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JP2001068298A - プラズマノズル - Google Patents

プラズマノズル

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Publication number
JP2001068298A
JP2001068298A JP2000206589A JP2000206589A JP2001068298A JP 2001068298 A JP2001068298 A JP 2001068298A JP 2000206589 A JP2000206589 A JP 2000206589A JP 2000206589 A JP2000206589 A JP 2000206589A JP 2001068298 A JP2001068298 A JP 2001068298A
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casing
plasma nozzle
plasma
passage
nozzle
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JP2000206589A
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Peter Foernsel
ピーター フォーンセル
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Agrodyn Hochspannungstechnik GmbH
Original Assignee
Agrodyn Hochspannungstechnik GmbH
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Publication date
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    • H05H—PLASMA TECHNIQUE; PRODUCTION OF ACCELERATED ELECTRICALLY-CHARGED PARTICLES OR OF NEUTRONS; PRODUCTION OR ACCELERATION OF NEUTRAL MOLECULAR OR ATOMIC BEAMS
    • H05H1/00—Generating plasma; Handling plasma
    • H05H1/24—Generating plasma
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    • H05H1/32—Plasma torches using an arc
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    • H—ELECTRICITY
    • H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
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    • H05H1/32—Plasma torches using an arc
    • H05H1/34—Details, e.g. electrodes, nozzles
    • H05H1/3463—Oblique nozzles
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    • H05H1/24—Generating plasma
    • H05H1/26—Plasma torches
    • H05H1/32—Plasma torches using an arc
    • H05H1/34—Details, e.g. electrodes, nozzles
    • H05H1/3478—Geometrical details

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  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Plasma & Fusion (AREA)
  • Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
  • Geometry (AREA)
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  • Other Investigation Or Analysis Of Materials By Electrical Means (AREA)
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Abstract

(57)【要約】 （修正有） 【課題】 プラズマジェットを、前処理すべき表面部分
にまでより容易に到達させることができるプラズマノズ
ルを提供すること。 【解決手段】 特に、表面を前処理するためのプラズマ
ノズルである。そのノズルは、軸芯を持つノズル通路１
６を区画して口部１８を持つケーシング１０を有し、そ
のノズル通路には、作動ガスが通過するようにしてあ
る。また、そのノズルは、ノズル通路に対して同軸に配
置された電極２４と、ノズル通路を囲む対向電極とを持
ち、そのノズル通路の口部が、ノズル通路の軸芯Ａに対
して所定角度で傾斜している。

Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、特に前処理するた
めに用いられるプラズマノズルであって、作動ガスが通
過するノズル通路を区画形成するチューブ状のケーシン
グと、前記ノズル通路内に同軸状に配置される電極と、
前記ノズル通路を囲む対向電極とを有するプラズマノズ
ルに関する。
【０００２】
【従来の技術】この種のプラズマノズルは、ドイツ国出
願ＤＥ１９５３２４１２Ａに開示され、たとえばプラス
チック（合成樹脂）材料の表面を前処理するために用い
られ、前処理された表面に、粘着剤、印刷用インキおよ
びこれに類するものを被覆することを可能にしている。
このような前処理は次のような理由から必要である。す
なわち、プラスチック表面は、通常では液体に対して濡
れ性が良くなく、そのために、印刷用インキや粘着剤な
どを受け付けないことからである。前処理を行うことに
より、プラスチック材料の表面構造を変化させることが
でき、比較的に大きな表面張力を持つ液体に対しても、
濡れ性が良くなる。前処理された表面を濡らすことがで
きる液体の表面張力は、前処理の品質の指標となる。
【０００３】公知のプラズマノズルは、比較的に冷た
く、それにも拘わらず比較的高反応性のプラズマジェッ
トを提供し、そのジェットは、ロウソクの炎のような形
と寸法を持ち、その結果、比較的に深い起伏を持つプロ
ファイル形状のワークピースの前処理を可能としてい
る。高反応性のプラズマジェットにより、短い前処理時
間で十分であり、そのため、ワークピースは、比較的に
高速度でプラズマジェットに対して通過移動させればよ
い。このように比較的低温度のプラズマジェットは、熱
感応性プラスチック材料の前処理も可能としている。ワ
ークピースの背面に対向電極を必要としないので、任意
の厚いブロック状のワークピース、中空体およびこれに
類するものの表面を、容易に処理することができる。よ
り大面積の表面を均一に前処理するために、前記の公報
では、互い違いに配置された複数のプラズマノズルの配
列を提案している。しかしながら、この場合には、複雑
な装備を必要とする。
【０００４】比較的に大面積を表面処理するために、ド
イツ国出願ＤＥ２９８０５９９９Ｕには、二つのプラズ
マノズルを、回転ヘッドに対して軸芯をずらした平行な
軸芯を以て装着した装置が開示してあり、その回転ヘッ
ドを用いて表面を走査した場合には、その回転ヘッドの
直径に相当する幅を持つストライプ状に、前処理が達成
されるようになっている。しかしながら、このような装
置では、回転ヘッドの直径に相当する程度の曲率半径を
持つ膨出面を処理するためには適さない。しかも、少な
くとも二つのノズルの軸芯ずれ配置のためと、比較的に
高い回転速度のために、たとえばロボットアームを用い
て回転ヘッドを少なくとも一軸に沿って移動させる時
に、比較的に大きな慣性力とジャイロスコープ力とが生
じてしまう。
【０００５】一般に、公知のプラズマノズルは、ノズル
通路の軸方向に沿ってプラズマを吐出する。複雑な形状
を持つワークピースの場合には、特にロボットを用いて
ワークピースに沿ってノズルを移動させる時に、処理す
べき場所によってはジェットを届かせることが困難であ
るという課題を有する。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】それ故に、本発明の目
的は、プラズマジェットを、前処理すべき表面部分にま
でより容易に到達させることができるプラズマノズルを
提供することである。
【課題を解決するための手段】上記目的は、上述したタ
イプのプラズマノズルにおいて、ノズル通路の口部が、
当該ノズル通路の軸芯に対して所定角度で傾斜している
ことを特徴とするプラズマノズルにより達成することが
できる。
【０００７】このプラズマノズルによれば、ノズル通路
の軸芯に対して傾斜したプラズマジェットを生成し、そ
の結果、たとえばワークピースのアンダーカット部分な
どに対しても、より容易にジェットを到達させることが
できる。
【０００８】このようにプラズマジェットが、ノズルの
口部において、元の軸芯から偏向させられたとしても、
実験により、プラズマジェットの安定性に悪影響を与え
ないと共に、表面の前処理効率にも悪影響を与えないこ
とが確認された。
【０００９】好ましい実施形態では、ノズル通路を構成
するケーシング、またはそのケーシングの一部を、その
長手軸芯回りに回転可能とする。ケーシングを高速で回
転させ、プラズマノズルをワークピースに沿って通過移
動させることで、一回の通過により、プラズマジェット
の直径よりも可成り大きな幅のストライプ状に表面を処
理することが可能になる。単一のノズルのみを用いるこ
とから、前述した回転ヘッドの場合に比較して、装置備
品の複雑性を、可成り低減することができる。それに加
えて、ケーシングが、それ自身の長手軸の回りに回転す
るために、慣性力を大幅に低減することができる。この
ように、本発明のプラズマノズルは、コンパクトな構成
を有するにもかかわらず、比較的に大面積の効率的なプ
ラズマ処理を実現することができる。
【００１０】回転軸に対するプラズマジェットの偏向角
度は、必要に応じて選択することができ、たとえば９０
度以上もの角度にまでも設定することができる。その実
施形態の場合には、パイプまたはチューブの内表面の前
処理のために特に適している。押し出しチューブ成形の
ための押し出し成形用ダイの環状隙間の内部にプラズマ
ノズルを装着することも可能であり、その場合には、押
し出し成形機から押し出された直後に、押し出し成形の
チューブに対して前処理することも可能である。
【００１１】好ましくは、ケーシングは、前記電極と、
ノズル通路の内部に装着してある作動ガス用供給システ
ムとに対して、回転自在であり、前記電極とガス供給シ
ステムとは、回転不能に保持され、周囲ケーシングのみ
が回転される。その結果、作動ガスの供給のためと、電
極への電力供給のためとには、滑動式接触部分、ロータ
リジョイント、またはこれに類するものを、何ら必要と
しない。対向電極は、回転するケーシングにより直接に
形成しても良く、そのケーシングは、好ましくは接地さ
れ、そのことにより、ケーシングおよびそれに関連する
回転駆動システムを保護して、接続または作業者の接触
を防止する必要は少なくなる。
【００１２】ケーシングの外周には、ケーシングを回転
駆動するための駆動ディスクまたは噛み合いギアを具備
しても良い。
【００１３】従来技術で記述したタイプのプラズマノズ
ルと同様に、作動ガスは、好ましくは渦巻き回転させら
れ、ノズル通路内を渦巻き状に流通し、電極と対向電極
との間に形成される電気アークは、ノズル通路の口部領
域に到達するまでは、その渦巻き中心部を通ることにな
る。このようにしてプラズマジェットは安定化され、渦
巻き中心部では、作動ガスは、電気アークに対して緊密
な接触に晒されることになり、プラズマの反応性が強化
される。
【００１４】その他の好ましい実施形態では、ノズル通
路の口部が、口金部分に形成され、その口金部粉がケー
シングに対して挿入して装着され、その口金部分の内部
に、ケーシングの軸芯に対して傾斜する通路が形成され
る。口金部分の通路は、その下流端に向けてテーパ状に
細くなるものであることが好ましい。
【００１５】好ましくは、口金部分は、ケーシングの内
部に、たとえばマグネット軸受または流体力学的軸受な
どのような非接触式の軸受により、回転自在に保持され
る。
【００１６】対向電極は、その口金部分により形成する
ことが好ましく、非接触式の軸受により、ケーシングと
