JP2002268174A - Heat developable photosensitive material and processing method for the same - Google Patents
Heat developable photosensitive material and processing method for the sameInfo
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- Non-Silver Salt Photosensitive Materials And Non-Silver Salt Photography (AREA)
Abstract
Description
【0001】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は、熱現像感光材料お
よびその熱現像方法に関し、詳しくは熱現像感光材料の
画像記録層およびその保護層のバインダーの改良に関す
る。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a photothermographic material and a heat development method thereof, and more particularly to an improvement in a binder for an image recording layer and a protective layer of the photothermographic material.
【0002】[0002]
【従来の技術】従来、印刷製版や医療診断の分野では、
画像形成材料の湿式処理に伴う廃液が作業性の上で問題
となっており、近年では、環境保全および省スペースの
観点からも処理廃液の減量が強く望まれている。一方、
画像情報処理のデジタル化への転換の要請がある。そこ
で、レーザー・イメージセッターやレーザー・イメージ
ャーにより効率的な露光が可能で、高解像度で鮮明な黒
色画像を湿式処理なしで形成することができる技術が必
要とされている。2. Description of the Related Art Conventionally, in the fields of printing plate making and medical diagnosis,
Waste liquids associated with wet processing of image forming materials have become a problem in terms of workability, and in recent years, there has been a strong demand for reduction of processing waste liquids from the viewpoint of environmental conservation and space saving. on the other hand,
There is a demand for conversion of image information processing to digitalization. Therefore, there is a need for a technique capable of performing efficient exposure with a laser imagesetter or laser imager and forming a high-resolution, clear black image without a wet process.
【0003】湿式処理なしで写真画像を得る技術とし
て、例えば、米国特許第3,152,904号、同3,
487,075号およびD.モーガン(Morgan)
による「ドライシルバー写真材料(Dry Silve
r PhotographicMaterials)」
(Handbook of Imaging Mate
rials, Marcel Dekker,Inc.
第48頁,1991)等に記載されているように、支持
体上に有機銀塩、感光性ハロゲン化銀粒子、還元剤およ
びバインダーを含有する層を設けた熱現像感光材料が知
られている。As a technique for obtaining a photographic image without wet processing, for example, US Pat. No. 3,152,904, US Pat.
487,075 and D.C. Morgan
"Dry Silver Photographic Materials (Dry Silver
r Photographic Materials) "
(Handbook of Imaging Mate
reals, Marcel Dekker, Inc.
48, 1991), there is known a photothermographic material in which a support is provided with a layer containing an organic silver salt, photosensitive silver halide particles, a reducing agent and a binder. .
【0004】この熱現像感光材料は、熱現像処理で写真
画像を形成するもので、還元可能な銀源(有機銀塩)、
感光性ハロゲン化銀、還元剤および必要に応じて銀の色
調を抑制する色調剤を通常(有機)バインダーマトリッ
クス中に分散した状態で含有している。このような熱現
像感光材料は常温で安定であるが、露光後に高温(例え
ば、80℃〜140℃)に加熱することで有機銀塩(酸
化剤として機能する)と還元剤との間の酸化還元反応を
通じて銀を生成する。この酸化還元反応は露光でハロゲ
ン化銀に生成した潜像の触媒作用によって促進される。
露光領域中の有機銀塩の反応によって生成した銀は黒色
画像を提供し、これは非露光領域と対照をなし画像の形
成がなされる。この反応過程は、外部から水等の処理液
を供給することなしで進行する。This photothermographic material forms a photographic image by a heat development process, and includes a reducible silver source (organic silver salt),
A photosensitive silver halide, a reducing agent and, if necessary, a color tone agent for suppressing the color tone of silver are usually contained in a dispersed state in an (organic) binder matrix. Such a photothermographic material is stable at room temperature, but is heated to a high temperature (for example, 80 ° C. to 140 ° C.) after exposure, so that oxidation between an organic silver salt (functioning as an oxidizing agent) and a reducing agent is performed. Generates silver through a reduction reaction. This oxidation-reduction reaction is accelerated by the catalytic action of the latent image formed on the silver halide upon exposure.
The silver formed by the reaction of the organic silver salt in the exposed areas provides a black image, which contrasts with the unexposed areas to form an image. This reaction process proceeds without supplying a processing liquid such as water from the outside.
【0005】このような熱現像感光材料は、マイクロ写
真用感光材料やX線写真用感光材料に使われてきたが、
印刷用感光材料としては一部で使われているのみであ
る。それは、得られる画像のDmaxが低く階調が軟調
なために印刷用感光材料としては画質が著しく悪いから
であった。[0005] Such a photothermographic material has been used as a microphotographic light-sensitive material or a radiographic light-sensitive material.
It is only partially used as a photosensitive material for printing. This is because the obtained image has a low Dmax and a low gradation, so that the image quality of the photosensitive material for printing is extremely poor.
【0006】一方、近年、レーザーや発光ダイオードの
発達により、600〜800nmに発振波長を有するス
キャナー適性を有し、感度およびDmaxが高く、かつ
硬調な感光材料の開発が強く望まれていた。また、簡易
処理、ドライ化への要望も強くなっている。On the other hand, in recent years, with the development of lasers and light-emitting diodes, there has been a strong demand for the development of a photosensitive material having scanner suitability having an oscillation wavelength of 600 to 800 nm, high sensitivity, high Dmax, and high contrast. Demands for simple processing and dry processing are also increasing.
【0007】このような要望に応じる技術として、米国
特許第5,464,738号や米国特許第5,496,
695号には、有機銀塩、ハロゲン化銀、ヒンダードフ
ェノール類、およびある種のヒドラジン誘導体を含有す
る熱現像感光材料が開示されている。しかし、これらの
ヒドラジン誘導体を用いた場合には、十分満足なDma
xあるいは超硬調性が得られず、また黒ポツが発生して
画質が悪化する問題がある。As a technique to meet such a demand, US Pat. No. 5,464,738 and US Pat.
No. 695 discloses a photothermographic material containing an organic silver salt, silver halide, hindered phenols, and certain hydrazine derivatives. However, when these hydrazine derivatives are used, a sufficiently satisfactory Dma
x or ultra-high contrast cannot be obtained, and there is a problem that image quality deteriorates due to occurrence of black spots.
【0008】黒ポツを改良したヒドラジン誘導体が特開
平9−292671号、同9−304870号、同9−
304871号、同9−304872号、同10−31
282号等で開示され、さらに画像の再現性を改善した
ヒドラジン誘導体が特開平10−62898号に記載さ
れている。しかし、最高到達濃度、超硬調性、および小
点再現性を満足するには至っていない。Hydrazine derivatives having improved black pot are disclosed in JP-A-9-292571, JP-A-9-304870 and JP-A-9-294870.
No. 304871, No. 9-304872, No. 10-31
No. 282, etc., and a hydrazine derivative having further improved image reproducibility are described in JP-A-10-62898. However, it has not yet satisfied the highest attainable density, ultra-high contrast property, and small-dot reproducibility.
【0009】ところで、従来、熱現像感光材料のバイン
ダーとして、画像記録層にはガラス転移温度(Tg)が
−30℃〜40℃のポリマーラテックスやTgが60℃
〜90℃のポリビニルブチラール樹脂が使用され、画像
記録保護層にはヒドロキシル基含有量が0.5〜3.0
質量%のセルロースエステルやTgが20℃〜70℃の
ポリマーラテックスが使用されている。そして、熱現像
感光材料のくっつき防止や搬送性を良くするため、感光
材料の表面を凹凸化するためにマット剤が用いられてい
る。Conventionally, as a binder for a photothermographic material, a polymer latex having a glass transition temperature (Tg) of -30.degree.
A polyvinyl butyral resin having a hydroxyl group content of 0.5 to 3.0 ° C. is used in the image recording protective layer.
For example, a cellulose ester of 20% by mass or a polymer latex having a Tg of 20 ° C to 70 ° C is used. In order to prevent sticking of the photothermographic material and improve transportability, a matting agent is used to make the surface of the photosensitive material uneven.
【0010】しかしながら、従来のバインダーはマット
剤との接着性が悪く、超迅速処理を行った場合、粉落ち
の発生が原因となり、PS版焼き付け時に焼きボケをお
こし、小点再現性が悪化する等の問題点があり、これら
の問題点を解決する技術の開発が望まれている。[0010] However, the conventional binder has poor adhesion to the matting agent, and when it is subjected to ultra-rapid processing, powder drop occurs, causing burning blur during PS plate baking, resulting in poor dot reproducibility. Therefore, there is a demand for the development of a technology that solves these problems.
【0011】[0011]
【発明が解決しようとする課題】本発明は、マット剤と
それを保持する層との接着性に優れ、熱現像処理時の粉
落ちの発生が良好に防止され、PS版焼き付け時に焼き
ボケの発生がなく、小点再現性に優れる硬調で、Dma
xの高い感光材料を提供することを課題とする。DISCLOSURE OF THE INVENTION The present invention has excellent adhesiveness between a matting agent and a layer holding the matting agent, prevents the occurrence of powder dropping off during heat development processing, and reduces the likelihood of blurring during PS plate baking. Dma with high contrast without generation and excellent small point reproducibility
It is an object to provide a photosensitive material having a high x.
【0012】[0012]
【課題を解決するための手段】上記課題を解決する本発
明の構成は下記である。The constitution of the present invention for solving the above-mentioned problems is as follows.
【0013】(1)支持体上に、有機銀塩、ハロゲン化
銀、バインダー、および還元剤を含有する画像記録層を
有する熱現像記録材料において、該画像記録層上に画像
記録保護層が設けられ、該画像記録層および/または該
画像記録保護層にバインダーの一部としてヒドロキシル
基含有量が4〜20質量%のセルロースエステルを含有
することを特徴とする熱現像感光材料。(1) In a heat-developable recording material having an image recording layer containing an organic silver salt, a silver halide, a binder and a reducing agent on a support, an image recording protective layer is provided on the image recording layer. A photothermographic material, wherein the image recording layer and / or the image recording protective layer contains a cellulose ester having a hydroxyl group content of 4 to 20% by mass as a part of a binder.
【0014】(2)画像記録層にヒドロキシル基含有量
が4〜20質量%のセルロースエステルを、画像記録層
の全バインダー質量に対して5〜50質量%の比率で含
有することを特徴とする上記(1)に記載の熱現像感光
材料。(2) The image recording layer contains a cellulose ester having a hydroxyl group content of 4 to 20% by mass in a ratio of 5 to 50% by mass based on the total binder mass of the image recording layer. The photothermographic material according to (1).
【0015】(3)画像記録保護層にヒドロキシル基含
有量が4〜20質量%のセルロースエステルを、画像記
録保護層の全バインダー質量に対して5〜50質量%の
比率で含有することを特徴とする上記(1)に記載の熱
現像感光材料。(3) The image recording protective layer contains a cellulose ester having a hydroxyl group content of 4 to 20% by mass in a ratio of 5 to 50% by mass based on the total binder mass of the image recording protective layer. The photothermographic material according to the above (1), wherein
【0016】(4)画像記録層にヒドロキシル基含有量
が4〜20質量%のセルロースエステルを該層のバイン
ダーの10〜70質量%含有し、かつ画像記録保護層に
ヒドロキシル基含有量が4〜20質量%のセルロースエ
ステルを該層のバインダーの10〜70質量%含有する
ことを特徴とする上記(1)に記載の熱現像感光材料。(4) The image recording layer contains a cellulose ester having a hydroxyl group content of 4 to 20% by mass of 10 to 70% by mass of the binder of the layer and the image recording protective layer has a hydroxyl group content of 4 to 20% by mass. The photothermographic material according to (1), wherein the photothermographic material contains 20% by mass of a cellulose ester in an amount of 10 to 70% by mass of the binder in the layer.
【0017】(5)画像記録保護層にヒドロキシル基含
有量が0.5〜3質量%の樹脂(A)とヒドロキシル基
含有量が4〜20質量%の樹脂(B)が含まれ、樹脂
(A)/樹脂(B)の質量比率が95/5〜50/50
であることを特徴とする上記(1)〜(4)に記載の熱
現像感光材料。(5) The image recording protective layer contains a resin (A) having a hydroxyl group content of 0.5 to 3% by mass and a resin (B) having a hydroxyl group content of 4 to 20% by mass. The mass ratio of A) / resin (B) is 95/5 to 50/50.
The photothermographic material according to any one of the above (1) to (4), wherein
【0018】(6)画像記録層にアクリル樹脂を含有す
ることを特徴とする上記(1)に記載の熱現像感光材
料。(6) The photothermographic material according to the above (1), wherein the image recording layer contains an acrylic resin.
【0019】(7)支持体と画像記録層の間にアクリル
樹脂および/またはポリエステルを含有する下塗り層を
有することを特徴とする上記(1)〜(6)のいずれか
1項に記載の熱現像感光材料。(7) The method according to any one of (1) to (6) above, wherein an undercoat layer containing an acrylic resin and / or polyester is provided between the support and the image recording layer. Developed photosensitive material.
【0020】(8)画像記録層の全バインダーの50質
量%以上がポリマーラテックスからなり、該画像記録層
塗布液の溶媒の30質量%以上が水であることを特徴と
する上記(1)〜(5)のいずれか1項に記載の熱現像
感光材料。(8) The above-mentioned (1) to (1) to (1), wherein 50% by mass or more of the total binder of the image recording layer comprises a polymer latex, and 30% by mass or more of the solvent of the coating solution for the image recording layer is water. The photothermographic material according to any one of (5) and (4).
【0021】(9)上記(1)〜(6)のいずれか1項
に記載の熱現像感光材料を、熱現像機の搬送速度が22
mm/sec以上40mm/sec以下で熱現像するこ
とを特徴とする熱現像感光材料の処理方法。(9) The photothermographic material according to any one of the above (1) to (6), wherein the transport speed of the thermal developing machine is 22.
A method for processing a photothermographic material, wherein the photothermographic material is thermally developed at a speed of not less than 40 mm / sec.
【0022】[0022]
【発明の実施の形態】請求項1〜9に係る熱現像感光材
料の画像記録層が含有する有機銀塩は還元可能な銀イオ
ン源を含有する有機酸およびヘテロ有機酸の銀塩、特に
長鎖(10〜30、好ましくは15〜25の炭素原子
数)の脂肪族カルボン酸および含窒素複素環が好まし
い。配位子が4.0〜10.0の銀イオンに対する総安
定定数を有する有機または無機の銀塩錯体も有用であ
る。The organic silver salt contained in the image recording layer of the photothermographic material according to any one of claims 1 to 9, is a silver salt of an organic acid containing a reducible silver ion source and a silver salt of a heteroorganic acid, especially a long salt. Aliphatic carboxylic acids of the chain (10-30, preferably 15-25 carbon atoms) and nitrogen-containing heterocycles are preferred. Organic or inorganic silver salt complexes whose ligands have a total stability constant for silver ions of 4.0 to 10.0 are also useful.
【0023】好適な銀塩の例は、Research D
isclosure(以下「RD」と略記する)170
29および29963に記載されており、次のものが挙
げられる。有機酸の塩(例えば、没食子酸、シュウ酸、
ベヘン酸、ステアリン酸、パルミチン酸、ラウリン酸等
の塩);銀のカルボキシアルキルチオ尿素塩(例えば、
1−(3−カルボキシプロピル)チオ尿素、1−(3−
カルボキシプロピル)−3,3−ジメチルチオ尿素
等);アルデヒドとヒドロキシ置換芳香族カルボン酸
(例えば、ホルムアルデヒド、アセトアルデヒド、ブチ
ルアルデヒドのようなアルデヒド類とサリチル酸、ベン
ジル酸、3,5−ジヒドロキシ安息香酸、5,5−チオ
ジサリチル酸のようなヒドロキシ置換酸類)とのポリマ
ー反応生成物の銀錯体;チオン類の銀塩または錯体(例
えば、3−(2−カルボキシエチル)−4−ヒドロキシ
メチル−4−チアゾリン−2−チオンおよび3−カルボ
キシメチル−4−メチル−4−チアゾリン−2−チオ
ン);イミダゾール、ピラゾール、ウラゾール、1,
2,4−チアゾールおよび1H−テトラゾール、3−ア
ミノ−5−ベンジルチオ−1,2,4−トリアゾールお
よびベンゾトリアゾールから選択される窒素酸と銀との
錯体または塩;サッカリン、5−クロロサリチルアルド
キシム等の銀塩;メルカプチド類の銀塩等。好ましい有
機銀塩はベヘン酸銀、アラキジン酸銀およびステアリン
酸銀であり、これらの1種または2種以上を併用するこ
とができる。An example of a suitable silver salt is Research D
issuer (hereinafter abbreviated as “RD”) 170
29 and 29996, and include the following. Salts of organic acids (eg, gallic acid, oxalic acid,
Salts of behenic acid, stearic acid, palmitic acid, lauric acid and the like); carboxyalkylthiourea salts of silver (for example,
1- (3-carboxypropyl) thiourea, 1- (3-
Aldehydes and hydroxy-substituted aromatic carboxylic acids (for example, aldehydes such as formaldehyde, acetaldehyde, butyraldehyde and salicylic acid, benzylic acid, 3,5-dihydroxybenzoic acid, 5) Silver complex of a polymer reaction product with a hydroxy-substituted acid such as 2,5-thiodisalicylic acid); silver salt or complex of a thione (for example, 3- (2-carboxyethyl) -4-hydroxymethyl-4-thiazoline) -2-thione and 3-carboxymethyl-4-methyl-4-thiazoline-2-thione); imidazole, pyrazole, urazole, 1,
Complexes or salts of silver with a nitrogen acid selected from 2,4-thiazole and 1H-tetrazole, 3-amino-5-benzylthio-1,2,4-triazole and benzotriazole; saccharin, 5-chlorosalicylaldoxime And silver salts of mercaptides. Preferred organic silver salts are silver behenate, silver arachidate and silver stearate, and one or more of these can be used in combination.
【0024】有機銀塩は、水溶性銀化合物と、銀と錯形
成する化合物を混合することにより得られるが、この混
合には、正混合法、逆混合法、同時混合法、特開平9−
127643号に記載されている様なコントロールドダ
ブルジェット法等が好ましく用いられる。例えば、有機
酸にアルカリ金属塩(例えば、水酸化ナトリウム、水酸
化カリウムなど)を加えて有機酸アルカリ金属塩ソープ
(例えば、ベヘン酸ナトリウム、アラキジン酸ナトリウ
ムなど)を作製した後に、コントロールドダブルジェッ
ト法により、前記ソープと硝酸銀などを添加して有機銀
塩の結晶を作製する。その際にハロゲン化銀粒子を混在
させてもよい。The organic silver salt can be obtained by mixing a water-soluble silver compound and a compound which forms a complex with silver. The mixing includes a forward mixing method, a reverse mixing method, a simultaneous mixing method, and a method disclosed in
A controlled double jet method or the like described in Japanese Patent No. 127643 is preferably used. For example, an organic acid alkali metal salt soap (eg, sodium behenate, sodium arachidate, etc.) is prepared by adding an alkali metal salt (eg, sodium hydroxide, potassium hydroxide, etc.) to an organic acid, and then controlled double jet. According to the method, the soap and silver nitrate are added to produce crystals of an organic silver salt. At that time, silver halide grains may be mixed.
【0025】画像記録層が含有するハロゲン化銀は、光
センサーとして機能するものである。本発明において
は、画像形成後の白濁を低く抑えるため、および良好な
画質を得るためにハロゲン化銀の平均粒子サイズは小さ
い方が好ましく、平均粒子サイズが0.1μm以下、よ
り好ましくは0.01〜0.1μm、特に0.02〜
0.08μmが好ましい。ここでいう粒子サイズとは、
ハロゲン化銀粒子が立方体或いは八面体のいわゆる正常
晶である場合には、ハロゲン化銀粒子の稜の長さをい
う。また、正常晶でない場合、例えば、球状、棒状、或
いは平板状の粒子の場合には、ハロゲン化銀粒子の体積
と同等な球の直径をいう。また、ハロゲン化銀粒子は単
分散であることが好ましい。ここでいう単分散とは、下
記式で求められる粒径分布の変動係数が40%以下をい
う。該変動係数は更に好ましくは30%以下であり、特
に好ましくは0.1〜20%である。The silver halide contained in the image recording layer functions as an optical sensor. In the present invention, the average grain size of the silver halide is preferably smaller in order to suppress white turbidity after image formation and to obtain good image quality, and the average grain size is preferably 0.1 μm or less, more preferably 0.1 μm or less. 01-0.1 μm, especially 0.02-
0.08 μm is preferred. The particle size here means
When the silver halide grains are cubic or octahedral so-called normal crystals, they refer to the lengths of the edges of the silver halide grains. In the case of non-normal crystals, for example, in the case of spherical, rod-shaped, or tabular grains, it refers to the diameter of a sphere equivalent to the volume of silver halide grains. The silver halide grains are preferably monodispersed. The term “monodisperse” as used herein means that the variation coefficient of the particle size distribution obtained by the following equation is 40% or less. The coefficient of variation is more preferably 30% or less, particularly preferably 0.1 to 20%.
【0026】粒径分布の変動係数(%)=(粒径の標準
偏差/粒径の平均値)×100 本発明において、画像記録層が含有するハロゲン化銀
は、平均粒径0.1μm以下で、かつ単分散の粒子であ
ることが好ましく、これにより得られる画像の粒状性も
向上する。Coefficient of variation (%) in grain size distribution = (standard deviation of grain size / average grain size) × 100 In the present invention, the silver halide contained in the image recording layer has an average grain size of 0.1 μm or less. And monodisperse particles are preferable, whereby the granularity of the obtained image is also improved.
【0027】ハロゲン化銀粒子の形状については特に制
限はないが、ミラー指数(100)面の占める割合が高
いことが好ましく、この割合が50%以上、更には70
%以上、特に80%以上であることが好ましい。ミラー
指数(100)面の比率は、増感色素の吸着における
(111)面と(100)面との吸着依存性を利用した
T.Tani;J.Imaging Sci.,29,
165(1985)により求めることができる。The shape of the silver halide grains is not particularly limited, but the ratio occupied by the Miller index (100) plane is preferably high, and this ratio is 50% or more, and more preferably 70%.
%, Particularly preferably 80% or more. The ratio of the (100) plane of the Miller index is determined by the T.V. method using the adsorption dependency between the (111) plane and the (100) plane in the adsorption of the sensitizing dye. Tani; Imaging Sci. , 29,
165 (1985).
【0028】もう一つの好ましいハロゲン化銀粒子の形
状は平板粒子である。ここでいう平板粒子とは、ハロゲ
ン化銀粒子の投影面積の平方根を粒径rμmとし、垂直
方向の厚みをhμmとした場合のアスペクト比=r/h
が3以上の粒子をいう。その中でも好ましくは、アスペ
クト比が3以上、50以下である。また粒径は0.1μ
m以下であることが好ましく、さらに0.01〜0.0
8μmが好ましい。このような平板状粒子については米
国特許第5,264,337号、同5,314,798
号、同5,320,958号等に記載されており、容易
に目的の平板状粒子を得ることができる。本発明におい
て平板状粒子を用いた場合、さらに画像の鮮鋭性も向上
する。Another preferred form of silver halide grains is tabular grains. As used herein, the term “tabular grain” refers to an aspect ratio where the square root of the projected area of the silver halide grain is r μm and the thickness in the vertical direction is h μm = r / h.
