JP2001033000A - ガス供給装置 - Google Patents
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- JP2001033000A JP2001033000A JP11206422A JP20642299A JP2001033000A JP 2001033000 A JP2001033000 A JP 2001033000A JP 11206422 A JP11206422 A JP 11206422A JP 20642299 A JP20642299 A JP 20642299A JP 2001033000 A JP2001033000 A JP 2001033000A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 複数種類の試料ガスを同一条件で機器に供給
することができるガス供給装置を提供する。 【解決手段】 ガス供給部Ｇ１〜Ｇ５に接続したガス供
給経路１１〜１５と、一端が分析器Ａに接続した機器接
続経路１０と、該機器接続経路の他端から放射状に分岐
して前記各ガス供給経路に接続される分岐経路２１〜２
５と、ガス供給経路に接続した排気経路３１〜３５とを
備え、各分岐経路を、長さ及び内径が略同一の配管で形
成し、かつ、前記機器接続経路の他端から略等角度間隔
で放射状に分岐させるとともに、前記各排気経路に流量
調節手段をそれぞれ設けるかあるいは、各分岐経路に遮
断弁を設ける。
することができるガス供給装置を提供する。 【解決手段】 ガス供給部Ｇ１〜Ｇ５に接続したガス供
給経路１１〜１５と、一端が分析器Ａに接続した機器接
続経路１０と、該機器接続経路の他端から放射状に分岐
して前記各ガス供給経路に接続される分岐経路２１〜２
５と、ガス供給経路に接続した排気経路３１〜３５とを
備え、各分岐経路を、長さ及び内径が略同一の配管で形
成し、かつ、前記機器接続経路の他端から略等角度間隔
で放射状に分岐させるとともに、前記各排気経路に流量
調節手段をそれぞれ設けるかあるいは、各分岐経路に遮
断弁を設ける。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、ガス供給装置に関
し、詳しくは、微量不純物を測定する分析器のような機
器にガスを切換え供給するためのガス供給装置に関す
る。
し、詳しくは、微量不純物を測定する分析器のような機
器にガスを切換え供給するためのガス供給装置に関す
る。
【０００２】
【従来の技術及び発明が解決しようとする課題】近年の
ガス分析の分野では、複数の試料ガスを一つの分析器で
連続的に短時間で分析する必要性が増大している。この
ため、例えば特開平１０−１２２４９８号公報に記載さ
れているようなガス経路切換手段を使用してガス分析器
に供給する試料ガスを切換えるようにしている。
ガス分析の分野では、複数の試料ガスを一つの分析器で
連続的に短時間で分析する必要性が増大している。この
ため、例えば特開平１０−１２２４９８号公報に記載さ
れているようなガス経路切換手段を使用してガス分析器
に供給する試料ガスを切換えるようにしている。
【０００３】例えば、図３に示すように、一端が機器５
に接続された機器接続経路６に、試料ガスを供給するガ
ス供給経路１〜４を遮断弁Ｓ１〜Ｓ４を介して接続する
とともに、各遮断弁Ｓ１〜Ｓ４の上流からパージ経路Ｐ
１〜Ｐ４を分岐させ、さらに、機器接続経路６の他端に
もパージ経路Ｐ６を設けたガス供給装置が知られてい
る。
に接続された機器接続経路６に、試料ガスを供給するガ
ス供給経路１〜４を遮断弁Ｓ１〜Ｓ４を介して接続する
とともに、各遮断弁Ｓ１〜Ｓ４の上流からパージ経路Ｐ
１〜Ｐ４を分岐させ、さらに、機器接続経路６の他端に
もパージ経路Ｐ６を設けたガス供給装置が知られてい
る。
【０００４】しかし、このようなガス供給装置では、機
