JP2002323477A - 電気泳動装置 - Google Patents
電気泳動装置Info
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- JP2002323477A JP2002323477A JP2001130521A JP2001130521A JP2002323477A JP 2002323477 A JP2002323477 A JP 2002323477A JP 2001130521 A JP2001130521 A JP 2001130521A JP 2001130521 A JP2001130521 A JP 2001130521A JP 2002323477 A JP2002323477 A JP 2002323477A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】本発明は、電気泳動用チップを利用した新規な
分取装置を提供する。 【解決手段】本発明では、サンプルリザーバー２の電極
ｅ１をマイナスに、廃液リザーバー３の電極ｅ２をプラ
スに荷電する事により、サンプルリザーバー２内のサン
プルＳは廃液リザーバー３の方へと泳動を始める。泳動
路４の途中にある検出器５がサンプルＳの通過を確認し
た後、廃液リザーバー３の電極ｅ２をＯＦＦにし、例え
ば分取セルｄ１の電極をプラスに荷電すると、サンプル
Ｓは分取セルｄ１に向かって移動し分取を行うことがで
きる。
分取装置を提供する。 【解決手段】本発明では、サンプルリザーバー２の電極
ｅ１をマイナスに、廃液リザーバー３の電極ｅ２をプラ
スに荷電する事により、サンプルリザーバー２内のサン
プルＳは廃液リザーバー３の方へと泳動を始める。泳動
路４の途中にある検出器５がサンプルＳの通過を確認し
た後、廃液リザーバー３の電極ｅ２をＯＦＦにし、例え
ば分取セルｄ１の電極をプラスに荷電すると、サンプル
Ｓは分取セルｄ１に向かって移動し分取を行うことがで
きる。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明はライフサイエンスの
分野において、電気泳動により分離されたＤＮＡや蛋白
質などの高分子物質試料の所定の断片部分を分取する装
置に関するものである。
分野において、電気泳動により分離されたＤＮＡや蛋白
質などの高分子物質試料の所定の断片部分を分取する装
置に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】例えば遺伝子工学の分野では、標準試料
と対象試料とをゲル電気泳動させ、両試料の泳動パター
ンを比較してその相違を検証するとともに、相違してい
る部分の分子配列を決定する必要がある。そのために
は、対象試料の泳動パターンのうち、標準試料の泳動パ
ターンと相違する部分を分取する必要がある。
と対象試料とをゲル電気泳動させ、両試料の泳動パター
ンを比較してその相違を検証するとともに、相違してい
る部分の分子配列を決定する必要がある。そのために
は、対象試料の泳動パターンのうち、標準試料の泳動パ
ターンと相違する部分を分取する必要がある。
【０００３】従来は、ゲル電気泳動した対象試料のパタ
ーンのうち分取すべき断片部分のゲルを直接手動でメス
によって切り出すか、その展開した泳動パターンをいっ
たんナイロンメンブレンに転写した後、そのナイロンメ
ンブレンをはさみやメスで切り出すことによって分取し
ている。
ーンのうち分取すべき断片部分のゲルを直接手動でメス
によって切り出すか、その展開した泳動パターンをいっ
たんナイロンメンブレンに転写した後、そのナイロンメ
ンブレンをはさみやメスで切り出すことによって分取し
ている。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、従来は
泳動パターンを別の認識装置で光学的に認識し、その情
報に基づいて所定の部分を切り出すが、泳動パターンの
認識と切り出し作業とは別の装置による独立した作業で
あるため、泳動パターン認識装置で切り出すべき部分を
決めても、切出しの際にはその位置を再確認することが
必要である。またメスなどを用いて手動により行なう切
出し作業は煩雑である。
