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JP2002267818A - 光拡散性シート及び光学素子 - Google Patents

光拡散性シート及び光学素子

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JP2002267818A
JP2002267818A JP2001068300A JP2001068300A JP2002267818A JP 2002267818 A JP2002267818 A JP 2002267818A JP 2001068300 A JP2001068300 A JP 2001068300A JP 2001068300 A JP2001068300 A JP 2001068300A JP 2002267818 A JP2002267818 A JP 2002267818A
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haze value
diffusing sheet
light
resin film
film layer
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JP2001068300A
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Takuya Matsunaga
卓也 松永
Takayuki Shigematsu
崇之 重松
Hiroshi Shibata
浩 芝田
Takamori Shoda
位守 正田
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Nitto Denko Corp
Original Assignee
Nitto Denko Corp
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 高精細なLCDに適用した場合にも、防眩性
を維持しつつ、画面のギラツキ現象を抑え、かつ白ぼけ
が殆ど認めらない光拡散性シート、さらには当該光拡散
性シートが設けられている光学素子を提供すること。 【解決手段】 透明基板の少なくとも片面に、表面に微
細凹凸形状を有する樹脂皮膜層からなる光拡散層が形成
されている光拡散性シートにおいて、当該光拡散性シー
トの下記全ヘイズ値と下記内部ヘイズ値の比(内部ヘイ
ズ値/全ヘイズ値)が0. 5以上1未満であって、かつ
全ヘイズ値が35%以上50%以下であることを特微と
する光拡散性シート。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、液晶ディスプレイ
(LCD)、EL、PDPなどにおいて、画面の視認性
の低下を抑えるために用いられている光拡散性シート、
当該光拡散性シートが設けられている光学素子に関す
る。
【0002】
【従来の技術】従来、LCDなどの画像表示装置は、表
示装置表面に蛍光燈などの室内照明、窓からの太陽光の
入射、操作者の影などの写り込みにより、画像の視認性
が妨げられる。そのため、ディスプレイ表面には、画像
の視認性を向上するために、表面反射光を拡散し、外光
の正反射を抑え、外部環境の写り込みを防ぐことができ
る(防眩性を有する)微細凹凸構造を形成させた光拡散
層が設けられている。光拡散層の形成方法としては、構
造の微細化が容易なこと、また生産性がよいことから微
粒子を分散した樹脂をコーティングして樹脂皮膜層を形
成する方法が主流となっている。
【0003】しかし、高精細(たとえば、100ppi
以上)なLCDの場合に、上記光拡散層を装着すると、
光拡散層の表面で突出した粒子により形成される微細凹
凸構造に起因すると思われるギラツキ(輝度の強弱の部
分)がLCD表面に発生し視認性を低下させる問題があ
る。また、目が疲れやすいなど人間工学的見地からも前
記ギラツキの改善が求められている。
【0004】このギラツキ現象を改善するために、たと
えば、大量の微粒子を樹脂皮膜層中に分散させる等の手
段により微細凹凸構造を連続的に多く形成する方法が提
案されている。この方法によれば防眩効果も増大する。
しかしながら、この方法ではギラツキの改善と共に外光
の表面乱反射が起こり、表示画面が白っぽくなる、いわ
ゆる白ぼけと言われる現象が発生する。特に黒表示のと
きに白ぼけが顕著に現れ、画面表示のコントラストの低
下などの問題が起こる。