口金部分との間に隙間を形成し、その隙間の寸法は、当
該隙間を通してアーク放電が生じ、口金部分の接地を可
能とする程度の寸法に設定してあることが好ましい。
【００１７】非接触式の軸受は、軸方向／半径方向軸受
であっても良く、口金部分は、当該口金部分を通して流
れる作動ガスにより軸受に対して流体力学的にバイアス
付勢されるようにしても良い。
【００１８】さらに、前記口金部分は、流体力学的手段
により回転駆動されるものでも良い。
【００１９】
【発明の実施の形態】以下、本発明を、図面に示す実施
形態に基づき説明する。ここにおいて、図１はプラズマ
ノズルの軸方向断面図、図２は本発明の変形実施形態に
係るプラズマノズルの口部付近の要部断面図である。
【００２０】図１に示すプラズマノズルは、チューブ状
ケーシング１０を持ち、そのケーシングは、図示するよ
うに、上部において拡径された部分を持ち、その拡径さ
れた上部は、軸受１２などの手段により固定支持チュー
ブ１４に対して回転自在に保持してある。ケーシング１
０の内部は、ノズル通路１６を形成しており、その通路
は、支持チューブ１４の開口端から、図示上の下端部に
位置するケーシングの端部にある口部１８に向けて案内
するようになっている。
【００２１】電気絶縁性のセラミック製パイプ２０が、
支持チューブ１４内に挿入してある。たとえば空気など
の作動ガスが、支持チューブ１４およびセラミック製パ
イプ２０を介してノズル通路１６の内部に供給される。
セラミック製パイプ２０の内部に挿入してある渦巻きシ
ステム２２を用いることにより、作動ガスは渦を巻き、
ノズル通路１６を介して口部１８へと渦巻き状に流れ
る。その状態を、図において、螺旋形の矢印で示す。ノ
ズル通路１６の内部では、渦巻き中心部分が形成され、
その中心部分は、ケーシングの軸芯Ａに沿って延びるこ
とになる。
【００２２】渦巻きシステム２２には、スタッド形状の
電極２４が装着してあり、その電極は、ノズル通路１６
へと同軸状に突出してあり、その電極には、高電圧発生
器２６などの手段を用いて、高周波の交流が供給される
ようになっている。金属で構成してあるケーシング１０
は、軸受１２および支持チューブ１４を介して接地して
あり、対向電極として機能し、電極２４とケーシング１
０との間には、電気放電が生成される。高電圧発生器２
６のスイッチが入れられると、渦巻きシステム２２およ
び電極２４の位置で最初にコロナ放電が生成される。そ
れは、高周波の交流によるためと、セラミック製パイプ
２０の誘電特性とに基づく。次に、電極２４からケーシ
ング１０に向けてのアーク放電が、コロナ放電により誘
起される。この放電の電気アークは、作動ガスの渦巻き
流れにより、渦巻き流れの中心部分内を通り、電極２４
の先端から略直線状に沿って延び、ケーシング１０の口
部に到達する場合でのみ、ケーシングの壁面に向けて半
径方向に枝分かれする。このようにして、口部１８を通
して存在するプラズマジェット２８が発生する。
【００２３】ノズル通路の口部１８は、金属製口金部分
３０により形成してあり、その口金部分は、ケーシング
１０のねじ孔３２に対してねじ止めしてあり、その口金
部分には、口部１８に向けてテーパ状に向けて細くなる
通路３４が形成してあり、その通路３４は、軸芯Ａに対
して傾斜するようになっている。このようにして口部１
８から存在するプラズマジェット２８とケーシングの軸
芯Ａとの成す角度は、図示する実施形態では、約４５度
程度である。なお、その角度は、その口金部分３０を交
換することにより、必要に応じて変化させることができ
る。
【００２４】ケーシング１０の拡張された上部分は、摩
擦ディスクまたは噛み合いギア３６を保持し、たとえば
噛み合い歯付きベルトまたはピニオンギアなどを介して
モータ（図示せず）などに駆動連結してある。動作に際
しては、モータにより駆動されるケーシング１０が、軸
芯Ａを中心として高回転数で回転させられ、その結果、
プラズマジェット２８が、円錐の母線を描き、それが、
処理すべきワークピースの表面上を掃射する。そして、
プラズマノズルがワークピースの表面に沿って移動する
ことで、または逆に、ワークピースがプラズマノズルに
対して相対的に移動することで、プラズマジェット２８
により描かれた円錐の直径に対応する幅のストライプ状
に、ワークピースの表面に対する比較的に均一な前処理
を達成する。前処理すべきストライプの幅は、ワークピ
ースからの口部３０までの距離を変化させることにより
制御することができる。ワークピースの表面上を照射し
て、それ自身が渦巻き回転するプラズマジェット２８に
より、プラズマを用いたワークピースの表面に対する強
烈な処理が達成される。プラズマジェットの渦巻き回転
方向は、ケーシング１０の回転方向に対して同じ方向で
も異なる方向でも良い。
【００２５】図２は、口金部分３０のみが、静止したケ
ーシングに対して回転する実施形態を示す。ここでは、
ケーシング１０は、その下流端において、円錐テーパ状
に成形してあり、口金部分３０の拡径された円錐状の上
流端部を受けるための軸方向／回転方向軸受を形成して
いる。図示する実施形態では、その軸受は、マグネット
軸受３８により形成してある。口金部分３０は、存在す
る空気の動圧の作用下で、ケーシング１０の軸受表面に
対して押し付けられる一方で、他方において、マグネッ
ト軸受３８により、ケーシング１０に対して接触しない
ように保持され、その結果、外周面において、口金部分
とケーシングとの間には、僅かに０．１から０．２mm程
度の幅の小さな隙間が形成される。この隙間を通しての
アーク放電により、口金部分３０が接地される。
【００２６】口金部分３０のための回転駆動システムと
して、図示する実施形態では、たとえばエアノズル４０
が具備された流体力学的な駆動システムを採用してあ
り、エアノズルからの空気を口金部分の外周に具備して
あるブレード４２に対して接線方向から吹き付けること
により、口金部分を回転させるようにしてある。また、
変形例として、このような流体力学的な駆動システム
は、口金部分の内部に具備してあるブレードまたはフィ
ンにより提供されても良く、通路３４を通しての渦巻き
流れが、これらのブレードまたはフィンに衝突するよう
に構成してあっても良い。また、その他の変形例では、
口金部分３０の回転移動は、口部１８の向きを周方向に
沿って僅かに傾斜させることにより達成しても良く、口
部から噴射される空気の反動により口金部分が回転する
ように構成しても良い。
【００２７】このような本発明の実施形態では、回転駆
動システムの構成を単純化することができ、回転する部
材の慣性モーメントを最小限にできるという利点を持
つ。
【００２８】なお、本発明は、上述した実施形態に限定
されるものではなく、本発明の範囲内で種々に改変する
ことができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】 図１はプラズマノズルの軸方向断面図であ
る。
【図２】 図２は本発明の変形実施形態に係るプラズマ
ノズルの口部付近の要部断面図である。
【符号の説明】
１０… ケーシング １２… 軸受 １４… 支持チューブ １６… ノズル通路 １８… 口部 ２０… パイプ ２２… 渦巻きシステム ２４… 電極 ２８… プラズマジェット ３０… 口金部分３０ ３４… 通路 ３８… マグネット軸家 ４０… エアノズル ４２… ブレード
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (71)出願人 500321346 Ｂｉｓａｍｗｅｇ 10， Ｄ−33803 Ｓ ｔｅｉｎｈａｇｅｎ， Ｇｅｒｍａｎｙ

