JP2002365245A - 波長分散型蛍光x線分析装置 - Google Patents
波長分散型蛍光x線分析装置Info
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Abstract
素子に含まれる元素から発生する蛍光X線が検出器に入
射しても、分析対象の元素について微量から高濃度まで
正確に分析できる装置を提供する。 【解決手段】 分光素子6に含まれる元素から発生する
蛍光X線16の波高範囲が、分析対象の蛍光X線7の波
高範囲に重なる場合に、分析対象の蛍光X線7の強度に
応じて、波高分析器13が選別する所定の波高範囲を変
更する波高分析範囲変更手段15を備える。
Description
型の蛍光X線分析装置に関するものである。
ては、試料に1次X線を照射し、試料から発生する蛍光
X線を分光素子で分光し、分光された蛍光X線を検出器
で検出してパルスを発生させる。このパルスの電圧すな
わち波高は蛍光X線のエネルギーに応じたものであり、
パルスの単位時間あたりの数は蛍光X線の強度に応じた
ものである。そこで、パルスのうち所定の波高範囲のも
のを波高分析器で選別して、その計数率(単位時間あた
りのパルス数)をスケーラ等の計数手段で求めている。
れて、分光素子に含まれる元素からわずかながら蛍光X
線が発生し、分光素子で分光された分析対象の蛍光X線
とともに、検出器に入射することがある。ここで、分光
素子から発生する蛍光X線の波高範囲が、分析対象の蛍
光X線の波高範囲に重なり、しかも、分析対象の蛍光X
線の強度が微弱であると、分光素子から発生する蛍光X
線が妨害線として問題となる。そこで、このような場合
には、前記波高分析器における所定の波高範囲を変更し
て、分光素子から発生する蛍光X線の波高範囲を含まな
いように狭くすることが考えられる。
設定したままであると、分光素子から発生する蛍光X線
を無視できるほど分析対象の蛍光X線の強度が十分大き
い場合に、いわゆる数え落としが発生し、真の強度に対
し測定強度が飽和してしまい、正しく分析ができない。
もので、波長分散型蛍光X線分析装置において、分光素
子に含まれる元素から発生する蛍光X線が検出器に入射
しても、分析対象の元素について微量から高濃度まで正
確に分析できる装置を提供することを目的とする。
に、本願発明の波長分散型蛍光X線分析装置は、まず、
試料に1次X線を照射するX線源と、試料から発生した
蛍光X線を分光する分光素子と、その分光素子で分光さ
れた蛍光X線が入射されて、蛍光X線のエネルギーに応
じた波高のパルスを強度に応じた数だけ発生させる検出
器と、その検出器で発生したパルスのうち所定の波高範
囲のものを選別する波高分析器と、その波高分析器で選
別されたパルスの計数率を求める計数手段とを備えてい
る。そして、さらに、前記分光素子に含まれる元素から
発生する蛍光X線の波高範囲が、分析対象の蛍光X線の
波高範囲に重なる場合に、分析対象の蛍光X線の強度に
応じて、前記波高分析器における所定の波高範囲を変更
する波高分析範囲変更手段を備えている。
する蛍光X線の波高範囲が分析対象の蛍光X線の波高範
囲に重なる場合に、波高分析範囲変更手段が、分析対象
の蛍光X線の強度に応じて、波高分析器における所定の
波高範囲を適切に変更するので、分光素子に含まれる元
素から発生する蛍光X線が検出器に入射しても、分析対
象の元素について微量から高濃度まで正確に分析でき
る。
について、その構成から説明する。この装置は、図1に
示すように、まず、試料1が載置される試料台2と、試
料1に1次X線3を照射するX線管等のX線源4と、試
料1から発生した蛍光X線5を分光する分光素子6と、
分光素子6で分光された蛍光X線7が入射されて、蛍光
X線7のエネルギーに応じた波高(電圧)のパルスを強
度に応じた数だけ発生させる検出器8と、検出器8で発
生したパルスのうち所定の波高範囲のものを選別する波
高分析器13と、波高分析器13で選別されたパルスの
計数率を求める計数手段14とを備えている。分光素子
は、複数を交換(選択)して使用してもよい。
波長が変化するように、分光素子6と検出器8を連動さ
せる連動手段10、すなわちいわゆるゴニオメータを備
えている。蛍光X線5がある入射角θで分光素子6へ入
射すると、その蛍光X線5の延長線9と分光素子6で分
光(回折)された蛍光X線7は入射角(回折角)θの2
倍の分光角2θをなすが、連動手段10は、分光角2θ
を変化させて分光される蛍光X線7の波長を変化させつ
つ、その分光された蛍光X線7が検出器8に入射し続け
るように、分光素子6を、その表面の中心を通る紙面に
垂直な軸Oを中心に回転させ、その回転角の2倍だけ、
検出器8を、軸Oを中心に円12に沿って回転させる。
以上のように、この装置は、波長分散型であって走査型
の蛍光X線分析装置である。
子6に含まれる元素から発生する蛍光X線16の波高範
囲が、分析対象の蛍光X線7の波高範囲に重なる場合
に、分析対象の蛍光X線7の強度に応じて、前記波高分
析器13における所定の波高範囲を変更する波高分析範
囲変更手段15を備えている。波高分析範囲変更手段1
5、波高分析器13および計数手段14は、分析手段1
1を構成する。
この装置では、定性分析の測定値を定量分析に用いる、
いわゆる半定量分析を行う。まず、未知試料1に対し
て、波高分析器13における所定の波高範囲、いわゆる
窓を狭く設定し、分光素子6と検出器8を連動手段10
で連続的に連動させることにより、予備測定を行う。そ
の結果、検出器8で発生したパルスの波高に対する計数
率、すなわち微分曲線が得られるが、これによれば、分
光素子6から発生する蛍光X線16の波高範囲が重な
り、しかも、例えばピーク強度が所定値130kcps
以下である分析対象の蛍光X線7を発見できるので、そ
れを波高分析範囲変更手段15が記憶する。例えば、微
量のリンを分析するために分光素子6にゲルマニウム結
晶を用い、分析対象のP−Kα線7にGe−Lα線16
が重なる場合や、微量の硫黄を分析するためにゲルマニ
ウム結晶を用いる場合、微量のふっ素を分析するために
TAPを用いる場合等が該当する。
憶した分析対象の蛍光X線7については、波高分析器1
3における所定の波高範囲を例えば150〜300に変
更し、それ以外の分析対象の蛍光X線7については、波
高分析器13における所定の波高範囲を通常の例えば1
00〜300のままで、半定量分析を行う。
分光素子6から発生するGe−Lα線16の波高範囲
