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JP2002096335A - 光学素子成形用金型及び光学素子成形方法 - Google Patents

光学素子成形用金型及び光学素子成形方法

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JP2002096335A
JP2002096335A JP2000290257A JP2000290257A JP2002096335A JP 2002096335 A JP2002096335 A JP 2002096335A JP 2000290257 A JP2000290257 A JP 2000290257A JP 2000290257 A JP2000290257 A JP 2000290257A JP 2002096335 A JP2002096335 A JP 2002096335A
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JP
Japan
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mold
optical element
layer
molding
heat insulating
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JP2000290257A
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Akihiko Matsumoto
朗彦 松本
Masahiro Okitsu
昌広 興津
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Minolta Co Ltd
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Minolta Co Ltd
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 ミクロンオーダー以下の極めて精度の高い金
型形状を高い精度で成形品に転写できる光学素子成形用
金型、及び光学素子成形方法を提供する。 【解決手段】 ステンレス鋼製のコア型3の表面にセラ
ミックス系材料であるジルコニアを溶射して金型母材に
断熱層1を形成し、その上に非鉄金属材料であるニッケ
ルを無電解メッキして表面加工層2を形成する。表面加
工層2には、製作する光学部品、例えば回折光学素子の
場合は、表面加工層2の表面にピッチ7μm、高さ3.
5μmの回折格子のブレーズ形状2aをダイヤモンド工
具の切削加工により形成する。表面加工層2とキャビテ
イ型4及び5との間に形成される部材成形空間6に合成
樹脂が射出され、合成樹脂製の光学部品である回折光学
素子が形成される。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】この発明は、ミクロンオーダ
ー以下の形状精度が要求される映像記録、光記録、光通
信機器などに使用される回折光学素子や、光学レンズ、
ミラー等を合成樹脂の射出成形で製造するための光学素
子成形用の金型、及びその金型を使用した光学素子の成
形方法に関する。
【0002】
【従来の技術】合成樹脂の射出成形により光学素子を製
造する場合に使用される成形型は、従来から鋼などの金
属材料で製作された金型が使用されてきた。このような
従来の金型を用いて0.1μm乃至1mmの微細形状を
持つ回折光学素子を熱可塑性樹脂で射出成形する場合、
溶融樹脂が持つ熱は金型内に射出された瞬間に急速に金
型に移動し、キャビテイ型又はコア型に接触している樹
脂表面は急速に冷却され、固化する。
【0003】このため、樹脂を射出した後の形状転写工
程である保圧工程(樹脂射出後に所定の時間、圧力を維
持する工程)において、十分な転写性が得られない、即
ちミクロンオーダー以下の高い精度で金型の形状を成形
体に転写することができないという不都合がある。
【0004】転写性を改善するための対策としては、射
出圧力を高めたり、射出速度を上げるなどの方策がある
が、転写性を改善するには限界があり、十分に転写性を
改善することはできない。
