JP2001097740A - 結晶化ガラス、磁気ディスク用基板および磁気ディスク - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】リチウムダイシリケート相およびα−石英相を
有するＳｉＯ₂ −Ａｌ₂Ｏ₃ −Ｌｉ₂ Ｏ系の結晶化ガラ
スにおいて、α−石英相の凝集や結晶粒子の粗大化を抑
制し、熱膨張係数を小さくし、ガラスからのリチウム溶
出を防止する。 【解決手段】結晶化ガラスの主結晶がペタライト相（Ｌ
ｉ₂ Ｏ・Ａｌ₂ Ｏ₃ ・８ＳｉＯ₂ ）およびリチウムダイ
シリケート相（Ｌｉ₂ Ｏ・２ＳｉＯ₂ ）であり、副結晶
がα−石英相である。リートベルト定量法による各結晶
定量値が以下の範囲内にある（２０重量％≦ペタライト
相≦４０重量％、２５重量％≦リチウムダイシリケート
相≦４５重量％、１０重量％≦α−石英相≦２５重量
％）。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、結晶化ガラス、こ
れを使用した磁気ディスク用基板および磁気ディスクに
関するものである。

【０００２】

【従来の技術】磁気ディスク用基板には、所定の熱膨張
係数、平滑な面及び高強度等が要求されているが、最近
それに加えて耐候性が良い材料が要求されている。磁気
ディスク基板用途では、室温付近の熱膨張係数が６０〜
９０×１０^-7／ｋ程度のガラスが要求されている。ハー
ドディスクのさらなる記録密度の向上のためには、磁気
ヘッドの浮上量を低下させなければならず、基板には一
層高い平滑な面が求められている。更に、磁性膜は、ア
ルカリ金属イオンと反応すると特性の低下を招く。この
ため、基板から磁性膜へのアルカリ金属イオンの侵入
は、極力避けなければならない。

【０００３】特開平１１−１６１５１号公報、特開平１
１−１６１４３号公報には、α−石英相とリチウムダイ
シリケート相とを主結晶相とする磁気ディスク用結晶化
ガラスが開示されている。特開平１０−２２６５３２号
公報には、化学的耐久性を改善した磁気ディスク結晶化
ガラスが開示されている。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】これまでのクリストバ
ライト相とリチウムダイシリケート相とを主結晶とする
結晶化ガラス、あるいは、α−石英相とリチウムダイシ
リケート相を主結晶とする結晶化ガラスでは、いずれも
結晶粒子が粗大化しやすく、そのために精密研磨後の表
面粗さがあまり小さくならないという問題があった。特
に、α−石英相とリチウムダイシリケート相とを主結晶
とする結晶化ガラスにおいては、熱膨張係数が１００×
１０^-7／ｋ程度であり、磁気ディスクとしては大きすぎ
る。また、クリストバライト相とリチウムダイシリケー
ト相とを主結晶とする結晶化ガラス、あるいは、α−石
英相とリチウムダイシリケート相とを主結晶とする結晶
化ガラスでは、基板からのリチウムの溶出量が多く、磁
性膜に与える影響が懸念されていた。

【０００５】例えば、特開平１１−１６１５１号公報、
特開平１１−１６１４３号公報では、リチウムの溶出に
ついては言及されていない。また、α−石英相が凝集形
態で析出しているため、精密研磨後の表面粗さＲａが３
〜９オングストロームである。特開平１０−２２６５３
２号公報では、ガラスの化学的耐久性が、特定の組成と
関連して述べられており、また、化学的耐久性がガラス
の重量変化によって説明されており、リチウムの溶出に
ついては述べられていない。

【０００６】本発明の課題は、リチウムダイシリケート
相およびα−石英相を有するＳｉＯ₂ −Ａｌ₂ Ｏ₃ −Ｌ
ｉ₂ Ｏ系の結晶化ガラスにおいて、α−石英相の凝集や
結晶粒子の粗大化を抑制し、−５０℃〜＋７０℃の熱膨
張係数を小さくし、かつ結晶化ガラスからのリチウムの
溶出を防止することである。

【０００７】

【課題を解決するための手段】本発明は、主結晶がペタ
ライト相（Ｌｉ₂ Ｏ・Ａｌ₂ Ｏ₃ ・８ＳｉＯ₂ ）および
リチウムダイシリケート相（Ｌｉ₂ Ｏ・２ＳｉＯ ₂ ）で
あり、副結晶がα−石英相である結晶化ガラスであっ
て、リートベルト定量法による各結晶定量値が以下の範
囲内にあることを特徴とする。 ２０重量％≦ペタライト相≦４０重量％ ２５重量％≦リチウムダイシリケート相≦４５重量％ １０重量％≦α−石英相≦２５重量％

