JP2002343564A

JP2002343564A - 転写用フィルムおよびそれを用いた有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法

Info

Publication number: JP2002343564A
Application number: JP2001148587A
Authority: JP
Inventors: Takashi Ogura; 隆小倉; Shinji Yamana; 真司山名; Tomonori Akai; 伴教赤井
Original assignee: Sharp Corp
Current assignee: Sharp Corp
Priority date: 2001-05-18
Filing date: 2001-05-18
Publication date: 2002-11-29
Also published as: US20020172813A1; US6805979B2

Abstract

(57)【要約】【課題】本発明は、転写用フィルムおよびそれを用い
た有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法に関す
る課題を解決し、転写を良好に行うことが可能な転写用
フィルムの提供と、それを用いた有機エレクトロルミネ
ッセンス素子の製造方法を提供することを目的とする。【解決手段】ベースフィルム２ａと転写層１との間に
少なくとも転写層１に接して形成され転写層１よりも融
点が低い転写補助層５を有し、転写補助層５及び転写層
１の少なくとも一部が加熱Ａにより他の基板４上に転写
形成されることを特徴とする転写用フィルム２。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、転写用フィルムお
よびそれを用いた有機エレクトロルミネッセンス素子の
製造方法に関する。

【０００２】

【従来の技術】近年、ブラウン管（ＣＲＴ）よりも薄
型，低消費電力，軽量の表示装置としてフラットパネル
ディスプレイへのニーズが高まっている。

【０００３】この、フラットパネルディスプレイとして
は、非発光型の液晶ディスプレイ（ＬＣＤ），自発光型
のプラズマディスプレイ（ＰＤＰ），エレクトロルミネ
ッセンス（ＥＬ）ディスプレイ等が知られている。

【０００４】その中でもＥＬディスプレイは、その発光
機構およびその構成材料の違いから、無機ＥＬディスプ
レイと有機ＥＬディスプレイの２つに分けられる。特
に、有機ＥＬディスプレイは、自発光であること、低消
費電力化が図れること、発光色が多様であること等の特
徴を有するため、非常に注目を集めている。

【０００５】有機ＥＬディスプレイに用いられる有機エ
レクトロルミネッセンス素子は少なくとも一方が透光性
である一対の電極間に有機物による発光層と必要に応じ
てホ−ル注入輸送層、電子注入輸送層等を挟んだ構造を
有し、低電圧駆動、高輝度の発光が可能であることから
盛んに研究が行われている。

【０００６】上記のような、有機ＥＬディスプレイに用
いられる有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法
において、特にマトリクスディスプレイやカラーディス
プレイ等を製造する場合には、発光層や陰極を特定のパ
ターンに形成することが必要となる。しかしながら、有
機エレクトロルミネッセンス素子を構成する有機材料は
有機溶剤や水，酸素等により侵食や特性の低下等のダメ
ージを受けやすいため、一旦有機材料を層形成した後は
一般的なフォトリソグラフィー法によりパターンを形成
することが困難である。

【０００７】このため、発光色の異なる発光層や陰極を
パターン形成する方法としては、マスク蒸着によりパタ
ーン形成するマスク蒸着法や、基板上にあらかじめ隔壁
を形成しておいて蒸着によりパターン形成する方法、イ
ンクジェット方式を用いてパターン形成するインクジェ
ット法等が、例えば特開平１１−１３５２５７号公報，
特開平８−３１５９８１号公報，特開平８−２２７２７
６号公報，特開平５−２７５１７２号公報等に開示され
ている。しかしながら蒸着によりパターンを形成する方
法では、パターンの高精細化が難しかったり、蒸着時の
回り込みを考慮したマスクの位置合わせが困難である、
また工程が複雑になる等の理由により、生産上必ずしも
十分なものとは言えなかった。更に、マスク蒸着法では
大型基板への蒸着が困難であるという問題があり、イン
クジェット法でも大型基板を用いると時間がかかるため
生産性が落ちる等の問題があった。

【０００８】一方、上記パターン形成に代わる方法とし
て、例えば特開平９−１６７６８４号公報，特開平１０
−２０８８８１号公報，特開平１１−２３７５０４号公
報，特開平１１−２６０５４９号公報，特開２０００−
１２２１６号公報，特開２０００−７７１８２号公報に
開示されているようなレーザ照射による光や局所化され
た加熱要素による熱の供給を利用した転写法を用いたパ
ターン形成方法が知られている。これらの転写法を用い
たパターン形成方法は、大型基板を用いる事が可能であ
り、作製時間を大幅に短縮することが可能なパターン化
方法として注目されている。

【０００９】従来のレーザ照射による転写法を用いたパ
ターン形成方法を説明した断面図を図４に示す。

【００１０】図４は、従来の転写用フィルムおよびそれ
を用いた有機エレクトロルミネッセンス素子の製造工程
の一部を表しており、フィルム４１上に光−熱変換層４
２および熱伝播層４３を形成し、次に陰極層４４を形成
し、次に発光層４５ｂを重ねて形成し、次に正孔注入性
接着層４５ｃを重ねて形成した後、フィルム４１の成膜
面側をストライプパターニングしたＩＴＯ陽極４８付き
基板４７上に貼り付け、その後フィルム４１の裏面側か
ら１３ＷのＹＡＧレーザー５１を陰極形状を形成するよ
うに選択的に照射することにより多重に形成した層４６
を基板４７上に転写する。その後、フィルム４１を取り
除き、多重に形成した層４６を転写した基板４７に駆動
手段を接続し、封止処理を施して有機ＥＬディスプレイ
を得る。

