JP2001260553A - 感熱性平版印刷用原板 - Google Patents
感熱性平版印刷用原板Info
- Publication number
- JP2001260553A JP2001260553A JP2000078439A JP2000078439A JP2001260553A JP 2001260553 A JP2001260553 A JP 2001260553A JP 2000078439 A JP2000078439 A JP 2000078439A JP 2000078439 A JP2000078439 A JP 2000078439A JP 2001260553 A JP2001260553 A JP 2001260553A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- receiving layer
- ink receiving
- layer
- hydrophilic
- hydrophilic layer
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Abandoned
Links
Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41C—PROCESSES FOR THE MANUFACTURE OR REPRODUCTION OF PRINTING SURFACES
- B41C1/00—Forme preparation
- B41C1/10—Forme preparation for lithographic printing; Master sheets for transferring a lithographic image to the forme
- B41C1/1008—Forme preparation for lithographic printing; Master sheets for transferring a lithographic image to the forme by removal or destruction of lithographic material on the lithographic support, e.g. by laser or spark ablation; by the use of materials rendered soluble or insoluble by heat exposure, e.g. by heat produced from a light to heat transforming system; by on-the-press exposure or on-the-press development, e.g. by the fountain of photolithographic materials
- B41C1/1016—Forme preparation for lithographic printing; Master sheets for transferring a lithographic image to the forme by removal or destruction of lithographic material on the lithographic support, e.g. by laser or spark ablation; by the use of materials rendered soluble or insoluble by heat exposure, e.g. by heat produced from a light to heat transforming system; by on-the-press exposure or on-the-press development, e.g. by the fountain of photolithographic materials characterised by structural details, e.g. protective layers, backcoat layers or several imaging layers
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41C—PROCESSES FOR THE MANUFACTURE OR REPRODUCTION OF PRINTING SURFACES
- B41C2201/00—Location, type or constituents of the non-imaging layers in lithographic printing formes
- B41C2201/02—Cover layers; Protective layers
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41C—PROCESSES FOR THE MANUFACTURE OR REPRODUCTION OF PRINTING SURFACES
- B41C2201/00—Location, type or constituents of the non-imaging layers in lithographic printing formes
- B41C2201/12—Location, type or constituents of the non-imaging layers in lithographic printing formes characterised by non-macromolecular organic compounds
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41C—PROCESSES FOR THE MANUFACTURE OR REPRODUCTION OF PRINTING SURFACES
- B41C2201/00—Location, type or constituents of the non-imaging layers in lithographic printing formes
- B41C2201/14—Location, type or constituents of the non-imaging layers in lithographic printing formes characterised by macromolecular organic compounds, e.g. binder, adhesives
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41C—PROCESSES FOR THE MANUFACTURE OR REPRODUCTION OF PRINTING SURFACES
- B41C2210/00—Preparation or type or constituents of the imaging layers, in relation to lithographic printing forme preparation
- B41C2210/04—Negative working, i.e. the non-exposed (non-imaged) areas are removed
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41C—PROCESSES FOR THE MANUFACTURE OR REPRODUCTION OF PRINTING SURFACES
- B41C2210/00—Preparation or type or constituents of the imaging layers, in relation to lithographic printing forme preparation
- B41C2210/08—Developable by water or the fountain solution
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41C—PROCESSES FOR THE MANUFACTURE OR REPRODUCTION OF PRINTING SURFACES
- B41C2210/00—Preparation or type or constituents of the imaging layers, in relation to lithographic printing forme preparation
- B41C2210/22—Preparation or type or constituents of the imaging layers, in relation to lithographic printing forme preparation characterised by organic non-macromolecular additives, e.g. dyes, UV-absorbers, plasticisers
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41C—PROCESSES FOR THE MANUFACTURE OR REPRODUCTION OF PRINTING SURFACES
- B41C2210/00—Preparation or type or constituents of the imaging layers, in relation to lithographic printing forme preparation
- B41C2210/24—Preparation or type or constituents of the imaging layers, in relation to lithographic printing forme preparation characterised by a macromolecular compound or binder obtained by reactions involving carbon-to-carbon unsaturated bonds, e.g. acrylics, vinyl polymers
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41C—PROCESSES FOR THE MANUFACTURE OR REPRODUCTION OF PRINTING SURFACES
- B41C2210/00—Preparation or type or constituents of the imaging layers, in relation to lithographic printing forme preparation
- B41C2210/26—Preparation or type or constituents of the imaging layers, in relation to lithographic printing forme preparation characterised by a macromolecular compound or binder obtained by reactions not involving carbon-to-carbon unsaturated bonds
- B41C2210/262—Phenolic condensation polymers, e.g. novolacs, resols
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Thermal Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Printing Plates And Materials Therefor (AREA)
- Materials For Photolithography (AREA)
- Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
- Heat Sensitive Colour Forming Recording (AREA)
- Laminated Bodies (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 露光後、処理を行うことなく直接印刷機に装
着して印刷でき、耐刷力の改良された、金属を支持体と
する感熱性平版印刷用原板を提供する。 【解決手段】 金属基板上に、１）インキ受容層、およ
び２）ベリリウム、マグネシウム、アルミニウム、珪
素、チタン、硼素、ゲルマニウム、スズ、ジルコニウ
ム、鉄、バナジウム、アンチモンおよび遷移金属から選
択される少なくとも一つの元素のコロイド粒子状酸化物
または水酸化物を含有する親水層を有し、インキ受容層
および親水層のうち少なくとも一つの層が光熱変換剤を
含有し、さらにインキ受容層が軟化点１２０℃以上のエ
ポキシ樹脂を含有することを特徴とする感熱性平版印刷
用原板。
着して印刷でき、耐刷力の改良された、金属を支持体と
する感熱性平版印刷用原板を提供する。 【解決手段】 金属基板上に、１）インキ受容層、およ
び２）ベリリウム、マグネシウム、アルミニウム、珪
素、チタン、硼素、ゲルマニウム、スズ、ジルコニウ
ム、鉄、バナジウム、アンチモンおよび遷移金属から選
択される少なくとも一つの元素のコロイド粒子状酸化物
または水酸化物を含有する親水層を有し、インキ受容層
および親水層のうち少なくとも一つの層が光熱変換剤を