【０００８】本発明者は、リチウムダイシリケート相お
よびα−石英相を有するＳｉＯ₂ −Ａｌ₂ Ｏ₃ −Ｌｉ₂
Ｏ系の結晶化ガラスについて、種々検討する過程におい
て、結晶化温度を１０〜３０℃ほど下げることにより、
α−石英相の析出量が減少し、その代わりにペタライト
が多量に析出してくるという現象を発見した。

【０００９】そして、α−石英相よりも多くのペタライ
ト相を析出させることで、ペタライト相とリチウムダイ
シリケート相とを主結晶として析出させると共に、α−
石英相を副結晶相として析出させると、−５０℃〜７０
℃の範囲での熱膨張係数を、６０〜９０×１０^-7／ｋ程
度に調節することができた。しかも、主結晶としてペタ
ライト相を析出させることによって、結晶化ガラスを精
密研磨した後の表面粗さが小さくなることが分かった。
更に、ペタライト相の結晶量を多くすることによって、
リチウムの溶出量が著しく少なくなることを見出し、本
発明に到達した。

【００１０】ペタライトは、粗大な粒子になりにくいこ
とから、ペタライト相の析出量を増加させると、結晶粒
の微細な結晶化ガラスが作製できるものと思われる。

【００１１】また、α−石英相が析出する過程では、ペ
タライトを経由してα−石英へと変化する。このとき、
α−石英（ＳｉＯ₂ ）になると、それまでペタライト
（Ｌｉ₂ Ｏ・Ａｌ₂ Ｏ₃ ・８ＳｉＯ₂ ）中に取り込まれ
ていたリチウムが、結晶化されていない残留ガラス中に
移動する。このため、残留ガラスにおけるリチウムの含
有量が増加し、溶出量が増えると思われる。これに対し
て、ペタライトは、結晶そのものにリチウムを含有して
いる。このため、ペタライトの析出量が多いと、それだ
けペタライト結晶中に取り込まれるリチウムが多くな
り、その結果溶出量が低くなるものとも考えられた。し
かし、実際にリチウムの溶出実験を行ってみると、本発
明の結晶化ガラスにおいては、このような機構では説明
できないほど顕著にリチウムの溶出が抑制されることを
発見した。

【００１２】即ち、上記の議論が正しいものとすれば、
リチウムの溶出量が、残留ガラス中のリチウムの含有量
にほぼ比例するはずである。しかし、実際には、本発明
の結晶化ガラスにおいては、リチウムの溶出量の減少は
この予測を超えて顕著であり、残留ガラス中のリチウム
の溶出量も減少しているようである。

【００１３】本発明においては、リチウムダイシリケー
ト相およびペタライト相が主結晶相であり、α−石英相
が副結晶相である。これは、リチウムダイシリケート相
の量、およびペタライト相の量が、それぞれ、α−石英
相の量よりも多いことを意味している。リチウムダイシ
リケート相の量、およびペタライト相の量と、α−石英
相の量との差は特に限定しないが、５重量％以上である
ことが好ましく、１０重量％以上であることが一層好ま
しい。

【００１４】本発明の結晶化ガラス中の各結晶相の組成
は、以下のようにすることが一層好ましい。 ３０重量％≦ペタライト相≦ ４０重量％ ２５重量％≦リチウムダイシリケート相≦４０重量％ １０重量％≦α−石英相≦ ２０重量％

【００１５】本発明の結晶化ガラスの結晶化度は、７０
重量％以上が好ましく、７５重量％以上が更に好まし
い。

【００１６】本発明の結晶化ガラスの製造方法はむろん
限定されないが、たとえは以下のようにすることができ
る。

【００１７】原ガラスにおけるＳｉＯ₂ の量を７０重量
％以上とすることによって、結晶粒子を微細化でき、８
０重量％以下とすることによって、原ガラスの溶融を容
易にできる。更に好ましくは、ＳｉＯ₂ の量は、７２重
量％以上であり、７７重量％以下である。

【００１８】原ガラスにおけるＡｌ₂ Ｏ₃ の量が５重量
％未満であると、α−石英相が析出せず、結晶化ガラス
の熱膨張係数が低下する。Ａｌ₂ Ｏ₃ の量が１０重量％
を超えると、ガラスの溶解性が悪化する。更に好ましく
は、Ａｌ₂ Ｏ₃ の量は、６．５重量％以上であり、８．
５重量％以下である。