【0005】また、射出成形に先立つて金型を樹脂の転
写可能温度(ガラス転移温度)まで加熱すると転写性は
向上するが、射出成形後は金型を離型可能な温度まで冷
却する必要があり、射出成形の工程に金型加熱工程や金
型冷却工程が加わり、工程数が増加するほか、金型の加
熱冷却設備に多額の費用を要し、現実的な成形方法では
ない。
【0006】このような課題を解決する手段として、金
型表面に断熱層を設け、射出工程において金型内に充填
された樹脂の温度が、その後の形状転写工程である保圧
工程まで高温に保つようにすることで転写性を向上させ
る方法が、主に外観を重視する部品の成形を目的に提案
されている。具体的には、断熱層にポリイミド樹脂を使
用するもの(例えば、特許第267623号、特許第2
706221号、特許第2727303号)や、断熱層
にセラミックスを使用するもの(例えば、特開平6−2
18769号公報、特開平10−149587号公報)
等が提案されている。
【0007】
【発明が解決しようとする課題】上記した断熱層を表面
に設けた金型による光学素子の成形においては、以下の
ような不都合が指摘されている。
【0008】即ち、断熱層にポリイミド樹脂を使用した
場合は、ポリイミド樹脂硬化物は金属等に比較して粘
弾性があるため、ポリイミド樹脂硬化物で被覆された金
型表面を切削加工や研磨加工により光回折効果をもたら
す溝等の微細形状の形成や光学表面の形成が不可能であ
ること。ポリイミド樹脂硬化物は金属に比較して熱膨
張係数が約5倍大きいため、熱履歴が繰り返し加わる金
型表面にポリイミド樹脂硬化物を被覆した場合は、金型
母材と被覆物との密着性を長期間確保することが困難で
あること。
【0009】断熱層にセラミックスを使用した場合は、
セラミックスは金属に比較して硬度や脆性が高く、しか
も微粒子により構成されているため、切削加工や研磨加
工により光回折効果をもたらす溝等の微細形状の形成や
光学表面の形成が困難であること。
【0010】断熱層にセラミックスを使用し、充填され
る樹脂との接触面を金属製の別部材として構成した場合
は、充填される樹脂の急冷を防ぐために金属製の別部材
の厚みを薄くする必要がある。しかし、厚みの薄い金属
製の別部材に切削加工や研磨加工を施して光回折効果を
もたらす溝等の微細形状の形成すると、加工応力による
変形が生じ、精度を保証することができない。また、球
面、非球面、自由曲面等を光学部品として要求される高
い精度で加工することも不可能である。
【0011】上記した金属製の別部材を電鋳法により形
成するときは、その形状精度は原理的に金型母型(マス
ター)の形状精度よりも低下するから、高精度が要求さ
れる光学部品製作用の金型としては適当でない。
【0012】上記した金属製の別部材をセラミックス断
熱層の上に接着や圧接により接合固定する場合は、その
接合応力により金属製の別部材に変形が生じ、光学部品
として要求される精度を確保することが困難となる。さ
らに、セラミックス断熱層との間の密着状態が不均一に
なり、金型の温度ムラ、樹脂の流動ムラが発生し、また
冷却固化が不均一になるなどの支障が発生し、光学部品
として要求される高い精度を確保することが困難とな
る。
【0013】
【課題を解決するための手段】この発明は、上記課題を
解決することを目的とするもので、請求項1の発明は、
コア型と、該コア型との間に部材成形空間を隔てて配置
されたキャビテイ型とを備えた合成樹脂成形用の金型で
あつて、少なくとも前記コア型及びキャビテイ型のいず
れか一方は、その部材成形空間に対向する面に、金型母
材の上に断熱層を介在させて表面加工層が形成されてい
ることを特徴とする光学素子成形用金型である。
【0014】そして、前記表面加工層は、0.1μm乃
至1mmの範囲の微細形状が切削加工により形成され、
或いは面粗度0.05μm以下の光学鏡面が研磨加工若
しくは切削加工により形成されている。
【0015】また、前記断熱層は、前記コア型又はキャ
ビテイ型の部材成形空間に対向する面にセラミックス系
材料を溶射して形成された断熱層である。
【0016】また、前記断熱層は、熱伝導率が10.0
W/m・K以下で、且つ厚みが0.1mm乃至3mmの
範囲内である。
【0017】そして、前記表面加工層は、前記断熱層の
上に非鉄金属材料をメッキして形成された表面加工層で
