JP2002311204A - 反射防止フィルム、偏光板および画像表示装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 反射率が低く、耐傷性に優れた、反射防止フ
ィルムもしくはその反射防止フィルムを用いた画像表示
装置を提供する。 【解決手段】 透明支持体、透明支持体よりも低い屈折
率を有する低屈折率層、および、低屈折率層と隣接する
下層に密着層を有し、密着層の表面が０．００１〜０．
０３０μｍの中心線平均粗さ（Ra）を有する、および／
または、密着層中に粒子間空隙が形成されている、こと
を特徴とする反射防止フィルムおよびそれを用いた画像
表示装置。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、トリアセチルセル
ロースフィルムを支持体とする反射防止フィルムおよび
防眩性を有する反射防止フィルムに関する。特に本発明
は、偏光板あるいは画像表示装置に有利に用いることが
できる（防眩性）反射防止フィルムに関する。

【０００２】

【従来の技術】反射防止フィルムは一般に、陰極管表示
装置（ＣＲＴ）、プラズマディスプレイパネル（ＰＤ
Ｐ）や液晶表示装置（ＬＣＤ）のような画像表示装置に
おいて、外光の反射によるコントラスト低下や像の映り
込みを防止するために、光学干渉の原理を用いて反射率
を低減するディスプレイの最表面に配置される

【０００３】反射防止フィルムの形成法として、透明支
持体上に光学的機能層を塗布により形成する方法は、一
般に知られている。反射防止のためには、透明支持体の
屈折率よりも低い屈折率を有する層（低屈折率層）を設
ける、透明支持体上に高屈折率層を設け、その上に低屈
折率層を設ける、等の方法により反射率を下げることが
できる。このような塗布による反射防止フィルムは、連
続で生産できるため、大量生産に向いている。

【０００４】また、像の映り込みを表面凹凸による散乱
を利用して低下させる防眩技術を塗布による反射防止フ
ィルムに適用する方法も一般に知られている。方法とし
ては、表面凹凸を有する支持体上に反射防止層を塗布す
る方法や、表面凹凸を形成するためのマット粒子を反射
防止層に導入する方法、および、反射防止フィルムをエ
ンボス加工することにより表面凹凸を形成する方法、な
どがある。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】透明支持体上に透明支
持体の屈折率よりも低い屈折率を有する層（低屈折率
層）のみを有する反射防止フィルムにおいて、反射率を
低減するためには低屈折率層を十分に低屈折率化する必
要が生じる。例えばトリアセチルセルロースを支持体と
し、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレートのＵＶ
硬化被膜をハードコート層とする反射防止フィルムで４
５０ｎｍから６５０ｎｍにおける平均反射率を１．６％
以下にするためには屈折率を１．４０以下にしなければ
ならない。屈折率１．４０以下の素材としては無機物で
はフッ化マグネシウムやフッ化カルシウム、有機物では
フッ素含率の大きい含フッ素化合物が挙げられるが、こ
れらフッ素化合物は凝集力不足および基材との密着不足
のためディスプレイの最表面に配置するフィルムとして
は耐傷性が不足していた。

【０００６】本発明の課題は、反射率が低く、耐傷性に
優れた、反射防止フィルムもしくはその反射防止フィル
ムを用いた画像表示装置を提供することである。

【０００７】

【課題を解決するための手段】本発明の目的は、下記
（１）〜（１１）の反射防止フィルム、（１２）の偏光
板、（１３）の画像表示装置により達成された。 （１）透明支持体上に、透明支持体よりも低い屈折率を
有する低屈折率層、および、低屈折率層と隣接する下層
に密着層を有し、密着層の表面が０．００１〜０．０３
０μｍの中心線平均粗さ（Ra）を有することを特徴とす
る反射防止フィルム。 （２）密着層表面の中心線平均粗さ（Ra）が０．００５
〜０．０２０μｍであることを特徴とする（１）記載の
反射防止フィルム。 （３）密着層が平均粒径が０．００１〜０．２μｍの無
機微粒子と有機バインダーから成り、密着層中に粒子間
空隙が形成されていることを特徴とする（１）または
（２）記載の反射防止フィルム。 （４）透明支持体上に、透明支持体よりも低い屈折率を
有する低屈折率層、および、低屈折率層と隣接する下層
に密着層を有し、密着層が平均粒径が０．００１〜０．
２μｍの無機微粒子と有機バインダーから成り、密着層
中に粒子間空隙が形成されていることを特徴とする反射
防止フィルム。

【０００８】（５）無機微粒子の表面が重合性官能基を
有し、かつ有機バインダーが無機微粒子表面の重合性官
能基と共重合可能な重合性モノマーであることを特徴と
する（３）または（４）記載の反射防止フィルム。 （６）密着層が透明支持体よりも高い屈折率を有する密
着層兼高屈折率層であり、密着層兼高屈折率層と透明支
持体の間に１μｍ以上の厚さを有するハードコート層が
設けられている（１）〜（５）いずれかに記載の反射防
止フィルム。 （７）密着層とハードコート層の間に、屈折率が低屈折
率層より高く、かつ密着層兼高屈折率層よりは低い中屈
折率層が設けられている（６）記載の反射防止フィル
ム。 （８）ハードコート層の屈折率が１．５７〜２．００で
あり、かつハードコート層中に平均粒径０．３〜２０μ
ｍのマット剤粒子を有し、防眩性を有することを特徴と
する（６）または（７）記載の反射防止フィルム。

【０００９】（９）密着層が、１μｍ以上の厚さを有
し、屈折率が１．５７〜２．００であり、かつ密着層中
に平均粒径０．３〜２０μｍのマット剤粒子を有し、防
眩性を有することを特徴とする（１）〜（６）いずれか
記載の反射防止フィルム。 （１０）低屈折率層が熱または電離放射線により架橋す
る含フッ素化合物から成り、屈折率が１．３５〜１．４
９であり、動摩擦係数が０．０３〜０．１５であり、水
に対する接触角が９０〜１２０℃であることを特徴とす
る（１）〜（９）いずれかに記載の反射防止フィルム。 （１１）透明支持体が、トリアセチルセルロースから成
ることを特徴とする（１）〜（１０）いずれかに記載の
反射防止フィルム。 （１２）（１）〜（１１）のいずれかに記載の反射防止
フィルムを少なくとも片面に有する偏光板。 （１３）（１）〜（１１）のいずれかに記載の反射防止
フィルムまたは（１２）に記載の偏光板を低屈折率層が
ディスプレイの最表層になるように用いたことを特徴と
する画像表示装置。

【００１０】

【発明の実施の形態】［反射防止フィルムの構成］図１
は、反射防止フィルムの構成を示す断面模式図である。
図１に示す反射防止フィルムは、透明支持体（１）上
に、本発明の密着層（０）、そして低屈折率層（２）が
設けられている。図２は、防眩性を有する反射防止フィ
ルムの構成を示す断面模式図である。図２に示す反射防
止フィルムは、透明支持体（１）上に、防眩層（３）、
本発明の密着層（０）、そして低屈折率層（２）が順次
設けられている。図３は、防眩性を有する反射防止フィ
ルムの別の構成を示す断面模式図である。図３に示す反
射防止フィルムは、透明支持体（１）上に、ハードコー
ト層（４）、防眩層（３）、本発明の密着層（０）、そ
して低屈折率層（２）が順次設けられている。

【００１１】図４は、反射防止フィルムの別の構成を示
す断面模式図である。図４に示す反射防止フィルムは、
透明支持体（１）上に、ハードコート層（４）、本発明
の密着層（０）、そして低屈折率層（２）が順次設けら
れている。図５は、反射防止フィルムの別の構成を示す
断面模式図である。図５に示す反射防止フィルムは、透
明支持体（１）上に、ハードコート層（４）、高屈折率
層（５）、本発明の密着層（０）、そして低屈折率層
（２）が順次設けられている。図６は、反射防止フィル
ムの別の構成を示す断面模式図である。図６に示す反射
防止フィルムは、透明支持体（１）上に、ハードコート
層（４）、中屈折率層（６）、高屈折率層（５）、本発
明の密着層（０）、そして低屈折率層（２）が順次設け
られている。図７は、防眩性を有する反射防止フィルム
の別の構成を示す断面模式図である。図７に示す反射防
止フィルムは、透明支持体（１）上に、防眩層兼本発明
の密着層（３０）、そして低屈折率層（２）が順次設け
られている。図８は、防眩性を有する反射防止フィルム
の別の構成を示す断面模式図である。図８に示す反射防
止フィルムは、透明支持体（１）上に、ハードコート層
（４）、防眩層兼本発明の密着層（３０）、そして低屈
折率層（２）が順次設けられている。

【００１２】図９は、反射防止フィルムの別の構成を示
す断面模式図である。図９に示す反射防止フィルムは、
透明支持体（１）上に、ハードコート層兼本発明の密着
層（４０）、そして低屈折率層（２）が順次設けられて
いる。図１０は、反射防止フィルムの別の構成を示す断
面模式図である。図１０に示す反射防止フィルムは、透
明支持体（１）上に、ハードコート層（４）、高屈折率
層兼本発明の密着層（５０）、そして低屈折率層（２）
が順次設けられている。図１１は、反射防止フィルムの
別の構成を示す断面模式図である。図１１に示す反射防
止フィルムは、透明支持体（１）上に、ハードコート層
（４）、中屈折率層（６）、高屈折率層兼本発明の密着
層（５０）、そして低屈折率層（２）が順次設けられて
いる。

【００１３】［密着層］本発明の密着層は、一般に下層
との密着性に難がある低屈折率材料との密着に優れ、か
つ下層との密着に優れる。この密着改良効果により、本
発明の反射防止フィルムは非常に良好な耐擦傷性を示
す。本発明では、密着層表面が粗さを有する事、および
／または密着層中に空隙を有する事が特徴であり、低屈
折率材料の密着層へのアンカリング効果により密着性を
改良していると考えられる。本発明の密着層の好ましい
膜厚は、光学干渉による反射防止機能に影響しないよう
にするため、０．００１μｍ〜０．０３０μｍであるこ
とが好ましく、より好ましくは０．００１〜０．０２０
μｍであり、さらに好ましくは０．００１〜０．０１０
μｍである。本発明の密着層の屈折率が低屈折率層と同
じ場合には、密着層と低屈折率層の合計の膜厚が本来の
低屈折率層の膜厚と同じになるように調節すればよい。
密着層の屈折率が下層と同じ場合は、同様に、密着層と
下層と合計の膜厚が本来の下層の膜厚と同じになるよう
に調節する方法もあるが、より好ましくは、下層と密着
層を置き換える事、すなわち下層兼密着層とする事が好
ましく、具体的には本発明の密着層は高屈折率層と兼ね
ていてもよく、ハードコート層と兼ねていてもよく、防
眩層と兼ねていてもよく、それらの膜厚を適用すること
ができる。

