JP2001305553A - 液晶表示素子およびその製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 （修正有） 【課題】 均一なセル厚を有し、かつ上下の基板が強固
に接着されて、十分な耐衝撃性と良好な表示品位が得ら
れるようにする。 【解決手段】 基板１１の一面に電極１２および配向制
御膜１３を形成し、配向制御膜１３上に壁状スペーサ１
４を形成するとともに、基板２１の一面に電極２２およ
び配向制御膜２３を形成し、一面の外縁部に紫外線硬化
型樹脂からなるシール剤２４を描画する。ガラス基板な
どの基体１５の一面に紫外線硬化型樹脂１６を塗布し、
その一部を壁状スペーサ１４の基板２１と対向すべき面
１４ａに接着剤１６ａとして転写する。この接着剤１６
ａを基板２１上の配向制御膜２３と接触させるように基
板１１および２１を重ね合わせ、接着剤１６ａおよびシ
ール剤２４に紫外線を照射することによって、接着剤１
６ａおよびシール剤２４を同時に硬化させて、基板１１
および２１を接着する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】この発明は、液晶表示素子お
よびその製造方法に関する。

【０００２】

【従来の技術】液晶表示素子は、電極を備えた一対の基
板を、電極が形成された面が内側になるように貼り合わ
せ、その間隙に液晶を封入したものである。しかし、こ
のような液晶表示素子は、外圧による基板の変形などに
よって、一対の基板間の間隔が変化すると、液晶分子の
配向乱れ、電極間のリークによる閾値電圧の変化などを
生じて、良好な表示が不可能になる。

【０００３】そのため、一対の基板間に、その間隔を一
定に保持するためのスペーサを配置しており、その具体
的方法としては一般に、（１）球状の粒子を散布する方
法、（２）特開平１０−６８９３４号に記載されている
ような、有機系または無機系の壁状スペーサを形成する
方法、のいずれかが用いられている。

【０００４】しかし、（１）の方法は、第１に、微粒子
には互いに凝集し合う性質があるので、粒子を基板上に
均等に散布することが困難であり、均一なセル厚を実現
することが難しいという問題がある。第２に、粒子の配
置を制御することが困難であるので、画素領域に散布さ
れた粒子によって配向欠陥や光の遮断を生じ、表示品位
を低下させるという問題がある。さらに第３に、この方
法では、基板がスペーサの支持点のみによって支えら
れ、外圧に対する強度が不足するという問題がある。

【０００５】これに対して、（２）の方法は、有機系ま
たは無機系の膜から、フォトリソグラフィによって壁状
スペーサを形成する方法であって、この方法では、壁状
スペーサを画素領域の外部に選択的に形成することがで
きるので、基板とスペーサとの接触面を任意にコントロ
ールすることができる。そのため、（１）の方法が有す
る上記の３つの問題を解決できる利点がある。

【０００６】液晶材料として、強誘電性液晶が注目され
ている。強誘電性液晶は、自発分極を有するので高速応
答が可能であり、平面上のスイッチングによって視野角
の依存性がない、などの優れた性質を有する。しかし、
その反面、分子の規則性が、より結晶に近い構造を有す
るため、外圧によって分子の規則性が乱されると、元に
戻らず、衝撃に対して弱いという問題がある。そのた
め、強誘電性液晶を用いた液晶表示素子では、（２）の
ように壁状スペーサを用いることが望ましい。

【０００７】また、コレステリック液晶の選択反射を利
用した液晶表示素子も、メモリ性とカラー化を同時に実
現できることから、注目されている。しかし、コレステ
リック液晶は、表示状態を無電源で保持できることか
ら、低消費電力の表示素子として期待されているもの
の、衝撃に対して容易に配向状態が変化し、表示状態が
変化してしまうという問題がある。

【０００８】さらに、「ＳＩＤ ９８ ＤＩＧＥＳＴ
ｐ５１−５４」に記載されているようにコレステリック
液晶とフィルム基板を組み合わせて用いた場合には、衝
撃に対する耐性が劇的に低下するので、（２）のように
壁状スペーサを用いることが望ましい。

