JP2002537034A - イオンビーム治療システムの緊急遮断点検方法 - Google Patents
イオンビーム治療システムの緊急遮断点検方法Info
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Abstract
Description
遮断点検方法に関する。
標物体(ターゲット)の照射時、イオンビームのエネルギの主要部分がターゲッ
トに転送され、一方、少量のエネルギのみが健康な組織へ転送されるという利点
を有している。それゆえ、比較的高い照射線量が患者の治療のために使用される
ことができる。それに反して、レントゲン線(X線)は、それらのエネルギを、
ターゲットおよび健康な組織に等しく転送し、その結果患者の保護のための、健
康上の理由から、高い照射線量が利用されることができない。
その陽子ビームが発生され、その陽子が加速器装置を介して種々の治療または照
射場所に供給され得るイオンビーム治療システムが知られている。各治療場所に
は、患者の寝台を有している回転架台が設けられその結果患者は種々の照射角度
において陽子ビームで照射されることができる。患者が回転架台の内部の固定位
置に空間的に置かれる一方、回転架台はこの回転架台のアイソセンタに置かれた
ターゲット上に種々の照射角度で処置ビームを焦点合わせするために患者の身体
のまわりに回転している。加速器装置は線形加速器(リニアアクセレレータ、L
INAC)およびいわゆるシンクロトロンリングの組み合わせを含んでいる。
ームの閉ループ制御(エッチ・エフ・ヴィーファイツェン等)において、陽子ビ
ーム治療システムにおいて陽子ビームを安定化する方法が提案されており、その
さい処置ビームは長手方向に互いから間隔が置かれた2つの測定点において対応
するビーム供給システムの中心線上に置かれるように能動的に制御される。第1
の測定点は1対の偏向磁石の間に置かれそしてマルチワイヤイオン化チャンバー
によって形成される。ビーム通路の中心点に対してそのマルチワイヤイオン化チ
ャンバーから供給されたビーム位置の実際の値に依存して、PI制御が最初に述
べた対の偏向磁石の前に配置されるさらに他の偏向磁石によって発生される。第
2の測定点はアイソセンタの直ぐ前に置かれかつ4つの象限に分割されるイオン
化チャンバーによって形成される。そのイオン化チャンバーの位置の実際の値に
依存して、再びPI制御信号が発生されるが、これらの制御信号は最初に述べた
偏向磁石に向けられている。この制御の助けによってビーム供給システムの中心
線に関する角度安定化および陽子ビームの横方向の位置の安定性の両方を可能に
する。
実施に際して、大きなかつ重い装置が必要であり、その結果として回転架台の使
用を回避しかつ代わりに患者または患者の寝台を動かすような傾向がある。対応
する治療システムは、例えば、1993年10月18〜20日の、イタリア、コ
モでの、ハドロンセラピーについての第1回国際シンポジウムの議事録、ページ
434、イー・ペドロニの「ビーム供給」において記載されている。これらのシ
ステムにおいては、したがって、偏心的なシステムが取り扱われている。
て好まれるので、重イオンビーム治療システムが提案され、そのさい回転架台は
治療場所で使用されるが、回転架台の半径は、ターゲットの照射のために、ビー
ムがまず回転軸線から離れて向けられかつ後でアイソセンタにおいて再び回転軸
線を横切るように適宜な磁石および光学系装置によって誘導されているその回転
軸線に沿って水平に各回転架台に供給される処置ビームによって減少されること
ができる。ターゲットの照射のために、その各々がビーム軸線に対して垂直な処
置ビームを偏向する、垂直偏向手段および水平偏向手段からなるグリッドスキャ
ナ(ラスタスキャナ)が設けられ、その結果としてターゲットを取り囲んでいる
表面が処置ビームによって走査される。このシステムは、したがって、本質的に
、回転架台の1平面においてのみビーム誘導を設けている。
ンビーム治療システムの制御システムによって自動的に計算される照射線量デー
タの助けによって行われる。
性および作動安定性が必要であるので、上述された重イオンビーム治療システム
においてはグリッドスキャナによって供給された処置ビームの監視のために監視
装置が設けられる。この監視装置は上述した磁石装置の最後の偏向磁石とアイソ
センタとの間に配置され、かつ粒子流れを監視するためのイオン化チャンバーお
よびビーム位置とビーム幅を監視するための多線室を含むことがてきる。
IN規格を遵守すべきである。これらの規格は一方で、システムの、検査試験、
すなわち、作動の容易さの検査、かつ他方で、不変性試験、すなわち、作動安定
性の試験である。イオンビーム治療システム、とくに重イオンビーム治療システ
ムに関して、このようにイオンビーム治療システムのためにとくに開発された安
全性規格はまだ知られてない。また、しかしながら、イオンビーム治療システム
において、できるだけ大きな作動安全性および作動安定性による要求がそんざい
している。
性を改善するために、イオンビーム治療システムの緊急遮断点検方法を提案する
ことに基礎を置いている。
る。従属の請求項は各々本発明の好適なかつ好都合な実施例を定義している。
ステムを有しているイオンビーム治療システムが作動され、そのさい緊急遮断の
チェックが実施される。
ラメータの自動監視によりかつ安全関連のすべての状態の指示により、技術的な
治療制御室および前記イオンビーム治療システムの全体システムの主制御室のコ
ンソールにおいて実施される。
性の点検はより高い安全性の技術の重要性によっている。
またはインターロック条件の存在に際してシステムの緊急遮断の解放について点
検されねばならない。処置ビームの遮断は、インターロックの場合が識別される
ときのみ行われることができる。それゆえ、インターロックの蒸気用に導き得る
すべての出所が試験において個々にシミュレートされねばならずそしてインター
ロックの解放、すなわち、処置ビームの緊急遮断に導いている信号の発生がイン
ターロックユニットによって点検されねばならない。インターロックユニットは
作動において、好ましくは、ビーム誘導の可動部分の端部スイッチの信号、グリ
ッドスキャナ磁石の磁石装置の状態、データ伝送のデータオーバーフローの、電
圧供給に関してイオン化チャンバー、強度限界値および個々のイオン化チャンバ
ーの同期の遵守、ビーム位置測定装置ならびにビーム位置それ自体のエレクトロ
ニクス、個々の検出器の高電圧およびガス流れ、シーケンス制御コンピュータに
よる可能なインターロック、患者の不動化の考え得る中断(例えば、照射場所で
のマスクの開放に際してまたは患者の運動に際して)、すべてのコンピュータプ
ログラムの機能準備および治療システムの医療コンソールによる照射の緊急遮断
または解放等を監視する。インターロック状態の存在に際してインターロックの
不十分な解放は治療システムにおいて介入されかつ欠陥が除去されねばならない
。
で、医療用コンソールを介して点検されねばならない。
な制御室および主制御室においてすべての安全関連の状態の指示の点検が必要と
される。これらの安全関連の状態の指示は迅速な欠陥検知および欠陥除去に役立
ちそして瞬時の照射状態を介して操作者に情報を付与する。警報条件のこの指示
はインターロックユニットの上述した試験とともに点検されることができる。不
変性の点検のために、この試験は各照射の中断前にかつ制御システムまたはプロ
グラムの変更後に実施されるべきである。
関して点検するることが提案され、そのさい、放射線量データの計算の十分な精
度が、すべての測定点に関して放射線量の計算されたおよび測定された値の間の
平均の差異が予め定められた最初の許容値を超えないときかつ個々の測定点に関
して、その測定点について計算されたおよび測定された放射線量間の差異が予め
定められた第2の許容値を超えないとき推測される。そのさい第1の許容値は±
5%そして第2の許容値は±7%である。
ンビーム治療システムの画像形成装置のプランニングパラメータを点検するため
に、ファントムから、デジタル再編成(リコンストララクション)、とくにX線
再編成が計算されることができ、その再編成は考え得る差異を確認するためにフ
ァントムから発生されたX線撮影と比較される。
善を可能にしかつイオンビーム治療システムの検査試験および/または整合性試
験の意味において実施され得る特別な点検態様を有する点検プランを定義してい
る。これはとくに照射プランニングに関し、その過程において放射線量データが
照射または治療されるべき患者に依存してイオンビーム治療システムにおいて自
動的に計算される。
域および加速器領域に分割される病院の建物内で使用される。患者の治療のため
に複数の治療または照射場所が設けられている。イオンビーム治療システムの制
御システムは複数の制御室からなり、そのさい個々の治療場所のために技術的な
制御室および加速器装置のために主管理制御室が設けられることができる。これ