泳動パターンを別の認識装置で光学的に認識し、その情
報に基づいて所定の部分を切り出すが、泳動パターンの
認識と切り出し作業とは別の装置による独立した作業で
あるため、泳動パターン認識装置で切り出すべき部分を
決めても、切出しの際にはその位置を再確認することが
必要である。またメスなどを用いて手動により行なう切
出し作業は煩雑である。
【０００５】また、最近、ゲル電気泳動に代わって、分
析の高速化、装置の小型化が期待できる形態として、２
枚の基材を接合して形成された電気泳動用チップが提案
されている（D. J. Harrison et al. /Anal. Chem. 199
3,283,361-366）。この電気泳動用チップは、一対の透
明板状の無機材料からなる基材からなり、半導体フォト
リソグラフィー技術及びエッチング技術、又はマイクロ
マシニング技術により、一方の基材の表面に互いに交差
する泳動用キャピラリー溝を形成し、他方の基材にはそ
の溝の端に対応する位置に貫通孔をアノードリザーバ、
カソードリザーバ、サンプルリザーバ、ウエストリザー
バとして設けたものである。この電気泳動用チップを用
いれば、微量サンプルの取り扱いが可能であり、泳動サ
ンプルの分取も容易にできることが考えられる。そこ
で、本発明は、電気泳動用チップを利用した新規な分取
装置を提供することを目的とする。
析の高速化、装置の小型化が期待できる形態として、２
枚の基材を接合して形成された電気泳動用チップが提案
されている（D. J. Harrison et al. /Anal. Chem. 199
3,283,361-366）。この電気泳動用チップは、一対の透
明板状の無機材料からなる基材からなり、半導体フォト
リソグラフィー技術及びエッチング技術、又はマイクロ
マシニング技術により、一方の基材の表面に互いに交差
する泳動用キャピラリー溝を形成し、他方の基材にはそ
の溝の端に対応する位置に貫通孔をアノードリザーバ、
カソードリザーバ、サンプルリザーバ、ウエストリザー
バとして設けたものである。この電気泳動用チップを用
いれば、微量サンプルの取り扱いが可能であり、泳動サ
ンプルの分取も容易にできることが考えられる。そこ
で、本発明は、電気泳動用チップを利用した新規な分取
装置を提供することを目的とする。
【０００６】
【課題を解決するための手段】本発明は、上記課題を解
決するため、板状部材に少なくとも一つの分析流路と、
該分析流路と接続するリザーバーと、該リザーバーに収
容される電極と、分流流路の下流側に配置される検出手
段とを備えてなる電気泳動装置において、該分析流路の
検出手段位置より下流側に複数の流路を分岐させるとと
もに、該分岐流路の終端に電極を収容したリザーバーを
設けたことを特徴とする電気泳動装置である。
決するため、板状部材に少なくとも一つの分析流路と、
該分析流路と接続するリザーバーと、該リザーバーに収
容される電極と、分流流路の下流側に配置される検出手
段とを備えてなる電気泳動装置において、該分析流路の
検出手段位置より下流側に複数の流路を分岐させるとと
もに、該分岐流路の終端に電極を収容したリザーバーを
設けたことを特徴とする電気泳動装置である。
【０００７】ここで、板状部材とは例えば各種ガラス、
石英もしくはＳｉ基板が用いられ、それらの厚みは例え
ば０．２〜１ｍｍ程度が好ましい。この板状部材に、例
えばフォトファブリケーション技術により溝（流路およ
びリザーバー）が形成される。フォトファブリケーショ
ン技術とは、フォトマスクのパターンを転写して複製を
作製する技術をいい、一般にはフォトレジストまたはレ
ジストと呼ばれる感光性材料をメタルマスクを介し基板
表面に塗布し、光でパターンを転写する。そして、転写
した平面的なパターンからエッチングなどによりある程
度の立体的な形に加工するものである。使用するフォト
レジスト（またはレジスト）は、例えば東京応化社製Ｏ
ＦＰＲ５０００、シプレイ・ファーイースト社製マイク
ロポジットＳ１４００、ＯＭＲ８３−１００ｃｐを用い
ることができるが、これらに限定されず、後のエッチン
グ工程に耐え得るものであれば特に限定されない。ま
た、その厚さは後のエッチング工程に耐える厚みが必要
であり、１〜２μｍの厚みが一般的である。
