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JP2001118427A - 厚膜電極ペースト - Google Patents

厚膜電極ペースト

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Publication number
JP2001118427A
JP2001118427A JP29975599A JP29975599A JP2001118427A JP 2001118427 A JP2001118427 A JP 2001118427A JP 29975599 A JP29975599 A JP 29975599A JP 29975599 A JP29975599 A JP 29975599A JP 2001118427 A JP2001118427 A JP 2001118427A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
oxide
mol
electrode paste
film electrode
glass
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP29975599A
Other languages
English (en)
Inventor
Shinichi Tsugimoto
伸一 次本
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Murata Manufacturing Co Ltd
Original Assignee
Murata Manufacturing Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Murata Manufacturing Co Ltd filed Critical Murata Manufacturing Co Ltd
Priority to JP29975599A priority Critical patent/JP2001118427A/ja
Publication of JP2001118427A publication Critical patent/JP2001118427A/ja
Pending legal-status Critical Current

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  • Conductive Materials (AREA)
  • Fixed Capacitors And Capacitor Manufacturing Machines (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】本発明の目的は、鉛非含有であっても電極密着
強度が高く、電気特性の良い厚膜電極ペーストを提供す
ることにある。 【解決手段】本発明の厚膜電極ペーストは、セラミック
電子部品の電極形成に供される鉛フリー厚膜電極ペース
トであって、Agからなる導電粉末と、ガラス粉末と、
ビヒクルとを含有し、前記ガラス粉末は、酸化カルシウ
ム,酸化ストロンチウム,酸化バリウムから選ばれるア
ルカリ土類酸化物を1種以上と、酸化ビスマスと、酸化
硼素とを含有し、それぞれをMO(MOはCaO,Sr
O,BaOの合計)、Bi23,B23と表したとき、
ガラス組成100モル%に対して、10≦MO≦30モ
ル%、10≦Bi23≦50モル%、20≦B23≦6
0モル%の範囲にあることを特徴とする。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、セラミック電子部
品の電極形成に供される厚膜電極ペーストに関するもの
である。
【0002】
【従来の技術】従来よりセラミック電子部品は、誘電
体、半導体、圧電体等のセラミックスを用いている。こ
れらのセラミック電子部品に付随する電極や配線を構成
する材料として厚膜電極ペーストが多く用いられ、この
ような用途の厚膜電極ペーストの場合、ガラス粉末が添
加される場合がある。厚膜電極ペースト中にガラス粉末
を添加する効果としては、電極焼成時に軟化流動して導
電粉末の焼結を促進させること、厚膜電極の密着強度を
向上させること、さらにセラミック電子部品がセラミッ
クコンデンサの場合に、厚膜電極とセラミック素子の界
面部に生成するポアを埋めることにより静電容量の低下
を防ぐこと、等が挙げられる。
【0003】厚膜電極ペースト中に添加するガラス粉末
としては、ガラス軟化点の低い鉛系ガラスが従来より用
いられていたが、近年では非鉛系ガラスへ移行する傾向
にある。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】従来技術によれば、厚
膜電極ペースト中に添加するガラス粉末として、鉛系ガ
ラスが多く使用されているが、環境問題への配慮から非