【０００９】しかしながら、壁状スペーサを用いた従来
の液晶表示素子は、上下の基板間の接着力が無い、ある
いは上下の基板を接着しても、すぐに剥がれてしまう、
などの欠点がある。

【００１０】具体的に、例えば、配向制御膜をポリイミ
ド樹脂などのイミド化物で形成した場合、イミド化物は
反応性に乏しく、高分子膜としては比較的硬い膜である
ため、イミド化物からなる配向制御膜を互いに接着させ
ることは困難である。

【００１１】また、一方の基板の配向制御膜上に壁状ス
ペーサを形成し、この壁状スペーサに他方の基板を接着
することによって、一対の基板を貼り合わせる場合、壁
状スペーサを接着性を有する樹脂によって形成すれば、
ある程度の接着力が得られるものの、十分な接着強度は
得られず、剥がれやすいという問題がある。また、壁状
スペーサ自体が接着力を持たない無機系または有機系の
樹脂からなる場合には、上下の基板は接着されない。

【００１２】そして、このように上下基板の接着力が不
十分な場合には、セル厚の均一性が得られず、表示品位
が低下する。また、上下基板間に隙間を生じて液晶移動
が容易になるとともに、外圧に対する強度が著しく低下
する。

【００１３】この対策として、いくつかの方法が検討さ
れている。特開平１０−２８２５０５号には、壁状スペ
ーサの他方の基板と対向する面に硬化材を含む２液エポ
キシ接着剤を転写して、他方の基板と接着することが示
されている。

【００１４】また、特開平１０−２６８３１７号には、
壁状スペーサと対向する他方の基板に熱重合性ポリイミ
ドを塗布し、その硬化前に壁状スペーサが形成された基
板と他方の基板を重ね合わせて、ポリイミドの硬化と同
時に両基板を接着することが示されている。

【００１５】さらに、「ＳＩＤ ９８ ＤＩＧＥＳＴ
ｐ３９７−４００」には、コレステリック液晶中に光重
合性モノマーを含有させ、セル内に注入後、画素外の領
域で選択的にモノマーを重合させて壁状スペーサを形成
する方法が報告されている。

【００１６】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、特開平
１０−２８２５０５号の方法は、壁状スペーサを他方の
基板に接着するのに長時間を要し、生産性が悪いととも
に、２液エポキシ接着剤から不純物が液晶中に溶け出し
て、素子の信頼性を損ねるという問題がある。

【００１７】また、特開平１０−２６８３１７号の方法
は、簡易な方法で、ある程度の接着性を実現できるが、
配向膜であるポリイミドの選択範囲が非常に狭くなって
しまうとともに、セルを構成する材料がポリイミドの焼
成温度に耐えうるものに限定されてしまうという問題が
ある。例えば、基板としてフィルム基板を用いる場合に
は、その耐熱温度は１２０〜１５０℃程度であり、特開
平１０−２６８３１７号に記載されている２００℃の焼
成温度は用いることができない。

【００１８】さらに、「ＳＩＤ ９８ ＤＩＧＥＳＴ
ｐ３９７−４００」に報告されている方法は、接着性を
有する壁状スペーサを形成できるものの、製造に当たっ
てセルに電界を印加する必要があることや、１℃／分と
いった非常に遅い勾配で除冷する必要があることから、
生産性が悪く、現実的な方法ではない。

【００１９】そこで、この発明は、壁状スペーサを用い
た液晶表示素子であって、均一なセル厚を有し、かつ上
下の基板が強固に接着されて、十分な耐衝撃性と良好な
表示品位とを備える液晶表示素子を提供するとともに、
そのような液晶表示素子を効率よく容易に作製すること
ができる液晶表示素子製造方法を提供するものである。