Means three or more particles. Among them, the aspect ratio is preferably 3 or more and 50 or less. The particle size is 0.1μ
m or less, more preferably 0.01 to 0.0
8 μm is preferred. Such tabular grains are disclosed in U.S. Patent Nos. 5,264,337 and 5,314,798.
No. 5,320,958, and the like, and intended tabular grains can be easily obtained. When tabular grains are used in the present invention, the sharpness of an image is further improved.
【0029】ハロゲン化銀のハロゲン組成としては特に
制限はなく、塩化銀、塩臭化銀、塩沃臭化銀、臭化銀、
沃臭化銀、沃化銀のいずれであってもよい。本発明に用
いられるハロゲン化銀粒子を含有するハロゲン化銀乳剤
は、P.Glafkides著Chimie et P
hysique Photographique(Pa
ul Montel社刊、1967年)、G.F.Du
ffin著 Photographic Emulsi
on Chemistry(The Focal Pr
ess刊、1966年)、V.L.Zelikman
et al著Making and Coating
Photographic Emulsion(The
Focal Press刊、1964年)等に記載さ
れた方法を用いて調製することができる。The halogen composition of the silver halide is not particularly limited, and may be silver chloride, silver chlorobromide, silver chloroiodobromide, silver bromide,
Any of silver iodobromide and silver iodide may be used. Silver halide emulsions containing silver halide grains used in the present invention are described in P.I. Chimie et P by Glafkides
hysique Photographique (Pa
ul Montel, 1967); F. Du
Photographic Emulsi by fin
on Chemistry (The Focal Pr
ess, 1966); L. Zelikman
Making and Coating by et al
Photographic Emulsion (The
Focal Press, 1964) and the like.
【0030】本発明に用いられるハロゲン化銀粒子に
は、照度不軌改良や階調の調整のために、元素周期律表
の6族から10族に属する金属のイオンまたは錯体イオ
ンを含有させることが好ましい。上記の金属としては、
W、Fe、Co、Ni、Cu、Ru、Rh、Pd、R
e、Os、Ir、Pt、Auが好ましい。The silver halide grains used in the present invention may contain ions or complex ions of metals belonging to Groups 6 to 10 of the Periodic Table of the Elements for the purpose of improving illuminance failure and adjusting gradation. preferable. As the above metals,
W, Fe, Co, Ni, Cu, Ru, Rh, Pd, R
e, Os, Ir, Pt, and Au are preferred.
【0031】ハロゲン化銀粒子は、ヌードル法、フロキ
ュレーション法等、当業界で知られている方法の水洗に
より脱塩することができるが、本発明においては脱塩し
てもしなくてもよい。The silver halide grains can be desalted by washing with water by a method known in the art such as a noodle method or flocculation method, but in the present invention, it may or may not be desalted. .
【0032】本発明において、ハロゲン化銀粒子は化学
増感されていることが好ましい。好ましい化学増感法と
しては、当業界でよく知られている硫黄増感法、セレン
増感法、テルル増感法、金化合物や白金、パラジウム、
イリジウム化合物等の貴金属増感法や還元増感法を適宜
選択して用いることができる。ハロゲン化銀の形成方法
は当業界でよく知られており、例えば、リサーチ・ディ
スクロジャー17029(1978年6月)、米国特許
第3,700,458号等に記載されている方法を用い
ることができる。In the present invention, the silver halide grains are preferably chemically sensitized. Preferred chemical sensitization methods include sulfur sensitization, selenium sensitization, tellurium sensitization, gold compounds and platinum, palladium, which are well known in the art.
A noble metal sensitization method such as an iridium compound or a reduction sensitization method can be appropriately selected and used. A method for forming silver halide is well known in the art, and for example, a method described in Research Disclosure 17029 (June 1978), U.S. Pat. No. 3,700,458 or the like can be used. it can.
【0033】本発明においては、得られる画像の失透を
防ぐためには、ハロゲン化銀粒子および有機銀塩の総量
は、銀量に換算して熱現像感光材料1m2当たり0.3
〜2.2gであることが好ましく、0.5g〜1.5g
がより好ましい。また、この範囲にすることで硬調な画
像が得られる。また、銀総量に対するハロゲン化銀の量
は、質量比で好ましくは50%以下、より好ましくは2
5%以下、更に好ましくは0.1〜15%である。In the present invention, in order to prevent devitrification of the obtained image, the total amount of silver halide grains and organic silver salts is converted into 0.3 per 0.3 m 2 of the photothermographic material.
To 2.2 g, preferably 0.5 g to 1.5 g
Is more preferred. In addition, a high-contrast image can be obtained by setting this range. The amount of silver halide relative to the total amount of silver is preferably 50% or less by mass, more preferably 2% or less.
5% or less, more preferably 0.1 to 15%.
【0034】本発明において、ハロゲン化銀粒子は分光
増感することができる。分光増感色素としては、例え
ば、特開昭63−159841号、同60−14033
5号、同63−231437号、同63−259651
号、同63−304242号、同63−15245号等
の各公報、米国特許第4,639,414号、同第4,
740,455号、同第4,741,966号、同第
4,751,175号、同第4,835,096号等の
各明細書に記載された各増感色素を使用することができ
る。本発明に使用される有用な増感色素は、例えば、リ
サーチ・ディスクロジャー(以下「RD」と略記する)
17643IV−A項(1978年12月p.23)、
同1831X項(1978年8月p.437)に記載も
しくは引用された文献に記載されている。また、各種ス
キャナー光源の分光特性に適合した分光感度を有する分
光増感色素を選択することができ、例えば、特開平9−
34078号、同9−54409号、同9−80679
号記載の増感色素が好ましく用いられる。In the present invention, silver halide grains can be spectrally sensitized. Examples of the spectral sensitizing dye include, for example, JP-A-63-159814 and JP-A-60-14033.
No. 5, 63-231437, 63-259651
Nos. 63-304242 and 63-15245, and U.S. Pat. Nos. 4,639,414 and 4,
The sensitizing dyes described in each specification such as 740,455, 4,741,966, 4,751,175, and 4,835,096 can be used. . Useful sensitizing dyes used in the present invention include, for example, Research Disclosure (hereinafter abbreviated as “RD”).
Section 17643 IV-A (p. 23, December 1978),
No. 1831X (August 1978, p. 437). Further, a spectral sensitizing dye having a spectral sensitivity suitable for the spectral characteristics of various scanner light sources can be selected.
No. 34078, No. 9-54409, No. 9-80679
The sensitizing dye described in No. 1 is preferably used.
【0035】本発明の熱現像感光材料の画像記録層には
有機銀塩のための還元剤を含有する。好適な還元剤の例
は、米国特許第3,770,448号、同3,773,
512号、同3,593,863号、およびRD170
29およびRD29963に記載されており、次のもの
が挙げられる。The image recording layer of the photothermographic material of the present invention contains a reducing agent for an organic silver salt. Examples of suitable reducing agents are described in U.S. Patent Nos. 3,770,448 and 3,773.
No. 512, No. 3,593,863, and RD170
29 and RD29963, and include the following.
【0036】アミノヒドロキシシクロアルケノン化合物
(例えば、2−ヒドロキシ−3−ピペリジノ−2−シク
ロヘキセノン);還元剤の前駆体としてアミノレダクト
ン類(reductones)エステル(例えば、ピペ
リジノヘキソースレダクトンモノアセテート);N−ヒ
ドロキシ尿素誘導体(例えば、N−p−メチルフェニル
−N−ヒドロキシ尿素);アルデヒドまたはケトンのヒ
ドラゾン類(例えば、アントラセンアルデヒドフェニル
ヒドラゾン);ホスファーアミドフェノール類;ホスフ
ァーアミドアニリン類;ポリヒドロキシベンゼン類(例
えば、ヒドロキノン、t−ブチル−ヒドロキノン、イソ
プロピルヒドロキノンおよび(2,5−ジヒドロキシ−
フェニル)メチルスルホン);スルフヒドロキサム酸類
(例えば、ベンゼンスルフヒドロキサム酸);スルホン
アミドアニリン類(例えば、4−(N−メタンスルホン
アミド)アニリン);2−テトラゾリルチオヒドロキノ
ン類(例えば、2−メチル−5−(1−フェニル−5−
テトラゾリルチオ)ヒドロキノン);テトラヒドロキノ
キサリン類(例えば、1,2,3,4−テトラヒドロキ
ノキサリン);アミドオキシム類;アジン類;脂肪族カ
ルボン酸アリールヒドラザイド類とアスコルビン酸の組
み合わせ;ポリヒドロキシベンゼンとヒドロキシルアミ
ンの組み合わせ;レダクトンおよび/またはヒドラジ
ン;ヒドロキサン酸類;アジン類とスルホンアミドフェ
ノール類の組み合わせ;α−シアノフェニル酢酸誘導
体;ビス−β−ナフトールと1,3−ジヒドロキシベン
ゼン誘導体の組み合わせ;5−ピラゾロン類;スルホン
アミドフェノール還元剤;2−フェニルインダン−1,
3−ジオン等;クロマン;1,4−ジヒドロピリジン類
(例えば、2,6−ジメトキシ−3,5−ジカルボエト
キシ−1,4−ジヒドロピリジン);ビスフェノール類
(例えば、ビス(2−ヒドロキシ−3−t−ブチル−5
−メチルフェニル)メタン、ビス(6−ヒドロキシ−m
−トリ)メシトール(mesitol)、2,2−ビス
(4−ヒドロキシ−3−メチルフェニル)プロパン、
4,4−エチリデン−ビス(2−t−ブチル−6−メチ
ルフェノール))、紫外線感応性アスコルビン酸誘導
体;ヒンダードフェノール類;3−ピラゾリドン類。中
でも特に好ましい還元剤は、ヒンダードフェノール類で
ある。ヒンダードフェノール類としては、下記一般式
(1)で表される化合物が挙げられる。Aminohydroxycycloalkenone compounds (eg, 2-hydroxy-3-piperidino-2-cyclohexenone); aminoreductones esters (eg, piperidinohexose reductone monoacetate) as precursors of reducing agents N-hydroxyurea derivatives (for example, Np-methylphenyl-N-hydroxyurea); hydrazones of aldehydes or ketones (for example, anthracene aldehyde phenylhydrazone); phosphoramidophenols; phosphoramidoanilines; Hydroxybenzenes such as hydroquinone, t-butyl-hydroquinone, isopropylhydroquinone and (2,5-dihydroxy-
Phenyl) methylsulfone); sulfhydroxamic acids (e.g., benzenesulfhydroxamic acid); sulfonamidoanilines (e.g., 4- (N-methanesulfonamido) aniline); 2-tetrazolylthiohydroquinones (e.g., 2 -Methyl-5- (1-phenyl-5-
Tetrazolylthio) hydroquinone); tetrahydroquinoxalines (eg, 1,2,3,4-tetrahydroquinoxaline); amide oximes; azines; combinations of aliphatic carboxylic acid arylhydrazides and ascorbic acid; polyhydroxybenzene and hydroxylamine Reductone and / or hydrazine; hydroxanoic acids; combinations of azines and sulfonamidophenols; α-cyanophenylacetic acid derivatives; combinations of bis-β-naphthol and 1,3-dihydroxybenzene derivatives; 5-pyrazolones; Sulfonamide phenol reducing agent; 2-phenylindane-1,
3-dione and the like; chroman; 1,4-dihydropyridines (eg, 2,6-dimethoxy-3,5-dicarbethoxy-1,4-dihydropyridine); bisphenols (eg, bis (2-hydroxy-3- t-butyl-5
-Methylphenyl) methane, bis (6-hydroxy-m
-Tri) mesitol, 2,2-bis (4-hydroxy-3-methylphenyl) propane,
4,4-ethylidene-bis (2-t-butyl-6-methylphenol)), ultraviolet-sensitive ascorbic acid derivatives; hindered phenols; 3-pyrazolidones. Among them, particularly preferred reducing agents are hindered phenols. Examples of hindered phenols include compounds represented by the following general formula (1).
【0037】[0037]
【化1】 Embedded image
【0038】式中、Rは水素原子、または炭素原子数1
〜10のアルキル基(例えば、−C 4H9、2,4,4−
トリメチルペンチル)を表し、R′およびR″は、各々
炭素原子数1〜5のアルキル基(例えば、メチル、エチ
ル、tert−ブチル)を表す。In the formula, R is a hydrogen atom or a group having 1 carbon atom.
To 10 alkyl groups (for example, -C FourH9, 2,4,4-
Trimethylpentyl), and R ′ and R ″ are each
An alkyl group having 1 to 5 carbon atoms (e.g., methyl, ethyl
Tert-butyl).
【0039】請求項1〜4に係る熱現像感光材料の画像
記録層および/または画像記録保護層がバインダーの一
部として含有するヒドロキシル基含有量が4〜20質量
%のセルロースエステルについて説明する。上記セルロ
ースエステルとしては公知のセルロースエステル、例え
ば、セルロースナイトレート、セルロースアセテート、
セルロースアセテートプトピオネート、セルロースアセ
テートブチレート、セルロースプロピオネート、セルロ
ースブチレート等が使用可能であるが、セルロースアセ
テートブチレートおよびセルロースアセテートプロピオ
ネートが好ましい。ヒドロキシル基含有量が4〜20質
量%のセルロースエステルは他の種類の樹脂と併用した
場合でも相溶性にすぐれ、各層間の接着性を向上させる
ことができる。アセチル基の含有量は好ましくは0.2
〜50質量%、ブチリル基の含有量は好ましくは5〜6
0質量%、プロピオニル基の含有量は好ましくは5〜6
0質量%である。The cellulose ester having a hydroxyl group content of 4 to 20% by mass contained in the image recording layer and / or the image recording protective layer of the photothermographic material according to claims 1 to 4 will be described. Known cellulose esters as the cellulose ester, for example, cellulose nitrate, cellulose acetate,
Cellulose acetate topionate, cellulose acetate butyrate, cellulose propionate, cellulose butyrate, and the like can be used, but cellulose acetate butyrate and cellulose acetate propionate are preferred. A cellulose ester having a hydroxyl group content of 4 to 20% by mass has excellent compatibility even when used in combination with another type of resin, and can improve the adhesion between the respective layers. The acetyl group content is preferably 0.2
5050 mass%, butylyl group content is preferably 5-6
0 mass%, the content of propionyl group is preferably 5-6.
0% by mass.
【0040】ヒドロキシル基含有量が4質量%より少な
いと接着性改良の効果が十分でなく、ヒドロキシル基含
有量が20質量%より多いと、帯電特性が悪化したり、
熱現像後に脂肪酸が塗膜表面にブリードアウトしてくる
問題が発生して好ましくない。請求項1〜4に係る画像
記録層が含有する上記セルロースエステルのヒドロキシ
ル基の含有量は、好ましくは4〜12質量%、より好ま
しくは4〜8質量%である。When the content of the hydroxyl group is less than 4% by mass, the effect of improving the adhesiveness is not sufficient, and when the content of the hydroxyl group is more than 20% by mass, the charging characteristics deteriorate,
It is not preferable because fatty acid bleeds out on the surface of the coating film after thermal development. The content of the hydroxyl group in the cellulose ester contained in the image recording layer according to any one of claims 1 to 4 is preferably 4 to 12% by mass, and more preferably 4 to 8% by mass.
【0041】請求項1〜4に係る熱現像感光材料の画像
記録層および/または画像記録保護層がバインダーの一
部であるヒドロキシル基含有量が4〜20質量%のセル
ロースエステルは、画像記録層の全バインダー質量に対
して5〜50質量%の比率で含むことが好ましく、より
好ましくは10〜40質量%、さらに好ましくは15〜
35質量%である。また、画像記録保護層が含有するヒ
ドロキシル基含有量が4〜20質量%のセルロースエス
テルは、画像記録保護層の全バインダー質量に対して5
〜50質量%の比率で含むことが好ましく、より好まし
くは10〜40質量%、さらに好ましくは15〜35質
量%である。The cellulose ester having a hydroxyl group content of 4 to 20% by mass, wherein the image recording layer and / or the image recording protective layer of the photothermographic material according to any one of claims 1 to 4, is a part of a binder. Is preferably contained in a ratio of 5 to 50% by mass, more preferably 10 to 40% by mass, and still more preferably 15 to 50% by mass with respect to the total mass of the binder.
35% by mass. In addition, the cellulose ester having a hydroxyl group content of 4 to 20% by mass contained in the image recording protective layer is 5% based on the total binder mass of the image recording protective layer.
It is preferably contained at a ratio of 5050% by mass, more preferably 10 to 40% by mass, and still more preferably 15 to 35% by mass.
【0042】また、画像記録層および画像記録保護層
に、ヒドロキシル基含有量が4〜20質量%のセルロー
スエステルを、これらの層のバインダー質量に対してそ
れぞれ10〜70質量%の比率で含むことが好ましく、
より好ましくは15〜65質量%、さらに好ましくは2
0〜60質量%である。Further, the image recording layer and the image recording protective layer each contain a cellulose ester having a hydroxyl group content of 4 to 20% by mass in a ratio of 10 to 70% by mass with respect to the binder mass of these layers. Is preferred,
More preferably, 15 to 65% by mass, still more preferably 2 to 65% by mass.
0 to 60% by mass.
【0043】請求項1〜4に係る熱現像感光材料の画像
記録層および/または画像記録保護層が含有するバイン
ダーの一部としてヒドロキシル基含有量が4〜20質量
%のセルロースエステルを含有する。このセルロースエ
ステル以外のバインダーとしては、熱現像感光材料の画
像記録層および画像記録保護層のバインダーとして公知
の高分子化合物(樹脂)を使用することができる。好ま
しいバインダーとして次のような疎水性樹脂および親水
性樹脂が挙げられ、それぞれの適性に応じて使い分けら
れる。The photothermographic material according to any one of claims 1 to 4, further comprises a cellulose ester having a hydroxyl group content of 4 to 20% by mass as a part of the binder contained in the image recording layer and / or the image recording protective layer. As the binder other than the cellulose ester, a polymer compound (resin) known as a binder for the image recording layer and the image recording protective layer of the photothermographic material can be used. Preferred binders include the following hydrophobic resins and hydrophilic resins, which can be used depending on their suitability.
【0044】疎水性樹脂は、熱現像後のカブリを低減さ
せる等の利点を有し、好ましい疎水性樹脂としては、ポ
リビニルブチラール、セルロースアセテート、セルロー
スアセテートブチレート、ポリエステル、ポリカーボネ
ート、アクリル樹脂、ポリウレタン、塩化ビニル樹脂等
が挙げられる。その中でもポリビニルブチラール、セル
ロースアセテート、セルロースアセテートブチレート、
ポリエステル、ポリウレタンは特に好ましく用いられ
る。The hydrophobic resin has advantages such as reducing fog after thermal development. Preferred hydrophobic resins include polyvinyl butyral, cellulose acetate, cellulose acetate butyrate, polyester, polycarbonate, acrylic resin, polyurethane, and the like. And vinyl chloride resin. Among them, polyvinyl butyral, cellulose acetate, cellulose acetate butyrate,
Polyester and polyurethane are particularly preferably used.
【0045】親水性樹脂としては、例えばアクリル樹
脂、ポリエステル、ポリウレタン、塩化ビニル樹脂、塩
化ビニリデン樹脂、ゴム系樹脂(例えばSBR樹脂やN
BR樹脂)、酢酸ビニル樹脂、ポリオレフィン、ポリビ
ニルアセタールなどがある。上記樹脂は単一の単量体が
重合した単一重合体でもよいし、2種以上の単量体が共
重合した共重合体でもよく、構造が直鎖状のものでも枝
分かれしたものでもよい。さらに樹脂同士が架橋されて
いるものでもよい。As the hydrophilic resin, for example, acrylic resin, polyester, polyurethane, vinyl chloride resin, vinylidene chloride resin, rubber resin (for example, SBR resin or N
(BR resin), vinyl acetate resin, polyolefin, polyvinyl acetal and the like. The resin may be a homopolymer in which a single monomer is polymerized, or a copolymer in which two or more monomers are copolymerized, and may have a linear or branched structure. Further, the resins may be cross-linked.
【0046】上記樹脂は市販もされていて、以下のよう
なものが利用できる。アクリル樹脂としては、例えば、
セビアンA−4635、46583、4601(以上ダ
イセル化学工業(株)製)、Nipol LX811、
814、820、821、857(以上日本ゼオン
(株)製)等。ポリエステルとしては、例えば、FIN
ETEX ES650、611、679、675、52
5、801、850(以上大日本インキ化学(株)
製)、WDsize WHS(イーストマンケミカル
製)等。ポリウレタンとしては、例えば、HYDRAN
AP10、20、30、40、101H、HYDRA
N HW301、310、350(以上大日本インキ化
学(株)製)など、塩化ビニリデン樹脂としては、例え
ば、L502、L513、L123c、L106c、L
111、L114(以上旭化成工業(株)製)など、塩
化ビニル樹脂としては、例えば、G351、G576
(以上日本ゼオン(株)製)など、ポリオレフィンとし
ては、例えば、ケミパールS−120、S−300、S
A−100、A−100、V−100、V−200、V
−300(以上三井石油化学(株)製)などがある。こ
れらの樹脂は、1種のみを用いてもよいし、2種類以上
ブレンドして用いてもよい。The above resins are also commercially available, and the following can be used. As an acrylic resin, for example,
Sebian A-4635, 46583, 4601 (all manufactured by Daicel Chemical Industries, Ltd.), Nipol LX811,
814, 820, 821, 857 (all manufactured by Zeon Corporation) and the like. As the polyester, for example, FIN
ETEX ES650, 611, 679, 675, 52
5,801,850 (Dai Nippon Ink Chemical Co., Ltd.)
WDsize WHS (manufactured by Eastman Chemical). As the polyurethane, for example, HYDRAN
AP10, 20, 30, 40, 101H, HYDRA
Examples of vinylidene chloride resins such as NHW301, 310, and 350 (all manufactured by Dainippon Ink and Chemicals, Inc.) include L502, L513, L123c, L106c, and L106.
Examples of vinyl chloride resins such as 111 and L114 (all manufactured by Asahi Kasei Corporation) include G351 and G576.
(Nippon Zeon Co., Ltd.) and the like, for example, Chemipearl S-120, S-300, S
A-100, A-100, V-100, V-200, V
-300 (all manufactured by Mitsui Petrochemical Co., Ltd.). These resins may be used alone or in a combination of two or more.