【００１１】このレーザ照射による転写法を用いたパタ
ーン形成方法は、乾式であるため有機エレクトロルミネ
ッセンス素子を構成する有機材料に有機溶剤や水等でダ
メージを与えることなく、且つ高精細なパターンを形成
することが可能になる。

【００１２】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記従
来の技術では、以下のような問題点があった。

【００１３】従来の転写法を用いたパターン形成方法
は、多重に形成した層の転写を行う場合、各層の融点の
違いや積層順序により良好な転写が行えない場合があっ
た。また良好な転写が行える場合でも、転写時の温度上
昇が大きいと転写層が熱によるダメージを受け劣化する
という問題点があった。

【００１４】本発明は、上記のような課題を解決するた
めになされたものであって、転写用フィルムおよびそれ
を用いた有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法
に関する上記課題を解決し、転写を良好に行うことが可
能な転写用フィルムの提供と、それを用いた有機エレク
トロルミネッセンス素子の製造方法を提供することを目
的とする。

【００１５】

【課題を解決するための手段】本発明の転写用フィルム
は、ベースフィルム上に転写層を有する転写用フィルム
において、ベースフィルムと転写層との間に少なくとも
転写層に接して形成され転写層よりも融点またはガラス
転移温度が低い転写補助層を有し、転写補助層及び転写
層の少なくとも一部が加熱により他の基板上に転写形成
されることを特徴とする。本発明により、転写補助層が
無い場合に比べて低い温度で転写を行うことができるの
で、転写層へ熱によるダメージを与えない温度での転写
が可能となる。

【００１６】また本発明の転写用フィルムは、転写層に
は少なくとも有機発光材料を含有するエレクトロルミネ
ッセンス層が含まれていることを特徴とする。本発明に
より、通常熱による影響を受け易い有機エレクトロルミ
ネッセンス材料を転写層に用いた場合でも、熱によるダ
メージを受けない有機エレクトロルミネッセンス層の転
写が可能となる。

【００１７】また本発明の転写用フィルムは、転写層に
は金属電極層が含まれていることを特徴とする。本発明
により、金属電極層も同時に転写することができるの
で、金属電極層を含む複数の層を一度に転写することが
可能になる。

【００１８】また本発明の転写用フィルムは、金属電極
層は光を透過する金属薄膜層であることを特徴とする。
本発明により、基板とは反対側からも光を取り出す、い
わゆる逆取りだし構造の有機エレクトロルミネッセンス
素子の作成が可能になる。

【００１９】また本発明の転写用フィルムは、転写層に
は透明導電膜層が含まれていることを特徴とする。本発
明により、基板とは反対側から光を取り出す、いわゆる
逆積層構造の有機エレクトロルミネッセンス素子の作成
が可能になる。

【００２０】また本発明の転写用フィルムは、転写補助
層および転写層は不活性ガス中または真空中で連続して
形成されることを特徴とする。本発明により、転写用フ
ィルムの作製中に大気さらされることがないので、各層
の界面での劣化を押さえることが可能になる。

【００２１】また本発明の有機エレクトロルミネッセン
ス素子の製造方法は、上記に記載した機能を有する転写
用フィルムを用いることを特徴とする。本発明により、
熱によるダメージを与えない温度で種々の形態での有機
層の転写ができるので、様々な利用形態に応じた有機エ
レクトロルミネッセンス素子の製造が可能になる。

【００２２】また本発明の有機エレクトロルミネッセン
ス素子の製造方法は、転写法は転写補助層への加熱を部
分的に行うことによりパターニングされた発光部を形成
することを特徴とする。本発明により、全面が発光する
だけではなく任意のパターンでの発光ができるので、マ
トリクス駆動が可能な有機エレクトロルミネッセンス素
子の製造が可能になる。

【００２３】また本発明の有機エレクトロルミネッセン
ス素子の製造方法は、パターニングされた発光部は複数
の発光色を有することを特徴とする。本発明により、容
易に高性能なマルチカラー表示、フルカラー表示の有機
エレクトロルミネッセンス素子の製造が可能になる。

【００２４】また本発明の有機エレクトロルミネッセン
ス素子の製造方法は、光―熱変換層を有する転写用フィ
ルムを用い、光照射により転写補助層への加熱を部分的
に行うことを特徴とする。本発明により、例えばフォト
マスク等を用いることにより、大面積基板への一括転写
が可能になる。

【００２５】また本発明の有機エレクトロルミネッセン
ス素子の製造方法は、光照射に用いる光源がレーザ光で
あることを特徴とする。本発明により、レーザ光はその
スポットを小さく絞り込むことができるので、より高精
細なパターニングが可能になる。

【００２６】

【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態の転写
用フィルムおよびそれを用いた有機エレクトロルミネッ
センス素子の製造方法について詳しく説明する。

【００２７】転写用フィルムは、ベースフィルム上に転
写法により転写される転写層が形成されたものであり、
ベースフィルムと転写層との間に、少なくとも転写層に
接して転写補助層が形成されている。