【００１９】Ｌｉ₂ Ｏの量を７重量％以上とし、更に好
ましくは８重量％以上とすることによって、所望の結晶
相の析出が可能となる。Ｌｉ₂ Ｏの量が１０重量％を超
えると、結晶粒子が粗大化する。

【００２０】Ｐ₂ Ｏ₅ の量が１重量％未満であると、所
望の結晶が析出しない。Ｐ₂ Ｏ₅ の量が３重量％を超え
ると、結晶化ガラスが失透し、結晶粒子が粗大化しやす
い。更に好ましくは、Ｐ₂ Ｏ₅ の量は、２重量％以下で
ある。

【００２１】Ｋ₂ Ｏを０〜３重量％含有させることがで
きる。Ｋ₂ Ｏは、ガラスの溶融温度を低下させる。この
作用を発揮させるには、この含有量を１重量％以上とす
ることが更に好ましい。また、Ｋ₂ Ｏの含有量が３重量
％を越えると、α−石英相が析出せず、熱膨張係数が低
下し、結晶粒子が粗大化する。更に好ましくは、Ｋ₂ Ｏ
の量は、２重量％以下である。

【００２２】ＣａＯを０〜３重量％、ＢａＯを０〜３重
量％含有させることが好ましい。これらは、原ガラスの
溶解温度を低下させる。ＣａＯ、ＢａＯの量がそれぞれ
３重量％を超えると、結晶が析出しなくなる。更に好ま
しくは、ＣａＯ、ＢａＯの量は、それぞれ、１．５重量
％以下である。

【００２３】ＺｎＯを０〜３重量％含有させることが好
ましい。ＺｎＯは、原ガラスの溶解温度を低下させる。
ＺｎＯの量が３重量％を超えると、結晶化ガラスが失透
しやすい。更に好ましくは、ＺｎＯの量は、１．５重量
％以下である。

【００２４】ＺｒＯ₂ を０−６重量％含有させることが
好ましい。ＺｒＯ₂ は、結晶を微細化させる。ＺｒＯ₂
の量が６重量％を超えると、α−石英相が析出しなくな
る。更に好ましくは、ＺｒＯ₂ の量は、１重量％以上、
４重量％以下である。

【００２５】Ｓｂ₂ Ｏ₃ を０−２重量％含有させること
が好ましい。Ｓｂ₂ Ｏ₃は、ガラスを脱泡させる。Ｓｂ₂
Ｏ₃ の量は２重量％では飽和する。更に好ましくは、
Ｓｂ₂ Ｏ₃ の量は、０．１重量％以上、１重量％以下で
ある。

【００２６】Ｎｂ₂ Ｏ₅ を０−６重量％含有させること
が好ましい。Ｎｂ₂ Ｏ₅を添加すると、結晶化温度が変
動したときに、熱膨張係数の変動が小さくなる。Ｎｂ₂
Ｏ₅ の量が６重量％を超えると、結晶粒子が粗大化す
る。更に好ましくは、Ｎｂ₂ Ｏ₅ の量は、２重量％以下
である。

【００２７】本発明の結晶化ガラス中には、他の成分を
含有させることができる。まず、ＴｉＯ₂ 、ＳｎＯ₂ 、
白金等の貴金属のフッ化物を、単独で、または２種以上
混合して、含有させることができる。

【００２８】Ａｓ₂ Ｏ₃ を０〜２重量％含有させること
もできる。これは、ガラス溶融の際の清澄剤である。そ
の他、Ｂ₂ Ｏ₃ を０〜３重量％含有させることもでき
る。

【００２９】原ガラスを製造する際には、上記の各金属
原子を含有する各原料を、上記の重量比率に該当するよ
うに混合し、この混合物を溶融させる。この原料として
は、各金属原子の酸化物、炭酸塩、硝酸塩、リン酸塩、
水酸化物を例示することができる。また、原ガラスを熱
処理して結晶化させる際の雰囲気としては、大気雰囲
気、還元雰囲気、水蒸気雰囲気、加圧雰囲気等を選択す
ることができる。