Claims (19)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】 特に前処理するために用いられるプラズ
    マノズルであって、 口部と軸芯とを持ち、作動ガスが通過するノズル通路を
    区画形成するケーシングと、 前記ノズル通路内に同軸状に配置される電極と、 前記ノズル通路を囲む対向電極とを有し、 前記ノズル通路の口部が、前記ノズル通路の軸芯に対し
    て所定角度で傾斜していることを特徴とするプラズマノ
    ズル。
  2. 【請求項２】 請求項１に記載のプラズマノズルであっ
    て、前記ケーシングが前記ノズル通路の軸芯回りに回転
    自在であるプラズマノズル。
  3. 【請求項３】 請求項２に記載のプラズマノズルであっ
    て、前記電極が静止して保持され、前記ケーシングが前
    記電極に対して回転自在であるプラズマノズル。
  4. 【請求項４】 請求項３に記載のプラズマノズルであっ
    て、前記ケーシングが支持チューブに対して回転自在に
    保持され、前記支持チューブを通して前記作動ガスが前
    記ノズル通路に供給されるプラズマノズル。
  5. 【請求項５】 請求項１に記載のプラズマノズルであっ
    て、前記対向電極が前記ケーシングにより形成してある
    プラズマノズル。
  6. 【請求項６】 請求項５に記載のプラズマノズルであっ
    て、前記対向電極が接地してあるプラズマノズル。
  7. 【請求項７】 請求項３に記載のプラズマノズルであっ
    て、電気導電性の軸受を有し、その軸受が、支持チュー
    ブに対して前記ケーシングを回転自在に保持し、前記支
    持チューブを通して前記作動ガスが前記ノズル通路に供
    給されるように構成してあり、前記ケーシングが前記対
    向電極を形成し、前記電気導電性の軸受および支持チュ
    ーブを介して前記ケーシングが接地してあるプラズマノ
    ズル。
  8. 【請求項８】 請求項７に記載のプラズマノズルであっ
    て、前記ケーシングの外周には、当該ケーシングを回転
    駆動するための駆動ディスクまたは噛み合いギアを具備
    しているプラズマノズル。
  9. 【請求項９】 請求項１に記載のプラズマノズルであっ
    て、前記ノズル通路の口部が、前記ケーシングに装着し
    てある口金部分に形成してあり、口金部分の内部には、
    前記ケーシングの軸芯に対して傾斜している通路が区画
    形成してあるプラズマノズル。
  10. 【請求項１０】 請求項９に記載のプラズマノズルであ
    って、前記口金部分の通路が、その口金部分の下流端に
    向けて細くなるテーパ状にしてあるプラズマノズル。
  11. 【請求項１１】 請求項９に記載のプラズマノズルであ
    って、前記口金部分が前記ケーシングに対して回転自在
    にしてあるプラズマノズル。
  12. 【請求項１２】 請求項１１に記載のプラズマノズルで
    あって、前記口金部分が、非接触式軸受によりケーシン
    グに保持してあるプラズマノズル。
  13. 【請求項１３】 請求項１２に記載のプラズマノズルで
    あって、前記対向電極が前記口金部分により形成され、
    前記非接触式軸受により、前記ケーシングおよび口金部
    分の間に隙間が形成され、前記隙間が、当該隙間を通し
    てアーク放電が生じる程度の隙間寸法に設定されて、前
    記口金部分を接地するように構成してあるプラズマノズ
    ル。
  14. 【請求項１４】 請求項１３に記載のプラズマノズルで
    あって、前記非接触式軸受が、軸方向／半径方向軸受で
    あり、前記口金部分が、当該口金部分を通して流れる作
    動ガスにより、前記軸受に対して流体力学的にバイアス
    付勢されることを特徴とするプラズマノズル。
  15. 【請求項１５】 請求項１１に記載のプラズマノズルで
    あって、前記口金部分が、流体力学手段により回転駆動
    されるプラズマノズル。
  16. 【請求項１６】 請求項９に記載のプラズマノズルであ
    って、前記口金部分が、前記ケーシングに対して着脱自
    在であるプラズマノズル。
  17. 【請求項１７】 請求項１に記載のプラズマノズルであ
    って、前記作動ガスを、前記ノズル通路内で渦巻き状に
    流すための渦巻きシステムをさらに有するプラズマノズ
    ル。
  18. 【請求項１８】 請求項７に記載のプラズマノズルであ
    って、前記作動ガスを、前記ノズル通路内で渦巻き状に
    流すための渦巻きシステムをさらに有するプラズマノズ
    ル。
  19. 【請求項１９】 請求項１１に記載のプラズマノズルで
    あって、前記作動ガスを、前記ノズル通路内で渦巻き状
    に流すための渦巻きシステムをさらに有するプラズマノ
    ズル。
JP2000206589A 1999-07-09 2000-07-07 プラズマノズル Expired - Lifetime JP4111659B2 (ja)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE29911974U DE29911974U1 (de) 1999-07-09 1999-07-09 Plasmadüse
DE29911974.2 1999-07-09