器５に近い部分の機器接続経路６に接続されたガス供給
経路１と、遠い部分に接続されたガス供給経路４とで
は、流路の長さが異なり、ガスの動きに差が出るだけで
なく、配管接続部等の通過数も異なるため、同一条件で
のガス供給を行うことができなかった。また、パージの
最適条件も、各ガス供給経路の接続位置の条件で異な
り、特に、バルブ樹脂部との接触面積が大きく異なるた
め、各経路４毎にパージ時間を調整しなければならなか
った。さらに、パージ経路Ｐ６からの排ガス量も大量な
ものとなっていた。
器５に近い部分の機器接続経路６に接続されたガス供給
経路１と、遠い部分に接続されたガス供給経路４とで
は、流路の長さが異なり、ガスの動きに差が出るだけで
なく、配管接続部等の通過数も異なるため、同一条件で
のガス供給を行うことができなかった。また、パージの
最適条件も、各ガス供給経路の接続位置の条件で異な
り、特に、バルブ樹脂部との接触面積が大きく異なるた
め、各経路４毎にパージ時間を調整しなければならなか
った。さらに、パージ経路Ｐ６からの排ガス量も大量な
ものとなっていた。
【０００５】そこで本発明は、複数種類の試料ガスを同
一条件で機器に供給することができ、パージも容易に行
うことができるガス供給装置を提供することを目的とし
ている。
一条件で機器に供給することができ、パージも容易に行
うことができるガス供給装置を提供することを目的とし
ている。
【０００６】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するた
め、本発明のガス供給装置は、ガス供給経路から供給さ
れるガスを分析器等の機器に切換供給するためのガス供
給装置において、ガス供給部に接続した３経路以上のガ
ス供給経路と、一端が前記機器に接続された機器接続経
路と、該機器接続経路の他端から放射状に分岐して前記
各ガス供給経路に接続される分岐経路と、前記ガス供給
経路に接続した排気経路とを備え、各分岐経路を、長さ
及び内径が略同一の配管で形成し、かつ、前記機器接続
経路の他端から略等角度間隔で放射状に分岐させるとと
もに、前記各排気経路に流量調節手段をそれぞれ設けた
ことを特徴としている。
め、本発明のガス供給装置は、ガス供給経路から供給さ
れるガスを分析器等の機器に切換供給するためのガス供
給装置において、ガス供給部に接続した３経路以上のガ
ス供給経路と、一端が前記機器に接続された機器接続経
路と、該機器接続経路の他端から放射状に分岐して前記
各ガス供給経路に接続される分岐経路と、前記ガス供給
経路に接続した排気経路とを備え、各分岐経路を、長さ
及び内径が略同一の配管で形成し、かつ、前記機器接続
経路の他端から略等角度間隔で放射状に分岐させるとと
もに、前記各排気経路に流量調節手段をそれぞれ設けた
ことを特徴としている。
【０００７】また、本発明のガス供給装置は、別の形態
として、ガス供給経路から供給されるガスを分析器等の
機器に切換供給するためのガス供給装置において、ガス
供給部に接続した３経路以上のガス供給経路と、一端が
前記機器に接続された機器接続経路と、該機器接続経路
の他端から放射状に分岐して前記各ガス供給経路に接続
される分岐経路と、前記ガス供給経路に接続した排気経
路とを備え、各分岐経路を、長さ及び内径が略同一の配
管で形成し、かつ、前記機器接続経路の他端から略等角
度間隔で放射状に分岐させるとともに、各分岐経路に切
換開閉される遮断弁をそれぞれ設けたことを特徴として
いる。
として、ガス供給経路から供給されるガスを分析器等の
機器に切換供給するためのガス供給装置において、ガス
供給部に接続した３経路以上のガス供給経路と、一端が
前記機器に接続された機器接続経路と、該機器接続経路
の他端から放射状に分岐して前記各ガス供給経路に接続
される分岐経路と、前記ガス供給経路に接続した排気経
路とを備え、各分岐経路を、長さ及び内径が略同一の配
管で形成し、かつ、前記機器接続経路の他端から略等角