に対して、建物内には線量測定用のまたは加速器保守用の研究室、またはPET
装置(ポジトロンエミッタートモグラフ)が収容されることができる。加えて、
エネルギ供給装置(とくに加速器装置および照射システム用の)および冷却装置
が設けられている。十分な遮蔽作用を保証するために、個々の治療室は、例えば
、2mの厚さのコンクリートからなっている、厚い壁および天井によって境界付
けられている。
で、ここではそれについて簡単にのみ理解が示されている。
おいて簡単化して示されている投射(インジェクション)システムからなってい
る。
び4極子からなる装置を備えた低エネルギビーム誘導チャンネルによって、放射
線を誘導する切り換え磁石に供給され、この切り換え磁石は放射線をさらに他の
4極子装置およびパルス形成用に設けられたチョッパ装置を介して、線形加速器
2(リニアアクセレレータ、LINAC)に供給する。
シンクロトロン・リング5の間にあるビーム誘導装置中では裸にされ12C+6となる
。このために、ストリッパ3が線形加速器2の後に設けられる。これらの炭素イ
オンはそれらの物理的および生物学的特性に基づいて、腫瘍の治療に極めて有効
であることが判明しかつ高い物理的選択性ならびに高い生物学的有効性の利点を
有し、そして加えて、ポジトロンエミッタートモグラフ(PET)の助けによっ
て照射を確認するような可能性を付与している。炭素イオンの適宜な選択によっ
て、生物学的な有効性がブラッグ曲線の安定期領域において低くかつブラッグピ
ークの領域において高いように制御され得る。それにより、ターゲットまたは腫
瘍は比較的高い線量で治療されることができる一方周囲の健康な組織用の線量は
最小にされる。
ジ投射システムにおいて存在するビームのチャージスペクトルが記録されかつ評
価される。基準スペクトルとの記録されたチャージスペクトルの比較により、所
望しないイオンまたは不純物が検出されかつ対応する処置が行われ得る。この点
検は、例えば、イオン源1の各加速化により実施され得る。
らのイオンは、その場合に、注入ライン4を介してシンクロトロン5に供給され
ている。注入ライン4は、記述されたストリッパ3に加えて、投射パルスの精密
な成形用のさらに他のチョッパ装置、チャージ分析用の磁気ダイポール、放射線
をシンクロトロン5の受容能力に適合させるための4極子等を含んでいる。
INAC)、ストリッパ3および注入ライン4を含んでいる、投射システムは、
かくして全般的に、所望の粒子を有するイオンビームの発生および分析、イオン
ビームの汚染の監視およびイオンビーム強さの制御、特別な投射エネルギへのイ
オンの加速およびシンクロトロンリング5に投射されるパルスのパルス長さの決
定の課題を有している。
最終的な加速に役立ちそして例えば、複数の偏向磁石、4極子および6極子を含
んでいる。図1に示された実施例において、例えば、各々、60°の偏向角度を
有する、6個の偏向磁石が設けられている。シンクロトロン5の内部には冷却手
段(図示せず)が配置される。幾つかの投射サイクルによって、投射されたイオ
ンは数MeV/uの範囲のエネルギから、例えば、400MeV/u以上のエネ
ルギに加速される。この方法で加速された処置ビームは高エネルギビーム誘導チ
ャンネル6を介してシンクロトロンの特定の位置において引き出されかつ個々の
治療場所に供給される。
、治療場所での「理想的な」対称かつ安定ビーム形状の要求は実質上ビーム誘導
チャンネル内のビーム光学系の適切な調整によって考慮され得る。
置等を含んでいる。加えて、さらに他のチョッパがシンクロトロン5の引き出し
位置の後ろに配置されることができ、それは緊急の場合においてビーム供給を遮
断するのに使用される。加えて、処置ビームをシンクロトロン5から結合解除す
るのに役立つ、引き出し過程のルーチン遮断が各グリッドスキャン部分の後に設
けられることができる。
が前述された高エネルギビーム誘導チャンネル6を介して供給される治療場所の
1つに設けられる。回転架台8は特別な回転軸線のまわりに回転する一方、治療
されるべき患者は局部的に固定の方向付けおよびアラインメントにおいて患者の
寝台9上に横たわる。治療されるべき患者の身体の部位はその装置において処置
ビームのアイソセンタ10内に置かれ、そのさいアイソセンタは後で詳細に説明
されるグリッドスキャナの中心ビーム11と患者の寝台9の回転軸線との間の交
差点として定義されている。
が、回転架台8への進入後、1平面において数回偏向されるように構成される。
このために、複数の4極子レンズ12およびダイポール磁石7が設けられ、その
さい最初の2つのダイポール磁石7は、例えば、42°の同一の偏向角度を有し
、そして互いに反対に配置されており、一方、最後のダイポール磁石7は90°
の偏向角度を有する偏向磁石であり、その結果処置ビーム11は回転架台8に入
った後、処置ビームは最初に回転架台8の回転軸線から横方向に偏向されかつ次
いで、患者の寝台9に対して90°の角度で、ビーム出口開口を経由して、最後
の偏向磁石7を続いて去るように、回転架台8の回転軸線に対して平行に誘導さ
れる。
された実施例に際して最後の4極子レンズ12と回転架台8の最後の偏向磁石7
との間に配置されそして少なくとも1つの水平グリッドスキャナ磁石13ならび
に少なくとも1つの垂直グリッドスキャナ磁石14を含んでいる。グリッドスキ
ャナ磁石13および14はビーム軸線11をイオン軸線11に対して垂直にまた
は水平に偏向し、その結果この方法において走査されたイオンビーム11は、最
後の偏向磁石7を出た後、予め定められた治療平面と合致してアイソセンタ10
を取り囲んでいる特別な表面を走査する。最後の4極子磁石12と最後の偏向磁
石7との間のグリッドスキャナ13,14の配置に基づいて、高度の柔軟性が、
アイソセンタ10でのビームの大きさおよびビーム拡散の、後で詳述される、制
御において達成され得る。
テム全体の構成要素である制御装置(図示せず)によって制御される。
置ビーム11を監視するための監視手段が設けられる。例えば、ビームの位置、
ビームの形状および粒子の流れを検知しかつ制御するのに設けられるこれらの監
視手段は後で詳細に説明される。
)が照射手順(過程)を監視するために設けられることができ、その画像レコー
ダ(カメラ)はビーム位置において一直線に配置される。ポジトロンエミッター
トモグラフは、好ましくは、治療または照射の間中実施される。処置ビームが組
織に衝突するとき、最初のイオンから出発して位置放出アイソトープが発生され
る。1つまたは2つのニュートロンの損失によって単に最初のイオンから異なる
、これらのアイソトープの幾つかは、対応する最初のイオンとほとんど同一の領
域において停止する。いわゆるポジトロンエミッターのこの停止点はポジトロン
エミッタートモグラフの助けによって照射手順の監視のために検知され得る。
徴を点検しかつ制御するための、以下で詳細に説明されるような、範囲の広い点
検システムが開発された。
射線エネルギが監視される。これは、その都度の治療によって要求される照射エ
ネルギが遵守されねばならないので、必要である。このために、図2に示された
監視手段はそれぞれの治療場所のアイソセンタ10に配置され得る吸収(アブソ
ーバ)イオン化チャンバーシステムを含んでいる。吸収イオン化チャンバーシス
テムは、治療試験サイクルの間中作動される幾つかの選択されたエネルギ等級に
関して治療場所でブラッグピークの位置を測定し、そのさい瞬間の放射線エネル
ギがブラッグピークの測定された位置から生じる。ブラッグピークの位置を決定
するために、ブラッグ曲線が精密なステップにおいて測定される。点検に際して
、0.5mm以上の所望の位置からのブラッグピークの逸脱があるならば、その
場合に介入が必要である。不変性を試験するために、記載された点検手順が照射
手順の各中断(ブロック)の前に実施され得る。
ゆっくり引き出された処置ビームの強さのレベルの監視に関する。グリッドスキ
ャナの制限されたダイナミックスは走査された処置ビームの走査または走査速度
に上方で制限し、そのさいこの制限に対して決定的な成分は磁石電流供給装置の
最大電流増加速度である。処置ビームの走査速度はビームのそれぞれの強度およ
び計画された粒子密度に依存している。最大走査速度が照射の間中達成されない
ことを保証するために、シンクロトロン5から引き出された粒子量は実質上所望
の値を超えなくてもよい。それに対する顕著な低下に際して、合計照射時間は延
長され、場合によっては制御および監督または監視システムはその場合に任意に
、ビーム検出の精度の損傷を結果として伴う、非常に小さい入力電流の範囲にお
いて作動されている。したがって、本治療システムにおいて、情報強度範囲にお
けるシンクロトロンの粒子強度のならびに照射場所に供給された粒子量の測定お
よび記録は数分にわたって複数のエネルギのすべての強度レベルに関して設けら
れる。加速器から照射場所へ供給された粒子量はシンクロトロン5からの引き出
し当たり2×106 と2×108 イオンとの間にある。予め定められた所望の