【0047】また、これらの樹脂は、−SO3M、−O
SO3M、−PO(OM1)2および−OPO(OM1)2
(但し、Mは水素原子またはNa、K、Li等のアルカ
リ金属原子を表し、M1は水素原子、Na、K、Li等
のアルカリ金属原子またはアルキル基を表す)から選ば
れる少なくとも1種の極性基を有することが好ましく、
中でも−SO3Na,−SO3K,−OSO3Na,−O
SO3Kを有することが好ましい。上記樹脂の分子量
は、重量平均分子量で通常5000〜100000であ
り、好ましくは10000〜50000である。画像記
録層のバインダーとして用いられる樹脂は、これらの中
でもアクリル樹脂、ポリビニルアセタール、ゴム系樹
脂、ポリウレタン、およびポリエステルが好ましく、ス
チレン−ブタジエン樹脂、ポリウレタン、およびポリエ
ステルがより好ましい。(画像記録層の)バインダーの
ガラス転移温度(Tg)は、好ましくは45〜150
℃、より好ましくは60℃〜120℃である。画像記録
保護層やバックコート層に用いられるバインダーは、こ
れらの中でもセルロースエステル、アクリル樹脂、およ
びポリウレタンが好ましい。該層のバインダーのガラス
転移温度(Tg)は好ましくは75〜200℃、より好
ましくは100℃〜160℃である。These resins are represented by —SO 3 M, —O
SO 3 M, -PO (OM 1 ) 2 and -OPO (OM 1) 2
(However, M represents a hydrogen atom or an alkali metal atom such as Na, K, and Li, and M 1 represents a hydrogen atom, an alkali metal atom such as Na, K, and Li or an alkyl group) It is preferable to have a polar group,
Among them -SO 3 Na, -SO 3 K, -OSO 3 Na, -O
It preferably has SO 3 K. The molecular weight of the resin is usually 5,000 to 100,000, preferably 10,000 to 50,000 in terms of weight average molecular weight. Among these, the resin used as the binder for the image recording layer is preferably an acrylic resin, polyvinyl acetal, a rubber-based resin, polyurethane, or polyester, and more preferably a styrene-butadiene resin, polyurethane, or polyester. The glass transition temperature (Tg) of the binder (of the image recording layer) is preferably from 45 to 150.
° C, more preferably 60 ° C to 120 ° C. The binder used for the image recording protective layer and the back coat layer is preferably a cellulose ester, an acrylic resin, or a polyurethane. The glass transition temperature (Tg) of the binder in the layer is preferably from 75 to 200C, more preferably from 100 to 160C.
【0048】上記高分子化合物は、本発明の画像記録層
および画像記録保護層以外のバックコート層、下引き層
等のバインダーとしても用いられる。The above-mentioned polymer compound is also used as a binder for a back coat layer, an undercoat layer and the like other than the image recording layer and the image recording protective layer of the present invention.
【0049】請求項1〜4に係る熱現像感光材料の好ま
しい1つの形態として、画像記録保護層がヒドロキシル
基含有量が0.5〜3質量%の樹脂(A)とヒドロキシ
ル基含有量が4〜20質量%の樹脂(B)を含有し、樹
脂(A)/樹脂(B)の質量比率が95/5〜50/5
0である形態が挙げられる。この形態により、接着性を
良好に保ったままで、表面比抵抗の値を良好なレベルに
維持できるという効果が得られる。In a preferred embodiment of the photothermographic material according to claims 1 to 4, the image recording protective layer comprises a resin (A) having a hydroxyl group content of 0.5 to 3% by mass and a hydroxyl group content of 4%. -20% by mass of resin (B), and the mass ratio of resin (A) / resin (B) is 95/5 to 50/5.
0 is mentioned. According to this embodiment, it is possible to obtain an effect that the value of the surface resistivity can be maintained at a favorable level while maintaining good adhesion.
【0050】上記樹脂(A)のヒドロキシル基含有量は
好ましくは0.7〜2.5質量%、より好ましくは1.
0〜2.0質量%である。画像記録保護層に含まれる樹
脂(A)と樹脂(B)の質量比率(A)/(B)は好ま
しくは90/10〜60/40であり、より好ましくは
85/15〜65/35である。The resin (A) preferably has a hydroxyl group content of 0.7 to 2.5% by mass, more preferably 1.
0 to 2.0% by mass. The mass ratio (A) / (B) of the resin (A) and the resin (B) contained in the image recording protective layer is preferably from 90/10 to 60/40, more preferably from 85/15 to 65/35. is there.
【0051】ヒドロキシル基含有量が0.5〜3質量%
の樹脂(A)としては、ヒドロキシル基含有量を上記範
囲の鹸化度としたセルロースエステルが使用可能であ
る。セルロースエステルとしてはセルロースアセテート
ブチレートおよびセルロースアセテートプロピオネート
が好ましく用いられる。また、上記含有量のヒドロキシ
ル基を有するポリ酢酸ビニル、ポリビニルアセタール、
ヒドロキシエチル(メタ)クリレートなどが挙げられ
る。The hydroxyl group content is 0.5 to 3% by mass
As the resin (A), a cellulose ester having a hydroxyl group content with a saponification degree in the above range can be used. As the cellulose ester, cellulose acetate butyrate and cellulose acetate propionate are preferably used. Further, polyvinyl acetate having a hydroxyl group of the above content, polyvinyl acetal,
Hydroxyethyl (meth) acrylate;
【0052】ヒドロキシル基含有量が4〜20質量%の
樹脂(B)としては、ヒドロキシル基含有量を上記範囲
の鹸化度としたセルロースエステルが使用可能である。
セルロースエステルとしてはセルロースアセテートブチ
レートおよびセルロースアセテートプロピオネートが好
ましく用いられる。また、上記含有量のヒドロキシル基
を有するポリ酢酸ビニル、ポリビニルアセタール、ヒド
ロキシエチル(メタ)クリレートなどが挙げられる。As the resin (B) having a hydroxyl group content of 4 to 20% by mass, a cellulose ester having a hydroxyl group content in a saponification degree within the above range can be used.
As the cellulose ester, cellulose acetate butyrate and cellulose acetate propionate are preferably used. Further, polyvinyl acetate, polyvinyl acetal, hydroxyethyl (meth) acrylate having a hydroxyl group having the above-mentioned content and the like can be mentioned.
【0053】上記樹脂(A)および(B)の数平均分子
量(Mn)は、好ましくは5000〜100000、よ
り好ましくは10000〜80000の範囲である。The number average molecular weight (Mn) of the resins (A) and (B) is preferably in the range of 5,000 to 100,000, more preferably 10,000 to 80,000.
【0054】請求項1〜5に係る熱現像感光材料の画像
記録層は、該層の全バインダーの50質量%以上がポリ
マーラテックスからなり、該画像記録層塗布液の溶媒の
30質量%以上が水である塗布液を塗布、乾燥して形成
されたものであることが好ましい。上記ポリマーラテッ
クスの全バインダーに対する含有率は、より好ましくは
65質量%以上、さらに好ましくは80質量%以上であ
る。該ポリマーラテックスは、ポリマーが水系分散媒に
分散したものであり、上記質量%はポリマーの質量%で
ある。また、上記溶媒の45質量%以上が水であること
がより好ましく、60質量%以上が水であることがさら
に好ましい。この形態により、熱現像で得られた画像の
濃度むら、最大濃度および搬送性の改善効果がより高く
なり、また生産効率が高く、環境適性にも優れている等
の利点が得られる。In the image recording layer of the photothermographic material according to any one of claims 1 to 5, 50% by mass or more of the total binder of the layer is composed of a polymer latex, and 30% by mass or more of the solvent of the image recording layer coating solution is 30% by mass or more. It is preferably formed by applying and drying a coating liquid which is water. The content of the polymer latex with respect to the total binder is more preferably 65% by mass or more, and further preferably 80% by mass or more. The polymer latex is obtained by dispersing a polymer in an aqueous dispersion medium, and the above-mentioned mass% is the mass% of the polymer. Further, it is more preferable that 45% by mass or more of the solvent is water, and it is further preferable that 60% by mass or more is water. According to this embodiment, the effects of improving the density unevenness, the maximum density, and the transportability of the image obtained by the heat development are further enhanced, and the production efficiency is high, and the environmental suitability is excellent.
【0055】上記ポリマーラテックスの好ましい具体例
としては以下のようなものが挙げられる。Preferred specific examples of the polymer latex include the following.
【0056】PL−1:−(MMA)50−(EA)45−
(AA)5−のラテックス(Mw=3万) PL−2:−(2EHA)30−(MMA)50−(St)
15−(MAA)5−のラテックス(Mw=5万) PL−3:−(BR)50−(St)47−(AA)3−の
ラテックス(Mw=1万) PL−4:−(BR)40−(DVB)10−(St)45−
(MAA)5−のラテックス(Mw=5万) PL−5:−(VC)70−(MMA)25−(AA)5−
のラテックス(Mw=1.5万) PL−6:−(VDC)60−(MMA)30−(EA)5
−(MAA)5−のラテックス(Mw=8万) 上記において、略号は以下に示す単量体から誘導される
構成単位を表し、数値は質量%である。[0056] PL-1 :-( MMA) 50 - (EA) 45 -
(AA) 5 - latex (Mw = 3 million in) PL-2 :-( 2EHA) 30 - (MMA) 50 - (St)
15 - (MAA) 5 - latex (Mw = 5 million in) PL-3 :-( BR) 50 - (St) 47 - (AA) 3 - latex (Mw = 1 million in) PL-4 :-( BR ) 40- (DVB) 10- (St) 45-
(MAA) 5 - latex (Mw = 5 million in) PL-5 :-( VC) 70 - (MMA) 25 - (AA) 5 -
Latex (Mw = 1.5 million in) PL-6 :-( VDC) 60 - (MMA) 30 - (EA) 5
-(MAA) 5- Latex (Mw = 80,000) In the above, abbreviations represent structural units derived from the following monomers, and numerical values are% by mass.
【0057】MMA:メチルメタクリレート、EA:エ
チルアクリレート、AA:アクリル酸、2EHA:2−
エチルヘキシルアクリレート、St:スチレン、MA
A:メタクリル酸、BR:ブタジエン、DVB:ジビニ
ルベンゼン、VC:塩化ビニル、VDC:塩化ビニリデ
ン。MMA: methyl methacrylate, EA: ethyl acrylate, AA: acrylic acid, 2EHA: 2-
Ethylhexyl acrylate, St: styrene, MA
A: methacrylic acid, BR: butadiene, DVB: divinylbenzene, VC: vinyl chloride, VDC: vinylidene chloride.
【0058】また、この様なポリマーは市販もされてい
て以下のようなものが利用できる。例えば、アクリル樹
脂としては、セビアンA−4635、46583、46
01(以上、ダイセル化学工業(株)製)、Nipol
LX811、814、820、821、857(以上
日本ゼオン(株)製)等。ポリエステル樹脂としては、
FINETEX ES650、611、679、67
5、525、801、850(以上、大日本インキ化学
(株)製)、WDsize WHS(イーストマンケミ
カル製)等。ポリウレタン樹脂としては、HYDRAN
AP10、20、30、40、101H、HYDRA
N HW301、310、350(以上大日本インキ化
学(株)製)など、塩化ビニリデン樹脂としては、L5
02、L513、L123c、L106c、L111、
L114(以上旭化成工業(株)製)など、塩化ビニル
樹脂としては、G351、G576(以上、日本ゼオン
(株)製)など、ポリオレフィン樹脂としては、ケミパ
ールS−120、S−300、SA−100、A−10
0、V−100、V−200、V−300(以上、三井
石油化学(株)製)などがある。本発明においては、バ
インダーはこれらのポリマーを単独で用いてもよいし、
2種類以上ブレンドして用いてもよい。Such a polymer is also commercially available, and the following can be used. For example, as the acrylic resin, Sebian A-4635, 46583, 46
01 (both manufactured by Daicel Chemical Industries, Ltd.), Nipol
LX811, 814, 820, 821, 857 (all manufactured by Nippon Zeon Co., Ltd.) and the like. As polyester resin,
FINITEX ES650, 611, 679, 67
5, 525, 801, 850 (all manufactured by Dainippon Ink and Chemicals, Inc.), WDsize WHS (manufactured by Eastman Chemical), and the like. As the polyurethane resin, HYDRAN
AP10, 20, 30, 40, 101H, HYDRA
Examples of vinylidene chloride resins such as N HW301, 310, and 350 (all manufactured by Dainippon Ink and Chemicals, Inc.) include L5
02, L513, L123c, L106c, L111,
Examples of vinyl chloride resins such as L114 (manufactured by Asahi Kasei Kogyo Co., Ltd.) include G351 and G576 (manufactured by Nippon Zeon Co., Ltd.). Examples of polyolefin resins include Chemipearl S-120, S-300, and SA-100. , A-10
0, V-100, V-200, and V-300 (all manufactured by Mitsui Petrochemical Co., Ltd.). In the present invention, the binder may be used alone these polymers,
Two or more types may be blended and used.
【0059】また、これらの樹脂は−SO3M、−OS
O3M、−PO(OM1)2および−OPO(OM1)
2(但し、Mは水素原子またはNa、K、Li等のアル
カリ金属原子を表し、M1は水素原子、Na、K、Li
等のアルカリ金属原子またはアルキル基を表す)から選
ばれる少なくとも1種の極性基を含むことが好ましい。These resins are -SO 3 M, -OS
O 3 M, -PO (OM 1 ) 2 and -OPO (OM 1)
2 (where M represents a hydrogen atom or an alkali metal atom such as Na, K, Li, etc., and M 1 represents a hydrogen atom, Na, K, Li
And at least one polar group selected from the group consisting of an alkali metal atom and an alkyl group.
【0060】上記ポリマーラテックスの数平均分子量
(Mn)は、好ましくは5000〜1500000、よ
り好ましくは10000〜100000の範囲である。The number average molecular weight (Mn) of the polymer latex is preferably in the range of 5,000 to 1500,000, more preferably 10,000 to 100,000.
【0061】請求項1に係る熱現像感光材料は、画像記
録層にバインダーの一部としてアクリル樹脂を含有する
ことができる。アクリル樹脂としては、単一の単量体が
重合した単一重合体でも、また2種以上の単量体が共重
合した共重合体でもよく、共重合体はアクリル類以外の
単量体単位を含む共重合体でも良い。また、構造が直鎖
状のものでも枝分かれしたものでもよく、樹脂の分子量
としては重量平均分子量Mwが好ましくは1000〜1
00万、より好ましくは3000〜50万のものであ
る。共重合体のとき、ランダム共重合体でもブロック共
重合体でもよい。具体的には、ポリメタクリレート、ポ
リメチルメタクリレート、ポリアクリレート、ポリアル
キルメタクリレート/アクリレート共重合体、ポリスチ
レン/ポリメタクリレート共重合体などが挙げられる。The photothermographic material according to claim 1 can contain an acrylic resin as a part of the binder in the image recording layer. The acrylic resin may be a homopolymer in which a single monomer is polymerized, or a copolymer in which two or more monomers are copolymerized. The copolymer may be a monomer unit other than acrylics. May be included. The resin may have a linear or branched structure, and the resin has a weight average molecular weight Mw of preferably from 1,000 to 1,
One million, more preferably 3000 to 500,000. When it is a copolymer, it may be a random copolymer or a block copolymer. Specific examples include polymethacrylate, polymethyl methacrylate, polyacrylate, polyalkyl methacrylate / acrylate copolymer, and polystyrene / polymethacrylate copolymer.
【0062】画像記録層に含まれるアクリル樹脂の含有
量は画像記録層の全バインダー質量に対して通常1〜5
0質量%、好ましくは2〜30質量%、より好ましくは
3〜10質量%である。これらの範囲とすることで、併
用するバインダーとの相溶性が悪い場合でも透明な塗膜
を得ることが可能であり、ヘイズ値を小さくおさえるこ
とができる。The content of the acrylic resin contained in the image recording layer is usually 1 to 5 with respect to the total binder mass of the image recording layer.
0 mass%, preferably 2 to 30 mass%, more preferably 3 to 10 mass%. When the content is within these ranges, a transparent coating film can be obtained even when the compatibility with the binder used in combination is poor, and the haze value can be kept small.
【0063】請求項1〜6に係る熱現像感光材料には、
支持体と画像記録層の間にアクリル樹脂および/または
ポリエステルを含有する下塗り層を有していてもよい。
アクリル樹脂としては、メチルメタクリレート、エチル
アクリレート、アクリル酸、メタクリル酸、2−エチル
ヘキシルアクリレート等の単独重合体または2種以上を
共重合させた共重合体、メタクリル酸とスチレンの共重
合体、これらの単量体とブタジエン、ジビニルベンゼ
ン、塩化ビニル、塩化ビニリデン等との共重合体が挙げ
られる。The photothermographic material according to claims 1 to 6 includes:
An undercoat layer containing an acrylic resin and / or polyester may be provided between the support and the image recording layer.
As the acrylic resin, a homopolymer such as methyl methacrylate, ethyl acrylate, acrylic acid, methacrylic acid, 2-ethylhexyl acrylate, or a copolymer obtained by copolymerizing two or more thereof, a copolymer of methacrylic acid and styrene, Copolymers of a monomer with butadiene, divinylbenzene, vinyl chloride, vinylidene chloride and the like can be mentioned.
【0064】また、この様な樹脂は市販もされていて以
下のようなものが利用できる。例えばアクリル樹脂とし
ては、セビアンA−4635、46583、4601
(以上ダイセル化学工業(株)製)、Nipol LX
811、814、820、821、857(以上日本ゼ
オン(株)製)等がある。Further, such resins are commercially available, and the following resins can be used. For example, as the acrylic resin, Sebian A-4635, 46583, 4601
(Daicel Chemical Industries, Ltd.), Nipol LX
811, 814, 820, 821, and 857 (all manufactured by Nippon Zeon Co., Ltd.).
【0065】ポリエステル樹脂としては、FINETE
X ES650、611、679、675、525、8
01、850(以上大日本インキ化学(株)製)、WD
size WHS(イーストマンケミカル製)等を用い
ることができる。本発明においては、バインダーはこれ
らのポリマーを単独で用いてもよいし、2種類以上ブレ
ンドして用いてもよい。As the polyester resin, FINITE
X ES650, 611, 679, 675, 525, 8
01, 850 (all manufactured by Dainippon Ink and Chemicals, Inc.), WD
Size WHS (manufactured by Eastman Chemical) or the like can be used. In the present invention, these binders may be used alone or as a blend of two or more.
【0066】下塗り層には、架橋のための架橋剤、塗布
性改良のための界面活性剤などを添加してもよい。架橋
剤としては、イソシアナート基、ビニルスルホニル基、
またはエポキシ基を有する架橋剤が好ましく、特に好ま
しい架橋剤として、イソシアナート基、ビニルスルホニ
ル基、またはエポキシ基をそれぞれ2個有する多官能型
架橋剤が挙げられる。The undercoat layer may contain a crosslinking agent for crosslinking and a surfactant for improving coating properties. As a crosslinking agent, an isocyanate group, a vinylsulfonyl group,
Alternatively, a crosslinking agent having an epoxy group is preferred, and a particularly preferred crosslinking agent is a polyfunctional crosslinking agent having two isocyanate groups, vinylsulfonyl groups, or two epoxy groups.
【0067】下引き液の濃度は通常20質量%以下が好
ましく、より好ましくは15質量%以下である。塗布量
は熱現像感光材料1m2当たり乾燥質量で好ましくは1
〜20g、より好ましくは5〜15gの範囲である。The concentration of the undercoat liquid is usually preferably 20% by mass or less, more preferably 15% by mass or less. The coating amount is preferably 1 dry mass per 1 m 2 of the photothermographic material.
-20 g, more preferably 5-15 g.
【0068】本発明の熱現像記録材料は硬調化剤を含有
することが好ましい。硬調化剤として、下記一般式
(H)で表されるヒドラジン誘導体、一般式(G)で表
される化合物、一般式(P)で表される4級オニウム化
合物、一般式(A)〜(D)で表される化合物およびヒ
ドロキシアミン、アルカノールアミン、フタル酸アンモ
ニウム化合物等が挙げられる。まず、下記一般式(H)
で表されるヒドラジン誘導体について説明する。The heat-developable recording material of the present invention preferably contains a high contrast agent. As a high contrast agent, a hydrazine derivative represented by the following general formula (H), a compound represented by the general formula (G), a quaternary onium compound represented by the general formula (P), a general formula (A) to ( The compound represented by D), a hydroxyamine, an alkanolamine, an ammonium phthalate compound, etc. are mentioned. First, the following general formula (H)
The hydrazine derivative represented by is described.
【0069】[0069]
【化2】 Embedded image
【0070】式中、A0はそれぞれ置換基を有してもよ
い脂肪族基、芳香族基、複素環基または−G0−D0基
を、B0はブロッキング基を表し、A1およびA2はとも
に水素原子、または一方が水素原子で他方はアシル基、
スルホニル基またはオキザリル基を表す。ここで、G0
は−CO−基、−COCO−基、−CS−基、−C(=
NG1D1)−基、−SO−基、−SO2−基または−P
(O)(G1D1)−基を表し、G1は単なる結合手、−
O−基、−S−基または−N(D1)−基を表し、D1は
脂肪族基、芳香族基、複素環基または水素原子を表し、
分子内に複数のD1が存在する場合、それらは同じであ
っても異なってもよい。D0は水素原子、脂肪族基、芳
香族基、複素環基、アミノ基、アルコキシ基、アリール
オキシ基、アルキルチオ基、アリールチオ基を表す。好
ましいD0としては水素原子、アルキル基、アルコキシ
基、アミノ基等が挙げられる。In the formula, A 0 represents an aliphatic group, an aromatic group, a heterocyclic group or a -G 0 -D 0 group which may have a substituent, B 0 represents a blocking group, and A 1 and A 2 is a hydrogen atom, or one is a hydrogen atom and the other is an acyl group,
Represents a sulfonyl group or an oxalyl group. Where G 0
Is -CO-, -COCO-, -CS-, -C (=
NG 1 D 1 ) —, —SO—, —SO 2 — or —P
(O) represents a (G 1 D 1 ) — group, wherein G 1 is a mere bond;
O—, —S— or —N (D 1 ) —, wherein D 1 represents an aliphatic group, an aromatic group, a heterocyclic group or a hydrogen atom;
When multiple D 1 are present in a molecule, they may be the same or different. D 0 represents a hydrogen atom, an aliphatic group, an aromatic group, a heterocyclic group, an amino group, an alkoxy group, an aryloxy group, an alkylthio group, or an arylthio group. Preferred D 0 includes a hydrogen atom, an alkyl group, an alkoxy group, an amino group and the like.
【0071】一般式(H)において、A0で表される脂
肪族基は好ましくは炭素数1〜30のものであり、特に
炭素数1〜20の直鎖、分岐または環状のアルキル基が
好ましく、例えばメチル基、エチル基、t−ブチル基、
オクチル基、シクロヘキシル基、ベンジル基等が挙げら
れ、これらは更に適当な置換基(例えば、アリール基、
アルコキシ基、アリールオキシ基、アルキルチオ基、ア
リールチオ基、スルホキシ基、スルホンアミド基、スル
ファモイル基、アシルアミノ基、ウレイド基等)で置換
されていてもよい。In the general formula (H), the aliphatic group represented by A 0 preferably has 1 to 30 carbon atoms, and particularly preferably a linear, branched or cyclic alkyl group having 1 to 20 carbon atoms. For example, a methyl group, an ethyl group, a t-butyl group,
Octyl group, cyclohexyl group, benzyl group and the like. These are further suitable substituents (for example, aryl group,
Alkoxy, aryloxy, alkylthio, arylthio, sulfoxy, sulfonamido, sulfamoyl, acylamino, ureido, etc.).
