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JP2001108971A - 光学素子および該光学素子を用いた表示装置 - Google Patents

光学素子および該光学素子を用いた表示装置

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JP2001108971A
JP2001108971A JP28495999A JP28495999A JP2001108971A JP 2001108971 A JP2001108971 A JP 2001108971A JP 28495999 A JP28495999 A JP 28495999A JP 28495999 A JP28495999 A JP 28495999A JP 2001108971 A JP2001108971 A JP 2001108971A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
light
electrode
optical element
layer
control layer
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP28495999A
Other languages
English (en)
Inventor
Munekazu Date
宗和 伊達
Atsushi Nakahira
篤 中平
Hidenao Tanaka
秀尚 田中
Kazutake Kamihira
員丈 上平
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
NTT Inc
Original Assignee
Nippon Telegraph and Telephone Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Nippon Telegraph and Telephone Corp filed Critical Nippon Telegraph and Telephone Corp
Priority to JP28495999A priority Critical patent/JP2001108971A/ja
Publication of JP2001108971A publication Critical patent/JP2001108971A/ja
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 光制御層における光の散乱および回折時に出
射方向とは反対に向かう光の利用効率を高め、より高品
位な画像表示を可能とした光学素子および該光学素子を
用いた表示装置を提供する。 【解決手段】 端面から光を入射して導光させる透光性
の導光板と、該導光板の下面に設けられる透光性の第1
の電極と、該透光性の第1の電極の下面に設けられる光
制御層と、該光制御層の下面に設けられる光吸収層と、
該光吸収層の下面に設けられる第2の電極と、該第2の
電極の下面に設けられる基板とを少なくとも有してなる
光学素子において、光制御層を第1の電極と第2の電極
とに電圧を印加することにより生じる電界によって入射
光の特性を変化させる材料から構成し、光吸収層を第1
の電極と第2の電極とに電圧を印加することにより生じ
る電界によって吸収率を変化させる材料から構成する。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、入射した光の取り
出しを電気的に制御する光学素子、特に散乱または回折
時に光吸収層における光の吸収を改善し、光の利用効率
を高めた光学素子に関する。また、本発明はそのような
光学素子を用いた表示装置に関する。
【0002】
【従来の技術】近年、画像情報の表示手段となるフラッ
トパネルディスプレイの研究および開発において、設置
および運搬が容易である大面積表示装置に対する需要が
高まっている。従来の表示装置として、例えば導光板中
に光の取り出しを電気的に制御する光学素子を用いた表
示装置が知られている。その一例として、導光板と強誘
電性液晶からなる光制御層とを有する光学素子を用い、
この強誘電性液晶にゴールドストーンモードの緩和周波
数近傍の交流電界を印加することにより当該液晶層に散
乱性を表示させる液晶装置(特開平6−30543号公
報)と、導光板と高分子液晶からなる光制御層とを有す
る光学素子を用いた表示装置(特開平6−347790
号公報)とが提案されている。
【0003】特開平6−30543号公報に開示された
液晶装置では、液晶層に該液晶のゴールドストーンモー
ドの緩和周波数近傍の交流電界を印加したときに現れる