ある。
【0018】また、前記表面加工層は、厚みが1μm乃
至200μmの範囲内にある。
【0019】そして、前記金型母材、断熱層及び表面加
工層は、それぞれ隣接する金型母材と断熱層或いは断熱
層と表面加工層との間の熱膨張係数の差が15×10-6
/℃以下になるように選択された材料により構成すると
よい。
【0020】請求項9の発明は、請求項1乃至請求項8
のいずれかに記載の光学素子成形用金型を使用した光学
素子の成形方法であつて、前記光学素子成形用金型の部
材成形空間に熱可塑性合成樹脂を射出して光学素子を成
形することを特徴とする光学素子の成形方法である。
【0021】
【発明の実施の形態】以下、この発明の実施の形態につ
いて説明する。
【0022】[第1の実施の形態]まず、金型の構成の
概略を説明する。図1は第1の実施の形態の金型10の
構成を説明する断面図で、回折光学素子を製作する金型
の一例が例示されている。図1において、3はステンレ
ス鋼製のコア型、1はコア型3の表面にセラミックス系
材料であるジルコニアを溶射して直接金型母材に一体に
形成した断熱層、2は断熱層1の上に非鉄金属材料であ
るニッケルを無電解メッキして断熱層1に一体に形成し
た表面加工層である。
【0023】表面加工層2には、製作する光学部品に応
じて切削加工による表面加工が施される。ここでは回折
光学素子の金型として、表面加工層2の表面にピッチ7
μm、高さ3.5μmの回折格子のブレーズ形状2a
が、ダイヤモンド工具による切削加工により形成されて
いる。
【0024】4及び5はコア型3の周囲を囲んでキャビ
テイを形成するキャビテイ型であつて、コア型3の表面
の断熱層1の上に形成された表面加工層2とキャビテイ
型4及び5との間に形成される部材形成空間6に合成樹
脂が射出され、合成樹脂製の光学部品である回折光学素
子が形成される。
【0025】コア型3、断熱層1及び表面加工層2の物
理的特性は以下のとおりである。コア型3の熱膨張係数
11×10-6/℃、熱伝導率24.0W/m・K、断熱
層1の厚み1mm、熱膨張係数9×10-6/℃、熱伝導
率1.2W/m・K、表面加工層2の厚み0.1mm、
熱膨張係数13×10-6/℃、熱伝導率8.0W/m・
Kである。上記した物理的特性を図2に纏めて示した。
【0026】合成樹脂としては、ポリカーボネイト樹脂
(ガラス転移温度148℃)を使用し、射出成形条件
は、成形樹脂温度290℃、金型温度100℃、成形時
間150秒である。
【0027】次に、上記した条件で製作した回折光学素
子の表面形状の転写精度の測定結果を従来例と比較して
説明する。
【0028】図3は、回折光学素子の金型のねらい形
状、コア型形状、及び成形品形状を説明する拡大断面図
で、図3の(a)は従来の金型の各形状を、図3の
(b)は上記した第1の実施の形態の金型の各形状を示
す。
【0029】従来の金型では、図3の(a)に示すよう
に、回折光学素子のねらい形状21に対し、コア型の形
状22は材料の粘弾性等の影響により先端部分が僅かに
垂れた形状に仕上がり、更にこのコア型による成形品の
形状23は、先端部分が大きく垂れた形状となつてい
る。
【0030】そのねらい形状21に対する成形品の形状
誤差Dは、使用する合成樹脂の種類により異なるが、
0.6乃至1.1μm程度であつた。
【0031】一方、第1の実施の形態の金型では、図3
の(b)に示すように、回折光学素子のねらい形状25
に対し、コア型の形状26はねらい形状25に略一致し
た形状に仕上がり、更にこのコア型による成形品の形状
27もねらい形状25に略一致した形状に成形すること
ができた。
【0032】そのねらい形状25に対する成形品の形状
誤差Dは、使用する合成樹脂の種類により異なるが、
0.1μm以下であつた。
【0033】図4に、従来の金型による成形品の形状誤
差の測定結果と、第1の実施の形態の金型による成形品
の形状誤差の測定結果とを、使用する合成樹脂の種類別
により示す。
【0034】図4から明らかなように、第1の実施の形
態の金型によれば、従来の金型に比較して成形品の形状
誤差Dは極めて小さく、使用する合成樹脂の種類にも殆
ど影響の無いことが分かる。
【0035】[第2の実施の形態]図5は、第2の実施
の形態の金型30の構成を説明する断面図で、レーザビ