鉛系ガラスへの置き換えが求められている。しかしなが
ら、従来の非鉛系ガラス、例えば硼酸バリウム亜鉛系、
硼珪酸ビスマス系ガラスを用いると、電気特性や電極密
着強度が劣化するという問題がある。
【0005】本発明の目的は、上述の問題点を解消すべ
くなされたもので、鉛系ガラスを含有せずに電極密着強
度が高く、電気特性の良い厚膜電極ペーストを提供する
ことにある。
【0006】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、本発明の厚膜電極ペーストは、セラミック電子部品
の電極形成に供される鉛フリー厚膜電極ペーストであっ
て、Agからなる導電粉末と、ガラス粉末と、ビヒクル
とを含有し、前記ガラス粉末は、酸化カルシウム,酸化
ストロンチウム,酸化バリウムから選ばれるアルカリ土
類酸化物を1種以上と、酸化ビスマスと、酸化硼素とを
含有し、それぞれをMO(MOはCaO,SrO,Ba
Oの合計)、Bi23,B23と表したとき、ガラス組
成100モル%に対して、10≦MO≦30モル%、1
0≦Bi23≦50モル%、20≦B23≦60モル%
の範囲にあることを特徴とする。
【0007】また、本発明の厚膜電極ペーストは、セラ
ミック電子部品の電極形成に供される鉛フリー厚膜電極
ペーストであって、Cuからなる導電粉末と、ガラス粉
末と、ビヒクルとを含有し、前記ガラス粉末は、酸化カ
ルシウム,酸化ストロンチウム,酸化バリウムから選ば
れるアルカリ土類酸化物を1種以上と、酸化ビスマス
と、酸化硼素とを含有し、それぞれをMO(MOはCa
O,SrO,BaOの合計)、Bi23,B23と表し
たとき、ガラス組成100モル%に対して、10≦MO
≦30モル%、10≦Bi23≦30モル%、40≦B
23≦80モル%の範囲にあることを特徴とする。
【0008】また、前記ガラス粉末の添加量は、導電粉
末100体積%に対して1〜10体積%であることを特
徴とする。
【0009】
【発明の実施の形態】本発明の「アルカリ土類酸化物−
硼酸ビスマス系ガラス」は、非鉛系ガラスの中では比較
的軟化点が低いにもかかわらず、電極焼成時に結晶化が
起こりにくいため、ガラス添加の効果、すなわち、電極
焼成時に軟化流動して導電粉末の焼結を促進させると同
時に電極の密着強度を向上させる効果が安定して発揮さ
れる。本発明は、ガラス粉末に「アルカリ土類酸化物−
硼酸ビスマス系ガラス」を用いることにより、従来の鉛
系ガラスと同等の電極密着強度、電気特性が取得でき
る。
【0010】上述したアルカリ土類酸化物としては、少
なくとも酸化カルシウム,酸化ストロンチウム,酸化バ
リウムから選ばれる1種を適宜用いることができるが、
ガラス製造上の扱いやすさや環境への負荷を考慮する
と、酸化カルシウムまたは酸化ストロンチウムを用いる
ことがより好ましい。
【0011】また、ガラスの組成については、軟化点の
調整や耐めっき性の向上等の目的で、ガラス組成100
モル%に対して、例えば酸化珪素を10モル%以内の範
囲で少量加えることができる。
【0012】また、厚膜電極ペースト中へのガラスの添
加量は、導電粉末100体積%に対して1〜10体積%
であることが好ましい。添加量が1体積%未満ではガラ
ス添加効果が小さく、添加量が10体積%を超えるとガ
ラスが電極表面に偏析して、はんだ濡れ不良やめっき付
き不良を生じることがある。
【0013】
【実施例】まず、表1〜6に示すそれぞれの組成となる
ように、出発原料であるアルカリ土類元素の水酸化物、
Bi23、H3BO3を調合し、アルミナ製のるつぼに入
れて1000〜1200℃に1時間保持した。次に、試
料が完全に溶融したことを確認し、炉から取り出して純
水中に投入してガラス化させた。得られたビーズ状のガ
ラスをボールミルで湿式粉砕して、試料1〜42のガラ
ス粉末を得た。同様に、鉛系、硼酸バリウム亜鉛系、硼
珪酸ビスマス系ガラスとなるように出発原料を調合し、
溶融後にガラス化させて、それぞれ試料43〜45のガ
ラス粉末を得た。
【0014】次に、導電粉末25体積%と、試料1〜4
5のガラス粉末5体積%と、ビヒクル70体積%とを混
合し、3本ロールミルで混練して、試料1〜45の厚膜
電極ペーストを得た。なお、導電粉末としては、粒径
0.5〜2μmのAg粉末またはCu粉末を用いた。ま
た、ビヒクルとしては、ターピネオールにエチルセルロ
ースを20wt%の割合で溶解させたものを用いた。
【0015】静電容量、誘電体損失ならびに電極密着強
度の測定には、図1に示すようなセラミックコンデンサ
を試料として用いた。セラミックコンデンサ1は、誘電
体セラミック素子2と、厚膜電極3,3と、リード線
4,4と、はんだ5,5とからなる。
【0016】まず、目標とする静電容量が1nFとなる
ような誘電体セラミック素子2の両主面に試料1〜45
の厚膜電極ペーストを3.5mmφのパターンでスクリ
ーン印刷し、空気中600℃で30分間焼成して、試料
1〜45の厚膜電極3,3を形成した。次に、試料1〜
45の厚膜電極3,3にリード線4,4をはんだ付けし