度間隔で放射状に分岐させるとともに、各分岐経路に切
換開閉される遮断弁をそれぞれ設けたことを特徴として
いる。
【０００８】さらに、前記機器接続経路と前記分岐経路
との接続部の交差角が９０度以上であることを特徴とし
ている。
との接続部の交差角が９０度以上であることを特徴とし
ている。
【０００９】
【発明の実施の形態】図１は本発明のガス供給装置の第
１形態例を示す概略斜視図である。このガス供給装置
は、ガスを切換え供給する機器として、不純物成分をｐ
ｐｂレベルからサブｐｐｂレベルまで分析可能なＧＣＭ
Ｓ，ＡＰＩＭＳ，ＧＣＰＩＤ，ＧＣＦＩＤ等の高精度な
分析器Ａに５種類のガスを切換え供給するように形成し
たものであって、一端が分析器Ａに接続した機器接続経
路１０と、一端が試料ガス供給部Ｇ１〜Ｇ５に接続した
ガス供給経路１１〜１５と、機器接続経路１０の他端か
ら放射状に分岐して前記ガス供給経路１１〜１５にそれ
ぞれ接続した分岐経路２１〜２５と、各ガス供給経路１
１〜１５に流量調節手段Ｆ１〜Ｆ５を介して接続した排
気経路３１〜３５とにより形成されている。
１形態例を示す概略斜視図である。このガス供給装置
は、ガスを切換え供給する機器として、不純物成分をｐ
ｐｂレベルからサブｐｐｂレベルまで分析可能なＧＣＭ
Ｓ，ＡＰＩＭＳ，ＧＣＰＩＤ，ＧＣＦＩＤ等の高精度な
分析器Ａに５種類のガスを切換え供給するように形成し
たものであって、一端が分析器Ａに接続した機器接続経
路１０と、一端が試料ガス供給部Ｇ１〜Ｇ５に接続した
ガス供給経路１１〜１５と、機器接続経路１０の他端か
ら放射状に分岐して前記ガス供給経路１１〜１５にそれ
ぞれ接続した分岐経路２１〜２５と、各ガス供給経路１
１〜１５に流量調節手段Ｆ１〜Ｆ５を介して接続した排
気経路３１〜３５とにより形成されている。
【００１０】前記分岐経路２１〜２５を形成する配管に
は、長さ及び内径や形状がそれぞれ等しいものが用いら
れ、機器接続経路１０からの分岐部は、各分岐経路２１
〜２５が等角度間隔、この場合は機器接続経路１０の軸
線方向から見て７２度間隔で放射状に並ぶように接続さ
れている。これにより、各ガス供給経路１１〜１５から
分岐経路２１〜２５を通って機器接続経路１０に至るガ
スの圧力や流量の状態を均一化することができる。さら
に、前記機器接続経路１０と各分岐経路２１〜２５との
交差角は、ガスが円滑に流れるように、９０度以上にし
ておくことが好ましい。
は、長さ及び内径や形状がそれぞれ等しいものが用いら
れ、機器接続経路１０からの分岐部は、各分岐経路２１
〜２５が等角度間隔、この場合は機器接続経路１０の軸
線方向から見て７２度間隔で放射状に並ぶように接続さ
れている。これにより、各ガス供給経路１１〜１５から
分岐経路２１〜２５を通って機器接続経路１０に至るガ
スの圧力や流量の状態を均一化することができる。さら
に、前記機器接続経路１０と各分岐経路２１〜２５との
交差角は、ガスが円滑に流れるように、９０度以上にし
ておくことが好ましい。
【００１１】また、各試料ガス供給部Ｇ１〜Ｇ５から各
ガス供給経路１１〜１５に供給する試料ガスは、同一圧
力、同一流量に設定しておくことが好ましく、各分岐経
路２１〜２５に同一の条件で分岐流入させることができ
るように、ガス供給経路１１〜１５と分岐経路２１〜２
５との接続部も、その構造や形状を同一にしておくこと
が好ましい。
ガス供給経路１１〜１５に供給する試料ガスは、同一圧
力、同一流量に設定しておくことが好ましく、各分岐経
路２１〜２５に同一の条件で分岐流入させることができ
るように、ガス供給経路１１〜１５と分岐経路２１〜２
５との接続部も、その構造や形状を同一にしておくこと
が好ましい。
【００１２】このように形成したガス供給装置は、各試
料ガス供給部Ｇ１〜Ｇ５から各ガス供給経路１１〜１５
に、所定圧力、所定流量で試料ガスを供給し、流量調節
手段Ｆ１〜Ｆ５によって排気経路３１〜３５から排気す