【0005】このため、高精細LCDに用いられる光拡
散性シートの設計では、ギラツキ防止効果を奏するため
の内部拡散性と、白ぼけ防止効果を奏するために表面拡
散性を制御することが行われている。たとえば、特開平
11−305010号公報では、光拡散性シートの表面
ヘイズ値を7〜20%、内部ヘイズ値を1〜15%の範
囲内とすることが記載されている。しかし、前記内部ヘ
イズ値の光拡散性シートでは十分なギラツキ防止効果を
発揮できていない。また、前記光拡散性シートは表面ヘ
イズ値と内部ヘイズ値の和が30を超えると表面の白ぼ
けが増すものであることも記載されており、前記範囲に
表面ヘイズ値と内部ヘイズ値を調整しても、ギラツキ防
止効果と白ぼけ防止効果の両者に優れたものを提供する
のは困難であった。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、高精細なL
CDに適用した場合にも、防眩性を維持しつつ、画面の
ギラツキ現象を抑え、かつ白ぼけが殆ど認めらない光拡
散性シート、さらには当該光拡散性シートが設けられて
いる光学素子を提供することを目的とする。
【0007】
【課題を解決するための手段】本発明者らは前記課題を
解決すべく鋭意検討を重ねた結果、以下に示す特性を有
する光拡散性シートにより前記目的を達成できることを
見出し、本発明を完成するに到った。
【0008】すなわち、本発明は、透明基板の少なくと
も片面に、表面に微細凹凸形状を有する樹脂皮膜層から
なる光拡散層が形成されている光拡散性シートにおい
て、当該光拡散性シートの下記全ヘイズ値と下記内部ヘ
イズ値の比(内部ヘイズ値/全ヘイズ値)が0. 5以上
1未満であって、かつ全ヘイズ値が35%以上50%以
下であることを特微とする光拡散性シート、に関する。 全ヘイズ値:光拡散性シートのヘイズ値。 内部ヘイズ値:光拡散性シートの微細凹凸形状表面に、
ヘイズ値11%の粘着剤付透明性シートを貼り合わせた
状態のもののヘイズ値からヘイズ値11%を引いた値。
【0009】上記本発明の光拡散性シートは全ヘイズ値
を35%以上50%以下とし、かつ比(内部ヘイズ値/
全ヘイズ値)を0. 5以上1未満とすることにより、ギ
ラツキ防止効果及び白ぼけ防止効果のバランスのよい光
拡散性シートとしている。
【0010】全ヘイズ値が35%未満では、高精細化し
た場合のギラツキを抑えられない。全ヘイズ値は38%
以上とするのが好ましい。一方、全ヘイズ値が高くなる
と透過率が低下するため、全ヘイズ値は42%以下が好
ましい。
【0011】また比(内部ヘイズ値/全ヘイズ値)が
0. 5未満では内部ヘイズ値の割合が少なく高精細化し
た場合のギラツキを抑えられない。比(内部ヘイズ値/
全ヘイズ値)は0.6以上とするのが好ましい。一方、
比(内部ヘイズ値/全ヘイズ値)が大きくなると、白ぼ
け防止効果が小さくなるため、比(内部ヘイズ値/全ヘ
イズ値)は0.8以下とするのが好ましい。内部ヘイズ
値は、全ヘイズ値との関係で前記比を満足する範囲であ
ればその範囲は特に制限されないが、一般的には、20
〜40%程度、好ましくは20〜30%である。
【0012】なお、全ヘイズ値は、図1に示すように、
透明基板1の少なくとも片面に、表面に微細凹凸形状を
有する樹脂皮膜層2からなる光拡散層4が設けられた光
拡散性シートのヘイズ値である。内部ヘイズ値は、図2
に示す光拡散性シートの微細凹凸形状表面に、粘着剤層
付き透明性シート5(ヘイズ値11%)を貼り合わせた
状態のものについて測定したヘイズ値からヘイズ値11
%を引いた値である。粘着剤5b、透明性シート5aは
粘着剤付透明性シートのヘイズ値が11%であればその
種類は問われない。
【0013】前記光拡散性シートにおいて、樹脂皮膜層
が微粒子を含有しており、かつ樹脂皮膜層の表面凹凸形
状が微粒子によって形成されていることが好ましい。ま
た、樹脂皮膜層に含有される微粒子は有機系微粒子であ
ることが好ましい。さらには、樹脂皮膜層が紫外線硬化
型樹脂により形成されていることが好ましい。
【0014】微粒子を用いることにより、表面凹凸形状
を有する樹脂皮膜層を簡易かつ確実に実現でき、また上
記ヘイズ値の調整も容易である。特に、微粒子として有
機系微粒子を用いた場合には、ギラツキを抑えるうえで
有効である。また、紫外線硬化型樹脂は紫外線照射によ
る硬化処理にて、簡単な加工操作にて効率よく樹脂皮膜
層(光拡散層)を形成することができる。
【0015】また、本発明は、前記光拡散性シートの樹
脂皮膜層の凹凸形状表面に、樹脂皮膜層の屈折率よりも
低い屈折率の低屈性率層が設けられていることを特徴と