含有し、さらにインキ受容層が軟化点１２０℃以上のエ
ポキシ樹脂を含有することを特徴とする感熱性平版印刷
用原板。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、現像不要な感熱性
平版印刷用原板に関する。より詳しくは、デジタル信号
に基づいた赤外線レーザビーム走査露光による画像記録
が可能であり、画像記録したものを従来のような現像工
程を経ることなしに、そのまま印刷機に装着し印刷する
ことが可能な平版印刷用原板であって、耐刷力を改良し
た平版印刷用原板に関する。
平版印刷用原板に関する。より詳しくは、デジタル信号
に基づいた赤外線レーザビーム走査露光による画像記録
が可能であり、画像記録したものを従来のような現像工
程を経ることなしに、そのまま印刷機に装着し印刷する
ことが可能な平版印刷用原板であって、耐刷力を改良し
た平版印刷用原板に関する。
【０００２】
【従来の技術】露光後、処理をしないでそのまま印刷機
に装着して印刷することができる平版印刷版用原板につ
いては、種々の方法が提案されている。有望な方法の一
つは、半導体レーザ、ＹＡＧレーザ等の固体高出力赤外
線レーザで露光し、露光部分を光を熱に変換する光熱変
換剤で発熱させ、分解蒸発を起こさせるアブレーション
を利用した方法である。すなわち、親油性でインキ受容
性表面または親油性のインキ受容層を有する基板上に親
水層を設け、親水層をアブレーション除去する方法であ
る。
に装着して印刷することができる平版印刷版用原板につ
いては、種々の方法が提案されている。有望な方法の一
つは、半導体レーザ、ＹＡＧレーザ等の固体高出力赤外
線レーザで露光し、露光部分を光を熱に変換する光熱変
換剤で発熱させ、分解蒸発を起こさせるアブレーション
を利用した方法である。すなわち、親油性でインキ受容
性表面または親油性のインキ受容層を有する基板上に親
水層を設け、親水層をアブレーション除去する方法であ
る。
【０００３】ＷＯ９８／４０２１２号公報およびＷＯ９
９／１９１４３号公報には、基板上に、インキ受容層、
およびシリカなどのコロイドをアミノプロピルトリエト
キシシランなどの架橋剤で架橋したものを主成分とする
親水層を有し、現像なしで印刷機に装着できる平版印刷
用原板が開示されている。このインキ受容層は、光熱変
換剤の他にバインダーポリマーとして、ポリカーボネー
ト、ポリエステル、ポリビニルブチラール、ポリアクリ
レート、あるいは化学変性されたセルロース誘導を含ん
でよく、親水層は、架橋剤でコロイドを架橋することに
より耐刷力を向上させている。
９／１９１４３号公報には、基板上に、インキ受容層、
およびシリカなどのコロイドをアミノプロピルトリエト
キシシランなどの架橋剤で架橋したものを主成分とする
親水層を有し、現像なしで印刷機に装着できる平版印刷
用原板が開示されている。このインキ受容層は、光熱変
換剤の他にバインダーポリマーとして、ポリカーボネー
ト、ポリエステル、ポリビニルブチラール、ポリアクリ
レート、あるいは化学変性されたセルロース誘導を含ん
でよく、親水層は、架橋剤でコロイドを架橋することに
より耐刷力を向上させている。
【０００４】ＷＯ９９／１９１４４号公報には、上記イ
ンキ受容層の代わりに、光熱変換剤を含まない断熱層を
有する平版印刷用原板が開示されており、断熱層には、
セルロースアセテート、ポリメチルメタクリレート、ポ
リスチレン、ポリビニルブチラール、ポリカーボネート
類が用いられると記載されている。
ンキ受容層の代わりに、光熱変換剤を含まない断熱層を
有する平版印刷用原板が開示されており、断熱層には、
セルロースアセテート、ポリメチルメタクリレート、ポ
リスチレン、ポリビニルブチラール、ポリカーボネート
類が用いられると記載されている。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】しかし、上記の技術で
は耐刷力は数千枚と不十分である。従って、本発明の目
的は、上記の問題を解決することであり、露光後、処理
を行うことなく直接印刷機に装着して印刷することが可
能であり、耐刷力の改良された、金属を支持体とする感
熱性平版印刷用原板を提供することにある。
は耐刷力は数千枚と不十分である。従って、本発明の目
的は、上記の問題を解決することであり、露光後、処理
を行うことなく直接印刷機に装着して印刷することが可
能であり、耐刷力の改良された、金属を支持体とする感
熱性平版印刷用原板を提供することにある。
【０００６】
【課題を解決するための手段】本発明者は、鋭意検討の
結果、インキ受容層に軟化点が１２０℃以上のエポキシ
樹脂を含有させることによって、上記目的を達成できる
ことを見出した。すなわち、本発明は以下の通りであ
る。
結果、インキ受容層に軟化点が１２０℃以上のエポキシ
樹脂を含有させることによって、上記目的を達成できる
ことを見出した。すなわち、本発明は以下の通りであ
る。
【０００７】１．金属基板上に、１）インキ受容層、お
よび２）ベリリウム、マグネシウム、アルミニウム、珪
素、チタン、硼素、ゲルマニウム、スズ、ジルコニウ
ム、鉄、バナジウム、アンチモンおよび遷移金属から選
択される少なくとも一つの元素のコロイド粒子状酸化物
または水酸化物を含有する親水層を有し、インキ受容層
および親水層のうち少なくとも一つの層が光熱変換剤を
含有し、さらにインキ受容層が軟化点１２０℃以上のエ
ポキシ樹脂を含有することを特徴とする感熱性平版印刷
用原板。
よび２）ベリリウム、マグネシウム、アルミニウム、珪
素、チタン、硼素、ゲルマニウム、スズ、ジルコニウ
ム、鉄、バナジウム、アンチモンおよび遷移金属から選
択される少なくとも一つの元素のコロイド粒子状酸化物
または水酸化物を含有する親水層を有し、インキ受容層
および親水層のうち少なくとも一つの層が光熱変換剤を
含有し、さらにインキ受容層が軟化点１２０℃以上のエ
ポキシ樹脂を含有することを特徴とする感熱性平版印刷
用原板。
【０００８】２．金属基板上に、１）インキ受容層、
２）請求項１記載の親水層、および３）水溶性オーバー
コート層を有し、インキ受容層、親水層および水溶性オ
ーバーコート層のうち少なくとも一つの層が光熱変換剤
を含有し、さらにインキ受容層が軟化点１２０℃以上の
エポキシ樹脂を含有することを特徴とする感熱性平版印
刷用原板。
２）請求項１記載の親水層、および３）水溶性オーバー
コート層を有し、インキ受容層、親水層および水溶性オ
ーバーコート層のうち少なくとも一つの層が光熱変換剤
を含有し、さらにインキ受容層が軟化点１２０℃以上の
エポキシ樹脂を含有することを特徴とする感熱性平版印
刷用原板。
【０００９】
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態につい
て詳細に説明する。
て詳細に説明する。
【００１０】本発明のインキ受容層は、軟化点が１２０
℃以上のエポキシ樹脂を含有する。好適なエポキシ樹脂
として、例えば、ビスフェノールＡ／エピクロロヒドリ
ン重付加物、ビスフェノールＦ／エピクロロヒドリン重
付加物、ハロゲン化ビスフェノールＡ／エピクロロヒド
リン重付加物、ビフェニル型ビスフェノール／エピクロ
ロヒドリン重付加物、ノボラック樹脂／エピクロロヒド
リン重付加物などで、軟化点が１２０℃以上、より好ま
しくは１４０℃以上のものを挙げることができる。具体
的には、油化シェルエポキシ（株）製のエピコート１０
０７（軟化点１２８℃、Ｍn約２９００、エポキシ当量
２０００）、エピコート１００９（軟化点1４４℃、Ｍn
約３７５０、エポキシ当量３０００）、エピコート１０
１０（軟化点1６９℃、Ｍn約５５００、エポキシ当量４
０００）、エピコート１１００Ｌ（軟化点1４９℃、エ
ポキシ当量４０００）、エピコートＹＸ３１５７５（軟
化点１３０℃、エポキシ当量１２００）などを挙げるこ
とができる。
℃以上のエポキシ樹脂を含有する。好適なエポキシ樹脂
として、例えば、ビスフェノールＡ／エピクロロヒドリ
ン重付加物、ビスフェノールＦ／エピクロロヒドリン重
付加物、ハロゲン化ビスフェノールＡ／エピクロロヒド
リン重付加物、ビフェニル型ビスフェノール／エピクロ
ロヒドリン重付加物、ノボラック樹脂／エピクロロヒド
リン重付加物などで、軟化点が１２０℃以上、より好ま
しくは１４０℃以上のものを挙げることができる。具体
的には、油化シェルエポキシ（株）製のエピコート１０
０７（軟化点１２８℃、Ｍn約２９００、エポキシ当量
２０００）、エピコート１００９（軟化点1４４℃、Ｍn
約３７５０、エポキシ当量３０００）、エピコート１０
１０（軟化点1６９℃、Ｍn約５５００、エポキシ当量４
０００）、エピコート１１００Ｌ（軟化点1４９℃、エ
ポキシ当量４０００）、エピコートＹＸ３１５７５（軟
化点１３０℃、エポキシ当量１２００）などを挙げるこ
とができる。
【００１１】これらのエポキシ樹脂を適当な溶媒に溶解
させて、基板上に塗布乾燥させインキ受容層を基板上に
設けることができる。エポキシ樹脂のみを溶媒に溶解さ
せ用いることもできるが、着色剤、無機または有機の微
粒子、塗布面状改良剤、可塑剤、接着助剤を必要に応じ
て添加することができる。その他、露光後のプリントア
ウト画像を形成させるための加熱発色系あるいは消色系
添加剤が添加されてもよい。
させて、基板上に塗布乾燥させインキ受容層を基板上に
設けることができる。エポキシ樹脂のみを溶媒に溶解さ
せ用いることもできるが、着色剤、無機または有機の微
粒子、塗布面状改良剤、可塑剤、接着助剤を必要に応じ
て添加することができる。その他、露光後のプリントア
ウト画像を形成させるための加熱発色系あるいは消色系
添加剤が添加されてもよい。
【００１２】着色剤としては、通常の染料や顔料が用い
られるが、特にローダミン６Ｇ塩化物、ローダミンＢ塩
化物、クリスタルバイオレット、マラカイトグリーンシ
ュウ酸塩、オキサジン４パークロレート、キニザリン、
２−（α−ナフチル）−５−フェニルオキサゾール、ク
マリン−４が挙げられる。他の染料として具体的には、
オイルイエロー＃１０１、オイルイエロー＃１０３、オ
イルピンク＃３１２、オイルグリーンＢＧ、オイルブル
ーＢＯＳ、オイルブルー＃６０３、オイルブラックＢ
Ｙ、オイルブラックＢＳ、オイルブラックＴ−５０５
（以上、オリエント化学工業（株）製）、ビクトリアピ
ュアブルー、クリスタルバイオレット（ＣＩ４２５５
５）、メチルバイオレット（ＣＩ４２５３５）、エチル
バイオレット、メチレンブルー（ＣＩ５２０１５）、パ
テントピュアブルー（住友三国化学社製）、ブリリアン
トブルー、メチルグリーン、エリスリシンＢ、ベーシッ
クフクシン、ｍ−クレゾールパープル、オーラミン、４
−ｐ−ジエチルアミノフェニルイミナフトキノン、シア
ノ−ｐ−ジエチルアミノフェニルアセトアニリドなどに
代表されるトリフェニルメタン系、ジフェニルメタン
系、オキサジン系、キサンテン系、イミノナフトキノン
系、アゾメチン系またはアントラキノン系の染料あるい
は特開昭６２−２９３２４７号公報、特願平７−３３５
１４５号公報に記載されている染料を挙げることができ
る。上記色素は、インキ受容層中に添加される場合は受
容層の全固形分に対し、通常約０．０２〜１０重量％、
より好ましくは約０．１〜５重量％の割合ある。
られるが、特にローダミン６Ｇ塩化物、ローダミンＢ塩
化物、クリスタルバイオレット、マラカイトグリーンシ
ュウ酸塩、オキサジン４パークロレート、キニザリン、
２−（α−ナフチル）−５−フェニルオキサゾール、ク
マリン−４が挙げられる。他の染料として具体的には、
オイルイエロー＃１０１、オイルイエロー＃１０３、オ
イルピンク＃３１２、オイルグリーンＢＧ、オイルブル
ーＢＯＳ、オイルブルー＃６０３、オイルブラックＢ
Ｙ、オイルブラックＢＳ、オイルブラックＴ−５０５
（以上、オリエント化学工業（株）製）、ビクトリアピ
ュアブルー、クリスタルバイオレット（ＣＩ４２５５
５）、メチルバイオレット（ＣＩ４２５３５）、エチル
バイオレット、メチレンブルー（ＣＩ５２０１５）、パ
テントピュアブルー（住友三国化学社製）、ブリリアン
トブルー、メチルグリーン、エリスリシンＢ、ベーシッ
クフクシン、ｍ−クレゾールパープル、オーラミン、４
−ｐ−ジエチルアミノフェニルイミナフトキノン、シア
ノ−ｐ−ジエチルアミノフェニルアセトアニリドなどに
代表されるトリフェニルメタン系、ジフェニルメタン
系、オキサジン系、キサンテン系、イミノナフトキノン
系、アゾメチン系またはアントラキノン系の染料あるい
は特開昭６２−２９３２４７号公報、特願平７−３３５
１４５号公報に記載されている染料を挙げることができ
る。上記色素は、インキ受容層中に添加される場合は受
容層の全固形分に対し、通常約０．０２〜１０重量％、
より好ましくは約０．１〜５重量％の割合ある。
【００１３】更に塗布面状改良剤としてよく知られた化
合物であるフッ素系界面活性剤やシリコン系界面活性剤
も用いることができる。具体的にはパーフルオロアルキ
ル基やジメチルシロキサン基を有する界面活性剤が塗布
の面状を整えるのに有用である。
合物であるフッ素系界面活性剤やシリコン系界面活性剤
も用いることができる。具体的にはパーフルオロアルキ
ル基やジメチルシロキサン基を有する界面活性剤が塗布
の面状を整えるのに有用である。
【００１４】本発明で用いることができる無機または有
機の微粉末としては１０〜１００ｎｍまでのコロイダル
シリカやコロイダルアルミニウム、さらには、これらの
コロイドより大きい粒径の不活性粒子、例えば、シリカ
粒子、表面疎水化したシリカ粒子、アルミナ粒子、二酸
化チタン粒子、その他重金属粒子、クレーやタルク等を
挙げることができる。これらの無機または有機の微粉末
をインキ受容層中に添加することによって、上層の親水
層との接着性を改良し、印刷における耐刷力を増加させ