【００１４】本発明の密着層の表面の粗さを表す指標と
しては中心線平均粗さ（Ｒａ）を用いた。Ｒａの評価方
法は、ＪＩＳ−Ｂ−０６０１に従った。密着層の表面凹
凸を原子間力顕微鏡で測定したデータを解析することに
よりＲａを求めた（測定長４μｍ：ただし表面がマット
粒子による防眩性凹凸を有するときはこの凹凸の周期が
測定にかからないようにした）。本発明の密着層では中
心線平均粗さ（Ｒａ）は０．００１〜０．１μｍが好ま
しく、より好ましくは０．００１〜０．０３０μｍであ
り、さらに好ましくは０．００５〜０．０２０μｍであ
る。Ｒａは小さすぎるとアンカリングによる密着効果が
無くなるため好ましくなく、また、Ｒａは大きすぎると
層の界面が乱れ、光学干渉による反射防止性能に悪影響
するため好ましくない。

【００１５】本発明のＲａを有する密着層を構成する素
材としては特に制限はない。表面粗さを得るための、好
ましい構成としては、下層との密着および密着層自体の
膜強度を得るための有機バインダー、と、表面粗さを得
るための微粒子、の２成分系が挙げられる。微粒子の好
ましい含有率としては２０〜９５質量％、より好ましく
は５０〜９５質量％、である。微粒子の粒径は透明性の
観点ではなるべく小さいことが好ましく、好ましい粒径
は体積平均粒径で０．００１〜０．２μｍ、より好まし
くは０．００５〜０．１μｍである。体積平均粒径はコ
ールターカウンター社粒子測定装置Ｎ４を用いて動的光
散乱法により評価した。

【００１６】本発明に使用する微粒子としては無機微粒
子が密着層の膜強度が強く好ましい。無機微粒子の形状
は特に制限されるものではなく、例えば、球状、板状、
繊維状、棒状、不定形、中空等のいずれも好ましく用い
られるが、球状が分散性がよくより好ましい。また、無
機微粒子の種類についても特に制限されるものではない
が、非晶質のものが好ましく用いられ、金属の酸化物、
窒化物、硫化物またはハロゲン化物からなることが好ま
しく、金属酸化物が特に好ましい。金属原子としては、
Ｎａ、Ｋ、Ｍｇ、Ｃａ、Ｂａ、Ａｌ、Ｚｎ、Ｆｅ、Ｃ
ｕ、Ｔｉ、Ｓｎ、Ｉｎ、Ｗ、Ｙ、Ｓｂ、Ｍｎ、Ｇａ、
Ｖ、Ｎｂ、Ｔａ、Ａｇ、Ｓｉ、Ｂ、Ｂｉ、Ｍｏ、Ｃｅ、
Ｃｄ、Ｂｅ、ＰｂおよびＮｉ等が挙げられる。

【００１７】本発明における無機微粒子の使用方法は特
に制限されるものではないが、例えば、乾燥状態で使用
することができるし、あるいは水もしくは有機溶媒に分
散した状態で使用することもできる。本発明において、
無機微粒子の凝集、沈降を抑制する目的で、分散安定化
剤を併用することも好ましい。分散安定化剤としては、
ポリビニルアルコール、ポリビニルピロリドン、セルロ
ース誘導体、ポリアミド、リン酸エステル、ポリエーテ
ル、界面活性剤およびシランカップリング剤、チタンカ
ップリング剤、等を使用することができる。特にシラン
カップリング剤では、無機微粒子表面に有機バインダー
と共重合可能な官能基を導入することができ、硬化後の
皮膜が強いため好ましい。例えば、有機バインダーがビ
ニル基のラジカル重合硬化系の場合は、ビニルトリメト
キシシラン、γ−メタクリルオキシプロピルトリメトキ
シシラン、有機バインダーがエポキシ基のカチオン重合
硬化系の場合は、γ−ギリシジルオキシプロピルトリメ
トキシシランなどが好ましく用いられる。分散安定化剤
としてのシランカップリング剤の添加量は特に制限され
るものではないが、例えば、無機微粒子１００質量部に
対して、１質量部以上の値とするのが好ましい。また、
分散安定化剤の添加方法も特に制限されるものではない
が、予め加水分解したものを添加することもできるし、
あるいは、分散安定化剤であるシランカップリング剤と
無機フィラーとを混合後、さらに加水分解および縮合す
る方法を採ることができるが、後者の方がより好まし
い。

【００１８】本発明に使用する有機バインダーとして
は、下層との密着に優れ、かつ密着層自体の膜強度が強
いことが必要である。このような有機バインダーとして
は、飽和炭化水素鎖またはポリエーテル鎖を主鎖として
有するポリマーであることが好ましく、飽和炭化水素鎖
を主鎖として有するポリマーであることがさらに好まし
い。また、バインダーポリマーは架橋構造を有すること
が好ましい。飽和炭化水素鎖を主鎖として有するバイン
ダーポリマーとしては、エチレン性不飽和モノマーの重
合体が好ましい。飽和炭化水素鎖を主鎖として有し、か
つ架橋構造を有するバインダーポリマーとしては、二個
以上のエチレン性不飽和基を有するモノマーの（共）重
合体が好ましい。高屈折率にするには、このモノマーの
構造中に芳香族環や、フッ素以外のハロゲン原子、硫黄
原子、リン原子、及び窒素原子から選ばれた少なくとも
１種の原子を含むことが好ましい。

【００１９】二個以上のエチレン性不飽和基を有するモ
ノマーとしては、多価アルコールと（メタ）アクリル酸
とのエステル（例、エチレングリコールジ（メタ）アク
リレート、１，４−ジクロヘキサンジアクリレート、ペ
ンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート）、ペ
ンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、トリメ
チロールプロパントリ（メタ）アクリレート、トリメチ
ロールエタントリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリ
スリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリ
スリトールペンタ（メタ）アクリレート、ペンタエリス
リトールヘキサ（メタ）アクリレート、１，２，３−シ
クロヘキサンテトラメタクリレート、ポリウレタンポリ
アクリレート、ポリエステルポリアクリレート）、ビニ
ルベンゼンおよびその誘導体（例、１，４−ジビニルベ
ンゼン、４−ビニル安息香酸−２−アクリロイルエチル
エステル、１，４−ジビニルシクロヘキサノン）、ビニ
ルスルホン（例、ジビニルスルホン）、アクリルアミド
（例、メチレンビスアクリルアミド）およびメタクリル
アミドが挙げられる。

【００２０】高屈折率モノマーの具体例としては、ビス
（４−メタクリロイルチオフェニル）スルフィド、ビニ
ルナフタレン、ビニルフェニルスルフィド、４−メタク
リロキシフェニル−４'−メトキシフェニルチオエーテ
ル等が挙げられる。

【００２１】これらのエチレン性不飽和基を有するモノ
マーの重合は、光ラジカル開始剤あるいは熱ラジカル開
始剤の存在下、電離放射線の照射または加熱により行う
ことができる。

【００２２】ポリエーテルを主鎖として有するポリマー
は、多官能エポキシ化合物の開環重合体が好ましい。多
官能エポキシ化合物の開環重合は、光酸発生剤あるいは
熱酸発生剤の存在下、電離放射線の照射または加熱によ
り行うことができる。

【００２３】二個以上のエチレン性不飽和基を有するモ
ノマーの代わりにまたはそれに加えて、架橋性官能基を
有するモノマーを用いてポリマー中に架橋性官能基を導
入し、この架橋性官能基の反応により、架橋構造をバイ
ンダーポリマーに導入してもよい。架橋性官能基の例に
は、イソシアナート基、エポキシ基、アジリジン基、オ
キサゾリン基、アルデヒド基、カルボニル基、ヒドラジ
ン基、カルボキシル基、メチロール基および活性メチレ
ン基が含まれる。ビニルスルホン酸、酸無水物、シアノ
アクリレート誘導体、メラミン、エーテル化メチロー
ル、エステルおよびウレタン、テトラメトキシシランの
ような金属アルコキシドも、架橋構造を導入するための
モノマーとして利用できる。ブロックイソシアナート基
のように、分解反応の結果として架橋性を示す官能基を
用いてもよい。すなわち、本発明において架橋性官能基
は、すぐには反応を示すものではなくとも、分解した結
果反応性を示すものであってもよい。これら架橋性官能
基を有するバインダーポリマーは塗布後、加熱すること
によって架橋構造を形成することができる。

【００２４】本発明の密着層中の空隙を示す指標として
は空隙率を用いた。空隙率は、密着層の屈折率を求めた
値、と、密着層素材組成から算出される屈折率の値、の
差を密着層に含まれる空隙中の空気（屈折率１．００）
として、算出した。また層の極薄切片をＴＥＭ観察する
ことによっても空隙率を求める事ができる。本発明の密
着層では空隙率は０．５〜３０体積％が好ましく、より
好ましくは１〜２５体積％が好ましい。空隙率の下限は
アンカリングによる密着効果の観点から、また上限は密
着層自体の膜強度の観点から好ましいものである。

【００２５】本発明の空隙を有する密着層を構成する素
材としては特に制限はない。空隙を得るための、好まし
い構成としては、下層との密着および密着層自体の膜強
度を得るための有機バインダーと、粒子間空隙を得るた
めの微粒子の２成分系が挙げられる。微粒子の好ましい
含有率としては６０〜９５質量％、より好ましくは８０
〜９５質量％、である。微粒子の粒径は透明性の観点で
はなるべく小さいことが好ましく、好ましい粒径は体積
平均粒径で０．００１〜０．２μｍ、より好ましくは
０．００５〜０．１μｍである。ここで使用する有機バ
インダーおよび微粒子は前述のものと同様である。

【００２６】［透明支持体］本発明の反射防止フィルム
の透明支持体としては、プラスチックフィルムを用いる
ことが好ましい。プラスチックフィルムを形成するポリ
マーとしては、セルロースエステル（例、トリアセチル
セルロース、ジアセチルセルロース）、ポリアミド、ポ
リカーボネート、ポリエステル（例、ポリエチレンテレ
フタレート、ポリエチレンナフタレート）、ポリスチレ
ン、ポリオレフィン、ノルボルネン系樹脂（アートン：
商品名、ＪＳＲ社製）、非晶質ポリオレフィン（ゼオネ
ックス：商品名、日本ゼオン社製）、などが挙げられ
る。本発明の透明支持体としては公開技報2001-1745号
記載のセルロースアシレートフィルムも好ましい。この
うちトリアセチルセルロース、ポリエチレンテレフタレ
ート、ポリエチレンナフタレートが好ましく、特にトリ
アセチルセルロースが好ましい。トリアセチルセルロー
スの屈折率は１．４８である。