ームプリンタに使用されるfθミラーを製作する金型の
一例が例示されている。
【0036】図5において、33a及び33bはステン
レス鋼製のコア型、31aはコア型33aの表面にセラ
ミック系材料であるジルコニアを溶射して一体形成した
断熱層、32aは断熱層31aの上に非鉄金属材料であ
るニッケルを無電解メッキして断熱層31aに一体形成
した表面加工層である。
【0037】表面加工層32aには、製作する光学部品
に応じて切削加工による表面加工が施される。ここでは
fθミラーの金型として、表面加工層32aの表面に面
粗度0.02μmの自由曲面32bがダイヤモンド工具
による切削加工により形成されている。
【0038】34及び35はコア型33a、33bの周
囲を囲むキャビテイ型で、コア型33aの表面の断熱層
31aの上に形成された表面加工層32aと、コア型3
3b、キャビテイ型34及び35との間に形成される部
材成形空間36に合成樹脂が射出され、合成樹脂製の光
学部品であるfθミラーが形成される。
【0039】コア型33a、断熱層31a及び表面加工
層32aの物理的特性は以下のとおりである。即ち、コ
ア型33aの熱膨張係数11×10-6/℃、熱伝導率2
4.0W/m・K、断熱層31aの厚み1mm、熱膨張
係数9×10-6/℃、熱伝導率1.2W/m・K、表面
加工層32aの厚み0.15mm、熱膨張係数13×1
-6/℃、熱伝導率8.0W/m・Kである。この特性
は先に説明した第1の実施の形態の金型の物理的特性と
同じである。
【0040】なお、上記の金型により、両面を光学鏡面
とする光学部品を形成する場合は、コア型33a及び3
3bの両方に断熱層及び表面加工層を形成すればよい。
【0041】以上説明した、第1及び第2の実施の形態
においては、断熱層の材料として、ジルコニアを使用し
たが、断熱層の材料はこれに限られるものではなく、セ
ラミック系材料、即ち、アルミナ、酸化チタン、酸化ク
ロム等を含む各種のセラミックの他、それ等のセラミッ
ク材料と金属材料との混合物であるサーメットなどを使
用することができる。その材料の選定に際しては、その
材料の熱膨張係数が金型母材や表面加工層の材料の熱膨
張係数と大きく異ならない材料を選択するものとする。
【0042】即ち、金型母材の熱膨張係数は概略5〜3
0×10-6/℃、断熱層の材料の熱膨張係数は概略3〜
30×10-6/℃、表面加工層の材料の熱膨張係数は概
略5〜30×10-6/℃であるから、これらの材料の選
択・組み合わせに際しては、隣接する金型母材と断熱層
或いは断熱層と表面加工層との間の熱膨張係数の差が1
5×10-6/℃以下になるように材料を選択し組み合わ
せるとよい。
【0043】また、説明した、第1及び第2の実施の形
態においては、コア型(キャビテイ型でも同じ)の部材
成形空間に対向する面に形成する層は、断熱層と表面加
工層との2層構造としたが、金型母材の表面と断熱層、
断熱層と表面加工層との間の密着力を向上させるため、
又は表面加工層の鏡面性を向上させるため、その間に中
間層を設けてもよい。中間層は、金型母材、断熱層の材
料、表面加工層の材料との間でそれぞれ高い親和力を持
つ材料で構成するものとする。
【0044】
【発明の効果】以上説明したとおり、請求項1の発明の
光学素子成形用金型は、少なくともコア型及びキャビテ
イ型のいずれか一方は、その部材成形空間に対向する面
に、金型母材の上に断熱層を介在させて表面加工層が形
成されており、断熱層は金型にセラミックス系材料を溶
射して形成された断熱層で、表面加工層は前記断熱層の
上に非鉄金属材料をメッキして形成された表面加工層で
ある。
【0045】表面加工層に非鉄金属材料を使用し、その
下側の断熱層にセラミック系材料を使用することで表面
加工層の強度を高めることができるので、表面加工層に
ミクロンオーダー以下の極めて精度の高い金型形状を加
工することが可能となる。
【0046】また、表面加工層の下側に断熱層が存在す
ることにより、金型の温度ムラ、樹脂の流動ムラ、冷却
固化の不均一などが発生することがなく、射出工程にお
いて金型内に充填された樹脂の温度を、その後の形状転
写工程である保圧工程まで高温に保つことができるか
ら、表面加工層に形成されたミクロンオーダー以下の極
めて精度の高い金型形状を高い精度で成形品に転写する
ことができ、光学部品として要求される精度を確保する