する光拡散性シート、に関する。
【0016】低屈折率層により反射防止機能を付与で
き、ディスプレイ等の画像表面の乱反射による画面の白
ぼけを有効に抑えることができる。
【0017】さらに、本発明は、前記光拡散性シート
が、光学素子の片面又は両面に設けられていることを特
徴とする光学素子、に関する。
【0018】本発明の光拡散性シートは各種の用途に用
いることができ、たとえば、光学素子に用いられる。
【0019】
【発明の実施の形態】以下に本発明の好ましい実施形態
を、図3を参照しながら説明する。図3は、微粒子3が
分散されている樹脂皮膜層2からなる光拡散層4が、透
明基板1上に形成されている光拡散性シートであり、樹
脂皮膜層2中に分散されている微粒子3は、光拡散層4
の表面において凹凸形状を形成している。なお、図3で
は、樹脂皮膜層2が1層の場合を示しているが、樹脂皮
膜層2と透明基板1との間には、別途、微粒子を含有す
る樹脂皮膜層を形成することにより、光拡散層を複数の
樹脂皮膜層によって形成することもできる。
【0020】透明基板1としては、例えばポリエチレン
テレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエ
ステル系ポリマー、ジアセチルセルロース、トリアセチ
ルセルロース等のセルロース系ポリマー、ポリカーボネ
ート系ポリマー、ポリメチルメタクリレート等のアクリ
ル系ポリマー等の透明ポリマーからなるフィルムがあげ
られる。またポリスチレン、アクリロニトリル・スチレ
ン共重合体等のスチレン系ポリマー、ポリエチレン、ポ
リプロピレン、環状ないしノルボルネン構造を有するポ
リオレフィン、エチレン・プロピレン共重合体等のオレ
フィン系ポリマー、塩化ビニル系ポリマー、ナイロンや
芳香族ポリアミド等のアミド系ポリマー等の透明ポリマ
ーからなるフィルムもあげられる。さらにイミド系ポリ
マー、スルホン系ポリマー、ポリエーテルスルホン系ポ
リマー、ポリエーテルエーテルケトン系ポリマー、ポリ
フェニレンスルフィド系ポリマー、ビニルアルコール系
ポリマー、塩化ビニリデン系ポリマー、ビニルブチラー
ル系ポリマー、アリレート系ポリマー、ポリオキシメチ
レン系ポリマー、エポキシ系ポリマーや前記ポリマーの
ブレンド物等の透明ポリマーからなるフィルムなどもあ
げられる。特に光学的に複屈折の少ないものが好適に用
いられる。
【0021】透明基板1の厚さは、適宜に決定しうる
が、一般には強度や取扱性等の作業性、薄層性などの点
より10〜500μm程度である。特に20〜300μ
mが好ましく、30〜200μmがより好ましい。
【0022】微細凹凸構造表面を有する樹脂皮膜層2
は、透明基板1上に形成されていれば、その形成方法は
特に制限されず、適宜な方式を採用することができる。
たとえば、前記樹脂皮膜層2の形成に用いたフィルムの
表面を、予め、サンドブラストやエンボスロール、化学
エッチング等の適宜な方式で粗面化処理してフィルム表
面に微細凹凸構造を付与する方法等により、樹脂皮膜層
2を形成する材料そのものの表面を微細凹凸構造に形成
する方法があげられる。また、樹脂皮膜層2上に別途樹
脂皮膜層を塗工付加し、当該樹脂皮膜層表面に、金型に
よる転写方式等により微細凹凸構造を付与する方法があ
げられる。また、図3のように樹脂皮膜層2に微粒子3
を分散含有させて微細凹凸構造を付与する方法などがあ
げられる。これら微細凹凸構造の形成方法は、二種以上
の方法を組み合わせ、異なる状態の微細凹凸構造表面を
複合させた層として形成してもよい。前記樹脂皮膜層2
の形成方法のなかでも、微細凹凸構造表面の形成性等の
観点より、微粒子3を分散含有する樹脂皮膜層2を設け
る方法が好ましい。
【0023】以下、微粒子3を分散含有させて樹脂皮膜
層2を設ける方法について説明する。当該樹脂皮膜層2
を形成する樹脂としては微粒子3の分散が可能で、樹脂
皮膜層形成後の皮膜として十分な強度を持ち、透明性の
あるものを特に制限なく使用できる。前記樹脂としては
熱硬化型樹脂、熱可塑型樹脂、紫外線硬化型樹脂、電子
線硬化型樹脂、二液混合型樹脂などがあげられるが、こ
れらのなかでも紫外線照射による硬化処理にて、簡単な
加工操作にて効率よく光拡散層を形成することができる
紫外線硬化型樹脂が好適である。
【0024】紫外線硬化型樹脂としては、ポリエステル
系、アクリル系、ウレタン系、アミド系、シリコーン
系、エポキシ系等の各種のものがあげられ、紫外線硬化
型のモノマー、オリゴマー、ポリマー等が含まれる。好