値からの粒子量の逸脱はその値の上方で最大30%そして下方で最大50%にす
ることができる。それらの限界値が逸脱されるならば、対応する介入が必要であ
る。治療システムの不変性(コンスタンシー)を点検するために、この点検は、
例えば、毎日行われることができる。
のデータ供給の、照射プランニングのかつグリッド走査プログラミングの基礎と
して取られねばならない。それを保証するために、最後の治療プログラミング後
加速器のように発生されたデータ入力がグリッド走査プログラミングおよび照射
プランニングに使用されたデータ入力と比較されるべきてある。これらのデータ
入力の逸脱は許容されない。不変性を点検するために、この点検は各照射中断の
前に実施されねばならない。
った設定を回避するために(外部)干渉に対してブロックされる。同時に、すべ
ての構成要素の作動状態は作動されそしてメモリ、例えば、EPROMSに排他
的にファイルされた装置用の所望の値のデータがアクセスされる。干渉に対して
加速器を遮断する機能は、実験および治療加速器の両方を含んでいる「スーパー
サイクル」を設定することによって点検されることができる。回転架台8用の高
エネルギビーム誘導6において、例えば、(後で詳細に説明される)プロファイ
ルグリッド、発光ターゲットおよびイオン化チャンバーのごとき、監視手段また
は検出器が持ち来され、そして高エネルギビーム誘導チャンネル6および治療加
速器用のシンクロトロン5のビームに作用する要素が作動解除される。次いで加
速器の遮断が作動されそして実験加速器のすべてが作動解除される一方、治療用
加速器が作動される。加えて、治療加速器に関して以前に作動解除されたすべて
の構成要素が作動され、そして挿入されたプロファイルグリッド、発光ターゲッ
トおよびイオン化チャンバーが再び移動される。いまや、オフコマンドが個々の
磁石にそして調整コマンドがビーム誘導診断構成要素に送られ、それらのコマン
ドは、通常の場合に、加速器の遮断によっていかなる作用も有するように許容さ
れない。他の方法では、対応して修正されねばならないエラーがある。この点検
は、不変性を点検するために各照射中断の前に実施され得る。
テムのインターロックユニットの対応する信号後1ms以下で終了されることが
できねばならない。これは、急激にオフされているシンクロトロン5の特別な4
極子の急激なオフによってによって行われた。制御および安全システムによるビ
ーム終了の要求と照射場所でのビームの不存在との間の時間は、一定のエネルギ
により照射されるべき区域に対応している、連続する等エネルギレベル間に変化
があるときのグリッド走査過程のために、また、エラーの場合において考え得る
システムの緊急遮断のために重要な意味からなる。したがって、合計時間、すな
わち、要求の反応時間およびビーム終了の反応時間の両方を測定する試験が設け
られる。このために、制御システムが適切な信号を発生し、この信号が等エネル
ギレベルの終了をシミュレートするか、またはインターロック状態、すなわち、
緊急遮断の状態が発生される。続いて、制御システムにより終了後の粒子カウン
トが測定され、そのさい終了後1msでカウントは104 粒子/sより大きい
ように許容されない。加えて、治療システムの技術的な制御室の固定位置に取り
付けられる記憶オシログラフおよびパルサーを使用して、制御システムの上述し
た測定を点検するためにイオン化チャンバーの1つの電流電圧変換器の出力信号
を評価する測定が行われる。また、この第2の測定において、終了後1msでい
かなるビームも検出されることを可能にすべきでない。終了の以下の時点、すな
わち、引き出し時間の始まり、引き出し時間の中間、引き出し時間の終了および
引き出し時間を超えて、順次点検される。点検は不変性点検として毎日行われる
べきである。
ロトコルは照射の間中重要な加速器構成要素の調整ならびに選択されたビーム診
断測定結果を記録する。プロトコル化およびプロトコル内容の機能性を試験する
ために、基準治療サイクルが作動されかつプロトコルプログラムが呼び出される
ことが提案される。次いで、プロトコルプログラムによって引き出されたプロト
コルデータは期待されたデータと比較されることができ、そのさいプロトコルが
完全でないときまたはプロトコル化された装置のエラーが存在するとき、介入が
行われねばならない。不変性を点検するために、この点検過程は各照射中断の前
に実施されることができる。
ることに関連付けられる。
証されるべきである。処置ビームが終了要求によって終了されないならば、その
事実が強度測定によって制御システムおよび安全システムにより確認され、そし
てビームの終了が、新たに、別個に設けられた冗長なチャンネルによって要求さ
れる。その第2の要求は高エネルギビーム誘導チャンネル6の対応する偏向ダイ
ポールに作用する。また、この冗長な引き出し終了の機能性を点検するために、
最初の引き出しの終了のために設けられた警報ラインが人工的に遮断される。こ
の場合に、上述した第2の引き出しの終了が自動的にトリガされるべきであり、
それは公称の引き出しの終了の上述した試験に類似して試験されることができる
。引き出しの終了が10ms以内に発生しないならば、適切な介入が必要である
。不変性の点検のために、この試験は各照射中断の前に行われることができる。
ポールの接続および接続解除作動が試験されることができる。患者の安全性理由
から、照射(加速器の遮断後)前の高エネルギビーム誘導チャンネル6の最後の
2つの偏向磁石の接続解除はそれらの磁石用の回路網装置への特別なケーブルの
接続によって技術的な制御室からのみ作動可能である。この接続解除によって、
照射場所へのビーム供給は停止される。これらの磁石の接続は特別な信号を介し
て技術的な制御室からのみ実施されることができかつ加速器の主制御室からは(
通常のごとく)実施され得ない。この接続および接続解除の作動は試験され、そ
のさい対応する接続/端子は、また、試験される。不変性の点検のために、この
試験は各照射中断の前に実施される。
。グリツドスキャナ磁石13,14によってビーム11の偏向後アイソセンタ1
0での正確なビーム位置決めを保証するために、照射場所に対するビーム誘導装
置の最後の部分における処置ビーム11の軸方向の位置がエネルギ全体および焦
点合わせ範囲に関して点検されねばならない。この理由のために、プロファイル
グリッド16がグリッドスキャナ磁石13および14より後にかつビーム出口窓
においてビーム通路に挿入され、そして試験サイクルがエネルギ全体および焦点
合わせ範囲にわたって発生される。そのさいプロファイルグリッドが個々に評価
されかつそのさい記録されたビームパラメータがプロトコル化される。ビーム出
口窓に配置されたプロファイルグリッドの測定に際して、その前方に配置された
プロファイルグリッド16が移動されねばならない。プロファイルグリッドによ
って供給されたビームパラメータの評価によって、水平および垂直方向の両方に
おいてビーム位置およびビーム角度が決定され得る。プロファイルグリッドのビ
ーム位置から、アイソセンタ10で期待されるような処置ビームの位置が確認さ
れかつ次いでプロトコルが点検される。そのさいアイソセンタ10に関して所定
のビームの半分の値の幅に関して±25%の位置エラーが決定されるならば、適
切な介入が実施されねばならない。不変性を点検するために、この試験は毎日行
われることができる。
ーム位置および位置安定性が点検される。絶対のビーム位置の遵守は治療または
照射プランの変換の前提条件である。それゆえ、絶対の位置が制御システムの位
置感知検出器により測定される。照射場所のアイソセンタにおける処置ビームの
相対的な位置安定性は照射プランがそれにより実施され得る精度を決定する。処
置ビームの位置は、オンラインで、すなわち、連続して、照射の間中、測定され
かつ点検される。照射プランによって予め定められた許容限界内での所望の位置
からの逸脱に際して、照射は中断されるかまたは適切な介入が行われる。各位置
感知検出器は別個に点検される。
よび位置感知検出器によって実施される。
ム位置がアイソセンタの場所において発光ターゲットまたはフィルムの助けによ
って点検される。そのさい、プロファイルグリッドの位置は発光ターゲットまた
はフィルム上のレーザクロスによって目視可能になされるアイソセンタにより調
整される。グリッドスキャナ磁石13,14によって、処置ビーム11はアイソ
センタ10において静止して偏向されそしてプロファイルグリッド測定によって
得られた位置座標が予め定めた所望の値と比較される。これは、例えば、規則的
な間隔において、例えば、ほぼ10番目のエネルギレベルごとに実施され得る。
の多線室がアイソセンタ10の前方でほぼ970mmおよび790mmの距離で
位置決めされそしてレーザビームの助けによって、アイソセンタ10を通って延
びている中心ビームが多線室の中心を通って垂直に延びるように一直線に配置さ
れる。グリッドスキャナ磁石13,14によって、ビームは、照射区域内の5つ