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2001068298A true JP2001068298A (ja) 2001-03-16
JP4111659B2 JP4111659B2 (ja) 2008-07-02

Family

ID=8075901

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2000206589A Expired - Lifetime JP4111659B2 (ja) 1999-07-09 2000-07-07 プラズマノズル

Country Status (8)

Country Link
US (1) US6262386B1 (ja)
EP (1) EP1067829B1 (ja)
JP (1) JP4111659B2 (ja)
AT (1) ATE326827T1 (ja)
DE (2) DE29911974U1 (ja)
DK (1) DK1067829T3 (ja)
ES (1) ES2265312T3 (ja)
PT (1) PT1067829E (ja)

Cited By (32)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2002299099A (ja) * 2001-03-29 2002-10-11 Yamada Kinzoku Boshoku Kk プラズマアークの発生装置及び発生方法
JP2007227296A (ja) * 2006-02-27 2007-09-06 Noritsu Koki Co Ltd ワーク処理装置
JP2007234274A (ja) * 2006-02-28 2007-09-13 Noritsu Koki Co Ltd ワーク処理装置及びプラズマ発生装置
JP2008047446A (ja) * 2006-08-17 2008-02-28 Matsushita Electric Ind Co Ltd 大気圧プラズマ発生装置
JP2008059837A (ja) * 2006-08-30 2008-03-13 Noritsu Koki Co Ltd プラズマ発生装置およびそれを用いるワーク処理装置
JP2008059838A (ja) * 2006-08-30 2008-03-13 Noritsu Koki Co Ltd プラズマ発生装置およびそれを用いるワーク処理装置
JP2008059839A (ja) * 2006-08-30 2008-03-13 Noritsu Koki Co Ltd プラズマ発生装置およびそれを用いるワーク処理装置
JP2008300279A (ja) * 2007-06-01 2008-12-11 Noritsu Koki Co Ltd プラズマ発生装置およびそれを用いるワーク処理装置
JP2009525566A (ja) * 2006-01-30 2009-07-09 ノーリツ鋼機株式会社 ワーク処理装置及びプラズマ発生装置
JP2010097931A (ja) * 2008-10-20 2010-04-30 Inpro Innovations Ges Fuer Fortgeschrittene Produktionssysteme In Der Fahrzeugindustrie Mbh プラズマ・ジェットにより部品表面の前処理および／または後処理をするためのデバイス
JP2011060688A (ja) * 2009-09-14 2011-03-24 Kasuga Electric Works Ltd プラズマ表面処理装置
US7921804B2 (en) 2008-12-08 2011-04-12 Amarante Technologies, Inc. Plasma generating nozzle having impedance control mechanism
US7976672B2 (en) 2006-02-17 2011-07-12 Saian Corporation Plasma generation apparatus and work processing apparatus
US8035057B2 (en) 2004-07-07 2011-10-11 Amarante Technologies, Inc. Microwave plasma nozzle with enhanced plume stability and heating efficiency
US8624340B2 (en) 2010-09-02 2014-01-07 Panasonic Corporation Plasma processing apparatus and method thereof
US8703613B2 (en) 2010-05-13 2014-04-22 Panasonic Corporation Plasma processing apparatus and plasma processing method
KR101479767B1 (ko) * 2012-12-26 2015-01-12 주식회사 다원시스 아크제트 플라스마 발생기
JP2015501918A (ja) * 2011-11-09 2015-01-19 ブレント フリーゼ， プラズマを高エネルギー状態に圧縮するための方法および装置
CN104640339A (zh) * 2015-01-12 2015-05-20 广东韦达尔科技有限公司 一种等离子表面处理装置
JP2015516642A (ja) * 2011-12-15 2015-06-11 ルノー エス．ア．エス． 熱可塑性材料製部品のプラズマ表面処理用の自動デバイス
US9343269B2 (en) 2011-10-27 2016-05-17 Panasonic Intellectual Property Management Co., Ltd. Plasma processing apparatus
JP2017045713A (ja) * 2015-08-25 2017-03-02 馗鼎奈米科技股▲分▼有限公司 アーク型大気圧プラズマ装置
JP2017507449A (ja) * 2013-12-11 2017-03-16 アプライド プラズマ インコーポレイテッド カンパニー リミテッドＡｐｐｌｉｅｄ Ｐｌａｓｍａ Ｉｎｃ Ｃｏ．， Ｌｔｄ． プラズマ発生装置
WO2018026026A1 (ko) * 2016-08-02 2018-02-08 주식회사 피글 플라즈마 증강 부재, 그를 포함하는 플라즈마 공급 장치 및 의료 기기
US10115565B2 (en) 2012-03-02 2018-10-30 Panasonic Intellectual Property Management Co., Ltd. Plasma processing apparatus and plasma processing method
US10147585B2 (en) 2011-10-27 2018-12-04 Panasonic Intellectual Property Management Co., Ltd. Plasma processing apparatus
KR102032294B1 (ko) * 2018-04-13 2019-10-15 주식회사 에이피피 대기압 플라즈마 발생장치
WO2021079420A1 (ja) 2019-10-22 2021-04-29 株式会社Ｆｕｊｉ プラズマ発生装置、およびプラズマ処理方法
JP2022026423A (ja) * 2020-07-31 2022-02-10 株式会社デンソー プラズマ処理装置用のプラズマ放出ノズル及びプラズマ処理装置
JP2022538202A (ja) * 2020-05-22 2022-09-01 フン リ，チャン 大気圧プラズマ発生装置を用いた円筒状及び環状の被処理物の表面処理システム及び方法
WO2024042577A1 (ja) 2022-08-22 2024-02-29 株式会社Fuji プラズマ発生装置
EP4554334A1 (en) 2023-11-10 2025-05-14 DAIHEN Corporation Plasma processing apparatus