【００２０】

【課題を解決するための手段】この発明の液晶表示素子
は、少なくとも一方が透明な一対の基板と、この一対の
基板間に挟持された液晶と、前記一対の基板の少なくと
も一方に形成された壁状スペーサと、前記一対の基板の
少なくとも一方の外縁部に設けられたシール剤とを備
え、特に、前記壁状スペーサの少なくとも他方の基板と
対向する面、および前記シール剤が、同じ外部刺激によ
って硬化されて、前記一対の基板が接着されているもの
とする。

【００２１】外部刺激としては、紫外線や熱を用いるこ
とができる。

【００２２】液晶としては、強誘電性液晶やコレステリ
ック液晶を用いることができる。

【００２３】また、一対の基板の少なくとも一方はフィ
ルム基板とすることができる。

【００２４】この発明の製造方法は、少なくとも一方が
透明な一対の基板と、この一対の基板間に挟持された液
晶と、前記一対の基板の少なくとも一方に形成された壁
状スペーサと、前記一対の基板の少なくとも一方の外縁
部に設けられたシール剤とを備える液晶表示素子を製造
する方法であって、特に、前記壁状スペーサの少なくと
も他方の基板と対向する面、および前記シール剤に、同
一の外部刺激を加えることによって、前記一対の基板を
接着するものである。

【００２５】この場合、一つの方法として、前記壁状ス
ペーサの前記対向面に、前記シール剤が硬化する外部刺
激によって硬化する接着剤を塗布する工程と、前記シー
ル剤を描画する工程と、前記一対の基板を重ね合わせる
工程と、前記シール剤および前記接着剤に、これらが硬
化する同一の外部刺激を加える工程と、を備える方法と
することができる。

【００２６】あるいは、別の一つの方法として、前記一
対の基板の少なくとも一方に、前記シール剤が硬化する
外部刺激によって硬化する壁状スペーサを非硬化状態で
形成する工程と、前記シール剤を描画する工程と、前記
一対の基板を重ね合わせる工程と、前記シール剤および
前記非硬化状態の壁状スペーサに、これらが硬化する同
一の外部刺激を加える工程と、を備える方法とすること
ができる。

【００２７】上記の製造方法では、外部刺激を紫外線ま
たは熱とすることができる。

【００２８】

【作用】上記のように構成した、この発明の液晶表示素
子では、壁状スペーサの少なくとも他方の基板と対向す
る面、およびシール剤が、同じ外部刺激により硬化する
材料により構成されていて、同じ外部刺激によって硬化
されて、一対の基板が接着されているので、一対の基板
が強固に接着されたものとなるとともに、均一なセル厚
を有するものとなる。

【００２９】また、液晶として強誘電性液晶またはコレ
ステリック液晶を用いた場合には、液晶の流動性が抑制
されて、表示状態の衝撃に対する耐性が向上する。

【００３０】さらに、基板としてフィルム基板を用いた
場合には、その耐性の向上が更に顕著となる。

【００３１】上記のような方法の、この発明の製造方法
では、壁状スペーサの少なくとも他方の基板と対向する
面、およびシール剤に、同一の外部刺激を加えることに
よって、一対の基板を接着するので、基板接着工程を簡
略化することができ、壁状スペーサおよびシール剤を備
える液晶表示素子を効率よく容易に作製することができ
る。

【００３２】この場合、壁状スペーサの他方の基板と対
向する面に、シール剤が硬化する外部刺激によって硬化
する接着剤を塗布し、その接着剤とシール剤を、同一の
外部刺激によって同時に硬化させる方法では、壁状スペ
ーサの材料は特に限定されないとともに、接着剤も特に
限定されない。

【００３３】また、壁状スペーサ自体をシール剤が硬化
する外部刺激によって硬化する材料によって非硬化状態
で形成し、その非硬化状態の壁状スペーサとシール剤
を、同一の外部刺激によって同時に硬化させる方法で
は、壁状スペーサの材料は限定されるものの、接着剤を
塗布する工程が不要となり、全体の工程を簡略化するこ
とができる。

