JP2001059991A - レンチキュラーレンズシートおよびその製造方法 - Google Patents
レンチキュラーレンズシートおよびその製造方法Info
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- JP2001059991A JP2001059991A JP11235389A JP23538999A JP2001059991A JP 2001059991 A JP2001059991 A JP 2001059991A JP 11235389 A JP11235389 A JP 11235389A JP 23538999 A JP23538999 A JP 23538999A JP 2001059991 A JP2001059991 A JP 2001059991A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 フィルム基材の出光側の表面に設けられるブ
ラックストライプによって生じる映像光の損失を効果的
に抑えることができるレンチキュラーレンズシートを提
供する。 【解決手段】 フィルム基材21の内部に焦点Fが位置
する各入光レンズ22Aを介して、フィルム基材21の
出光側の表面に形成されたネガ型レジスト層24を露光
および現像する。このとき、ネガ型レジスト層24には
拡散光が照射されているので、露光および現像後にフィ
ルム基材21の出光側の表面に残される突出部24Aの
断面は、フィルム基材21の出光面21aから光路に沿
って離れるほど幅が大きくなる逆台形状となる。このた
め、このような形状の突出部24Aが形成されたフィル
ム基材21の出光側の表面に対してワイピング、乾燥お
よび突出部24Aの除去等を施すことによって得られる
ブラックストライプ23Aは、その角状部分Eが内側に
傾斜したものとなり、この角状部分Eは支持板32を貼
り付けた場合に内側に向けて倒れた状態で押圧される。
ラックストライプによって生じる映像光の損失を効果的
に抑えることができるレンチキュラーレンズシートを提
供する。 【解決手段】 フィルム基材21の内部に焦点Fが位置
する各入光レンズ22Aを介して、フィルム基材21の
出光側の表面に形成されたネガ型レジスト層24を露光
および現像する。このとき、ネガ型レジスト層24には
拡散光が照射されているので、露光および現像後にフィ
ルム基材21の出光側の表面に残される突出部24Aの
断面は、フィルム基材21の出光面21aから光路に沿
って離れるほど幅が大きくなる逆台形状となる。このた
め、このような形状の突出部24Aが形成されたフィル
ム基材21の出光側の表面に対してワイピング、乾燥お
よび突出部24Aの除去等を施すことによって得られる
ブラックストライプ23Aは、その角状部分Eが内側に
傾斜したものとなり、この角状部分Eは支持板32を貼
り付けた場合に内側に向けて倒れた状態で押圧される。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は背面投射型プロジェ
クションテレビ等の透過型スクリーンを構成するレンチ
キュラーレンズシートに係り、とりわけ、出光側の表面
にストライプ状の遮光パターン(ブラックストライプ)
が付加されたレンチキュラーレンズシートおよびその製
造方法に関する。
クションテレビ等の透過型スクリーンを構成するレンチ
キュラーレンズシートに係り、とりわけ、出光側の表面
にストライプ状の遮光パターン(ブラックストライプ)
が付加されたレンチキュラーレンズシートおよびその製
造方法に関する。
【0002】
【従来の技術】従来から、この種のレンチキュラーレン
ズシートとして、フィルム状の基材(以下「フィルム基
材」ともいう)の出光側の表面にブラックストライプが
付加されたレンチキュラーレンズシートが広く用いられ
ており、ブラックストライプによって外光の影響を低減
させることにより、コントラストを向上させることがで
きるようになっている。
ズシートとして、フィルム状の基材(以下「フィルム基
材」ともいう)の出光側の表面にブラックストライプが
付加されたレンチキュラーレンズシートが広く用いられ
ており、ブラックストライプによって外光の影響を低減
させることにより、コントラストを向上させることがで
きるようになっている。
【0003】ところで、レンチキュラーレンズシートに