の異なる位置(すなわち、上方および下方、そのつど左方および右方ならびに中
心において)の各々に、例えば、5つの異なるエネルギで、静止して偏向される
。設定の位置は制御システムによって測定されかつ所望の値と比較される。
室の照射領域の投射が異なる要因によって減少される。ビームのジオメトリおよ
び放射線法の規則の利用により、以下の減少要因が得られる、すなわち、 多線室がアイソセンタの前方で970mm: X座標:減少要因0.890 Y座標:減少要因0.876 多線室がアイソセンタの前方で790mm: X座標:減少要因0.910 Y座標:減少要因0.899
べきである。このために、多線室の位置のアラインメントおよび固定の後、上述
したレーザクロスによって絶対的に位置決めされたフィルムは5つの位置におい
て照射される。フィルムによって確認されたビームのゼロ点は多線室から計算さ
れたゼロ点と比較される。差異または逸脱がその場合に位置を計算するために補
正オフセット値を生じる。これらの補正オフセット値は位置の所望の値において
考慮され、そのさい5つのすべての点の絶対位置が互いに比較される。
され、そのさい制御は、この方法において確認された位置の差異がビームプロフ
ァイルの半分の値の幅の最大25%に対応するように実施されている。ビームプ
ロファイルの半分の値の幅に対してこの介入しきい値は、半分の値の幅を有する
照射プランのすべての幾何学的パラメータかつとくに、患者の作動に必要な発生
された粒子の密度の品質が達成されるので、実用的であることが判明した。不変
性の点検の実施に際して、上述した多線室の測定が、アイソセンタにおける追加
のプロファイルグリッドの取り付けが毎日の作動に関して非常に高価になるので
、単に使用される。
にわたっての安定性の監視および制御からなっている。治療または照射プランが
それらの値に基礎が置かれるので、加速器装置から制御システムのパルス中心制
御によって要求に応じて供給されるビーム焦点合わせが遵守されされねばならな
い。このために、アイソセンタ10における絶対ビームプロファイル幅がプロフ
ァイルグリッドの助けによって点検され、プロファイルグリッドの位置は発光タ
ーゲットまたはフィルム上のレーザクロスによって目視可能にされたアイソセン
タにより調整されている。グリッドスキャナ磁石13,14によって処置ビーム
はアイソセンタにおいて静止して偏向され、そのさいそれが、例えば、ほぼ10
番目のエネルギレベルごとに実施されることを可能にしている。プロファイルグ
リッド測定によって得られたビーム幅は予め定められた所望の値と比較され、そ
のさい制御は、±50%の予め定められた所望の値からビーム幅の最大逸脱が観
察されるように行われる。これはとくに200MeV/u以上のエネルギ範囲に
適用される。
線室を使用して行われることができ、それらは、アイソセンタ10の前方でそれ
ぞれ、970mmおよび790mmの距離において配置される。実際の点検の前
に、2つの多線室の絶対幅測定の較正が実施される。そのさい、フィルムが水平
および垂直ストライプにより照射され、そのさい各ビームが固定焦点合わせによ
りシンクロトロンからの引き出しによって発生されている。この方法において、
選択可能な焦点合わせに依存して、例えば、7つのビームを発生することができ
る。照射されたフィルムに基づいて確認されたビーム幅は、再び所望の値におい
て考慮され得る、それからの補正オフセット値を得るために多線室(位置決め室
)によって測定されたビーム幅と比較される。続いて、制御システムと関連して
このようにして較正された多線室の助けによって、ビームプロファイルの半分の
値の幅およびその不変性または時間にわたっての安定性が測定されかつ監視され
、そのさいこれはとくに、選択可能な焦点合わせの各々に関して異なるエネルギ
および強度で行われている。
半分の値の幅の29%から50%への介入しきい値の上述された増加は、照射プ
ランの骨子においてビーム位置の間隔が半分の値の幅の33%に設定されるので
、均質性に関する要求と一致する。
タのごとき、処置ビームの分析および変調用の幾つかの要素が、通常配置される
。これらの要素によって、ビームエネルギが減少するとき著しく増加する、処置
ビームのスキャッタリングを引き起こす。それによって、物理的理由から、より
低いエネルギ範囲(エネルギ<200MeV/u)において最初に要求されたビ
ーム幅の遵守がより多くなくまたは困難でのみ実施可能である。この場合におい
て結果は、上方許容値の超過であり、その結果その作用は照射プランニングにお
いて考慮されねばならない。
粒子数の変化の監視に関する。粒子数測定用の測定範囲が余りにも大きくなるの
を阻止するように、加速器によって供給される処置ビームの強度は幾つかの許容
限界内でのみ変動すべきである。本場合において提案されることは、処置ビーム
の強度が制御システムの測定装置と関連してイオン化チャンバーを使用して測定
され、そして粒子数が300μsの時間窓を介して平均化されるということであ
る。それに続いて測定された粒子数は、介入をトリガしないために、以前に確認
された平均値の値の最大で5倍に対応するように時間窓内で許容される。これら
の手段によって、より信頼し得る測定範囲が選択され、それにより、例えば、以
前に計算された平均値より10の因数だけ高い同様な粒子数がさらに正しく測定
される。同様により高い粒子数が生起するならば、警報がトリガされかつ既述さ
れた、インターロックユニットがビームのオフをトリガする。しかしながら、注
意されねはならないことは、この点検態様が検出器のプリセットにのみ関係し、
そしてエネルギの投与量等に直接的な影響を持たないということである。また、
以前に定義された介入しきい値の上方にかなりの程度に横たわっている粒子数の
変化に際して、後述される、粒子の密度の均質性は決定的な品質規準として十分
であるかも知れない。
ーム誘導チャンネル6の最後の偏向磁石と回転架台8との間のすべての可動の構
成要素の所望の位置が、ビーム誘導装置に置かれた物体が照射場所においてビー
ム品質の損傷を導くので、規則的に点検されるべきである。それゆえ、ビーム誘
導装置の可動の構成要素がビーム通路内に見いだされないことが保証されねばな
らない。このために、対応する可動の構成要素に、その状態が自動的にかつ個々
に制御システムによって点検され得るリミットスイッチが接続される。それは、
不変性の点検のために、各照射中断の前に繰り返されるべきである。
と関連付けられる特徴の点検に関する。
イオン化チャンバーに発生された電荷は、イオン化チャンバーガスの圧力および
温度に依存し、その結果これらの変数の両方が照射の間中監視されかつプロトコ
ル化されねばならない。イオン化チャンバーのガスの圧力および温度は電気的セ
ンサの助けによって測定され、そのさい測定値は制御システムによってほぼ1回
/分で記録されかつ入れられた較正要因により絶対単位(hPaおよび°C)に
変換されかつデジタル的に表示される。測定値の時間的経過が傾向図においてグ
ラフ的に示され得る。センサは基準測定装置の助けによって較正される。イオン
化チャンバーに取り付けられたセンサの較正は各治療照射の中断の前に繰り返さ
れねばならない。加えて、監視システムの場所での大気圧および室温が絶対的に
較正された装置によって測定されかつ制御装置によって記録されならびに各照射
に際してプロトコル化される。結果として、イオン化チャンバーの(毎日の)点
検のために、大気圧および室温の絶対値が、基準測定装置において直接読み取ら
れ、制御システムによって表示された値と比較されかつプロトコル化されること
ができる。基準値として、そのさい、監視システムの毎日の較正に記録された測
定値が役立つ。20hPaまたは5°Cの相違に際して、警報が制御システムに
よってトリガされる。
ータセットのローディングが点検されねばならない。これは、システムのシーケ
ンス制御に患者の照射に要求されるデータを、システムのシーケンス制御におい
て正しく負荷することができるために必要である。すべてのデータが正しい場合
にのみ、患者の照射が開始されることができる。このために、制御システムのサ
ーバーコンピュータ中の特別なプログラムの助けによって、プログラムおよびデ
ータが制御コンピュータの個々のプロセッサに書き込まれ、読み出されそして個
々のメモリに記憶されたプログラムおよびデータと比較され、そのさいかかる点
検プログラムが各照射の前に自動的に実施されている。再び負荷されたデータが
制御システムのデータメモリに記憶されたデータに精密に対応するときのみ、安
全運転から開始されることができる。相違に際して、警報信号が発生されそして
照射の阻止に役立つ、上述したインターロックユニットは解放されることができ
ない。
に関連している。そのさい、注意されねばならないことは、それらの偏向磁石の
電流値が、幾つかの許容限界内で、値および時間の両方において、磁石供給装置
に設定された一定の所望の値を達成するということである。このために、磁石供