【００２８】ベースフィルムとしては、透明でフレキシ
ブルな材料が好ましく、レーザ照射による転写を行う場
合は転写に用いるレーザ光の透過率が高い材料が特に好
ましい。また、フレキシブル性の高い材料であれば、凹
凸のある基板に転写用フィルムを隙間なく張り付けるこ
とができる。このような材料としては、例えばポリエチ
レンテレフタレート（ＰＥＴ），ポリカーボネート（Ｐ
Ｃ），ポリメチルメタクリレート（ＰＭＭＡ），ポリエ
ステル，ポリアクリル，ポリエポキシ，ポリエチレン，
ポリスチレン，ポリエーテルスルフォン等の高分子材料
があげられるがこれらに限定されるものではないが、ポ
リエチレンテレフタレート、ポリカーボネートが最も好
ましい。また、膜厚としては、１０〜６００μｍが好ま
しく、更に、５０〜２００μｍが好ましい。

【００２９】転写補助層は、転写層よりも融点が低い材
料により形成され、加熱により溶融して転写層を基板上
に転写する働きを有する。このような材料としは、ジフ
ェニルアミン，トリフェニレン，パラターフェニル等の
芳香族系化合物、ステアリン酸，ベヘン酸等の飽和脂肪
酸系化合物や高分子系材料等が挙げられる。転写層より
融点またはガラス転移温度が低くいものであればこれら
に限定されるものではなく公知の材料が使用できるが、
ステアリン酸が最も好ましい。

【００３０】転写補助層を用いて転写を行った場合、転
写補助層の一部あるいは全てが転写層と共に転写される
場合もあり、このような場合には、転写補助層には導電
性を持つ材料を用いることが好ましいが、絶縁性材料を
用いなければならない場合は、出来るだけ層厚が薄い方
が有機エレクトロルミネッセンス素子の駆動電圧上昇を
避けることができるため好ましい。

【００３１】転写層は、実際に転写工程により転写され
る層であり、本発明の方法で用いられる転写層を構成す
る層構造としては、例えば通常の有機エレクトロルミネ
ッセンス素子を構成する有機層のみの構造でも、電極層
と有機層を組合せた構造で良く、例えば下記の構成が挙
げられるが本発明はこれらに限定されるものではない。（１）有機層（２）第１電極／有機層（３）有機層／第２電極（４）第１電極／有機層／第２電極なお、転写層の構成としては、ベースフィルムに対して
順逆はどちらでも良い。

【００３２】上記有機層は、単層構造でも多層構造でも
良く、例えば下記の構成が挙げられるが本発明はこれら
に限定されるものではない。（１）有機発光層（２）正孔輸送層（３）電子輸送層（４）正孔注入層（５）正孔輸送層／有機発光層（６）正孔注入層／正孔輸送層（７）有機発光層／電子輸送層（８）正孔輸送層／有機発光層／電子輸送層（９）正孔注入層／正孔輸送層／有機発光層／電子輸送
層（１０）正孔注入層／正孔輸送層／有機発光層／ブロキ
ング層／電子輸送層上記有機発光層は、１層であっても良いし、多層構造で
あっても良い。

【００３３】有機発光層は、公知の方法で成膜すること
が可能であり、例えば有機発光材料を直接真空蒸着法，
ＥＢ法，ＭＢＥ法，スパッタ法等のドライプロセスで成
膜することが可能である。また、例えば有機発光層形成
用塗液を用いて、スピンコート法，ディップコート法，
ドクターブレード法，吐出コート法，スプレーコート
法，インクジェット法，凸版印刷法，凹版印刷法，スク
リーン印刷法，マイクログラビアコート法等のウエット
プロセスで成膜することも可能である。

【００３４】上記有機発光層形成用塗液は、少なくとも
発光材料を含有した溶液であり、１種類もしくは多種類
の発光材料を含有していても良い。また、結着用樹脂が
含有していても良い。また、その他に，レベリング剤，
発光アシスト剤，電荷輸送材料，添加剤（ドナー，アク
セプター等），または発光性のドーパント等が含有され
ていても良い。

【００３５】発光材料としては、有機エレクトロルミネ
ッセンス素子用の公知の発光材料を用いることができ
る。このような発光材料は、低分子発光材料，高分子発
光材料および高分子発光材料の前駆体等に分類される。
以下にこれらの具体的な化合物を例示するが、この発明
はこれらにより限定されるものではない。

【００３６】低分子発光材料としては、例えば４，４’
−ビス（２，２’−ジフェニルビニル）−ビフェニル
（ＤＰＶＢｉ）等の芳香族ジメチリデェン化合物、５−
メチル−２−［２−［４−（５−メチル−２−ベンゾオ
キサゾリル）フェニル］ビニル］ベンゾオキサゾール等
のオキサジアゾール化合物、３−（４−ビフェニルイ
ル）−４−フェニル−５−ｔ−ブチルフェニル−１，
２，４−トリアゾール（ＴＡＺ）等のトリアゾ−ル誘導
体、１，４−ビス（２−メチルスチリル）ベンゼン等の
スチリルベンゼン化合物、チオピラジンジオキシド誘導
体、ベンゾキノン誘導体、ナフトキノン誘導体、アント
ラキノン誘導体、ジフェノキノン誘導体、フルオレノン
誘導体等の蛍光性有機材料、アゾメチン亜鉛錯体、（８
−ヒドロキシキノリナト）アルミニウム錯体（Ａｌ
ｑ₃）等の蛍光性有機金属化合物等が挙げられる。