石英もしくはＳｉ基板が用いられ、それらの厚みは例え
ば０．２〜１ｍｍ程度が好ましい。この板状部材に、例
えばフォトファブリケーション技術により溝（流路およ
びリザーバー）が形成される。フォトファブリケーショ
ン技術とは、フォトマスクのパターンを転写して複製を
作製する技術をいい、一般にはフォトレジストまたはレ
ジストと呼ばれる感光性材料をメタルマスクを介し基板
表面に塗布し、光でパターンを転写する。そして、転写
した平面的なパターンからエッチングなどによりある程
度の立体的な形に加工するものである。使用するフォト
レジスト（またはレジスト）は、例えば東京応化社製Ｏ
ＦＰＲ５０００、シプレイ・ファーイースト社製マイク
ロポジットＳ１４００、ＯＭＲ８３−１００ｃｐを用い
ることができるが、これらに限定されず、後のエッチン
グ工程に耐え得るものであれば特に限定されない。ま
た、その厚さは後のエッチング工程に耐える厚みが必要
であり、１〜２μｍの厚みが一般的である。
【０００８】マスクパターンの転写は、一般の集積回路
の場合のようにレジストを塗布した基板にフォトマスク
を密着する密着露光やステッパ（縮小投影露光装置）な
どを用いる投影露光が行われる。また、ホログラフィッ
ク露光であっても良い。なお、露光の際に使用する光源
としては、例えば、超高圧水銀ランプのｇ線（４３６ｎ
ｍ）を用いることができ、露光条件はレジスト材とレジ
ストの厚みに依存する。マスクパターンが転写されてメ
タルが露出すると、メタルマスクのパターニングを行
い、基板表面を出す。メタルマスクのパターニングは、
例えばメタルとして金を用いた場合は、王水により行
う。
の場合のようにレジストを塗布した基板にフォトマスク
を密着する密着露光やステッパ（縮小投影露光装置）な
どを用いる投影露光が行われる。また、ホログラフィッ
ク露光であっても良い。なお、露光の際に使用する光源
としては、例えば、超高圧水銀ランプのｇ線（４３６ｎ
ｍ）を用いることができ、露光条件はレジスト材とレジ
ストの厚みに依存する。マスクパターンが転写されてメ
タルが露出すると、メタルマスクのパターニングを行
い、基板表面を出す。メタルマスクのパターニングは、
例えばメタルとして金を用いた場合は、王水により行
う。
【０００９】エッチングの方法は、各種ガラスや石英を
エッチングする場合は、ウエットエッチングが挙げられ
る。そのエッチャントは、各種ガラスや石英がエッチン
グされる溶液であれば特に限定されるものではないが、
例えば、弗酸系の溶液が使用されるのが一般的である。
また、Ｓｉ基板にエッチングする方法としては、ウエッ
トエッチング（異方性エッチング）が挙げられる。異方
性エッチングに用いるエッチャントは、ＫＯＨ水溶液、
ＴＭＡＨ（テトラメチルアンモニウムハイドライド）、
ヒドラジンなどこの分野で使用されているエッチャント
であれば、特に限定されるものではない。
エッチングする場合は、ウエットエッチングが挙げられ
る。そのエッチャントは、各種ガラスや石英がエッチン
グされる溶液であれば特に限定されるものではないが、
例えば、弗酸系の溶液が使用されるのが一般的である。
また、Ｓｉ基板にエッチングする方法としては、ウエッ
トエッチング（異方性エッチング）が挙げられる。異方
性エッチングに用いるエッチャントは、ＫＯＨ水溶液、
ＴＭＡＨ（テトラメチルアンモニウムハイドライド）、
ヒドラジンなどこの分野で使用されているエッチャント
であれば、特に限定されるものではない。
【００１０】板状部材は、一枚で用いても、溝を内側に
して貼り合わせて用いても良い。一枚の場合は流路は開
放系になる。板状部材を貼り合わせる場合、一方の板状
部材には、例えば、テーパ状の貫通孔を形成する。ここ
で、ガラスや石英基板に貫通孔を形成する方法は、特に
限定されるものではないが、超音波加工を用いるのが一
般的である。貫通孔の大きさは、特に限定されるもので
ないが、例えば開口直径は０. １〜数ｍｍ程度が望まし
い。板状部材の張り合わせは、溝を内側にして重ね合わ
せて行う。２枚の板状部材の張り合わせ（接合）手段は
特に限定されるものではないが、本発明の場合は微量分
析装置ゆえ、接着剤は使用せず板状部材同士を直接接合