【００３４】

【発明の実施の形態】〔第１の実施形態〕図１は、この
発明の第１の実施形態を示し、液晶表示素子としては、
液晶として強誘電性液晶を用い、製造方法としては、シ
ール剤として紫外線硬化型樹脂を用い、壁状スペーサの
他方の基板と対向すべき面に紫外線硬化型樹脂からなる
接着剤を塗布し、紫外線の照射によって、これらシール
剤および接着剤を同時に硬化させる場合である。

【００３５】この実施形態では、図１（Ａ）に示すよう
に、一方の基板１１の一面に電極１２を形成し、同図
（Ｂ）に示すように、電極１２を覆うように基板１１上
に配向制御膜１３を形成し、さらに配向制御膜１３上に
壁状スペーサ１４を形成するとともに、同図（Ｅ）に示
すように、他方の基板２１の一面に電極２２を形成し、
電極２２を覆うように基板２１上に配向制御膜２３を形
成し、さらに基板２１の一面の外縁部に、液晶注入口と
なる部分を除いて、紫外線硬化型樹脂からなるシール剤
２４を描画する。

【００３６】さらに、同図（Ｃ）に示すように、ガラス
基板などの基体１５の一面に紫外線硬化型樹脂１６を塗
布し、同図（Ｄ）に示すように、その一部を壁状スペー
サ１４の基板２１と対向すべき面１４ａに接着剤１６ａ
として転写する。

【００３７】そして、同図（Ｆ）に示すように、この接
着剤１６ａを基板２１上の配向制御膜２３と接触させる
ように基板１１および２１を重ね合わせ、接着剤１６ａ
およびシール剤２４に紫外線を照射することによって、
接着剤１６ａおよびシール剤２４を同時に硬化させて、
基板１１および２１を接着する。

【００３８】接着後、上記の液晶注入口から基板１１，
２１間に強誘電性液晶１を注入し、液晶注入口を封止し
て、液晶表示素子を完成する。

【００３９】基板１１および２１は、ガラス基板やプラ
スチックフィルム基板などの透明基板とするが、強誘電
性液晶１の選択反射を利用する液晶表示素子のような反
射型液晶表示素子の場合には、観察面側とは反対側の基
板、例えば基板２１は、透明基板でなくてもよい。

【００４０】電極１２および２２は、ＩＴＯ（インジウ
ム錫酸化物）などからなる透明電極とするが、同様に反
射型液晶表示素子の場合には、観察面側とは反対側の電
極、例えば電極２２は、金属などからなる非透明電極で
もよい。

【００４１】電極１２および２２は、例えば、互いに直
交する方向に延長したストライプ状のものとして形成
し、両者の交差部を画素表示部とする。

【００４２】配向制御膜１３および２３は、ポリイミド
などの有機絶縁膜や、斜方蒸着された酸化珪素などの無
機絶縁膜によって形成し、必要に応じて適宜、ラビング
や偏光紫外線の照射などの処理を施す。

【００４３】壁状スペーサ１４は、例えば、電極１２と
重ならない位置において、電極１２と同様にストライプ
状に形成するが、必ずしも、そのような位置および形状
に限らない。

【００４４】この第１の実施形態の、実際に作製した具
体例を、以下に示す。

【００４５】基板１１側については、まず、基板１１を
構成するガラス基板（コーニング社製７０５９）の一面
に、ＩＴＯをスパッタ法によって１０００オングストロ
ームの膜厚で成膜し、そのＩＴＯ膜の表面にフォトレジ
ストをスピンコートし、フォトリソグラフィ法によって
パターニングして、ＩＴＯ電極１２を形成した。

【００４６】次に、フォトレジストを剥離後、ＩＴＯ電
極１２上を含んでガラス基板１１上に、ポリイミド（日
本合成ゴム社製ＡＬ１２５４）をスピンコート法によっ
て塗布し、１８０℃のオーブンで１時間焼成した後、あ
る一定方向にラビングして、ポリイミド配向制御膜１３
を形成した。