【0072】一般式(H)において、A0で表される芳
香族基は、単環または縮合環のアリール基が好ましく、
例えばベンゼン環またはナフタレン環が挙げられ、A0
で表される複素環基としては、単環または縮合環で窒
素、硫黄、および酸素原子から選ばれる少なくとも一つ
のヘテロ原子を含む複素環が好ましく、例えばピロリジ
ン環、イミダゾール環、テトラヒドロフラン環、モルホ
リン環、ピリジン環、ピリミジン環、キノリン環、チア
ゾール環、ベンゾチアゾール環、チオフェン環、フラン
環等が挙げられる。A0で表される芳香族基、複素環基
および−G0−D0基は置換基を有していてもよい。A0
として、特に好ましいものはアリール基、−G0−D
0基、および置換アルキル基である。In the general formula (H), the aromatic group represented by A 0 is preferably a monocyclic or condensed-ring aryl group.
For example, a benzene ring or a naphthalene ring is mentioned, and A 0
The heterocyclic group represented by is preferably a heterocyclic ring containing at least one hetero atom selected from nitrogen, sulfur, and oxygen atoms in a single ring or a condensed ring, for example, a pyrrolidine ring, an imidazole ring, a tetrahydrofuran ring, a morpholine ring Pyridine ring, pyrimidine ring, quinoline ring, thiazole ring, benzothiazole ring, thiophene ring, furan ring and the like. Aromatic group represented by A 0, heterocyclic group or -G 0 -D 0 group may have a substituent. A 0
Are particularly preferably an aryl group, -G 0 -D
0 group and substituted alkyl group.
【0073】また、一般式(H)において、A0は耐拡
散基またはハロゲン化銀吸着基を少なくとも一つ含むこ
とが好ましい。耐拡散基としては、カプラー等の不動性
写真用添加剤にて常用されるバラスト基が好ましく、バ
ラスト基としては、写真的に不活性であるアルキル基、
アルケニル基、アルキニル基、アルコキシ基、フェニル
基、フェノキシ基、アルキルフェノキシ基等が挙げら
れ、置換基部分の炭素数の合計は8以上であることが好
ましい。In the general formula (H), A 0 preferably contains at least one diffusion-resistant group or silver halide-adsorbing group. As the diffusion-resistant group, a ballast group commonly used in immobile photographic additives such as couplers is preferable, and as the ballast group, a photographically inert alkyl group,
Examples thereof include an alkenyl group, an alkynyl group, an alkoxy group, a phenyl group, a phenoxy group, and an alkylphenoxy group. The total number of carbon atoms in the substituent is preferably 8 or more.
【0074】ハロゲン化銀吸着基としては、チオ尿素、
チオウレタン基、メルカプト基、チオエーテル基、チオ
ン基、複素環基、チオアミド複素環基、メルカプト複素
環基或いは特開昭64−90439号に記載の吸着基等
が挙げられる。As the silver halide adsorbing group, thiourea,
Examples include a thiourethane group, a mercapto group, a thioether group, a thione group, a heterocyclic group, a thioamide heterocyclic group, a mercapto heterocyclic group, and an adsorption group described in JP-A-64-90439.
【0075】一般式(H)において、B0はブロッキン
グ基を表し、好ましくは−G0−D0基であり、G0は−
CO−基、−COCO−基、−CS−基、−C(=NG
1D1)−基、−SO−基、−SO2−基または−P
(O)(G1D1)−基を表す。好ましいG0としては−
CO−基、−COCO−基が挙げられ、G1は単なる結
合手、−O−基、−S−基または−N(D1)−基を表
し、D1は脂肪族基、芳香族基、複素環基または水素原
子を表し、分子内に複数のD1が存在する場合、それら
は同じであっても異なってもよい。D0は水素原子、脂
肪族基、芳香族基、複素環基、アミノ基、アルコキシ
基、アリールオキシ基、アルキルチオ基、アリールチオ
基を表し、好ましいD0としては水素原子、アルキル
基、アルコキシ基、アミノ基等が挙げられる。A1、A2
はともに水素原子、または一方が水素原子で他方はアシ
ル基(アセチル基、トリフルオロアセチル基、ベンゾイ
ル基等)、スルホニル基(メタンスルホニル基、トルエ
ンスルホニル基等)、またはオキザリル基(エトキザリ
ル基等)を表す。In the general formula (H), B 0 represents a blocking group, preferably a -G 0 -D 0 group, and G 0 represents-
CO- group, -COCO- group, -CS- group, -C (= NG
1 D 1) - group, -SO- group, -SO 2 - group or -P
(O) represents a (G 1 D 1 ) — group. Preferred G 0 is-
A CO— group and a —COCO— group, and G 1 represents a simple bond, a —O— group, a —S— group, or a —N (D 1 ) — group, and D 1 represents an aliphatic group or an aromatic group. , A heterocyclic group or a hydrogen atom, and when a plurality of D 1 are present in the molecule, they may be the same or different. D 0 represents a hydrogen atom, an aliphatic group, an aromatic group, a heterocyclic group, an amino group, an alkoxy group, an aryloxy group, an alkylthio group, or an arylthio group, and preferred D 0 is a hydrogen atom, an alkyl group, an alkoxy group, And an amino group. A 1 , A 2
Are both hydrogen atoms, or one is a hydrogen atom and the other is an acyl group (acetyl group, trifluoroacetyl group, benzoyl group, etc.), a sulfonyl group (methanesulfonyl group, toluenesulfonyl group, etc.), or an oxalyl group (ethoxalyl group, etc.) Represents
【0076】更に好ましいヒドラジン誘導体は、下記一
般式(H−1)、(H−2)、(H−3)、または(H
−4)で表される。More preferred hydrazine derivatives are represented by the following general formulas (H-1), (H-2), (H-3) or (H
-4).
【0077】[0077]
【化3】 Embedded image
【0078】一般式(H−1)において、R11、R12お
よびR13はそれぞれ独立に置換もしくは無置換のアリー
ル基または複素環基を表すが、アリール基として具体的
には、例えばフェニル基、p−トリル基、ナフチル基な
どが挙げられる。複素環基として具体的には、例えばト
リアゾール残基、イミダゾール残基、ピリジン残基、フ
ラン残基、チオフェン残基などがあげられる。また、R
11、R12およびR13はそれぞれ任意の連結基を介して結
合してもよい。R11、R12およびR13が置換基を有する
場合、その置換基としては例えばアルキル基、アルケニ
ル基、アルキニル基、アリール基、複素環基、4級化さ
れた窒素原子を含む複素環基(例えばピリジニオ基)、
ヒドロキシ基、アルコキシ基(エチレンオキシ基もしく
はプロピレンオキシ基単位を繰り返し含む基を含む)、
アリールオキシ基、アシルオキシ基、アシル基、アルコ
キシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、カル
バモイル基、ウレタン基、カルボキシル基、イミド基、
アミノ基、カルボンアミド基、スルホンアミド基、ウレ
イド基、チオウレイド基、スルファモイルアミノ基、セ
ミカルバジド基、チオセミカルバジド基、ヒドラジノ
基、4級のアンモニオ基、(アルキル、アリール、また
は複素環)チオ基、メルカプト基、(アルキルまたはア
リール)スルホニル基、(アルキルまたはアリール)ス
ルフィニル基、スルホ基、スルファモイル基、アシルス
ルファモイル基、(アルキルもしくはアリール)スルホ
ニルウレイド基、(アルキルもしくはアリール)スルホ
ニルカルバモイル基、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ
基、リン酸アミド基などが挙げられる。R11、R12およ
びR13として好ましくは、いずれもが置換もしくは無置
換のフェニル基であり、より好ましくはR11、R12およ
びR13のいずれもが無置換のフェニル基である。In the general formula (H-1), R 11 , R 12 and R 13 each independently represent a substituted or unsubstituted aryl group or heterocyclic group. Specific examples of the aryl group include a phenyl group , P-tolyl group, naphthyl group and the like. Specific examples of the heterocyclic group include a triazole residue, an imidazole residue, a pyridine residue, a furan residue, and a thiophene residue. Also, R
11 , R 12 and R 13 may be bonded via an arbitrary linking group. When R 11 , R 12 and R 13 have a substituent, examples of the substituent include an alkyl group, an alkenyl group, an alkynyl group, an aryl group, a heterocyclic group, a quaternary heterocyclic group containing a nitrogen atom ( For example a pyridinio group),
A hydroxy group, an alkoxy group (including a group repeatedly containing an ethyleneoxy group or a propyleneoxy group unit),
Aryloxy group, acyloxy group, acyl group, alkoxycarbonyl group, aryloxycarbonyl group, carbamoyl group, urethane group, carboxyl group, imide group,
Amino group, carbonamido group, sulfonamido group, ureido group, thioureido group, sulfamoylamino group, semicarbazide group, thiosemicarbazide group, hydrazino group, quaternary ammonium group, (alkyl, aryl, or heterocyclic) thio group A mercapto group, an (alkyl or aryl) sulfonyl group, an (alkyl or aryl) sulfinyl group, a sulfo group, a sulfamoyl group, an acylsulfamoyl group, an (alkyl or aryl) sulfonyluureido group, an (alkyl or aryl) sulfonylcarbamoyl group, Examples include a halogen atom, a cyano group, a nitro group, and a phosphoric amide group. Preferably, all of R 11 , R 12 and R 13 are substituted or unsubstituted phenyl groups, and more preferably, all of R 11 , R 12 and R 13 are unsubstituted phenyl groups.
【0079】R14は複素環オキシ基、複素環チオ基を表
すが、複素環オキシ基として具体的には、ピリジルオキ
シ基、ピリミジルオキシ基、インドリルオキシ基、ベン
ゾチアゾリルオキシ基、ベンズイミダゾリルオキシ基、
フリルオキシ基、チエニルオキシ基、ピラゾリルオキシ
基、イミダゾリルオキシ基等が挙げられる。複素環チオ
基として具体的にはピリジルチオ基、ピリミジルチオ
基、インドリルチオ基、ベンゾチアゾリルチオ基、ベン
ズイミダゾリルチオ基、フリルチオ基、チエニルチオ
基、ピラゾリルチオ基、イミダゾリルチオ基等が挙げら
れる。R14として好ましくはピリジルオキシ基、チエニ
ルオキシ基である。R 14 represents a heterocyclic oxy group or a heterocyclic thio group. Specific examples of the heterocyclic oxy group include a pyridyloxy group, a pyrimidyloxy group, an indolyloxy group, a benzothiazolyloxy group, a benzimidazolyl group. An oxy group,
Examples include a furyloxy group, a thienyloxy group, a pyrazolyloxy group, and an imidazolyloxy group. Specific examples of the heterocyclic thio group include a pyridylthio group, a pyrimidylthio group, an indolylthio group, a benzothiazolylthio group, a benzimidazolylthio group, a furylthio group, a thienylthio group, a pyrazolylthio group, and an imidazolylthio group. R 14 is preferably a pyridyloxy group or a thienyloxy group.
【0080】A1およびA2は、ともに水素原子、または
一方が水素原子で他方はアシル基(アセチル、トリフル
オロアセチル、ベンゾイル等)、スルホニル基(メタン
スルホニル、トルエンスルホニル等)、またはオキザリ
ル基(エトキザリル等)を表す。好ましくはA1、A2と
もに水素原子の場合である。A 1 and A 2 are both a hydrogen atom, or one is a hydrogen atom and the other is an acyl group (acetyl, trifluoroacetyl, benzoyl, etc.), a sulfonyl group (methanesulfonyl, toluenesulfonyl, etc.), or an oxalyl group ( Ethoxalyl). Preferably, A 1 and A 2 are both hydrogen atoms.
【0081】一般式(H−2)において、R21は置換も
しくは無置換のアルキル基、アリール基または複素環基
を表すが、アルキル基として具体的には、メチル基、エ
チル基、tert−ブチル基、2−オクチル基、シクロ
ヘキシル基、ベンジル基、ジフェニルメチル基等が挙げ
られる。アリール基および複素環基として具体的には、
R11、R12およびR13と同様のものが挙げられる。ま
た、R21が置換基を有する場合の置換基の具体的な例と
しては、R11、R12およびR13の置換基と同様のものが
挙げられる。R21は好ましくはアリール基または複素環
基であり、特に好ましくは置換もしくは無置換のフェニ
ル基である。In the general formula (H-2), R 21 represents a substituted or unsubstituted alkyl group, aryl group or heterocyclic group. Specific examples of the alkyl group include a methyl group, an ethyl group and a tert-butyl group. Group, 2-octyl group, cyclohexyl group, benzyl group, diphenylmethyl group and the like. Specifically as the aryl group and the heterocyclic group,
The same as R 11 , R 12 and R 13 can be mentioned. When R 21 has a substituent, specific examples of the substituent include those similar to the substituents of R 11 , R 12 and R 13 . R 21 is preferably an aryl group or a heterocyclic group, particularly preferably a substituted or unsubstituted phenyl group.
【0082】R22は水素、アルキルアミノ基、アリール
アミノ基、または複素環アミノ基を表すが、アルキルア
ミノ基として具体的には、メチルアミノ基、エチルアミ
ノ基、プロピルアミノ基、ブチルアミノ基、ジメチルア
ミノ基、ジエチルアミノ基、エチルメチルアミノ基等が
挙げられる。アリールアミノ基としてはアニリノ基、複
素環基としてはチアゾリルアミノ基、ベンゾイミダゾリ
ルアミノ基、ベンズチアゾリルアミノ基等が挙げられ
る。R22として好ましくはジメチルアミノ基またはジエ
チルアミノ基である。R 22 represents hydrogen, an alkylamino group, an arylamino group, or a heterocyclic amino group. Specific examples of the alkylamino group include a methylamino group, an ethylamino group, a propylamino group, a butylamino group, Examples include a dimethylamino group, a diethylamino group, and an ethylmethylamino group. Examples of the arylamino group include an anilino group, and examples of the heterocyclic group include a thiazolylamino group, a benzimidazolylamino group, and a benzothiazolylamino group. Preferably the R 22 is dimethylamino group or diethylamino group.
【0083】A1、A2は、一般式(H−1)で記載した
A1、A2と同義である。一般式(H−3)において、R
31およびR32は各々一価の置換基を表すが、一価の置換
基としては、R11、R12およびR13の置換基として挙げ
られた基が挙げられるが、好ましくは、アルキル基、ア
リール基、複素環基、アルコキシ基、またはアミノ基が
挙げられる。更に好ましくはアリール基またはアルコキ
シ基である。特に好ましいのは、R31とR32の少なくと
も一つがtert−ブトキシ基であるものであり、別の
好ましい構造は、R31がフェニル基のとき、R32がte
rt−ブトキシ基である。[0083] A 1, A 2 has the same meaning as A 1, A 2 as described in the general formula (H-1). In the general formula (H-3), R
31 and R 32 each represent a monovalent substituent, and examples of the monovalent substituent include the groups mentioned as the substituents of R 11 , R 12 and R 13 , and preferably an alkyl group, Examples include an aryl group, a heterocyclic group, an alkoxy group, and an amino group. More preferably, it is an aryl group or an alkoxy group. Particularly preferred are those in which at least one of R 31 and R 32 is a tert-butoxy group, and another preferred structure is that when R 31 is a phenyl group, R 32 is te
rt-butoxy group.
【0084】G31、G32は、各々−(CO)p−基、−
C(=S)−、スルホニル基、スルホキシ基、−P(=
O)R33−基またはイミノメチレン基を表し、pは1ま
たは2を表し、R33はアルキル基、アルケニル基、アル
キニル基、アリール基、アルコキシ基、アルケニルオキ
シ基、アルキニルオキシ基、アリールオキシ基、または
アミノ基を表す。但し、G31がスルホニル基のとき、G
32はカルボニル基ではない。G31、G32として好ましく
は、各々−CO−基、−COCO−基、スルホニル基ま
たは−CS−であり、より好ましくは互いに−CO−基
または互いにスルホニル基である。G 31 and G 32 each represent a-(CO) p- group,-
C (= S)-, sulfonyl group, sulfoxy group, -P (=
O) R 33 - represents a group or an iminomethylene group, p is 1 or 2, R 33 is an alkyl group, an alkenyl group, an alkynyl group, an aryl group, an alkoxy group, an alkenyloxy group, alkynyloxy group, an aryloxy group Or an amino group. However, when G 31 is a sulfonyl group,
32 is not a carbonyl group. G 31 and G 32 are each preferably a —CO— group, a —COCO— group, a sulfonyl group, or —CS—, and more preferably a —CO— group or a sulfonyl group.
【0085】A1、A2は一般式(H−1)で記載したA
1、A2と同義である。一般式(H−4)において、
R41、R42およびR43は一般式(H−1)における
R11、R12およびR13と同義である。R41、R42および
R43として好ましくはいずれもが置換もしくは無置換の
フェニル基であり、より好ましくはR41、R42およびR
43のいずれもが無置換のフェニル基である。R44、R45
は、各々無置換または置換アルキル基を表すが、具体的
な例としては、メチル基、エチル基、tert−ブチル
基、2−オクチル基、シクロヘキシル基、ベンジル基、
ジフェニルメチル基等が挙げられる。R44、R45として
好ましくは互いにエチル基である。A 1 and A 2 are those represented by the general formula (H-1)
1 and A 2 have the same meaning. In the general formula (H-4),
R 41 , R 42 and R 43 have the same meanings as R 11 , R 12 and R 13 in formula (H-1). R 41, preferably both the R 42 and R 43 is a substituted or unsubstituted phenyl group, more preferably R 41, R 42, and R
All of 43 are unsubstituted phenyl groups. R 44 , R 45
Represents an unsubstituted or substituted alkyl group, and specific examples include a methyl group, an ethyl group, a tert-butyl group, a 2-octyl group, a cyclohexyl group, a benzyl group,
And a diphenylmethyl group. R 44 and R 45 are preferably each an ethyl group.
【0086】A1、A2は一般式(H−1)で記載したA
1、A2と同義である。以下、一般式(H−1)〜(H−
4)で表される化合物の具体例を挙げるが、これらに限
定されるものではない。A 1 and A 2 are those represented by the general formula (H-1)
1 and A 2 have the same meaning. Hereinafter, the general formulas (H-1) to (H-
Specific examples of the compound represented by 4) will be given below, but it should not be construed that the invention is limited thereto.
【0087】[0087]
【化4】 Embedded image
【0088】[0088]
【化5】 Embedded image
【0089】[0089]
【化6】 Embedded image
【0090】[0090]
【化7】 Embedded image
【0091】[0091]
【化8】 Embedded image
【0092】[0092]
【化9】 Embedded image
【0093】[0093]
【化10】 Embedded image
【0094】一般式(H−1)〜(H−4)で表される
化合物は、公知の方法により容易に合成することがで
き、例えば米国特許第5,464,738号明細書また
は同第5,496,695号明細書を参考にして合成す
ることができる。The compounds represented by the general formulas (H-1) to (H-4) can be easily synthesized by a known method. For example, US Pat. No. 5,464,738 or US Pat. It can be synthesized with reference to the specification of 5,496,695.
【0095】その他に好ましく用いることのできるヒド
ラジン誘導体は、米国特許第5,545,505号明細
書、カラム11〜20に記載の化合物H−1〜H−2
9、米国特許第5,464,738号明細書、カラム9
〜11に記載の化合物1〜12である。これらのヒドラ
ジン誘導体は、公知の方法で合成することができる。Other hydrazine derivatives which can be preferably used include compounds H-1 to H-2 described in US Pat. No. 5,545,505, columns 11 to 20.
9, U.S. Pat. No. 5,464,738, column 9
Compounds 1 to 12 described in Nos. 1 to 11. These hydrazine derivatives can be synthesized by a known method.
【0096】次に下記一般式(G)で表される化合物に
ついて説明する。Next, the compound represented by the following formula (G) will be described.
【0097】[0097]
【化11】 Embedded image
【0098】一般式(G)において、XとRはシスの形
で表示されているが、XとRがトランス型の場合も本発
明に含まれる。In the general formula (G), X and R are represented in a cis form, but the case where X and R are in a trans form is also included in the present invention.
【0099】一般式(G)において、Xは電子吸引性基
を表す。電子吸引性基とは、置換基定数σpが正の値を
とりうる置換基のことである。具体的には、置換アルキ
ル基(ハロゲン置換アルキル等)、置換アルケニル基
(シアノビニル等)、置換・未置換のアルキニル基(ト
リフルオロメチルアセチレニル、シアノアセチレニル
等)、置換アリール基(シアノフェニル等)、置換・未
置換の複素環基(ピリジル、トリアジニル、ベンゾオキ
サゾリル等)、ハロゲン原子、シアノ基、アシル基(ア
セチル、トリフルオロアセチル、ホルミル等)、チオア
セチル基(チオアセチル、チオホルミル等)、オキサリ
ル基(メチルオキサリル等)、オキシオキサリル基(エ
トキサリル等)、チオオキサリル基(エチルチオオキサ
リル等)、オキサモイル基(メチルオキサモイル等)、
オキシカルボニル基(エトキシカルボニル等)、カルボ
キシル基、チオカルボニル基(エチルチオカルボニル
等)、カルバモイル基、チオカルバモイル基、スルホニ
ル基、スルフィニル基、オキシスルホニル基(エトキシ
スルホニル等)、チオスルホニル基(エチルチオスルホ
ニル等)、スルファモイル基、オキシスルフィニル基
(メトキシスルフィニル等)、チオスルフィニル基(メ
チルチオスルフィニル等)、スルフィナモイル基、スフ
ィナモイル基、ホスホリル基、ニトロ基、イミノ基、N
−カルボニルイミノ基(N−アセチルイミノ等)、N−
スルホニルイミノ基(N−メタンスルホニルイミノ
等)、ジシアノエチレン基、アンモニウム基、スルホニ
ウム基、ホスホニウム基、ピリリウム基、インモニウム
基が挙げられるが、アンモニウム基、スルホニウム基、
ホスホニウム基、インモニウム基等が環を形成した複素
環状のものも含まれる。σp値として0.30以上の置
換基が特に好ましい。In the general formula (G), X represents an electron-withdrawing group. The electron-withdrawing group is a substituent whose substituent constant σp can take a positive value. Specifically, a substituted alkyl group (eg, halogen-substituted alkyl), a substituted alkenyl group (eg, cyanovinyl), a substituted / unsubstituted alkynyl group (eg, trifluoromethylacetylenyl, cyanoacetylenyl), and a substituted aryl group (eg, cyanovinyl) Phenyl, etc.), substituted / unsubstituted heterocyclic groups (pyridyl, triazinyl, benzoxazolyl, etc.), halogen atoms, cyano groups, acyl groups (acetyl, trifluoroacetyl, formyl, etc.), thioacetyl groups (thioacetyl, thioformyl, etc.) ), An oxalyl group (such as methyloxalyl), an oxyoxalyl group (such as ethoxalyl), a thiooxalyl group (such as ethylthiooxalyl), an oxamoyl group (such as methyloxamoyl),
Oxycarbonyl group (such as ethoxycarbonyl), carboxyl group, thiocarbonyl group (such as ethylthiocarbonyl), carbamoyl group, thiocarbamoyl group, sulfonyl group, sulfinyl group, oxysulfonyl group (such as ethoxysulfonyl), thiosulfonyl group (such as ethylthio Sulfonyl), a sulfamoyl group, an oxysulfinyl group (such as methoxysulfinyl), a thiosulfinyl group (such as methylthiosulfinyl), a sulfinamoyl group, a sphinamoyl group, a phosphoryl group, a nitro group, an imino group, and N
-Carbonylimino group (such as N-acetylimino), N-
A sulfonylimino group (such as N-methanesulfonylimino), a dicyanoethylene group, an ammonium group, a sulfonium group, a phosphonium group, a pyrylium group, and an immonium group, such as an ammonium group, a sulfonium group,
Heterocyclic groups in which a phosphonium group, an immonium group or the like forms a ring are also included. A substituent having a σp value of 0.30 or more is particularly preferred.