するのが望ましい。ガラス同士の接合には、真空中もし
くは窒素置換雰囲気中で６００〜９００℃程度に加熱す
ることで、２枚のガラスを融着する手段が望ましい。ま
た石英の接合には、例えば、少なくとも一方の基板接合
面にガラスをスパッタ成膜した後に、上記と同様に加熱
する手段が望ましい。さらにガラスとシリコンを接合す
る場合は、例えば、４００℃程度に加熱してガラス側に
−１ｋＶ程度の負電圧を印加して接合する陽極接合法を
用いても良い。
して貼り合わせて用いても良い。一枚の場合は流路は開
放系になる。板状部材を貼り合わせる場合、一方の板状
部材には、例えば、テーパ状の貫通孔を形成する。ここ
で、ガラスや石英基板に貫通孔を形成する方法は、特に
限定されるものではないが、超音波加工を用いるのが一
般的である。貫通孔の大きさは、特に限定されるもので
ないが、例えば開口直径は０. １〜数ｍｍ程度が望まし
い。板状部材の張り合わせは、溝を内側にして重ね合わ
せて行う。２枚の板状部材の張り合わせ（接合）手段は
特に限定されるものではないが、本発明の場合は微量分
析装置ゆえ、接着剤は使用せず板状部材同士を直接接合
するのが望ましい。ガラス同士の接合には、真空中もし
くは窒素置換雰囲気中で６００〜９００℃程度に加熱す
ることで、２枚のガラスを融着する手段が望ましい。ま
た石英の接合には、例えば、少なくとも一方の基板接合
面にガラスをスパッタ成膜した後に、上記と同様に加熱
する手段が望ましい。さらにガラスとシリコンを接合す
る場合は、例えば、４００℃程度に加熱してガラス側に
−１ｋＶ程度の負電圧を印加して接合する陽極接合法を
用いても良い。
【００１１】分析流路の数は１つでも複数でもどちらで
もよい。分岐流路は、分析流路と同じ内径が好ましく、
分岐流路は１つの分析流路より複数分岐する構造が好ま
しい。分析流路の両端および分岐流路の終端には、リザ
ーバーが設けられており、リザーバー内には泳動バッフ
ァー、電極が入れられ、流路が電気導通可能となる。泳
動バッファーとしては、例えばトリスEDTA、リン酸バッ
ファーなどを用いることができるが、これらに限定され
ない。
もよい。分岐流路は、分析流路と同じ内径が好ましく、
分岐流路は１つの分析流路より複数分岐する構造が好ま
しい。分析流路の両端および分岐流路の終端には、リザ
ーバーが設けられており、リザーバー内には泳動バッフ
ァー、電極が入れられ、流路が電気導通可能となる。泳
動バッファーとしては、例えばトリスEDTA、リン酸バッ
ファーなどを用いることができるが、これらに限定され
ない。
【００１２】分析流路の下流側には検出器が配置され
る。検出器は、光源と受光器から光検出器、電気化学検
出器などを用いることができる。光検出器を用いる場
合、光入出射溝の内面には、例えばスパッタリングによ
りアルミニウムなどを蒸着してもよい。光入射溝に光源
からの光を入射させ、光は泳動用溝を通過後、光出射溝
により反射して検出手段に至る。光源としては、紫外・
可視域の光源、例えばＨｅ−Ｃｄ半導体レーザー、重水
素ランプ、タングステンランプを用い、検出器として
は、例えば光電子増倍管、シリコンホトダイオードを用
いるが、これらに限定されない。複数の分岐流路の切換
は、例えば検出器の信号に応じて分岐流路のリザーバー
への通電を切り換えることにより行うことができる。
る。検出器は、光源と受光器から光検出器、電気化学検
出器などを用いることができる。光検出器を用いる場
合、光入出射溝の内面には、例えばスパッタリングによ
りアルミニウムなどを蒸着してもよい。光入射溝に光源
からの光を入射させ、光は泳動用溝を通過後、光出射溝
により反射して検出手段に至る。光源としては、紫外・
可視域の光源、例えばＨｅ−Ｃｄ半導体レーザー、重水
素ランプ、タングステンランプを用い、検出器として
は、例えば光電子増倍管、シリコンホトダイオードを用
いるが、これらに限定されない。複数の分岐流路の切換
は、例えば検出器の信号に応じて分岐流路のリザーバー
への通電を切り換えることにより行うことができる。
【００１３】
【発明の実施の形態】本発明の電気泳動装置を図面に基
づいて説明する。図１は、一実施例を示す平面図であ
る。１は例えばガラス又はシリコンからなる１枚の平板