ディスクリネーションラインによる光の散乱によって、
導光板の上面からの出射光を調節して画像を表示するこ
とができる。しかし、該発明ではTN液晶などと異なり
交流駆動による電界の印加が必須となる。そのため、単
純マトリクス駆動、TFT駆動のようなアクティブマト
リクス駆動が困難となり、ビットマップ表示が行えない
という欠点があった。また、散乱の指向性を制御できな
いために表示方向(一般に表示面の法線方向)の光強度
を高めることができない。さらに、大面積化における作
製の容易性、信号遅延などについて一切記載されていな
い。
【0004】また、特開平6−347790号公報に開
示された表示装置は、表示部内を導光させ、表示部の散
乱・透過状態を制御させて表示するものであり、表示部
には相転移型液晶(これに関する具体的な記述はない)
または一般的なポリマー分散型液晶を用いている。ここ
で、一般的なポリマー分散型液晶は、電界を印加しない
時に散乱状態となり、電界を印加した時に透過状態とな
る。ところで、一般的な高分子分散型液晶はその散乱状
態において指向性がないために、表示方向の光強度を高
めることができない。また、その透過状態において、正
面方向から見た際には高透過率であるが、表示面に対し
て浅い角度から見た際には散乱性が高くなる。同様に側
面から見た際にはコントラストが低下し、その結果、散
乱・透過状態が反転することがある。さらにマトリクス
駆動を行った際には、電極の間隔が常時散乱性を示すた
めに黒色の表示が困難となり、表示画面は極めてコント
ラストが低い画像となってしまう。この公報にも、大面
積化における作製の容易性、信号遅延、などについては
一切記載されていない。
【0005】さらに、米国特許第4626074号公報
では、液晶層による光散乱を用いた表示画面が開示され
ている。しかし、この場合、回折を用いないために出射
方向の制御ができない。また、該発明にもとづく表示装
置は背面に空隙が必要であり、大面積化における分割駆
動、作製の容易性、信号遅延、などの問題が解決されて
おらず、大面積化が困難となっている。
【0006】上述した従来型の表示装置に関する技術の
いずれも、散乱・透過により表示を制御しているため、
表示装置を見る人がいる側の照明によって表示画面が照
らされることになる。その結果、散乱光が表示画像と重
なってしまい、光源の色だけでなく周囲の照明光が表示
画像に影響を及ぼし、表示画像を劣化させると共に、カ
ラー表示を困難とする。
【0007】さらに、特開平第6−258640号公報
(米国特許第5452385号)では、回折を利用して
導光板中を伝搬する光を取り出し、液晶でシャッターす
る表示装置が開示されている。しかし、該発明にもとづ
く表示装置は、その回折格子が常に回折状態となるため
に回折効率を変化させることができない。そのため、常
に導光板から光が漏れた状態となり、光利用効率が低下
するという問題点があった。
【0008】このように、上述した従来型の光表示素子
および光表示装置には、コントラストの低下、表示画面
の劣化、光利用効率の低下および大画面における分割駆
動、作製の容易性、信号遅延などの解決すべき課題があ
る。そこで、本発明者はすでに特願平第11−2128
93号において、出射光強度の増大、表示コントラスト
の向上、外部光による散乱光の減少などの表示特性の向
上を可能とし、大画面化を容易にする光学素子および該
光学素子を用いた表示装置を開示している。その中で、
光取り出し方向(出射側)から入射する光を(表示装置
を見る視線方向から入射する光)が取り出し方向へ戻る
ことを防ぐために光吸収層を設けた表示装置および該表
示装置を用いた表示装置がある。このような光吸収層を
設けた光学素子について以下に説明する。
【0009】図6(a)および図6(b)は、特願平第
11−212893号に開示された平行反射面型の光学
素子の一実施例を模式的に示す側面断面図であり、図6
(a)は光制御層となる薄膜(リバースモード高分子分
散液晶)が透過状態にある場合、図6(b)は光制御層
となる薄膜(リバースモード高分子分散液晶)が散乱状
態にある場合を示す。すなわち、本例の光学素子は、図
6(a)および図6(b)に示すようには光制御層(薄
膜)160と、該光制御層160の上面に設けられた透
明電極161と、前記光制御層160の下面に反射膜1
62と該反射膜162の下面に設けられた光吸収膜16
6とを介して設けられた電極163と、前記透明電極1
61の上面に設けた導光板164と、前記電極163の
下面に設けられた基板165とを有する積層構造からな
る。
【0010】このような光学素子は、電界を印加しない
ときには、光制御層(リバースモード高分子分散液晶)
160は透過状態であるため、図6(a)に示したよう
に、入射光167は透明電極161をつけた導光板16