【００４７】次に、ポリイミド配向制御膜１３上に紫外
線硬化型樹脂（新日鐡化学社製Ｖ２５９ＰＡ）を、後述
する焼成後の膜厚が１．５μｍとなるようにスピンコー
ト法によって塗布し、さらにフォトマスクを用いて、こ
の紫外線硬化型樹脂をＩＴＯ電極１２と重ならないよう
にストライプ状にパターニングした後、２００℃のオー
ブンで１時間焼成して、壁状スペーサ１４を形成した。

【００４８】次に、ガラス基板からなる基体１５の一面
に、紫外線硬化型樹脂（ＳＵＭＭＥＲＳ Ｌａｂ．社製
Ｊ９１）１６をスピンコート法によって塗布し、その面
を壁状スペーサ１４の対向面１４ａに押し当てるように
基体１５をガラス基板１１に張り合わせた後、基体１５
をガラス基板１１から剥がすことによって、壁状スペー
サ１４の対向面１４ａに紫外線硬化型樹脂１６の一部を
接着剤１６ａとして転写した。

【００４９】基板２１側については、基板１１側と同様
の方法によって、基板２１を構成するガラス基板（コー
ニング社製７０５９）の一面にＩＴＯ電極２２を形成
し、このＩＴＯ電極２２上を含んでガラス基板２１上に
ポリイミド配向制御膜２３を形成した。

【００５０】次に、ガラス基板２１のＩＴＯ電極２２お
よびポリイミド配向制御膜２３が形成された面の外縁部
に、シール剤２４を構成する紫外線硬化型樹脂（スリー
ボンド社製の液晶用紫外線硬化型樹脂３０２６Ｂ）を、
ディスペンサによって所定形状に描画した。

【００５１】次に、ガラス基板１１および２１を、ポリ
イミド配向制御膜１３および２３のラビング方向が同一
になるように対向させて配置し、１ｋｇ／ｃｍ^２の圧力
を加えた状態で、２０ｍＷ／ｃｍ^２の紫外線を５分間照
射して、ガラス基板１１および２１を互いに接着した。
すなわち、紫外線の照射によって、接着剤１６ａの硬化
による壁状スペーサ１４と基板２１との接着、およびシ
ール剤２４の硬化による基板２１と基板１１との接着
を、同時に行った。

【００５２】その後、シール剤２４の液晶注入口から基
板１１，２１間の間隙に強誘電性液晶１を注入し、液晶
注入口を封止して、液晶表示素子を完成させた。

【００５３】以上の方法で作製した液晶表示素子は、セ
ル厚を０．０３μｍ以内のばらつき精度で均一化するこ
とができたとともに、画素表示部において均一な配向と
スイッチング特性を得ることができた。さらに、壁状ス
ペーサ１４と基板２１が良好かつ強固に接着されている
ため、表示状態の衝撃に対する耐性が非常に高く、衝撃
による表示状態の変化は、ほとんど見られなかった。

【００５４】比較のために、壁状スペーサ１４の対向面
１４ａに接着剤１６ａを塗布せず、その他は上述した構
成にした液晶表示素子を作製したが、壁状スペーサ１４
と基板２１との間を強誘電性液晶１が流動することか
ら、衝撃に対する耐性は上記の具体例と比べて低く、表
示状態が容易に変化した。

【００５５】なお、上記の具体例は、壁状スペーサ１４
の材料として、新日鐡化学社製Ｖ２５９ＰＡを用いた場
合であるが、同様の他の紫外線硬化型樹脂を用いてもよ
く、あるいは、フォトレジストとの組合せに応じて、無
機材料や有機系の樹脂を用いてもよい。

【００５６】また、上記の具体例は、接着剤１６ａの層
をできるだけ薄くするために、接着剤１６ａ（紫外線硬
化型樹脂１６）として、粘度の低いＳＵＭＭＥＲＳ Ｌ
ａｂ．社製Ｊ９１を用いた場合であるが、基板（ガラス
基板）２１との接着性が良好なものであれば、他の紫外
線硬化型樹脂を用いてもよい。また、シール剤２４とし
ても、スリーボンド社製３０２６Ｂ以外の紫外線硬化型
樹脂を用いることができる。