で、平板１の寸法は例えば１０〜３０ｍｍ、幅が３０〜
１２０ｍｍである。平板１の表面には、円筒状の凹部か
らなるサンプルリザーバー２、廃液リザーバー３、分取
セルｄ１〜ｄ４が形成されている。各々のリザーバーに
は電気浸透流媒体としてのバッファーが収容されてお
り、それらの寸法は、例えばサンプルリザーバー２と廃
液リザーバー３は、直径１〜５ｍｍ、深さ１〜３ｍｍ、
分取セルｄ１〜ｄ４は、直径０．５〜３ｍｍ、深さ１〜
３ｍｍである。
づいて説明する。図１は、一実施例を示す平面図であ
る。１は例えばガラス又はシリコンからなる１枚の平板
で、平板１の寸法は例えば１０〜３０ｍｍ、幅が３０〜
１２０ｍｍである。平板１の表面には、円筒状の凹部か
らなるサンプルリザーバー２、廃液リザーバー３、分取
セルｄ１〜ｄ４が形成されている。各々のリザーバーに
は電気浸透流媒体としてのバッファーが収容されてお
り、それらの寸法は、例えばサンプルリザーバー２と廃
液リザーバー３は、直径１〜５ｍｍ、深さ１〜３ｍｍ、
分取セルｄ１〜ｄ４は、直径０．５〜３ｍｍ、深さ１〜
３ｍｍである。
【００１４】サンプルリザーバー２と廃液リザーバー３
間は、平板１表面に形成された泳動路（分析流路）４に
より連通している。泳動路４は、例えば幅５０〜１００
μｍ、深さが５０〜１００μｍである。また泳動路４の
下流側には４本の分岐流路（分取用パス）ｆ１〜ｆ４が
分岐しており、これら分取用パスｆ１〜ｆ４は分取セル
ｄ１〜ｄ４に連通する。分取用パスｆ１〜ｆ４は、例え
ば幅３０〜１００μｍ、深さが３０〜１００μｍであ
る。
間は、平板１表面に形成された泳動路（分析流路）４に
より連通している。泳動路４は、例えば幅５０〜１００
μｍ、深さが５０〜１００μｍである。また泳動路４の
下流側には４本の分岐流路（分取用パス）ｆ１〜ｆ４が
分岐しており、これら分取用パスｆ１〜ｆ４は分取セル
ｄ１〜ｄ４に連通する。分取用パスｆ１〜ｆ４は、例え
ば幅３０〜１００μｍ、深さが３０〜１００μｍであ
る。
【００１５】サンプルリザーバー２と分取用パスｆ１〜
ｆ４の間の位置であって、泳動路４上に検出器５が配設
される。検出器５は例えば光源と光検出器からなり、検
出器５の信号は図示しない制御部に送られる。また、各
々のリザーバー２、３及び分取セルｄ１〜ｄ４には電極
ｅ１〜ｅ６が浸されており、この電極への電圧印加も図
示しない制御部で制御される。
ｆ４の間の位置であって、泳動路４上に検出器５が配設
される。検出器５は例えば光源と光検出器からなり、検
出器５の信号は図示しない制御部に送られる。また、各
々のリザーバー２、３及び分取セルｄ１〜ｄ４には電極
ｅ１〜ｅ６が浸されており、この電極への電圧印加も図
示しない制御部で制御される。
【００１６】以上の構成で例えばマイナスに荷電したサ
ンプルの泳動及び分取は次のように行う。まず、各々の
リザーバー２、３及び分取セルｄ１〜ｄ４に例えばトリ
スＥＤＴＡ（ＴＥ）バッファーなどの泳動バッファー
を、泳動路４にリニアポリアクリルアミドなどの分離用
のゲルを詰める。次に図２（Ａ）の様に、サンプルリザ
ーバー２の電極ｅ１をマイナスに、廃液リザーバー３の
電極ｅ２をプラスに荷電する事により、サンプルリザー
バー２内のサンプルＳは廃液リザーバー３の方へと泳動
を始める。泳動路４の途中にある検出器５がサンプルＳ
の通過を確認した後、廃液リザーバー３の電極ｅ２をＯ
ＦＦにし、例えば分取セルｄ１の電極をプラスに荷電す
る。図２（Ｂ）の様にサンプルＳは分取セルｄ１に向か
って移動し分取を行うことができる。同様に分取セルｄ
２〜ｄ４の荷電を順次切り換えることにより、各々のセ
ルにサンプルの分取が可能となる。
ンプルの泳動及び分取は次のように行う。まず、各々の
リザーバー２、３及び分取セルｄ１〜ｄ４に例えばトリ
スＥＤＴＡ（ＴＥ）バッファーなどの泳動バッファー
を、泳動路４にリニアポリアクリルアミドなどの分離用
のゲルを詰める。次に図２（Ａ）の様に、サンプルリザ
ーバー２の電極ｅ１をマイナスに、廃液リザーバー３の
電極ｅ２をプラスに荷電する事により、サンプルリザー
バー２内のサンプルＳは廃液リザーバー３の方へと泳動
を始める。泳動路４の途中にある検出器５がサンプルＳ
の通過を確認した後、廃液リザーバー３の電極ｅ２をＯ