給装置における磁石電流値の設定と適切な安定した磁石電流の達成との間の時間
が種々の電流値に関して測定される。そのさい、設定された磁石電流値からの相
違に関して許容され得る最大電流精度は0.3Aである。2Aの電流の変化に際
して許容され得る最大調整時間はx方向において175μsそしてy方向におい
て325μsである。これらの許容値が遵守されないとき、照射は終了されねば
ならない。不変性の点検のために、この試験は各照射の中断の前に実施されるこ
とができる。
の数が永続的に記憶される、すなわち、パワーの損失に対して保護されるという
ことである。これは資格を与えられた人間によって認可された照射時間において
より遅い点においての継続を可能にする。この実行された安全性の機能の機能性
は管理接続システムに特定の照射または治療プランを負荷しかつ照射なしにプラ
ンを実施し、すなわち、それをシミュレートすることによって点検されることが
できる。特定の照射場所において、シーケンス制御の電圧供給がオフされそして
システムの再始動後、最後の照射場所が読み出されそして電圧供給がオフされる
とき照射場所と比較される。2つの読み取りが一致しないならば、適切な介入が
実施される。不変性の点検のために、この検査は各照射の中断の前に行われる。
めに対する医療用装置の点検に関する。
が照射の全体の精度に関して重要な要因であるので、CTまたはMR方法の助け
によって点検されるべきである。このために、球状のファントム内の所望のター
ゲットが、その中心が作像方法の助けによって容易に目視し得る方法において示
されることができる球状試験体によって示され得る。球状のファントムは立体配
列のフレームに締め付けられ、その結果中心が未知のターゲットとなる。立体配
列の座標は、その場合に、使用されるラジオグラフ、CTまたはMR方法の助け
によって連続して決定され;トモグラフ方法の場合において、層間隔は1mmに
すべきである。ラジオグラフ方法の精度は1/10mmに正確であり、CRまた
はMRによりターゲットを決定する精度はラジオグラフ方法との比較によって決
定されることができ、すなわち、ラジオグラフにより決定されたターゲットの位
置とCTまたはMR方法により決定された位置との間の半径方向の距離が点検さ
れる。半径方向の距離は1.5mm以上にすべきでない。不変性を点検するため
に、この試験の年に一度の実施が十分である。
,14からのビーム中心との間の交差点として定義される、アイソセンタがプラ
ンニングと照射との間の位置決めの接続要素であるので、患者の寝台9の回転軸
線とグリッドスキャナ13,14からの中心ビームとの間のアイソセンタの位置
の精度を点検することが提案されている。不変性試験が各照射中断の前に実施例
されるべきである。
体(2〜3mmの直径)が、レーザの助けによって、公称のアイソセンタに、す
なわち、患者の寝台9の回転軸線に動かされる。試験体の位置は、試験体の情報
の中心に正確に向けられる下げ振り糸によって決定される。患者の寝台9の回転
軸線の回りの回転の間中、下げ振り糸に関連して試験体の運動の範囲が決定され
る。この手順は患者の寝台9の少なくとも3つの異なる高さにおいて実施される
。すなわち、例えば、アイソセンタの高さにおいてかつ上方/下方に少なくとも
15cmの間隔により、15cm上方/下方の患者の寝台9の最大調整可能性の
場合において実施される。最大偏差はビーム方向において1.0mmでかつビー
ム方向に対して直角において0.5mmのみであるかもしれない。ビーム方向の
変化は、患者の線量分布がこれらによって影響を及ぼされないので、重要ではな
い。
置が逸脱しないビーム平面の下で患者の寝台9の回転軸線上の定義によって確立
され、かつ壁のマーキングに関連して光学測定システムによって画成される。中
心ビーム11に関連して試験体の位置を試験することがフィルム測定の助けによ
って実施され、試験体の下流(ビーム方向に見て)の確認フィルムは(非走査の
)中心ビームにより照射され、その半分の幅が試験体の直径より大きく、その結
果中心ビームに関連して試験体の位置は確認フィルム上に作像される。この場合
に、介入しきい値が主要ビームの半分の幅のほぼ25%の偏差に置かれる。
0をマークするので、点検されねばならない。この場合に、試験体が光学測定の
助けによってアイソセンタ10に位置決めされた後、レーザは試験体の中心と一
直線に整列されそしてそれらの水平および垂直からのレーザラインの偏差が点検
され;各場合に最大偏差は1mmであってもよい。不変性を試験するために、レ
ーザの画像が反対の壁または床上にマークされかつ続いて基準値として使用され
る。
加の方法を示すので、X線管の調整および反対の記録ステーション上のターゲッ
トクロスの精度に関する。光学測定の助けによるアイソセンタ10における試験
体の位置決めに続いて、ラジオグラフが3つの空間的方向において作られそして
試験体とターゲットクロスとの間の画像の間隔はラジオグラフ上で決定される。
試験体はターゲットクロスの画像上に正確に作像されるべきであり、その結果試
験体とターゲットクロスとの間の最大の間隔は1mmにすることができる。
表示の精度が、また、点検され、このために、それは、DIN6847−5、ポ
イト12.2.4の規定に類似して実施されることが可能である。最大の許容し
得る不精度は1°である。
0の定義が対応する安定性を取るので、点検されるべきである。この点検はDI
N6847−4、ポイント14.2と類似して実施され得る。
、患者の支持および位置決めの精度を点検することが提案される。治療システム
の受容試験および不変性試験(各照射中断の前の)のために、これに関連して、
立体配列のベースリング内に固定された、試験体の中心の未知の立体配列の座標
がターゲットとして決定されそして中心が立体配列の目標装置の助けによってか
つ患者の寝台9の横方向の運動によってアイソセンタ10に持ち来される。この
位置において、ラジオグラフが3つの空間的方向において作られそして試験体の
位置とターゲットクロスとの間の間隔が3つのラジオグラフ上で決定される。試
験体の中心とアイソセンタとの間の半径方向の間隔は最大で1.5mmにするこ
とができる。他の方法では、患者の支持体の適切な補正が必要である。
向けられる照射線量値が計算される、照射プランニングに関する。
プランニングに、すなわち、各照射線量の計算に使用されるということである。
これは、以前に作られたバックアップコピーの正しい指定と比較される基本デー
タを含んでいるファイルの名前、日付けおよび大きさによってなされている。こ
れは線量計算のアルゴリズムが呼び出されるごとに自動的に実施される。
性が、基礎データセットが制御されないで変化されないことを保証するために点
検されねばならない。またここで実施されるのは、コンピュータプログラムによ
ってバックアップコピーとの実際の基礎データセットの内容の比較であり、その
プログラムはとくに各照射の中断の前に開始されるべきである。
データセット中の基準値の点検が1カ月に一度必要である。この詳細な点は、深
さ線量分布、すなわち、深さの関数としてのエネルギ損失データが入力の影響に
対して絶対値として記憶されるので、重イオンによる本照射プランニングにおい
ては省略され得る。それゆえ、線量に関する特別な基準値は記録されない。使用
される基礎データセットは上述された方法においてすでに点検されている。
おいてプランニングされた照射に関するイオンビーム治療システムにおいて自動
的に実施される線量計算および使用される線量計算アルゴリズムの精度を点検す
ることであり、そのさい均質および非均質の媒体の照射の間で識別することが必
要である。両方の場合において、線量計算を点検することはファントムを使用す
ることによって実施され、そしてこの手順は以下で詳細に説明される。
ムの照射プランニングプログラムにおいて、複数の測定点、例えば、10個の測
定点が計算された線量分布またはCT部分において定義され、その測定点におい
て計算された物理的線量は経験的に確認され得る。確認はウォーターファントム
において実施され、そのさいウォーターファントム内の所望の測定点に対応する
座標においてイオン化チャンバーが位置決めされている。照射プランニングプロ
グラムは水エネルギ線量値と並んで個々の測定点に関して、また、ファントム中
のその座標を計算する。ファントムは次いで照射プランニングプログラムによっ
て計算された制御パラメータを使用して照射され、そのさいイオン化チャンバー
によって記録された値は計算された線量値を確認するためにエネルギ線量値に変
換されている。
表的な照射プランが確認され、そのうちの3つの照射プランがウォーターファン
トム中の仮定のターゲット容量に関連付けられかつ3つの照射プランが患者の照
射に関連付けられる。後者の照射プランは、その後、標準の患者のプランとして
使用される。照射計算プログラムによって計算された値は実施すべき不変性点検
についての基準値として役立つ。
違が合計で、すなわち、平均で、ターゲット照射容量の線量の±25%であるよ