【００３７】一方、高分子発光材料としては、例えばポ
リ（２−デシルオキシ−１，４−フェニレン）ＤＯ−Ｐ
ＰＰ、ポリ［２，５−ビス−［２−（Ｎ，Ｎ，Ｎ−トリ
エチルアンモニウム）エトキシ］−１，４−フェニル−
アルト−１，４−フェニルレン］ジブロマイド（ＰＰＰ
−ＮＥｔ³⁺）、ポリ［２−（２’−エチルヘキシルオキ
シ）−５−メトキシ−１，４−フェニレンビニレン］
（ＭＥＨ−ＰＰＶ）、ポリ［５−メトキシ−（２−プロ
パノキシサルフォニド）−１，４−フェニレンビニレ
ン］（ＭＰＳ−ＰＰＶ）、ポリ［２，５−ビス−（ヘキ
シルオキシ）−１，４−フェニレン−（１−シアノビニ
レン）］（ＣＮ−ＰＰＶ）、（ポリ（９，９−ジオクチ
ルフルオレン））（ＰＤＡＦ）等が挙げられる。

【００３８】また、高分子発光材料の前駆体としては、
例えばポリ（ｐ−フェニレンビニレン）前駆体（Ｐｒｅ
−ＰＰＶ）、ポリ（ｐ−ナフタレンビニレン）前駆体
（Ｐｒｅ−ＰＮＶ）、ポリ−（ｐ−フェニレン）前駆体
（Ｐｒｅ−ＰＰＰ）等が挙げられる。

【００３９】また、結着用樹脂としては、例えば、ポリ
カーボネート、ポリエステル等が挙げられるが本発明は
特にこれらに限定されるわけでは無い。

【００４０】また、溶剤としては、上記発光材料を溶解
または分散できる溶剤であれば良く、例えば、純水，メ
タノール，エタノール，ＴＨＦ（テトラヒドロフラ
ン），クロロホルム，トルエン，キシレン，トリメチル
ベンゼン等が挙げられる。

【００４１】正孔輸送層および電子輸送層は、それぞれ
単層構造でも多層構造でも良い。以下の説明において
は、正孔と電子を合わせて「電荷」とも言う。

【００４２】電荷輸送層は、公知の方法で成膜すること
が可能であり、例えば電荷輸送材料を直接、真空蒸着
法，ＥＢ法，ＭＢＥ法，スパッタ法等のドライプロセス
で成膜することが可能である。また、例えば電荷輸送層
形成用塗液を用いて、スピンコート法，ディップコート
法，ドクターブレード法，吐出コート法，スプレーコー
ト法，インクジェット法，凸版印刷法，凹版印刷法，ス
クリーン印刷法，マイクログラビアコート法等のウエッ
トプロセスで成膜することが可能である。また、電荷輸
送層形成用塗液は、少なくとも電荷輸送材料を含有した
溶液であり、１種類もしくは多種類の電荷輸送材料を含
有していても良い、また、結着用樹脂が含有していても
良い。また、その他に、レベリング剤，添加剤（ドナ
ー、アクセプター等）等が含有されていても良く、本発
明は特にこれらに限定されるものではない。

【００４３】電荷輸送材料としては、有機エレクトロル
ミネッセンス素子用，有機光導電体用の公知の電荷輸送
材料が使用可能である。以下にこれらの具体的な化合物
を例示するが、この発明はこれらにより限定されるもの
ではない。

【００４４】正孔輸送材料としては、例えば、無機ｐ型
半導体材料、ポルフィリン化合物、Ｎ，Ｎ’‐ビス‐
（３‐メチルフェニル）‐Ｎ，Ｎ’‐ビス‐（フェニ
ル）‐ベンジジン（ＴＰＤ）、Ｎ，Ｎ’‐ジ（ナフタレ
ン‐１‐イル）‐Ｎ，Ｎ’‐ジフェニル‐ベンジジン
（ＮＰＤ）等の芳香族第三級アミン化合物、ヒドラゾン
化合物、キナクリドン化合物、スチリルアミン化合物等
の低分子材料；ポリアニリン（ＰＡＮＩ）、３，４−ポ
リエチレンジオキシチオフェン／ポリスチレンサルフォ
ネイト（ＰＥＤＴ／ＰＳＳ）、ポリ（トリフェニルアミ
ン誘導体）（Ｐｏｌｙ−ＴＰＤ）、ポリビニルカルバゾ
ール（ＰＶＣｚ）等の高分子材料；ポリ（ｐ−フェニレ
ンビニレン）前駆体（Ｐｒｅ−ＰＰＶ）、ポリ（ｐ−ナ
フタレンビニレン）前駆体（Ｐｒｅ−ＰＮＶ）等の高分
子材料前駆体等等が挙げられる。

【００４５】電子輸送材料としては、例えば、無機ｎ型
半導体材料、オキサジアゾ−ル誘導体、トリアゾ−ル誘
導体、チオピラジンジオキシド誘導体、ベンゾキノン誘
導体、ナフトキノン誘導体、アントラキノン誘導体、ジ
フェノキノン誘導体、フルオレノン誘導体などの低分子
材料；ポリ［オキサジアゾール［（Ｐｏｌｙ−ＯＸＺ）
等の高分子材料等が挙げられる。

【００４６】また、結着用樹脂としては、例えば、ポリ
カーボネート，ポリエステル等が挙げられるが、この発
明はこれらにより限定されるものではない。

【００４７】また、溶剤としては、上記電荷輸送材料を
溶解または分散できる溶剤であれば特に限定されるもの
ではなく、例えば、純水，メタノール，エタノール，Ｔ
ＨＦ，クロロホルム，キシレン，トリメチルベンゼン等
が挙げられる。

