｄ）のＳで示す位置であるとす
ると、画像合成手段５は、横方向梨地調パターンの当該
画素Ｓの値を取り込み、作成画像上の着目画素Ｐの画素
値とする。横方向梨地調パターンは２値画像であるか
ら、当該着目画素Ｐの画素値は「０」または「１」であ
る。

【００５４】マスク画像上の、着目画素Ｐに対応する画
素Ｑの色番号が「２」である場合も同様であり、画像合
成手段５は、割り付け対応関係テーブルを参照して、作
成画像上の当該画素Ｐに割り付けるパターンが縦方向梨
地調パターンであることを認識し、作成画像上の着目画
素Ｐに対応する縦方向梨地調パターン上の画素を求め
る。その画素が図８（ｃ）のＲで示す位置であるとする
と、画像合成手段５は、縦方向梨地調パターンの当該画
素Ｒの値を取り込み、作成画像上の着目画素Ｐの画素値
とする。縦方向梨地調パターンは２値画像であるから、
当該着目画素Ｐの画素値も「０」または「１」である。

【００５５】以上の動作を、作成画像の全ての画素につ
いて行う。これによって、目的とする、横長の絵柄が数
的に多数を占める領域と、縦長の絵柄が数的に多数を占
める領域とを有するエンボスパターンが作成できる。そ
のエンボスパターンの例を図９に示す。図９では、図４
のＡで示す領域には横方向梨地調パターンの絵柄が割り
付けられ、Ｂで示す領域には縦方向梨地調パターンの絵
柄が割り付けられている。

【００５６】［画像出力］以上のようにしてエンボスパ
ターンが作成されるが、その後はエンボスパターンを画
像出力手段６の表示装置やプリンタに出力して、出来映
えを確認し、所望のようであれば外部記憶装置に記憶す
るようにすればよい。

【００５７】［化粧シートの作成］化粧シートの作成
は、作成したエンボスパターンに基づいてエンボス版を
作成し、樹脂シートにエンボス加工を施すことによって
行う。そのための手法は周知であるが、例えば、作成し
たエンボスパターンを用いてシリンダにレジストを形成
した後、ダイレクトエッチングによりエンボス版を作成
し、そのエンボス版で樹脂シートにエンボス加工を施せ
ばよい。

【００５８】このようにして作成された化粧シートで
は、例えば図９の黒の部分を凸になるようにエンボス加
工したとすると、内部の丸と四角の領域では、縦長の絵
柄が数的に多数を占め、それ以外の背景の領域では横長
の絵柄が数的に多数を占めることになるので、照明の方
向と視線の方向、及び絵柄の方向、即ち縦長の絵柄であ
るか横長の絵柄であるかによって、明るく見える領域
と、暗く見える領域が生じる。つまり、艶差が生じる。

【００５９】また、照明の方向を一定にして視線の方向
を変えていくと、明るく見える領域と暗く見える領域が
変化していく。つまり、艶差が変化するのである。

【００６０】以上のようであるので、このエンボスパタ
ーン作成装置によれば、樹脂シートにエンボス加工を施
した場合に、こうせん彫りの艶の変化と、梨地調パター
ンの艶消し感を兼ね備えた化粧シートを作成することが
できるエンボスパターンを作成することができる。

【００６１】以上、本発明に係るエンボスパターン作成
装置、及びエンボスパターン作成方法、そして化粧シー
トの作成方法について説明したが、本発明は上記実施形
態に限定されるものではなく、種々の変形が可能であ
る。

【００６２】例えば、上記の実施形態では、縦方向の方
向性を有する縦方向梨地調パターンと、横方向の方向性
を有する横方向梨地調パターンを作成するものとした
が、上述したように、これに限るものではなく、少なく
とも２つの、互いに異なる方向性を有する梨地調パター
ンを作成し、それらの方向性を有する梨地調パターン
を、マスク画像の各画素の色番号に基づいて合成すれば
よいものである。即ち、より具体的にいえば、少なくと
も２つの、互いに異なる方向性を有する梨地調パターン
を作成し、割り付け対応関係テーブルを参照して、作成
画像の着目画素と対応するマスク画像上の画素の色番号
に対応付けられた方向性を有する梨地調パターンの、当
該着目画素に対応する画素の値を、作成画像の当該着目
画素の値とする動作を、作成画像の全ての画素について
行なえばよい。その際、マスク画像の画素に与える色番
号の種類は、作成される方向性を有する梨地調パターン
の数だけ必要となることは上述した通りである。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明に係るエンボスパターン作成装置で作成
しようとする化粧シートの概念を簡単に説明する図であ
る。

【図２】本発明に係るエンボスパターン作成装置の一実
施形態を示す図である。

【図３】縦方向梨地調パターンと、横方向梨地調パター
ンとをマスク画像を用いて合成する際に、作成画像のど
こに縦方向梨地調パターンを割り付け、どこに横方向梨
地調パターンを割り付けるかを定める、割り付け対応関
係テーブルの例を示す図である。