【0100】Wは、水素原子、アルキル基、アルケニル
基、アルキニル基、アリール基、複素環基、ハロゲン原
子、アシル基、チオアシル基、オキサリル基、オキシオ
キサリル基、チオオキサリル基、オキサモイル基、オキ
シカルボニル基、チオカルボニル基、カルバモイル基、
チオカルバモイル基、スルホニル基、スルフィニル基、
オキシスルホニル基、チオスルホニル基、スルファモイ
ル基、オキシスルフィニル基、チオスルフィニル基、ス
ルフィナモイル基、ホスホリル基、ニトロ基、イミノ
基、N−カルボニルイミノ基、N−スルホニルイミノ
基、ジシアノエチレン基、アンモニウム基、スルホニウ
ム基、ホスホニウム基、ピリリウム基、またはインモニ
ウム基を表す。Wとして表されるアルキル基としては、
メチル、エチル、トリフルオロメチル等が、アルケニル
基としてはビニル、ハロゲン置換ビニル、シアノビニル
等が、アルキニル基としてはアセチレニル、シアノアセ
チレニル等が、アリール基としてはニトロフェニル、シ
アノフェニル、ペンタフルオロフェニル等が、複素環基
としてはピリジル、ピリミジル、トリアジニル、スクシ
ンイミド、テトラゾリル、トリアゾリル、イミダゾリ
ル、ベンゾオキサゾリル等が挙げられる。Wとしてはσ
p値が正の電子吸引性基が好ましく、更にはその値が
0.30以上のものが好ましい。W is hydrogen, alkyl, alkenyl, alkynyl, aryl, heterocyclic, halogen, acyl, thioacyl, oxalyl, oxyoxalyl, thiooxalyl, oxamoyl, oxycarbonyl Group, thiocarbonyl group, carbamoyl group,
Thiocarbamoyl group, sulfonyl group, sulfinyl group,
Oxysulfonyl group, thiosulfonyl group, sulfamoyl group, oxysulfinyl group, thiosulfinyl group, sulfinamoyl group, phosphoryl group, nitro group, imino group, N-carbonylimino group, N-sulfonylimino group, dicyanoethylene group, ammonium group, Represents a sulfonium group, a phosphonium group, a pyrylium group, or an immonium group. As the alkyl group represented by W,
Methyl, ethyl, trifluoromethyl, etc., alkenyl groups include vinyl, halogen-substituted vinyl, cyanovinyl, etc., alkynyl groups include acetylenyl, cyanoacetylenyl, etc., and aryl groups include nitrophenyl, cyanophenyl, pentafluorophenyl. Examples of the heterocyclic group include pyridyl, pyrimidyl, triazinyl, succinimide, tetrazolyl, triazolyl, imidazolyl, and benzoxazolyl. W is σ
A p-value is preferably a positive electron-withdrawing group, and more preferably, the value is 0.30 or more.
【0101】Rはハロゲン原子、ヒドロキシ基、アルコ
キシ基、アリールオキシ基、複素環オキシ基、アルケニ
ルオキシ基、アシルオキシ基、アルコキシカルボニルオ
キシ基、アミノカルボニルオキシ基、メルカプト基、ア
ルキルチオ基、アリールチオ基、複素環チオ基、アルケ
ニルチオ基、アシルチオ基、アルコキシカルボニルチオ
基、アミノカルボニルチオ基、ヒドロキシ基またはメル
カプト基の有機または無機の塩(例えば、ナトリウム
塩、カリウム塩、銀塩等)、アミノ基、アルキルアミノ
基、環状アミノ基(例えば、ピロリジノ基)、アシルア
ミノ基、オキシカルボニルアミノ基、複素環基(5〜6
員の含窒素複素環、例えばベンツトリアゾリル基、イミ
ダゾリル基、トリアゾリル基、テトラゾリル基等)、ウ
レイド基、またはスルホンアミド基を表す。XとW、X
とRはそれぞれ互いに結合して環状構造を形成してもよ
い。XとWが形成する環としては、例えばピラゾロン、
ピラゾリジノン、シクロペンタンジオン、β−ケトラク
トン、β−ケトラクタム等が挙げられる。Rで表される
基の内、好ましくはヒドロキシ基、メルカプト基、アル
コキシ基、アルキルチオ基、ハロゲン原子、ヒドロキシ
基またはメルカプト基の有機または無機の塩、複素環基
が挙げられ、更に好ましくはヒドロキシ基、アルコキシ
基、ヒドロキシ基またはメルカプト基の有機または無機
の塩、複素環基が挙げられ、特に好ましくはヒドロキシ
基、ヒドロキシ基またはメルカプト基の有機または無機
の塩が挙げられる。R represents a halogen atom, a hydroxy group, an alkoxy group, an aryloxy group, a heterocyclic oxy group, an alkenyloxy group, an acyloxy group, an alkoxycarbonyloxy group, an aminocarbonyloxy group, a mercapto group, an alkylthio group, an arylthio group, Organic or inorganic salts of ring thio group, alkenylthio group, acylthio group, alkoxycarbonylthio group, aminocarbonylthio group, hydroxy group or mercapto group (for example, sodium salt, potassium salt, silver salt, etc.), amino group, alkyl Amino group, cyclic amino group (for example, pyrrolidino group), acylamino group, oxycarbonylamino group, heterocyclic group (5 to 6
Membered nitrogen-containing heterocycle, for example, a benztriazolyl group, an imidazolyl group, a triazolyl group, a tetrazolyl group, etc.), a ureido group, or a sulfonamide group. X and W, X
And R may combine with each other to form a cyclic structure. As the ring formed by X and W, for example, pyrazolone,
Pyrazolidinone, cyclopentanedione, β-ketolactone, β-ketolactam and the like. Of the groups represented by R, preferred are a hydroxy group, a mercapto group, an alkoxy group, an alkylthio group, a halogen atom, an organic or inorganic salt of a hydroxy group or a mercapto group, and a heterocyclic group, more preferably a hydroxy group. And an organic or inorganic salt of an alkoxy group, a hydroxy group or a mercapto group, and a heterocyclic group, and particularly preferably an organic or inorganic salt of a hydroxy group, a hydroxy group or a mercapto group.
【0102】また、上記XおよびWで表される基の内、
置換基中にチオエーテル結合を有するものが好ましい。Further, among the groups represented by X and W,
Those having a thioether bond in the substituent are preferred.
【0103】次に、下記一般式(P)で表される化合物
について説明する。Next, the compound represented by the following formula (P) will be described.
【0104】[0104]
【化12】 Embedded image
【0105】一般式(P)において、Qは窒素原子また
は燐原子を表し、R1、R2、R3およびR4は各々、水素
原子または置換基を表し、X-はアニオンを表す。な
お、R 1〜R4は互いに連結して環を形成してもよい。In the general formula (P), Q represents a nitrogen atom or
Represents a phosphorus atom;1, RTwo, RThreeAnd RFourIs hydrogen
X represents an atom or a substituent;-Represents an anion. What
Contact, R 1~ RFourMay be connected to each other to form a ring.
【0106】R1〜R4で表される置換基としては、アル
キル基(メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、
ヘキシル基、シクロヘキシル基等)、アルケニル基(ア
リル基、ブテニル基等)、アルキニル基(プロパルギル
基、ブチニル基等)、アリール基(フェニル基、ナフチ
ル基等)、複素環基(ピペリジニル基、ピペラジニル
基、モルホリニル基、ピリジル基、フリル基、チエニル
基、テトラヒドロフリル基、テトラヒドロチエニル基、
スルホラニル基等)、アミノ基等が挙げられる。As the substituent represented by R 1 to R 4 , an alkyl group (methyl group, ethyl group, propyl group, butyl group,
Hexyl group, cyclohexyl group, etc., alkenyl group (allyl group, butenyl group, etc.), alkynyl group (propargyl group, butynyl group, etc.), aryl group (phenyl group, naphthyl group, etc.), heterocyclic group (piperidinyl group, piperazinyl group) , Morpholinyl group, pyridyl group, furyl group, thienyl group, tetrahydrofuryl group, tetrahydrothienyl group,
Sulfolanyl group), an amino group and the like.
【0107】R1〜R4が互いに連結して形成しうる環と
しては、ピペリジン環、モルホリン環、ピペラジン環、
キヌクリジン環、ピリジン環、ピロール環、イミダゾー
ル環、トリアゾール環、テトラゾール環等が挙げられ
る。The ring which may be formed by connecting R 1 to R 4 to each other includes a piperidine ring, a morpholine ring, a piperazine ring,
Examples include a quinuclidine ring, a pyridine ring, a pyrrole ring, an imidazole ring, a triazole ring, and a tetrazole ring.
【0108】R1〜R4で表される基は、各々ヒドロキシ
ル基、アルコキシ基、アリールオキシ基、カルボキシル
基、スルホ基、アルキル基、アリール基等の置換基を有
してもよい。R1、R2、R3およびR4は、各々水素原子
またはアルキル基が好ましい。The groups represented by R 1 to R 4 may each have a substituent such as a hydroxyl group, an alkoxy group, an aryloxy group, a carboxyl group, a sulfo group, an alkyl group, an aryl group. R 1 , R 2 , R 3 and R 4 are each preferably a hydrogen atom or an alkyl group.
【0109】X-が表すアニオンとしては、ハロゲンイ
オン、硫酸イオン、硝酸イオン、酢酸イオン、p−トル
エンスルホン酸イオン等の無機および有機のアニオンが
挙げられる。Examples of the anion represented by X − include inorganic and organic anions such as a halogen ion, a sulfate ion, a nitrate ion, an acetate ion and a p-toluenesulfonic acid ion.
【0110】更に好ましくは下記一般式(Pa)、(P
b)または(Pc)で表される化合物、および下記一般
式(T)で表される化合物が用いられる。More preferably, the following general formulas (Pa) and (P
The compound represented by b) or (Pc) and the compound represented by the following general formula (T) are used.
【0111】[0111]
【化13】 Embedded image
【0112】式中、A1、A2、A3、A4およびA5は、
各々含窒素複素環を完成させるための非金属原子群を表
し、酸素原子、窒素原子、硫黄原子を含んでもよく、ベ
ンゼン環が縮合しても構わない。A1、A2、A3、A4お
よびA5で構成される複素環は、各々置換基を有しても
よく、それぞれ同一でも異なっていてもよい。置換基と
しては、アルキル基、アリール基、アラルキル基、アル
ケニル基、アルキニル基、ハロゲン原子、アシル基、ア
ルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、
スルホ基、カルボキシ基、ヒドロキシ基、アルコキシ
基、アリールオキシ基、アミド基、スルファモイル基、
カルバモイル基、ウレイド基、アミノ基、スルホンアミ
ド基、スルホニル基、シアノ基、ニトロ基、メルカプト
基、アルキルチオ基、アリールチオ基を表す。A1、
A2、A3、A4およびA5の好ましい例としては、5〜6
員環(ピリジン、イミダゾール、チオゾール、オキサゾ
ール、ピラジン、ピリミジン等の各環)を挙げることが
でき、更に好ましい例として、ピリジン環が挙げられ
る。Wherein A 1 , A 2 , A 3 , A 4 and A 5 are
Each represents a group of non-metallic atoms for completing a nitrogen-containing heterocyclic ring, and may contain an oxygen atom, a nitrogen atom, and a sulfur atom, and may be condensed with a benzene ring. The heterocyclic ring composed of A 1 , A 2 , A 3 , A 4 and A 5 may have a substituent and may be the same or different. As the substituent, an alkyl group, an aryl group, an aralkyl group, an alkenyl group, an alkynyl group, a halogen atom, an acyl group, an alkoxycarbonyl group, an aryloxycarbonyl group,
Sulfo group, carboxy group, hydroxy group, alkoxy group, aryloxy group, amide group, sulfamoyl group,
Represents a carbamoyl group, a ureido group, an amino group, a sulfonamide group, a sulfonyl group, a cyano group, a nitro group, a mercapto group, an alkylthio group, or an arylthio group. A 1 ,
Preferred examples of A 2 , A 3 , A 4 and A 5 include 5 to 6
Member rings (rings such as pyridine, imidazole, thiozole, oxazole, pyrazine and pyrimidine) can be mentioned, and a more preferred example is a pyridine ring.
【0113】BPは2価の連結基を表し、mは0または
1を表す。2価の連結基としては、アルキレン基、アリ
ーレン基、アルケニレン基、−SO2−、−SO−、−
O−、−S−、−CO−、−N(R6)−(R6はアルキ
ル基、アリール基、水素原子を表す)を単独または組み
合わせて構成されるものを表す。Bpとして好ましく
は、アルキレン基、アルケニレン基を挙げることができ
る。 BP represents a divalent linking group, and m represents 0 or 1. Examples of the divalent linking group include an alkylene group, an arylene group, an alkenylene group, -SO 2 -, - SO - , -
O -, - S -, - CO -, - N (R 6) - (R 6 is an alkyl group, an aryl group, a hydrogen atom) represents what is configured alone or in combination. Preferred examples of B p include an alkylene group and an alkenylene group.
【0114】R11、R12およびR15は、各々炭素数1〜
20のアルキル基を表す。又、R11およびR12は同一で
も異っていてもよい。アルキル基とは、置換或いは無置
換のアルキル基を表し、置換基としては、A1、A2、A
3、A4およびA5の置換基として挙げた置換基と同様で
ある。R 11 , R 12 and R 15 each have 1 to 1 carbon atoms
Represents 20 alkyl groups. R 11 and R 12 may be the same or different. The alkyl group represents a substituted or unsubstituted alkyl group, and examples of the substituent include A 1 , A 2 , A
The substituents are the same as those described as the substituents of 3 , A 4 and A 5 .
【0115】R11、R12およびR15の好ましい例として
は、それぞれ炭素数4〜10のアルキル基である。更に
好ましい例としては、置換或いは無置換のアリール置換
アルキル基が挙げられる。Preferable examples of R 11 , R 12 and R 15 are each an alkyl group having 4 to 10 carbon atoms. More preferred examples include a substituted or unsubstituted aryl-substituted alkyl group.
【0116】Xp -は分子全体の電荷を均衡させるのに必
要な対イオンを表し、例えば塩素イオン、臭素イオン、
沃素イオン、硝酸イオン、硫酸イオン、p−トルエンス
ルホナート、オキザラート等を表す。npは分子全体の
電荷を均衡さすに必要な対イオンの数を表し、分子内塩
の場合にはnpは0である。[0116] X p - is a counter ion necessary to balance the charge of the whole molecule, for example chloride, bromide,
It represents iodine ion, nitrate ion, sulfate ion, p-toluenesulfonate, oxalate and the like. n p represents the number of counter ions required to balance the charge of the whole molecule, and n p is 0 in the case of an internal salt.
【0117】[0117]
【化14】 Embedded image
【0118】上記一般式(T)で表されるトリフェニル
テトラゾリウム化合物のフェニル基の置換基R5、R6、
R7は、各々水素原子もしくは電子吸引性度を示すハメ
ットのシグマ値(σp)が負のものが好ましい。The substituents R 5 and R 6 of the phenyl group of the triphenyltetrazolium compound represented by the general formula (T),
R 7 is preferably a hydrogen atom or a compound having a negative Hammett's sigma value (σp) indicating electron-withdrawing degree.
【0119】フェニル基におけるハメットのシグマ値は
多くの文献、例えばジャーナル・オブ・メディカルケミ
ストリー(Journal of Medical C
hemistry)20巻、304頁、1977年に記
載のC.ハンシュ(C.Hansch)等の報文等に見
ることが出来、特に好ましい負のシグマ値を有する基と
しては、例えばメチル基(σp=−0.17以下何れも
σp値)、エチル基(−0.15)、シクロプロピル基
(−0.21)、n−プロピル基(−0.13)、is
o−プロピル基(−0.15)、シクロブチル基(−
0.15)、n−ブチル基(−0.16)、イソブチル
基(−0.20)、n−ペンチル基(−0.15)、シ
クロヘキシル基(−0.22)、アミノ基(−0.6
6)、アセチルアミノ基(−0.15)、ヒドロキシル
基(−0.37)、メトキシ基(−0.27)、エトキ
シ基(−0.24)、プロポキシ基(−0.25)、ブ
トキシ基(−0.32)、ペントキシ基(−0.34)
等が挙げられ、これらは何れも一般式(T)の化合物の
置換基として有用である。The Hammett's sigma value at the phenyl group is described in many literatures, for example, Journal of Medical Chemistry.
chemistry, 20, 304, 1977. The group having a particularly preferable negative sigma value is, for example, a methyl group (σp = −0.17 or less, σp value), and an ethyl group (−). 0.15), cyclopropyl group (-0.21), n-propyl group (-0.13), is
o-propyl group (-0.15), cyclobutyl group (-
0.15), n-butyl group (-0.16), isobutyl group (-0.20), n-pentyl group (-0.15), cyclohexyl group (-0.22), amino group (-0 .6
6), acetylamino group (-0.15), hydroxyl group (-0.37), methoxy group (-0.27), ethoxy group (-0.24), propoxy group (-0.25), butoxy Group (-0.32), pentoxy group (-0.34)
These are all useful as substituents of the compound of the general formula (T).
【0120】nは1または2を表し、XT n-で表される
アニオンとしては、例えば塩化物イオン、臭化物イオ
ン、ヨウ化物イオン等のハロゲンイオン、硝酸、硫酸、
過塩素酸等の無機酸の酸根、スルホン酸、カルボン酸等
の有機酸の酸根、アニオン系の活性剤、具体的にはp−
トルエンスルホン酸アニオン等の低級アルキルベンゼン
スルホン酸アニオン、p−ドデシルベンゼンスルホン酸
アニオン等の高級アルキルベンゼンスルホン酸アニオ
ン、ラウリルスルフェートアニオン等の高級アルキル硫
酸エステルアニオン、テトラフェニルボロン等の硼酸系
アニオン、ジ−2−エチルヘキシルスルホサクシネート
アニオン等のジアルキルスルホサクシネートアニオン、
セチルポリエテノキシサルフェートアニオン等の高級脂
肪酸アニオン、ポリアクリル酸アニオン等のポリマーに
酸根のついたもの等を挙げることができる。N represents 1 or 2, and examples of the anion represented by X T n- include halogen ions such as chloride ion, bromide ion and iodide ion, nitric acid, sulfuric acid, and the like.
Acid radicals of inorganic acids such as perchloric acid, acid radicals of organic acids such as sulfonic acid and carboxylic acid, anionic activators, specifically p-
Lower alkylbenzene sulfonic acid anions such as toluene sulfonic acid anion; higher alkyl benzene sulfonic acid anions such as p-dodecyl benzene sulfonic acid anion; higher alkyl sulfate anions such as lauryl sulfate anion; boric acid anions such as tetraphenyl boron; Dialkyl sulfosuccinate anions such as 2-ethylhexyl sulfosuccinate anion,
Examples thereof include higher fatty acid anions such as cetyl polyethenoxy sulfate anion, and polymers having an acid radical attached to a polymer such as polyacrylate anion.
【0121】上記4級オニウム化合物は公知の方法に従
って容易に合成でき、例えば上記テトラゾリウム化合物
はChemical Reviews vol.55
p.335〜483に記載の方法を参考にできる。The above quaternary onium compound can be easily synthesized according to a known method. For example, the above tetrazolium compound can be obtained from Chemical Reviews vol. 55
p. 335-483 can be referred to.
【0122】硬調化剤として、下記一般式(A)〜
(D)で表される化合物やヒドロキシルアミン、アルカ
ノールアミン、フタル酸アンモニウムも用いることがで
きる。As the contrast agents, the following general formulas (A) to (A)
The compound represented by (D), hydroxylamine, alkanolamine and ammonium phthalate can also be used.
【0123】[0123]
【化15】 Embedded image
【0124】一般式(A)で表される化合物について説
明する。一般式(A)において、EWDは電子吸引性基
を表し、R6、R7およびR8は各々水素原子または1価
の置換基を表す。但し、R7およびR8のうちの少なくと
も1つは1価の置換基である。ここにEWDで表される
電気吸引性基とはハメットの置換基定数σpが正の値を
取りうる置換基のことであり、具体的には、シアノ基、
アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル
基、カルバモイル基、スルファモイル基、アルキルスル
ホニル基、アリールスルホニル基、ニトロ基、ハロゲン
原子、パーフルオロアルキル基、アシル基、ホルミル
基、ホスホリル基、カルボキシ基(またはその塩)、ス
ルホ基(またはその塩)、飽和もしくは不飽和の複素環
基、アルケニル基、アルキニル基、アシルオキシ基、ア
シルチオ基、スルホニルオキシ基、またはこれら電子吸
引性基で置換されたアリール基等が挙げられる。これら
の基は置換基を有していてもよい。具体的化合物として
は、例えば、米国特許第5,545,515号、特開平
11−119372号公報等に開示された化合物が挙げ
られる。The compound represented by formula (A) will be described. In the general formula (A), EWD represents an electron-withdrawing group, and R 6 , R 7 and R 8 each represent a hydrogen atom or a monovalent substituent. However, at least one of R 7 and R 8 is a monovalent substituent. Here, the electro-attractive group represented by EWD is a substituent whose Hammett's substituent constant σp can take a positive value, specifically, a cyano group,
Alkoxycarbonyl group, aryloxycarbonyl group, carbamoyl group, sulfamoyl group, alkylsulfonyl group, arylsulfonyl group, nitro group, halogen atom, perfluoroalkyl group, acyl group, formyl group, phosphoryl group, carboxy group (or salt thereof) , A sulfo group (or a salt thereof), a saturated or unsaturated heterocyclic group, an alkenyl group, an alkynyl group, an acyloxy group, an acylthio group, a sulfonyloxy group, and an aryl group substituted with these electron-withdrawing groups. . These groups may have a substituent. Specific compounds include, for example, compounds disclosed in U.S. Pat. No. 5,545,515, JP-A-11-119372 and the like.
【0125】一般式(B)で表される化合物について説
明する。一般式(B)において、R 9は水素原子、アル
キル基、アルケニル基、アルコキシ基、アルキルチオ、
アミド基、アリール基、アラルキル基、アリールオキシ
基、アリールチオ基、アニリノ基、複素環基、複素環オ
キシ基または複素環チオ基を表すが、アルキル基である
のが好ましく、メチル基、エチル基であるのがより好ま
しい。The compound represented by the formula (B) is described
I will tell. In the general formula (B), R 9Is a hydrogen atom, al
Kill group, alkenyl group, alkoxy group, alkylthio,
Amide group, aryl group, aralkyl group, aryloxy
Group, arylthio group, anilino group, heterocyclic group, heterocyclic group
Represents a xy or heterocyclic thio group, but is an alkyl group
Are preferably, and more preferably a methyl group or an ethyl group.