【００４８】ブロッキング層は、単層構造でも多層構造
でも良い。また、ブロッキング層形成用塗液は、少なく
とも電荷ブロッキング材料を含有した溶液であり、１種
類もしくは多種類の電荷ブロッキング材料を含有してい
ても良い。また、結着用樹脂が含有していても良い。ま
た、その他に、レベリング剤等が含有されていても良
く、この発明はこれらにより限定されるものではない。

【００４９】電荷ブロッキング材料としては、有機エレ
クトロルミネッセンス素子用の公知の電荷ブロッキング
材料が使用可能である。例えば、電荷ブロッキング材料
としては、４，７−ジフェニル−１，１０−フェナント
ロリン、２，９−ジメチル−１，１０−フェナントロリ
ン等が挙げられるが、この発明はこれらにより限定され
るものではない。

【００５０】また、結着用樹脂としては、例えば、ポリ
カーボネート、ポリエステル等が挙げられるが、この発
明はこれらにより限定されるものではない。

【００５１】また、溶剤としては、上記電荷ブロッキン
グ材料を溶解、または、分散できる溶剤であれば良く、
例えば，純水，メタノール，エタノール，ＴＨＦ，クロ
ロホルム，キシレン，トリメチルベンゼン等が挙げられ
る。

【００５２】電極材料は、公知の電極材料を用いる事が
可能であり、陽極としては、仕事関数が高い金属（Ａ
ｕ、Ｐｔ、Ｎｉ等）もしくは透明電極（ＩＴＯ、ＩＤＩ
ＸＯ、ＳｎＯ２等）を用いることができ、陰極としては
仕事関数の低い金属を少なくとも含有するもの（Ｃａ、
Ｃｅ、Ｃｓ、Ｒｂ、Ｂａ、Ａｌ、Ｍｇ：Ａｇ合金、Ｌ
ｉ：Ａｌ合金）もしくは薄膜の絶縁層と金属電極を組み
合わせたもの（ＬｉＦ／Ａｌ等）を用いることができ
る。また、これらの材料は、ＥＢ、スパッタ、抵抗加熱
蒸着法等で形成することが可能であるが、この発明はこ
れらにより限定されるものではない。

【００５３】次に、本発明の実施の形態による転写用フ
ィルムを用いた有機エレクトロルミネッセンス素子の製
造方法について説明するが、これによりこの発明が限定
されるものではない。

【００５４】図１（ａ）および（ｂ）は本発明の実施の
形態での転写用フィルムおよびそれを用いた有機エレク
トロルミネッセンス素子の製造方法を示す模式断面図で
ある。尚、図１（ｂ）は（ａ）とは直交する方向から見
た場合の模式断面図である。

【００５５】図１（ａ）および（ｂ）に示すように、転
写層１が形成された転写用フィルム２と第１電極３が形
成された基板４とを、転写層１と第１電極３とが内側に
なるように張り付け、ベースフィルム２ａ側（転写用フ
ィルム２のベースフィルム２ａ側）から熱Ａを放射す
る。ベースフィルム２ａと転写層１との間には、少なく
とも転写層１に接して形成され転写層１よりも融点が低
い転写補助層５があり、加熱された転写補助層５部分が
溶融し、転写層１の少なくとも一部が基板４上に転写形
成される。その後、必要に応じて第２電極を形成するこ
とで有機エレクトロルミネッセンス素子を作製する。一
連の転写工程は、形成層（膜）の吸湿や材料の変質を考
慮して不活性ガス中で行うことが望ましい。また、第１
電極３，第２電極のどちらか一方あるいは両方を転写法
により形成しても良い。

【００５６】転写層は、単層構造，多層構造のいずれで
あってもよい。転写層が有機エレクトロルミネッセンス
素子の構成層をすべて含む多層構造である場合には、転
写工程は１回で完了するが、転写層が有機エレクトロル
ミネッセンス素子の構成層の一部を含む単層または多層
構造である場合には、上記転写工程を繰り返し行う必要
がある。

【００５７】また、本発明の実施の形態の転写用フィル
ムを用いた転写法と、公知のドライプロセスおよび／ま
たはウエットプロセスとを組み合わせて、有機エレクト
ロルミネッセンス素子を製造しても良い。公知のドライ
プロセスとしては、真空蒸着法，ＥＢ法，ＭＢＥ法，ス
パッタ法等が挙げられ、公知のウェットプロセスとして
は、スピンコート法，ディップコート法，ドクターブレ
ード法，吐出コート法，スプレーコート法等の塗布法
や、インクジェット法，凸版印刷法，凹版印刷法，スク
リーン印刷法，マイクログラビアコート法等の印刷法が
挙げられる。

【００５８】図２（ａ）および（ｂ）は本発明の他の実
施の形態での転写用フィルムおよびそれを用いた有機エ
レクトロルミネッセンス素子の製造方法を示す模式断面
図である。尚、図２（ｂ）は（ａ）とは直交する方向か
ら見た場合の模式断面図である。