【００５７】また、上記の具体例は、配向制御膜１３，
２３の材料および壁状スペーサ１４の材料を、スピンコ
ート法によって塗布した場合であるが、ロールコート法
や印刷法などの、その他の方法によって塗布してもよ
い。

【００５８】なお、図１に示した例は、基板１１側にの
み壁状スペーサ１４を形成する場合であるが、基板１１
側および２１側の双方に壁状スペーサを形成して、それ
ぞれ上述した方法によって他方の基板２１および１１に
接着するようにしてもよい。

【００５９】〔第２の実施形態〕図２は、この発明の第
２の実施形態を示し、液晶表示素子としては、液晶とし
てコレステリック液晶を用い、製造方法としては、シー
ル剤として熱硬化型接着剤を用い、壁状スペーサを熱に
よっても硬化する紫外線硬化型樹脂によって非硬化状態
で形成し、加熱によって、これらシール剤および非硬化
状態の壁状スペーサを同時に硬化させる場合である。

【００６０】この実施形態では、図２（Ａ）に示すよう
に、一方の基板１１の一面に電極１２を形成し、同図
（Ｂ）に示すように、電極１２を覆うように基板１１上
に配向制御膜１３を形成し、さらに配向制御膜１３上
に、熱によっても硬化する紫外線硬化型樹脂によって壁
状スペーサ１４を非硬化状態で形成するとともに、同図
（Ｃ）に示すように、他方の基板２１の一面に電極２２
を形成し、電極２２を覆うように基板２１上に配向制御
膜２３を形成し、さらに基板２１の一面の外縁部に、液
晶注入口となる部分を除いて、熱硬化型接着剤からなる
シール剤２４を描画する。

【００６１】そして、同図（Ｄ）に示すように、壁状ス
ペーサ１４の基板２１と対向すべき面１４ａを基板２１
上の配向制御膜２３と接触させるように基板１１および
２１を重ね合わせ、壁状スペーサ１４およびシール剤２
４を加熱することによって、壁状スペーサ１４およびシ
ール剤２４を同時に硬化させて、基板１１および２１を
接着する。

【００６２】接着後、上記の液晶注入口から基板１１，
２１間にコレステリック液晶２を注入し、液晶注入口を
封止して、液晶表示素子を完成する。

【００６３】基板１１，２１、電極１２，２２および配
向制御膜１３，２３の材料、形状および位置関係などに
ついては、第１の実施形態と同じである。

【００６４】この第２の実施形態の、実際に作製した具
体例を、以下に示す。

【００６５】基板１１側については、まず、基板１１を
構成するフィルム基板（プラスチック基板）の一面に、
第１の実施形態の具体例と同じ方法によって、ＩＴＯ電
極１２を形成し、次に、ＩＴＯ電極１２上を含んでフィ
ルム基板１１上に、ポリイミド（日産化学社製ＳＥ７５
１１）をスピンコート法によって塗布し、１５０℃のオ
ーブンで１時間焼成して、ポリイミド配向制御膜１３を
形成した。

【００６６】次に、ポリイミド配向制御膜１３上に後述
の紫外線硬化型樹脂を、後述する加熱硬化後の膜厚が
５．０μｍとなるようにスピンコート法によって塗布
し、さらにフォトマスクを用いて、この紫外線硬化型樹
脂をＩＴＯ電極１２と重ならないようにストライプ状に
パターニングして、壁状スペーサ１４を非硬化状態で形
成した。

【００６７】この壁状スペーサ１４の材料の紫外線硬化
型樹脂としては、東京応化工業社製ＣＦＰＲ ＣＬ０１
６Ｓを用いた。これは、紫外線硬化型樹脂ではあるが、
紫外線だけでなく熱によっても重合反応が進み、硬化す
るものである。

【００６８】基板２１側については、基板１１側と同様
の方法によって、基板２１を構成するフィルム基板（プ
ラスチック基板）の一面にＩＴＯ電極２２を形成し、こ
のＩＴＯ電極２２上を含んでフィルム基板２１上にポリ
イミド配向制御膜２３を形成した。