おいて、このようなブラックストライプを形成する方法
としては、フォトリソグラフィ法が知られている。フォ
トリソグラフィ法とは、ファインピッチ化された各入光
レンズとレジストレーションの合った正確なブラックス
トライプを形成するのに適した方法であり、フィルム基
材の入光側に設けられた各入光レンズを介してフィルム
基材の出光側の表面に形成されたレジスト材料(レジス
ト層)を露光および現像することにより、ブラックスト
ライプを形成する方法である(特開昭49−66135
号公報、特開平8−207160号公報および特開平8
−254756号公報参照)。
おいて、このようなブラックストライプを形成する方法
としては、フォトリソグラフィ法が知られている。フォ
トリソグラフィ法とは、ファインピッチ化された各入光
レンズとレジストレーションの合った正確なブラックス
トライプを形成するのに適した方法であり、フィルム基
材の入光側に設けられた各入光レンズを介してフィルム
基材の出光側の表面に形成されたレジスト材料(レジス
ト層)を露光および現像することにより、ブラックスト
ライプを形成する方法である(特開昭49−66135
号公報、特開平8−207160号公報および特開平8
−254756号公報参照)。
【0004】図5(a)(b)(c)(d)(e)(f)はネガ型レジスト
材料を用いてフォトリソグラフィ法によりフィルム基材
の出光側の表面にブラックストライプを形成する方法を
説明するための図である。
材料を用いてフォトリソグラフィ法によりフィルム基材
の出光側の表面にブラックストライプを形成する方法を
説明するための図である。
【0005】まず、図5(a)に示すように、露光光線
(平行光線)Lをフィルム基材21に対して照射し、フ
ィルム基材21の入光側に設けられた各入光レンズ22
Aを介してフィルム基材21の出光側の表面に形成され
たネガ型レジスト層24を露光する。なおこのとき、従
来のブラックストライプの形成方法では、各入光レンズ
22Aの焦点Fがフィルム基材21の外部に位置するよ
うになっており、焦点Fに向けて集光する集光光として
の露光光線Lがネガ型レジスト層24に照射される。
(平行光線)Lをフィルム基材21に対して照射し、フ
ィルム基材21の入光側に設けられた各入光レンズ22
Aを介してフィルム基材21の出光側の表面に形成され
たネガ型レジスト層24を露光する。なおこのとき、従
来のブラックストライプの形成方法では、各入光レンズ
22Aの焦点Fがフィルム基材21の外部に位置するよ
うになっており、焦点Fに向けて集光する集光光として
の露光光線Lがネガ型レジスト層24に照射される。
【0006】その後、図5(b)に示すように、フィルム
基材21の出光側の表面に設けられた露光済みのネガ型
レジスト層を現像し、次いで、現像済みのネガ型レジス
ト層のうち未露光領域(未硬化領域)のネガ型レジスト
材料を洗浄して除去した後、乾燥させる。なおこのと
き、図5(a)に示す露光工程においてネガ型レジスト層
24には集光光が照射されているので、フィルム基材2
1の出光側の表面には、フィルム基材21の出光面21
aから光路に沿って離れるほど幅が小さくなる断面が台
形状の突出部24Aが残される。
基材21の出光側の表面に設けられた露光済みのネガ型
レジスト層を現像し、次いで、現像済みのネガ型レジス
ト層のうち未露光領域(未硬化領域)のネガ型レジスト
材料を洗浄して除去した後、乾燥させる。なおこのと
き、図5(a)に示す露光工程においてネガ型レジスト層
24には集光光が照射されているので、フィルム基材2
1の出光側の表面には、フィルム基材21の出光面21
aから光路に沿って離れるほど幅が小さくなる断面が台
形状の突出部24Aが残される。
【0007】そして、図5(c)(d)に示すように、フィル
ム基材21の出光側の表面に着色インク23を塗布して
ワイピング加工を施した後、乾燥させることにより、フ
ィルム基材21の出光側の表面に残された突出部24A
の間の領域に着色インク23を充填させ、フィルム基材
21の出光側の表面のうち各入光レンズ22Aから入射
した光の透過領域以外の領域にブラックストライプ23
Aを形成する。なお、図5(c)(d)のうち、図5(c)は乾
燥前の状態を示し、図5(d)は乾燥後の状態を示してい
る。図5(c)(d)に示すように、黒色インキからなるブラ
ックストライプ23Aは、乾燥によってその中央部がく
ぼむ。