て、試料1〜45のセラミックコンデンサ1を得た。
【0017】そこで、試料1〜45のセラミックコンデ
ンサ1の静電容量と誘電体損失を測定した。また、リー
ド線4,4の両端をロードセルで引っ張り、厚膜電極
3,3を誘電体セラミック素子2から引き剥がすのに必
要な力(電極密着強度)を測定した。従来比増減につい
ては、試料43に対する増加率を求め、値が増加してい
るものを+とし、これらの測定結果を表1〜7にまとめ
た。なお評価は、鉛O系ガラスを用いた試料43の測定
結果と比較して劣化の割合が|3%|以内のもの、すな
わち誘電体損失については増加率+3%以内、電極密着
強度については増加率−3%以内のものを合格とし、○
印で表した。本発明の範囲外であった試料については、
評価を不合格とし、×印で表した。
【0018】
【表1】
【0019】
【表2】
【0020】
【表3】
【0021】
【表4】
【0022】
【表5】
【0023】
【表6】
【0024】
【表7】
【0025】まず、表7に示した従来の厚膜電極ペース
ト、すなわちガラス粉末として鉛系ガラスを用いた試料
43、硼酸バリウム亜鉛系ガラスを用いた試料44、硼
珪酸ビスマス系ガラスを用いた試料45の測定結果から
明らかであるように、従来技術の基準とした試料43に
対して、試料44は静電容量が目的とする1nFに達せ
ず大幅に小さく劣り、電極密着強度の従来比増減も−3
2.91%で大幅に劣った。また試料44も、誘電体損
失が0.80%と大きく、従来比増減は86.05%で
大幅に劣った。
【0026】本発明の実施例である表1〜3、すなわち
導電粉末としてAgを用いた試料1〜21のうち、酸化
カルシウム,酸化ストロンチウム,酸化バリウムからな
るアルカリ土類酸化物が10〜50モル%、酸化ビスマ
スがBi23換算で10〜50モル%、酸化硼素がB2
3換算で20〜80モル%からなる試料2〜6,9〜
13,16〜20は、静電容量は1.05〜1.10、
誘電体損失は0.38〜0.44%、電極密着強度は
7.9〜10.5で何れも優れ、試料43と比較した従
来比増減値は、誘電体損失については2.33〜−1
1.63%で減少する傾向にあり、電極密着強度につい
ては0.00〜32.91%で増加する傾向が見られ
た。表1〜3の試料についての3元組成図を図2に示
す。
【0027】さらに本発明の実施例である表4〜6、す
なわち導電粉末としてCuを用いた試料22〜42のう
ち、酸化カルシウム,酸化ストロンチウム,酸化バリウ
ムからなるアルカリ土類酸化物が10〜30モル%、酸
化ビスマスがBi23換算で10〜30モル%、酸化硼
素がB23換算で40〜80モル%からなる試料25〜
27,32〜34,39〜41は、静電容量は1.08
〜1.11、誘電体損失は0.39〜0.44%、電極
密着強度は8.2〜9.1で何れも優れ、試料43と比
較した従来比増減値は、誘電体損失については0.00
〜−11.63%で減少する傾向にあり、電極密着強度
については0.00〜15.19%で増加する傾向が見
られた。表4〜6の試料についての3元組成図を図3に
示す。
【0028】これに対して、試料1,7,8,14,1
5,21〜24,29〜31,36〜38は、誘電体損
失あるいは電極密着強度の従来比増減において|3%|
以上の劣化が見られたため、本発明の範囲外となった。
【0029】なお、本発明の実施例は、Ca,Sr,B
aから選ばれる1種のアルカリ土類酸化物と、酸化ビス
マスと、酸化硼素とからなる3元系ガラス粉末を用いた
が、上記アルカリ土類金属を1種ずつ添加した添加した
実施例1〜42は、アルカリ土類金属の添加量がいずれ
も10〜30モル%の範囲内であることから、アルカリ
土類金属がCa,Sr,Baから選ばれる1種以上から
なる3元系ないし5元系ガラス粉末を選択しても構わな
い。
【0030】
【発明の効果】以上のように本発明の厚膜電極ペースト
によれば、Agからなる導電粉末と、ガラス粉末と、ビ
ヒクルとを含有し、前記ガラス粉末は、酸化カルシウ
ム,酸化ストロンチウム,酸化バリウムから選ばれるア
ルカリ土類酸化物を1種以上と、酸化ビスマスと、酸化
硼素とを含有し、それぞれをMO(MOはCaO,Sr
O,BaOの合計)、Bi23,B23と表したとき、
ガラス組成100モル%に対して、10≦MO≦30モ
ル%、10≦Bi23≦50モル%、20≦B23≦6
0モル%の範囲にあることを特徴とすることで、従来の
鉛系ガラスと同等あるいはそれ以上の電極密着強度、電
気特性が取得できる。
【0031】また、Cuからなる導電粉末と、ガラス粉
末と、ビヒクルとを含有し、前記ガラス粉末は、酸化カ
ルシウム,酸化ストロンチウム,酸化バリウムから選ば
れるアルカリ土類酸化物を1種以上と、酸化ビスマス
と、酸化硼素とを含有し、それぞれをMO(MOはCa
O,SrO,BaOの合計)、Bi23,B23と表し
たとき、ガラス組成100モル%に対して、10≦MO
≦30モル%、10≦Bi23≦30モル%、40≦B
23≦80モル%の範囲にあることを特徴とすること