【００５９】図２（ａ）および（ｂ）に示すように、転
写層２１が形成された転写用フィルム２２と第１電極２
３が形成された基板２４とを、転写層２１と第１電極２
３とが内側になるように張り付け、ベースフィルム２２
ａ側（転写用フィルム２２のベースフィルム２２ａ側）
からレーザ光Ｂを照射する。ベースフィルム２２ａと転
写層２１との間には、少なくとも転写層２１に接して形
成され転写層２１よりも融点が低い転写補助層２５と光
−熱変換層２６とがあり、レーザ光Ｂは光−熱変換層２
６により熱に変換され、これにより加熱された転写補助
層２５部分が溶融し、転写層２１の少なくとも一部が基
板２４上に転写形成される。その後、必要に応じて第２
電極２７を形成することで有機エレクトロルミネッセン
ス素子を作製する。一連の転写工程は、形成層（膜）の
吸湿や材料の変質を考慮して不活性ガス中で行うことが
望ましい。また、第１電極２３，第２電極２７のどちら
か一方あるいは両方を転写法により形成しても良い。
尚、本実施形態では、第２電極２７を他の転写層２１と
同時に形成した場合の例を示している。

【００６０】転写層は、単層構造，多層構造のいずれで
あってもよい。転写層が有機エレクトロルミネッセンス
素子の構成層をすべて含む多層構造である場合には、転
写工程は１回で完了するが、転写層が有機エレクトロル
ミネッセンス素子の構成層の一部を含む単層または多層
構造である場合には、上記転写工程を繰り返し行う必要
がある。

【００６１】また、本実施形態の転写用フィルムを用い
た転写法と、公知のドライプロセスおよび／またはウエ
ットプロセスとを組み合わせて、有機エレクトロルミネ
ッセンス素子を製造しても良い。公知のドライプロセス
としては、真空蒸着法，ＥＢ法，ＭＢＥ法，スパッタ法
等が挙げられ、公知のウェットプロセスとしては、スピ
ンコート法，ディップコート法，ドクターブレード法，
吐出コート法，スプレーコート法等の塗布法や、インク
ジェット法，凸版印刷法，凹版印刷法，スクリーン印刷
法，マイクログラビアコート法等の印刷法が挙げられ
る。

【００６２】図３は本発明の実施の形態を用いて作成さ
れた有機エレクトロルミネッセンス素子の一例を示す模
式上面図である。

【００６３】図３に示すように、有機赤色発光多層膜３
１ａ（例えば、正孔輸送層／赤色発光層からなる。）、
有機緑色発光多層膜３１ｂ（例えば、正孔輸送層／緑色
発光層からなる。）、有機青色発光多層膜３１ｃ（例え
ば、正孔輸送層／青色発光層からなる。）をそれぞれベ
ースフィルム上に形成した転写用フィルムを用い、転写
の工程を繰り返すことで基板３４上に赤色、緑色、青色
発光多層膜からなる多色発光の有機エレクトロルミネッ
センス素子を形成する。基板３４上には、薄膜トランジ
スタ等のスイッチング素子３８が画素毎に形成されてい
る。

【００６４】

【実施例】次に、具体的な実施例により本発明をさらに
詳細に説明するが、本発明はこれらの例によってなんら
限定されるものではない。

【００６５】（実施例１）ベースフィルムとして厚さ１
５０μｍのポリエチレンテレフタレートを用い転写補助
層としてはステアリン酸を蒸着で１００ｎｍの厚さで形
成した。ステアリン酸の融点は６８℃である。さらに転
写層として有機発光層である（８−ヒドロキシキノリナ
ト）アルミニウム錯体（Ａｌｑ₃）（融点：４１３℃、
ガラス転移温度：１７５℃）、正孔輸送材料であるＮ，
Ｎ’‐ジ（ナフタレン‐１‐イル）‐Ｎ，Ｎ’‐ジフェ
ニル‐ベンジジン（ＮＰＤ）（融点：２７５℃、ガラス
転移温度：９５℃）をそれぞれ５０ｎｍの厚さで蒸着に
より形成した。このようにして作製した転写用フィルム
を、あらかじめパターニングをした透明電極付きガラス
基板と貼り合わせ、ベースフィルム側からライン状の熱
源（たとえば電気を流したニクロム線）を押し当て、転
写補助層を溶かすことにより転写層が透明電極付きガラ
ス基板上に転写した。またステアリン酸の融点がＮＰ
Ｄ、Ａｌｑ₃のガラス転移温度より低いため転写時の熱
による転写層の劣化もなく、転写後に転写層上に陰極を
形成することによりＡｌｑ₃からの緑色発光が確認でき
た。これに赤色、青色の発光を示す有機発光層を形成し
た転写用フィルムを用いて転写を三度行えば、Ｒ，Ｇ，
Ｂのフルカラー発光が可能な有機エレクトロルミネッセ
ンス素子の作成が可能となる。

【００６６】（実施例２）転写層としてＡｌ層／Ａｌｑ
₃層／ＮＰＤ層の多層膜，光を透過する金属薄膜Ａｌ層
／Ａｌｑ₃層／ＮＰＤ層の多層膜，透明導電膜層／ＮＰ
Ｄ層／Ａｌｑ₃層の多層膜のいずれかを使用した以外は
実施例１と同様である。この場合も良好な転写が行われ
た。電極層も同時に転写することにより、プロセスの工
程数削減が可能となる。一般に電極層として用いる材料
は無機物であるため有機物と比較して硬度が大きいため
良好な転写を行うためには膜厚は薄い方が好ましい。ま
た、金属薄膜Ａｌ層／Ａｌｑ₃層／ＮＰＤ層の多層膜，
または透明導電膜層／ＮＰＤ層／Ａｌｑ₃層の構造にす
ると、発光を基板と反対側から取り出すことが可能にな
るため、特にＴＦＴなどのスイッチング素子を用いたア
クティブ駆動を行う場合には開口率の減少を避けること
ができる。