る効果がある。インキ受容層におけるこれらの微粉末の
添加割合は、好ましくはインキ受容層固形分の８０重量
％以下、より好ましくは４０重量％以下である。
機の微粉末としては１０〜１００ｎｍまでのコロイダル
シリカやコロイダルアルミニウム、さらには、これらの
コロイドより大きい粒径の不活性粒子、例えば、シリカ
粒子、表面疎水化したシリカ粒子、アルミナ粒子、二酸
化チタン粒子、その他重金属粒子、クレーやタルク等を
挙げることができる。これらの無機または有機の微粉末
をインキ受容層中に添加することによって、上層の親水
層との接着性を改良し、印刷における耐刷力を増加させ
る効果がある。インキ受容層におけるこれらの微粉末の
添加割合は、好ましくはインキ受容層固形分の８０重量
％以下、より好ましくは４０重量％以下である。
【００１５】さらに、本発明のインキ受容層には必要に
応じ、塗膜の柔軟性等を付与するために可塑剤が加えら
れる。例えば、ポリエチレングリコール、クエン酸トリ
ブチル、フタル酸ジエチル、フタル酸ジブチル、フクル
酸ジヘキシル、フタル酸ジオクチル、リン酸トリクレジ
ル、リン酸トリブチル、リン酸トリオクチル、オレイン
酸テトラヒドロフルフリル、アクリル酸またはメタクリ
ル酸のオリゴマーおよびポリマー等が用いられる。
応じ、塗膜の柔軟性等を付与するために可塑剤が加えら
れる。例えば、ポリエチレングリコール、クエン酸トリ
ブチル、フタル酸ジエチル、フタル酸ジブチル、フクル
酸ジヘキシル、フタル酸ジオクチル、リン酸トリクレジ
ル、リン酸トリブチル、リン酸トリオクチル、オレイン
酸テトラヒドロフルフリル、アクリル酸またはメタクリ
ル酸のオリゴマーおよびポリマー等が用いられる。
【００１６】さらに、本発明のインキ受容層に添加でき
る発色または消色系の添加剤としては、例えば、ジアゾ
化合物やジフェニルヨードニウム塩のような熱酸発生剤
とロイコ染料（ロイコマラカイトグリーン、ロイコクリ
スタルバイオレット、クリスタルバイオレットのラクト
ン体等）やＰＨ変色染料（例えば、エチルバイオレッ
ト、ビクトリアプアーブルーＢＯＨ等の染料）が組み合
わせて用いられる。その他、ＥＰ８９７１３４号明細書
に記載されているような、酸発色染料と酸性バインダー
の組合わせも有効である。この場合、加熱によって染料
を形成している会合状態の結合が切れ、ラクトン体が形
成して有色から無色に変化する。これらの添加剤の添加
割合は、好ましくはインキ受容層固形分に対し１０重量
％以下、より好ましくは５重量％以下である。
る発色または消色系の添加剤としては、例えば、ジアゾ
化合物やジフェニルヨードニウム塩のような熱酸発生剤
とロイコ染料（ロイコマラカイトグリーン、ロイコクリ
スタルバイオレット、クリスタルバイオレットのラクト
ン体等）やＰＨ変色染料（例えば、エチルバイオレッ
ト、ビクトリアプアーブルーＢＯＨ等の染料）が組み合
わせて用いられる。その他、ＥＰ８９７１３４号明細書
に記載されているような、酸発色染料と酸性バインダー
の組合わせも有効である。この場合、加熱によって染料
を形成している会合状態の結合が切れ、ラクトン体が形
成して有色から無色に変化する。これらの添加剤の添加
割合は、好ましくはインキ受容層固形分に対し１０重量
％以下、より好ましくは５重量％以下である。
【００１７】上記インキ受容層を塗布する溶媒として
は、アルコール類（メタノール、エタノール、プロピル
アルコール、エチレングリコール、ジエチレングリコー
ル、プロピレングリコール、ジプロピレングリコール、
エチレングリコールモノメチルエーテル、プロピレング
リコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノ
エチルエーテル等）、エーテル類（テトラヒドロフラ
ン、エチレングリコールジメチルエーテル、プロピレン
グリコールジメチルエーテル、テトラヒドロピラン
等）、ケトン類（アセトン、メチルエチルケトン、アセ
チルアセトン等）、エステル類（酢酸メチル、エチレン
グリコールモノメチルモノアセテート等）、アミド類
（ホルムアミド、Ｎ−メチルホルムアミド、ピロリド
ン、Ｎ−メチルピロリドン等）、ガンマーブチロラクト
ン、乳酸メチル、乳酸エチル等を用いることができる。
これらの溶媒は、単独あるいは混合して使用される。塗
布液中の上記インキ受容層成分（添加剤を含む全固形
分）の濃度は、好ましくは１〜５０重量％である。
は、アルコール類（メタノール、エタノール、プロピル
アルコール、エチレングリコール、ジエチレングリコー
ル、プロピレングリコール、ジプロピレングリコール、
エチレングリコールモノメチルエーテル、プロピレング
リコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノ
エチルエーテル等）、エーテル類（テトラヒドロフラ
ン、エチレングリコールジメチルエーテル、プロピレン
グリコールジメチルエーテル、テトラヒドロピラン
等）、ケトン類（アセトン、メチルエチルケトン、アセ
チルアセトン等）、エステル類（酢酸メチル、エチレン
グリコールモノメチルモノアセテート等）、アミド類
（ホルムアミド、Ｎ−メチルホルムアミド、ピロリド
ン、Ｎ−メチルピロリドン等）、ガンマーブチロラクト
ン、乳酸メチル、乳酸エチル等を用いることができる。
これらの溶媒は、単独あるいは混合して使用される。塗
布液中の上記インキ受容層成分（添加剤を含む全固形
分）の濃度は、好ましくは１〜５０重量％である。
【００１８】本発明のインキ受容層の塗布乾燥後の厚み
は、特に限定的ではないが０．１μｍ以上あればよい。
金属板上に設ける本発明の場合には、断熱層としての役
目をも有するので０．５μｍ以上が望ましい。インキ受
容層が薄すぎると発熱した熱が金属板の方に拡散し、感
度が低下する。その上、親水性の金属板の場合には、イ
ンキ受容層に耐摩耗性が要求されるため、耐刷力を確保
できなくなる。
は、特に限定的ではないが０．１μｍ以上あればよい。
金属板上に設ける本発明の場合には、断熱層としての役
目をも有するので０．５μｍ以上が望ましい。インキ受
容層が薄すぎると発熱した熱が金属板の方に拡散し、感
度が低下する。その上、親水性の金属板の場合には、イ
ンキ受容層に耐摩耗性が要求されるため、耐刷力を確保
できなくなる。
【００１９】本発明のインキ受容層を塗布される基板と
しては、寸度安定性のよい金属基板が用いられる。好適
な金属基板としては、例えば、アルミニウム、亜鉛、
銅、ニッケル、ステンレス鋼板などを挙げることができ
る。これらの中でアルミニウム基板が特に好ましい。
しては、寸度安定性のよい金属基板が用いられる。好適
な金属基板としては、例えば、アルミニウム、亜鉛、
銅、ニッケル、ステンレス鋼板などを挙げることができ
る。これらの中でアルミニウム基板が特に好ましい。
【００２０】本発明のアルミニウム基板の原料アルミニ
ウム板は、従来より公知公用の素材のアルミニウム板を
適宜に利用することができる。すなわち、原料アルミニ
ウム板は、純アルミニウム板、あるいはアルミニウムを
主成分とし、微量の異元素を含む合金板である。アルミ
ニウム合金に含まれる異元素には、ケイ素、鉄、マンガ
ン、銅、マグネシウム、クロム、亜鉛、ビスマス、ニッ
ケル、チタンなどがある。合金中の異元素の含有量は１
０重量％以下である。また、ＤＣ鋳造法を用いたアルミ
ニウム鋳塊からのアルミニウム板でも、連続鋳造法によ
る鋳塊からのアルミニウム板であっても良い。
ウム板は、従来より公知公用の素材のアルミニウム板を
適宜に利用することができる。すなわち、原料アルミニ
ウム板は、純アルミニウム板、あるいはアルミニウムを
主成分とし、微量の異元素を含む合金板である。アルミ
ニウム合金に含まれる異元素には、ケイ素、鉄、マンガ
ン、銅、マグネシウム、クロム、亜鉛、ビスマス、ニッ
ケル、チタンなどがある。合金中の異元素の含有量は１
０重量％以下である。また、ＤＣ鋳造法を用いたアルミ
ニウム鋳塊からのアルミニウム板でも、連続鋳造法によ
る鋳塊からのアルミニウム板であっても良い。
【００２１】本発明に用いられる上記アルミニウム基板
の厚みは０．０５〜０．６ｍｍ、好ましくは０．１〜
０．４ｍｍ、特に好ましくは０．１５〜０．３ｍｍであ
る。
の厚みは０．０５〜０．６ｍｍ、好ましくは０．１〜
０．４ｍｍ、特に好ましくは０．１５〜０．３ｍｍであ
る。
【００２２】アルミニウム板にインキ受容層を塗布する
に先立ち、表面を粗面化することが好ましい。粗面化に
より表面積を増大させ、上層との接着性を向上できる。
アルミニウム板表面の粗面化処理は、種々の方法により
行われるが、例えば、機械的に粗面化する方法、電気化
学的に表面を溶解粗面化する方法、化学的に表面を選択
溶解させる方法、あるいはこれらの方法のうち２種以上
の組み合わせによって行われる。機械的方法としては、
ボール研磨法、ブラシ研磨法、ブラスト研磨法、バフ研
磨法などの公知の方法を用いることができる。化学的方
法としては、特開昭５４−３１１８７号公報に記載され
ているような鉱酸のアルミニウム塩の飽和水溶液に浸漬
する方法が適している。また、電気化学的な粗面化法と
しては塩酸または硝酸などの酸を含む電解液中で交流ま
たは直流により行う方法がある。また、特開昭５４−６
３９０２号に開示されているように混合酸を用いた電解
粗面化方法も利用することができる。上記の如き方法に
よる粗面化は、アルミニウム板表面の中心線平均粗さ
（Ｈａ）が０．３〜１．０μｍの範囲で施されることが
好ましい。
に先立ち、表面を粗面化することが好ましい。粗面化に
より表面積を増大させ、上層との接着性を向上できる。
アルミニウム板表面の粗面化処理は、種々の方法により
行われるが、例えば、機械的に粗面化する方法、電気化
学的に表面を溶解粗面化する方法、化学的に表面を選択
溶解させる方法、あるいはこれらの方法のうち２種以上
の組み合わせによって行われる。機械的方法としては、
ボール研磨法、ブラシ研磨法、ブラスト研磨法、バフ研
磨法などの公知の方法を用いることができる。化学的方
法としては、特開昭５４−３１１８７号公報に記載され
ているような鉱酸のアルミニウム塩の飽和水溶液に浸漬
する方法が適している。また、電気化学的な粗面化法と
しては塩酸または硝酸などの酸を含む電解液中で交流ま
たは直流により行う方法がある。また、特開昭５４−６
３９０２号に開示されているように混合酸を用いた電解
粗面化方法も利用することができる。上記の如き方法に
よる粗面化は、アルミニウム板表面の中心線平均粗さ
（Ｈａ）が０．３〜１．０μｍの範囲で施されることが
好ましい。
【００２３】粗面化されたアルミニウム板は、必要に応
じて水酸化カリウムや水酸化ナトリウムなどの水溶液に
よるアルカリエッチング処理をされ、さらに中和処理さ
れた後、陽極酸化処理することができる。
じて水酸化カリウムや水酸化ナトリウムなどの水溶液に
よるアルカリエッチング処理をされ、さらに中和処理さ
れた後、陽極酸化処理することができる。
【００２４】アルミニウム板の陽極酸化処理に用いられ
る電解質としては、多孔質酸化皮膜を形成する種々の電
解質の使用が可能で、一般的には、硫酸、リン酸、蓚
酸、クロム酸、スルファミン酸、ベンゼンスルホン酸、
あるいは、それらの混酸が用いられる。これらの電解質
の濃度は電解質の種類によって適宜決められる。陽極酸
化の処理条件は、用いる電解質により種々変わるので一
概に特定し得ないが、一般的には、電解質の濃度が１〜
８０重量％溶液、液温は５〜７０℃、電流密度５〜６０
Ａ／dｍ2、電圧１〜１００Ｖ、電解時間１０秒〜５０分
の範囲であれば適当である。これらの陽極酸化処理の中
でも、特に、英国特許１，４１２，７６８号公報に記載
されている硫酸中で高電流密度で陽極酸化する方法およ
び米国特許３，５１１，６６１号公報に記載されている
リン酸を電解浴として陽極酸化する方法が好ましい。本
発明のアルミニウム基板の酸化皮膜重量は、好ましくは
２．０ｇ／ｍ2以上、より好ましくは２．０〜６．０ｇ
／ｍ2で、特に好ましくは２．０〜４．０ｇ／ｍ2であ
る。
る電解質としては、多孔質酸化皮膜を形成する種々の電
解質の使用が可能で、一般的には、硫酸、リン酸、蓚
酸、クロム酸、スルファミン酸、ベンゼンスルホン酸、
あるいは、それらの混酸が用いられる。これらの電解質
の濃度は電解質の種類によって適宜決められる。陽極酸
化の処理条件は、用いる電解質により種々変わるので一
概に特定し得ないが、一般的には、電解質の濃度が１〜
８０重量％溶液、液温は５〜７０℃、電流密度５〜６０
Ａ／dｍ2、電圧１〜１００Ｖ、電解時間１０秒〜５０分
の範囲であれば適当である。これらの陽極酸化処理の中
でも、特に、英国特許１，４１２，７６８号公報に記載
されている硫酸中で高電流密度で陽極酸化する方法およ
び米国特許３，５１１，６６１号公報に記載されている
リン酸を電解浴として陽極酸化する方法が好ましい。本
発明のアルミニウム基板の酸化皮膜重量は、好ましくは
２．０ｇ／ｍ2以上、より好ましくは２．０〜６．０ｇ
／ｍ2で、特に好ましくは２．０〜４．０ｇ／ｍ2であ
る。
【００２５】本発明のアルミニウム基板は、陽極酸化皮
膜を封孔処理してもよい。封孔処理としては、熱水処
理、沸騰水処理、水蒸気処理、重クロム酸塩処理、亜硝
酸塩処理、酢酸アンモニウム塩処理、電着封孔処理など
の公知の方法を用いて行うことができる。
膜を封孔処理してもよい。封孔処理としては、熱水処
理、沸騰水処理、水蒸気処理、重クロム酸塩処理、亜硝
酸塩処理、酢酸アンモニウム塩処理、電着封孔処理など
の公知の方法を用いて行うことができる。
【００２６】別の封孔処理として、特公昭３６−２２０
６３号公報などに記載されているようなフッ化ジルコン
酸処理を用いることもできる。あるいは、特開平９−２
４４２２７号公報に記載されているリン酸塩および無機