【００２７】本発明の反射防止フィルムを液晶表示装置
に用いる場合、片面に粘着層を設ける等してディスプレ
イの最表面に配置する。該透明支持体がトリアセチルセ
ルロースの場合は偏光板の偏光層を保護する保護フィル
ムとしてトリアセチルセルロースが用いられるため、本
発明の反射防止フィルムをそのまま保護フィルムに用い
ることがコストの上では好ましい。

【００２８】本発明の透明支持体の厚みは特に限定され
ないが、３０〜１５０μｍが好ましく、７０〜１２０μ
ｍがより好ましい。

【００２９】本発明の透明支持体としては、トリアセチ
ルセルロースを溶剤に溶解することで調整されたトリア
セチルセルロースドープを単層流延、複数層共流延の何
れかの流延方法により流延することにより作成されたト
リアセチルセルロースフィルムを用いることが好まし
い。特に、環境保全の観点から、トリアセチルセルロー
スを低温溶解法あるいは高温溶解法によってジクロロメ
タンを実質的に含まない溶剤に溶解することで調整され
たトリアセチルセルロースドープを用いて作成されたト
リアセチルセルロースフィルムが好ましい。

【００３０】トリアセチルセルロースの単層流延は、公
開特許公報の特開平７−１１０５５等で開示されている
ドラム流延、あるいはバンド流延等により作成され、後
者の複数の層からなるトリアセチルセルロースの共流延
は、特開昭６１−９４７２５、特公昭６２−４３８４６
等で開示されている。逐次流延は単層流延を繰り返すこ
とで行われる。それぞれの流延は、原料フレークをハロ
ゲン化炭化水素類（ジクロロメタン等、アルコール類
（メタノール、エタノール、ブタノール等）、エステル
類（蟻酸メチル、酢酸メチル等）、エーテル類（ジオキ
サン、ジオキソラン、ジエチルエーテル等）等の溶剤に
て溶解し、これに必要に応じて可塑剤、紫外線吸収剤、
劣化防止剤、滑り剤、剥離促進剤等の各種の添加剤を加
えた溶液（ドープと称する）を、水平式のエンドレスの
金属ベルトまたは回転するドラムからなる支持体の上
に、ドープ供給手段（ダイと称する）により流延する
際、単層ならば単一のドープを単層流延し、複数の層な
らば高濃度のセルロースエステルドープの両側に低濃度
ドープを共流延し、支持体上である程度乾燥して剛性が
付与されたフィルムを支持体から剥離し、次いで各種の
搬送手段により乾燥部を通過させて溶剤を除去すること
からなる方法である。

【００３１】上記のような、トリアセチルセルロースを
溶解するための溶剤としては、ジクロロメタンが代表的
である。しかし、技術的には、ジクロロメタンのような
ハロゲン化炭化水素は問題なく使用できるが、地球環境
や作業環境の観点では、溶剤はジクロロメタン等のハロ
ゲン化炭化水素を実質的に含まないことが好ましい。
「実質的に含まない」とは、有機溶剤中のハロゲン化炭
化水素の割合が５質量％未満（好ましくは２質量％未
満）であることを意味する。ジクロロメタン等を実質的
に含まない溶剤を用いてトリアセチルセルロースのドー
プを調整する場合には、後述するような特殊な溶解法が
必須となる。

【００３２】第一の溶解法は、冷却溶解法と称され、以
下に説明する。まず室温近辺の温度（−１０〜４０℃）
で溶剤中にトリアセチルセルロースを撹拌しながら徐々
に添加する。次に、混合物は−１００〜−１０℃（好ま
しくは−８０〜−１０℃、さらに好ましくは−５０〜−
２０℃、最も好ましくは−５０〜−３０℃）に冷却す
る。冷却は、例えば、ドライアイス・メタノール浴（−
７５℃）や冷却したジエチレングリコール溶液（−３０
〜−２０℃）中で実施できる。このように冷却すると、
トリアセチルセルロースと溶剤の混合物は固化する。さ
らに、これを０〜２００℃（好ましくは０〜１５０℃、
さらに好ましくは０〜１２０℃、最も好ましくは０〜５
０℃）に加温すると、溶剤中にトリアセチルセルロース
が流動する溶液となる。昇温は、室温中に放置するだけ
でもよし、温浴中で加温してもよい。

【００３３】第二の方法は、高温溶解法と称され、以下
に説明する。まず室温近辺の温度（−１０〜４０℃）で
溶剤中にトリアセチルセルロースを撹拌しながら徐々に
添加される。本発明のトリアセチルセルロース溶液は、
各種溶剤を含有する混合溶剤中にトリアセチルセルロー
スを添加し予め膨潤させることが好ましい。本法におい
て、トリアセチルセルロースの溶解濃度は３０質量％以
下が好ましいが、フィルム製膜時の乾燥効率の点から、
なるべく高濃度であることが好ましい。次に有機溶剤混
合液は、０．２ＭＰａ〜３０ＭＰａの加圧下で７０〜２
４０℃に加熱される（好ましくは８０〜２２０℃、更に
好ましく１００〜２００℃、最も好ましくは１００〜１
９０℃）。次にこれらの加熱溶液はそのままでは塗布で
きないため、使用された溶剤の最も低い沸点以下に冷却
する必要がある。その場合、−１０〜５０℃に冷却して
常圧に戻すことが一般的である。冷却はトリアセチルセ
ルロース溶液が内蔵されている高圧高温容器やライン
を、室温に放置するだけでもよく、更に好ましくは冷却
水などの冷媒を用いて該装置を冷却してもよい。

【００３４】［低屈折率層］本発明の低屈折率層につい
て以下に説明する。本発明の反射防止フィルムは透明支
持体上にそれよりも低い屈折率の体屈折率層を有する。
本発明の反射防止フィルムの低屈折率層の屈折率は、
１．３８〜１．４９が好ましく、更に好ましくは１．３
８〜１．４４の範囲にある。さらに、低屈折率層は下記
数式（Ｉ）を満たすことが低反射率化の点で好ましい。

【００３５】 ｍλ／４×０．７＜ｎ₁ｄ₁＜ｍλ／４×１．３ ……数式（Ｉ）

【００３６】式中、ｍは正の奇数であり、ｎ₁は低屈折
率層の屈折率であり、そして、ｄ₁は低屈折率層の膜厚
（ｎｍ）である。また、λは波長であり、５００〜５５
０ｎｍの範囲の値である。なお、上記数式（Ｉ）を満た
すとは、上記波長の範囲において数式（Ｉ）を満たすｍ
（正の奇数、通常１である）が存在することを意味して
いる。

【００３７】本発明の低屈折率層を形成する素材につい
て以下に説明する。本発明の低屈折率層は、屈折率の低
いポリマー、あるいは屈折率の低い化合物とポリマーと
の混合物から形成する。また、特開平９−２８８２０１
号公報に記載されているように、光の波長以下のサイズ
の空気または真空からなる空隙を均一に形成することに
よって、低屈折率を達成することもできる。

【００３８】屈折率の低い化合物としては、フッ素化合
物あるいはケイ素化合物が用いられる。フッ素化合物と
ケイ素化合物とを併用してもよい。ケイ素化合物は、下
記式で表される有機置換ケイ素系化合物が好ましい。

【００３９】Ｒ１_aＲ２_bＳｉＸ_4-(a+b) 式中、Ｒ１およびＲ２は、それぞれ、アルキル基、アル
ケニル基、アリール基またはフルオロアルキル基であ
り；Ｘは、アルコキシ基、アルコキシアルコキシ基、ハ
ロゲン原子およびアシルオキシ基からなる群より選ばれ
る加水分解可能な置換基であり；ａ、ｂは、それぞれ、
０、１または２であって、ａ＋ｂは１または２である。
アルキル基、アルケニル基、アリール基およびフルオロ
アルキル基は、置換基（例、ハロゲン原子、エポキシ
基、アミノ、メルカプト、メタクリルオキシ、シアノ）
を有していてもよい。上記ケイ素化合物の加水分解生成
物を用いてもよい。

【００４０】低屈折率層に用いられるフッ素化合物とし
ては、フッ素原子を有するモノマーを重合して形成した
含フッ素ポリマーが好ましい。含フッ素ポリマーが架橋
性官能基を有し、塗布後に架橋することがさらに好まし
い。架橋方法としては、熱または電離放射線により架橋
することが好ましい。このような含フッ素ポリマーの具
体例としては、オプスターＪＮ７２２８（商品名、屈折
率１．４２の熱架橋性含フッ素ポリマー、フッ素含率約
３６質量％、ＪＳＲ（株）製）などがある。また、膜強
度改良のために、屈折率の小さい無機化合物の微粒子を
含フッ素ポリマー中に分散させることがさらに好まし
い。

【００４１】含フッ素ポリマーの物性としては、動摩擦
係数０．０３〜０．１５、水に対する接触角９０〜１２
０°を有する事が好ましい。

【００４２】フッ素原子を有するモノマー単位の具体例
としては、例えばフルオロオレフィン類（例えばフルオ
ロエチレン、ビニリデンフルオライド、テトラフルオロ
エチレン、ヘキサフルオロエチレン、ヘキサフルオロプ
ロピレン、パーフルオロ−２，２−ジメチル−１，３−
ジオキソール等）、（メタ）アクリル酸の部分または完
全フッ素化アルキルエステル誘導体類（例えばビスコー
ト６ＦＭ（大阪有機化学製）やＭ−２０２０（ダイキン
製）等）、完全または部分フッ素化ビニルエーテル類等
である。架橋性基付与のためのモノマーとしてはグリシ
ジルメタクリレートのように分子内にあらかじめ架橋性
官能基を有する（メタ）アクリレートモノマーの他、カ
ルボキシル基やヒドロキシル基、アミノ基、スルホン酸
基等を有する（メタ）アクリレートモノマー（例えば
（メタ）アクリル酸、メチロール（メタ）アクリレー
ト、ヒドロキシアルキル（メタ）アクリレート、アリル
アクリレート等）が挙げられる。後者は共重合の後、架
橋構造を導入できることが特開平１０−２５３８８およ
び特開平１０−１４７７３９に知られている。

【００４３】また上記含フッ素モノマーを構成単位とす
るポリマーだけでなく、フッ素原子を含有しないモノマ
ーとの共重合体を用いてもよい。併用可能なモノマー単
位には特に限定はなく、例えばオレフィン類（エチレ
ン、プロピレン、イソプレン、塩化ビニル、塩化ビニリ
デン等）、アクリル酸エステル類（アクリル酸メチル、
アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸２−
エチルヘキシル）、メタクリル酸エステル類（メタクリ
ル酸メチル、メタクリル酸エチル、メタクリル酸ブチ
ル、エチレングリコールジメタクリレート等）、スチレ
ン誘導体（スチレン、ジビニルベンゼン、ビニルトルエ
ン、α−メチルスチレン等）、ビニルエーテル類（メチ
ルビニルエーテル等）、ビニルエステル類（酢酸ビニ
ル、プロピオン酸ビニル、桂皮酸ビニル等）、アクリル
アミド類（Ｎ−ｔｅｒｔブチルアクリルアミド、Ｎ−シ
クロヘキシルアクリルアミド等）、メタクリルアミド
類、アクリロ二トリル誘導体等を挙げることができる。