4と薄膜160の導光領域内で反射を繰り返し外へは出
ず、素子は非発光状態となる。また、電界を印加する
と、光制御層(リバースモード高分子分散液晶)は散乱
状態となるので、図6(b)に示したように、導波して
きた光が散乱する。散乱された光は進行方向が変わるの
で、導波モードから外れ外部に出射され、素子は発光状
態となる。すなわち、電界によって光をon/offで
きるライトバルブが実現できる。なお、この場合の出射
光は散乱光であるので視野角が広くなるという利点が得
られる。
【0011】また、前記反射膜162として、導光板1
64より屈折率の低い低屈折率膜を用いても良い。この
場合、低屈折率膜は導波する光を全反射し、使用者の視
線168に対しては透過的に振るまうので、外部からみ
た場合、黒色表示時は光吸収膜166の色しか見えず、
高コントラスト表示が実現できる。また、視線168側
からみたときの反射を低減することができる。すなわ
ち、上記の構成によれば、光制御層において、散乱、回
折された光のうち、出射方向(光吸収層と反対側)に向
かう成分については有効に利用される。
【0012】
【発明が解決しようとする課題】しかし、従来技術の光
学素子では、光制御層で散乱または回折された光のう
ち、光吸収層と反対側に向かう成分については有効に利
用されたが、光吸収層に向かう成分については有効利用
されないという解決すべき課題があった。したがって、
本発明の課題は、光吸収層に向かう光を有効に利用し、
より高品位な画像表示を可能とした光学素子および該光
学素子を用いた表示装置を提供することである。
【0013】
【課題を解決するための手段】上述した課題を解決する
ための請求項1に記載の光学素子は、端面から光を入射
して導光させる透光性の導光板と、該導光板の下面に設
けられる透光性の第1の電極と、該透光性の第1の電極
の下面に設けられる光制御層と、該光制御層の下面に設
けられる光吸収層と、該光吸収層の下面に設けられる第
2の電極とを少なくとも有してなり、上記光制御層は、
上記第1の電極と上記第2の電極との間に電圧を印加す
ることにより生じる電界によって入射光の特性を変化さ
せる材料からなり、上記光吸収層は、上記第1の電極と
上記第2の電極との間に電圧を印加することにより生じ
る電界によって吸収率を変化させる材料からなることを
特徴とする。
【0014】ここで、上述した光学素子は、上記光吸収
層に二色性色素を含有することが好ましい。
【0015】また、上記光制御層と上記光吸収層との間
に反射層を設けることが好ましい。
【0016】さらに、上記光吸収層の下方に散乱面を設
けるか、または反射面を設けることが好ましい。なお、
上記第2の電極で反射面を兼ねてもよい。
【0017】また、請求項7に記載の光学素子は、端面
から光を入射して導光させる透光性の導光板と、該導光
板の下面に設けられる光制御層と、該光制御層の下面に
設けられる光吸収層と、該光吸収層の下面に設けられる
少なくとも一対の第1の電極および第2の電極とを少な
くとも有してなり、上記光制御層は、上記少なくとも一
対の第1の電極および上記第2の電極との間に電圧を印
加することにより生じる電界によって入射光の特性を変
化させる材料からなり、上記光吸収層は、上記第1の電
極と上記第2の電極とに電圧を印加することにより生じ
る電界によって吸収率を変化させる材料からなることを
特徴とする。
【0018】ここで、上述した光学素子は、上記光吸収
層に二色性色素を含有することが好ましい。
【0019】また、上記光制御層と上記光吸収層との間
に反射層を設けることが好ましい。
【0020】さらに、上記光吸収層の下方に散乱面を設
けるか、または反射面を設けることが好ましい。
【0021】さらに、上記課題を解決するために、請求
項12に記載の表示装置は、上述した光学素子のいずれ
かを備えることを特徴とする。
【0022】なお、本明細書中に使用する「入射光の特
性を変化させる」という表現は、光制御層を狭持する電
極に印加された電圧により発生する電界によって光制御
層の散乱度、回折効率、屈折率、複屈折率または透過率
を変化することにより入射光を透過状態、散乱状態また
は回折状態のいずれかにすることを意味する。
【0023】
【発明の実施の形態】本発明の光学素子および表示装置
は、特願平第11−212893号に開示された光学素
子および表示装置の改良発明である。すなわち、本発明
の光学素子および表示装置は、入射光が散乱して出射す
る際に、その一部が光吸収層に吸収されることを改善す
るために、光吸収層に電界により吸収率が変化する材料
を使用して光の利用効率を高めることを除き、特願平第
11−212893号に記載の内容を適用することがで
きる。
【0024】以下、本発明の光学素子および表示装置を