ことができる等、従来の光学素子成形用金型に見られな
い優れた性能の金型を提供することができる。
【0047】更に、請求項9の発明の光学素子成形方法
は、上記した光学素子成形用金型を使用して光学素子を
成形するものであるから、ミクロンオーダー以下の極め
て精度の高い光学素子を成形することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】第1の実施の形態の金型の構成を説明する断面
図。
【図2】コア型、断熱層及び表面加工層の物理的特性を
示す図。
【図3】従来の回折光学素子金型、及び第1の実施の形
態の回折光学素子金型のねらい形状、コア型形状、及び
成形品形状を説明する拡大断面図。
【図4】従来の金型による成形品の形状誤差の測定結果
と、第1の実施の形態の金型による成形品の形状誤差の
測定結果を説明する図。
【図5】第2の実施の形態の金型の構成を説明する断面
図。
【符号の説明】
10 第1の実施の形態の金型 1 断熱層 2 表面加工層 2a 回折格子のブレーズ形状 3 コア型 4、5 キャビテイ型 6 部材成形空間 30 第2の実施の形態の金型 31a 断熱層 32a 表面加工層 32b 自由曲面 33a、33b コア型 34、35 キャビテイ型 36 部材成形空間
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Fターム(参考) 2H049 AA31 AA40 AA63 4F202 AF14 AH73 AJ06 AJ09 AJ13 AR12 AR13 CA11 CB01 CD14 CD18 CD26 CK88

Claims (9)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 コア型と、該コア型との間に部材成形空
    間を隔てて配置されたキャビテイ型とを備えた合成樹脂
    成形用の金型であつて、 少なくとも前記コア型及びキャビテイ型のいずれか一方
    は、その部材成形空間に対向する面に、金型母材の上に
    断熱層を介在させて表面加工層が形成されていることを
    特徴とする光学素子成形用金型。
  2. 【請求項2】 前記表面加工層は、0.1μm乃至1m
    mの範囲の微細形状が切削加工により形成されているこ
    とを特徴とする請求項1記載の光学素子成形用金型。
  3. 【請求項3】 前記表面加工層は、面粗度0.05μm
    以下の光学鏡面が研磨加工若しくは切削加工により形成
    されていることを特徴とする請求項1記載の光学素子成
    形用金型。
  4. 【請求項4】 前記断熱層は、前記コア型又はキャビテ
    イ型の部材成形空間に対向する面にセラミックス系材料
    を溶射して形成された断熱層であることを特徴とする請
    求項1記載の光学素子成形用金型。
  5. 【請求項5】 前記断熱層は、熱伝導率が10.0W/
    m・K以下で、且つ厚みが0.1mm乃至3mmの範囲
    内であることを特徴とする請求項1記載の光学素子成形
    用金型。
  6. 【請求項6】 前記表面加工層は、前記断熱層の上に非
    鉄金属材料をメッキして形成された表面加工層であるこ
    とを特徴とする請求項1記載の光学素子成形用金型。
  7. 【請求項7】 前記表面加工層は、厚みが1μm乃至2
    00μmの範囲内にあることを特徴とする請求項1記載
    の光学素子成形用金型。
  8. 【請求項8】 前記金型母材、断熱層及び表面加工層
    は、それぞれ隣接する金型母材と断熱層或いは断熱層と
    表面加工層との間の熱膨張係数の差が15×10-6/℃
    以下になるように選択された材料により構成されている
    ことを特徴とする請求項1乃至請求項7のいずれかに記
    載の光学素子成形用金型。
  9. 【請求項9】 請求項1乃至請求項8のいずれかに記載
    の光学素子成形用金型を使用した光学素子の成形方法で
    あつて、前記光学素子成形用金型の部材成形空間に熱可
    塑性合成樹脂を射出して光学素子を成形することを特徴
    とする光学素子の成形方法。
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