【００４４】低屈折率層に用いられる無機化合物として
は低屈折率のものが好ましく用いられ、好ましい無機化
合物は、二酸化珪素、フッ化マグネシウム、フッ化カル
シウムであり、特に二酸化珪素が好ましい。無機化合物
は微粒子である事が好ましく、平均粒径は０．００１〜
０．２μｍであることが好ましく、０．００１〜０．０
５μｍであることがより好ましい。微粒子の粒径はなる
べく均一（単分散）であることが好ましい。無機微粒子
の添加量は、低屈折率層の全重量の５〜９０質量％であ
ることが好ましく、１０〜７０質量％であると更に好ま
しく、１０〜５０質量％が特に好ましい。

【００４５】無機微粒子は表面処理を施して用いること
も好ましい。表面処理法としてはプラズマ放電処理やコ
ロナ放電処理のような物理的表面処理とカップリング剤
を使用する化学的表面処理があるが、カップリング剤の
使用が好ましい。カップリング剤としては、オルガノア
ルコキシメタル化合物（例、チタンカップリング剤、シ
ランカップリング剤）が好ましく用いられる。無機微粒
子が二酸化珪素の場合はシランカップリング処理が特に
有効である。

【００４６】［防眩層］反射防止フイルムには、表面に
微細な凹凸を有し、その屈折率が支持体よりも大きい防
眩層を設ける事ができる。防眩層は、後述するハードコ
ート層を形成する素材に加えて、高屈折率モノマーまた
は高屈折率無機微粒子によって形成できる。

【００４７】高屈折率モノマーの例には、ビス（４−メ
タクリロイルチオフェニル）スルフィド、ビニルナフタ
レン、ビニルフェニルスルフィドおよび４−メタクリロ
キシフェニル−４'−メトキシフェニルチオエーテルが
含まれる。

【００４８】高屈折率無機微粒子は、チタン、アルミニ
ウム、インジウム、亜鉛、錫およびアンチモンから選ば
れる金属の酸化物からなる粒径１００ｎｍ以下の微粒子
が好ましい。粒径は、５０ｎｍ以下であることがさらに
好ましい。金属酸化物の例には、ＴｉＯ₂ 、Ａｌ
₂Ｏ₃ 、Ｉｎ₂Ｏ₃ 、ＺｎＯ、ＳｎＯ₂ 、Ｓｂ₂Ｏ₃ およ
びＩＴＯが含まれる。無機微粒子の添加量は、防眩層全
量の１０〜９０質量％であることが好ましく、２０〜８
０質量％であると更に好ましい。

【００４９】防眩層には、防眩性付与とハードコート層
の干渉による反射率悪化防止、色むら防止の目的で、樹
脂または無機化合物のマット粒子が用いられる。マット
粒子の平均粒径は１．０〜１０．０μｍが好ましく、
１．５〜５．０μｍがさらに好ましい。防眩層のバイン
ダー膜厚よりも小さい粒径のマット粒子は、マット粒子
全体の５０％未満であることが好ましい。粒度分布は、
コールターカウンター法や遠心沈降法等により測定でき
る。ただし、粒度分布は、粒子数分布に換算して検討す
る。防眩層の膜厚は０．５〜１０μｍが好ましく、１〜
５μｍがさらに好ましい。

【００５０】［ハードコート層］反射防止フイルムに
は、ハードコート層を設けることができる。ハードコー
ト層は、支持体よりも鉛筆硬度が高く、屈折率が防眩
層、高屈折率層、および中屈折率層より小さく、低屈折
率層より大きいことが好ましい。ハードコート層の厚さ
は、１〜３０μｍであることが好ましく、１〜２０μｍ
であることがさらに好ましく、２〜１５μｍであること
が最も好ましい。ハードコート層の鉛筆硬度はＨ以上で
あることが好ましく、２Ｈ以上であることがさらに好ま
しく、３Ｈ以上であることが最も好ましい。ハードコー
ト層の屈折率は、１．４５〜２．０の範囲が好ましく、
１．５〜１．８の範囲がさらに好ましい。ハードコート
層は二酸化珪素を主とする無機化合物からなる層、飽和
炭化水素またはポリエーテルを主鎖として有するポリマ
ー等の有機化合物からなる層、あるいは無機／有機化合
物のハイブリッド化された層として形成できる。飽和炭
化水素を主鎖として有するポリマーからなる層であるこ
とが特に好ましい。ポリマーは架橋していることが好ま
しい。飽和炭化水素を主鎖として有するポリマーは、エ
チレン性不飽和モノマーの重合反応により得ることが好
ましい。架橋しているバインダーポリマーを得るために
は、二以上のエチレン性不飽和基を有するモノマーを用
いることが好ましい。

【００５１】二以上のエチレン性不飽和基を有するモノ
マーの例には、多価アルコールと（メタ）アクリル酸と
のエステル（例、エチレングリコールジ（メタ）アクリ
レート、１，４−ジクロヘキサンジアクリレート、ペン
タエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート）、ペン
タエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、トリメチ
ロールプロパントリ（メタ）アクリレート、トリメチロ
ールエタントリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリス
リトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリス
リトールペンタ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリ
トールヘキサ（メタ）アクリレート、１，２，３−シク
ロヘキサンテトラメタクリレート、ポリウレタンポリア
クリレート、ポリエステルポリアクリレート）、ビニル
ベンゼンおよびその誘導体（例、１，４−ジビニルベン
ゼン、４−ビニル安息香酸−２−アクリロイルエチルエ
ステル、１，４−ジビニルシクロヘキサノン）、ビニル
スルホン（例、ジビニルスルホン）、アクリルアミド
（例、メチレンビスアクリルアミド）およびメタクリル
アミドが含まれる。ポリエーテルを主鎖として有するポ
リマーは、多官能エポシキ化合物の開環重合反応により
合成することが好ましい。これらのエチレン性不飽和基
を有するモノマーは、塗布後電離放射線または熱による
重合反応により硬化させる必要がある。

【００５２】二以上のエチレン性不飽和基を有するモノ
マーの代わりまたはそれに加えて、架橋性基の反応によ
り、架橋構造をバインダーポリマーに導入してもよい。
架橋性官能基の例には、イソシアナート基、エポキシ
基、アジリジン基、オキサゾリン基、アルデヒド基、カ
ルボニル基、ヒドラジン基、カルボキシル基、メチロー
ル基および活性メチレン基が含まれる。ビニルスルホン
酸、酸無水物、シアノアクリレート誘導体、メラミン、
エーテル化メチロール、エステルおよびウレタン、テト
ラメトキシシランのような金属アルコキシドも、架橋構
造を導入するためのモノマーとして利用できる。ブロッ
クイソシアナート基のように、分解反応の結果として架
橋性を示す官能基を用いてもよい。また、本発明におい
て架橋基とは、上記化合物に限らず上記官能基が分解し
た結果反応性を示すものであってもよい。これら架橋基
を有する化合物は塗布後熱などによって架橋させる必要
がある。

【００５３】更にハードコート層には、屈折率の調節や
膜の硬化強度を高めるために無機の微粒子を添加しても
良い。無機の微粒子としては平均粒子サイズが０．００
１〜０．５μｍのものが好ましく、０．００１〜０．２
μｍのものが特に好ましい。無機微粒子としては二酸化
珪素粒子、二酸化チタン粒子、酸化アルミニウム粒子、
酸化錫粒子、炭酸カルシウム粒子、硫酸バリウム粒子、
タルク、カオリンおよび硫酸カルシウム粒子があげら
れ、二酸化珪素粒子、二酸化チタン粒子、酸化アルミニ
ウム粒子が特に好ましい。無機微粒子の添加量は、ハー
ドコート層の全質量の１０〜９０質量％であることが好
ましく、２０〜８０質量％であると更に好ましく、３０
〜６０質量％が特に好ましい。

【００５４】［高、中屈折率層］高屈折率層の屈折率
は、１．６５〜２．４０であることが好ましく、１．７
０〜２．２０であることがさらに好ましい。中屈折率層
の屈折率は、低屈折率層の屈折率と高屈折率層の屈折率
との間の値となるように調整され、１．５５〜１．８０
であることが好ましい。高屈折率層および中屈折率層の
ヘイズは、０．０１〜３％であることが好ましい。

【００５５】中屈折率層および高屈折率層は、比較的屈
折率が高いポリマーを用いて形成することが好ましい。
屈折率が高いポリマーの例には、ポリスチレン、スチレ
ン共重合体、ポリカーボネート、メラミン樹脂、フェノ
ール樹脂、エポキシ樹脂および環状（脂環式または芳香
族）イソシアネートとポリオールとの反応で得られるポ
リウレタンが含まれる。その他の環状（芳香族、複素環
式、脂環式）基を有するポリマーや、フッ素以外のハロ
ゲン原子を置換基として有するポリマーも、屈折率が高
い。二重結合を導入してラジカル硬化を可能にしたモノ
マーの重合反応によりポリマーを形成してもよい。

【００５６】屈折率の高い無機微粒子を前述のモノマー
と開始剤、有機置換されたケイ素化合物、または上記ポ
リマー中に分散してもよい。無機微粒子としては、金属
（例、アルミニウム、チタニウム、ジルコニウム、アン
チモン）の酸化物が好ましい。モノマーと開始剤を用い
る場合は、塗布後に電離放射線または熱による重合反応
によりモノマーを硬化させることで、耐傷性や密着性に
優れる中屈折率層や高屈折率層が形成できる。無機微粒
子の平均粒径は、０．００１〜０．２μｍであることが
好ましく、より好ましくは０．００５〜０．１μｍであ
る。