るガスの流量を調節することにより、ガス供給経路１１
〜１５を流れる試料ガスの中の任意の一つを分岐経路２
１〜２５に流入させて機器接続経路１０から分析器Ａに
供給することができる。
料ガス供給部Ｇ１〜Ｇ５から各ガス供給経路１１〜１５
に、所定圧力、所定流量で試料ガスを供給し、流量調節
手段Ｆ１〜Ｆ５によって排気経路３１〜３５から排気す
るガスの流量を調節することにより、ガス供給経路１１
〜１５を流れる試料ガスの中の任意の一つを分岐経路２
１〜２５に流入させて機器接続経路１０から分析器Ａに
供給することができる。
【００１３】例えば、試料ガス供給部Ｇ１、ガス供給経
路１１、分岐経路２１、排気経路３１の系に窒素を、試
料ガス供給部Ｇ２、ガス供給経路１２、分岐経路２２、
排気経路３２の系に酸素を、試料ガス供給部Ｇ３、ガス
供給経路１３、分岐経路２３、排気経路３３の系に二酸
化炭素を、試料ガス供給部Ｇ４、ガス供給経路１４、分
岐経路２４、排気経路３４の系にアルゴンを、試料ガス
供給部Ｇ５、ガス供給経路１５、分岐経路２５、排気経
路３５の系にヘリウムを、それぞれ試料ガスとして供給
した場合で説明する。
路１１、分岐経路２１、排気経路３１の系に窒素を、試
料ガス供給部Ｇ２、ガス供給経路１２、分岐経路２２、
排気経路３２の系に酸素を、試料ガス供給部Ｇ３、ガス
供給経路１３、分岐経路２３、排気経路３３の系に二酸
化炭素を、試料ガス供給部Ｇ４、ガス供給経路１４、分
岐経路２４、排気経路３４の系にアルゴンを、試料ガス
供給部Ｇ５、ガス供給経路１５、分岐経路２５、排気経
路３５の系にヘリウムを、それぞれ試料ガスとして供給
した場合で説明する。
【００１４】まず、各試料ガスは、各試料ガス供給部Ｇ
１〜Ｇ５から、例えば２ｋｇ／ｃｍ ２の同一圧力で、か
つ、例えば毎分１リットルの同一流量に調節されて各ガ
ス供給経路１１〜１５に供給される。この状態で分析器
Ａに窒素を供給する場合は、流量調節手段Ｆ１の流量設
定値を、例えば毎分０．１リットルに設定し、他の流量
調節手段Ｆ２〜Ｆ５の流量設定値を、例えば毎分１．１
リットルに設定する。
１〜Ｇ５から、例えば２ｋｇ／ｃｍ ２の同一圧力で、か
つ、例えば毎分１リットルの同一流量に調節されて各ガ
ス供給経路１１〜１５に供給される。この状態で分析器
Ａに窒素を供給する場合は、流量調節手段Ｆ１の流量設
定値を、例えば毎分０．１リットルに設定し、他の流量
調節手段Ｆ２〜Ｆ５の流量設定値を、例えば毎分１．１
リットルに設定する。
【００１５】これにより、ガス供給経路１１の窒素は、
排気経路３１からの排気量が毎分０．１リットルに絞ら
れるため、過剰の毎分０．９リットルの窒素が分岐経路
２１に流入し、他のガス供給経路１２〜１５では、排気
経路３２〜３５からの排気量が毎分１．１リットルに増
加するため、前記分岐経路２１を流れて機器接続経路１
０に至った毎分０．９リットルの窒素の一部が、各分岐
経路２２〜２５に毎分０．１リットルずつ分岐して流
れ、ガス供給経路１２〜１５に流入して各試料ガスと混
合し、合計流量が毎分１．１リットルとなり、各流量調
節手段Ｆ２〜Ｆ５を通って各排気経路３２〜３５からそ
れぞれ排気される。
排気経路３１からの排気量が毎分０．１リットルに絞ら
れるため、過剰の毎分０．９リットルの窒素が分岐経路
２１に流入し、他のガス供給経路１２〜１５では、排気
経路３２〜３５からの排気量が毎分１．１リットルに増
加するため、前記分岐経路２１を流れて機器接続経路１
０に至った毎分０．９リットルの窒素の一部が、各分岐
経路２２〜２５に毎分０．１リットルずつ分岐して流
れ、ガス供給経路１２〜１５に流入して各試料ガスと混
合し、合計流量が毎分１．１リットルとなり、各流量調
節手段Ｆ２〜Ｆ５を通って各排気経路３２〜３５からそ
れぞれ排気される。
【００１６】この結果、機器接続経路１０には、毎分
０．５リットルの窒素が流れて分析器Ａに供給されるこ