図面を参照しながら実施例により説明するが、本発明は
それらに限定されるものでない。また、実施例を説明す
るための全図において、同一機能を有するものには同一
符号を付け、その繰り返しの説明は省略する。
【0025】(実施例1)図1は本実施例の光学素子の
一例を示す側面断面図である。本実施例の光学素子は、
導光板1と、該導光板1の下面に設けられた透光性の第
1の電極2と、該透光性の第1の電極2の下面に設けら
れた光制御層3と、該光制御層3の下面に設けられた光
吸収層4と、該光吸収層4の下面に設けられた透光性の
第2の電極5aおよび5bと、該透光性の第2の電極5
aおよび5bの下面に設けられた透光性の基板6と、該
基板6の下面に金属を蒸着することに形成された反射面
7とから構成される。なお、基板6の下面は金属からな
る反射面に限らず、例えば白色の板を用いて反射面7を
形成してもよい。また、反射面7は基板の下面に限ら
ず、基板の上面に設けてもよい。
【0026】以下、本実施例の光学素子の作製方法に説
明する。先ず、紫外線硬化樹脂NOA−65(Norland
Products, Inc(米国)製)とネマティック液晶E−7
(メルクジャパン(株)製)との混合物に、二色性色素
と微小球からなるスペーサとを添加して二色性色素をド
ープした高分子分散液晶を調製する。透光性の第2の電
極5aおよび5bが予め形成された基板6上に、先に調
製した高分子分散液晶を塗布し、その表面を透光性のフ
ィルムで被い、さらに紫外線を露光することにより光吸
収層4を形成する。また、基板6の電極が設けられてい
ない他面にアルミを蒸着して反射面7を形成する。な
お、二色性色素とは、分子の長軸方向と単軸方向によっ
て光の吸収特性が異なる色素をいう。かかる二色性色素
を光吸収層に使用して色素分子の配向方向を制御するこ
とにより、光に対する吸収率をより低い電圧で効率良く
変化させることができる。
【0027】次に、透光性のフィルムを剥離した後、光
吸収層4の上面に液晶性紫外線硬化樹脂とネマティック
液晶との混合物にスペーサを添加したものを塗布し、そ
の上から透光性の第1の電極2を設ける。なお、液晶性
紫外線硬化樹脂として、大日本インキ化学工業(株)か
ら市販されているUVキュアラブル液晶(商品名)UC
L−001またはUCL−002を使用する。さらに第
1の電極2の上に配向処理を施した導光板1を設け、次
いで紫外線を照射し、リバースモード高分子分散液晶か
らなる光制御層3を形成することにより本発明の光学素
子が得られる。
【0028】得られた光学素子の動作について以下に説
明する。電界を印加しないときはリバースモード高分子
分散液晶が透明状態となるため、入射光は導光板1の上
面と基板の下面に設けられた反射面7との間の導光領域
内で反射を繰り返す。そのため、光学素子は非発光状態
となり、黒色を呈する。
【0029】一方、電界が印加されるとリバースモード
高分子分散液晶は散乱状態となり、入射光(図中、矢印
で示す)は出射され光学素子は発光状態となる。すなわ
ち、図1に示すように、電圧を印加していない第2の電
極5aに対応する部分の光制御層3は透過状態となり、
入射光は導光を繰り返すが、電圧を印加した第2の電極
5bに対応する部分の光制御層3は散乱状態となり、入
射光は出射する。
【0030】ところで、電極に電圧を印加して電界を発
生させると、近傍の光吸収層4にも電界が印加されるこ
とになる。本発明の光学素子は、電界により吸収率が変
化する材料を用いて光吸収層4を構成するため、光吸収
層4に電界が印加されることにより吸収率が変化する。
すなわち、電界が印加されないときは散乱状態となり、
電界が印加されると透過状態となる通常の高分子分散液
晶を使用して光吸収層を構成すると、図1に示すように
電圧を加えていない透光性の第2の電極5aに対応する
部分の光吸収層4は散乱状態となる。一方、電圧を加え
た第2の電極5bに対応する部分の光吸収層4は透明に
なる。
【0031】そのことにより、光制御層3における光の
散乱または回折時に光の一部が透明な光吸収層4および
透光性の第2の電極5bを通り抜けるが、通り抜けた光
は基板6の上面または下面に設けられた反射面7で反射
され光制御層3側へと戻るため、出射効率を向上するこ
とが可能となる。すなわち、本実施例のように光学素子
を構成して光を出射する箇所に対応する光吸収層4を透
明にすることにより、光を有効利用することが可能とな
る。その際、側方に散乱された光はそのまま導光される
ので、効率の良い出射が実現できる。また、反射面7で
反射された光が、再度散乱される多重散乱も起こるが、
その散乱光も光吸収層4で吸収することがないため出射
効率を高めることが可能となる。
【0032】なお、光吸収層4の下方に通常の物質で界
面を構成しても、ある程度は光制御層3側に光が戻るの