【００５７】被膜形成能を有する有機金属化合物から、
高屈折率層または中屈折率層を形成してもよい。有機金
属化合物は、適当な媒体に分散できるか、あるいは液状
であることが好ましい。有機金属化合物の例には、金属
アルコレート（例、チタンテトラエトキシド、チタンテ
トラ−Ｉ−プロポキシド、チタンテトラ−ｎ−プロポキ
シド、チタンテトラ−ｎ−ブトキシド、チタンテトラ−
ｓｅｃ-ブトキシド、チタンテトラ−ｔｅｒｔ−ブトキ
シド、アルミニウムトリエトキシド、アルミニウムトリ
−Ｉ−プロポキシド、アルミニウムトリブトキシド、ア
ンチモントリエトキシド、アンチモントリブトキシド、
ジルコニウムテトラエトキシド、ジルコニウムテトラ−
Ｉ−プロポキシド、ジルコニウムテトラ−ｎ−プロポキ
シド、ジルコニウムテトラ−ｎ−ブトキシド、ジルコニ
ウムテトラ−sec-ブトキシド、ジルコニウムテトラ−ｔ
ｅｒｔ−ブトキシド）、キレート化合物（例、ジ−イソ
プロポキシチタニウムビスアセチルアセトネート、ジ−
ブトキシチタニウムビスアセチルアセトネート、ジ−エ
トキシチタニウムビスアセチルアセトネート、ビスアセ
チルアセトンジルコニウム、アルミニウムアセチルアセ
トネート、アルミニウムジ−ｎ−ブトキシドモノエチル
アセトアセテート、アルミニウムジ−Ｉ−プロポキシド
モノメチルアセトアセテート、トリ−ｎ−ブトキシドジ
ルコニウムモノエチルアセトアセテート）、有機酸塩
（例、炭酸ジルコニールアンモニウム）およびジルコニ
ウムを主成分とする活性無機ポリマーが含まれる。高屈
折率層、中屈折率層の厚さは、０．０２〜０．３０μｍ
であることが好ましく、０．０３〜０．２０μｍである
と更に好ましい。

【００５８】反射防止フィルムには、さらに、防湿層、
帯電防止層や保護層を設けてもよい。特に低屈折率層の
上に、保護層を設けることが好ましい。保護層は、滑り
層または汚れ防止層として機能する。滑り層に用いる滑
り剤の例には、ポリオルガノシロキサン（例、ポリジメ
チルシロキサン、ポリジエチルシロキサン、ポリジフェ
ニルシロキサン、ポリメチルフェニルシロキサン、アル
キル変性ポリジメチルシロキサン）、天然ワックス
（例、カルナウバワックス、キャンデリラワックス、ホ
ホバ油、ライスワックス、木ろう、蜜ろう、ラノリン、
鯨ろう、モンタンワックス）、石油ワックス（例、パラ
フィンワックス、マイクロクリスタリンワックス）、合
成ワックス（例、ポリエチレンワックス、フィッシャー
・トロプシュワックス）、高級脂肪脂肪酸アミド（例、
ステアラミド、オレインアミド、Ｎ，Ｎ'−メチレンビ
スステアラミド）、高級脂肪酸エステル（例、ステアリ
ン酸メチル、ステアリン酸ブチル、グリセリンモノステ
アレート、ソルビタンモノオレエート）、高級脂肪酸金
属塩（例、ステアリン酸亜鉛）およびフッ素含有ポリマ
ー（例、パーフルオロ主鎖型パーフルオロポリエーテ
ル、パーフルオロ側鎖型パーフルオロポリエーテル、ア
ルコール変性パーフルオロポリエーテル、イソシアネー
ト変性パーフルオロポリエーテル）が含まれる。汚れ防
止層には、含フッ素疎水性化合物（例、含フッ素ポリマ
ー、含フッ素界面活性剤、含フッ素オイル）を添加す
る。保護層の厚さは、反射防止機能に影響しないように
するため、１〜２０ｎｍであることが好ましく、１〜１
０ｎｍであると更に好ましい。

【００５９】反射防止フィルムの各層は、ディップコー
ト法、エアーナイフコート法、カーテンコート法、ロー
ラーコート法、ワイヤーバーコート法、グラビアコート
法やエクストルージョンコート法（米国特許２６８１２
９４号明細書記載）により、塗布により形成することが
できる。二以上の層を同時に塗布してもよい。同時塗布
の方法については、米国特許２７６１７９１号、同２９
４１８９８号、同３５０８９４７号、同３５２６５２８
号の各明細書および原崎勇次著、コーティング工学、２
５３頁、朝倉書店（１９７３）に記載がある。

【００６０】［偏光板］通常、偏光板は、偏光膜および
その両側に配置された二枚の透明保護膜からなる。一方
の保護膜として、本発明の反射防止フィルムを透明支持
体側を偏光膜とあわせるようにして用いることができ
る。他方の保護膜は、通常のセルロースアセテートフイ
ルムを用いればよい。偏光膜には、ヨウ素系偏光膜、二
色性染料を用いる染料系偏光膜やポリエン系偏光膜があ
る。ヨウ素系偏光膜および染料系偏光膜は、一般にポリ
ビニルアルコール系フイルムを用いて製造される。本発
明の反射防止フィルムは、液晶表示装置（ＬＣＤ）、プ
ラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）、エレクトロルミ
ネッセンスディスプレイ（ＥＬＤ）や陰極管表示装置
（ＣＲＴ）のような画像表示装置に適用することができ
る。特に液晶表示装置に用いることが好ましい。本発明
の反射防止フィルムを画像表示装置に用いる際には、低
屈折率層がディスプレイの最表層に用いる（即ち、本発
明の反射防止フィルムの透明支持体側を画像表示装置の
画像表示面に接着する。）ことが好ましい。

【００６１】

【実施例】以下に実施例をもってさらに本発明を詳細に
説明するが、本発明はこれらに限定されるものではな
い。 ［実施例１］ （１）密着層用塗布液の調製 平均粒径が１５ｎｍのシリカ微粒子のメタノール分散液
（メタノールシリカゾル、固形分濃度３０％、日産化学
（株）製）２００ｇに、シランカップリング剤（ＫＢＭ
−５０３、信越シリコーン（株）製）３ｇおよび１Ｎ塩
酸２ｇを加え、室温で５時間攪拌した後、３日間放置し
て、シランカップリング処理したシリカ微粒子分散液を
調整した。上記分散液３５．０４ｇに、イソプロピルア
ルコール５８．３５ｇおよびジアセトンアルコール３
９．３４ｇを加えた。光重合開始剤（イルガキュア９０
７、チバガイギー社製）１．０２ｇおよび光増感剤（カ
ヤキュアーＤＥＴＸ、日本化薬（株）製）０．５１ｇを
イソプロピルアルコール７７２．８５ｇに溶解し、さら
にジペンタエリスリトールペンタアクリレートとジペン
タエリスリトールヘキサアクリレートの混合物（ＫＡＹ
ＡＲＡＤ ＤＰＨＡ、日本化薬（株）製）２５．６ｇを
加えて溶解した。得られた溶液６７．２３ｇを、上記分
散液、イソプロピルアルコールおよびジアセトンアルコ
ールの混合液に添加した。混合物を２０分間室温で攪拌
後、孔径１μｍのポリプロピレン製フィルターで濾過し
て、密着層用塗布液を調製した。全固形分中の無機微粒
子含有率は８３質量％であった。

【００６２】（２）低屈折率層用塗布液の調製 屈折率１．４２の熱架橋性含フッ素ポリマー（ＪＮ−７
２２８、固形分濃度６％、ＪＳＲ（株）製）２１０ｇに
シリカゾル（ＭＥＫ−ＳＴ、平均粒径１０〜２０ｎｍ、
固形分濃度３０質量％、日産化学（株）製）１８ｇ、お
よびメチルエチルケトン２００ｇを添加、攪拌の後、孔
径１μｍのポリプロピレン製フィルターでろ過して、低
屈折率層用塗布液を調製した。

【００６３】（３）反射防止フィルムの作製 屈折率１．４８のトリアセチルセルロース支持体（厚み
８０μｍ）上に、密着層用塗布液をバーコーターを用い
て塗布し、８０℃で５分乾燥後、１６０Ｗ／ｃｍの空冷
メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製）
を用いて、照度４００ｍＷ／ｃｍ² 、照射量３００ｍＪ
／ｃｍ²の紫外線を照射して塗布層を硬化させ、厚さ
０．０３μｍの密着層を形成した。密着層のＲａは０．
００６μｍ、空隙率は１０体積％、であった。この上に
低屈折率層用塗布液をバーコーターを用いて塗布し、８
０℃で５分乾燥後、１２０℃で１０分間加熱して塗布層
を硬化させ、厚さ０．１μｍの低屈折率層を形成し、反
射防止フィルムを作製した。低屈折率層の屈折率は、
１．４３であった。接触角は１０３°、動摩擦係数は
０．０４、であった。

【００６４】［実施例２］ （１）防眩層用塗布液の調製 ジルコニア含有ＵＶ硬化型ハードコート液（デソライト
Ｚ７４０１、ＪＳＲ社製、固形分濃度４８％、ジルコニ
ア含率７１％、平均粒径約２０ｎｍ）２７８ｇにジペン
タエリスリトールペンタアクリレートとジペンタエリス
リトールヘキサアクリレートの混合物（ＤＰＨＡ、日本
化薬（株）製）１２０ｇ、光重合開始剤（イルガキュア
９０７、チバガイギー社製）７．７ｇを加え、メチルエ
チルケトン／シクロヘキサノン＝５０／５０％の混合溶
媒３５５ｇを加えた。さらにこの溶液に平均粒径２μｍ
の架橋ポリスチレン粒子（商品名：ＳＸ−２００Ｈ、綜
研化学（株）製）１０ｇを添加し、高速ディスパーによ
り５０００ｒｐｍで一時間攪拌し、均一分散させた後、
孔径３０μｍのポリプロピレン製フィルターでろ過して
防眩層用塗布液を調製した。

【００６５】（２）反射防止フィルムの作製 屈折率１．４８のトリアセチルセルロース支持体（厚み
８０μｍ）上に、調製した防眩層用塗布液をバーコータ
ーを用いて塗布し、１２０℃で乾燥の後、１６０Ｗ／ｃ
ｍの空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス
（株）製）を用いて、照度４００ｍＷ／ｃｍ² 、照射量
３００ｍＪ／ｃｍ²の紫外線を照射して塗布層を硬化さ
せ、厚さ１．４μｍの防眩層を形成した。防眩層の屈折
率は１．６１であった。防眩層の上に実施例１で調製し
た密着層用塗布液および低屈折率層用塗布液を実施例１
と同様に塗布し、防眩性を有する反射防止フィルムを作
製した。密着層のＲａは０．００６μｍ、空隙率は１０
体積％、であった。低屈折率層の屈折率は、１．４３で
あった。接触角は１０３°、動摩擦係数は０．０８、で
あった。

【００６６】［実施例３］ （１）ハードコート層用塗布液の調製 シリカ含有ＵＶ硬化型ハードコート液（デソライトＫＺ
７５２６、ＪＳＲ社製、固形分濃度７２％、シリカ含量
３８％、平均粒径２０ｎｍ）３４７ｇをメチルエチルケ
トン／シクロヘキサノン＝５０／５０質量％の混合溶媒
４００ｇに溶解し、撹拌した後、孔径１μｍのポリプロ
ピレン製フィルターでろ過してハードコート層用塗布液
を調製した。