ＦＦにし、例えば分取セルｄ１の電極をプラスに荷電す
る。図２（Ｂ）の様にサンプルＳは分取セルｄ１に向か
って移動し分取を行うことができる。同様に分取セルｄ
２〜ｄ４の荷電を順次切り換えることにより、各々のセ
ルにサンプルの分取が可能となる。
【００１７】なお、本発明は上記構成に限定されず、例
えば目的成分とは泳動スピードの異なる不要な成分を分
取し除去することも可能である。また、複数のバンドの
中から目的のバンド成分を分取する場合、バンド数が既
知の場合、検出器を通過するバンド数から流路を切り替
え目的成分の分取が行える。さらに、バンド数が未知の
場合、目的成分を挟み込むマーカー物質を同時に泳動す
るなどして、目的成分の選択的な分取も可能である。
えば目的成分とは泳動スピードの異なる不要な成分を分
取し除去することも可能である。また、複数のバンドの
中から目的のバンド成分を分取する場合、バンド数が既
知の場合、検出器を通過するバンド数から流路を切り替
え目的成分の分取が行える。さらに、バンド数が未知の
場合、目的成分を挟み込むマーカー物質を同時に泳動す
るなどして、目的成分の選択的な分取も可能である。
【００１８】
【発明の効果】本発明によれば、荷電を切り替えるだけ
で目的産物の分取および泳動スピードの異なる夾雑物の
除去が自動で行える。
で目的産物の分取および泳動スピードの異なる夾雑物の
除去が自動で行える。
【図１】本発明の電気泳動装置の一実施例図
【図２】サンプルの分取例
１：平板 ２：サンプルリザーバー ３：廃液リザーバー ４：泳動路（分析流路） ５：検出器 ｄ１〜ｄ４：分取セル ｆ１〜ｆ４：分取用パス（分岐流路）
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考） Ｃ１２Ｍ 1/00 Ｇ０１Ｎ 33/50 Ｐ Ｇ０１Ｎ 33/50 27/26 ３１５Ｃ ３３１Ｅ
Claims (2)
- 【請求項１】板状部材に少なくとも一つの分析流路と、
該分析流路と接続するリザーバーと、該リザーバーに収
容される電極と、分流流路の下流側に配置される検出器
とを備えてなる電気泳動装置において、該分析流路の検
出器位置より下流側に複数の流路を分岐させるととも
に、該分岐流路の終端に電極を収容したリザーバーを設
けたことを特徴とする電気泳動装置。 - 【請求項２】請求項１記載の電気泳動装置であって、検
出器の信号に応じて分岐流路のリザーバーへの通電を切
り換える制御部を設けてなる請求項１記載の電気泳動装
置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001130521A JP4423810B2 (ja) | 2001-04-27 | 2001-04-27 | 電気泳動装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001130521A JP4423810B2 (ja) | 2001-04-27 | 2001-04-27 | 電気泳動装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2002323477A true JP2002323477A (ja) | 2002-11-08 |
| JP4423810B2 JP4423810B2 (ja) | 2010-03-03 |
Family
ID=18978879
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2001130521A Expired - Fee Related JP4423810B2 (ja) | 2001-04-27 | 2001-04-27 | 電気泳動装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
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Cited By (12)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
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