で、出射効率は向上するが、本実施例に例示したように
アルミなどの金属によって基板の下面を覆い反射面7を
設けるか、または光を吸収しない散乱体からなる散乱面
を設けるかすることにより、よりいっそう出射効率を高
めることができる。また、入射光の導光を良好に行わせ
るために光制御層3と光吸収層4との間に反射層を設け
てもよい。反射層は、低屈折率膜または誘電体多層膜な
どから構成することが適当である。
【0033】(実施例2)図2は本実施例の光学素子の
一例を示す側面断面図である。本実施例の光学素子は、
基板6の下面に反射面7を設ける代りに第2の電極を鏡
面反射可能なアルミ電極5’aおよび5’bとして反射
面をも兼ねること、光制御層3と光吸収層4との間に反
射層8として低屈折率膜を設けることを除いて実施例1
と同様に構成される。なお、光吸収層の表面に各電極を
直接形成し、電極に直接配線することにより基板を省略
することも可能である。
【0034】以下、本実施例の光学素子の作製方法につ
いて説明する。先ず、実施例1と同様に高分子分散液晶
を調製し、予めアルミ電極5’aおよび5’bが形成さ
れた基板6上に先に調製した高分子分散液晶を塗布す
る。その表面を透光性のフィルムで被い、さらに紫外線
を露光することにより光吸収層4を形成する。
【0035】次に、透光性のフィルムを剥離した後、光
吸収層4の上面にサイトップのような低屈折率膜をスピ
ンコートすることにより反射層8を形成する。反射層8
の表面をラビングなどによって配向処理した後、液晶性
紫外線硬化樹脂とネマティック液晶との混合物にスペー
サを添加したものを塗布し、その上から透光性の第1の
電極2を設ける。なお、液晶性紫外線硬化樹脂として、
大日本インキ化学工業(株)から市販されているUVキ
ュアラブル液晶(商品名)UCL−001またはUCL
−002を使用する。さらに第1の電極2の上に配向処
理を施した導光板1を設け、次いで紫外線を照射し、リ
バースモード高分子分散液晶からなる光制御層3を形成
することにより本発明の光学素子が得られる。
【0036】得られた光学素子の動作について以下に説
明する。図2に示すように、電圧を印加していない第2
の電極5’aの領域では、リバースモード高分子分散液
晶からなる光制御層3は透過状態となり、入射光(図
中、矢印で示す)は導光板1の上面と低屈折率層8との
間の導光領域内で反射を繰り返す。そのため光学素子は
非発光状態となり、黒色を呈する。また、リバースモー
ド高分子分散液晶からなる光制御層3に、第2の電極
5’bに電圧を印加して電界を発生させると、電界が印
加された領域は散乱状態となり、入射光は出射する。
【0037】一方、吸収率が変化する材料から構成され
る光吸収層4は、図2に示すように、電圧を印加してい
ない第2の電極5’aの領域では散乱状態となり、電圧
を印加して電界を発生させた第2の電極5’bの領域は
透過状態となる。
【0038】そのため、光制御層3における光の散乱ま
たは回折時に光の一部は、低屈折率膜からなる反射層8
および透明な光吸収層4を透過するが、透過した光は反
射面をも兼ねる第2の電極(アルミ電極)5’bの表面
で反射され光制御層3側へと戻るため、出射効率を向上
することが可能となる。さらに、電極を通り抜けた光は
基板の下面で反射され光制御層側へ戻るので出射効率が
向上できる。
【0039】(実施例3)図3は本発明の光学素子の一
例を示す側面断面図である。本実施例の光学素子は、導
光板1と、該導光板1の下面に設けられた光制御層3
と、該光制御層3の下面に設けられた誘電体多層膜から
なる反射層8と、該反射層8の下面に設けられた電界を
形成するように対になった第1の電極9a,9bおよび
第2の電極10a,10bと、該第1の電極9a,9b
および第2の電極10a,10bの下面に設けられた基
板6とから構成される。図3に示したように第1の電極
9a,9bと第2の電極10a,10bとは基板6の同
一平面上に交互に配置されている。それぞれの電極に電
圧を印加することにより電極間に平行な電界が生じる。
第1の電極および第2の電極は、透光性のものであって
も鏡面反射するものであってもよい。また、電極が鏡面
反射するものである場合、光吸収層の表面に各電極を直
接形成し、電極に直接配線することにより基板を省略す
ることも可能である。
【0040】なお、第1の電極および第2の電極をそれ
ぞれ複数の枝部を有するように形成し、さらに各々の複
数の枝部が互いに交互になるように配置することも可能
である。このような複数の枝部を有する電極の詳細につ
いては、本発明者による特願平第11−212893号
を参照されたい。
【0041】以下に本実施例の光学素子の作製方法につ
いて説明する。先ず、実施例1と同様に高分子分散液晶
を調製し、第1の電極9a,9bと第2の電極10a,