とになる。同様に、試料ガス供給部Ｇ２からの酸素を分
析器Ａに供給する場合は、流量調節手段Ｆ２の流量設定
値を毎分０．１リットルとし、他の流量調節手段Ｆ１，
Ｆ３〜Ｆ５の流量設定値を毎分１．１リットルとするこ
とにより、毎分０．５リットルの酸素を分析器Ａに供給
することができる。
０．５リットルの窒素が流れて分析器Ａに供給されるこ
とになる。同様に、試料ガス供給部Ｇ２からの酸素を分
析器Ａに供給する場合は、流量調節手段Ｆ２の流量設定
値を毎分０．１リットルとし、他の流量調節手段Ｆ１，
Ｆ３〜Ｆ５の流量設定値を毎分１．１リットルとするこ
とにより、毎分０．５リットルの酸素を分析器Ａに供給
することができる。
【００１７】そして、各分岐経路２１〜２５から機器接
続経路１０に至る配管や接続（分岐）状態をできるだけ
同一条件になるように形成しておくことにより、各試料
ガスの分析器Ａへの供給条件を等しくすることができ
る。また、各試料ガスの分析器Ａへの供給条件が等しい
ため、ガス種を切換える際のガス置換も全て同一条件で
行うことができ、従来に比べて短時間でガス置換を終了
させることができる。さらに、分析器Ａに供給する試料
ガスの一部が、機器接続経路１０の分岐部から他の分岐
管にそれぞれ流入し、ガス供給経路を経て各排気経路か
ら排気される状態となるので、各経路に常にガスが流れ
た状態となり、経路中にガスが滞留することがなくな
る。また、従来のようなパージ経路を設けなくてもよい
ので、パージ経路から排気されていた分のガス量を節減
することができる。
続経路１０に至る配管や接続（分岐）状態をできるだけ
同一条件になるように形成しておくことにより、各試料
ガスの分析器Ａへの供給条件を等しくすることができ
る。また、各試料ガスの分析器Ａへの供給条件が等しい
ため、ガス種を切換える際のガス置換も全て同一条件で
行うことができ、従来に比べて短時間でガス置換を終了
させることができる。さらに、分析器Ａに供給する試料
ガスの一部が、機器接続経路１０の分岐部から他の分岐
管にそれぞれ流入し、ガス供給経路を経て各排気経路か
ら排気される状態となるので、各経路に常にガスが流れ
た状態となり、経路中にガスが滞留することがなくな
る。また、従来のようなパージ経路を設けなくてもよい
ので、パージ経路から排気されていた分のガス量を節減
することができる。
【００１８】図２は、本発明の第２形態例を示すもの
で、機器接続経路の軸線方向から見た正面図である。な
お、前記第１形態例の構成要素と同一の構成要素には同
一の符号を付して詳細な説明は省略する。
で、機器接続経路の軸線方向から見た正面図である。な
お、前記第１形態例の構成要素と同一の構成要素には同
一の符号を付して詳細な説明は省略する。
【００１９】本形態例では、各ガス供給経路１１〜１５
の排気経路３１〜３５に、前記流量調節手段に代えて排
気弁ＥＶ１〜ＥＶ５をそれぞれ設けるとともに、各分岐
経路２１〜２５に、試料ガスの切換供給に応じて切換開
閉される遮断弁Ｖ１〜Ｖ５を設けたものである。
の排気経路３１〜３５に、前記流量調節手段に代えて排
気弁ＥＶ１〜ＥＶ５をそれぞれ設けるとともに、各分岐
経路２１〜２５に、試料ガスの切換供給に応じて切換開
閉される遮断弁Ｖ１〜Ｖ５を設けたものである。
【００２０】本形態例では、各試料ガス供給部Ｇ１〜Ｇ
５から所定圧力、所定流量の試料ガスを各ガス供給経路
１１〜１５にそれぞれ供給した状態で、分岐経路２１〜
２５の遮断弁Ｖ１〜Ｖ５の一つを開くことにより、任意
の一つの試料ガスを機器接続経路１０から分析器Ａに供
給することができる。例えば、遮断弁Ｖ１のみを開くこ
とにより、試料ガス供給部Ｇ１から供給される例えば窒
素を分析器Ａに供給することができ、遮断弁Ｖ２のみを
開くことにより、試料ガス供給部Ｇ２から供給される例
えば酸素を分析器Ａに供給することができる。
５から所定圧力、所定流量の試料ガスを各ガス供給経路