【図４】マスク画像の例を示す図である。

【図５】縦方向梨地調パターンの例を示す図である。

【図６】横方向梨地調パターンの例を示す図である。

【図７】梨地調パターンを横方向に変倍した画像では横
長の絵柄が数的に多数を占め、梨地調パターンを縦方向
に変倍した画像では縦長の絵柄が数的に多数を占めるこ
とを示すための図であり、図７（ｂ）は図７（ａ）に示
す黒円を横方向に３倍だけ変倍したものを示し、図７
（ｃ）は図７（ａ）に示す黒円を縦方向に３倍だけ変倍
したものを示す。

【図８】画像合成手段５の動作を説明するための図であ
る。

【図９】画像合成手段５で作成されるエンボスパターン
の例を示す図である。

【図１０】梨地調パターンの例を示す図である。

【図１１】特開平１１−１４９５６１号公報に開示して
いる非フラクタルな２次元スカラ場の生成方法を説明す
るための図である。

【図１２】特開平１１−１４９５６１号公報に開示して
いる非フラクタルな２次元スカラ場の生成方法を説明す
るための図である。

【図１３】特開平１１−１４９５６１号公報に開示して
いる非フラクタルな２次元スカラ場の生成方法によっ
て、種々の所望の特性を持つスカラ場を生成できること
を説明するための図である。

【図１４】こうせん彫りパターンの例を示す図である。

【符号の説明】

１…入力手段、２…梨地調パターン生成手段、３…変倍
手段、４…マスク画像入力手段、５…画像合成手段、６
…画像出力手段。

Claims (4)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】各画素に色番号が定められたマスク画像を
   入力する工程と、 マスク画像に定められた色番号と、互いに異なる方向に
   方向性を有する、少なくとも２つの梨地調パターンとが
   対応付けられた割り付け対応関係テーブル、作成画像サ
   イズ等の所定のパラメータを入力する工程と、 入力されたパラメータ値に基づいて、方向性を有してい
   ない梨地調パターンを生成する工程と、 方向性を有していない梨地調パターンを、互いに異なる
   方向にそれぞれ変倍して、少なくとも２つの、方向性を
   有する梨地調パターンを作成する工程と、 割り付け対応関係テーブルを参照して、作成画像の着目
   画素と対応するマスク画像上の画素の色番号に対応付け
   られた方向性を有する梨地調パターンの、当該着目画素
   に対応する画素の値を、作成画像の当該着目画素の値と
   する動作を、作成画像の全ての画素について行ってエン
   ボスパターンを作成する工程とを備えることを特徴とす
   るエンボスパターンの作成方法。
2. 【請求項２】各画素に色番号が定められたマスク画像を
   入力するマスク画像入力手段と、 マスク画像に定められた色番号と、互いに異なる方向に
   方向性を有する、少なくとも２つの梨地調パターンとが
   対応付けられた割り付け対応関係テーブル、作成画像サ
   イズ等の所定のパラメータを入力する入力手段と、 入力されたパラメータ値に基づいて、方向性を有してい
   ない梨地調パターンを生成する梨地調パターン生成手段
   と、 方向性を有していない梨地調パターンを、互いに異なる
   方向にそれぞれ変倍して、少なくとも２つの、方向性を
   有する梨地調パターンを作成する変倍手段と、 割り付け対応関係テーブルを参照して、作成画像の着目
   画素と対応するマスク画像上の画素の色番号に対応付け
   られた方向性を有する梨地調パターンの、当該着目画素
   に対応する画素の値を、作成画像の当該着目画素の値と
   する動作を、作成画像の全ての画素について行ってエン
   ボスパターンを作成する画像合成手段とを備えることを
   特徴とするエンボスパターン作成装置。
3. 【請求項３】各画素に色番号が定められたマスク画像を
   入力する工程と、 マスク画像に定められた色番号と、互いに異なる方向に
   方向性を有する、少なくとも２つの梨地調パターンとが
   対応付けられた割り付け対応関係テーブル、作成画像サ
   イズ等の所定のパラメータを入力する工程と、 入力されたパラメータ値に基づいて、方向性を有してい
   ない梨地調パターンを生成する工程と、 方向性を有していない梨地調パターンを、互いに異なる
   方向にそれぞれ変倍して、少なくとも２つの、方向性を
   有する梨地調パターンを作成する工程と、 割り付け対応関係テーブルを参照して、作成画像の着目
   画素と対応するマスク画像上の画素の色番号に対応付け
   られた方向性を有する梨地調パターンの、当該着目画素
   に対応する画素の値を、作成画像の当該着目画素の値と
   する動作を、作成画像の全ての画素について行ってエン
   ボスパターンを作成する工程と、 作成したエンボスパターンに基づいてエンボス版を作成
   する工程と、 その作成したエンボス版によって樹脂シートにエンボス
   加工を施す工程とを備えることを特徴とする化粧シート
   作成方法。
4. 【請求項４】互いに異なる方向性を有する、少なくとも
   ２つの２値の絵柄がエンボス加工されてなることを特徴
   とする化粧シート。