ム基材21の出光側の表面に着色インク23を塗布して
ワイピング加工を施した後、乾燥させることにより、フ
ィルム基材21の出光側の表面に残された突出部24A
の間の領域に着色インク23を充填させ、フィルム基材
21の出光側の表面のうち各入光レンズ22Aから入射
した光の透過領域以外の領域にブラックストライプ23
Aを形成する。なお、図5(c)(d)のうち、図5(c)は乾
燥前の状態を示し、図5(d)は乾燥後の状態を示してい
る。図5(c)(d)に示すように、黒色インキからなるブラ
ックストライプ23Aは、乾燥によってその中央部がく
ぼむ。
【0008】その後、図5(e)に示すように、フィルム
基材21の出光側の表面のうち露光領域に残された突出
部24Aを剥離してフィルム基材21の出光側の表面の
うちブラックストライプ23A以外の部分を露出させて
出光部24Bを形成する。図5(e)に示すように、突出
部24Aが除去された後のブラックストライプ23Aの
上端部には角状部分Eが形成されるが、この角状部分E
は突出部24Aの形状に対応して外側に向けて傾斜した
ものとなっている。
基材21の出光側の表面のうち露光領域に残された突出
部24Aを剥離してフィルム基材21の出光側の表面の
うちブラックストライプ23A以外の部分を露出させて
出光部24Bを形成する。図5(e)に示すように、突出
部24Aが除去された後のブラックストライプ23Aの
上端部には角状部分Eが形成されるが、この角状部分E
は突出部24Aの形状に対応して外側に向けて傾斜した
ものとなっている。
【0009】最後に、図5(f)に示すように、フィルム
基材21の出光側の表面に形成された出光部24Bおよ
びブラックストライプ23A上に接着層31を介して支
持板32を貼り付ける。図5(f)に示すように、支持板
32を貼り付けることによりブラックストライプ23A
の角状部分Eは押圧される。
基材21の出光側の表面に形成された出光部24Bおよ
びブラックストライプ23A上に接着層31を介して支
持板32を貼り付ける。図5(f)に示すように、支持板
32を貼り付けることによりブラックストライプ23A
の角状部分Eは押圧される。
【0010】
【発明が解決しようとする課題】上述したように、従来
のブラックストライプの形成方法では、露光および現像
後にフィルム基材21の出光側の表面に残される突出部
24Aの断面が、フィルム基材21の出光面21aから
光路に沿って離れるほど幅が小さくなる台形状となるの
で、このような形状の突出部24Aが形成されたフィル
ム基材21の出光側の表面に対してワイピング、乾燥お
よび突出部24Aの除去等を施すことによって得られる
ブラックストライプ23Aは、突出部24の形状に対応
して外側に傾斜した角状部分Eを有することとなる。
のブラックストライプの形成方法では、露光および現像
後にフィルム基材21の出光側の表面に残される突出部
24Aの断面が、フィルム基材21の出光面21aから
光路に沿って離れるほど幅が小さくなる台形状となるの
で、このような形状の突出部24Aが形成されたフィル
ム基材21の出光側の表面に対してワイピング、乾燥お
よび突出部24Aの除去等を施すことによって得られる
ブラックストライプ23Aは、突出部24の形状に対応
して外側に傾斜した角状部分Eを有することとなる。
【0011】このため、従来のブラックストライプの形
成方法では、フィルム基材21の出光側の表面に支持板
32等が貼り付けられた場合に、この角状部分Eが外側
に向けて倒れた状態で押圧されることとなり、出光部2
4Bの一部を覆ってしまう。これにより、図5(f)に示
すように、各入光レンズ22Aを介して映像光L′が投
射された場合には、ブラックストライプ23Aの角状部
分Eで映像光L′が蹴られ、映像光L′の損失が生じて
しまうという問題がある。
成方法では、フィルム基材21の出光側の表面に支持板
32等が貼り付けられた場合に、この角状部分Eが外側
に向けて倒れた状態で押圧されることとなり、出光部2
4Bの一部を覆ってしまう。これにより、図5(f)に示
すように、各入光レンズ22Aを介して映像光L′が投
射された場合には、ブラックストライプ23Aの角状部
分Eで映像光L′が蹴られ、映像光L′の損失が生じて
しまうという問題がある。
【0012】本発明はこのような点を考慮してなされた
ものであり、フィルム基材の出光側の表面に設けられる
ブラックストライプによって生じる映像光の損失を効果