ましく用いられる紫外線硬化型樹脂は、例えば紫外線重
合性の官能基を有するもの、なかでも当該官能基を2個
以上、特に3〜6個有するアクリル系のモノマーやオリ
ゴマーを成分を含むものがあげられる。また、紫外線硬
化型樹脂には、紫外線重合開始剤が配合されている。
【0025】前記紫外線硬化型樹脂(樹脂皮膜層2の形
成)には、レベリング剤、チクソトロピー剤、帯電防止
剤等の添加剤を用いることができる。チクソトロピー剤
を用いると、微細凹凸構造表面における突出粒子の形成
に有利である。チクソトロピー剤としては、0.1μm
以下のシリカ、雲母等があげられる。これら添加剤の含
有量は、通常、紫外線硬化型樹脂100重量部に対し
て、1〜15重量部程度とするのが好適である。
【0026】微粒子3としては、各種金属酸化物、ガラ
ス、プラスティックなどの透明性を有するものを特に制
限なく使用することができる。例えばシリカやアルミ
ナ、チタニアやジルコニア、酸化カルシウムや酸化錫、
酸化インジウムや酸化カドミウム、酸化アンチモン等の
導電性のこともある無機系微粒子、ポリメチルメタクリ
レート、ポリスチレン、ポリウレタン、アクリル−スチ
レン共重合体、ベンゾグアナミン、メラミン、ポリカー
ボネート等の各種ポリマーからなる架橋又は未架橋の有
機系微粒子やシリコーン系微粒子などがあげられる。こ
れら微粒子3は、1種または2種以上を適宜に選択して
用いることができるが、有機系微粒子が好ましい。微粒
子の平均粒子径は1〜10μm、好ましくは2〜5μm
である。
【0027】微粒子3を含有する樹脂皮膜層2の形成方
法は特に制限されず、適宜な方式を採用することができ
る。たとえば、前記透明基板1上に、微粒子3を含有す
る樹脂(たとえば、紫外線硬化型樹脂:塗工液)を塗工
し、乾燥後、硬化処理して表面に凹凸形状を呈するよう
な樹脂皮膜層2により形成することにより行う。なお、
塗工液は、ファンテン、ダイコーター、キャスティン
グ、スピンコート、ファンテンメタリング、グラビア等
の適宜な方式で塗工される。
【0028】形成した光拡散層4の表面のヘイズ値を前
記範囲とするには、前記塗工液に含まれる微粒子3の平
均粒子径、その割合や樹脂皮膜層2の厚さを適宜に調整
する。
【0029】前記塗工液に含まれる微粒子3の割合は特
に制限されないが、樹脂100重量部に対して、1〜2
0重量部、さらには5〜15重量部とするのが、ギラツ
キ、白ぼけ等の特性を満足するうえで好ましい。また、
樹脂皮膜層2の厚さは特に制限されないが、1〜10μ
m程度、特に4〜8μmとするのが好ましい。
【0030】前記光拡散層4を形成する樹脂皮膜層2の
凹凸形状表面には、反射防止機能を有する低屈折率層を
設けることができる。低屈折率層の材料は樹脂皮膜層2
よりも屈折率の低いものであれば特に制限されないが、
たとえば、フッ素含有ポリシロキサンなどの低屈折率材
料を用いることができる。低屈折率層の厚さは特に制限
されないが、0.05〜0.3μm程度、特に0.1〜
0.3μmとするのが好ましい。
【0031】また、前記図3の光拡散性シートの透明基
板1には、光学素子を接着することができる(図示せ
ず)。光学素子としては、偏光板、位相差板、楕円偏光
板、光学補償付き偏光板等があげられ、これらは積層体
として用いることができる。光学素子の接着は、必要に
応じて、アクリル系、ゴム系、シリコーン系等の粘着剤
やホットメルト系接着剤などの透明性や耐候性などに優
れる適宜な接着層を介することができる。
【0032】偏光板としては、ポリビニルアルコール系
フィルム、部分ホルマール化ポリビニルアルコール系フ
ィルム、エチレン・酢酸ビニル共重合体系部分ケン化フ
ィルム等の親水性高分子フィルムにヨウ素や染料等を吸
着させて延伸したもの、ポリビニルアルコールの脱水処
理物やポリ塩化ビニルの脱塩酸処理物の如き偏光フィル
ムがあげられる。位相差板としては、前記透明基板で例
示したポリマーフィルムの一軸または二軸延伸フィルム
や液晶ポリマーフィルムなどがあげられる。位相差板
は、2層以上の延伸フィルムの重畳体などとして形成さ
れていてもよい。楕円偏光板、光学補償付き偏光板は、
偏光板と位相差板を積層することにより形成しうる。楕
円偏光板、光学補償付き偏光板は、偏光板側の面に、光
拡散層を形成している。
【0033】
【実施例】以下に、実施例によって本発明を具体的に説
明するが、本発明はこれら実施例によって何等限定され
るものではない。
【0034】実施例1 アクリルウレタン系紫外線硬化型樹脂(ウレタンアクリ
レート系モノマー)100部に対し、平均粒子径が3.