うに設定される。加えて設定されるのは、個々の測定点についての最大許容相違
が±7%であるということである。
の点検のために、計算された線量分布の不変性を点検するために各場合に上述し
た標準プランの2つのみを確認し、かつそれれらを経験的に決定されるような線
量分布と比較すれば十分である。不変性の点検は各照射の中断の前に実施される
べきである。
媒体についての近似の関数として線量計算の精度を点検するために、球状の固体
ファントムが使用されることができ、これは水と同等な材料からなりかつ種々の
非均質性が種々の非均質体をシミュレートするために挿入され得る個々の層から
構成される。それらの均質体は、種々の組織同等材料(例えば、肺の、柔らかい
または硬い骨の、柔らかい部分のまたは結合水の材料に対応する)または単に空
気(ディスクが挿入されないとき)からなるディスクである。その場合に、同様
に、10個の測定点までが確認のためにファントム内に定義され、その各々にお
いて放射線量が照射プランニングプログラムによって計算されかつイオン化チャ
ンバーを同時に測定するグループを使用して記録されかつそれと比較される。 検査試験のために提案されるのは、3つの異なるファントム構造が、薄い非均
質体および厚い非均質体において、種々の材料(例えば、空気/水および骨/水
)からなる境界層の後ろに計算された線量分布を調査するために作られるという
ことである。
容しきい値は、計算された線量値と±5%のすべての測定点の測定された線量値
との間の最大許容平均相違および±7%の個々の測定点についての最大許容相違
である。不変性の点検のために、上述した試験が各照射の中断の前に行われるこ
とができる。
とができる。この場合に、水同等材料からなりかつ例えば、人間の頭に合わせら
れる試験ファントムが使用される。前述されたように、10個までの測定点が確
認のためにファントムに定義される。さらに、照射パラメータは頭のファントム
において適切なターゲット照射容量に関して設定されかつ試験ファントムは立体
的配列のベースリングの助けにより調整される。続いて選択された測定点におい
てイオン治療システムの照射プランニングプログラムによって計算される水エネ
ルギ線量値は、次いで、それらの測定点において測定された値を参照してイオン
化チャンバーと比較され、そして再び、すべての測定点についての最大許容相違
はターゲット照射容量の線量の±5%であり、これに反して各個の測定点につい
ての最大許容相違は±7%である。不変性の点検のために、この試験は各照射の
中断の前に実施され得る。
、ターゲット照射容量および患者の輪郭の)ならびに位置決めへの画像形成から
のプランニングパラメータの正しい転送を保証するようにイオンビーム治療シス
テムにおいて使用される画像形成方法の検査に関する。このために、非均質媒体
において計算された放射線量値の確認に際してと同様に、ディスク形状のまたは
リング形状のインサートを有するファントムが使用されることができ、そのさい
非均質インサートはこの場合に加えて異なる直径を有することができる。ファン
トムの画像が撮られ、そしてそのように得られたCTデータからデジタルX線再
構成が回転架台8(図2参照)の3つの主方向に関して計算される。続いて、プ
ランニングジオメトリの確認がX線位置決めシステムのX線画像の助けによって
3つの主方向において実施される。その手順は図2に示された患者の寝台9の種
々の角度、例えば、0°、45°および90°において実施されることができる
。この方法において、X線位置決めシステムのX線画像に対してデジタルX線再
構成における非均質体の形状および位置が確認される。この場合に許容しきい値
として設定されるのは、ファントムのリングの形状に関連して最大許容の位置的
な相違および最大許容の相違が2mmであるということである。不変性の点検は
、再び、各照射の中断の前に行われることができる。
照射プランニングプログラムの保守およびさらに他の展開を監視することが必要
である。照射プランニングプログラムのさらに他の展開に続いて、プログラムの
不正なバージョンがエラーにおいて使用され得ることが可能である。それを回避
しかつ種々のモジュールの正しいバージョンが常に使用されることを保証するた
めに、イオンビーム治療システムの制御システムは、照射プランニングプログラ
ムが呼び出されるたびに、それぞれのプログラムの日付けを有するバージョン番
号が表示され、それが使用者によってプロトコルブックのデータと比較されるこ
とができる。
わち、新たなバージョンが存在するとき、保証されねばならないことは、そのバ
ージョンが更新された検査試験の後のみ有効になるということである。これは、
前述されたように均質の媒体に関して、非均質の媒体に関してかつ不規則に成形
されたファントムに関して計算されておりかつバックアップコピーとして記憶さ
れている完全な線量分布によって行われることができる。新たなプログラムバー
ジョンの利用に際して、それらの記憶された線量値は、それがまた同一のファン
トムについて計算されるような同一の線量値に使用されるとき必要であるので、
新たなプログラムバージョンの機能性の確認のための関連または基準値として使
用されることができる。それゆえ、この点検は照射プランニングプログラムに対
するあらゆる変化後に実施されるべきである。
連する。
すでに記載されたように−大きな面積のイオン化チャンバーからなっている、イ
オンビーム治療システムの粒子数監視または管理手段に関連する。
、較正要因が大気密度の変化の範囲内でのみ変化するよう許容されるので、点検
されねばならない。グリッドスキャナの2つのイオン化チャンバーはイオン化チ
ャンバーの管理または監視ユニット当たりの粒子数に関連して較正される。較正
は、粒子の照射エネルギEおよびグリッドスキャナのステップ幅ΔxおよびΔy
に依存する較正係数K、すなわち、K=K(E,Δx,Δy)によって説明され
る。イオン化チャンバーの較正は均質に偏向された照射領域における線量測定に
よって行われ、そのさい基準条件からの相違が補正されかつイオン化チャンバー
の表示が水エネルギ線量Ds c a n に変換される。較正係数は、 K(E,Δx,Δy)=(Dscan/Mi )・Δx・Δy/(S(E)/
ρ) にしたがって計算され、そのさい、 (S(E)/ρ)=照射エネルギEでの1 2 Cの質量停止力、そして M=イオン化チャンバーの座標点i当たりの監視ユニット である。
のステップにおいて測定される。点検される特定のイオン化チャンバーの測定場
所がアイソセンタ10に配置され、そのさいイオン化チャンバーまたは線量測定
器は固体ファントム内に配置される。1 2 Cの質量停止力の同一の表が照射プ
ランニングが基礎にされる表として使用される。この方法において、エネルギE
およびステップ幅Δx,Δyに依存して、1群の較正係数が得られ、各較正係数
に関して基準値からの最大許容相違は±3%である。較正係数群から少なくとも
3つの値が点検されるべきである。不変性の点検のために、この点検方法は毎日
実施されるべきである。
トが常に同一の線量表示を導かねばならないので、点検されるべきである。それ
ゆえ、線量の不変性が、イオン化チャンバーの較正係数群の関数として、グリッ
ドスキャナまたはその磁石13,14によって発生されるかまたは走査される、
立方形状の照射容量の中間点において点検されることが望ましい。このために、
基準値を得るために、線量が、アイソセンタ10がその前面の中心に精密に置か
れるように位置決めされるファントムにおいて測定される。そのさい、照射は5
cmの長さの縁部を有する照射キューブまたは線量キューブ内で実施され、この
キューブの中心は11.3mmの水同等の深さにおいて測定場所として配置され
る(線量キューブの発生についての制御データの計算はCTを基礎にした照射プ
ランニングによって実施される。そのステップに関してビームが水ファントムに
入る場所にアイソセンタ10を配置するのがより好都合である。さらに、選択さ
れた測定深さは種々の試験に関しての測定設備の標準化を可能にする)。この方
法において決定された照射線量は基準線量として記憶される。測定された実際の
線量値が続いてその基準線量と比較されることができ、そのさい実際の線量と公
称の線量(基準線量)との間の最大許容相違は±3%である。そのさい、毎日の
不変性点検が行われるべきである。
タが点検される必要があり、そのさい、とくに、粒子の影響および粒子の流れに
ついて較正係数Kの依存関係が点検される。両方の場合において、年に一度の不
変性点検が行われるべきである。
数の不変性を点検に際してと実質上同じ方法において実施される。測定がファン
トムにおいて実施され、このファントムは5×5cm2 の面積により、各場合
に同一のビーム強度を有する150MeV/u,250MeV/uおよび350
Me/uのエネルギで照射される。イオン化チャンバーは照射された表面積の中
心に配置される。イオン化チャンバーの監視値は、それぞれ、0.2Gy,0.