10bとが予め形成された基板6上に先に調製した高分
子分散液晶を塗布する。その表面を透光性のフィルムで
被い、さらに紫外線を露光することにより光吸収層を形
成する。
【0042】次に、透光性のフィルムを剥離した後、光
吸収層4の上面に誘電体多層膜を設けることにより反射
層8を形成する。反射層8の表面をラビングなどによっ
て配向処理した後、液晶性紫外線硬化樹脂とネマティッ
ク液晶との混合物にスペーサを添加したものを塗布し、
その上から配向処理を施した導光板1を設ける。なお、
液晶性紫外線硬化樹脂として、大日本インキ化学工業
(株)から市販されているUVキュアラブル液晶(商品
名)UCL−001またはUCL−002を使用する。
次いで紫外線を照射し、リバースモード高分子分散液晶
からなる光制御層3を形成することにより本発明の光学
素子が得られる。
【0043】得られた光学素子の動作について以下に説
明する。図3に示すように、電圧を印加していない第1
の電極9aと第2の電極10aとの領域では、リバース
モード高分子分散液晶からなる光制御層3は透過状態と
なる。そのため入射光(図中、矢印で示す)は導光板1
の上面と反射層8との間の導光領域内で反射を繰り返
す。また、リバースモード高分子分散液晶からなる光制
御層3に、第1の電極9bと10bとの間に電圧を印加
して電界を発生させると、電界が印加された領域は散乱
状態となり、入射光は出射する。
【0044】一方、前述の実施例と同様に電界により吸
収率が変化する材料から構成される光吸収層4は、図3
に示すように、電圧を印加していない第1の電極9aと
第2の電極10aとの領域では散乱状態となり、電圧を
印加して電界を発生させた第1の電極9bと第2の電極
10bとの間の領域では透過状態となる。そのため、光
制御層3における光の散乱または回折時に入射光の一部
は誘電体多層膜からなる反射層8および透明な光吸収層
4を透過するが、透過した光が基板6の界面上で反射さ
れ光制御層3側へと戻るため、出射効率を向上すること
が可能となる。その際、出射効率をより高めるため、光
吸収層4の下方に反射面または散乱面を設けることが好
ましい。
【0045】(実施例4)図4は本発明の光学素子の一
例を示す側面断面図である。本実施例の光学素子は、同
一平面上に設けられた第1の電極9a,9bおよび第2
の電極10a,10bと、基板6との間に散乱面11を
設けることを除き、実施例3と同様にして構成される。
すなわち、基板6の上面に水などで溶いた硫酸バリウム
を塗布して乾燥させることにより散乱面11を設け、次
いで第1の電極9a,9bおよび第2に電極10a,1
0bを設けたものに実施例1と同様にして調製された高
分子分散液晶を塗布することを除き、実施例3の光学素
子と同様にして作製される。なお、散乱面11は基板6
の上面に限らず、基板の下面に設けても同様な効果が得
られる。また、散乱面11の代りに反射面を設けてもよ
い。
【0046】本実施例の光学素子は光吸収層4の下方に
散乱面11を設けているため、光吸収層4を通り抜けた
光を効率良く光制御層3側に戻すことが可能となり、実
施例3と比較して光の利用効率をよりいっそう高めた光
学素子を実現することが可能となる。
【0047】上述の実施例1から4では、光吸収層とし
て電界により吸収率が変化する、二色性色素を添加した
液晶を用い、さらに光制御層としてリバースモード高分
子分散液晶を用いた場合を例にして説明した。しかし、
光学素子の構成および使用する材料に関して、その要旨
を逸脱しない範囲において種々変更可能なことは当業者
には容易に理解できる。
【0048】本発明の別の態様として、例えば、光吸収
層として二色性色素を添加した液晶を用いる代りに、酸
化タングステン系などのエレクトロクロミック材料、希
土類金属ジフタロシアニン系、酸化ニッケル系、酸化ク
ロム系、プルシアンブルーなどのエレクトロクロミック
材料を用いても同様の効果が得られる。光吸収層は、紫
外線硬化樹脂中に上述のエレクトロクロミック材料を分
散させたものをスピンコートなどで基板に塗布し、紫外
線を照射して硬化させることにより形成することが可能
である。また、当業者に公知である慣用の方法にしたが
ってエレクトロクロミック材料のみで光吸収層を形成し
てもよい。なお、光吸収層にエレクトロクロミック材料
を使用することを除き、上述の各実施例と同様にして光
学素子を作製することが可能である。
【0049】また、散乱または回折光に偏光依存性があ
る場合には、偏光板に挟まれたTN(ねじれネマティッ
ク)液晶のような一偏光成分に関してのみ吸収率が変化
する材料を用い、吸収率が変化する偏光方向と散乱また
は回折光の偏光方向を一致させる方向に配置してもよ
い。
【0050】本発明のさらに別の態様として、光制御層