【００３０】また、上記の製造方法において原ガラスを
加熱する際には、少なくとも５００℃以上の温度領域で
の温度上昇速度を５０〜３００℃／時間に制御すること
によって結晶核の生成を進行させることが好ましい。ま
た、５９０−６５０℃の温度領域内で２〜５時間保持す
ることによって結晶核の生成を進行させることが好まし
い。結晶化温度は、７００−７６０℃とすることが好ま
しい。例えばこの温度範囲内でも、ペタライト相が多く
析出する温度は、原ガラスの組成によって変動する。そ
して、結晶化温度が高いと、ペタライト相がα−石英相
に転換し、多量のα−石英相が析出する傾向がある。従
って、特定の組成において、α−石英相の量がペタライ
ト相の量よりも多くなる場合には、結晶化温度を下げる
ことでペタライト相の量を増加させる。

【００３１】上記の結晶化ガラスからなる素材を、砥粒
によって精密研磨加工する工程では、いわゆるラッピン
グ、ポリッシング等、公知の精密研磨加工方法によって
研磨し、磁気ディスク用基板を作成できる。また、本発
明の磁気ディスク用基板の主面上には、下地処理層、磁
性膜、保護膜等を形成することができ、更に保護膜上に
潤滑剤を塗布することができる。

【００３２】

【実施例】（親ガラスの製造）表１、表３に示す、各種
金属酸化物の重量比になるように、各金属を含む化合物
を混合した。この混合物２５０ｇを容積２００ｃｃの白
金ルツボに入れ、１４００℃で５．５時間熱処理し、溶
融した。炉の温度を１３５０℃に落として、１時間保持
した後、カーボン製の型に原ガラスを流しだし、成形し
た。５００℃で１時間アニールした後、徐冷して、円盤
状の親ガラスを得た。

【００３３】この親ガラスから、寸法１５×１５×厚さ
０．８５ｍｍ、寸法５×３０×厚さ０．８５ｍｍの各板
状試料と、外径６５．００ｍｍ、内径２０．２５ｍｍ、
厚さ０．８５ｍｍのディスク状試料とを切り出した。な
お、各試料の両面は、＃４００の砥石で仕上げ加工し
た。

【００３４】（結晶化工程）各板状試料を、窒素雰囲気
中で、厚さ５ｍｍのカーボン板に挟んだ状態で結晶化さ
せた。結晶化のスケジュールは、表１、３に示す各核形
成温度まで２００℃／時間で昇温し、各核形成温度で２
〜５時間保持し、表１、３に示す各結晶化温度まで１０
０℃／時間で昇温し、各結晶化温度で２〜５時間保持
し、室温まで２００℃／時間で降温した。

【００３５】（結晶相の同定）Ｘ線出力５０ｋＶ・３０
０ｍＡのＸ線回折装置（ＲＩＮＴ２５００）を使用した
（２θ＝１０〜６０°、ステップ幅０．０２°、Ｆｉｘ
ｅｄ Ｔｉｍｅ １０秒、スリットＤＳ＝ＳＳ＝０．５
°、ＲＳ＝０．１５°）。このＸ線回折装置の入射側に
は、Ｇｅ（１１１）湾曲型モノクロメーターを備える光
学系を設けた。アルミナを内部標準試料とするリートベ
ルト解析法（解析ソフト：「ＲＩＥＴＡＮ」）により、
結晶化ガラス中の各結晶相の結晶化率を求めた。「ＲＩ
ＥＴＡＮ」による結晶の定量は、F.Izumi.らが、「J.Ap
pl.Crystallogr. 」， 20,411(1987) に述べている。

【００３６】この結果、表２、表４に示すように、ペタ
ライト（Ｌｉ₂ Ｏ・Ａｌ ₂ Ｏ₃ ・８ＳｉＯ₂ ）、リチウ
ムダイシリケート（Ｌｉ₂ Ｏ・２ＳｉＯ₂ ：「Ｌ２Ｓ」
と表記した）、α−石英（化学式ＳｉＯ₂ ）、スポジュ
ーメン（Ｌｉ₂ Ａｌ₂ Ｓｉ₈ Ｏ₂₀）、クリストバライト
（化学式ＳｉＯ₂ ）等の結晶が観察された。

【００３７】（熱膨張係数αの測定）結晶化の終わっ
た、寸法５×３０×厚さ０．８５ｍｍの板状試料を切断
し、長さ２０ｍｍの測定試料を作成した。熱膨張率測定
装置（マックサイエンス製「ＴＤ５０００Ｓ」）で、試
験試料の熱膨張率を−７５°〜＋１１０°の範囲で測定
した。−５０℃を基準にして、＋７０℃までの熱膨張係
数を計算した。なお、熱膨張係数は、結晶化温度の微細
な変化に対して敏感に反応する。このため、表２、表４
に示すαの数値は、（表１、表３に示した各結晶化温
度）±１０℃で結晶化させた３個の測定試料のαの平均
値である。