Families Citing this family (52)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE29919142U1 (de) 1999-10-30 2001-03-08 Agrodyn Hochspannungstechnik GmbH, 33803 Steinhagen Plasmadüse
US20040011378A1 (en) * 2001-08-23 2004-01-22 Jackson David P Surface cleaning and modification processes, methods and apparatus using physicochemically modified dense fluid sprays
US6774336B2 (en) 2001-02-27 2004-08-10 Thermal Dynamics Corporation Tip gas distributor
AT412719B (de) * 2003-06-16 2005-06-27 Eckelt Glas Gmbh Verfahren und vorrichtung zum bereichsweisen entschichten von glasscheiben
US8134097B2 (en) * 2004-08-23 2012-03-13 Illinois Tool Works Inc. Multi-position head plasma torch
US20060052883A1 (en) * 2004-09-08 2006-03-09 Lee Sang H System and method for optimizing data acquisition of plasma using a feedback control module
DE102005020511A1 (de) * 2005-04-29 2006-11-09 Basf Ag Verbundelement, insbeondere Fensterscheibe
EP1965833B1 (de) * 2005-12-20 2013-08-28 PlasmaTreat GmbH Verfahren zur desinfektion von gegenständen
US20070284342A1 (en) * 2006-06-09 2007-12-13 Morten Jorgensen Plasma treatment method and apparatus
US7547861B2 (en) * 2006-06-09 2009-06-16 Morten Jorgensen Vortex generator for plasma treatment
WO2008061602A1 (de) 2006-11-23 2008-05-29 Plasmatreat Gmbh Verfahren und vorrichtung zum erzeugen eines plasmas und anwendungen des plasmas
DE102006060942A1 (de) 2006-12-20 2008-06-26 Plasma Treat Gmbh Vorrichtung und Verfahren zur Erzeugung eines Plasmastrahls
DE102007024090A1 (de) 2007-05-22 2008-11-27 Diener, Christof, Dipl.-Ing. Plasmabehandlungsvorrichtung
US20100074810A1 (en) * 2008-09-23 2010-03-25 Sang Hun Lee Plasma generating system having tunable plasma nozzle
DE202008013560U1 (de) 2008-10-15 2010-03-04 Raantec Verpachtungen Gmbh & Co. Kg Vorrichtung zur Erzeugung eines Plasmastrahls
TWI387400B (zh) * 2008-10-20 2013-02-21 Ind Tech Res Inst 電漿系統
TWI380743B (en) * 2008-12-12 2012-12-21 Ind Tech Res Inst Casing and jet type plasma system
TWI407842B (zh) * 2008-12-31 2013-09-01 Ind Tech Res Inst 大氣電漿大幅寬處理裝置
US20100201272A1 (en) * 2009-02-09 2010-08-12 Sang Hun Lee Plasma generating system having nozzle with electrical biasing
DE102009008907B4 (de) 2009-02-13 2014-07-24 Airbus Operations Gmbh Verfahren zur Plasmabehandlung und Lackierung einer Fläche
US20100254853A1 (en) * 2009-04-06 2010-10-07 Sang Hun Lee Method of sterilization using plasma generated sterilant gas
DE102009048397A1 (de) 2009-10-06 2011-04-07 Plasmatreat Gmbh Atmosphärendruckplasmaverfahren zur Herstellung oberflächenmodifizierter Partikel und von Beschichtungen
CN101778525B (zh) * 2010-01-22 2012-06-06 芜湖荣事达塑胶有限责任公司 气动旋转空气等离子射流源
DE102010011643B4 (de) * 2010-03-16 2024-05-29 Christian Buske Vorrichtung und Verfahren zur Plasmabehandlung von lebendem Gewebe
JP5510437B2 (ja) * 2011-12-07 2014-06-04 パナソニック株式会社 プラズマ処理装置及びプラズマ処理方法
US9211603B2 (en) 2012-01-31 2015-12-15 The Esab Group, Inc. Plasma gouging torch and angled nozzle therefor
DE102012003563B4 (de) * 2012-02-23 2017-07-06 Drägerwerk AG & Co. KGaA Einrichtung zur desinfizierenden Wundbehandlung
DE102012206081A1 (de) * 2012-04-13 2013-10-17 Krones Ag Beschichtung von Behältern mit Plasmadüsen
US9497845B2 (en) 2012-08-06 2016-11-15 Hypertherm, Inc. Consumables for a plasma arc torch for bevel cutting
US9781818B2 (en) 2012-08-06 2017-10-03 Hypertherm, Inc. Asymmetric consumables for a plasma arc torch
US10314155B2 (en) 2012-08-06 2019-06-04 Hypertherm, Inc. Asymmetric consumables for a plasma arc torch
US9107282B2 (en) * 2012-08-06 2015-08-11 Hypertherm, Inc. Asymmetric consumables for a plasma arc torch
US10721812B2 (en) 2012-08-06 2020-07-21 Hypertherm, Inc. Asymmetric consumables for a plasma arc torch
CZ2012935A3 (cs) * 2012-12-19 2014-07-02 Masarykova Univerzita Způsob vytváření plazmatu za atmosférického tlaku ve štěrbinové trysce a zařízení k jeho provádění
DE102013103259A1 (de) 2013-04-02 2014-10-02 Plasmatreat Gmbh Desinfektionsmodul für eine Serienprozessanlage
TWI531280B (zh) 2014-04-16 2016-04-21 馗鼎奈米科技股份有限公司 電漿裝置
DE102015121253A1 (de) 2015-12-07 2017-06-08 Plasmatreat Gmbh Vorrichtung zum Erzeugen eines atmosphärischen Plasmastrahls zur Behandlung der Oberfläche eines Werkstücks
DE102015121252A1 (de) 2015-12-07 2017-06-08 Plasmatreat Gmbh Vorrichtung zur Erzeugung eines atmosphärischen Plasmastrahls und Verfahren zur Behandlung der Oberfläche eines Werkstücks
DE102016209097A1 (de) * 2016-03-16 2017-09-21 Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V. Plasmadüse
KR101716698B1 (ko) * 2016-04-15 2017-03-15 안선희 휴대용 플라즈마 미용장치
WO2018020434A1 (en) 2016-07-26 2018-02-01 BORISSOVA, Anastasiia Olegovna Tissue tolerable plasma generator and method for the creation of protective film from the wound substrate
KR20180134182A (ko) * 2017-06-08 2018-12-18 삼성전자주식회사 플라즈마 처리 장치
TWI674041B (zh) * 2017-12-21 2019-10-01 雷立強光電科技股份有限公司 一種大氣電漿產生裝置
TWI691237B (zh) * 2018-02-13 2020-04-11 國立交通大學 常壓電漿束產生裝置
DE102018132960A1 (de) 2018-12-19 2020-06-25 Plasmatreat Gmbh Vorrichtung und Verfahren zur Behandlung einer Werkstückoberfläche mit einem atmosphärischen Plasmastrahl
US20230125601A1 (en) * 2020-03-19 2023-04-27 Caps Medical Ltd. Plasma system with adjustable features
US11692267B2 (en) * 2020-12-31 2023-07-04 Applied Materials, Inc. Plasma induced modification of silicon carbide surface
CN112752386A (zh) * 2021-01-15 2021-05-04 深圳市诚峰智造有限公司 一种旋转等离子喷枪喷嘴
DE102021115020A1 (de) 2021-06-10 2022-12-15 Plasmatreat Gmbh Vorrichtung zum erzeugen eines atmosphärischen plasmastrahls zur behandlung einer oberfläche eines werkstücks
WO2023028125A1 (en) 2021-08-25 2023-03-02 Hypertherm, Inc. Edge shaping using material processing systems
TWI845867B (zh) 2021-10-12 2024-06-21 財團法人工業技術研究院 適用於電漿系統的流體導入模組
CN120231481B (zh) * 2025-05-16 2025-09-12 中国石油大学(华东) 一种旋转扫掠式等离子射流破岩钻头及钻井方法