１１〜１５にそれぞれ供給した状態で、分岐経路２１〜
２５の遮断弁Ｖ１〜Ｖ５の一つを開くことにより、任意
の一つの試料ガスを機器接続経路１０から分析器Ａに供
給することができる。例えば、遮断弁Ｖ１のみを開くこ
とにより、試料ガス供給部Ｇ１から供給される例えば窒
素を分析器Ａに供給することができ、遮断弁Ｖ２のみを
開くことにより、試料ガス供給部Ｇ２から供給される例
えば酸素を分析器Ａに供給することができる。
【００２１】本形態例においても、分岐経路２１〜２
５、遮断弁Ｖ１〜Ｖ５及び機器接続経路１０からの分岐
状態をできるだけ同一に形成しておくことにより、前記
形態例と同様に、各試料ガスを同一条件で分析器Ａに供
給することができる。また、各分岐経路２１〜２５が機
器接続経路１０の端部に同一の状態で接続しているた
め、バルブ樹脂部との接触面積が均一となり、同一のパ
ージ条件で確実にガス置換を行うことができる。さら
に、従来のようなパージ経路を設ける必要もなくなる。
また、遮断弁Ｖ１〜Ｖ５として、ダイヤフラム集積弁を
用いることにより、遮断弁部分におけるガス滞留部を極
小にできるので、ガス置換を迅速に行うことができると
ともに、装置の小型化も図れる。
５、遮断弁Ｖ１〜Ｖ５及び機器接続経路１０からの分岐
状態をできるだけ同一に形成しておくことにより、前記
形態例と同様に、各試料ガスを同一条件で分析器Ａに供
給することができる。また、各分岐経路２１〜２５が機
器接続経路１０の端部に同一の状態で接続しているた
め、バルブ樹脂部との接触面積が均一となり、同一のパ
ージ条件で確実にガス置換を行うことができる。さら
に、従来のようなパージ経路を設ける必要もなくなる。
また、遮断弁Ｖ１〜Ｖ５として、ダイヤフラム集積弁を
用いることにより、遮断弁部分におけるガス滞留部を極
小にできるので、ガス置換を迅速に行うことができると
ともに、装置の小型化も図れる。
【００２２】なお、前記流量調節手段Ｆ１〜Ｆ５の流量
設定値の変更や遮断弁Ｖ１〜Ｖ５の開閉を、所定のシー
ケンスで行う制御手段を設けておくことにより、複数の
試料ガスの切換供給を所定の順序で自動的に行うことが
できる。
設定値の変更や遮断弁Ｖ１〜Ｖ５の開閉を、所定のシー
ケンスで行う制御手段を設けておくことにより、複数の
試料ガスの切換供給を所定の順序で自動的に行うことが
できる。
【００２３】
【発明の効果】以上説明したように、本発明のガス供給
装置によれば、切換供給するガスの種類が多くても、各
ガスを同一の条件で機器に切換供給することができ、ガ
ス種の切換えも迅速に行うことができる。
装置によれば、切換供給するガスの種類が多くても、各
ガスを同一の条件で機器に切換供給することができ、ガ
ス種の切換えも迅速に行うことができる。
【図１】 本発明のガス供給装置の第１形態例を示す概
略斜視図である。
略斜視図である。
【図２】 本発明の第２形態例を示す機器接続経路の軸
線方向から見た正面図である。
線方向から見た正面図である。
【図３】 従来のガス供給装置の一例を示す系統図であ
る。
る。
１０…機器接続経路、１１〜１５…ガス供給経路、２１
〜２５…分岐経路、３１〜３５…排気経路、Ａ…分析
器、ＥＶ１〜ＥＶ５…排気弁、Ｆ１〜Ｆ５…流量調節手
段、Ｇ１〜Ｇ５…試料ガス供給部、Ｖ１〜Ｖ５…遮断弁
〜２５…分岐経路、３１〜３５…排気経路、Ａ…分析
器、ＥＶ１〜ＥＶ５…排気弁、Ｆ１〜Ｆ５…流量調節手
段、Ｇ１〜Ｇ５…試料ガス供給部、Ｖ１〜Ｖ５…遮断弁
フロントページの続き (72)発明者 西名 明 東京都港区西新橋１−16−７ 日本酸素株 式会社内 (72)発明者 君島 哲也 東京都港区西新橋１−16−７ 日本酸素株 式会社内 Ｆターム(参考） 3J071 AA02 BB14 CC03 DD27 FF16
Claims (3)
- 【請求項１】 ガス供給経路から供給されるガスを分析
器等の機器に切換供給するためのガス供給装置におい
て、ガス供給部に接続した３経路以上のガス供給経路