【００３８】（精密研磨加工後の平滑面におけるＲａの
測定）結晶相の同定の終わった寸法１５×１５ｍｍ×厚
さ０．８５ｍｍの板状試料を、＃７００の研削砥石を使
って、板状試料の厚さが０．６４５ｍｍになるまで精密
研削加工した。次いで、両面ポリッシュ盤および１．０
μｍの酸化セリウム砥粒を使って、板状試料の厚さが
０．６３５ｍｍになるまでポリッシュ加工した。更に、
０．０２μｍの酸化セリウム砥粒を使って、２段階目の
ポリッシュ加工を行い、厚さ０．６３５ｍｍの精密研磨
体を得た。シリコン製のカンチレバー（共振周波数３０
０ｋＨｚ）を用いた、原子間力顕微鏡（ＰＳＩ製Ｍ５）
のタッピングモードで、精密研磨体の表面の中心線平均
表面粗さ（Ｒａ）を測定した。

【００３９】（微構造観察）精密研磨体を、５％フッ酸
水溶液で３分間エッチングした後、走査型電子顕微鏡で
結晶の粒径を観察した。

【００４０】（Ｌｉ溶出量の測定）外径６５．００ｍ
ｍ、内径２０．２５ｍｍ及び厚さ０．６３５ｍｍのディ
スク状の測定試料（精密研磨体）を得た。シリコン製の
容積３００ｍｌの密閉容器に、純水５０ｍｌとディスク
状の測定試料とを入れた。測定試料の両面から溶出する
ように、シリコン製の棒を測定試料の下に置いた。クリ
ーンオーブンに密閉容器を入れ、８０℃で、２２時間保
持し、純水中にＬｉを溶出させた。溶出済の水の中のＬ
ｉ含有量を、原子吸光度法によって測定した。

【００４１】

【表１】

【００４２】

【表２】

【００４３】

【表３】

【００４４】

【表４】

【００４５】実施例１−５の結晶化ガラスの結晶相は、
ペタライト、リチウムダイシリケートおよびα−石英で
ある。熱膨張係数は、６５〜８６×１０^-7／Ｋであっ
た。粒子径は、いずれも０．３μｍ以下であり、Ｒａは
５オングストローム以下であった。またリチウムの溶出
量は、いずれも２５μｇ以下であった。

【００４６】実施例１と比較例１との組成は同一である
が、結晶化温度は、比較例１の方が高い。このためにペ
タライトが減少し、ペタライト相が副結晶相となってい
た。実施例１では、結晶化温度を比較例１よりも下げる
ことで、ペタライト相が主結晶相となるように調節して
いる。比較例１では、リチウム溶出量が３５μｇとなっ
た。これは実施例１の約２倍に達する。

【００４７】比較例１、３、４から、ペタライト相が２
０重量％以上析出していないと、リチウム溶出量は２５
μｇ以上になることが分かる。

【００４８】実施例２、比較例３より、ＳｉＯ₂ の量が
８０重量％を超えると、所望の結晶相、特にα−石英相
が析出せず、Ｒａが１０オングストロームに達した。ま
た、リチウム溶出量も２５μｇを超えた。従って、本例
では、ＳｉＯ₂ の量は７０〜８０重量％にした方がよ
い。

【００４９】実施例２、比較例２より、Ａｌ₂ Ｏ₃ の量
が５重量％未満であると、所望の結晶相、特にα−石英
相が得られず、Ｒａが７オングストロームに達し、リチ
ウム溶出量が３０μｇ以上になる。従って、本例では、
Ａｌ₂ Ｏ₃ の量は、５〜１０重量％にした方がよい。

【００５０】実施例４、５、比較例３より、Ｌｉ₂ Ｏの
量が７重量％未満では、所望の結晶相が得られず、Ｒａ
が１０オングストロームとなる。従って、本例では、Ｌ
ｉ₂ Ｏの量は、７〜１０重量％がよい。