にリバースモード高分子分散液晶をと使用する代りに、
例えば、ホログラフィック高分子分散液晶、ノーマルモ
ード(無電界で散乱状態)の高分子分散液晶といった高
分子分散液晶を使用してもよい。また、液晶の欠陥によ
る散乱状態、動的散乱モード、ウィリアムズドメインな
どを使用してもよい。但し、ノーマルモードの高分子分
散液晶を用いて光制御層を構成すると、光制御層は電界
を印加したときに透過状態となり、電界を印加しないと
きには散乱状態となる。したがって、光制御層に通常モ
ードの高分子分散液晶を使用する場合、光の利用効率を
高めるために、電界を印加したときに散乱状態となり、
電界を印加しないときは透過状態となるリバースモード
高分子分散液晶を使用して光吸収層を構成することが望
ましい。
【0051】以上、本発明の光学素子について実施例に
より説明した。続いて、本発明の光学素子を用いて構成
する本発明の表示装置の一例を以下の実施例で説明す
る。
【0052】(実施例5)図5は本発明の光学素子を用
いた表示装置の概略を示す側面断面図である。本実施例
5に示す表示装置は、光学素子と、該光学素子へ光を送
る照明手段と、光学素子を駆動するための電源(不図
示)とを有する。
【0053】表示装置に適用される光学素子は、実施例
2に記載の光学素子と同じように構成されるため、ここ
では説明を省略する。照明手段は、導光板1の端面から
光を入射するためのもので、光源12と該光源12から
の光を上記端面に集光させるレンズ13とを有する。な
お、導光板1の全ての端面のうち、光源12から光が入
射し、レンズ13により集光した光が入る部分以外の端
面には、光が反射するように金属膜などを蒸着する。電
源(不図示)を上記第1の電極2および第2の電極5に
接続して電圧を印加し、光学素子に電界を発生させる。
【0054】本実施例では、光制御層3にリバースモー
ド高分子分散液晶を使用しているため、電極間の発光が
生じることなくコントラストの高い表示装置が実現でき
る。また、電界により吸収率が変化する材料を用いて光
吸収層4を構成しているため、光制御層おける光の散乱
および回折時に出射方向とは反対に向かう光を有効利用
することで表示装置の出射効率を高めることが可能とな
る。
【0055】ところで、本実施例では実施例2に記載の
光学素子を用いて表示装置を構成したが、この光学素子
に限らず本発明に係る光学素子であればどれを適用して
もよい。その際、光制御層3および光吸収層4を第1の
電極2と第2の電極5とで狭持するように構成された光
学素子(実施例1および実施例2を参照されたい)につ
いて、以下に示す駆動方法を適用することができる。す
なわち、(i)第1の電極2および第2の電極5の各々
を短冊状に分割し、かつ短冊状に分割された第1の電極
2および第2の電極5を短冊の長手方向が互いに直交す
るように配置して駆動することにより、単純マトリクス
駆動が可能となる。(ii)第1の電極2と第2の電極5
のいずれかを表示画素単位に分割し、分割した各画素に
スイッテング素子を設けて駆動することにより、TFT
駆動のようなアクティブマトリクス駆動が可能となる。
さらに(iii)第2の電極5を表示画素単位ごとに分割
し、分割された各々の電極5に電圧を独立して印加でき
るように電源に配線して駆動することにより、セグメン
ト駆動が可能となる。なお、これらの駆動方法(i)か
ら(iii)の詳細については、本発明者による特願平第
11−212893号を参照されたい。
【0056】
【発明の効果】以上説明したように、本発明のよれば以
下のような効果が得られる。
【0057】(1)電極に電圧を印加することにより生
じる電界によって吸収率が変化する材料を用いて光吸収
層を構成し、散乱または回折時だけ吸収率を下げること
により、光の利用効率を高めることが可能となる。
【0058】(2)光吸収層の下方に反射面または散乱
面を設けることにより、光吸収層を透過した光を効率よ
く反射または散乱して光を有効利用することが可能とな
る。
【0059】(3)二色性色素をドープした液晶または
液晶高分子複合体を用いて光吸収層を構成することによ
り、低電圧で吸収率可変な吸収層を構成し、低電圧で動
作させることが可能な光学素子を容易に実現できる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の光学素子の一実施例を示す側面断面図
である。
【図2】本発明の光学素子の一実施例を示す側面断面図
である。
【図3】本発明の光学素子の一実施例を示す側面断面図
である。
【図4】本発明の光学素子の一実施例を示す側面断面図
である。
【図5】本発明の表示装置の一実施例を示す側面断面図
である。
【図6】従来の表示装置の一例を示す側面断面図であ
り、(a)は光制御層が透過状態にある場合を示す図、