【００６９】次に、フィルム基板２１のＩＴＯ電極２２
およびポリイミド配向制御膜２３が形成された面の外縁
部に、シール剤２４を構成する熱硬化型接着剤（東亞合
成社製の熱硬化型接着剤ストラクトボンドＰＳ−０４６
１）を、ディスペンサによって所定形状に描画した。

【００７０】次に、フィルム基板１１および２１を対向
させて配置し、１ｋｇ／ｃｍ^２の圧力を加えた状態で、
１５０℃のオーブンで１時間加熱して、フィルム基板１
１および２１を互いに接着した。すなわち、加熱によっ
て、非硬化状態の壁状スペーサ１４の硬化による壁状ス
ペーサ１４と基板２１および１１との接着、およびシー
ル剤２４の硬化による基板２１と基板１１との接着を、
同時に行った。

【００７１】その後、シール剤２４の液晶注入口から基
板１１，１２間の間隙にコレステリック液晶２を注入
し、液晶注入口を封止して、液晶表示素子を完成させ
た。コレステリック液晶２は、メルク社製のネマティッ
ク液晶Ｅ４４に同社製のカイラル剤Ｓ−８１１およびＳ
−１０１１を適量混合したものであり、その混合比によ
って選択反射の反射波長を制御することができる。

【００７２】なお、壁状スペーサ１４の材料の紫外線硬
化型樹脂としては、東京応化工業社製ＣＦＰＲ ＣＬ０
１６Ｓに限らず、同様に熱によっても硬化する他の紫外
線硬化型樹脂を用いることができる。また、シール剤２
４としても、東亞合成社製ストラクトボンドＰＳ−０４
６１以外の熱硬化型接着剤を用いることができる。

【００７３】以上の第２の実施形態は、壁状スペーサ１
４と基板２１との接着を壁状スペーサ１４自体の接着性
によって行い、シール剤２４による基板１１と基板２１
との接着を加熱によって行う点で、第１の実施形態と異
なるが、壁状スペーサ１４の対向面１４ａおよびシール
剤２４に同一の外部刺激を加えることによって、壁状ス
ペーサ１４の対向面１４ａおよびシール剤２４を同時に
硬化させて、基板１１および２１を接着する点では、第
１の実施形態と同じである。

【００７４】そのため、第１の実施形態と同様に、均一
なセル厚を有し、かつ基板１１および２１が強固に接着
されて、十分な耐衝撃性と良好な表示品位とを備える液
晶表示素子を得ることができる。さらに、この第２の実
施形態では、壁状スペーサ１４の対向面１４ａに接着剤
を塗布する必要がないので、第１の実施形態に比べて全
体の工程を簡略化することができる。

【００７５】なお、図２に示した例は、基板１１側にの
み壁状スペーサ１４を形成する場合であるが、基板１１
側および２１側の双方に壁状スペーサを形成して、それ
ぞれ上述した方法によって他方の基板２１および１１に
接着するようにしてもよい。

【００７６】

【発明の効果】上述したように、この発明の液晶表示素
子によれば、基板としてフィルム基板や大型基板を用い
た場合でも、基板間のギャップが均一に保持され、かつ
衝撃に対する耐性が著しく高い液晶表示素子を実現する
ことができる。また、この発明の製造方法によれば、こ
のようなセル厚が均一で、かつ衝撃に対する耐性が著し
く高い液晶表示素子を、効率よく容易に作製することが
できる。