5Gyおよび1Gyの線量が測定場所で発生されるように設定される。それらの
異なる監視値に関して、実際の線量と公称の線量との間の一致が記録され、その
さい±3%の最大相違が許容されている。その狭い許容誤差の遵守は有効であり
かつまた実用可能である。
る手順は、同様に、較正係数の不変性を点検するのに使用される手順と実質上同
一である。しかしながら、この場合に、線量は一定に保持されかつビーム強度は
各場合に高い、中間および低い値に設定され、その結果公称の基準線量との実際
の放射線量の一致が種々の強度に関して点検され得る。この場合に、また、±3
%の最大相違が許容可能である。
の較正係数の依存関係が点検されねばならない。実質上、較正係数の不変性を点
検するのに使用される手順と同一の手順が実施され、そのさい、使用される装置
は線量不変性の上述した点検において使用された装置と同一である。測定は5c
mの長さの縁部を有するが、2cmおよび6cmの横方向移動を有するグリッド
スキャナ13,14の照射容量または照射キューブにおいて実施される。そのさ
いイオン化チャンバーの監視値は1Gyの放射線量が照射容量の中心において発
生されるように設定される。イオン化チャンバーの表示の点検において、その側
で測定される値は中心で測定された値から3%より多くないだけ異なるべきであ
る。この場合に、また、年に一度の不変性の点検が推奨される。
の点検に関連付けられ、そのさい線量の深さ分布および線量の横方向の分布の両
方が点検される。
整合性に決定的に依存するので、選択された照射エネルギおよび使用されたイオ
ン化チャンバーの照射エネルギ値当たりの選択された監視値の関数として点検さ
れる。そのために、再び、平行六面体またはキュービック照射容量がグリッドス
キャナ磁石13,14によりファントムに発生され、そのさい、層(エネルギ)
の各座標点に関して、一定の粒子密度、しかも層当たりの異なる粒子密度が均質
の線量分布が照射キューブにおいて生じるような方法において使用される。複数
の線量測定器(イオン化チャンバー)、例えば、10個のイオン化チャンバーが
水同等深さにおける測定を実施し、そのさいイオン化チャンバーは複数のイオン
化チャンバーが相前後して照射されないように位置決めされている。照射キュー
ブの縁部長さは、例えば、2.5cm,5cmおよび10cmであり、そのさい
イオン化チャンバーの測定は、それぞれ5cm,12.5cmおよび20cmの
それぞれのキューブ形状の照射容量の中心点の深さに関して実施されている。監
視値は、それぞれの照射容量の中心において、照射プランニングによって予め定
められた放射線量生じるように、照射プランニングから確立される。基準値との
実際の測定値の比較により、イオン化チャンバーの表示の変化の程度が点検され
ることができる。±5%の最大相違が許容され得る。その許容限界の超過に際し
て、過剰に大きい相違を補正するためにシステム介入すべきである。不変性の点
検のために、上述した点検手順が各照射中断の前に実施されるべきである。
れるすべての照射エネルギにおいて保証されることを保証するためにエネルギの
依存関係において点検される。この場合に、イオン化チャンバー監視値が一定で
ありかつ各場合に照射エネルギが異なり(例えば、100MeV/u,150M
eV/u,200MeV/u,250MeV/u,300MeV/uおよび35
0MeV/u)そしてビーム領域が異なるとき、ビームの方向に対して垂直な放
射線量は同時に測定する複数のイオン化チャンバーにより確認される。同時に、
線量測定器またはイオン化チャンバーの前方の戸外に確認フィルム上に黒化分布
を発生する。グリッドスキャナ13,14により、例えば、5cm,10cmお
よび18cmの横方向面を有する区域が発生され、そのさい放射線量は各場合に
おいて1Gyにすべきである。イオン化チャンバーのおよび照射領域の内部で黒
くなっている確認フィルムの補正された表示の標準偏差が点検され、そのさい基
準値からの最大許容可能な逸脱は±5%である。基準値からの許容し得ない逸脱
は、実際に達成されるように存在する測定条件への適合のために補正される。不
変性の点検は各照射の中断の前に行われるべきであり、そのさいこの場合にこの
確認フィルムの黒化の監視により確認フィルムの使用は十分である。
リの点検に関連付けられ、そのさい選択された照射エネルギについてグリッドス
キャナ13,14の特別な照射容量の空間的位置の依存状態が点検されている。
このために、キュービックまたは直方体の照射容量がグリッドスキャナ13,1
4によって発生され、そのさい一定の粒子密度が層(エネルギ)の各座標点に関
して使用されるが、異なる密度が均質の線量分布が照射キューブにおいて生じる
ように、層ごとに使用される。それらの条件下で、クサビ形状の固体ファントム
が照射され、その後ろに確認フィルムが置かれる。続いて、照射の中心点に対す
る確認フィルムの黒化の位置がに決定される。
cmであり、一方、ビームの方向における照射直方体またはキュービックの範囲
は2.5cm,5cmおよび10cmである。そのさい、測定は、それぞれ、5
cm,12,5cmおよび20cmの照射容量の中心点の各々の水同等深さに関
して実施される。線量測定器またはイオン化チャンバーの監視値は、照射プラン
ニングによって予め定められた放射線量が照射容量の中心に発生されるように照
射プランニングから決定される。領域限界として、黒化の縁部の減少が安定状態
の値の50%である位置が定義される。末端の領域境界のならびにビームの方向
に見られた横方向の領域境界の位置が点検されかつ基準値と比較される。各方向
において2mmの逸脱が許容可能であり、他の方法では、システムの補正がシス
テムを実際に存在している測定条件に適合させるために実施されねばならない。
これらの点検手順(方法)が、不変性の点検のために、各照射の中断の前に行わ
れるべきであり、そのさい上述した条件の組み合わせから各場合に3つの条件の
選択がここでは十分である。
関して、そのレベルおよび空間的な寸法によって、印加された放射線量の精度を
確認することができるようにシステム全体の確認に関連し、その結果システムの
個々の構成要素の正しい協働が保証される。そのさい、均質性媒体の照射と非均
質媒体の照射との間で識別される。
致の上述した確認におけるように、均質のファントムが使用されかつ本質的に同
一の手順が、この場合に個々の患者の照射プランが基礎として使用されることを
除いて、実施される。すべての測定点に関して、計算された放射線量と測定され
た放射線量との間の差異が確認され、かつ再び、5%のすべての測定点に関する
平均の相違および7%の個々の測定点に関する相違が許容し得る。不変性の点検
のために、この試験は各照射の中断の前に行われるべきである。 照射すべき非均質の媒体の照射に際しての精度の点検のために、再び、非均質
のファントムが使用され、そのさい、この場合に、照射プランニングが、例えば
、8cmの半径を有する固体の、水同等の材料から半球上のファントムのみを作
成することによって実施される。照射プランニングに関して、ファントムの中心
はアイソセンタ10に置かれそしてファントムの半球体は照射の方向と反対であ
る。ファントムには、例えば、各々3cmの直径を有するディスクの形の、種々
の非均質体が挿入され、そのさい、好ましくは、以下の密度を有する7個の異な
る材料または非均質体が使用される。
照射角度を有する照射の3つの方向に関して、各場合に、半球体の平らな面に直
接隣接する半球状のファントム内部の2cmの厚さの層であり、その結果照射容
量の末端位置は後方の平らな面と一致する。ターゲット照射容量にプランニング
された均質の照射線量は1Gyである。グリッドスキャナを制御するためのそれ
らの制御データにより、照射は3つの照射方向により実施され、そのさいターゲ
ット照射容量内にかつ各非均質体の後ろに、その表示が監視される線量測定器(
すなわち、イオン化チャンバー)が位置決めされている。すべての測定点におい
て確認されたエネルギ線量はターゲット照射容量の内部でしきい値1Gy±5%
を超えるべきでなく、一方ターゲット照射の後ろの5cmが、計算されたかつタ
ーゲット照射容量に関連付けられた放射線量からの±10%の最大の逸脱を許容
可能である。加えて、すべての測定点に関して、再び、±5%の測定された照射
の平均相違が許容可能であり、そして各個々の測定点に関して±7%の最大相違
が許容可能である。不変性を点検するために、この点検手順は各照射の中断の前
に行われるべきである。
略図である。
。
Claims (28)