5μmのポリスチレン粒子12部、ベンゾフェノン系光
重合開始剤5部、チキソトロピー化剤(雲母)2.5部
をトルエン溶媒を介し混合した固形分濃度40重量%塗
工液をトリアセチルセルロースフィルム(厚み80μ
m)上に塗布し、120℃で5分間乾燥した後、紫外線
照射により硬化処理して、塗膜の膜厚が7μmの微細凹
凸構造表面の樹脂皮膜層を有する光拡散性シートを作製
した。
【0035】実施例2 実施例1において、トリアセチルセルロースフィルム上
に形成した塗膜の膜厚を6μmとした以外は実施例1と
同様にして光拡散性シートを作製した。
【0036】実施例3 実施例1において、トリアセチルセルロースフィルム上
に形成した塗膜の膜厚を5μmとした以外は実施例1と
同様にして光拡散性シートを作製した。
【0037】実施例4 実施例1において、樹脂皮膜層の凹凸形状表面に、さら
に樹脂皮膜層の屈折率(1.52)よりも屈折率の低い
低屈折率層(材料として日産化学(株)のLR−202
を使用,屈折率:1.39)を0.1μmを設けたこと
以外は実施例1と同様にして光拡散性シートを作製し
た。
【0038】比較例1 実施例1において、トリアセチルセルロースフィルム上
に形成した塗膜の膜厚を3μmとした以外は実施例1と
同様にして光拡散性シートを作製した。
【0039】比較例2 実施例1において、ポリスチレン粒子の使用量を4重量
部に変え、チキソトロピー化剤を用いないこと以外は実
施例1と同様の塗工液を用い、またトリアセチルセルロ
ースフィルム上に形成した塗膜の膜厚を1μmとした以
外は実施例1と同様にして光拡散性シートを作製した。
【0040】比較例3 実施例1において、ポリスチレン粒子の使用量を8重量
部に変え、チキソトロピー化剤を用いないこと以外は実
施例1と同様の塗工液を用い、またトリアセチルセルロ
ースフィルム上に形成した塗膜の膜厚を1μmとした以
外は実施例1と同様にして光拡散性シートを作製した。
【0041】比較例4 実施例1において、ポリスチレン粒子の使用量を8重量
部に変え、チキソトロピー化剤を用いないこと以外は実
施例1と同様の塗工液を用い、またトリアセチルセルロ
ースフィルム上に形成した塗膜の膜厚を3μmとした以
外は実施例1と同様にして光拡散性シートを作製した。
【0042】実施例および比較例で得られた光拡散性シ
ートの全ヘイズ値、内部ヘイズ値を測定し、比(内部ヘ
イズ値/全ヘイズ値)を求めた。なお、実施例4のヘイ
ズ値は低屈折率層を設けていない場合の値である。ま
た、得られた光拡散性シートについて、ギラツキ、白ぼ
けについて評価した。結果を表1に示す。
【0043】(全ヘイズ値)光拡散性シートのヘイズ値
をJIS−K7105に準じ、須賀試験機社製ヘイズメ
ーターにより測定した。
【0044】(内部ヘイズ値)光拡散性シートの微細凹
凸形状表面に、片面にアクリル系粘着剤が塗布された粘
着剤付ポリエチレンテレフタレートフィルム(ヘイズ値
11%)を貼り付けたものについて、ヘイズ値を測定し
た。その値から11%を引いた値を内部ヘイズ値とし
た。粘着剤付ポリエチレンテレフタレートフィルムのヘ
イズ値、内部ヘイズの測定は全ヘイズ値の測定と同様の
方法である。
【0045】(ギラツキ)光拡散性シートを表面処理し
ていない偏光板(185μm)に接着したものを、厚さ
1.1mmのガラス板に貼り合わせてサンプルとした。
このサンプルを、バックライト上に置かれた格子パター
ン上にセットした。格子パターンは開口部90μm×2
0μm、縦線幅20μm、横線幅40μmのものを用い
た。格子パターンから光拡散層までの距離は1. 3m
m、バックライトから格子パターンまでの距離は1.5
mmに固定した。そのときのギラツキ状態を目視にて以
下基準で評価した。
【0046】 ○:ギラツキがほとんどない状態。 △:ギラツキはあるが気にならず実用上問題ないレベ
ル。 ×:ギラツキがひどく実用上問題あるレベル。
【0047】(白ぼけ)ギラツキ評価に供したサンプル
のガラス面に黒色テープを貼り付け、蛍光灯下において