【００６７】（実施例３）ベースフィルムとして厚さ１
５０μｍのポリエチレンテレフタレートを用い、光‐熱
変換層としてカーボンブラックを高分子材料に分散した
層を形成した。転写補助層，正孔輸送層，発光層は実施
例１と同様である。このようにして作製した転写用フィ
ルムを、あらかじめパターニングをした透明電極付きガ
ラス基板と貼り合わせ、ベースフィルム側からレーザ光
を照射し光‐熱変換層での発熱を利用して転写補助層を
溶かすことにより、転写層を透明電極付きガラス基板上
に転写した。レーザ光のパワーを適当に選ぶことにより
良好な転写層が得られ、さらに転写層上に陰極層を形成
することによりＡｌｑ₃からの緑色発光が確認できた。
レーザ光はレンズ等の光学系により細く絞ることが可能
であり、転写幅の細い転写層の作製が容易なため有機エ
レクトロルミネッセンス素子の高精細化ができる。光‐
熱変換層は例えば、アルミニウム，その酸化物／硫化物
からなる金属膜，黒鉛，赤外線染料などを高分子材料に
分散したものを用いることが可能である。

【００６８】（実施例４）転写補助層及び転写層を真空
中で連続して形成した以外は実施例１と同様である。真
空中で連続して各層を形成することにより、大気による
各層の界面での劣化が押さえられ有機エレクトロルミネ
ッセンス素子の特性が向上する。

【００６９】上記各々の実施例では有機発光層，正孔輸
送層等に低分子化合物を用いた場合について述べたが、
高分子材料を用いた場合も同様である。高分子材料の場
合は塗布法による形成であるため窒素雰囲気中で行うこ
とが好ましい。

【００７０】

【発明の効果】以上説明したように、本発明の転写用フ
ィルムは、ベースフィルム上に転写層を有する転写用フ
ィルムにおいて、ベースフィルムと転写層との間に少な
くとも転写層に接して形成され転写層よりも融点または
ガラス転移温度が低い転写補助層を有し、転写補助層及
び転写層の少なくとも一部が加熱により他の基板上に転
写形成されることを特徴とし、本発明により、転写補助
層が無い場合に比べて低い温度で転写を行うことができ
るので、転写層へ熱によるダメージを与えない温度での
転写が可能になるので、転写層が持っている本来の機能
を損なうことなく良好な転写が行える転写用フィルムが
提供できる。

【００７１】また本発明の転写用フィルムは、転写層に
は少なくとも有機発光材料を含有するエレクトロルミネ
ッセンス層が含まれていることを特徴とし、本発明によ
り、通常熱による影響を受け易い有機エレクトロルミネ
ッセンス材料を転写層に用いた場合でも、熱によるダメ
ージを受けない有機エレクトロルミネッセンス層の転写
がが可能になるので、発光特性が良好な有機エレクトロ
ルミネッセンス層の転写が行える転写用フィルムが提供
できる。

【００７２】また本発明の転写用フィルムは、転写層に
は金属電極層が含まれていることを特徴とし、本発明に
より、金属電極層も同時に転写することができるので、
金属電極層を含む複数の層を一度に転写することが可能
になるので、有機エレクトロルミネッセンス素子の作製
時の転写用フィルム数を減らすことができるので、製造
時の工数の低減とコストダウンが達成できる。

【００７３】また本発明の転写用フィルムは、金属電極
層は光を透過する金属薄膜層であることを特徴とし、本
発明により、基板とは反対側からも光を取り出す、いわ
ゆる逆取りだし構造の有機エレクトロルミネッセンス素
子の作成が可能になるので、例えばＴＦＴ付基板を用い
た場合の１画素単位の開口率を大きくすることができ
る。また、有機エレクトロルミネッセンス素子の両面か
らの光取り出しも可能となり、例えば両面表示パネルへ
の適用等、有機エレクトロルミネッセンス素子の使用用
途が広がる。

【００７４】また本発明の転写用フィルムは、転写層に
は透明導電膜層が含まれていることを特徴とし、本発明
により、基板とは反対側から光を取り出す、いわゆる逆
積層構造の有機エレクトロルミネッセンス素子の作成が
可能になるので、例えばＴＦＴ付基板を用いた場合の１
画素単位の開口率を大きくすることができる。

【００７５】また本発明の転写用フィルムは、転写補助
層および転写層は不活性ガス中または真空中で連続して
形成されることを特徴とし、本発明により、転写用フィ
ルムの作製中に大気さらされることがないので、各層の
界面での劣化を押さえることが可能になるので、転写層
が持っている本来の機能を損なうことなく良好な転写が
行える転写用フィルムが提供できる。

【００７６】また本発明の有機エレクトロルミネッセン
ス素子の製造方法は、上記に記載した機能を有する転写
用フィルムを用いることを特徴とし、本発明により、熱
によるダメージを与えない温度で種々の形態での有機層
の転写ができるので、様々な利用形態に応じた有機エレ
クトロルミネッセンス素子の製造が可能になるので、発
光特性が良好な他種類の有機エレクトロルミネッセンス
素子が提供できる。