(b)は光制御層が散乱状態にある場合を示す図であ
る。
【符号の説明】 1 導光板 2 第1の電極 3 光制御層 4 光吸収層 5 第2の電極 5a 第2の電極(電圧を印加していない透明電極) 5b 第2の電極(電圧を印加した透明電極) 5’a 第2の電極(電圧を印加していないアルミ電
極) 5’b 第2の電極(電圧を印加したアルミ電極) 6 基板 7 反射面 8 反射層 9a 第1の電極(電圧の印加なし) 9b 第1の電極(電圧の印加あり) 10a 第2の電極(電圧の印加なし) 10b 第2の電極(電圧の印加あり) 11 散乱面 12 光源 13 レンズ 160 光制御層 161 透明電極 162 反射膜 163 電極 164 導光板 165 基板 166 光吸収膜 167 入射光 168 視線
フロントページの続き (72)発明者 田中 秀尚 東京都千代田区大手町二丁目3番1号 日 本電信電話株式会社内 (72)発明者 上平 員丈 東京都千代田区大手町二丁目3番1号 日 本電信電話株式会社内 Fターム(参考) 2H089 JA04 KA08 LA07 PA06 QA05 QA11 QA12 QA13 RA04 RA06 TA13 2H091 FA50Y FB02 FC10 FC23 FC25 FD06 FD12 FD22 GA11 HA07 HA08 LA11 LA13 LA18 5G435 AA00 BB12 BB16 CC12 EE23 EE33 FF03 FF08 FF14 HH12 KK05

Claims (12)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 端面から光を入射して導光させる透光性
    の導光板と、該導光板の下面に設けられる透光性の第1
    の電極と、該透光性の第1の電極の下面に設けられる光
    制御層と、該光制御層の下面に設けられる光吸収層と、
    該光吸収層の下面に設けられる第2の電極とを少なくと
    も有してなり、 前記光制御層は、前記第1の電極と前記第2の電極との
    間に電圧を印加することにより生じる電界によって入射
    光の特性を変化させる材料からなり、 前記光吸収層は、前記第1の電極と前記第2の電極との
    間に電圧を印加することにより生じる電界によって吸収
    率を変化させる材料からなることを特徴とする光学素
    子。
  2. 【請求項2】 前記光吸収層は、二色性色素を含有する
    ことを特徴とする請求項1に記載の光学素子。
  3. 【請求項3】 前記光制御層と前記光吸収層との間に反
    射層を設けることを特徴とする請求項1または2に記載
    の光学素子。
  4. 【請求項4】 前記光吸収層の下方に散乱面を設けるこ
    とを特徴とする請求項1から3のいずれかに記載の光学
    素子。
  5. 【請求項5】 前記光吸収層の下方に反射面を設けるこ
    とを特徴とする請求項1から3のいずれかに記載の光学
    素子。
  6. 【請求項6】 前記第2の電極が反射面を兼ねることを
    特徴とする請求項1から3のいずれかに記載の光学素
    子。
  7. 【請求項7】 端面から光を入射して導光させる透光性
    の導光板と、該導光板の下面に設けられる光制御層と、
    該光制御層の下面に設けられる光吸収層と、該光吸収層
    の下面に設けられる少なくとも一対の第1の電極および
    第2の電極とを少なくとも有してなり、 前記光制御層は、前記少なくとも一対の第1の電極およ
    び前記第2の電極との間に電圧を印加することにより生
    じる電界によって入射光の特性を変化させる材料からな
    り、 前記光吸収層は、前記第1の電極と前記第2の電極とに
    電圧を印加することにより生じる電界によって吸収率を
    変化させる材料からなることを特徴とする光学素子。
  8. 【請求項8】 前記光吸収層は、二色性色素を含有する
    ことを特徴とする請求項7に記載の光学素子。
  9. 【請求項9】 前記光制御層と前記光吸収層との間に反
    射層を設けることを特徴とする請求項7または8に記載
    の光学素子。
  10. 【請求項10】 前記光吸収層の下方に散乱面を設ける
    ことを特徴とする請求項7から9のいずれかに記載の光
    学素子。
  11. 【請求項11】 前記光吸収層の下方に反射面を設ける
    ことを特徴とする請求項7から9のいずれかに記載の光
    学素子。
  12. 【請求項12】 照明手段と、請求項1から11に記載
    のいずれかの光学素子とを備えることを特徴とする表示
    装置。
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