偏光板の鉛直方向から30°、入射光に対して方位角1
80°の方角から、目視にて以下基準で評価した。
【0048】 ○:白ぼけがほとんどない状態。 △:白ぼけはあるが気にならず実用上問題ないレベル。 ×:白ぼけがあり実用上問題あるレベル。
【0049】
【表1】 表1に示す通り、実施例の光拡散性シートは、ギラツキ
防止効果、白ぼけ防止効果のいずれにも優れておりバラ
ンスがよい。一方、比較例の光拡散性シートは、ギラツ
キ防止効果、白ぼけ防止効果の両者の少なくとも一方を
満足していない。なお、蛍光灯下における写り込み(防
眩性)はいずれも良好であった。
【図面の簡単な説明】
【図1】全ヘイズ値の測定に供する光拡散性シートの断
面図の一例である。
【図2】内部ヘイズ値の測定に供する光拡散性シートの
断面図の一例である。
【図3】本発明の光拡散性シートの断面図の一例であ
る。
【符号の説明】
1:透明基板 2:樹脂層 3:微粒子 4:光拡散層 5:粘着剤層付透明シート
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 芝田 浩 大阪府茨木市下穂積1丁目1番2号 日東 電工株式会社内 (72)発明者 正田 位守 大阪府茨木市下穂積1丁目1番2号 日東 電工株式会社内 Fターム(参考) 2H042 BA02 BA03 BA12 BA14 BA20 2H049 BA02 BA04 BA06 BA27 BB03 BB63 BC03 BC22 2H091 FA31X FA31Z FB02 FB12 FC23 FC25 FD06 LA03 2K009 AA04 BB28 CC09 CC24 CC26 CC42 DD02 DD05 4F100 AK01B AK01C AK12H AK51G AT00A BA02 BA03 BA04 BA05 BA06 BA07 BA10B BA10C BA10D BA10E BA26 DD01B DD01C EH46 EH462 EJ86 EJ862 GB41 JB14B JB14C JN01A JN02B JN02C JN06 JN18B JN18C JN18D JN18E

Claims (6)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 透明基板の少なくとも片面に、表面に微
    細凹凸形状を有する樹脂皮膜層からなる光拡散層が形成
    されている光拡散性シートにおいて、当該光拡散性シー
    トの下記全ヘイズ値と下記内部ヘイズ値の比(内部ヘイ
    ズ値/全ヘイズ値)が0. 5以上1未満であって、かつ
    全ヘイズ値が35%以上50%以下であることを特微と
    する光拡散性シート。 全ヘイズ値:光拡散性シートのヘイズ値。 内部ヘイズ値:光拡散性シートの微細凹凸形状表面に、
    ヘイズ値11%の粘着剤付透明性シートを貼り合わせた
    状態のもののヘイズ値からヘイズ値11%を引いた値。
  2. 【請求項2】 樹脂皮膜層が微粒子を含有し、かつ樹脂
    皮膜層の表面凹凸形状が微粒子によって形成されている
    ことを特徴とする請求項1記載の光拡散性シート。
  3. 【請求項3】 微粒子が有機系微粒子であることを特徴
    とする請求項2記載の光拡散性シート。
  4. 【請求項4】 樹脂皮膜層が紫外線硬化型樹脂により形
    成されていることを特徴とする請求項1〜3のいずれか
    に記載の光拡散性シート。
  5. 【請求項5】 請求項1〜4のいずれかに記載の光拡散
    性シートの樹脂皮膜層の凹凸形状表面に、樹脂皮膜層の
    屈折率よりも低い屈折率の低屈性率層が設けられている
    ことを特徴とする光拡散性シート。
  6. 【請求項6】 請求項1〜5のいずれかに記載の光拡散
    性シートが、光学素子の片面又は両面に設けられている
    ことを特徴とする光学素子。
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