フッ素化合物を含む水溶液で処理する方法を用いること
ができる。また、特開平９−１３４００２号公報に記載
されている糖を含む水溶液で処理する方法を用いること
もできる。そのほか、特願平１０−２５２０７８号およ
び同１０−２５３４１１号に記載されているチタンとフ
ッ素を含む水溶液で処理する方法を用いることができ
る。また、アルカリ金属珪酸塩を用いた処理を行っても
よく、その場合は、米国特許３１８１４６１号などに記
載されている方法を用いることができる。
６３号公報などに記載されているようなフッ化ジルコン
酸処理を用いることもできる。あるいは、特開平９−２
４４２２７号公報に記載されているリン酸塩および無機
フッ素化合物を含む水溶液で処理する方法を用いること
ができる。また、特開平９−１３４００２号公報に記載
されている糖を含む水溶液で処理する方法を用いること
もできる。そのほか、特願平１０−２５２０７８号およ
び同１０−２５３４１１号に記載されているチタンとフ
ッ素を含む水溶液で処理する方法を用いることができ
る。また、アルカリ金属珪酸塩を用いた処理を行っても
よく、その場合は、米国特許３１８１４６１号などに記
載されている方法を用いることができる。
【００２７】また本発明に用いるアルミニウム基板は、
陽極酸化した後あるいは封孔処理をした後、必要に応じ
て、珪酸ナトリウムなどのアルカリ珪酸塩水溶液に浸す
処理、ポリビニルホスホン酸、ポリアクリル酸、スルホ
ン酸基を側鎖に有するポリマーまたはコポリマーあるい
は特開平１１−２３１５０９号公報に記載の（ａ）アミ
ノ基、および（ｂ）ホスフィン基、ホスホン基およびリ
ン酸基から選択された基を有する有機化合物またはその
塩などを含む溶液に浸す処理、あるいは該溶液を下塗り
する処理などの表面処理を行うことができる。
陽極酸化した後あるいは封孔処理をした後、必要に応じ
て、珪酸ナトリウムなどのアルカリ珪酸塩水溶液に浸す
処理、ポリビニルホスホン酸、ポリアクリル酸、スルホ
ン酸基を側鎖に有するポリマーまたはコポリマーあるい
は特開平１１−２３１５０９号公報に記載の（ａ）アミ
ノ基、および（ｂ）ホスフィン基、ホスホン基およびリ
ン酸基から選択された基を有する有機化合物またはその
塩などを含む溶液に浸す処理、あるいは該溶液を下塗り
する処理などの表面処理を行うことができる。
【００２８】本発明の親水層は、ベリリウム、マグネシ
ウム、アルミニウム、珪素、チタン、硼素、ゲルマニウ
ム、スズ、ジルコニウム、鉄、バナジウム、アンチモン
および遷移金属から選択された少なくとも一つの元素の
コロイド粒子状酸化物または水酸化物を含有する。
ウム、アルミニウム、珪素、チタン、硼素、ゲルマニウ
ム、スズ、ジルコニウム、鉄、バナジウム、アンチモン
および遷移金属から選択された少なくとも一つの元素の
コロイド粒子状酸化物または水酸化物を含有する。
【００２９】これらの元素のコロイド粒子状酸化物また
は水酸化物は、上記元素のハロゲン化物やアルコキシ化
合物の加水分解、あるいは、水酸化物の縮合など種々の
公知の方法によってコロイド分散液の分散相、すなわ
ち、コロイド粒子として作られる。親水層を設けるため
の親水層塗布液に添加する場合は、コロイド分散液の状
態で添加できる。
は水酸化物は、上記元素のハロゲン化物やアルコキシ化
合物の加水分解、あるいは、水酸化物の縮合など種々の
公知の方法によってコロイド分散液の分散相、すなわ
ち、コロイド粒子として作られる。親水層を設けるため
の親水層塗布液に添加する場合は、コロイド分散液の状
態で添加できる。
【００３０】これらの元素の酸化物または水酸化物のう
ち、特に好ましいものは、アルミニウム、珪素、チタン
およびジルコニウムから選択された少なくとも一つの元
素の酸化物または水酸化物である。
ち、特に好ましいものは、アルミニウム、珪素、チタン
およびジルコニウムから選択された少なくとも一つの元
素の酸化物または水酸化物である。
【００３１】これらの元素の酸化物または水酸化物のコ
ロイド粒子は、コロイドの粒径として、シリカの場合５
〜１００ｎｍの球形のものが好適である。１０〜５０ｎ
ｍの球状粒子が、５０〜４００ｎｍの長さに連なったパ
ールネックレス状のコロイド粒子も用いることができ
る。アルミニウムの酸化物または水酸化物のコロイド粒
子のように１００ｎｍ×１０ｎｍのような羽毛状のもの
も有効である。これらのコロイド分散液は、日産化学工
業（株）などの市販品を購入することもできる。
ロイド粒子は、コロイドの粒径として、シリカの場合５
〜１００ｎｍの球形のものが好適である。１０〜５０ｎ
ｍの球状粒子が、５０〜４００ｎｍの長さに連なったパ
ールネックレス状のコロイド粒子も用いることができ
る。アルミニウムの酸化物または水酸化物のコロイド粒
子のように１００ｎｍ×１０ｎｍのような羽毛状のもの
も有効である。これらのコロイド分散液は、日産化学工
業（株）などの市販品を購入することもできる。
【００３２】これらのコロイド粒子の分散媒としては、
水のほかに、メタノール、エタノール、エチレングリコ
ールモノメチルエーテル、メチルエチルケトンなどの有
機溶媒も有用である。
水のほかに、メタノール、エタノール、エチレングリコ
ールモノメチルエーテル、メチルエチルケトンなどの有
機溶媒も有用である。
【００３３】本発明の親水層には、上記コロイド粒子と
共に、親水性樹脂あるいは芳香族水酸基を有する樹脂を
用いることができる。これらの樹脂を用いることにより
親水層皮膜の強化、耐刷力の向上、あるいは着肉性の向
上が図れる。
共に、親水性樹脂あるいは芳香族水酸基を有する樹脂を
用いることができる。これらの樹脂を用いることにより
親水層皮膜の強化、耐刷力の向上、あるいは着肉性の向
上が図れる。
【００３４】親水性樹脂としては、例えばヒドロキシル
基、カルボキシル基、ヒドロキシエチル基、ヒドロキシ
プロピル基、アミノ基、アミノエチル基、アミノプロピ
ル基、カルボキシメチル基などの親水基を有するものが
好ましい。親水性樹脂の具体例として、アラビアゴム、
カゼイン、ゼラチン、澱粉誘導体、カルボキシメチルセ
ルロースおよびそれらのナトリウム塩、セルロースアセ
テート、アルギン酸ナトリウム、酢酸ビニル−マレイン
酸コポリマー、スチレン−マレイン酸コポリマー、ポリ
アクリル酸およびそれらの塩、ポリメタクリル酸および
それらの塩、ヒドロキシエチルメタクリレートのホモポ
リマーおよびコポリマー、ヒドロキシエチルアクリレー
トのホモポリマーおよびコポリマー、ヒドロキシプロピ
ルメタクリレートのホモポリマーおよびコポリマー、ヒ
ドロキシプロピルアクリレートのホモポリマーおよびコ
ポリマー、ヒドロキシブチルメタクリレートのホモポリ
マーおよびコポリマー、ヒドロキシブチルアクリレート
のホモポリマーおよびコポリマー、ポリエチレングリコ
ール、ポリプロピレンオキシド、ポリビニルアルコー
ル、ならびに加水分解度が少なくとも６０重量％、好ま
しくは少なくとも８０重量％の加水分解ポリビニルアセ
テート、ポリビニルホルマール、ポリビニルブチラー
ル、ポリビニルピロリドン、アクリルアミドのホモポリ
マーおよびコポリマー、メタクリルアミドのホモポリマ
ーおよびポリマー、Ｎ−メチロールアクリルアミドのホ
モポリマーおよびコポリマー等を挙げることができる。
基、カルボキシル基、ヒドロキシエチル基、ヒドロキシ
プロピル基、アミノ基、アミノエチル基、アミノプロピ
ル基、カルボキシメチル基などの親水基を有するものが
好ましい。親水性樹脂の具体例として、アラビアゴム、
カゼイン、ゼラチン、澱粉誘導体、カルボキシメチルセ
ルロースおよびそれらのナトリウム塩、セルロースアセ
テート、アルギン酸ナトリウム、酢酸ビニル−マレイン
酸コポリマー、スチレン−マレイン酸コポリマー、ポリ
アクリル酸およびそれらの塩、ポリメタクリル酸および
それらの塩、ヒドロキシエチルメタクリレートのホモポ
リマーおよびコポリマー、ヒドロキシエチルアクリレー
トのホモポリマーおよびコポリマー、ヒドロキシプロピ
ルメタクリレートのホモポリマーおよびコポリマー、ヒ
ドロキシプロピルアクリレートのホモポリマーおよびコ
ポリマー、ヒドロキシブチルメタクリレートのホモポリ
マーおよびコポリマー、ヒドロキシブチルアクリレート
のホモポリマーおよびコポリマー、ポリエチレングリコ
ール、ポリプロピレンオキシド、ポリビニルアルコー
ル、ならびに加水分解度が少なくとも６０重量％、好ま
しくは少なくとも８０重量％の加水分解ポリビニルアセ
テート、ポリビニルホルマール、ポリビニルブチラー
ル、ポリビニルピロリドン、アクリルアミドのホモポリ
マーおよびコポリマー、メタクリルアミドのホモポリマ
ーおよびポリマー、Ｎ−メチロールアクリルアミドのホ
モポリマーおよびコポリマー等を挙げることができる。
【００３５】特に好ましい親水性樹脂は、水溶性でない
水酸基含有ポリマーで、具体的には、ヒドロキシエチル
メタクリレートのホモポリマーおよびコポリマーとヒド
ロキシエチルアクリレートのコポリマーである。
水酸基含有ポリマーで、具体的には、ヒドロキシエチル
メタクリレートのホモポリマーおよびコポリマーとヒド
ロキシエチルアクリレートのコポリマーである。
【００３６】これらの親水性樹脂の添加割合は、親水性
樹脂が水溶性の場合、親水層固形分の４０重量％以下が
好ましく、水溶性でない親水性樹脂の場合は固形分の２
０重量％以下が好ましい。
樹脂が水溶性の場合、親水層固形分の４０重量％以下が
好ましく、水溶性でない親水性樹脂の場合は固形分の２
０重量％以下が好ましい。
【００３７】本発明の親水層に用いる芳香族水酸基を有
する樹脂としては、メタノールに２５℃で５重量％以上
溶解するものが好ましく、例えば、ノボラック樹脂、レ
ゾール樹脂、ポリビニルフェノール樹脂、ケトンピロガ
ロール樹脂等のアルカリ可溶性樹脂が挙げられる。
する樹脂としては、メタノールに２５℃で５重量％以上
溶解するものが好ましく、例えば、ノボラック樹脂、レ
ゾール樹脂、ポリビニルフェノール樹脂、ケトンピロガ
ロール樹脂等のアルカリ可溶性樹脂が挙げられる。
【００３８】好ましいノボラック樹脂としては、フェノ
ール、ｏ−クレゾール、ｍ−クレゾール、ｐ−クレゾー
ル、２，５−キシレノール、および３，５−キシレノー
ル、レゾルシンから選ばれる少なくとも１種の水酸基含
有芳香族化合物を、ホルムアルデヒド、アセトアルデヒ
ド、プロピオンアルデヒドなどのアルデヒドの中から選
ばれる少なくとも１種と酸性触媒下で付加縮合したノボ
ラック樹脂が挙げられる。ホルムアルデヒドおよびアセ
トアルデヒドの代わりに、それぞれパラホルムアルデヒ
ドおよびパラアルデヒドを使用してもよい。その中で
も、ｍ−クレゾール：ｐ−クレゾール：２，５−キシレ
ノール：３，５−キシレノール：レゾルシンの混合割合
がモル比で４０〜１００：０〜５０：０〜２０：０〜２
０：０〜２０の混合物、または、フェノール：ｍ−クレ
ゾール：ｐ−クレゾールの混合割合がモル比で１〜１０
０：０〜７０：０〜６０の混合物とアルデヒドとの付加
縮合物であるノボラック樹脂が好ましい。アルデヒドの
中でも、特にホルムアルデヒドが好ましい。ノボラック
樹脂のゲル浸透クロマトグラフィー（以下、ＧＰＣと略
す）測定によるポリスチレン換算重量平均分子量（以
下、重量平均分子量と略す）は、好ましくは１，０００
〜１５，０００、さらに好ましくは１，５００〜１０，
０００のものが用いられる。
ール、ｏ−クレゾール、ｍ−クレゾール、ｐ−クレゾー
ル、２，５−キシレノール、および３，５−キシレノー
ル、レゾルシンから選ばれる少なくとも１種の水酸基含
有芳香族化合物を、ホルムアルデヒド、アセトアルデヒ
ド、プロピオンアルデヒドなどのアルデヒドの中から選
ばれる少なくとも１種と酸性触媒下で付加縮合したノボ
ラック樹脂が挙げられる。ホルムアルデヒドおよびアセ
トアルデヒドの代わりに、それぞれパラホルムアルデヒ
ドおよびパラアルデヒドを使用してもよい。その中で
も、ｍ−クレゾール：ｐ−クレゾール：２，５−キシレ
ノール：３，５−キシレノール：レゾルシンの混合割合
がモル比で４０〜１００：０〜５０：０〜２０：０〜２
０：０〜２０の混合物、または、フェノール：ｍ−クレ
ゾール：ｐ−クレゾールの混合割合がモル比で１〜１０
０：０〜７０：０〜６０の混合物とアルデヒドとの付加
縮合物であるノボラック樹脂が好ましい。アルデヒドの
中でも、特にホルムアルデヒドが好ましい。ノボラック
樹脂のゲル浸透クロマトグラフィー（以下、ＧＰＣと略
す）測定によるポリスチレン換算重量平均分子量（以
下、重量平均分子量と略す）は、好ましくは１，０００
〜１５，０００、さらに好ましくは１，５００〜１０，
０００のものが用いられる。
【００３９】好ましいレゾール樹脂としては、フェノー
ル、ｍ−クレゾール、ｏ−クレゾール、ｐ−クレゾー
ル、２，５−キシレノール、３，５−キシレノール、レ
ゾルシン、ピロガロール、ビス−（４−ヒドロキシフェ
ニル）メタン、ビスフェノール−Ａ、ｏ−エチルフェノ
ール、ｍ−エチルフェノール、ｐ−エチルフェノール、
プロピルフェノール、ｎ−ブチルフェノール、ｔ−ブチ
ルフェノール、１−ナフトール、２−ナフトール等の水
酸基含有芳香族炭化水素類やその他の２個以上の水酸基
を有する多核芳香族炭化水素類の少なくとも１種を、ア
ルカリ性触媒下、ホルムアルデヒド、アセトアルデヒ
ド、プロピオンアルデヒド、ベンズアルデヒド、フルフ
ラール等のアルデヒド、およびアセトン、メチルエチル
ケトン、メチルイソブチルケトンなどのケトンから選ば
れた少なくとも１種のアルデヒドまたはケトンと付加縮
合させたものが挙げられる。ホルムアルデヒドおよびア
セトアルデヒドの代わりに、それぞれパラホルムアルデ
ヒドおよびパラアルデヒドを使用してもよい。レゾール
樹脂の重量平均分子量は、好ましくは５００〜１０,０
００、特に好ましくは１，０００〜５，０００である。
ル、ｍ−クレゾール、ｏ−クレゾール、ｐ−クレゾー