で、従来の鉛系ガラスと同等あるいはそれ以上の電極密
着強度、電気特性が取得できる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明に係る一つの実施の形態のセラミック電
子部品の断面図である。
【図2】本発明の請求項1に係る厚膜電極ペーストの3
元組成図である。
【図3】本発明の請求項2に係る厚膜電極ペーストの3
元組成図である。

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 セラミック電子部品の電極形成に供され
    る鉛フリー厚膜電極ペーストであって、 Agからなる導電粉末と、ガラス粉末と、ビヒクルとを
    含有し、 前記ガラス粉末は、酸化カルシウム,酸化ストロンチウ
    ム,酸化バリウムから選ばれるアルカリ土類酸化物を1
    種以上と、酸化ビスマスと、酸化硼素とを含有し、それ
    ぞれをMO(MOはCaO,SrO,BaOの合計)、
    Bi23,B23と表したとき、ガラス組成100モル
    %に対して、 10≦MO≦30モル% 10≦Bi23≦50モル% 20≦B23≦60モル% の範囲にあることを特徴とする厚膜電極ペースト。
  2. 【請求項2】 セラミック電子部品の電極形成に供され
    る鉛フリー厚膜電極ペーストであって、 Cuからなる導電粉末と、ガラス粉末と、ビヒクルとを
    含有し、 前記ガラス粉末は、酸化カルシウム,酸化ストロンチウ
    ム,酸化バリウムから選ばれるアルカリ土類酸化物を1
    種以上と、酸化ビスマスと、酸化硼素とを含有し、それ
    ぞれをMO(MOはCaO,SrO,BaOの合計)、
    Bi23,B23と表したとき、ガラス組成100モル
    %に対して、 10≦MO≦30モル% 10≦Bi23≦30モル% 40≦B23≦80モル% の範囲にあることを特徴とする厚膜電極ペースト。
  3. 【請求項3】 前記ガラス粉末の添加量は、導電粉末1
    00体積%に対して1〜10体積%であることを特徴と
    する請求項1または請求項2に記載の厚膜電極ペース
    ト。
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Cited By (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
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WO2010026952A1 (ja) * 2008-09-04 2010-03-11 日本電気硝子株式会社 電極形成用ガラス組成物および電極形成材料
JP2010083748A (ja) * 2008-09-04 2010-04-15 Nippon Electric Glass Co Ltd 電極形成用ガラス組成物および電極形成材料
JP2011204760A (ja) * 2010-03-24 2011-10-13 Mitsubishi Materials Corp 導電性組成物及びそれを用いた太陽電池の製造方法並びに太陽電池
JP2011204759A (ja) * 2010-03-24 2011-10-13 Mitsubishi Materials Corp 導電性組成物及びそれを用いた太陽電池の製造方法並びに太陽電池
JP2016190303A (ja) * 2015-03-31 2016-11-10 日本タングステン株式会社 放電加工用電極およびその製造方法
CN106328251A (zh) * 2016-08-18 2017-01-11 陆川县华鑫电子厂 一种厚膜电阻浆料及其制备方法

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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
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JP2010083748A (ja) * 2008-09-04 2010-04-15 Nippon Electric Glass Co Ltd 電極形成用ガラス組成物および電極形成材料
JP2011204760A (ja) * 2010-03-24 2011-10-13 Mitsubishi Materials Corp 導電性組成物及びそれを用いた太陽電池の製造方法並びに太陽電池
JP2011204759A (ja) * 2010-03-24 2011-10-13 Mitsubishi Materials Corp 導電性組成物及びそれを用いた太陽電池の製造方法並びに太陽電池
JP2016190303A (ja) * 2015-03-31 2016-11-10 日本タングステン株式会社 放電加工用電極およびその製造方法
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