が、分析対象のP−Kα線7の波高範囲に重なり、しか
も、P−Kα線7の強度が微弱でGe−Lα線16が無
視できない場合には、波高分析範囲変更手段15によ
り、波高分析器13における所定の波高範囲が150〜
300に変更されるので、Ge−Lα線16の波高範囲
を含まなくなる。一方、分光素子6から発生する蛍光X
線16を無視できるほど分析対象の蛍光X線7の強度が
十分大きい場合には、波高分析器13における所定の波
高範囲が通常の100〜300のままであるので、前述
した数え落としは発生せず、真の強度に対し測定強度が
飽和するようなことがない。したがって、分光素子6に
含まれる元素から発生する蛍光X線16が検出器8に入
射しても、分析対象の元素について微量から高濃度まで
正確に分析できる。
れば、分光素子から発生する蛍光X線の波高範囲が分析
対象の蛍光X線の波高範囲に重なる場合に、波高分析範
囲変更手段が、分析対象の蛍光X線の強度に応じて、波
高分析器における所定の波高範囲を適切に変更するの
で、分光素子に含まれる元素から発生する蛍光X線が検
出器に入射しても、分析対象の元素について微量から高
濃度まで正確に分析できる。
装置を示す概略図である。
容の一例を示す図である。
生した蛍光X線、6…分光素子、7…分光素子で分光さ
れた蛍光X線、8…検出器、13…波高分析器、14…
計数手段、15…波高分析範囲変更手段。
Claims (1)
- 【請求項1】 試料に1次X線を照射するX線源と、 試料から発生した蛍光X線を分光する分光素子と、 その分光素子で分光された蛍光X線が入射されて、蛍光
X線のエネルギーに応じた波高のパルスを強度に応じた
数だけ発生させる検出器と、 その検出器で発生したパルスのうち所定の波高範囲のも
のを選別する波高分析器と、 その波高分析器で選別されたパルスの計数率を求める計
数手段と、 前記分光素子に含まれる元素から発生する蛍光X線の波
高範囲が、分析対象の蛍光X線の波高範囲に重なる場合
に、分析対象の蛍光X線の強度に応じて、前記波高分析
器における所定の波高範囲を変更する波高分析範囲変更
手段とを備えた波長分散型蛍光X線分析装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001169003A JP2002365245A (ja) | 2001-06-05 | 2001-06-05 | 波長分散型蛍光x線分析装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001169003A JP2002365245A (ja) | 2001-06-05 | 2001-06-05 | 波長分散型蛍光x線分析装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2002365245A true JP2002365245A (ja) | 2002-12-18 |
Family
ID=19011131
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2001169003A Pending JP2002365245A (ja) | 2001-06-05 | 2001-06-05 | 波長分散型蛍光x線分析装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2002365245A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2008058159A (ja) * | 2006-08-31 | 2008-03-13 | Shimadzu Corp | 表面分析装置 |
| EP1978354A1 (en) * | 2007-04-05 | 2008-10-08 | Panalytical B.V. | Wavelength dispersive X-ray Fluorescence Apparatus with energy dispersive detector in the form of a silicon drift detector to improve background supression |
| EP3835769A4 (en) * | 2018-08-09 | 2021-09-22 | Rigaku Corporation | X-RAY FLUORESCENCE SPECTROMETERS |
-
2001
- 2001-06-05 JP JP2001169003A patent/JP2002365245A/ja active Pending
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2008058159A (ja) * | 2006-08-31 | 2008-03-13 | Shimadzu Corp | 表面分析装置 |
| EP1978354A1 (en) * | 2007-04-05 | 2008-10-08 | Panalytical B.V. | Wavelength dispersive X-ray Fluorescence Apparatus with energy dispersive detector in the form of a silicon drift detector to improve background supression |
| JP2008256698A (ja) * | 2007-04-05 | 2008-10-23 | Panalytical Bv | 蛍光x線分析装置 |
| US7720192B2 (en) | 2007-04-05 | 2010-05-18 | Panalytical B.V. | X-ray fluorescence apparatus |
| EP3835769A4 (en) * | 2018-08-09 | 2021-09-22 | Rigaku Corporation | X-RAY FLUORESCENCE SPECTROMETERS |
| US11156569B2 (en) | 2018-08-09 | 2021-10-26 | Rigaku Corporation | X-ray fluorescence spectrometer |
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