ル、２，５−キシレノール、３，５−キシレノール、レ
ゾルシン、ピロガロール、ビス−（４−ヒドロキシフェ
ニル）メタン、ビスフェノール−Ａ、ｏ−エチルフェノ
ール、ｍ−エチルフェノール、ｐ−エチルフェノール、
プロピルフェノール、ｎ−ブチルフェノール、ｔ−ブチ
ルフェノール、１−ナフトール、２−ナフトール等の水
酸基含有芳香族炭化水素類やその他の２個以上の水酸基
を有する多核芳香族炭化水素類の少なくとも１種を、ア
ルカリ性触媒下、ホルムアルデヒド、アセトアルデヒ
ド、プロピオンアルデヒド、ベンズアルデヒド、フルフ
ラール等のアルデヒド、およびアセトン、メチルエチル
ケトン、メチルイソブチルケトンなどのケトンから選ば
れた少なくとも１種のアルデヒドまたはケトンと付加縮
合させたものが挙げられる。ホルムアルデヒドおよびア
セトアルデヒドの代わりに、それぞれパラホルムアルデ
ヒドおよびパラアルデヒドを使用してもよい。レゾール
樹脂の重量平均分子量は、好ましくは５００〜１０,０
００、特に好ましくは１，０００〜５，０００である。
【００４０】好ましいポリビニルフェノール樹脂として
は、ｏ−ヒドロキシスチレン、ｍ−ヒドロキシスチレ
ン、ｐ−ヒドロキシスチレン、２−（ｏ−ヒドロキシフ
ェニル）プロピレン、２−（ｍ−ヒドロキシフェニル）
プロピレン、２−（ｐ−ヒドロキシフェニル）プロピレ
ンなどのヒドロキシスチレン類の単独または２種以上の
共重合体が挙げられる。ヒドロキシスチレン類は、芳香
環に塩素、臭素、ヨウ素、フッ素等のハロゲンあるいは
炭素数１〜4個のアルキル基等の置換基を有していても
よく、従って、ポリビニルフェノール類としては、芳香
環にハロゲンまたは炭素数１〜４個のアルキル基を有し
ていても良いポリビニルフェノールが挙げられる。この
ほかに、ｏ−ヒドロキシスチレン、ｍ−ヒドロキシスチ
レン、ｐ−ヒドロキシスチレン、２−（ｏ−ヒドロキシ
フェニル）プロピレン、２−（ｍ−ヒドロキシフェニ
ル）プロピレン、２−（ｐ−ヒドロキシフェニル）プロ
ピレンなどのヒドロキシスチレン類に、メタクリル酸、
アクリル酸、メタクリル酸アルキルエステルやアクリル
酸アルキルエステルを共重合したものも有用である。ポ
リビニルフェノール樹脂は、通常、置換基を有していて
もよいヒドロキシスチレンを、単独でまたは２種以上
を、ラジカル重合開始剤またはカチオン重合開始剤の存
在下で重合することにより得られる。かかるポリビニル
フェノール樹脂は、一部水素添加を行なったものでもよ
い。また、ｔ−ブトキシカルボニル基、ピラニル基、フ
ラニル基などで、ポリビニルフェノール樹脂の一部の水
酸基を保護した樹脂でもよい。ポリビニルフェノール樹
脂の重量平均分子量は、好ましくは１，０００〜１０
０，０００、特に好ましくは１，５００〜５０，０００
である。ケトンピロガロール樹脂としては、アセトンピ
ロガロール樹脂が特に有用である。
は、ｏ−ヒドロキシスチレン、ｍ−ヒドロキシスチレ
ン、ｐ−ヒドロキシスチレン、２−（ｏ−ヒドロキシフ
ェニル）プロピレン、２−（ｍ−ヒドロキシフェニル）
プロピレン、２−（ｐ−ヒドロキシフェニル）プロピレ
ンなどのヒドロキシスチレン類の単独または２種以上の
共重合体が挙げられる。ヒドロキシスチレン類は、芳香
環に塩素、臭素、ヨウ素、フッ素等のハロゲンあるいは
炭素数１〜4個のアルキル基等の置換基を有していても
よく、従って、ポリビニルフェノール類としては、芳香
環にハロゲンまたは炭素数１〜４個のアルキル基を有し
ていても良いポリビニルフェノールが挙げられる。この
ほかに、ｏ−ヒドロキシスチレン、ｍ−ヒドロキシスチ
レン、ｐ−ヒドロキシスチレン、２−（ｏ−ヒドロキシ
フェニル）プロピレン、２−（ｍ−ヒドロキシフェニ
ル）プロピレン、２−（ｐ−ヒドロキシフェニル）プロ
ピレンなどのヒドロキシスチレン類に、メタクリル酸、
アクリル酸、メタクリル酸アルキルエステルやアクリル
酸アルキルエステルを共重合したものも有用である。ポ
リビニルフェノール樹脂は、通常、置換基を有していて
もよいヒドロキシスチレンを、単独でまたは２種以上
を、ラジカル重合開始剤またはカチオン重合開始剤の存
在下で重合することにより得られる。かかるポリビニル
フェノール樹脂は、一部水素添加を行なったものでもよ
い。また、ｔ−ブトキシカルボニル基、ピラニル基、フ
ラニル基などで、ポリビニルフェノール樹脂の一部の水
酸基を保護した樹脂でもよい。ポリビニルフェノール樹
脂の重量平均分子量は、好ましくは１，０００〜１０
０，０００、特に好ましくは１，５００〜５０，０００
である。ケトンピロガロール樹脂としては、アセトンピ
ロガロール樹脂が特に有用である。
【００４１】これらの芳香族水酸基を有する樹脂の添加
割合は、親水層固形分の２０重量％以下であり、好まし
くは１２重量％以下である。
割合は、親水層固形分の２０重量％以下であり、好まし
くは１２重量％以下である。
【００４２】本発明の親水層には、上記の元素のコロイ
ド状酸化物または水酸化物および芳香族水酸基を有する
樹脂の他に、コロイド状酸化物または水酸化物の架橋を
促進する架橋剤を添加しても良い。そのような架橋剤と
しては、テトラアルコキシシランの初期加水分解縮合
物、トリアルコキシシリルプロピル−Ｎ，Ｎ，Ｎ−トリ
アルキルアンモニウムハライド、または、アミノプロピ
ルトリアルコキシシランが好ましい。その添加割合は、
親水層固形分の５重量％以下が好ましい。
ド状酸化物または水酸化物および芳香族水酸基を有する
樹脂の他に、コロイド状酸化物または水酸化物の架橋を
促進する架橋剤を添加しても良い。そのような架橋剤と
しては、テトラアルコキシシランの初期加水分解縮合
物、トリアルコキシシリルプロピル−Ｎ，Ｎ，Ｎ−トリ
アルキルアンモニウムハライド、または、アミノプロピ
ルトリアルコキシシランが好ましい。その添加割合は、
親水層固形分の５重量％以下が好ましい。
【００４３】さらに、本発明の親水層には、印刷時の耐
刷力を増加させる目的で、上記の親水性樹脂あるいは芳
香族水酸基を有する樹脂の架橋剤を添加してもよい。こ
の様な架橋剤としては、ホルムアルデヒド、グリオキザ
ール、ポリイソシアネート、テトラアルコキシシランの
初期加水分解・縮合物、ジメチロール尿素およびヘキサ
メチロールメラミンを挙げることができる。
刷力を増加させる目的で、上記の親水性樹脂あるいは芳
香族水酸基を有する樹脂の架橋剤を添加してもよい。こ
の様な架橋剤としては、ホルムアルデヒド、グリオキザ
ール、ポリイソシアネート、テトラアルコキシシランの
初期加水分解・縮合物、ジメチロール尿素およびヘキサ
メチロールメラミンを挙げることができる。
【００４４】さらに、本発明の親水層には、塗布の面状
を良化させるため、良く知られたフッ素系界面活性剤、
シリコン系界面活性剤、ポリオキシエチレン系界面活性
剤などを添加しても良い。
を良化させるため、良く知られたフッ素系界面活性剤、
シリコン系界面活性剤、ポリオキシエチレン系界面活性
剤などを添加しても良い。
【００４５】本発明の親水層の塗布厚みは０．１〜３μ
ｍであることが好ましい。より好ましくは、０．５〜２
μｍである。この範囲内で、親水層の耐久性を確保し、
印刷時の良好な耐刷性が得られる。一般的な市販の半導
体レーザーを用いて描画した場合に、約０．５μｍの厚
さで２５０〜４００ｍＪ／ｃｍ2のエネルギーを、約
１．５μｍの厚さで３５０〜５００ｍＪ／ｃｍ2のエネ
ルギーを要する。従って、厚すぎると、親水層をアブレ
ーション的にインキ受容層から剥離させるのに、多大な
エネルギーを要し、レーザーで露光する場合長時間を要
し、刷版を製造する生産性を低下させる。
ｍであることが好ましい。より好ましくは、０．５〜２
μｍである。この範囲内で、親水層の耐久性を確保し、
印刷時の良好な耐刷性が得られる。一般的な市販の半導
体レーザーを用いて描画した場合に、約０．５μｍの厚
さで２５０〜４００ｍＪ／ｃｍ2のエネルギーを、約
１．５μｍの厚さで３５０〜５００ｍＪ／ｃｍ2のエネ
ルギーを要する。従って、厚すぎると、親水層をアブレ
ーション的にインキ受容層から剥離させるのに、多大な
エネルギーを要し、レーザーで露光する場合長時間を要
し、刷版を製造する生産性を低下させる。
【００４６】本発明の感熱性平版印刷用原板は、親水層
上に水溶性オーバーコート層を有することができる。オ
ーバーコート層によって、印刷用原板の保管や取り扱い
の時の親油性物質による親水層の汚染や親水層の傷つき
を防止できる。また、オーバーコート層に光熱変換剤を
含有させることにより、親水層に光熱変換剤を多量添加
して親水層の親水性や膜質を劣化をさせてしまうことな
く、高感度化することが可能となる。
上に水溶性オーバーコート層を有することができる。オ
ーバーコート層によって、印刷用原板の保管や取り扱い
の時の親油性物質による親水層の汚染や親水層の傷つき
を防止できる。また、オーバーコート層に光熱変換剤を
含有させることにより、親水層に光熱変換剤を多量添加
して親水層の親水性や膜質を劣化をさせてしまうことな
く、高感度化することが可能となる。
【００４７】本発明に使用できる水溶性オーバーコート
層は、印刷時に容易に除去できるものであり、水溶性の
高分子化合物から選ばれた樹脂を含有する。ここで用い
る水溶性の高分子化合物としては、塗布乾燥によってで
きた被膜がフィルム形成能を有するもので、具体的に
は、ポリ酢酸ビニル（但し、加水分解率６５％以上のも
の）、ポリアクリル酸およびそのアルカリ金属塩または
アミン塩、アクリル酸共重合体およびそのアルカリ金属
塩またはアミン塩、ポリメタクリル酸およびそのアルカ
リ金属塩またはアミン塩、メタクリル酸共重合体および
そのアルカリ金属塩またはアミン塩、アクリルアミド単
独重合体および共重合体、ポリヒドロキシエチルアクリ
レート、ビニルピロリドン単独重合体および共重合体、
ポリビニルメチルエーテル、ビニルメチルエーテル／無
水マレイン酸共重合体、ポリ−２−アクリルアミド−２
−メチル−１−プロパンスルホン酸およびそのアルカリ
金属塩またはアミン塩、２−アクリルアミド−２−メチ
ル−１−プロパンスルホン酸共重合体およびそのアルカ
リ金属塩またはアミン塩、アラビアガム、繊維素誘導体
（例えば、カルボキシメチルセルローズ、カルボキシエ
チルセルローズ、メチルセルローズ等）およびその変性
体 、ホワイトデキストリン、プルラン、酵素分解エー
テル化デキストリン等を挙げることができる。また、目
的に応じて、これらの樹脂を二種以上混合して用いるこ
ともできる。
層は、印刷時に容易に除去できるものであり、水溶性の
高分子化合物から選ばれた樹脂を含有する。ここで用い
る水溶性の高分子化合物としては、塗布乾燥によってで
きた被膜がフィルム形成能を有するもので、具体的に
は、ポリ酢酸ビニル（但し、加水分解率６５％以上のも
の）、ポリアクリル酸およびそのアルカリ金属塩または
アミン塩、アクリル酸共重合体およびそのアルカリ金属
塩またはアミン塩、ポリメタクリル酸およびそのアルカ
リ金属塩またはアミン塩、メタクリル酸共重合体および
そのアルカリ金属塩またはアミン塩、アクリルアミド単
独重合体および共重合体、ポリヒドロキシエチルアクリ
レート、ビニルピロリドン単独重合体および共重合体、
ポリビニルメチルエーテル、ビニルメチルエーテル／無
水マレイン酸共重合体、ポリ−２−アクリルアミド−２
−メチル−１−プロパンスルホン酸およびそのアルカリ
金属塩またはアミン塩、２−アクリルアミド−２−メチ
ル−１−プロパンスルホン酸共重合体およびそのアルカ
リ金属塩またはアミン塩、アラビアガム、繊維素誘導体
（例えば、カルボキシメチルセルローズ、カルボキシエ
チルセルローズ、メチルセルローズ等）およびその変性
体 、ホワイトデキストリン、プルラン、酵素分解エー
テル化デキストリン等を挙げることができる。また、目
的に応じて、これらの樹脂を二種以上混合して用いるこ
ともできる。
【００４８】その他、オーバーコート層には塗布の均一
性を確保する目的で、水溶液塗布の場合には、主に非イ
オン系界面活性剤を添加することができる。このような
非イオン界面活性剤の具体例としては、ソルビタントリ
ステアレート、ソルビタンモノパルミテート、ソルビタ
ントリオレート、ステアリン酸モノグリセリド、ポリオ
キシエチレンノニルフェニルエーテル、ポリオキシエチ
レンドデシルエーテル等を挙げることが出来る。上記非
イオン界面活性剤のオーバーコート層の全固形物中に占
める割合は、０．０５〜５重量％が好ましく、より好ま
しくは１〜３重量％である。
性を確保する目的で、水溶液塗布の場合には、主に非イ
オン系界面活性剤を添加することができる。このような
非イオン界面活性剤の具体例としては、ソルビタントリ
ステアレート、ソルビタンモノパルミテート、ソルビタ
ントリオレート、ステアリン酸モノグリセリド、ポリオ
キシエチレンノニルフェニルエーテル、ポリオキシエチ
レンドデシルエーテル等を挙げることが出来る。上記非
イオン界面活性剤のオーバーコート層の全固形物中に占
める割合は、０．０５〜５重量％が好ましく、より好ま
しくは１〜３重量％である。
【００４９】本発明のオーバーコート層の厚みは、０．
０５〜４．０μmが好ましく、さらに好ましくは０．１
〜１．０μｍである。この範囲内において、良好な、親
油性物質汚染や傷つきの防止ができる。厚すぎると、印
刷時オーバーコート層の除去に時間がかかるとか、多量
に溶けだした水溶性樹脂が湿し水に影響を与え、印刷時
ローラストリップを発生させたり、インキが画像部に着
肉しない等の悪影響を生じる。
０５〜４．０μmが好ましく、さらに好ましくは０．１
〜１．０μｍである。この範囲内において、良好な、親
油性物質汚染や傷つきの防止ができる。厚すぎると、印
刷時オーバーコート層の除去に時間がかかるとか、多量
に溶けだした水溶性樹脂が湿し水に影響を与え、印刷時