【００６７】（２）反射防止フィルムの作製 屈折率１．４８のトリアセチルセルロース支持体（厚み
８０μｍ）上に、調製したハードコート層用塗布液をバ
ーコーターを用いて塗布し、１２０℃で乾燥の後、１６
０Ｗ／ｃｍの空冷メタルハライドランプ（アイグラフィ
ックス（株）製）を用いて、照度４００ｍＷ／ｃｍ² 、
照射量３００ｍＪ／ｃｍ²の紫外線を照射して塗布層を
硬化させ、厚さ６μｍのハードコート層を形成した。ハ
ードコート層の屈折率は、１．５３であった。ハードコ
ート層の上に、実施例２で調製した防眩層用塗布液を実
施例２と同様に塗布し、厚さ１．４μｍの防眩層を形成
した。防眩層の屈折率は１．６１であった。防眩層の上
に、実施例１で調製した密着層用塗布液および低屈折率
層用塗布液を実施例１と同様に塗布し、防眩性を有する
反射防止フィルムを作製した。密着層のＲａは０．００
６μｍ、空隙率は１０体積％、であった。低屈折率層の
屈折率は、１．４３であった。接触角は１０３°、動摩
擦係数は０．０８、であった。

【００６８】［実施例４］ （１）高屈折率ハードコート層用塗布液の調製 ジルコニア含有ＵＶ硬化型ハードコート液（デソライト
Ｚ７４０１、ＪＳＲ社製、固形分濃度４８％、ジルコニ
ア含率７１％、平均粒径約２０ｎｍ）２７８ｇにジペン
タエリスリトールペンタアクリレートとジペンタエリス
リトールヘキサアクリレートの混合物（ＤＰＨＡ、日本
化薬（株）製）１２０ｇ、光重合開始剤（イルガキュア
９０７、チバガイギー社製）７．７ｇを加え、メチルエ
チルケトン／シクロヘキサノン＝５０／５０％の混合溶
媒３５５ｇを加え、攪拌した後、孔径1μｍのポリプロ
ピレン製フィルターでろ過して高屈折率ハードコート層
用塗布液を調製した。

【００６９】（２）反射防止フィルムの作製 屈折率１．４８のトリアセチルセルロース支持体（厚み
８０μｍ）上に、調製した高屈折率ハードコート層用塗
布液をバーコーターを用いて塗布し、１２０℃で乾燥の
後、１６０Ｗ／ｃｍの空冷メタルハライドランプ（アイ
グラフィックス（株）製）を用いて、照度４００ｍＷ／
ｃｍ² 、照射量３００ｍＪ／ｃｍ²の紫外線を照射して
塗布層を硬化させ、厚さ６μｍのハードコート層を形成
した。高屈折率ハードコート層の屈折率は１．６１であ
った。高屈折率ハードコート層の上に、実施例１で調製
した密着層用塗布液および低屈折率層用塗布液を実施例
１と同様に塗布し、反射防止フィルムを作製した。密着
層のＲａは０．００６μｍ、空隙率は１０体積％、であ
った。低屈折率層の屈折率は、１．４３であった。

【００７０】［実施例５］ （１）二酸化チタン分散物の調製 二酸化チタン（一次粒子質量平均粒径：５０ｎｍ、屈折
率２．７０）３０質量部、アニオン性ジアクリレートモ
ノマー（商品名：ＰＭ２１、日本化薬（株）製）５．０
質量部、カチオン性メタクリレートモノマー（商品名：
ＤＭＡＥＡ、興人（株）製）０．２質量部およびメチル
エチルケトン６５．２質量部をサンドグラインダーによ
り分散し、二酸化チタン分散物を調製した。

【００７１】（２）高屈折率層用塗布液の調製 シクロヘキサノン１２５．２ｇおよびメチルエチルケト
ン３７．２ｇに、光重合開始剤（イルガキュア９０７、
チバガイギー社製）０．０７ｇおよび光増感剤（カヤキ
ュアーＤＥＴＸ、日本化薬（株）製）０．０２ｇを溶解
した。さらに、調製した二酸化チタン分散物１３．４ｇ
およびジペンタエリスリトールペンタアクリレートとジ
ペンタエリスリトールヘキサアクリレートの混合物（Ｄ
ＰＨＡ、日本化薬（株）製）０．７６ｇを加え、室温で
４０分間攪拌した後、孔径１μｍのポリプロピレン製フ
ィルターでろ過して、高屈折率層用塗布液を調製した。

【００７２】（３）反射防止フィルムの作製 屈折率１．４８のトリアセチルセルロース支持体（厚み
８０μｍ）上に、実施例３で調製したハードコート層用
塗布液をバーコーターを用いて塗布し、１２０℃で乾燥
の後、１６０Ｗ／ｃｍの空冷メタルハライドランプ（ア
イグラフィックス（株）製）を用いて、照度４００ｍＷ
／ｃｍ² 、照射量３００ｍＪ／ｃｍ²の紫外線を照射し
て塗布層を硬化させ、厚さ６μｍのハードコート層を形
成した。ハードコート層の屈折率は、１．５３であっ
た。ハードコート層の上に、調製した高屈折率層用塗布
液をバーコーターを用いて塗布し、１２０℃で乾燥の
後、１６０Ｗ／ｃｍの空冷メタルハライドランプ（アイ
グラフィックス（株）製）を用いて、照度４００ｍＷ／
ｃｍ² 、照射量３００ｍＪ／ｃｍ² の紫外線を照射して
塗布層を硬化させ、厚さ０．０６μｍの高屈折率層を形
成した。高屈折率層の屈折率は１．９０であった。高屈
折率層の上に、実施例１で調製した密着層用塗布液およ
び低屈折率層用塗布液を実施例１と同様に塗布し、反射
防止フィルムを作製した。密着層のＲａは０．００６μ
ｍ、空隙率は１０体積％、であった。低屈折率層の屈折
率は、１．４３であった。接触角は１０３°、動摩擦係
数は０．０４、であった。

【００７３】［実施例６］ （１）中屈折率層用塗布液の調製 シクロヘキサノン１５３ｇおよびメチルエチルケトン３
７ｇに、光重合開始剤（イルガキュア９０７、チバガイ
ギー社製）０．１４ｇおよび光増感剤（カヤキュアーＤ
ＥＴＸ、日本化薬（株）製）０．０４ｇを溶解した。さ
らに、実施例５で調製した二酸化チタン分散物６．２ｇ
およびジペンタエリスリトールペンタアクリレートとジ
ペンタエリスリトールヘキサアクリレートの混合物（Ｄ
ＰＨＡ、日本化薬（株）製）２．４ｇを加え、室温で３
０分間攪拌した後、孔径１μｍのポリプロピレン製フィ
ルターでろ過して、中屈折率層用塗布液を調製した。

【００７４】（２）反射防止フィルムの作製 屈折率１．４８のトリアセチルセルロース支持体（厚み
８０μｍ）上に、実施例３で調製したハードコート層用
塗布液をバーコーターを用いて塗布し、１２０℃で乾燥
の後、１６０Ｗ／ｃｍの空冷メタルハライドランプ（ア
イグラフィックス（株）製）を用いて、照度４００ｍＷ
／ｃｍ² 、照射量３００ｍＪ／ｃｍ²の紫外線を照射し
て塗布層を硬化させ、厚さ６μｍのハードコート層を形
成した。ハードコート層の屈折率は、１．５３であっ
た。ハードコート層の上に、調製した中屈折率層用塗布
液をバーコーターを用いて塗布し、１２０℃で乾燥の
後、１６０Ｗ／ｃｍの空冷メタルハライドランプ（アイ
グラフィックス（株）製）を用いて、照度４００ｍＷ／
ｃｍ² 、照射量３００ｍＪ／ｃｍ² の紫外線を照射して
塗布層を硬化させ、厚さ０．０８μｍの中屈折率層を形
成した。中屈折率層の屈折率は１．７６であった。中屈
折率層の上に実施例５で調製した高屈折率層用塗布液を
バーコーターを用いて塗布し、１２０℃で乾燥の後、１
６０Ｗ／ｃｍの空冷メタルハライドランプ（アイグラフ
ィックス（株）製）を用いて、照度４００ｍＷ／ｃ
ｍ² 、照射量３００ｍＪ／ｃｍ² の紫外線を照射して塗
布層を硬化させ、厚さ０．０６μｍの高屈折率層を形成
した。高屈折率層の屈折率は１．９０であった。高屈折
率層の上に実施例１で調製した密着層用塗布液および低
屈折率層用塗布液を実施例１と同様に塗布し、低屈折率
層を形成した。密着層のＲａは０．００６μｍ、空隙率
は１０体積％、であった。低屈折率層の屈折率は、１．
４３であった。接触角は１０３°、動摩擦係数は０．０
４、であった。

【００７５】［実施例７］ （１）防眩層兼密着層用塗布液の調製 平均粒径が１５ｎｍのシリカ微粒子のメタノール分散液
（メタノールシリカゾル、日産化学（株）製）２００ｇ
に、シランカップリング剤（ＫＢＭ−５０３、信越シリ
コーン（株）製）３ｇおよび１Ｎ塩酸２ｇを加え、室温
で５時間攪拌した後、３日間放置して、シランカップリ
ング処理したシリカ微粒子分散液を調整した。ジルコニ
ア含有ＵＶ硬化型ハードコート液（デソライトＺ７４０
１、ＪＳＲ社製、固形分濃度４８％、ジルコニア含率７
１％、平均粒径約２０ｎｍ）２７２ｇに上記シリカ分散
液４３５ｇ、光重合開始剤（イルガキュア９０７、チバ
ガイギー社製）７．７ｇを加え、シクロヘキサノン５３
ｇを加えた。さらにこの溶液に平均粒径２μｍの架橋ポ
リスチレン粒子（商品名：ＳＸ−２００Ｈ、綜研化学
（株）製）１０ｇを添加し、高速ディスパーにより５０
００ｒｐｍで一時間攪拌し、均一分散させた後、孔径３
０μｍのポリプロピレン製フィルターでろ過して防眩層
兼密着層用塗布液を調製した。全固形分中の無機微粒子
含有率は８５質量％であった。