New
【0126】R10は水素原子、アルキル基、アルケニル
基、アルコキシ基、アルキルチオ、アミド基、アリール
基、アラルキル基、アリールオキシ基、アリールチオ
基、アニリノ基、複素環基、複素環オキシ基、複素環チ
オ基、ヒドラジノ基、アルキルアミノ基、スルホニルア
ミノ基、ウレイド基、オキシカルボニルアミノ基、アル
キニル基または無置換のアミノ基を表すが、アリール
基、複素環基、複素環オキシ基、複素環チオ基であるの
が好ましく、さらに好ましくは複素環オキシ基、複素環
チオ基である。複素環オキシ基として具体的には、ピリ
ジルオキシ基、ピリミジルオキシ基、インドリルオキシ
基、ベンゾチアゾリルオキシ基、ベンズイミダゾリルオ
キシ基、フリルオキシ基、チエニルオキシ基、ピラゾリ
ルオキシ基、イニダゾリルオキシ基フリルチオ基、チエ
ニルチオ基、ピラゾリルチオ基、イニダゾリルチオ基等
が挙げられる。R10として好ましくはピリジルオキシ
基、チエニルオキシ基である。R 10 is a hydrogen atom, an alkyl group, an alkenyl group, an alkoxy group, an alkylthio, an amide group, an aryl group, an aralkyl group, an aryloxy group, an arylthio group, an anilino group, a heterocyclic group, a heterocyclic oxy group, or a heterocyclic group. Represents a thio group, a hydrazino group, an alkylamino group, a sulfonylamino group, a ureido group, an oxycarbonylamino group, an alkynyl group or an unsubstituted amino group, but is an aryl group, a heterocyclic group, a heterocyclic oxy group, or a heterocyclic thio group. And more preferably a heterocyclic oxy group and a heterocyclic thio group. Specific examples of the heterocyclic oxy group include a pyridyloxy group, a pyrimidyloxy group, an indolyloxy group, a benzothiazolyloxy group, a benzimidazolyloxy group, a furyloxy group, a thienyloxy group, a pyrazolyloxy group, and an inidazolyloxy group Examples include a furylthio group, a thienylthio group, a pyrazolylthio group, and an inidazolylthio group. R 10 is preferably a pyridyloxy group or a thienyloxy group.
【0127】Xは水素原子、アルキル基、カルバモイル
基またはオキシカルボニル基を表す。Xは水素原子であ
るのが好ましい。R9とR10とが結合して5員から7員
の環を形成してもよい。具体的化合物としては、例え
ば、米国特許第5,545,507号に開示された化合
物が挙げられる。X represents a hydrogen atom, an alkyl group, a carbamoyl group or an oxycarbonyl group. X is preferably a hydrogen atom. R 9 and R 10 may combine to form a 5- to 7-membered ring. Specific compounds include, for example, the compounds disclosed in US Pat. No. 5,545,507.
【0128】一般式(C)で表される化合物について説
明する。一般式(C)において、R 11はアルキル基、ア
ルケニル基、アルコキシ基、アルキルチオ、アミド基、
アリール基、アラルキル基、アリールオキシ基、アリー
ルチオ基、アニリノ基または複素環基を表すがアリール
基、複素環基、複素環オキシ基、複素環チオ基であるの
が好ましい。より好ましくは複素環オキシ基、複素環チ
オ基である。複素環オキシ基として具体的には、ピリジ
ルオキシ基、ピリミジルオキシ基、インドリルオキシ
基、ベンゾチアゾリルオキシ基、ベンズイミダゾリルオ
キシ基、フリルオキシ基、チエニルオキシ基、ピラゾリ
ルオキシ基、イニダゾリルオキシ基等が挙げられる。複
素環チオ基として具体的にはピリジルチオ基、ピリミジ
ルチオ基、インドリルチオ基、ベンゾチアゾリルチオ
基、ベンズイミダゾリルチオ基、フリルチオ基、チエニ
ルチオ基、ピラゾリルチオ基、イニダゾリルチオ基等が
挙げられる。R11として好ましくはピリジルオキシ基、
チエニルオキシ基である。具体的化合物としては例えば
米国特許第5,558,983号に開示された化合物が
挙げられる。The compound represented by the general formula (C) is described below.
I will tell. In the general formula (C), R 11Is an alkyl group,
Lucenyl group, alkoxy group, alkylthio, amide group,
Aryl group, aralkyl group, aryloxy group, aryl
Represents a luthio group, anilino group or a heterocyclic group, but is an aryl
Group, heterocyclic group, heterocyclic oxy group, heterocyclic thio group
Is preferred. More preferably a heterocyclic oxy group, a heterocyclic thio group
O group. Specifically, as the heterocyclic oxy group,
Ruoxy group, pyrimidyloxy group, indolyloxy
Group, benzothiazolyloxy group, benzimidazolyloxy
Xyl group, furyloxy group, thienyloxy group, pyrazoly
And an indazolyloxy group. Duplicate
Specific examples of the ring thio group include a pyridylthio group and a pyrimidyl group.
Luthio, indolylthio, benzothiazolylthio
Group, benzimidazolylthio group, furylthio group, thienyl
Luthio, pyrazolylthio, inidazolylthio, etc.
No. R11As a pyridyloxy group,
A thienyloxy group. Specific compounds include, for example,
The compound disclosed in US Pat. No. 5,558,983 is
No.
【0129】一般式(D)で表される化合物について説
明する。一般式(D)において、R 12はベンツヒドロー
ル核、ジフェニルフォスフィン核、トリフェニルメタン
核、N,N′−ジアルキルピペラジン核、3−ピロロリ
ン核、キサンテン核、9,10−ジヒドロアントラセン
核、9−ヒドロキシフルオレン核、アリル−ベータ−ケ
トエステル核、アルデヒド核、アルキル−ベータ−ケト
エステル核、オキシム核、アミドオキシム核、ベンズア
ルデヒドオキシム核、アセトフェノンオキシム核、カプ
ロラクタムオキシム核、エチルベンゾイルアセテート
核、ピバルデヒド核または、エチルイソブチルアセテー
ト核を表す。具体的化合物としては、例えば、米国特許
第5,637,449号に開示された化合物が挙げられ
る。The compound represented by formula (D) is described
I will tell. In the general formula (D), R 12Is Benzhydro
Nucleus, diphenylphosphine nucleus, triphenylmethane
Nucleus, N, N'-dialkylpiperazine nucleus, 3-pyrroli
Nucleus, xanthene nucleus, 9,10-dihydroanthracene
Nucleus, 9-hydroxyfluorene nucleus, allyl-beta-ke
Toester nucleus, aldehyde nucleus, alkyl-beta-keto
Ester nucleus, oxime nucleus, amide oxime nucleus, benzur
Nucleotide oxime nucleus, acetophenone oxime nucleus, cap
Lolactam oxime core, ethyl benzoyl acetate
Nucleus, pivalaldehyde nucleus or ethyl isobutyl acetate
Nucleus. Specific compounds include, for example, U.S. Pat.
No. 5,637,449.
You.
【0130】以下に本発明の一般式(A)〜(D)で表
される化合物(硬調化剤)の具体例を挙げるが、これら
に限定されない。Specific examples of the compounds (high contrast agents) represented by formulas (A) to (D) of the present invention are shown below, but are not limited thereto.
【0131】[0131]
【化16】 Embedded image
【0132】[0132]
【化17】 Embedded image
【0133】[0133]
【化18】 Embedded image
【0134】上記硬調化剤の添加量は、銀1モルあたり
1×10-6〜1モルの範囲が好ましく、1×10-5〜5
×10-1モルが特に好ましい。The amount of the above-mentioned toning agent is preferably in the range of 1 × 10 -6 to 1 mol per mol of silver, and more preferably in the range of 1 × 10 -5 to 5 mol.
X10 -1 mol is particularly preferred.
【0135】本発明の熱現像記録材料には、カブリ抑制
のため、酸化剤を含有させることが好ましい。本発明に
用いられる酸化剤は、保存時のカブリを低減するものな
らばどのような酸化剤であってもよい。このような酸化
剤としては、好ましくは、例えば、特開昭50−119
624号、同50−120328号、同51−1213
32号、同54−58022号、同56−70543
号、同56−99335号、同59−90842号、同
61−129642号、同62−129845号、特開
平6−208191号、同7−5621号、同7−27
81号、同8−15809号、米国特許第5,340,
712号、同第5,369,000号、同第5,46
4,737号、同第3,874,946号、同第4,7
56,999号、同第5,340,712号、欧州特許
第605981A1号、同622666A1号、同63
1176A1号、特公昭54−165号、特開平7−2
781号、米国特許第4,180,665号および同第
4,442,202号に記載されている化合物等を用い
ることができるが、好ましくは下記一般式(I)で表さ
れるポリハロゲン化合物である。The heat-developable recording material of the present invention preferably contains an oxidizing agent for suppressing fog. The oxidizing agent used in the present invention may be any oxidizing agent as long as it reduces fog during storage. As such an oxidizing agent, preferably, for example, JP-A-50-119
No. 624, No. 50-120328, No. 51-1213
No. 32, No. 54-58022, No. 56-70543
Nos. 56-99335, 59-90842, 61-129642, 62-129845, JP-A-6-208191, 7-5621, and 7-27.
No. 81, 8-15809, U.S. Pat. No. 5,340,
No. 712, No. 5,369,000, No. 5,46
No. 4,737, No. 3,874,946, No. 4,7
No. 56,999, No. 5,340,712, European Patent Nos. 605981A1, 62262666A1 and 63.
No. 1176A1, JP-B No. 54-165, JP-A-7-2
No. 781, U.S. Pat. Nos. 4,180,665 and 4,442,202 can be used, but polyhalogen compounds represented by the following general formula (I) are preferred. It is.
【0136】[0136]
【化19】 Embedded image
【0137】式中、Aは脂肪族基、芳香族または複素環
基を表し、X1、X2、X3はそれぞれ水素原子、または
ハロゲン原子を表し、同一でも異なっていてもよい。Y
は2価の連結基を表す。nは0または1を表す。In the formula, A represents an aliphatic group, an aromatic or heterocyclic group, and X 1 , X 2 and X 3 each represent a hydrogen atom or a halogen atom, which may be the same or different. Y
Represents a divalent linking group. n represents 0 or 1.
【0138】本発明において酸化剤の添加量は、銀1モ
ル当たり1×10-4〜1モルであるのが好ましく、1×
10-3〜0.5モルであるのがより好ましい。In the present invention, the amount of the oxidizing agent to be added is preferably 1 × 10 -4 to 1 mol per mol of silver, and more preferably 1 × 10 -4 to 1 mol.
More preferably, it is 10 -3 to 0.5 mol.
【0139】本発明の熱現像記録材料の画像記録層側の
少なくとも1層には、脂肪酸およびその誘導体を含有さ
せることが好ましく、その脂肪酸しては、例えば、ラウ
リン酸、ミリスチン酸、パルミチン酸、ステアリン酸、
ベヘン酸、オレイン酸、リノール酸、リノレン酸、エラ
イジン酸、また、脂肪酸エステルとしては、例えば、ス
テアリン酸ブチル、ステアリン酸アミル、ステアリン酸
オクチル、パルミチン酸ブチル、ミリスチン酸ブチル、
ブトキシエチルステアレート、オレイルオレート、ステ
アリン酸ブトキシエチルが挙げられる。At least one layer on the image recording layer side of the heat-developable recording material of the present invention preferably contains a fatty acid and a derivative thereof. Examples of the fatty acid include lauric acid, myristic acid, palmitic acid, and the like. stearic acid,
Behenic acid, oleic acid, linoleic acid, linolenic acid, elaidic acid, and as fatty acid esters, for example, butyl stearate, amyl stearate, octyl stearate, butyl palmitate, butyl myristate,
Butoxyethyl stearate, oleyl oleate, butoxyethyl stearate.
【0140】熱現像記録材料の支持体としては、紙、ポ
リエチレンを被覆した紙、ポリプロピレンを被覆した
紙、羊皮紙、布、金属(例、アルミニウム、銅、マグネ
シウム、亜鉛)のシートまたは薄膜、ガラス、金属
(例、クロム合金、スチール、銀、金、白金)で被覆し
たガラスおよびプラスチックフィルムが用いられる。支
持体の用いられるプラスチックの例には、ポリアルキル
メタクリレート(例、ポリメチルメタクリレート)、ポ
リエステル(例、ポリエチレンテレフタレート)、ポリ
ビニルアセタール、ポリアミド(例、ナイロン)および
セルロースエステル(例、セルロースニトレート、セル
ロースアセテート、セルロース、アセテートプロピオネ
ート、セルロースアセテートブチレート)が含まれる。
支持体を、ポリマーで被覆してもよい。ポリマーの例に
は、ポリ塩化ビニリデン、アクリル酸系ポリマー(例、
ポリアクリロニトリル、メチルアクリレート)不飽和ジ
カルボン酸(例、イタコン酸、アクリル酸)のポリマ
ー、カルボキシメチルセルロースおよびポリアクリルア
ミドが含まれる。コポリマーを用いてもよい。ポリマー
で被覆する代わりに、ポリマーを含む下塗り層を設けて
もよい。支持体の寸法特性を向上させるには、支持体を
低張力下でアニール処理を行なうことが有効である。例
えば、特公昭60−22616号、米国特許第2,77
9,684号、RD第19809、特開平8−2115
47号、同10−10676号、同10−10677
号、同11−47676号、同11−65025号、同
11−138628号、同11−138648号、同1
1−221892号、同11−333922号、同11
−333923号等に記載された公知の方法を適宜組み
合わせることが好ましい。支持体の熱処理時、好ましく
は下塗り層塗布時の張力は0.4〜80N/cm2、よ
り好ましくは2〜60N/cm2、さらに好ましくは1
0〜50N/cm2である。熱処理温度あるいは乾燥温
度は、70〜220℃、より好ましくは80〜200℃
であり、さらに好ましくは90〜190℃である。熱処
理時間あるいは乾燥時間は、1〜30分が好ましく、よ
り好ましくは2〜20分であり、さらに好ましくは3〜
15分である。As the support of the heat-developable recording material, paper, polyethylene-coated paper, polypropylene-coated paper, parchment, cloth, metal (eg, aluminum, copper, magnesium, zinc) sheet or thin film, glass, Glass and plastic films coated with metal (eg, chromium alloy, steel, silver, gold, platinum) are used. Examples of the plastic used for the support include polyalkyl methacrylate (eg, polymethyl methacrylate), polyester (eg, polyethylene terephthalate), polyvinyl acetal, polyamide (eg, nylon), and cellulose ester (eg, cellulose nitrate, cellulose). Acetate, cellulose, acetate propionate, cellulose acetate butyrate).
The support may be coated with a polymer. Examples of polymers include polyvinylidene chloride, acrylic acid based polymers (eg,
Polyacrylonitrile, methyl acrylate), polymers of unsaturated dicarboxylic acids (eg, itaconic acid, acrylic acid), carboxymethylcellulose and polyacrylamide. Copolymers may be used. Instead of coating with a polymer, an undercoat layer containing a polymer may be provided. In order to improve the dimensional characteristics of the support, it is effective to perform annealing on the support under low tension. For example, Japanese Patent Publication No. 60-21616, U.S. Pat.
No. 9,684, RD 19809, JP-A-8-2115
No. 47, No. 10-10676, No. 10-10677
Nos. 11-47676, 11-65025, 11-138628, 11-138648, 1
Nos. 1-221892, 11-333922, 11
It is preferable to appropriately combine known methods described in, for example, JP-A-333923. The tension at the time of heat treatment of the support, preferably at the time of applying the undercoat layer, is 0.4 to 80 N / cm 2 , more preferably 2 to 60 N / cm 2 , and further preferably 1 to 60 N / cm 2 .
0 to 50 N / cm 2 . The heat treatment temperature or drying temperature is 70 to 220 ° C, more preferably 80 to 200 ° C.
And more preferably 90 to 190 ° C. The heat treatment time or the drying time is preferably from 1 to 30 minutes, more preferably from 2 to 20 minutes, and still more preferably from 3 to 30 minutes.
15 minutes.
【0141】本発明における層構成の好ましい例として
は、支持体の一方の面上に下塗り層を設け、その上に画
像記録層を設け、さらにその上に表面保護層を設ける。
下塗り層(画像記録層側)は2層以上からなることが好
ましく、下塗り層の総乾燥膜厚は、0.2〜5μmが好
ましく、0.5〜3μmであることがより好ましい。画
像記録層の乾燥膜厚は、5〜13μmであることが好ま
しく、7〜11μmであることがより好ましい。表面保
護層の乾燥膜厚は、2〜10μmであることが好まし
く、4〜8μmであることがより好ましい。表面保護層
にはマット剤を含有することが好ましい。マット剤の平
均粒径は1〜10μmが好ましく、3〜7μmであるこ
とがより好ましい。マット剤としては、公知のフィラー
が使用できるが、ポリメチルメタクリレート等の有機質
粉末を使用することが好ましい。As a preferred example of the layer constitution in the present invention, an undercoat layer is provided on one surface of the support, an image recording layer is provided thereon, and a surface protective layer is further provided thereon.
The undercoat layer (image recording layer side) is preferably composed of two or more layers, and the total dry film thickness of the undercoat layer is preferably from 0.2 to 5 μm, more preferably from 0.5 to 3 μm. The dry film thickness of the image recording layer is preferably from 5 to 13 μm, more preferably from 7 to 11 μm. The dry thickness of the surface protective layer is preferably from 2 to 10 μm, more preferably from 4 to 8 μm. The surface protective layer preferably contains a matting agent. The average particle size of the matting agent is preferably from 1 to 10 μm, more preferably from 3 to 7 μm. As the matting agent, a known filler can be used, but it is preferable to use an organic powder such as polymethyl methacrylate.
【0142】支持体を挟んで画像記録層とは反対側の面
上に下塗り層を設け、その上にバックコート層を設け、
さらにその上にバックコート表面保護層を設けることが
好ましい。下塗り層(バックコート層側)は2層以上か
らなることが好ましく、支持体に最も近い下塗り層は、
導電性の金属酸化物および/または導電性ポリマーを含
有する帯電防止層であることが好ましい。導電性の金属
酸化物としては、Sbで表面処理されたSnO2が、導
電性ポリマーとしてはポリアニリンが好ましい。下塗り
層の総乾燥膜厚は、0.2〜4μmが好ましく、0.5
〜2μmであることがより好ましい。バックコート層の
乾燥膜厚は2〜10μmであることが好ましく、4〜8
μmであることがより好ましい。バックコート層にはア
ンチハレーション染料を含むことが好ましい。バックコ
ート表面保護層の乾燥膜厚は、2〜10μmであること
が好ましく、4〜8μmであることがより好ましい。バ
ックコート表面保護層にはマット剤を含有することが好
ましい。マット剤としては、公知のフィラーが使用でき
るが、ポリメチルメタクリレート等の有機質粉末を使用
することが好ましい。マット剤の平均粒径は1〜10μ
mが好ましく、3〜7μmであることがより好ましい。
上記の層構成、膜厚構成をとることで本発明の効果をよ
りよく発揮することができる。An undercoat layer is provided on the surface opposite to the image recording layer with the support therebetween, and a back coat layer is provided thereon.
Further, it is preferable to provide a back coat surface protective layer thereon. The undercoat layer (backcoat layer side) is preferably composed of two or more layers, and the undercoat layer closest to the support is
It is preferable that the antistatic layer contains a conductive metal oxide and / or a conductive polymer. As the conductive metal oxide, SnO 2 surface-treated with Sb is preferable, and as the conductive polymer, polyaniline is preferable. The total dry film thickness of the undercoat layer is preferably from 0.2 to 4 μm,
More preferably, it is 2 μm. The dry film thickness of the back coat layer is preferably 2 to 10 μm, and 4 to 8 μm.
More preferably, it is μm. The back coat layer preferably contains an antihalation dye. The dry film thickness of the back coat surface protective layer is preferably from 2 to 10 μm, more preferably from 4 to 8 μm. The back coat surface protective layer preferably contains a matting agent. As the matting agent, a known filler can be used, but it is preferable to use an organic powder such as polymethyl methacrylate. The average particle size of the matting agent is 1-10μ
m is preferable, and 3 to 7 μm is more preferable.
The effects of the present invention can be better exhibited by adopting the above layer configuration and film thickness configuration.
【0143】本発明の熱現像感光材料は、画像記録層、
画像記録保護層、およびその他の層に、前記以外の当技
術分野で公知の各種の添加剤、例えば色調剤、界面活性
剤、酸化防止剤、安定化剤、可塑剤、紫外線吸収剤、被
覆助剤当を添加してもよい。The photothermographic material of the present invention comprises an image recording layer,
In the image recording protective layer, and other layers, various additives known in the art other than those described above, for example, a color tone agent, a surfactant, an antioxidant, a stabilizer, a plasticizer, an ultraviolet absorber, and a coating aid. An agent may be added.
【0144】本発明の熱現像感光材料の露光には公知の
技術を適用できる。例えば、アルゴンイオンレーザー
(488nm)、He−Neレーザー(633nm)、
赤色半導体レーザー(670nm)、赤外半導体レーザ
ー(780nm、820nm)等のレーザーが好ましく
用いられる。A known technique can be applied to the exposure of the photothermographic material of the present invention. For example, argon ion laser (488 nm), He-Ne laser (633 nm),
Lasers such as a red semiconductor laser (670 nm) and an infrared semiconductor laser (780 nm, 820 nm) are preferably used.
【0145】本発明の熱現像感光材料の熱現像は、加熱
温度としては80℃以上200℃以下が好ましく、さら
に好ましいのは100℃以上150℃以下である。加熱
温度が80℃以下では短時間に十分な画像濃度が得られ
ず、又200℃以上ではバインダーが溶融し、ローラー
への転写など、画像そのものだけでなく搬送性や、現像
機等へも悪影響を及ぼす。In the heat development of the photothermographic material of the present invention, the heating temperature is preferably from 80 ° C. to 200 ° C., and more preferably from 100 ° C. to 150 ° C. If the heating temperature is lower than 80 ° C., a sufficient image density cannot be obtained in a short time, and if the heating temperature is higher than 200 ° C., the binder is melted and adversely affects not only the image itself but also transportability such as transfer to a roller and a developing machine. Effect.
【0146】本発明の熱現像感光材料の熱現像におい
て、搬送方式の熱現像機を用い、搬送速度が22mm/
秒以上40mm/秒以下で熱現像することが本発明の目
的をより高度に達成できる点から好ましい。In the heat development of the photothermographic material of the present invention, a transfer type heat developing machine is used, and the transfer speed is 22 mm /.
It is preferable to carry out the heat development at a rate of not less than seconds and not more than 40 mm / sec from the viewpoint that the object of the present invention can be more highly achieved.
【0147】[0147]
【実施例】以下、本発明を実施例によって具体的に説明
するが、本発明はこれに限定されるものではない。EXAMPLES Hereinafter, the present invention will be described specifically with reference to Examples, but the present invention is not limited thereto.