と、一端が前記機器に接続された機器接続経路と、該機
器接続経路の他端から放射状に分岐して前記各ガス供給
経路に接続される分岐経路と、前記ガス供給経路に接続
した排気経路とを備え、各分岐経路を、長さ及び内径が
略同一の配管で形成し、かつ、前記機器接続経路の他端
から略等角度間隔で放射状に分岐させるとともに、前記
各排気経路に流量調節手段をそれぞれ設けたことを特徴
とするガス供給装置。 - 【請求項２】 ガス供給経路から供給されるガスを分析
器等の機器に切換供給するためのガス供給装置におい
て、ガス供給部に接続した３経路以上のガス供給経路
と、一端が前記機器に接続された機器接続経路と、該機
器接続経路の他端から放射状に分岐して前記各ガス供給
経路に接続される分岐経路と、前記ガス供給経路に接続
した排気経路とを備え、各分岐経路を、長さ及び内径が
略同一の配管で形成し、かつ、前記機器接続経路の他端
から略等角度間隔で放射状に分岐させるとともに、各分
岐経路に切換開閉される遮断弁をそれぞれ設けたことを
特徴とするガス供給装置。 - 【請求項３】 前記機器接続経路と前記分岐経路との分
岐部の交差角が９０度以上であることを特徴とする請求
項１又は２記載のガス供給装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11206422A JP2001033000A (ja) | 1999-07-21 | 1999-07-21 | ガス供給装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11206422A JP2001033000A (ja) | 1999-07-21 | 1999-07-21 | ガス供給装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2001033000A true JP2001033000A (ja) | 2001-02-06 |
Family
ID=16523123
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP11206422A Pending JP2001033000A (ja) | 1999-07-21 | 1999-07-21 | ガス供給装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2001033000A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2012229807A (ja) * | 2006-08-23 | 2012-11-22 | Horiba Stec Co Ltd | 集積型ガスパネル装置 |
| WO2016147442A1 (ja) * | 2015-03-18 | 2016-09-22 | 株式会社東芝 | 流路構造、吸排気部材、及び処理装置 |
| CN115899081A (zh) * | 2021-09-30 | 2023-04-04 | 上海微电子装备（集团）股份有限公司 | 一种气足 |
-
1999
- 1999-07-21 JP JP11206422A patent/JP2001033000A/ja active Pending
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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| US8820360B2 (en) | 2006-08-23 | 2014-09-02 | Horiba Stec, Co., Ltd. | Integrated gas panel apparatus |
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