【００７６】（２）反射防止フィルムの作製 屈折率１．４８のトリアセチルセルロース支持体（厚み
８０μｍ）上に、調製した防眩層兼密着層用塗布液をバ
ーコーターを用いて塗布し、１２０℃で乾燥の後、１６
０Ｗ／ｃｍの空冷メタルハライドランプ（アイグラフィ
ックス（株）製）を用いて、照度４００ｍＷ／ｃｍ² 、
照射量３００ｍＪ／ｃｍ²の紫外線を照射して塗布層を
硬化させ、厚さ１．４μｍの防眩層を形成した。防眩層
兼密着層のＲａは０．００６μｍ、空隙率は１０体積
％、であった。防眩層兼密着層の屈折率は１．６０であ
った。防眩層兼密着層の上に実施例１で調製した低屈折
率層用塗布液を実施例１と同様に塗布し、防眩性を有す
る反射防止フィルムを作製した。低屈折率層の屈折率
は、１．４３であった。接触角は１０３°、動摩擦係数
は０．０８、であった。

【００７７】［実施例８］ （１）反射防止フィルムの作製 屈折率１．４８のトリアセチルセルロース支持体（厚み
８０μｍ）上に、実施例３で調整したハードコート層用
塗布液をバーコーターを用いて塗布し、１２０℃で乾燥
の後、１６０Ｗ／ｃｍの空冷メタルハライドランプ（ア
イグラフィックス（株）製）を用いて、照度４００ｍＷ
／ｃｍ² 、照射量３００ｍＪ／ｃｍ²の紫外線を照射し
て塗布層を硬化させ、厚さ６μｍのハードコート層を形
成した。ハードコート層の屈折率は、１．５３であっ
た。ハードコート層の上に、実施例７で調製した防眩層
兼密着層用塗布液を実施例７と同様に塗布し、厚さ１．
４μｍの防眩層を形成した。防眩層兼密着層のＲａは
０．００６μｍ、空隙率は１０体積％、であった。防眩
層兼密着層の屈折率は１．６０であった。防眩兼密着層
の上に、実施例１で調製した低屈折率層用塗布液を実施
例１と同様に塗布し、防眩性を有する反射防止フィルム
を作製した。低屈折率層の屈折率は、１．４３であっ
た。接触角は１０３°、動摩擦係数は０．０８、であっ
た。

【００７８】［実施例９］ （１）高屈折率ハードコート層兼密着層用塗布液の調製 平均粒径が１５ｎｍのシリカ微粒子のメタノール分散液
（メタノールシリカゾル、日産化学（株）製）２００ｇ
に、シランカップリング剤（ＫＢＭ−５０３、信越シリ
コーン（株）製）３ｇおよび１Ｎ塩酸２ｇを加え、室温
で５時間攪拌した後、３日間放置して、シランカップリ
ング処理したシリカ微粒子分散液を調整した。ジルコニ
ア含有ＵＶ硬化型ハードコート液（デソライトＺ７４０
１、ＪＳＲ社製、固形分濃度４８％、ジルコニア含率７
１％、平均粒径約２０ｎｍ）２７２ｇに上記シリカ微粒
子分散液４３５ｇ、光重合開始剤（イルガキュア９０
７、チバガイギー社製）７．７ｇを加え、シクロヘキサ
ノン５３ｇを加え、攪拌した後、孔径1μｍのポリプロ
ピレン製フィルターでろ過して高屈折率ハードコート層
兼密着層用塗布液を調製した。全固形分中の無機微粒子
含有率は８５質量％であった。

【００７９】（２）反射防止フィルムの作製 屈折率１．４８のトリアセチルセルロース支持体（厚み
８０μｍ）上に、調製した高屈折率ハードコート層兼密
着層用塗布液をバーコーターを用いて塗布し、１２０℃
で乾燥の後、１６０Ｗ／ｃｍの空冷メタルハライドラン
プ（アイグラフィックス（株）製）を用いて、照度４０
０ｍＷ／ｃｍ² 、照射量３００ｍＪ／ｃｍ²の紫外線を
照射して塗布層を硬化させ、厚さ６μｍの高屈折率ハー
ドコート層兼密着層を形成した。高屈折率ハードコート
層兼密着層のＲａは０．００６μｍ、空隙率は１０体積
％、であった。高屈折率ハードコート層兼密着層の屈折
率は１．６０であった。高屈折率ハードコート層兼密着
層の上に、実施例１で調製した低屈折率層用塗布液を実
施例１と同様に塗布し、反射防止フィルムを作製した。
低屈折率層の屈折率は、１．４３であった。接触角は１
０３°、動摩擦係数は０．０４、であった。

【００８０】［実施例１０］ （１）二酸化チタン分散物の調製 二酸化チタン（一次粒子質量平均粒径：５０ｎｍ、屈折
率２．７０）３０質量部、アニオン性ジアクリレートモ
ノマー（商品名：ＰＭ２１、日本化薬（株）製）５．０
質量部、カチオン性メタクリレートモノマー（商品名：
ＤＭＡＥＡ、興人（株）製）０．２質量部およびメチル
エチルケトン６５．２質量部をサンドグラインダーによ
り分散し、二酸化チタン分散物を調製した。

【００８１】（２）高屈折率層兼密着層用塗布液の調製 シクロヘキサノン１２５．２ｇおよびメチルエチルケト
ン３７．２ｇに、光重合開始剤（イルガキュア９０７、
チバガイギー社製）０．０７ｇおよび光増感剤（カヤキ
ュアーＤＥＴＸ、日本化薬（株）製）０．０２ｇを溶解
した。さらに、調製した二酸化チタン分散物１３．４ｇ
およびジペンタエリスリトールペンタアクリレートとジ
ペンタエリスリトールヘキサアクリレートの混合物（Ｄ
ＰＨＡ、日本化薬（株）製）０．３０ｇを加え、室温で
４０分間攪拌した後、孔径１μｍのポリプロピレン製フ
ィルターでろ過して、高屈折率層兼密着層用塗布液を調
製した。全固形分中の無機微粒子含有率は８０質量％で
あった。

【００８２】（３）反射防止フィルムの作製 屈折率１．４８のトリアセチルセルロース支持体（厚み
８０μｍ）上に、実施例３で調製したハードコート層用
塗布液をバーコーターを用いて塗布し、１２０℃で乾燥
の後、１６０Ｗ／ｃｍの空冷メタルハライドランプ（ア
イグラフィックス（株）製）を用いて、照度４００ｍＷ
／ｃｍ² 、照射量３００ｍＪ／ｃｍ²の紫外線を照射し
て塗布層を硬化させ、厚さ６μｍのハードコート層を形
成した。ハードコート層の屈折率は、１．５３であっ
た。ハードコート層の上に、調製した高屈折率層兼密着
層用塗布液をバーコーターを用いて塗布し、１２０℃で
乾燥の後、１６０Ｗ／ｃｍの空冷メタルハライドランプ
（アイグラフィックス（株）製）を用いて、照度４００
ｍＷ／ｃｍ² 、照射量３００ｍＪ／ｃｍ² の紫外線を照
射して塗布層を硬化させ、厚さ０．０６μｍの高屈折率
層を形成した。高屈折率層兼密着層のＲａは０．００６
μｍ、空隙率は１０体積％、であった。高屈折率兼密着
層の屈折率は１．９２であった。高屈折率兼密着層の上
に、実施例１で調製した低屈折率層用塗布液を実施例１
と同様に塗布し、反射防止フィルムを作製した。低屈折
率層の屈折率は、１．４３であった。接触角は１０３
°、動摩擦係数は０．０４、であった。

【００８３】［実施例１１］ （１）反射防止フィルムの作製 屈折率１．４８のトリアセチルセルロース支持体（厚み
８０μｍ）上に、実施例３で調製したハードコート層用
塗布液をバーコーターを用いて塗布し、１２０℃で乾燥
の後、１６０Ｗ／ｃｍの空冷メタルハライドランプ（ア
イグラフィックス（株）製）を用いて、照度４００ｍＷ
／ｃｍ² 、照射量３００ｍＪ／ｃｍ²の紫外線を照射し
て塗布層を硬化させ、厚さ６μｍのハードコート層を形
成した。ハードコート層の屈折率は、１．５３であっ
た。ハードコート層の上に、実施例６で調製した中屈折
率層用塗布液をバーコーターを用いて塗布し、１２０℃
で乾燥の後、１６０Ｗ／ｃｍの空冷メタルハライドラン
プ（アイグラフィックス（株）製）を用いて、照度４０
０ｍＷ／ｃｍ² 、照射量３００ｍＪ／ｃｍ² の紫外線を
照射して塗布層を硬化させ、厚さ０．０８μｍの中屈折
率層を形成した。中屈折率層の屈折率は１．７６であっ
た。中屈折率層の上に実施例１０で調製した高屈折率層
兼密着層用塗布液をバーコーターを用いて塗布し、１２
０℃で乾燥の後、１６０Ｗ／ｃｍの空冷メタルハライド
ランプ（アイグラフィックス（株）製）を用いて、照度
４００ｍＷ／ｃｍ²、照射量３００ｍＪ／ｃｍ² の紫外
線を照射して塗布層を硬化させ、厚さ０．０６μｍの高
屈折率層兼密着層を形成した。高屈折率層兼密着層のＲ
ａは０．００６μｍ、空隙率は１０体積％、であった。
高屈折率兼密着層の屈折率は１．９２であった。高屈折
率層兼密着層の上に実施例１で調製した低屈折率層用塗
布液を実施例１と同様に塗布し、低屈折率層を形成し
た。低屈折率層の屈折率は、１．４３であった。接触角
は１０３°、動摩擦係数は０．０４、であった。

【００８４】[比較例１]密着層用塗布液を用いない以外
は実施例１と同様にして反射防止フィルムを作成した。
トリアセチルセルロース支持体のＲａは０．０００３μ
ｍ、空隙率は０体積％、であった。

【００８５】［比較例２］密着層用塗布液を用いない以
外は実施例２と同様にして防眩性を有する反射防止フィ
ルムを作成した。防眩層のＲａは０．０００４μｍ、空
隙率は０体積％、であった。

【００８６】（密着層の評価）本発明の密着層の評価は
以下のように行った。 （イ）中心線平均粗さ（Ｒａ） 中心線平均粗さ（Ｒａ）の評価方法は、ＪＩＳ−Ｂ−０
６０１に従った。密着層の表面凹凸を原子間力顕微鏡Ｓ
ＰＡ−４００（セイコーインスツルメント（株）製）を
用いて１０μｍ角の範囲を測定したデータの任意の３線
（長さ４μｍ）を解析し平均することによりＲａを求め
た。

【００８７】（ロ）空隙率 空隙率は、密着層の屈折率を求めた値（反射率極小値か
ら算出）と、密着層素材組成から算出される屈折率の値
の差を密着層に含まれる空隙中の空気（屈折率１．０
０）として、算出した。

【００８８】（反射防止フィルムの評価）得られた反射
防止フィルムについて、以下の項目の評価を行った。

【００８９】（イ）鏡面反射率 分光光度計Ｖ−５５０（日本分光（株）製）にアダプタ
ーＡＲＶ−４７４を装着して、３８０〜７８０ｎｍの波
長領域において、入射角５°における出射角−５度の鏡
面反射率を測定し、４５０〜６５０ｎｍの平均反射率を
算出し、反射防止性を評価した。