ローラストリップを発生させたり、インキが画像部に着
肉しない等の悪影響を生じる。
【００５０】本発明のインキ受容層、親水層およびオー
バーコート層のうち少なくとも一つの層が、赤外線を吸
収し発熱する光熱変換剤を含有する。かかる光熱変換剤
としては、７００〜１２００ｎｍの少なくとも一部に吸
収帯を有する光吸収物質であればよく、種々の顔料ある
いは染料を用いることができる。
バーコート層のうち少なくとも一つの層が、赤外線を吸
収し発熱する光熱変換剤を含有する。かかる光熱変換剤
としては、７００〜１２００ｎｍの少なくとも一部に吸
収帯を有する光吸収物質であればよく、種々の顔料ある
いは染料を用いることができる。
【００５１】顔料としては、市販の顔料およびカラーイ
ンデックス（Ｃ．Ｉ．）便覧、「最新顔料便覧」（日本
顔料技術協会編、１９７７年刊）、「最新顔料応用技
術」（ＣＭＣ出版、１９８６年刊）、「印刷インキ技
術」（ＣＭＣ出版、１９８４年刊）に記載されている赤
外吸収性の顔料が利用できる。
ンデックス（Ｃ．Ｉ．）便覧、「最新顔料便覧」（日本
顔料技術協会編、１９７７年刊）、「最新顔料応用技
術」（ＣＭＣ出版、１９８６年刊）、「印刷インキ技
術」（ＣＭＣ出版、１９８４年刊）に記載されている赤
外吸収性の顔料が利用できる。
【００５２】これら顔料は、添加される層に対する分散
性を向上させるため、必要に応じて公知の表面処理を施
して用いることができる。表面処理の方法には、親水性
樹脂や親油性樹脂を表面コートする方法、界面活性剤を
付着させる方法、反応性物質（例えば、シリカゾル、ア
ルミナゾル、シランカップリング剤やエポキシ化合物、
イソシアネート化合物等）を顔料表面に結合させる方法
等が考えられる。オーバーコート層あるいは親水層に添
加する顔料は、水溶性の樹脂と分散しやすく、かつ親水
性を損わないように、親水性樹脂やシリカゾルで表面が
コートされたものが望ましい。顔料の粒径は０.０１μ
ｍ〜１μｍの範囲にあることが好ましく、０．０１μｍ
〜０．５μｍの範囲にあることが更に好ましい。顔料を
分散する方法としては、インク製造やトナー製造等に用
いられる公知の分散技術が使用できる。顔料の中で、特
に好ましい顔料としては、カーボンブラックを挙げるこ
とができる。
性を向上させるため、必要に応じて公知の表面処理を施
して用いることができる。表面処理の方法には、親水性
樹脂や親油性樹脂を表面コートする方法、界面活性剤を
付着させる方法、反応性物質（例えば、シリカゾル、ア
ルミナゾル、シランカップリング剤やエポキシ化合物、
イソシアネート化合物等）を顔料表面に結合させる方法
等が考えられる。オーバーコート層あるいは親水層に添
加する顔料は、水溶性の樹脂と分散しやすく、かつ親水
性を損わないように、親水性樹脂やシリカゾルで表面が
コートされたものが望ましい。顔料の粒径は０.０１μ
ｍ〜１μｍの範囲にあることが好ましく、０．０１μｍ
〜０．５μｍの範囲にあることが更に好ましい。顔料を
分散する方法としては、インク製造やトナー製造等に用
いられる公知の分散技術が使用できる。顔料の中で、特
に好ましい顔料としては、カーボンブラックを挙げるこ
とができる。
【００５３】染料としては、市販の染料および文献（例
えば「染料便覧」有機合成化学協会編集、昭和４５年
刊、「化学工業」１９８６年５月号Ｐ．４５〜５１の
「近赤外吸収色素」、「９０年代機能性色素の開発と市
場動向」第２章２．３項（１９９０）シーエムシー）あ
るいは特許に記載されている公知の染料が利用できる。
具体的には、アゾ染料、金属錯塩アゾ染料、ピラゾロン
アゾ染料、アントラキノン染料、フタロシアニン染料、
カルボニウム染料、キノンイミン染料、ポリメチン染
料、シアニン染料などの赤外線吸収染料が好ましい。
えば「染料便覧」有機合成化学協会編集、昭和４５年
刊、「化学工業」１９８６年５月号Ｐ．４５〜５１の
「近赤外吸収色素」、「９０年代機能性色素の開発と市
場動向」第２章２．３項（１９９０）シーエムシー）あ
るいは特許に記載されている公知の染料が利用できる。
具体的には、アゾ染料、金属錯塩アゾ染料、ピラゾロン
アゾ染料、アントラキノン染料、フタロシアニン染料、
カルボニウム染料、キノンイミン染料、ポリメチン染
料、シアニン染料などの赤外線吸収染料が好ましい。
【００５４】さらに、例えば、特開昭５８−１２５２４
６号、特開昭５９−８４３５６号、特開昭６０−７８７
８７号等に記載されているシアニン染料、特開昭５８−
１７３６９６号、特開昭５８−１８１６９０号、特開昭
５８−１９４５９５号等に記載されているメチン染料、
特開昭５８−１１２７９３号、特開昭５８−２２４７９
３号、特開昭５９−４８１８７号、特開昭５９−７３９
９６号、特開昭６０−５２９４０号、特開昭６０−６３
７４４号等に記載されているナフトキノン染料、 特開
昭５８−１１２７９２号等に記載されているスクワリリ
ウム染料、英国特許４３４，８７５号記載のシアニン染
料や米国特許第４，７５６，９９３号記載の染料、米国
特許第４，９７３，５７２号記載のシアニン染料、特開
平１０−２６８５１２号記載の染料を挙げることができ
る。
６号、特開昭５９−８４３５６号、特開昭６０−７８７
８７号等に記載されているシアニン染料、特開昭５８−
１７３６９６号、特開昭５８−１８１６９０号、特開昭
５８−１９４５９５号等に記載されているメチン染料、
特開昭５８−１１２７９３号、特開昭５８−２２４７９
３号、特開昭５９−４８１８７号、特開昭５９−７３９
９６号、特開昭６０−５２９４０号、特開昭６０−６３
７４４号等に記載されているナフトキノン染料、 特開
昭５８−１１２７９２号等に記載されているスクワリリ
ウム染料、英国特許４３４，８７５号記載のシアニン染
料や米国特許第４，７５６，９９３号記載の染料、米国
特許第４，９７３，５７２号記載のシアニン染料、特開
平１０−２６８５１２号記載の染料を挙げることができ
る。
【００５５】また、染料として米国特許第５，１５６，
９３８号記載の近赤外吸収増感剤も好適に用いられ、ま
た、米国特許第３，８８１，９２４号記載の置換された
アリールベンゾ（チオ）ピリリウム塩、特開昭５７−１
４２６４５号（米国特許第４，３２７，１６９号）記載
のトリメチンチアピリリウム塩、特開昭５８−１８１０
５１号、同５８−２２０１４３号、同５９−４１３６３
号、同５９−８４２４８号、同５９−８４２４９号、同
５９−１４６０６３号、同５９−１４６０６１号に記載
されているピリリウム系化合物、特開昭５９−２１６１
４６号記載のシアニン染料、米国特許第４，２８３，４
７５号に記載のペンタメチンチオピリリウム塩等や特公
平５−１３５１４号、同５−１９７０２号公報に開示さ
れているピリリウム化合物、エポリン社製Epolight III
−１７８、Epolight III−１３０、Epolight III−１２
５等も好ましく用いられる。これらの中で、オーバーコ
ート層および親水層に添加するのに特に好ましい染料は
水溶性染料で、以下に具体例を構造式で列挙する。
９３８号記載の近赤外吸収増感剤も好適に用いられ、ま
た、米国特許第３，８８１，９２４号記載の置換された
アリールベンゾ（チオ）ピリリウム塩、特開昭５７−１
４２６４５号（米国特許第４，３２７，１６９号）記載
のトリメチンチアピリリウム塩、特開昭５８−１８１０
５１号、同５８−２２０１４３号、同５９−４１３６３
号、同５９−８４２４８号、同５９−８４２４９号、同
５９−１４６０６３号、同５９−１４６０６１号に記載
されているピリリウム系化合物、特開昭５９−２１６１
４６号記載のシアニン染料、米国特許第４，２８３，４
７５号に記載のペンタメチンチオピリリウム塩等や特公
平５−１３５１４号、同５−１９７０２号公報に開示さ
れているピリリウム化合物、エポリン社製Epolight III
−１７８、Epolight III−１３０、Epolight III−１２
５等も好ましく用いられる。これらの中で、オーバーコ
ート層および親水層に添加するのに特に好ましい染料は
水溶性染料で、以下に具体例を構造式で列挙する。
【００５６】
【化１】
【００５７】
【化２】
【００５８】本発明のインキ受容層に用いる光熱変換剤
としては、前記の赤外線吸収染料であっても良いが、親
油性の染料がより好ましい。具体例として、例えば、以
下のシアニン染料を挙げることができる。
としては、前記の赤外線吸収染料であっても良いが、親
油性の染料がより好ましい。具体例として、例えば、以
下のシアニン染料を挙げることができる。
【００５９】
【化３】
【００６０】光熱変換剤の添加割合は、親水層バインダ
ーポリマー中への添加の場合は、好ましくは親水層固形
分の１〜７０重量％、より好ましくは２〜５０重量％で
ある。この範囲内で、親水層の親水性を損なうことな
く、良好な感度が得られる。
ーポリマー中への添加の場合は、好ましくは親水層固形
分の１〜７０重量％、より好ましくは２〜５０重量％で
ある。この範囲内で、親水層の親水性を損なうことな
く、良好な感度が得られる。
【００６１】光熱変換剤をインキ受容層に添加する場合
の添加割合は、インキ受容層固形分の１〜４０重量％、
好ましくは２〜２０重量％である。この範囲内で、膜質
を損なうことなく、良好な感度が得られる。
の添加割合は、インキ受容層固形分の１〜４０重量％、
好ましくは２〜２０重量％である。この範囲内で、膜質
を損なうことなく、良好な感度が得られる。
【００６２】光熱変換剤をオーバーコート層に添加する
場合の添加割合は、オーバーコート層固形分の１〜７０
重量％、好ましくは２〜５０重量％、光熱変換剤が染料
の場合、特に好ましくは２〜３０重量％、光熱変換剤が
顔料の場合、特に好ましくは２０〜５０重量％の割合で
ある。この範囲内で、オーバーコート層の均一性や膜強
度を損なうことなく、良好な感度が得られる。オーバー
コート層に光熱変換剤を添加する場合は、その添加量に
応じて、親水層およびインキ受容層の光熱変換剤の添加
量を減少するか、あるいは、無添加にすることができ
る。
場合の添加割合は、オーバーコート層固形分の１〜７０
重量％、好ましくは２〜５０重量％、光熱変換剤が染料
の場合、特に好ましくは２〜３０重量％、光熱変換剤が
顔料の場合、特に好ましくは２０〜５０重量％の割合で
ある。この範囲内で、オーバーコート層の均一性や膜強
度を損なうことなく、良好な感度が得られる。オーバー
コート層に光熱変換剤を添加する場合は、その添加量に
応じて、親水層およびインキ受容層の光熱変換剤の添加
量を減少するか、あるいは、無添加にすることができ
る。
【００６３】本発明の感熱性平版印刷用原板は熱によっ
て画像形成される。具体的には、熱記録ヘッド等による
直接画像様記録、赤外線レーザによる走査露光、キセノ
ン放電灯などの高照度フラッシュ露光や赤外線ランプ露
光などが適用されるが、波長７００〜１２００ｎｍの範
囲の赤外線を放射する半導体レーザ、ＹＡＧレーザ等の
固体高出力赤外線レーザによる露光が好適である。
て画像形成される。具体的には、熱記録ヘッド等による
直接画像様記録、赤外線レーザによる走査露光、キセノ
ン放電灯などの高照度フラッシュ露光や赤外線ランプ露
光などが適用されるが、波長７００〜１２００ｎｍの範
囲の赤外線を放射する半導体レーザ、ＹＡＧレーザ等の
固体高出力赤外線レーザによる露光が好適である。
【００６４】画像露光された本発明の印刷用原板は、そ
れ以上の処理なしに印刷機に装着することができる。イ
ンキと湿し水を用いて印刷を開始すると、親水層が除去
されて露出したインキ受容層部分にインキが着肉して、
印刷が進行する。オーバーコート層は、湿し水との接触
により速やかに溶解除去され、印刷にほとんど影響しな
い。また、本発明の平版印刷用原板は、印刷機シリンダ
ー上に取りつけた後に、印刷機に搭載されたレーザーに
より露光し、その後に湿し水および／またはインクをつ
けて機上現像することも可能である。
れ以上の処理なしに印刷機に装着することができる。イ
ンキと湿し水を用いて印刷を開始すると、親水層が除去
されて露出したインキ受容層部分にインキが着肉して、
印刷が進行する。オーバーコート層は、湿し水との接触
により速やかに溶解除去され、印刷にほとんど影響しな
い。また、本発明の平版印刷用原板は、印刷機シリンダ
ー上に取りつけた後に、印刷機に搭載されたレーザーに
より露光し、その後に湿し水および／またはインクをつ
けて機上現像することも可能である。
【００６５】
【実施例】以下、実施例により本発明を詳細に説明する
が、本発明はこれらに限定されるものではない。
が、本発明はこれらに限定されるものではない。
【００６６】実施例１〜３および比較例１〜３ 公知の方法で砂目立て、陽極酸化および珪酸ナトリウム
溶液処理を施したアルミニウム支持体（材質ＪＩＳＡ１
０５０、厚さ０．２４ｍｍ、砂目粗さＨａ＝０．４５μ
ｍ、陽極酸化皮膜重量２．７ｇ／ｍ2）に、下記のイン
キ受容層塗布液Ａ−１を塗布液量１２ｍｌ／ｍ2でバー
塗布した。その後、１００℃、１分間加熱乾燥し、乾燥
塗布量０．５ｇ／ｍ2のインキ受容層を設けた。
溶液処理を施したアルミニウム支持体（材質ＪＩＳＡ１
０５０、厚さ０．２４ｍｍ、砂目粗さＨａ＝０．４５μ
ｍ、陽極酸化皮膜重量２．７ｇ／ｍ2）に、下記のイン
キ受容層塗布液Ａ−１を塗布液量１２ｍｌ／ｍ2でバー
塗布した。その後、１００℃、１分間加熱乾燥し、乾燥
塗布量０．５ｇ／ｍ2のインキ受容層を設けた。
【００６７】 （インキ受容層塗布液Ａ−１） エポキシ樹脂（表１参照） ３ｇ メガファックＦ−１７７ （大日本インキ化学工業（株）フッ素系界面活性剤） ０．０４ｇ メチルエチルケトン ３７ｇ プロピレングリコールモノメチルエーテル ２０ｇ
【００６８】このようにして設けたインキ受容層上に、
下記の親水層塗布液Ｂ−１を塗布し、４０℃、３分間乾
燥して、親水層乾燥塗布量１ｇ／ｍ2の感熱性平版印刷
用原板を得た。