【００５１】図１として、実施例１の結晶化ガラスのリ
ートベルト解析図を添付した。２３．９〜２４．８°付
近に３本のピークが見える。この３本のピークのうち、
左端のピーク（２３．９°付近）がペタライトのメイン
ピークである。ペタライトのメインピークが比較的に大
きくなっている。また、２６°付近のα−石英のピーク
は、あまり大きくなっていない。解析結果より、ペタラ
イト：３３重量％、リチウムダイシリケート：２７重量
％、α−石英：１７重量％が得られた。他の実施例、比
較例の各結晶化ガラスの結晶相も同様に定量した。

【００５２】

【発明の効果】以上述べたように、本発明によれば、リ
チウムダイシリケート相およびα−石英相を有するＳｉ
Ｏ₂ −Ａｌ₂ Ｏ₃ −Ｌｉ₂ Ｏ系の結晶化ガラスにおい
て、α−石英相の凝集や結晶粒子の粗大化を抑制し、−
５０℃〜＋７０℃の熱膨張係数を小さくし、かつガラス
からのリチウムの溶出を防止できる。

【図面の簡単な説明】

【図１】実施例１の結晶化ガラスのリートベルト解析図
である。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Ｆターム(参考） 4G062 AA11 BB01 DA07 DB03 DC01 DD03 DE01 DE02 DE03 DF01 EA03 EB01 EC01 EC02 EC03 ED01 EE01 EE02 EE03 EF01 EG01 EG02 EG03 FA01 FB01 FC01 FC02 FC03 FD01 FE01 FF01 FG01 FG02 FG03 FH01 FJ01 FK01 FL01 GA01 GA10 GB01 GC01 GD01 GE01 HH01 HH03 HH05 HH07 HH09 HH11 HH13 HH15 HH17 HH20 JJ01 JJ03 JJ04 JJ05 JJ07 KK01 KK03 KK05 KK07 KK10 MM27 NN30 NN34 QQ02 QQ06 QQ09 5D006 CB04 CB07 DA03

Claims (6)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】主結晶相がペタライト相（Ｌｉ₂ Ｏ・Ａｌ
   ₂ Ｏ₃ ・８ＳｉＯ₂ ）およびリチウムダイシリケート相
   （Ｌｉ₂ Ｏ・２ＳｉＯ₂ ）であり、副結晶相がα−石英
   相である結晶化ガラスであって、リートベルト定量法に
   よる各結晶定量値が以下の範囲内にあることを特徴とす
   る、結晶化ガラス。 ２０重量％≦ペタライト相≦４０重量％ ２５重量％≦リチウムダイシリケート相≦４５重量％ １０重量％≦α−石英相≦２５重量％
2. 【請求項２】以下の酸化物組成を有することを特徴とす
   る、請求項１記載の結晶化ガラス。 ７０重量％≦ＳｉＯ₂ ≦ ８０重量％ ５重量％≦Ａｌ₂ Ｏ₃ ≦１０重量％ ７重量％≦Ｌｉ₂ Ｏ≦ １０重量％ １重量％≦Ｐ₂ Ｏ₅ ≦ ３重量％ ０重量％≦Ｋ₂ Ｏ≦ ３重量％ ０重量％≦ＣａＯ≦ ３重量％ ０重量％≦ＢａＯ≦ ３重量％ ０重量％≦ＺｎＯ≦ ３重量％ ０重量％≦ＺｒＯ₂ ≦ ６重量％ ０重量％≦Ｓｂ₂ Ｏ₃ ≦ ２重量％ ０重量％≦Ｎｂ₂ Ｏ₅ ≦ ６重量％
3. 【請求項３】−５０℃〜＋７０℃における熱膨張係数が
   ６０〜９０×１０^-7／ｋであり、精密研磨後の中心線平
   均表面粗さＲａが５オングストローム以下であることを
   特徴とする、請求項１または２記載の結晶化ガラス。
4. 【請求項４】外径６５．００ｍｍ、内径２０．２５ｍｍ
   及び厚さ０．６３５ｍｍの精密研磨後の円板状試料を８
   ０℃、５０ｍｌの純水中に２２時間浸した際、リチウム
   の溶出量が２５μｇ以下であることを特徴とする、請求
   項１−３のいずれか一つの請求項に記載の結晶化ガラ
   ス。
5. 【請求項５】請求項１−４のいずれか一つの請求項に記
   載の結晶化ガラスからなることを特徴とする、磁気ディ
   スク用基板。
6. 【請求項６】請求項５記載の磁気ディスク用基板と、こ
   の磁気ディスク用基板の平滑面上に形成されている下地
   膜と、この下地膜上の金属磁性層とを備えていることを
   特徴とする、磁気ディスク。