Family Cites Families (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3707615A (en) * 1971-11-12 1972-12-26 Metco Inc Nozzle for a plasma generator
FR2578138B1 (fr) * 1985-02-22 1987-03-27 Soudure Autogene Francaise Systeme de soudage ou de coupage plasma muni d'une temporisation
DE3612722A1 (de) * 1986-04-16 1987-10-29 Lothar Wittig Vorrichtung zum plasmaschmelzschneiden
DE3642375A1 (de) * 1986-12-11 1988-06-23 Castolin Sa Verfahren zur aufbringung einer innenbeschichtung in rohre od. dgl. hohlraeume engen querschnittes sowie plasmaspritzbrenner dafuer
FR2672459B1 (fr) * 1991-02-01 1993-04-30 Girard Frederic Dispositif de rechargement par plasma a orifice oblique.
FR2674161B1 (fr) * 1991-03-22 1993-06-11 Soudure Autogene Francaise Pistolet de decoupage de tole.
DE19532412C2 (de) * 1995-09-01 1999-09-30 Agrodyn Hochspannungstechnik G Vorrichtung zur Oberflächen-Vorbehandlung von Werkstücken
US5837959A (en) * 1995-09-28 1998-11-17 Sulzer Metco (Us) Inc. Single cathode plasma gun with powder feed along central axis of exit barrel
DE29805999U1 (de) 1998-04-03 1998-06-25 Agrodyn Hochspannungstechnik GmbH, 33803 Steinhagen Vorrichtung zur Plasmabehandlung von Oberflächen