【００７７】また本発明の有機エレクトロルミネッセン
ス素子の製造方法は、転写法は転写補助層への加熱を部
分的に行うことによりパターニングされた発光部を形成
することを特徴とし、本発明により、全面が発光するだ
けではなく任意のパターンでの発光ができるので、マト
リクス駆動が可能な有機エレクトロルミネッセンス素子
の製造が可能になるので、キャラクター表示，グラフィ
ック表示，画像表示等が可能な有機エレクトロルミネッ
センス素子が提供できる。

【００７８】また本発明の有機エレクトロルミネッセン
ス素子の製造方法は、パターニングされた発光部は複数
の発光色を有することを特徴とし、本発明により、容易
に高性能なマルチカラー表示、フルカラー表示の有機エ
レクトロルミネッセンス素子の製造が可能になるので、
カラー表示による表示情報量の多い有機エレクトロルミ
ネッセンス素子が提供できる。

【００７９】また本発明の有機エレクトロルミネッセン
ス素子の製造方法は、光―熱変換層を有する転写用フィ
ルムを用い、光照射により転写補助層への加熱を部分的
に行うことを特徴とし、本発明により、例えばフォトマ
スク等を用いることにより、大面積基板への一括転写が
可能になるので、製造コストを下げることができ安価な
有機エレクトロルミネッセンス素子が提供できる。

【００８０】また本発明の有機エレクトロルミネッセン
ス素子の製造方法は、光照射に用いる光源がレーザ光で
あることを特徴とし、本発明により、レーザ光はそのス
ポットを小さく絞り込むことができるので、より高精細
なパターニングが可能になるので、携帯端末等の表示部
に利用可能な高精細の有機エレクトロルミネッセンス素
子が提供できる。

【図面の簡単な説明】

【図１】（ａ）および（ｂ）は本発明の実施の形態での
転写用フィルムおよびそれを用いた有機エレクトロルミ
ネッセンス素子の製造方法を示す模式断面図である。。

【図２】（ａ）および（ｂ）は本発明の他の実施の形態
での転写用フィルムおよびそれを用いた有機エレクトロ
ルミネッセンス素子の製造方法を示す模式断面図であ
る。

【図３】本発明の実施の形態を用いて作成された有機エ
レクトロルミネッセンス素子の一例を示す模式上面図で
ある。

【図４】従来の転写用フィルムおよびそれを用いた有機
エレクトロルミネッセンス素子の製造方法を示す模式断
面図である。

【符号の説明】

１転写層２転写用フィルム２ａベースフィルム４基板５転写補助層

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者赤井伴教大阪府大阪市阿倍野区長池町22番22号シャープ株式会社内Ｆターム(参考） 3B005 EA20 EB01 EC30 FA02 FB12 3K007 AB04 AB18 BA06 CA06 CB01 CB03 DA01 DB03 EB00 FA01

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】ベースフィルム上に転写層を有する転写
用フィルムにおいて、前記ベースフィルムと前記転写層
との間に少なくとも前記転写層に接して形成され前記転
写層よりも融点が低い転写補助層を有し、前記転写補助
層及び前記転写層の少なくとも一部が加熱により他の基
板上に転写形成されることを特徴とする転写用フィル
ム。
【請求項２】ベースフィルム上に転写層を有する転写
用フィルムにおいて、前記ベースフィルムと前記転写層
との間に少なくとも前記転写層に接して形成され前記転
写層よりもガラス転移温度が低い転写補助層を有し、前
記転写補助層及び前記転写層の少なくとも一部が加熱に
より他の基板上に転写形成されることを特徴とする転写
用フィルム。
【請求項３】前記転写層には、少なくとも有機発光材
料を含有するエレクトロルミネッセンス層が含まれてい
ることを特徴とする請求項１または２に記載の転写用フ
ィルム。
【請求項４】前記転写層には、金属電極層が含まれて
いることを特徴とする請求項１乃至３のいずれかひとつ
に記載の転写用フィルム。
【請求項５】前記金属電極層は、光を透過する金属薄
膜層であることを特徴とする請求項４に記載の転写用フ
ィルム。
【請求項６】前記転写層には、透明導電膜層が含まれ
ていることを特徴とする請求項１乃至３のいずれかひと
つに記載の転写用フィルム。
【請求項７】前記転写補助層および前記転写層は、不
活性ガス中または真空中で連続して形成されることを特
徴とする請求項１乃至６に記載の転写用フィルム。
【請求項８】転写法で有機エレクトロルミネッセンス
素子を製造するにあたり、請求項１乃至７のいずれかひ
とつに記載の転写用フィルムを用いることを特徴とする
有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法。
【請求項９】前記転写法は、前記転写補助層への加熱
を部分的に行うことによりパターニングされた発光部を
形成することを特徴とする請求項８に記載の有機エレク
トロルミネッセンス素子の製造方法。
【請求項１０】前記パターニングされた発光部は、複
数の発光色を有することを特徴とする請求項９に記載の
有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法。
【請求項１１】光―熱変換層を有する転写用フィルム
を用い、光照射により前記転写補助層への加熱を部分的
に行うことを特徴とする請求項９または１０に記載の有
機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法。
【請求項１２】前記光照射に用いる光源が、レーザ光
であることを特徴とする請求項１１に記載の有機エレク
トロルミネッセンス素子の製造方法。