下記の親水層塗布液Ｂ−１を塗布し、４０℃、３分間乾
燥して、親水層乾燥塗布量１ｇ／ｍ2の感熱性平版印刷
用原板を得た。
【００６９】 （親水層塗布液Ｂ−１） ポリー２−ヒドロキシエチルメタクリレート （重量平均分子量３０万）の１０重量％メタノール溶液 １ｇ メタノールシリカ（日産化学製：シリカ粒径１０〜２０ｎｍ、 ３０重量％含有メタノール溶液からなるコロイド） ３ｇ 光熱変換剤（本明細書記載の染料ＩＲ−１１） ０．０９ｇ 乳酸メチル ０．５ｇ メタノール １５．５ｇ
【００７０】上記の感熱性平版印刷用原板をＣｒｅｏ社
製Ｔｒｅｎｄｓｅｔｔｅｒ（４０Ｗの８３０ｎｍ半導体
レーザーを搭載したプレートセッター）を用いて３００
ｍＪ／ｍ2露光した。露光した原板をそれ以上の処理を
しないで、そのまま小森コーポレーション製印刷機リス
ロンに取付け、プレートエッチ液（富士写真フイルム
（株）製ＥＵ−３）／水／イソプロピルアルコール（容
量比１／９９／１０）からなる湿し水と、墨インキ（大
日本インキ化学工業（株）製ジオスＧ）を用いて印刷し
た。その結果を表１に示した。
製Ｔｒｅｎｄｓｅｔｔｅｒ（４０Ｗの８３０ｎｍ半導体
レーザーを搭載したプレートセッター）を用いて３００
ｍＪ／ｍ2露光した。露光した原板をそれ以上の処理を
しないで、そのまま小森コーポレーション製印刷機リス
ロンに取付け、プレートエッチ液（富士写真フイルム
（株）製ＥＵ−３）／水／イソプロピルアルコール（容
量比１／９９／１０）からなる湿し水と、墨インキ（大
日本インキ化学工業（株）製ジオスＧ）を用いて印刷し
た。その結果を表１に示した。
【００７１】
【表１】
【００７２】ここで、エピコートは油化シェルエポキシ
（株）のエポキシ樹脂である。比較例３は、エポキシ樹
脂の代わりに、ポリビニルホルマール樹脂（電気化学工
業（株）電化ホルマール＃２００）を用いた。以上の結
果から、高軟化点のエポキシ樹脂によって高耐刷が得ら
れることが分かった。
（株）のエポキシ樹脂である。比較例３は、エポキシ樹
脂の代わりに、ポリビニルホルマール樹脂（電気化学工
業（株）電化ホルマール＃２００）を用いた。以上の結
果から、高軟化点のエポキシ樹脂によって高耐刷が得ら
れることが分かった。
【００７３】実施例４ 実施例２と同じインキ受容層上に、下記の親水層塗布液
Ｂ−２を塗布し、４０℃、３分間乾燥して、親水層乾燥
塗布量１ｇ／ｍ2の感熱性平版印刷用原板を得た。
Ｂ−２を塗布し、４０℃、３分間乾燥して、親水層乾燥
塗布量１ｇ／ｍ2の感熱性平版印刷用原板を得た。
【００７４】 （親水層塗布液Ｂ−２） ノボラック樹脂（Ｎ１） ０．０５ｇ グラスカ４０１ ４．５ｇ 乳酸メチル ０．５ｇ メタノール １５．５ｇ
【００７５】ここで、ノボラック樹脂（Ｎ１）は、ｍ−
クレゾールとｐ−クレゾールの重量比６／４の混合物と
パラホルムアルデヒドとの付加縮合物で、重量平均分子
量３，５００であり、グラスカ４０１は、日板研究所製
のＺｒＯ2・ＳｉＯ2からなる２０重量％のメタノールコ
ロイド溶液である。こうして得た感熱性平版印刷用原板
を実施例１と同様に露光印刷したところ、汚れのない良
好な印刷物２００００枚が得られた。
クレゾールとｐ−クレゾールの重量比６／４の混合物と
パラホルムアルデヒドとの付加縮合物で、重量平均分子
量３，５００であり、グラスカ４０１は、日板研究所製
のＺｒＯ2・ＳｉＯ2からなる２０重量％のメタノールコ
ロイド溶液である。こうして得た感熱性平版印刷用原板
を実施例１と同様に露光印刷したところ、汚れのない良
好な印刷物２００００枚が得られた。
【００７６】実施例５ 実施例１で用いた表面処理されたアルミニウム支持体上
に、下記のインキ受容層塗布液Ａ−２を塗布液量１２ｍ
ｌ／ｍ2でバー塗布した。その後、１００℃、１分間加
熱乾燥させ、乾燥塗布量０．５ｇ／ｍ2のインキ受容層
を設けた。
に、下記のインキ受容層塗布液Ａ−２を塗布液量１２ｍ
ｌ／ｍ2でバー塗布した。その後、１００℃、１分間加
熱乾燥させ、乾燥塗布量０．５ｇ／ｍ2のインキ受容層
を設けた。
【００７７】 （インキ受容層塗布液Ａ−２） エポキシ樹脂（エピコート１１００Ｌ、軟化点１４９℃） ３ｇ メガファックＦ−１７７ ０．０４ｇ メチルエチルケトン ３７ｇ プロピレングリコールモノメチルエーテル ２０ｇ
【００７８】次に、インキ受容層上に、下記の親水層塗
布液Ｂ−３を塗布し、１００℃、１分間乾燥して、親水
層乾燥塗布量１ｇ／ｍ2の親水層を設けた。
布液Ｂ−３を塗布し、１００℃、１分間乾燥して、親水
層乾燥塗布量１ｇ／ｍ2の親水層を設けた。
【００７９】 （親水層塗布液Ｂ−３） ポリー２−ヒドロキシエチルメタクリレート （実施例１と同じもの） １ｇ メタノールシリカ（実施例１と同じもの） ３ｇ 乳酸メチル ０．５ｇ メタノール １５．５ｇ
【００８０】上記親水層上に、下記オーバーコート層塗
布液ＯＣ−１を塗布し、１００℃、９０秒間乾燥して、
乾燥塗布重量０．５ｇ／ｍ2のオーバーコート層を有す
る感熱性平版印刷用原板を作製した。
布液ＯＣ−１を塗布し、１００℃、９０秒間乾燥して、
乾燥塗布重量０．５ｇ／ｍ2のオーバーコート層を有す
る感熱性平版印刷用原板を作製した。
【００８１】 （オーバーコート層塗布液ＯＣ−１） ポリアクリル酸（重量平均分子量５０，０００） １．０ｇ 光熱変換剤（本明細書記載の染料ＩＲ−１１） ０．２ｇ ポリオキシエチレンノニルフェニルエーテール ０．０４ｇ 水 １９ｇ
【００８２】こうして得た感熱性平版印刷用原板を実施
例１と同じプレートセッターを用いて３５０ｍＪ／ｍ2
で露光し、実施例１と同じ印刷機で印刷したところ、汚
れのない良好な印刷物２００００枚が得られた。
例１と同じプレートセッターを用いて３５０ｍＪ／ｍ2
で露光し、実施例１と同じ印刷機で印刷したところ、汚
れのない良好な印刷物２００００枚が得られた。
【００８３】実施例６ 実施例１で用いた表面処理されたアルミニウム支持体上
に、下記のインキ受容層塗布液Ａ−３を塗布液量１２ｍ
ｌ／ｍ2でバー塗布した。その後、１００℃、１分間加
熱乾燥させ、乾燥塗布量０．５ｇ／ｍ2のインキ受容層
を設けた。
に、下記のインキ受容層塗布液Ａ−３を塗布液量１２ｍ
ｌ／ｍ2でバー塗布した。その後、１００℃、１分間加
熱乾燥させ、乾燥塗布量０．５ｇ／ｍ2のインキ受容層
を設けた。
【００８４】 （インキ受容層塗布液Ａ−３） エポキシ樹脂（エピコート１００９） ３ｇ 光熱変換剤（本明細書記載の染料ＩＲ−２４） ０．３ｇ メガファックＦ−１７７ ０．０４ｇ メチルエチルケトン ３７ｇ プロピレングリコールモノメチルエーテル ２０ｇ
【００８５】次に、このインキ受容層上に、実施例１と
同じ親水層を設け、さらにその上に実施例５と同じオー
バーコート層を塗布して、感熱性平版印刷用原板を得
た。この平版印刷用原板を実施例１と同様に露光、印刷
したところ、汚れのない良好な印刷物２００００枚が得
られた。
同じ親水層を設け、さらにその上に実施例５と同じオー
バーコート層を塗布して、感熱性平版印刷用原板を得
た。この平版印刷用原板を実施例１と同様に露光、印刷
したところ、汚れのない良好な印刷物２００００枚が得
られた。
【００８６】
【発明の効果】本発明によれば、露光後、処理を行うこ
となく直接印刷機に装着して印刷することが可能であ
り、耐刷力の改良された、金属を支持体とする感熱性平
版印刷用原板が得られる。
となく直接印刷機に装着して印刷することが可能であ
り、耐刷力の改良された、金属を支持体とする感熱性平
版印刷用原板が得られる。
フロントページの続き Ｆターム(参考） 2H025 AA12 AA14 AB03 AC08 AD03 BH01 CC08 CC11 DA03 DA40 FA10 2H096 AA06 BA20 CA05 EA04 EA23 2H114 AA04 AA22 AA24 BA01 DA04 DA15 DA25 DA26 DA52 DA55 DA73 DA78 EA01 EA03 FA16 GA06 GA09 GA34 GA38
Claims (2)
- 【請求項１】 金属基板上に、１）インキ受容層、およ
び２）ベリリウム、マグネシウム、アルミニウム、珪
素、チタン、硼素、ゲルマニウム、スズ、ジルコニウ
ム、鉄、バナジウム、アンチモンおよび遷移金属から選
択される少なくとも一つの元素のコロイド粒子状酸化物
または水酸化物を含有する親水層を有し、インキ受容層
および親水層のうち少なくとも一つの層が光熱変換剤を
含有し、さらにインキ受容層が軟化点１２０℃以上のエ
ポキシ樹脂を含有することを特徴とする感熱性平版印刷
用原板。 - 【請求項２】 金属基板上に、１）インキ受容層、２）
請求項１記載の親水層、および３）水溶性オーバーコー
ト層を有し、インキ受容層、親水層および水溶性オーバ
ーコート層のうち少なくとも一つの層が光熱変換剤を含
有し、さらにインキ受容層が軟化点１２０℃以上のエポ
キシ樹脂を含有することを特徴とする感熱性平版印刷用
原板。
Priority Applications (5)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000078439A JP2001260553A (ja) | 2000-03-21 | 2000-03-21 | 感熱性平版印刷用原板 |
| US09/799,116 US6593057B2 (en) | 2000-03-21 | 2001-03-06 | Heat-sensitive lithographic printing plate precursor |
| DE60112637T DE60112637T2 (de) | 2000-03-21 | 2001-03-19 | Wärmeempfindlicher lithographischer Druckplattenvorläufer |
| AT01106380T ATE302115T1 (de) | 2000-03-21 | 2001-03-19 | Wärmeempfindlicher lithographischer druckplattenvorläufer |
| EP01106380A EP1136256B1 (en) | 2000-03-21 | 2001-03-19 | Heat-sensitive lithographic printing plate precursor |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000078439A JP2001260553A (ja) | 2000-03-21 | 2000-03-21 | 感熱性平版印刷用原板 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2001260553A true JP2001260553A (ja) | 2001-09-25 |
Family
ID=18595851
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2000078439A Abandoned JP2001260553A (ja) | 2000-03-21 | 2000-03-21 | 感熱性平版印刷用原板 |
Country Status (5)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US6593057B2 (ja) |
| EP (1) | EP1136256B1 (ja) |
| JP (1) | JP2001260553A (ja) |
| AT (1) | ATE302115T1 (ja) |
| DE (1) | DE60112637T2 (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100480946B1 (ko) * | 2001-12-28 | 2005-04-07 | 제일모직주식회사 | 내크랙성 및 열전도율이 향상된 반도체 소자 밀봉용에폭시 수지 조성물 |
| US6878503B2 (en) | 2001-10-10 | 2005-04-12 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Heat-sensitive lithographic printing plate precursor |
Families Citing this family (16)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6555285B1 (en) * | 1999-06-29 | 2003-04-29 | Agfa-Gevaert | Processless printing plate with low ratio of an inorganic pigment over hardener |
| US6576395B1 (en) * | 1999-06-29 | 2003-06-10 | Agfa-Gevaert | Processless printing plate with high ratio of inorganic pigment over hardener in a hydrophilic layer |
| JP2001080226A (ja) * | 1999-09-17 | 2001-03-27 | Fuji Photo Film Co Ltd | 感熱性平版印刷版用原板 |
| JP3741353B2 (ja) * | 1999-12-22 | 2006-02-01 | 富士写真フイルム株式会社 | 感熱性平版印刷用原板 |