Cited By (37)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2002299099A (ja) * 2001-03-29 2002-10-11 Yamada Kinzoku Boshoku Kk プラズマアークの発生装置及び発生方法
US8035057B2 (en) 2004-07-07 2011-10-11 Amarante Technologies, Inc. Microwave plasma nozzle with enhanced plume stability and heating efficiency
JP2009525566A (ja) * 2006-01-30 2009-07-09 ノーリツ鋼機株式会社 ワーク処理装置及びプラズマ発生装置
US7976672B2 (en) 2006-02-17 2011-07-12 Saian Corporation Plasma generation apparatus and work processing apparatus
JP2007227296A (ja) * 2006-02-27 2007-09-06 Noritsu Koki Co Ltd ワーク処理装置
JP2007234274A (ja) * 2006-02-28 2007-09-13 Noritsu Koki Co Ltd ワーク処理装置及びプラズマ発生装置
JP2008047446A (ja) * 2006-08-17 2008-02-28 Matsushita Electric Ind Co Ltd 大気圧プラズマ発生装置
JP2008059838A (ja) * 2006-08-30 2008-03-13 Noritsu Koki Co Ltd プラズマ発生装置およびそれを用いるワーク処理装置
JP2008059839A (ja) * 2006-08-30 2008-03-13 Noritsu Koki Co Ltd プラズマ発生装置およびそれを用いるワーク処理装置
JP2008059837A (ja) * 2006-08-30 2008-03-13 Noritsu Koki Co Ltd プラズマ発生装置およびそれを用いるワーク処理装置
JP2008300279A (ja) * 2007-06-01 2008-12-11 Noritsu Koki Co Ltd プラズマ発生装置およびそれを用いるワーク処理装置
JP2010097931A (ja) * 2008-10-20 2010-04-30 Inpro Innovations Ges Fuer Fortgeschrittene Produktionssysteme In Der Fahrzeugindustrie Mbh プラズマ・ジェットにより部品表面の前処理および／または後処理をするためのデバイス
US7921804B2 (en) 2008-12-08 2011-04-12 Amarante Technologies, Inc. Plasma generating nozzle having impedance control mechanism
JP2011060688A (ja) * 2009-09-14 2011-03-24 Kasuga Electric Works Ltd プラズマ表面処理装置
US8703613B2 (en) 2010-05-13 2014-04-22 Panasonic Corporation Plasma processing apparatus and plasma processing method
US8624340B2 (en) 2010-09-02 2014-01-07 Panasonic Corporation Plasma processing apparatus and method thereof
US8802567B2 (en) 2010-09-02 2014-08-12 Panasonic Corporation Plasma processing method
US10229814B2 (en) 2011-10-27 2019-03-12 Panasonic Intellectual Property Management Co., Ltd. Plasma processing apparatus
US10147585B2 (en) 2011-10-27 2018-12-04 Panasonic Intellectual Property Management Co., Ltd. Plasma processing apparatus
US9343269B2 (en) 2011-10-27 2016-05-17 Panasonic Intellectual Property Management Co., Ltd. Plasma processing apparatus
JP2015501918A (ja) * 2011-11-09 2015-01-19 ブレント フリーゼ， プラズマを高エネルギー状態に圧縮するための方法および装置
JP2015516642A (ja) * 2011-12-15 2015-06-11 ルノー エス．ア．エス． 熱可塑性材料製部品のプラズマ表面処理用の自動デバイス
US10115565B2 (en) 2012-03-02 2018-10-30 Panasonic Intellectual Property Management Co., Ltd. Plasma processing apparatus and plasma processing method
KR101479767B1 (ko) * 2012-12-26 2015-01-12 주식회사 다원시스 아크제트 플라스마 발생기
JP2017507449A (ja) * 2013-12-11 2017-03-16 アプライド プラズマ インコーポレイテッド カンパニー リミテッドＡｐｐｌｉｅｄ Ｐｌａｓｍａ Ｉｎｃ Ｃｏ．， Ｌｔｄ． プラズマ発生装置
CN104640339A (zh) * 2015-01-12 2015-05-20 广东韦达尔科技有限公司 一种等离子表面处理装置
JP2017045713A (ja) * 2015-08-25 2017-03-02 馗鼎奈米科技股▲分▼有限公司 アーク型大気圧プラズマ装置
WO2018026026A1 (ko) * 2016-08-02 2018-02-08 주식회사 피글 플라즈마 증강 부재, 그를 포함하는 플라즈마 공급 장치 및 의료 기기
US11361938B2 (en) 2016-08-02 2022-06-14 Feagle Co., Ltd Plasma enhancement member, and plasma supplying apparatus and medical instrument including the same
KR102032294B1 (ko) * 2018-04-13 2019-10-15 주식회사 에이피피 대기압 플라즈마 발생장치
WO2021079420A1 (ja) 2019-10-22 2021-04-29 株式会社Ｆｕｊｉ プラズマ発生装置、およびプラズマ処理方法
JP2022538202A (ja) * 2020-05-22 2022-09-01 フン リ，チャン 大気圧プラズマ発生装置を用いた円筒状及び環状の被処理物の表面処理システム及び方法
JP2022026423A (ja) * 2020-07-31 2022-02-10 株式会社デンソー プラズマ処理装置用のプラズマ放出ノズル及びプラズマ処理装置
JP7420003B2 (ja) 2020-07-31 2024-01-23 株式会社デンソー プラズマ処理装置用のプラズマ放出ノズル及びプラズマ処理装置
WO2024042577A1 (ja) 2022-08-22 2024-02-29 株式会社Fuji プラズマ発生装置
KR20240128115A (ko) 2022-08-22 2024-08-23 가부시키가이샤 후지 플라즈마 발생 장치
EP4554334A1 (en) 2023-11-10 2025-05-14 DAIHEN Corporation Plasma processing apparatus

Also Published As

Publication number Publication date
DE50012751D1 (de) 2006-06-22
ATE326827T1 (de) 2006-06-15
US6262386B1 (en) 2001-07-17
ES2265312T3 (es) 2007-02-16
EP1067829B1 (de) 2006-05-17
EP1067829A3 (de) 2003-06-25
EP1067829A2 (de) 2001-01-10
PT1067829E (pt) 2006-10-31
JP4111659B2 (ja) 2008-07-02
DK1067829T3 (da) 2006-09-18
DE29911974U1 (de) 2000-11-23

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