【0148】実施例1 (下塗済みPET支持体の作製)市販の2軸延伸熱固定
済みの厚さ125μmのポリエチレンテレフタレート
(PET)フィルムを用い180℃、張力1.47×1
05Pa(=1.5kg/cm2)で1分間の搬送熱処理
を行なった。このPETフィルムのヤング率はMD方向
が750kg/mm2、TD方向が740kg/mm2で
あった。この両面に8W/m2・分のコロナ放電処理を
施し、一方の面に下記下塗り塗布液a−1を乾燥膜厚
0.8μmになるように塗布、乾燥して下塗り層A−1
とし、また反対側の面に下記帯電防止加工した下塗り塗
布液b−1を乾燥膜厚0.8μmになるように塗布、乾
燥して帯電防止加工下塗り層B−1とした。 (下塗り塗布液a−1) ブチルアクリレート(30質量%)、tert−ブチルアクリレート (20質量%)、スチレン(25質量%)、 2−ヒドロキシエチルアクリレート(25質量%) の共重合体ラテックス液(固形分30%) 270g 界面活性剤(C−1) 0.6g ヘキサメチレン−1,6−ビス(エチレンウレア) 0.8g ポリスチレン微粒子(平均粒径3μm) 0.05g コロイダルシリカ(平均粒径90nm) 0.1g 水で1lに仕上げる (下塗り塗布液b−1) SnO2/Sb(9/1質量比、平均粒径0.18μm) 120g ブチルアクリレート(30質量%)、スチレン(20質量%)、 グリシジルアクリレート(40質量%)の共重合体ラテックス液 (固形分30%) 270g 界面活性剤(C−1) 0.6g ヘキサメチレン−1,6−ビス(エチレンウレア) 0.8g 水で1lに仕上げる。Example 1 (Preparation of an undercoated PET support) A commercially available biaxially stretched and heat-fixed polyethylene terephthalate (PET) film having a thickness of 125 μm was used at 180 ° C. under a tension of 1.47 × 1.
0 was performed conveying heat treatment for 1 minute at 5 Pa (= 1.5kg / cm 2 ). Young's modulus of the PET film MD direction 750kg / mm 2, TD direction was 740kg / mm 2. The both surfaces were subjected to a corona discharge treatment of 8 W / m 2 · min, and one surface was coated with the following undercoating solution a-1 so as to have a dry film thickness of 0.8 μm, and dried to form an undercoat layer A-1.
On the other side, an undercoating coating solution b-1 having been subjected to the following antistatic processing was applied so as to have a dry film thickness of 0.8 μm and dried to obtain an antistatic processing undercoat layer B-1. (Undercoating coating solution a-1) Copolymer latex liquid of butyl acrylate (30% by mass), tert-butyl acrylate (20% by mass), styrene (25% by mass), and 2-hydroxyethyl acrylate (25% by mass) Solid content 30%) 270 g Surfactant (C-1) 0.6 g Hexamethylene-1,6-bis (ethylene urea) 0.8 g Polystyrene fine particles (average particle size 3 μm) 0.05 g Colloidal silica (average particle size 90 nm) ) 0.1 g finished to 1 liter with water (undercoating coating solution b-1) SnO 2 / Sb (9/1 mass ratio, average particle size 0.18 μm) 120 g butyl acrylate (30 mass%), styrene (20 mass%) Glycidyl acrylate (40% by mass) copolymer latex liquid (solid content 30%) 270 g Surfactant (C-1) g hexamethylene-1,6-bis (ethyleneurea) finish 1l in 0.8g water.
【0149】引き続き、下塗り層A−1及び下塗り層B
−1の各上表面に、8W/m2・分のコロナ放電を施
し、下塗り層A−1の上には、下記下塗り上層塗布液a
−2を乾燥膜厚0.9μmになる様に下塗り層A−2と
して塗設し、下塗り層B−1の上には下記下塗り上層塗
布液b−2を乾燥膜厚0.2μmになる様に帯電防止機
能をもつ下塗り層B−2として塗設した。 (下塗り上層塗布液a−2) バインダー(表1中のE) 50g 界面活性剤(C−1) 0.2g 界面活性剤(C−2) 0.2g 架橋剤(C−3) 0.1g シリカ粒子(平均粒径3μm) 2.0g 水で1lに仕上げる。 (下塗り上層塗布液b−2) ポリマー(C−4) 60g (C−5)を成分とするラテックス液(固形分20%) 80g 硫酸アンモニウム 0.5g 架橋剤(C−6) 12g ポリエチレングリコール(重量平均分子量600) 6g 水で1lに仕上げるSubsequently, the undercoat layer A-1 and the undercoat layer B
-1 was subjected to a corona discharge of 8 W / m 2 .min. On the undercoat layer A-1, and the following undercoat upper layer coating solution a
-2 is applied as an undercoat layer A-2 so as to have a dry film thickness of 0.9 μm, and the following undercoat upper layer coating solution b-2 is formed on the undercoat layer B-1 so as to have a dry film thickness of 0.2 μm. Was provided as an undercoat layer B-2 having an antistatic function. (Undercoat upper layer coating solution a-2) Binder (E in Table 1) 50 g Surfactant (C-1) 0.2 g Surfactant (C-2) 0.2 g Crosslinking agent (C-3) 0.1 g Silica particles (average particle size: 3 μm) 2.0 g Finished to 1 liter with water. (Undercoat upper layer coating solution b-2) Polymer (C-4) 60 g Latex solution containing (C-5) as a component (solid content 20%) 80 g Ammonium sulfate 0.5 g Crosslinking agent (C-6) 12 g Polyethylene glycol (weight) Average molecular weight 600) 6g finish to 1l with water
【0150】[0150]
【化20】 Embedded image
【0151】[0151]
【化21】 Embedded image
【0152】(支持体の熱処理)上記の下塗済み支持体
の下塗乾燥工程において、支持体を140℃で加熱し、
その後徐々に冷却した。 (ハロゲン化銀乳剤Aの調製)水900ml中にイナー
トゼラチン7.5g及び臭化カリウム10mgを溶解し
て温度35℃、pHを3.0に合わせた後、硝酸銀74
gを含む水溶液370mlと(60/38/2)のモル
比の塩化ナトリウムと臭化カリウムと沃化カリウムを含
む水溶液及び〔Ir(NO)Cl5〕塩を銀1モル当た
り1×10-6モル及び塩化ロジウム塩を銀1モル当たり
1×10-6モルを、pAg7.7に保ちながらコントロ
ールドダブルジェット法で添加した。その後4−ヒドロ
キシ−6−メチル−1,3,3a,7−テトラザインデ
ンを添加し、NaOHでpHを8.0、pAg6.5に
調整することで還元増感を行い、平均粒径0.06μ
m、粒径分布の変動係数10%、投影直径面積の変動係
数8%、〔100〕面比率87%の立方体沃臭化銀粒子
を有するハロゲン化銀乳剤を得、この乳剤にゼラチン凝
集剤を用いて凝集沈降させ脱塩処理を行いハロゲン化銀
乳剤Aを得た。 (ベヘン酸Na溶液の調製)945mlの純水にベヘン
酸32.4g、アラキジン酸9.9g、ステアリン酸
5.6gを90℃で溶解した。次に高速で攪拌しながら
1.5モル/リットルの水酸化ナトリウム水溶液98m
lを添加した。次に濃硝酸0.93mlを加えた後、5
5℃に冷却して30分攪拌させてベヘン酸Na溶液を得
た。 (ベヘン酸銀とハロゲン化銀乳剤Aのプレフォーム乳剤
の調製)上記のベヘン酸Na溶液に前記ハロゲン化銀乳
剤Aを1.51g添加し、水酸化ナトリウム溶液でpH
8.1に調整した後に1モル/リットルの硝酸銀溶液1
47mlを7分間かけて加え、さらに20分攪拌し、限
外濾過により水溶性塩類を除去した。得られたベヘン酸
銀は平均粒径0.8μm、粒径分布の変動係数8%の粒
子であった。この分散物のフロックを形成後、水を取り
除き、更に6回の水洗と水の除去を行った後乾燥させプ
レフォーム乳剤を得た。 (感光性乳剤Aの調製)上記プレフォーム乳剤に、−S
O3Na含有ポリビニルブチラール樹脂のメチルエチル
ケトン/トルエン溶液(17質量%)544gとトルエ
ン107gを徐々に添加して混合した後に、0.5mm
サイズのZrO2のビーズミルを用いたメディア分散機
で4000psiで30℃、10分間の分散を行い感光
性乳剤Aを作製した。 (熱現像感光材料試料の作製)前記支持体上に以下の各
層を両面同時塗布し、熱現像感光材料試料を作製した。
なお、乾燥は60℃、15分間で行った。 (バック面側塗布)支持体の下塗り層B−2の上に下記
組成のバックコート層塗布液を乾燥膜厚が6μm、バッ
ク層表面保護層塗布液を乾燥膜厚が3.5μmとなるよ
うに同時塗布した。 (バックコート層塗布液) セルロースアセテートブチレート 15g (10%メチルエチルケトン溶液) 染料−A 0.007g 染料−B 0.007g マット剤:粒径分布の変動係数15%、平均粒径5μmの単分散シリカ 0.09g マット剤:粒径分布の変動係数15%、平均粒径15μmの単分散シリカ 0.02g C8F17(CH2CH2O)12C8F17 0.05g C9F17−C6H4−SO3Na 0.01g ステアリン酸 0.1g(Heat Treatment of Support) In the above-mentioned undercoat drying step of the undercoated support, the support was heated at 140 ° C.
Thereafter, it was gradually cooled. (Preparation of Silver Halide Emulsion A) 7.5 g of inert gelatin and 10 mg of potassium bromide were dissolved in 900 ml of water, the temperature was adjusted to 35 ° C. and the pH was adjusted to 3.0.
g of an aqueous solution containing sodium chloride, potassium bromide and potassium iodide in a molar ratio of (60/38/2) and [Ir (NO) Cl 5 ] salt in an amount of 1 × 10 −6 per mole of silver. The mol and rhodium chloride salt were added by the controlled double jet method at 1 × 10 −6 mol per mol of silver while keeping the pAg at 7.7. Thereafter, 4-hydroxy-6-methyl-1,3,3a, 7-tetrazaindene was added, the pH was adjusted to 8.0 and the pAg was adjusted to 6.5 with NaOH, and reduction sensitization was performed. .06μ
m, a coefficient of variation of the particle size distribution of 10%, a coefficient of variation of the projected diameter area of 8%, and a silver halide emulsion having cubic silver iodobromide grains having a [100] face ratio of 87%. The resulting mixture was subjected to coagulation sedimentation and desalting to obtain a silver halide emulsion A. (Preparation of Na Behenate Solution) In 945 ml of pure water, 32.4 g of behenic acid, 9.9 g of arachidic acid and 5.6 g of stearic acid were dissolved at 90 ° C. Next, while stirring at a high speed, 98 m of a 1.5 mol / l sodium hydroxide aqueous solution
1 was added. Next, after adding 0.93 ml of concentrated nitric acid, 5
The mixture was cooled to 5 ° C and stirred for 30 minutes to obtain a sodium behenate solution. (Preparation of Preform Emulsion of Silver Behenate and Silver Halide Emulsion A) 1.51 g of the silver halide emulsion A was added to the above sodium behenate solution, and the pH was adjusted with a sodium hydroxide solution.
After adjusting to 8.1, 1 mol / l of silver nitrate solution 1
47 ml was added over 7 minutes, the mixture was further stirred for 20 minutes, and water-soluble salts were removed by ultrafiltration. The obtained silver behenate was particles having an average particle size of 0.8 μm and a variation coefficient of the particle size distribution of 8%. After the floc of this dispersion was formed, water was removed, washed with water six times and water was removed, and dried to obtain a preform emulsion. (Preparation of photosensitive emulsion A) -S
544 g of a methyl ethyl ketone / toluene solution (17% by mass) of O 3 Na-containing polyvinyl butyral resin and 107 g of toluene were gradually added and mixed.
Dispersion was performed at 30 ° C. for 10 minutes at 4000 psi with a media disperser using a ZrO 2 bead mill of size to prepare photosensitive emulsion A. (Preparation of Photothermographic Material Sample) The following layers were simultaneously coated on both sides of the support to prepare a photothermographic material sample.
The drying was performed at 60 ° C. for 15 minutes. (Coating on the back side) On the undercoat layer B-2 of the support, the back coating layer coating solution having the following composition has a dry film thickness of 6 μm and the back layer surface protection layer coating solution has a dry film thickness of 3.5 μm. At the same time. (Coating solution for back coat layer) Cellulose acetate butyrate 15 g (10% methyl ethyl ketone solution) Dye-A 0.007 g Dye-B 0.007 g Matting agent: Monodisperse silica having a variation coefficient of particle size distribution of 15% and an average particle size of 5 μm 0.09 g Matting agent: monodisperse silica having a coefficient of variation in particle size distribution of 15% and an average particle size of 15 μm 0.02 g C 8 F 17 (CH 2 CH 2 O) 12 C 8 F 17 0.05 g C 9 F 17 − C 6 H 4 —SO 3 Na 0.01 g Stearic acid 0.1 g
【0153】[0153]
【化22】 Embedded image
【0154】 (バック層表面保護層) セルロースアセテートブチレート 15g (10%メチルエチルケトン溶液) マット剤:粒径分布の変動係数15%、平均粒径5μmの単分散シリカ (シリカ全質量の1質量%のアルミニウムで表面処理) 0.1g マット剤:粒径分布の変動係数15%、平均粒径15μmの単分散シリカ (シリカ全質量の1質量%のアルミニウムで表面処理) 0.04g C8F17(CH2CH2O)12C8F17 0.05g C9F17−C6H4−SO3Na 0.01g ステアリン酸 0.1g (画像記録層面側塗布) (画像記録層)支持体上に設けた下塗り層A−2の上に
下記組成の塗布液を塗布銀量が1.0g/m2、乾燥膜
厚が10.0μmになる様に塗布した。(Back layer surface protective layer) Cellulose acetate butyrate 15 g (10% methyl ethyl ketone solution) Matting agent: Monodisperse silica having a variation coefficient of particle size distribution of 15% and an average particle size of 5 μm (1% by mass of the total mass of silica) 0.1 g Matting agent: monodisperse silica having a coefficient of variation in particle size distribution of 15% and an average particle size of 15 μm (surface treated with aluminum of 1% by mass of the total mass of silica) 0.04 g C 8 F 17 ( (CH 2 CH 2 O) 12 C 8 F 17 0.05 g C 9 F 17 —C 6 H 4 —SO 3 Na 0.01 g Stearic acid 0.1 g (coating on image recording layer side) (image recording layer) on support On the undercoat layer A-2 provided in the above, a coating solution having the following composition was applied so that the applied silver amount was 1.0 g / m 2 and the dry film thickness was 10.0 μm.
【0155】 感光性乳剤A 240g 増感色素A(0.1%メタノール溶液) 1.7ml 染料−A 0.07g ピリジニウムプロミドペルブロミド(6%メタノール溶液) 3ml 臭化カルシウム(0.1%メタノール溶液) 1.7ml 酸化剤−1(10%メタノール溶液) 1.2ml 2−4−クロロベンゾイル安息香酸(12%メタノール溶液)9.2ml 2−メルカプトベンゾイミダゾール(1%メタノール溶液) 11ml バインダー1(表1に記載) 表1に記載の量 トリブロモメチルスルホキノリン(5%メタノール溶液) 17ml 化合物A 0.1g 化合物B 0.1g 化合物C 0.1g ヒドラジン誘導体(表1に記載の化合物) 0.4g 硬調化剤(ヒドラジン誘導体以外の、表1に記載の化合物) 0.3g フタラジン 0.6g 4−メチルフタル酸 0.25g テトラクロロフタル酸 0.2g マット剤(粒径分布の変動係数15%、平均粒径5μmの単分散シリカ、 シリカ全質量の1質量%のアルミニウムで表面処理) 0.3g 還元剤−1(20%メタノール溶液) 20.5ml イソシアネート化合物 0.5g (モーベイ社製、Desmodur N3300) ステアリン酸 0.5g ステアリン酸ブチル 0.5g α−アルミナ(モース硬度9) 0.5gPhotosensitive emulsion A 240 g Sensitizing dye A (0.1% methanol solution) 1.7 ml Dye-A 0.07 g Pyridinium bromide perbromide (6% methanol solution) 3 ml Calcium bromide (0.1% methanol solution) Solution) 1.7 ml Oxidizing agent-1 (10% methanol solution) 1.2 ml 2-Chlorobenzoylbenzoic acid (12% methanol solution) 9.2 ml 2-mercaptobenzimidazole (1% methanol solution) 11 ml Binder 1 ( (Described in Table 1) Amount described in Table 1 Tribromomethylsulfoquinoline (5% methanol solution) 17 ml Compound A 0.1 g Compound B 0.1 g Compound C 0.1 g Hydrazine derivative (compound described in Table 1) 4 g Hardening agent (compound shown in Table 1 other than hydrazine derivative) 0.3 g Phthalazine 0 2.6 g 4-methylphthalic acid 0.25 g tetrachlorophthalic acid 0.2 g matting agent (coefficient of variation in particle size distribution: 15%, monodisperse silica having an average particle size of 5 μm, surface treatment with aluminum of 1% by mass of the total mass of silica) 0.3 g Reducing agent-1 (20% methanol solution) 20.5 ml Isocyanate compound 0.5 g (Desmodur N3300 manufactured by Mobay Corporation) Stearic acid 0.5 g Butyl stearate 0.5 g α-alumina (Mohs hardness 9) 5g
【0156】[0156]
【化23】 Embedded image
【0157】[0157]
【化24】 Embedded image
【0158】(画像記録保護層)下記組成の塗布液を画
像記録層の上に乾燥膜厚が6μmとなるよう画像記録層
塗布液と同時塗布した。(Image Recording Protective Layer) A coating solution having the following composition was simultaneously coated on the image recording layer so as to have a dry film thickness of 6 μm.
【0159】 アセトン 5g メチルエチルケトン 21g バインダー2(表1に記載) 表1に記載の量 メタノール 7g フタラジン 0.25g 還元剤−1(20%メタノール溶液) 10g マット剤(粒径分布の変動係数15%、平均粒径5μmの単分散シリカ、 シリカ全質量の1質量%のアルミニウムで表面処理したもの)0.2g マット剤(粒径分布の変動係数15%、平均粒径20μmの単分散シリカ、 シリカ全質量の1質量%のアルミニウムで表面処理したもの) 0.04g CH2=CHSO2CH2CH2OCH2CH2SO2CH=CH2 0.035g C12F25(CH2CH2O)10C12F25 0.01g C8F17−C6H4−SO3Na 0.01g ステアリン酸 0.1g ステアリン酸ブチル 0.1g α−アルミナ(モース硬度9) 0.1g 塗膜形成した熱現像感光材料試料について、バインダー
を除去した後に、レプリカ法で電子顕微鏡観察して測定
したところ、有機銀塩粒子は、長軸径0.5±0.05
μm、短軸径0.4±0.05μm、厚み0.01μm
の平板状粒子が全有機銀塩粒子の90%、粒径分布の変
動係数5%の粒子であった。Acetone 5 g Methyl ethyl ketone 21 g Binder 2 (described in Table 1) Amount described in Table 1 Methanol 7 g Phthalazine 0.25 g Reducing agent-1 (20% methanol solution) 10 g Matting agent (Coefficient of variation of particle size distribution 15%, Monodisperse silica having an average particle size of 5 μm, surface-treated with 1% by mass of aluminum based on the total mass of silica 0.2 g Matting agent (monodisperse silica having a variation coefficient of particle size distribution of 15% and average particle size of 20 μm) 0.04 g CH 2 CHCHSO 2 CH 2 CH 2 OCH 2 CH 2 SO 2 CH = CH 2 0.035 g C 12 F 25 (CH 2 CH 2 O) 10 C 12 F 25 0.01g C 8 F 17 -C 6 H 4 -SO 3 Na 0.01g stearate 0.1g butyl stearate 0.1g alpha-alumina ( 9) 0.1 g of the photothermographic material sample on which the coating film was formed, after removing the binder and observing the sample with an electron microscope using a replica method, the organic silver salt particles had a major axis diameter of 0.5 ± 0.5%. 0.05
μm, short axis diameter 0.4 ± 0.05μm, thickness 0.01μm
Were 90% of the total organic silver salt particles and the particle size distribution had a coefficient of variation of 5%.
【0160】上記熱現像感光材料試料を、暗室内で30
cm幅で50mの長さに切断して内径10cmのボール
紙でできたコアに巻き付けロール形状とした。さらに暗
室内で、作製した試料を60cm×2mの包装材料で巻
いた。The above photothermographic material sample was placed in a dark room for 30 minutes.
It was cut to a length of 50 m with a width of 10 cm and wound around a core made of cardboard having an inner diameter of 10 cm to form a roll. Further, in a dark room, the produced sample was wound with a packaging material of 60 cm × 2 m.
【0161】実施例2 (ハロゲン化銀乳剤Bの調製)水700mlにフタル化
ゼラチン22gおよび臭化カリウム30mgを溶解して
温度40℃にてpHを5.0に合わせた後、硝酸銀1
8.6gを含む水溶液159mlと臭化カリウムを含む
水溶液をpAg7.7に保ちながらコントロールダブル
ジェット法で60分間かけて添加した。ついで硝酸銀5
5.4gを含む水溶液476mlとK3〔IrCl6〕3
を8×10-6モル/リットルと臭化カリウムを1モル/
リットル含む水溶液をpAg7.7に保ちながらコント
ロールダブルジェット法で30分かけて添加した。その
後pH5.9、pAg8.0に調整した。得られたハロ
ゲン化銀粒子は、平均粒径0.07μm、投影面積直径
の変動係数8%、(100)面積率86%の立方体粒子
であった。上記のハロゲン化銀乳剤Bを温度60℃に昇
温して、銀1モル当たり8.5×10-5モルのチオ硫酸
ナトリウム、1.1×10-5モルの2,3,4,5,6
−ペンタフロロフェニルジフェニルスルフィンセレニ
ド、2×10-6モルの下記テルル化合物−1、3.3×
10-6モルの塩化金酸、2.3×10-4モルのチオシア
ン酸を添加して、120分間熟成した。その後、温度を
50℃にして8×10-4モルの下記増感色素Bを攪拌し
ながら添加し、更に、3.5×10-2モルの沃化カリウ
ムを添加して30分間攪拌し、30℃に急冷してハロゲ
ン化銀粒子の調製を完了した。Example 2 (Preparation of silver halide emulsion B) After dissolving 22 g of phthalated gelatin and 30 mg of potassium bromide in 700 ml of water and adjusting the pH to 5.0 at a temperature of 40 ° C, silver nitrate 1
159 ml of an aqueous solution containing 8.6 g and an aqueous solution containing potassium bromide were added over 60 minutes by a control double jet method while maintaining the pAg at 7.7. Then silver nitrate 5
476 ml of an aqueous solution containing 5.4 g and K 3 [IrCl 6 ] 3
8 × 10 -6 mol / l and potassium bromide 1 mol /
An aqueous solution containing 1 liter was added over 30 minutes by the control double jet method while maintaining the pAg at 7.7. Thereafter, pH was adjusted to 5.9 and pAg to 8.0. The obtained silver halide grains were cubic grains having an average grain size of 0.07 μm, a variation coefficient of the projected area diameter of 8%, and a (100) area ratio of 86%. The above silver halide emulsion B was heated to a temperature of 60 ° C. to give 8.5 × 10 −5 mol of sodium thiosulfate and 1.1 × 10 −5 mol of 2,3,4,5 mol per mol of silver. , 6
-Pentafluorophenyldiphenylsulfin selenide, 2 × 10 −6 mol of the following tellurium compound-1, 3.3 ×
10 -6 mol of chloroauric acid, 2.3 × 10 -4 mol of thiocyanic acid were added, and the mixture was aged for 120 minutes. Thereafter, the temperature was raised to 50 ° C., 8 × 10 −4 mol of the following sensitizing dye B was added with stirring, and further 3.5 × 10 −2 mol of potassium iodide was added, followed by stirring for 30 minutes. The mixture was rapidly cooled to 30 ° C. to complete the preparation of silver halide grains.