【００９０】（ロ）ヘイズ 得られたフィルムのヘイズをヘイズメーターＭＯＤＥＬ
１００１ＤＰ（日本電色工業（株）製）を用いて測定
した。

【００９１】（ハ）鉛筆硬度評価 耐傷性の指標としてＪＩＳ−Ｋ−５４００に記載の鉛筆
硬度評価を行った。反射防止フィルムを温度２５℃、湿
度６０％ＲＨで２時間調湿した後、ＪＩＳ−Ｓ−６００
６に規定する３Ｈの試験用鉛筆を用いて１ｋｇの荷重で
評価した。５回のテストのうち３回以上傷がつかない場
合を持って鉛筆硬度とした。

【００９２】（ニ）耐擦傷性評価：スチールウール擦り ＃００００のスチールウールを用い、１０円玉の面積に
４００ｇの荷重をかけ、十往復した時の傷の程度で評価
した。 ○：傷が全く付かない。 △：少し傷がつくが、見えにくい。 ×：かなり傷がつく。

【００９３】（ホ）防眩性評価 作製した反射防止フィルムに、ルーバーなしのむき出し
蛍光灯（８０００ｃｄ／ｍ² ）を映し、その反射像のボ
ケの程度を以下の４段階で評価した。 Ａ：蛍光灯の輪郭が全くわからない Ｂ：蛍光灯の輪郭がわずかにわかる Ｃ：蛍光灯はぼけているが、輪郭は識別できる Ｄ：蛍光灯がほとんどぼけない

【００９４】（ヘ）接触角評価 表面の耐汚染性の指標として、光学材料を温度２５℃、
湿度６０％ＲＨで２時間調湿した後、水に対する接触角
を測定した。

【００９５】（ト）動摩擦係数測定 表面滑り性の指標として動摩擦係数にて評価した。動摩
擦係数は試料を２５℃、相対湿度６０％で２時間調湿し
た後、ＨＥＩＤＯＮ−１４動摩擦測定機により５ｍｍφ
ステンレス鋼球、荷重１００ｇ、速度６０ｃｍ／ｍｉｎ
にて測定した値を用いた。

【００９６】以上の結果を第１表に示す。実施例１〜１
１はいずれも耐擦傷性に優れ、他の性能も良好であっ
た。比較例１および２は密着層がないため耐擦傷性が不
足していた。

【００９７】 第１表 ──────────────────────────────────── 反射防止フイルム 反射率 ヘイズ 鉛筆硬度 耐擦傷性 防眩性 ──────────────────────────────────── 実施例１ ２．６％ ０．２％ ３Ｈ未満 ○ Ｄ 実施例２ １．０％ １２％ ３Ｈ未満 ○ Ａ 実施例３ １．０％ １２％ ３Ｈ ○ Ａ 実施例４ １．６％ ０．２％ ３Ｈ ○ Ｄ 実施例５ １．０％ ０．２％ ３Ｈ ○ Ｄ 実施例６ ０．４％ ０．２％ ３Ｈ ○ Ｄ 実施例７ １．１％ １２％ ３Ｈ未満 ○ Ａ 実施例８ １．１％ １２％ ３Ｈ ○ Ａ 実施例９ １．７％ ０．２％ ３Ｈ ○ Ｄ 実施例１０ １．０％ ０．２％ ３Ｈ ○ Ｄ 実施例１１ ０．４％ ０．２％ ３Ｈ ○ Ｄ 比較例１ ２．６％ ０．２％ ３Ｈ未満 × Ｄ 比較例２ １．０％ １２％ ３Ｈ未満 × Ａ ────────────────────────────────────

【００９８】［実施例１２］実施例３で作製した反射防
止フィルムを鹸化処理した。鹸化処理した反射防止フィ
ルムと、トリアセチルセルロース支持体とを、ヨウ素を
吸着させた延伸ＰＶＡの両側にＰＶＡ系粘着材を介して
貼り合わせ、偏光板を作製した。この偏光板を用いて反
射防止層を最表層に配置した液晶表示装置を作製したと
ころ、外光の映り込みが少なく、視認性が優れていた。

【００９９】［実施例１３］実施例１１で作製した反射
防止フィルムを鹸化処理した。鹸化処理した反射防止フ
ィルムと、トリアセチルセルロース支持体とを、ヨウ素
を吸着させた延伸ＰＶＡの両側にＰＶＡ系粘着材を介し
て貼り合わせ、偏光板を作製した。この偏光板を用いて
反射防止層を最表層に配置した液晶表示装置を作製した
ところ、外光の映り込みが少なく、視認性が優れてい
た。

【０１００】［実施例１４］実施例１〜１１で作製した
反射防止フィルムにおいて、トリアセチルセルロース支
持体を５０μｍのトリアセチルセルロースフィルムに置
き換えた以外は同様にして反射防止フィルムを作製した
ところ、実施例１〜１１の反射防止フィルムと同等の反
射率、ヘイズ、耐擦傷性、防眩性であった。また、同様
に公開技報2001-1745号実施例１のセルローストリアセ
テートフィルム試料１０１に置き換えた以外は同様にし
て反射防止フィルムを作製したところ、実施例１〜１１
の反射防止フィルムと同等の反射率、ヘイズ、耐擦傷
性、耐擦傷性、防眩性であった。

【図面の簡単な説明】

【図１】反射防止フィルムの構成を示す断面模式図であ
る。

【図２】防眩性を有する反射防止フィルムの構成を示す
断面模式図である。

【図３】防眩性を有する反射防止フィルムの別の構成を
示す断面模式図である。

【図４】反射防止フィルムの別の構成を示す断面模式図
である。

【図５】反射防止フィルムの別の構成を示す断面模式図
である。

【図６】反射防止フィルムの別の構成を示す断面模式図
である。

【図７】防眩性を有する反射防止フィルムの別の構成を
示す断面模式図である。

【図８】防眩性を有する反射防止フィルムの別の構成を
示す断面模式図である。

【図９】反射防止フィルムの別の構成を示す断面模式図
である。

【図１０】反射防止フィルムの別の構成を示す断面模式
図である。

【図１１】反射防止フィルムの別の構成を示す断面模式
図である。

【符号の説明】

０ 本発明の密着層 １ トリアセチルセルロースからなる支持体 ２ 低屈折率層 ３ 防眩層 ４ ハードコート層 ５ 高屈折率層 ６ 中屈折率層 ３０ 本発明の防眩層兼密着層 ４０ 本発明のハードコート層兼密着層 ５０ 本発明の高屈折率層兼密着層

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁷ 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考） Ｈ０４Ｎ 5/72 Ｇ０２Ｂ 1/10 Ｚ Ｆターム(参考） 2H049 BA02 BB65 BC22 2K009 AA02 AA12 AA15 BB28 CC03 CC09 CC47 DD02 4F100 AA01C AJ06B AK17B AS00C AT00A BA03 BA04 BA07 BA26 DE01C EH46 EJ86 GB41 JB13B JB14B JK12D JK14 JK14C JL11C JN01A JN06 JN18B YY00C 4J026 AC00 BA05 BA06 BA07 BA28 BA32 BA50 DB05 DB06 DB36 FA05 GA08 5C058 AA01 AA06 AA11 BA08 DA01 DA02 DA03

Claims (13)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 透明支持体上に、透明支持体よりも低い
   屈折率を有する低屈折率層、および、低屈折率層と隣接
   する下層に密着層を有し、密着層の表面が０．００１〜
   ０．０３０μｍの中心線平均粗さ（Ra）を有することを
   特徴とする反射防止フィルム。
2. 【請求項２】 密着層表面の中心線平均粗さ（Ra）が
   ０．００５〜０．０２０μｍであることを特徴とする請
   求項１記載の反射防止フィルム。
3. 【請求項３】 密着層が平均粒径が０．００１〜０．２
   μｍの無機微粒子と有機バインダーから成り、密着層中
   に粒子間空隙が形成されていることを特徴とする請求項
   １、２記載の反射防止フィルム。
4. 【請求項４】 透明支持体上に、透明支持体よりも低い
   屈折率を有する低屈折率層、および、低屈折率層と隣接
   する下層に密着層を有し、密着層が平均粒径が０．００
   １〜０．２μｍの無機微粒子と有機バインダーから成
   り、密着層中に粒子間空隙が形成されていることを特徴
   とする反射防止フィルム。
5. 【請求項５】 無機微粒子の表面が重合性官能基を有
   し、かつ有機バインダーが無機微粒子表面の重合性官能
   基と共重合可能な重合性モノマーであることを特徴とす
   る請求項３または請求項４記載の反射防止フィルム。
6. 【請求項６】 密着層が透明支持体よりも高い屈折率を
   有する密着層兼高屈折率層であり、更に密着層兼高屈折
   率層と透明支持体の間に１μｍ以上の厚さを有するハー
   ドコート層が設けられている請求項１〜５いずれか１項
   記載の反射防止フィルム。
7. 【請求項７】 密着層とハードコート層の間に、屈折率
   が低屈折率層より高く、かつ密着層兼高屈折率層よりは
   低い中屈折率層が設けられている請求項６記載の反射防
   止フィルム。
8. 【請求項８】 ハードコート層の屈折率が１．５７〜
   ２．００であり、かつハードコート層中に平均粒径０．
   ３〜２０μｍのマット剤粒子を有し、防眩性を有するこ
   とを特徴とする請求項６または請求項７記載の反射防止
   フィルム。
9. 【請求項９】 密着層が、１μｍ以上の厚さを有し、屈
   折率が１．５７〜２．００であり、かつ密着層中に平均
   粒径０．３〜２０μｍのマット剤粒子を有し、防眩性を
   有することを特徴とする請求項１〜６いずれか１項記載
   の反射防止フィルム。
10. 【請求項１０】 低屈折率層が熱または電離放射線によ
    り架橋する含フッ素化合物から成り、屈折率が１．３５
    〜１．４９であり、動摩擦係数が０．０３〜０．１５で
    あり、水に対する接触角が９０〜１２０℃であることを
    特徴とする請求項１〜９いずれか１項記載の反射防止フ
    ィルム。
11. 【請求項１１】 透明支持体が、トリアセチルセルロー
    スから成ることを特徴とする請求項１〜１０いずれか１
    項記載の反射防止フィルム。
12. 【請求項１２】 請求項１〜１１のいずれか１項に記載
    の反射防止フィルムを少なくとも片面に有することを特
    徴とする偏光板。
13. 【請求項１３】 請求項１〜１１のいずれか１項に記載
    の反射防止フィルムまたは請求項１２に記載の偏光板を
    低屈折率層がディスプレイの最表層になるように用いた
    ことを特徴とする画像表示装置。