- 【請求項1】 −少なくとも1つのイオン源(1) −処置ビーム(11)の形において前記イオン源(1)のイオンの加速用の加
速器装置(2,5)、 −少なくとも1つのビーム誘導チャンネル(6)を含み、前記加速器装置(2
,5)から患者の治療のために少なくとも1つの照射場所へ前記処置ビーム(1
1)を誘導するビーム誘導システム(6,8)、および −そのビーム方向に対して垂直の前記処置ビーム(11)の垂直および水平方
向用の垂直偏向手段(13)および水平偏向手段(14)を有している、前記ビ
ーム誘導システム(6,8)に配置された、グリッドスキャナ装置からなり、そ
の結果として前記処置ビーム(11)が前記照射場所のアイソセンタ(10)に
対して前記グリッドスキャナ装置によって偏向されかつ一定の、アイソセンタを
取り囲んでいる表面な区域が走査され、そして そのさい緊急遮断の点検が実施される、イオンビーム治療システムの緊急遮断
点検方法において、 手動および自動の緊急遮断点検が、安全関連のすべての装置パラメータの自動
監視によりかつ安全関連のすべての状態の指示により、技術的な治療制御室およ
び前記イオンビーム治療システムの全体システムの主制御室のコンソールにおい
て実施されることを特徴とするイオンビーム治療システムの緊急遮断点検方法。 - 【請求項2】 前記ビーム誘導のすべての可動部分の、好ましくは、偏向磁
石から治療室への、真空部分、真空スライドおよびビーム診断要素の、外部取り
付けのリミットスイッチからの信号が監視されかつテストケース(試験の場合)
において点検するためにシミュレートされることを特徴とする請求項1に記載の
イオンビーム治療システムの緊急遮断点検方法。 - 【請求項3】 パルス中心制御の状態が監視されかつ試験のためにテストケ
ースにおいてシミュレートされることを特徴とする請求項1または2に記載のイ
オンビーム治療システムの緊急遮断点検方法。 - 【請求項4】 前記パルス中心の機能が監視されかつ点検のためにテストケ
ースにおいてシミュレートされることを特徴とする請求項1ないし3のいずれか
1項に記載のイオンビーム治療システムの緊急遮断点検方法。 - 【請求項5】 前記水平スキャナ磁石の磁石装置の状態が監視されかつ点検
のためにテストケースにおいてシミュレートされることを特徴とする請求項1な
いし4のいずれか1項に記載のイオンビーム治療システムの緊急遮断点検方法。 - 【請求項6】 前記垂直スキャナ磁石の前記磁石装置の状態が監視されかつ
点検のためにテストケースにおいてシミュレートされることを特徴とする請求項
1ないし5のいずれか1項に記載のイオンビーム治療システムの緊急遮断点検方
法。 - 【請求項7】 予定/現在値および前記スキャナ磁石の照射点の連続切り換
え作動が監視されかつ点検のためにテストケースにおいてシミュレートされるこ
とを特徴とする請求項1ないし6のいずれか1項に記載のイオンビーム治療シス
テムの緊急遮断点検方法。 - 【請求項8】 電源に関連する合計の信号、アナログ測定変数からデジタル
値への電子変換器の信号、データ伝送のオーバーフローにおける信号および強度
過負荷に関する信号がイオン化チャンバーの強度測定エレクトロニクスによって
監視されかつテストケースにおいて点検するためにシミュレートされることを特
徴とする請求項1ないし7のいずれか1項に記載のイオンビーム治療システムの
緊急遮断点検方法。 - 【請求項9】 強度値限界および同期の停止が少なくとも2つのイオン化チ
ャンバーによって監視されかつ点検のためにテストケースにおいてシミュレート
されることを特徴とする請求項1ないし8のいずれか1項に記載のイオンビーム
治療システムの緊急遮断点検方法。 - 【請求項10】 エレクトロニクスが少なくとも2つの位置測定によって監
視されかつ点検のためにテストケースにおいてシミュレートされることを特徴と
する請求項1ないし9に記載のイオンビーム治療システムの緊急遮断点検方法。 - 【請求項11】 放射線位置が少なくとも2つの位置測定によって監視され
かつ点検のためにテストケースにおいてシミュレートされることを特徴とする請
求項1ないし10のいずれか1項に記載のイオンビーム治療システムの緊急遮断
点検方法。 - 【請求項12】 高電圧が検出器によつて監視されかつ点検のためにテスト
ケースにおいてシミュレートされることを特徴とする請求項1ないし11のいず
れか1項に記載のイオンビーム治療システムの緊急遮断点検方法。 - 【請求項13】 計数しているガス流れが検出器によって監視されかつ点検
のためにテストケースにおいてシミュレートされることを特徴とする請求項1な
いし12のいずれか1項に記載のイオンビーム治療システムの緊急遮断点検方法
。 - 【請求項14】 インターロックがシーケンス制御コンピュータによって監
視されかつ点検のためにテストケースにおいてシミュレートされることを特徴と
する請求項1ないし13のいずれか1項に記載のイオンビーム治療システムの緊
急遮断点検方法。 - 【請求項15】 患者の寝台の位置が監視されかつ点検のためにテストケー
スにおいてシミュレートされることを特徴とする請求項1ないし14のいずれか
1項に記載のイオンビーム治療システムの緊急遮断点検方法。 - 【請求項16】 患者の固定化の中断が監視されかつ点検のためにテストケ
ースにおいてシミュレートされることを特徴とする請求項1ないし15のいずれ
か1項に記載のイオンビーム治療システムの緊急遮断点検方法。 - 【請求項17】 すべてのコンピュータプログラムの機能の準備完了が監視
されかつ点検のためにテストケースにおいてシミュレートされることを特徴とす
る請求項1ないし16のいずれか1項に記載のイオンビーム治療システムの緊急
遮断点検方法。 - 【請求項18】 緊急遮断が技術的な制御室において医療用コンソールによ
って監視されかつ点検のためにテストケースにおいてシミュレートされることを
特徴とする請求項1ないし17のいずれか1項に記載のイオンビーム治療システ
ムの緊急遮断点検方法。 - 【請求項19】 照射の解放が医療用コンソールによって監視されかつ点検
のためにテストケースにおいてシミュレートされることを特徴とする請求項1な
いし18のいずれか1項に記載のイオンビーム治療システムの緊急遮断点検方法
。 - 【請求項20】 インターロックまたは緊急遮断の各出所が個々にシミュレ
ートされそして緊急遮断の解除、ならびにイオンビームの緊急遮断用信号がイン
ターロックユニットによって発生されることを特徴とする請求項1ないし19の
いずれか1項に記載のイオンビーム治療システムの緊急遮断点検方法。 - 【請求項21】 前記インターロックユニットおよびその機能が毎日点検さ
れそして緊急遮断の不足している解除が装置の本インターロック状況に際して患
者の治療の解放を生じないことを特徴とする請求項20に記載のイオンビーム治
療システムの緊急遮断点検方法。 - 【請求項22】 緊急遮断が人間の介入によって何時でも保証されることを
特徴とする請求項1ないし21に記載のイオンビーム治療システムの緊急遮断点
検方法。 - 【請求項23】 緊急遮断点検が患者により手動スイッチによってかつ患者
の固定の開放により実施されることを特徴とする請求項1ないし22のいずれか
1項に記載のイオンビーム治療システムの緊急遮断点検方法。 - 【請求項24】 手動の緊急遮断点検が医療用コンソールにおいて実施され
ることを特徴とする請求項1ないし23のいずれか1項に記載のイオンビーム治
療システムの緊急遮断点検方法。 - 【請求項25】 手動の緊急遮断点検が毎日実施されそして不完全な手動の
緊急遮断に際して患者の治療の解放を生じないことを特徴とする請求項1ないし
24のいずれか1項に記載のイオンビーム治療システムの緊急遮断点検方法。 - 【請求項26】 インターロックユニットの点検に関連してすべての警報条
件の指示が点検されることを特徴とする請求項20ないし25のいずれか1項に
記載のイオンビーム治療システムの緊急遮断点検方法。 - 【請求項27】 各治療中断の前にかつ制御システムまたはプログラムの各
変更後に、すべての安全関連の状態の指示の点検が技術的な治療制御室のかつ主
制御室のコンソールにおいて実施されることを特徴とする請求項1ないし26の
いずれか1項に記載のイオンビーム治療システムの緊急遮断点検方法。 - 【請求項28】 安全関連の状態の指示の停止により患者の治療の解放が生
じないことを特徴とする請求項1ないし27のいずれか1項に記載のイオンビー
ム治療システムの緊急遮断点検方法。
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