【図面の簡単な説明】

【図１】この発明の第１の実施形態を示す図である。

【図２】この発明の第２の実施形態を示す図である。

【符号の説明】

１１，２１…基板、 １２，２２…電極、 １３，２３…配向制御膜、 １４…壁状スペーサ、 １４ａ…対向面、 １５…基体、 １６…紫外線硬化型樹脂、 １６ａ…接着剤、 ２４…シール剤。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁷ 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考） Ｇ０９Ｆ 9/30 ３２０ Ｇ０９Ｆ 9/30 ３２０ (72)発明者 氷治 直樹 神奈川県足柄上郡中井町境430 グリーン テクなかい 富士ゼロックス株式会社内 (72)発明者 鈴木 貞一 神奈川県足柄上郡中井町境430 グリーン テクなかい 富士ゼロックス株式会社内 Ｆターム(参考） 2H088 FA02 FA03 FA10 FA29 GA03 GA17 HA01 HA03 JA17 MA17 2H089 LA09 MA07Y NA14 NA42 NA44 NA45 NA58 QA03 QA12 QA14 RA13 TA01 TA04 TA06 2H090 JB03 KA14 LA02 LA03 5C094 AA03 AA31 AA43 BA43 BA49 CA19 DA12 EB10 EC02 EC04 GB01 5G435 AA01 AA14 AA17 BB12 CC09 HH01 KK05

Claims (11)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】少なくとも一方が透明な一対の基板と、こ
   の一対の基板間に挟持された液晶と、前記一対の基板の
   少なくとも一方に形成された壁状スペーサと、前記一対
   の基板の少なくとも一方の外縁部に設けられたシール剤
   とを備え、 前記壁状スペーサの少なくとも他方の基板と対向する
   面、および前記シール剤が、同じ外部刺激によって硬化
   されて、前記一対の基板が接着されていることを特徴と
   する液晶表示素子。
2. 【請求項２】請求項１の液晶表示素子において、 前記外部刺激が紫外線であることを特徴とする液晶表示
   素子。
3. 【請求項３】請求項１の液晶表示素子において、 前記外部刺激が熱であることを特徴とする液晶表示素
   子。
4. 【請求項４】請求項１〜３のいずれかの液晶表示素子に
   おいて、 前記液晶が強誘電性液晶であることを特徴とする液晶表
   示素子。
5. 【請求項５】請求項１〜３のいずれかの液晶表示素子に
   おいて、 前記液晶がコレステリック液晶であることを特徴とする
   液晶表示素子。
6. 【請求項６】請求項１〜５のいずれかの液晶表示素子に
   おいて、 前記一対の基板の少なくとも一方がフィルム基板である
   ことを特徴とする液晶表示素子。
7. 【請求項７】少なくとも一方が透明な一対の基板と、こ
   の一対の基板間に挟持された液晶と、前記一対の基板の
   少なくとも一方に形成された壁状スペーサと、前記一対
   の基板の少なくとも一方の外縁部に設けられたシール剤
   とを備える液晶表示素子を製造する方法であって、 前記壁状スペーサの少なくとも他方の基板と対向する
   面、および前記シール剤に、同一の外部刺激を加えるこ
   とによって、前記一対の基板を接着することを特徴とす
   る液晶表示素子製造方法。
8. 【請求項８】請求項７の液晶表示素子製造方法におい
   て、 前記壁状スペーサの前記対向面に、前記シール剤が硬化
   する外部刺激によって硬化する接着剤を塗布する工程
   と、 前記シール剤を描画する工程と、 前記一対の基板を重ね合わせる工程と、 前記シール剤および前記接着剤に、これらが硬化する同
   一の外部刺激を加える工程と、 を備えることを特徴とする液晶表示素子製造方法。
9. 【請求項９】請求項７の液晶表示素子製造方法におい
   て、 前記一対の基板の少なくとも一方に、前記シール剤が硬
   化する外部刺激によって硬化する壁状スペーサを非硬化
   状態で形成する工程と、 前記シール剤を描画する工程と、 前記一対の基板を重ね合わせる工程と、 前記シール剤および前記非硬化状態の壁状スペーサに、
   これらが硬化する同一の外部刺激を加える工程と、 を備えることを特徴とする液晶表示素子製造方法。
10. 【請求項１０】請求項７〜９のいずれかの液晶表示素子
    製造方法において、 前記外部刺激が紫外線であることを特徴とする液晶表示
    素子製造方法。
11. 【請求項１１】請求項７〜９のいずれかの液晶表示素子
    製造方法において、 前記外部刺激が熱であることを特徴とする液晶表示素子
    製造方法。