| US7129021B2 (en) * | 1999-12-17 | 2006-10-31 | Creo Srl | Polymer system with switchable physical properties and its use in direct exposure printing plates |
| JP2001183816A (ja) * | 1999-12-27 | 2001-07-06 | Fuji Photo Film Co Ltd | ネガ型感熱性平版印刷用原板 |
| US6686125B2 (en) * | 2000-01-14 | 2004-02-03 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Lithographic printing plate precursor |
| JP4469927B2 (ja) * | 2000-05-23 | 2010-06-02 | Ｄｉｃ株式会社 | 感光性組成物およびこれを用いた平版印刷版原版、画像形成方法 |
| JP2002219881A (ja) * | 2001-01-24 | 2002-08-06 | Fuji Photo Film Co Ltd | 平版印刷版の製造法 |
| KR20040014996A (ko) * | 2001-06-29 | 2004-02-18 | 니혼 이타가라스 가부시키가이샤 | 광산란 반사 기판용 감광성 수지 조성물, 광산란 반사기판, 및 제조 방법 |
| JP3901565B2 (ja) * | 2002-04-15 | 2007-04-04 | 富士フイルム株式会社 | 感熱性平版印刷版用原板 |
| DE60320278T2 (de) * | 2002-08-07 | 2009-05-20 | Vim Technologies Ltd. | Lithographische druckglieder und verfahren und system zur herstellung lithographischer druckglieder |
| EP1462247B1 (en) * | 2003-03-28 | 2008-05-07 | Agfa Graphics N.V. | Positive working heat-sensitive lithographic printing plate precursor |
| US9738782B2 (en) * | 2010-09-28 | 2017-08-22 | Toray Industries, Inc. | EPOXY resin composition, prepreg and fiber-reinforced composite materials |
| KR20150007837A (ko) * | 2013-07-12 | 2015-01-21 | 삼성디스플레이 주식회사 | 도너 기판 및 이를 이용한 유기 발광 표시 장치의 제조방법 |
| EP3541879B1 (en) * | 2017-04-19 | 2022-11-09 | HP Indigo B.V. | Labels |
Family Cites Families (15)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH01126362A (ja) * | 1987-11-11 | 1989-05-18 | Nippon Soda Co Ltd | 画像形成用エポキシ樹脂組成物 |
| US6090524A (en) | 1997-03-13 | 2000-07-18 | Kodak Polychrome Graphics Llc | Lithographic printing plates comprising a photothermal conversion material |
| US6136508A (en) * | 1997-03-13 | 2000-10-24 | Kodak Polychrome Graphics Llc | Lithographic printing plates with a sol-gel layer |
| US6110645A (en) * | 1997-03-13 | 2000-08-29 | Kodak Polychrome Graphics Llc | Method of imaging lithographic printing plates with high intensity laser |
| GB9709404D0 (en) * | 1997-05-10 | 1997-07-02 | Du Pont Uk | Improvements in or relating to the formation of images |
| US5962188A (en) * | 1997-06-24 | 1999-10-05 | Kodak Polychrome Graphics Llc | Direct write lithographic printing plates |
| US6207348B1 (en) | 1997-10-14 | 2001-03-27 | Kodak Polychrome Graphics Llc | Dimensionally stable lithographic printing plates with a sol-gel layer |
| DE69814820T2 (de) | 1998-05-28 | 2004-03-04 | Agfa-Gevaert | Wärmeempfindliches Aufzeichnungsmaterial für die Herstellung von positiv arbeitenden Druckformen |
| US6152036A (en) * | 1998-05-28 | 2000-11-28 | Agfa-Gevaert, N.V. | Heat mode sensitive imaging element for making positive working printing plates |
| JP3743604B2 (ja) * | 1999-03-24 | 2006-02-08 | 富士写真フイルム株式会社 | 平版印刷用原板 |
| US6087069A (en) * | 1999-04-16 | 2000-07-11 | Presstek, Inc. | Lithographic imaging and cleaning of printing members having boron ceramic layers |
| US6399276B1 (en) * | 1999-06-29 | 2002-06-04 | Agfa-Gevaert | Processless printing plate with cover layer containing compounds with cationic groups |
| ATE278550T1 (de) | 1999-07-26 | 2004-10-15 | Fuji Photo Film Co Ltd | Wärmeempfindlicher vorläufer für eine flachdruckplatte |
| JP3741353B2 (ja) * | 1999-12-22 | 2006-02-01 | 富士写真フイルム株式会社 | 感熱性平版印刷用原板 |
| JP2001232966A (ja) * | 2000-02-24 | 2001-08-28 | Fuji Photo Film Co Ltd | 感熱性平版印刷用原板 |
-
2000
- 2000-03-21 JP JP2000078439A patent/JP2001260553A/ja not_active Abandoned
-
2001
- 2001-03-06 US US09/799,116 patent/US6593057B2/en not_active Expired - Lifetime
- 2001-03-19 EP EP01106380A patent/EP1136256B1/en not_active Expired - Lifetime
- 2001-03-19 AT AT01106380T patent/ATE302115T1/de not_active IP Right Cessation
- 2001-03-19 DE DE60112637T patent/DE60112637T2/de not_active Expired - Lifetime
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6878503B2 (en) | 2001-10-10 | 2005-04-12 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Heat-sensitive lithographic printing plate precursor |
| KR100480946B1 (ko) * | 2001-12-28 | 2005-04-07 | 제일모직주식회사 | 내크랙성 및 열전도율이 향상된 반도체 소자 밀봉용에폭시 수지 조성물 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| EP1136256A1 (en) | 2001-09-26 |
| US6593057B2 (en) | 2003-07-15 |
| ATE302115T1 (de) | 2005-09-15 |
| DE60112637T2 (de) | 2006-06-14 |
| EP1136256B1 (en) | 2005-08-17 |
| DE60112637D1 (de) | 2005-09-22 |
| US20010033992A1 (en) | 2001-10-25 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US6468717B2 (en) | Heat-sensitive lithographic printing plate precursor | |
| JP2001260553A (ja) | 感熱性平版印刷用原板 | |
| JP3741353B2 (ja) | 感熱性平版印刷用原板 | |
| EP1226936B1 (en) | Processes for producing lithographic printing plate | |
| JP3797530B2 (ja) | 感熱性平版印刷版用原板 | |
| US6878503B2 (en) | Heat-sensitive lithographic printing plate precursor | |
| JP4127951B2 (ja) | 感熱性平版印刷版用原板 | |
| JP2001080226A (ja) | 感熱性平版印刷版用原板 | |
| JP2001334763A (ja) | 感熱性平版印刷用原板 | |
| JP3830139B2 (ja) | 平版印刷版用修正液及び修正方法 | |
| JP2001096938A (ja) | 感熱性平版印刷版用原板 | |
| JP3790963B2 (ja) | 感熱性平版印刷版用原板 | |
| JP2002178657A (ja) | 感熱性平版印刷用原板 | |
| JP2001315451A (ja) | 感熱性平版印刷用原板 | |
| JP2004142177A (ja) | 平版印刷版用支持体および平版印刷版原版 | |
| JP2002086950A (ja) | 感熱性平版印刷用原板 | |
| JP2002086945A (ja) | 感熱性平版印刷用原板 | |
| JP2003118249A (ja) | 感熱性平版印刷用原板 | |
| JP2001293970A (ja) | 感熱性平版印刷用原板 | |
| JP2002086947A (ja) | 感熱性平版印刷用原板 | |
| JP2002086940A (ja) | 感熱性平版印刷用原板 | |
| JP2001315454A (ja) | 感熱性平版印刷用原板 | |
| JP2001219666A (ja) | 感熱性平版印刷用原板 | |
| JP2002301877A (ja) | 平版印刷版用支持体及びそれを用いた平版印刷版原版 | |
| JP2001083692A (ja) | 感熱性平版印刷版用原板 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20050825 |
|
| RD04 | Notification of resignation of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7424 Effective date: 20060324 |
|
| A711 | Notification of change in applicant |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A712 Effective date: 20061124 |
|
| A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20070817 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20070829 |
|
| A762 | Written abandonment of application |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A762 Effective date: 20071022 |