【0162】[0162]
【化25】 Embedded image
【0163】(有機銀塩微結晶分散物の調製)ベヘン酸
40g、ステアリン酸7.3g、蒸留水500mlを9
0℃で15分間混合し、激しく攪拌しながら1モル/リ
ットルのNaOH水溶液187mlを15分かけて添加
し、1モル/リットルの硝酸水溶液61mlを添加して
50℃に降温した。次に、1モル/リットルの硝酸銀水
溶液124mlを添加してそのまま30分間攪拌した。
その後、吸引濾過で固形分を濾過し、濾水の電気伝導度
が30μS/cmになるまで固形分を水洗した。こうし
て得られた固形分は、乾燥させないでウェットケーキと
して取り扱い、乾燥固形分34.8g相当のウェットケ
ーキに対して、ポリビニルアルコール12gおよび水1
50mlを添加し、良く混合してスラリーとした。平均
直径0.5mmのジルコニアビーズ840gを用意して
スラリーと一緒にベッセルに入れ、分散機(1/4G−
サンドグラインダーミル:アイメックス(株)製)にて
5時間分散し、体積加重平均1.5μmの有機銀塩微結
晶分散物を得た。粒子サイズの測定は、Malvern
Instruments Ltd.製MasterS
aizerXで行った。 (素材固体微粒子分散物の調製)テトラクロロフタル
酸、4−メチルフタル酸、1,1−ビス(2−ヒドロキ
シ−3,5−ジメチルフェニル)−3,5,5−トリメ
チルヘキサン、フタラジン、およびトリブロモメチルス
ルホキノリンのそれぞれについて固体微粒子分散物を調
製した。(Preparation of organic silver salt microcrystal dispersion) 40 g of behenic acid, 7.3 g of stearic acid and 500 ml of distilled water were added to 9
The mixture was mixed at 0 ° C. for 15 minutes, 187 ml of a 1 mol / l NaOH aqueous solution was added over 15 minutes with vigorous stirring, and 61 ml of a 1 mol / l nitric acid aqueous solution was added, followed by cooling to 50 ° C. Next, 124 ml of a 1 mol / liter aqueous silver nitrate solution was added, and the mixture was stirred for 30 minutes.
Thereafter, the solid content was filtered by suction filtration, and the solid content was washed with water until the electric conductivity of the filtrate reached 30 μS / cm. The solid content thus obtained was handled as a wet cake without drying, and 12 g of polyvinyl alcohol and 1 liter of water were added to a wet cake equivalent to 34.8 g of dry solid content.
50 ml was added and mixed well to form a slurry. Prepare 840 g of zirconia beads having an average diameter of 0.5 mm, put them in a vessel together with the slurry, and use a disperser ((G-
The mixture was dispersed for 5 hours with a sand grinder mill (manufactured by Imex Co., Ltd.) to obtain a dispersion of organic silver salt microcrystals having a volume-weighted average of 1.5 μm. Particle size measurements are available from Malvern
Instruments Ltd. MasterS
Performed with aizerX. (Preparation of material solid fine particle dispersion) Tetrachlorophthalic acid, 4-methylphthalic acid, 1,1-bis (2-hydroxy-3,5-dimethylphenyl) -3,5,5-trimethylhexane, phthalazine, and trimethylphthalic acid Solid particulate dispersions were prepared for each of the bromomethylsulfoquinolines.
【0164】テトラクロロフタル酸の固体微粒子分散物
の調整:ヒドロキシプロピルセルロース0.81gと水
94.2mlとを添加して良く攪拌してスラリーとして
10時間放置した。その後、平均直径0.5mmのジル
コニアビーズを100mlとスラリーとを一緒にベッセ
ルに入れて有機酸銀微結晶分散物の調製に用いたものと
同じ型の分散機で5時間分散してテトラクロロフタル酸
の固体微結晶分散物を得た。固体微粒子の粒子サイズは
70質量%が1.0μm以下であった。Preparation of solid fine particle dispersion of tetrachlorophthalic acid: 0.81 g of hydroxypropylcellulose and 94.2 ml of water were added, stirred well, and left as a slurry for 10 hours. Thereafter, 100 ml of zirconia beads having an average diameter of 0.5 mm and a slurry were put together in a vessel, and dispersed in a dispersing machine of the same type as that used for preparing the silver salt of organic acid microcrystals for 5 hours. A solid microcrystalline dispersion of the acid was obtained. 70% by mass of the solid fine particles had a particle size of 1.0 μm or less.
【0165】その他の素材については所望の平均粒径を
得るために適宜分散剤の使用量および分散時間を変更し
て、それぞれ固体微粒子分散物を得た。 (熱現像感光材料試料の作製)実施例1と同様にして作
製した下塗り済みPET支持体に以下の各層を両面同時
塗布し、熱現像感光材料試料を作製した。なお、乾燥は
60℃、15分間で行なった。 (バック面側塗布)支持体上に設けた下塗り層B−2の
上に下記組成のバックコート層塗布液を乾燥膜厚が6μ
mとなるように、その上にバック層表面保護層塗布液を
乾燥膜厚が3.5μmになるように同時塗布し、乾燥し
た。 (バックコート層塗布液) ポリビニルアルコール(10%水溶液) 15g 染料−A 0.007g 染料−B 0.007g マット剤(粒径分布の変動係数15%、平均粒径5μmの単分散シリカ) 0.09g マット剤(粒径分布の変動係数15%、平均粒径17μmの単分散シリカ) 0.01g ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム 0.05g ステアリン酸 0.1g (バック層表面保護層塗布液) ポリビニルアルコール(10%水溶液) 15g マット剤(粒径分布の変動係数15%、平均粒径5μmのシリカA、 シリカ全質量の1質量%のアルミニウムで表面処理) 0.5g マット剤(粒径分布の変動係数15%、平均粒径15μmのシリカA、 シリカ全質量の1質量%のアルミニウムで表面処理) 0.04g ステアリン酸 0.1g (画像記録層側塗布)支持体に設けた下塗り層A−2の
上に下記組成の塗布液を塗布銀量が1.0g/m2、乾
燥膜厚が10.0μmになる様に塗布した。 (画像記録層塗布液)先に調製した有機銀塩微結晶分散
物に対して下記のバインダーおよび素材を添加して画像
記録層塗布液を調製した。With respect to the other materials, the amount of the dispersant used and the dispersion time were appropriately changed in order to obtain a desired average particle size, and solid fine particle dispersions were obtained. (Preparation of Photothermographic Material Sample) The following layers were simultaneously coated on an undercoated PET support prepared in the same manner as in Example 1 to prepare a photothermographic material sample. The drying was performed at 60 ° C. for 15 minutes. (Back surface side coating) On the undercoat layer B-2 provided on the support, a backcoat layer coating solution having the following composition was dried to a thickness of 6 μm.
m, a coating liquid for the back layer surface protective layer was simultaneously applied thereon so that the dry film thickness became 3.5 μm, and dried. (Coating solution for back coat layer) Polyvinyl alcohol (10% aqueous solution) 15 g Dye-A 0.007 g Dye-B 0.007 g Matting agent (monodisperse silica having a variation coefficient of particle size distribution of 15% and an average particle size of 5 μm) 09 g Matting agent (monodisperse silica having a variation coefficient of particle size distribution of 15% and an average particle size of 17 μm) 0.01 g sodium dodecylbenzenesulfonate 0.05 g stearic acid 0.1 g (coating solution for back layer surface protective layer) Polyvinyl alcohol ( 10 g aqueous solution) 15 g Matting agent (Coefficient of variation of particle size distribution 15%, silica A having an average particle size of 5 μm, surface treatment with aluminum of 1 mass% of the total mass of silica) 0.5 g Matting agent (coefficient of variation of particle size distribution) 15%, silica A having an average particle size of 15 μm, surface treatment with aluminum of 1% by mass of the total mass of silica) 0.04 g Stearic acid g (image recording layer side coating) coating silver amount a coating solution having the following composition on a support provided with a subbing layer A-2 is 1.0 g / m 2, coating as a dry film thickness of 10.0μm did. (Image recording layer coating solution) The following binder and material were added to the previously prepared organic silver salt microcrystal dispersion to prepare an image recording layer coating solution.
【0166】 有機酸銀微結晶分散物 0.95モル ハロゲン化銀乳剤B 0.05モル ラクスター3307B(大日本インキ化学工業(株)製 Tg=13℃) 固形分として430g バインダー1(表1に記載) 固形分として表1に記載の量 還元剤−1(20%メタノール溶液) 98g トリブロモメチルスルホニルベンゼン 12g ヒドラジン誘導体(表1に記載の化合物) 1.5g 硬調化剤(ヒドラジン誘導体以外の、表1に記載の化合物) 1.5g フタラジン 9.2g 4−メチルフタル酸 7g テトラクロロフタル酸 5g マット剤(粒径分布の変動係数15%、平均粒径5μmの単分散シリカ、 シリカ全質量の1質量%のアルミニウムで表面処理) 2.0g ステアリン酸 0.5g ステアリン酸ブチル 0.5g α−アルミナ(モース硬度9) 0.5g (画像記録保護層)下記組成の液を画像記録層の上にな
るよう同時塗布した。Organic acid silver microcrystal dispersion 0.95 mol Silver halide emulsion B 0.05 mol Luster 3307B (Tg = 13 ° C., manufactured by Dainippon Ink and Chemicals, Inc.) 430 g as solids Binder 1 (see Table 1) Description) Amount shown in Table 1 as solid content Reducing agent-1 (20% methanol solution) 98 g Tribromomethylsulfonylbenzene 12 g Hydrazine derivative (compound described in Table 1) 1.5 g Hardening agent (other than hydrazine derivative) Compounds listed in Table 1) 1.5 g Phthalazine 9.2 g 4-Methylphthalic acid 7 g Tetrachlorophthalic acid 5 g Matting agent (coefficient of variation in particle size distribution: 15%, monodisperse silica having an average particle size of 5 μm, 1 of the total mass of silica) 2.0 g Stearic acid 0.5 g Butyl stearate 0.5 g α-alumina Scan hardness 9) 0.5 g (were simultaneously coated so that the liquid of the image recording protective layer) The following composition on an image recording layer.
【0167】 水 26g バインダー2(表1に記載) 表1に記載の量 フタラジン 0.25g 還元剤−1(20%メタノール溶液) 10g マット剤(粒径分布の変動係数15%、平均粒径5μmのシリカ、 シリカ全質量の1質量%のアルミニウムで表面処理したもの)0.5g マット剤(粒径分布の変動係数15%、平均粒径20μmのシリカ、 シリカ全質量の1質量%のアルミニウムで表面処理したもの) 0.04g C8F17−C6H4−SO3Na 0.02g ステアリン酸 0.1g ステアリン酸ブチル 0.1g α−アルミナ(モース硬度9) 0.1g 塗膜形成した熱現像感光材料試料を用い、バインダーを
除去した後に、レプリカ法で電子顕微鏡観察して測定し
たところ、有機銀塩粒子は、長軸径0.5±0.05μ
m、短軸径0.4±0.05μm、厚み0.01μmの
平板状粒子が全有機銀塩粒子の90%である粒径分布の
変動係数5%の粒子であった。Water 26 g Binder 2 (described in Table 1) Amount described in Table 1 Phthalazine 0.25 g Reducing agent-1 (20% methanol solution) 10 g Matting agent (Coefficient of variation of particle size distribution 15%, average particle size 5 μm) 0.5 g of a matting agent (silica having a particle size distribution variation coefficient of 15%, an average particle diameter of 20 μm, and aluminum of 1 mass% of the total mass of silica) surface-treated ones) 0.04g C 8 F 17 -C 6 H 4 -SO 3 Na 0.02g stearate 0.1g butyl stearate 0.1g alpha-alumina (Mohs hardness: 9) was 0.1g film forming Using a photothermographic material sample, after removing the binder, the electron silver microparticles were observed by an electron microscope using a replica method.
m, tabular grains having a minor axis diameter of 0.4 ± 0.05 μm and a thickness of 0.01 μm were grains having a coefficient of variation of 5% in particle size distribution, which was 90% of all organic silver salt grains.
【0168】作製した熱現像感光材料を、暗室内で30
cm幅で50mの長さに切断して内径10cmのボール
紙でできたコアに巻き付けロール形状の試料を作製し
た。さらに暗室内で作製した試料を60cm×2mの包
装材料で巻いた。 (露光及び現像処理)上記熱現像感光材料を、780n
mの半導体レーザーを搭載したイメージセッター機であ
るサイテックス社製Dolev 2dryを用いて30
0線で5%刻みで露光量変化させるように網点を露光
し、110℃で15秒のプレヒート部を通過させた後、
オーブン中で水平搬送を行ないつつ120℃で15秒の
熱現像を行った。その際、露光及び現像は23℃、50
%RHに調湿した部屋で行った。この時、熱現像処理機
中の最長非接触搬送長は18cmであった。また熱現像
処理機の搬送速度を表2に示す。 (ガンマγ)特性曲線の濃度0.3と3.0を結ぶ直線
の横軸に対する傾きを脚切れを表す階調(γ)とした。 (Dmax)得られた画像の最高濃度部の光学濃度を濃
度計で測定し、Dmaxとした。 (接着性)フィルム上にセロテープ(登録商標)をは
り、碁盤目上に傷を入れ、テープ剥離後にはがれた部分
の面積比率を求め、下記5段階で評価した。The produced photothermographic material was placed in a dark room for 30 minutes.
The sample was cut into a length of 50 m and a width of 10 cm, wound around a core made of cardboard having an inner diameter of 10 cm, and a roll-shaped sample was prepared. Further, the sample prepared in the dark room was wound with a packaging material of 60 cm × 2 m. (Exposure and development treatment)
using a Dotex 2dry manufactured by Scitex, an image setter equipped with a
A halftone dot is exposed so as to change the exposure amount in 5% steps with a 0 line, and after passing through a pre-heating section at 110 ° C. for 15 seconds,
Thermal development was performed at 120 ° C. for 15 seconds while performing horizontal conveyance in an oven. At that time, exposure and development were performed at 23 ° C and 50 ° C.
Performed in a room conditioned to% RH. At this time, the longest non-contact conveyance length in the heat development processor was 18 cm. Table 2 shows the transport speed of the heat development processor. (Gamma γ) The gradient of the straight line connecting the densities 0.3 and 3.0 of the characteristic curve with respect to the horizontal axis was defined as the gradation (γ) representing the break of the leg. (Dmax) The optical density of the highest density portion of the obtained image was measured with a densitometer, and was defined as Dmax. (Adhesiveness) Cellotape (registered trademark) was pasted on the film, scratches were made on a grid, and the area ratio of the part peeled off after the tape was peeled was evaluated.
【0169】5 剥離部分 0% 4 剥離部分 1〜33% 3 剥離部分 34〜66% 2 剥離部分 67%〜99% 1 剥離部分 100% (熱現像処理時の粉落ちの発生)熱現像処理時の粉落ち
の発生を目視で評価し、5を最良のレベル、1を最悪の
レベルとして5段階評価した。 (PS版焼き付け時の焼きボケの発生)PS版焼き付け
時の焼きボケの発生を目視で評価し、5を最良のレベ
ル、1を最悪のレベルとして5段階評価した。5 Peeled part 0% 4 Peeled part 1-33% 3 Peeled part 34-66% 2 Peeled part 67% -99% 1 Peeled part 100% (Generation of powder during heat development) At the time of heat development The occurrence of powder drop was visually evaluated, and 5 levels were evaluated with 5 being the best level and 1 being the worst level. (Occurrence of Burning Blurring During Baking of PS Plate) The occurrence of burning blur during baking of the PS plate was visually evaluated. Five levels were evaluated with 5 being the best level and 1 being the worst level.
【0170】結果を表2に示す。Table 2 shows the results.
【0171】[0171]
【表1】 [Table 1]
【0172】[0172]
【表2】 [Table 2]
【0173】比率*1:画像記録層中の全バインダー質
量に対するヒドロキシル基含有量が4〜20質量%のセ
ルロースエステル、またはアクリル樹脂の比率(%) 比率*2:画像記録保護層中の全バインダー質量に対す
るヒドロキシル基含有量が4〜20質量%のセルロース
エステルの比率(%) 表1中、「バインダー1」及び「バインダー2」の欄中
の記号の意味は下記の通りである。%は質量%を示す。 A:セルロースアセテートブチレート(ヒドロキシル基
含有量:1.8%)Tg=141℃ B:セルロースアセテートプロピオネート(ヒドロキシ
ル基含有量:5.0%)Tg=159℃ C:セルロースアセテートブチレート(ヒドロキシル基
含有量:4.8%)Tg=136℃ D:セルロースアセテートプロピオネート(ヒドロキシ
ル基含有量:1.3%)Tg=147℃ E:−SO3Na含有アクリル樹脂(2−ヒドロキシエ
チルメタクリレート/メチルメタアクリレート=25/
75(モル%)、Tg=70℃) F:ポリメチルメタアクリレート Tg:示差走査熱量測定法(DSC)により求めた値。Ratio * 1: Ratio (%) of cellulose ester or acrylic resin having a hydroxyl group content of 4 to 20% by mass relative to the total binder mass in the image recording layer. Ratio * 2: All binders in the image recording protective layer. The ratio of the cellulose ester having a hydroxyl group content of 4 to 20% by mass based on the mass (%) In Table 1, the meanings of the symbols in the columns of "Binder 1" and "Binder 2" are as follows. % Indicates mass%. A: Cellulose acetate butyrate (hydroxyl group content: 1.8%) Tg = 141 ° C. B: Cellulose acetate propionate (hydroxyl group content: 5.0%) Tg = 159 ° C. C: Cellulose acetate butyrate ( Hydroxyl group content: 4.8%) Tg = 136 ° C. D: Cellulose acetate propionate (hydroxyl group content: 1.3%) Tg = 147 ° C. E: —SO 3 Na-containing acrylic resin (2-hydroxyethyl) Methacrylate / methyl methacrylate = 25 /
75 (mol%), Tg = 70 ° C.) F: polymethyl methacrylate Tg: value determined by differential scanning calorimetry (DSC).
【0174】[0174]
【発明の効果】本発明によれば、接着性に優れ、熱現像
処理時の粉落ちの発生が良好に抑えられ、PS版焼き付
け時に焼きボケの発生がなく、小点再現性に優れる硬調
で、Dmaxの高い熱現像感光材料が得られるAccording to the present invention, the adhesiveness is excellent, the generation of powder dropout during the heat development processing is suppressed well, the bokeh does not occur during the baking of the PS plate, and the high contrast with excellent small point reproducibility is obtained. And a photothermographic material having a high Dmax can be obtained.
Claims (9)
バインダー、および還元剤を含有する画像記録層を有す
る熱現像記録材料において、該画像記録層上に画像記録
保護層が設けられ、該画像記録層および/または該画像
記録保護層にバインダーの一部としてヒドロキシル基含
有量が4〜20質量%のセルロースエステルを含有する
ことを特徴とする熱現像感光材料。1. An organic silver salt, a silver halide,
In a heat-developable recording material having an image recording layer containing a binder and a reducing agent, an image recording protective layer is provided on the image recording layer, and a part of the binder is provided on the image recording layer and / or the image recording protective layer. A photothermographic material comprising a cellulose ester having a hydroxyl group content of 4 to 20% by mass.
〜20質量%のセルロースエステルを、画像記録層の全
バインダー質量に対して5〜50質量%の比率で含有す
ることを特徴とする請求項1に記載の熱現像感光材料。2. An image recording layer having a hydroxyl group content of 4
2. The photothermographic material according to claim 1, wherein the photothermographic material contains a cellulose ester in an amount of 5 to 50% by mass based on the total binder mass of the image recording layer.
が4〜20質量%のセルロースエステルを、画像記録保
護層の全バインダー質量に対して5〜50質量%の比率
で含有することを特徴とする請求項1に記載の熱現像感
光材料。3. The image recording protective layer contains a cellulose ester having a hydroxyl group content of 4 to 20% by mass in a ratio of 5 to 50% by mass based on the total binder mass of the image recording protective layer. The photothermographic material according to claim 1,
〜20質量%のセルロースエステルを該層のバインダー
の10〜70質量%含有し、かつ画像記録保護層にヒド
ロキシル基含有量が4〜20質量%のセルロースエステ
ルを該層のバインダーの10〜70質量%含有すること
を特徴とする請求項1に記載の熱現像感光材料。4. The image recording layer having a hydroxyl group content of 4
The image recording protective layer contains a cellulose ester having a hydroxyl group content of 4 to 20% by mass in a content of 10 to 70% by mass of the binder in the layer. The photothermographic material according to claim 1, wherein the photothermographic material is contained.
が0.5〜3質量%の樹脂(A)とヒドロキシル基含有
量が4〜20質量%の樹脂(B)が含まれ、樹脂(A)
/樹脂(B)の質量比率が95/5〜50/50である
ことを特徴とする請求項1〜4に記載の熱現像感光材
料。5. The image recording protective layer contains a resin (A) having a hydroxyl group content of 0.5 to 3% by mass and a resin (B) having a hydroxyl group content of 4 to 20% by mass. )
The photothermographic material according to any one of claims 1 to 4, wherein the mass ratio of the resin / (B) is 95/5 to 50/50.
とを特徴とする請求項1に記載の熱現像感光材料。6. The photothermographic material according to claim 1, wherein the image recording layer contains an acrylic resin.
および/またはポリエステルを含有する下塗り層を有す
ることを特徴とする請求項1〜6のいずれか1項に記載
の熱現像感光材料。7. The photothermographic material according to claim 1, further comprising an undercoat layer containing an acrylic resin and / or polyester between the support and the image recording layer.
以上がポリマーラテックスからなり、該画像記録層塗布
液の溶媒の30質量%以上が水であることを特徴とする
請求項1〜5のいずれか1項に記載の熱現像感光材料。8. 50% by mass of the total binder in the image recording layer
The photothermographic material according to any one of claims 1 to 5, wherein the photothermographic material comprises a polymer latex, and 30% by mass or more of a solvent of the coating solution for the image recording layer is water.
現像感光材料を、熱現像機の搬送速度が22mm/se
c以上40mm/sec以下で熱現像することを特徴と
する熱現像感光材料の処理方法。9. The photothermographic material according to claim 1, wherein a conveying speed of the photothermographic machine is 22 mm / sec.
A method for processing a photothermographic material, wherein heat development is performed at c to 40 mm / sec.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001066417A JP2002268174A (en) | 2001-03-09 | 2001-03-09 | Heat developable photosensitive material and processing method for the same |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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| JP2001066417A JP2002268174A (en) | 2001-03-09 | 2001-03-09 | Heat developable photosensitive material and processing method for the same |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2002268174A true JP2002268174A (en) | 2002-09-18 |
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ID=18924906
Family Applications (1)
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| JP2001066417A Pending JP2002268174A (en) | 2001-03-09 | 2001-03-09 | Heat developable photosensitive material and processing method for the same |
Country Status (1)
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| JP (1) | JP2002268174A (en) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2014069510A (en) * | 2012-09-28 | 2014-04-21 | Dainippon Printing Co Ltd | Protective layer transfer sheet |
-
2001
- 2001-03-09 JP JP2001066417A patent/JP2002268174A/en active Pending
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