的に抑えることができるレンチキュラーレンズシートお
よびその製造方法を提供することを目的とする。
ものであり、フィルム基材の出光側の表面に設けられる
ブラックストライプによって生じる映像光の損失を効果
的に抑えることができるレンチキュラーレンズシートお
よびその製造方法を提供することを目的とする。
【0013】
【課題を解決するための手段】本発明はその第1の解決
手段として、フィルム状の基材と、前記基材の入光側に
設けられた複数の入光レンズと、前記基材の出光側の表
面のうち前記各入光レンズから入射した光の透過領域以
外の領域に設けられた光吸収部とを備え、前記光吸収部
は前記基材の出光側の表面に形成されたレジスト層を前
記各入光レンズを介して前記基材の入光側から露光およ
び現像することにより形成され、前記各入光レンズはそ
の集光点が前記基材の内部に位置することを特徴とする
レンチキュラーレンズシートを提供する。
手段として、フィルム状の基材と、前記基材の入光側に
設けられた複数の入光レンズと、前記基材の出光側の表
面のうち前記各入光レンズから入射した光の透過領域以
外の領域に設けられた光吸収部とを備え、前記光吸収部
は前記基材の出光側の表面に形成されたレジスト層を前
記各入光レンズを介して前記基材の入光側から露光およ
び現像することにより形成され、前記各入光レンズはそ
の集光点が前記基材の内部に位置することを特徴とする
レンチキュラーレンズシートを提供する。
【0014】なお、上述した第1の解決手段において
は、前記各入光レンズは放射線硬化性樹脂により形成さ
れていることが好ましい。また、前記レジスト層はネガ
型レジスト材料からなり、前記各入光レンズから入射し
た光の透過領域に残された前記ネガ型レジスト材料以外
の領域に光吸収部が形成され、前記透過領域に残された
前記ネガ型レジスト材料が除去されて出光部が形成され
ていることが好ましい。さらに、前記光吸収部は前記透
過領域に残された前記ネガ型レジスト材料以外の領域に
着色材料を塗布することにより形成されていることが好
ましい。さらにまた、前記基材の出光側の表面に形成さ
れた前記出光部および前記光吸収部を覆うよう設けられ
た支持板をさらに備えることが好ましい。なお、前記支
持板は透明樹脂板または拡散樹脂板であることが好まし
い。
は、前記各入光レンズは放射線硬化性樹脂により形成さ
れていることが好ましい。また、前記レジスト層はネガ
型レジスト材料からなり、前記各入光レンズから入射し
た光の透過領域に残された前記ネガ型レジスト材料以外
の領域に光吸収部が形成され、前記透過領域に残された
前記ネガ型レジスト材料が除去されて出光部が形成され
ていることが好ましい。さらに、前記光吸収部は前記透
過領域に残された前記ネガ型レジスト材料以外の領域に
着色材料を塗布することにより形成されていることが好
ましい。さらにまた、前記基材の出光側の表面に形成さ
れた前記出光部および前記光吸収部を覆うよう設けられ
た支持板をさらに備えることが好ましい。なお、前記支
持板は透明樹脂板または拡散樹脂板であることが好まし
い。
【0015】本発明はその第2の解決手段として、フィ
ルム状の基材の入光側の表面に、その集光点が前記基材
の内部に位置する複数の入光レンズを設ける工程と、前
記基材の出光側の表面にネガ型レジスト層を形成する工
程と、前記各入光レンズを介して前記基材の入光側から
前記ネガ型レジスト層を露光する工程と、前記ネガ型レ
ジスト層を現像することにより前記ネガ型レジスト層の
うち未露光領域のネガ型レジスト材料を除去する工程
と、ネガ型レジスト材料が除去された前記未露光領域に
対して着色材料を塗布することにより前記基材の出光側
の表面のうち前記各入光レンズから入射した光の透過領
域以外の領域に光吸収部を形成する工程と、前記透過領
域に残されたネガ型レジスト層を除去して前記基材の出
光側の表面に出光部を形成する工程とを含むことを特徴
とするレンチキュラーレンズシートの製造方法を提供す
る。
ルム状の基材の入光側の表面に、その集光点が前記基材
の内部に位置する複数の入光レンズを設ける工程と、前
記基材の出光側の表面にネガ型レジスト層を形成する工
程と、前記各入光レンズを介して前記基材の入光側から
前記ネガ型レジスト層を露光する工程と、前記ネガ型レ
ジスト層を現像することにより前記ネガ型レジスト層の
うち未露光領域のネガ型レジスト材料を除去する工程
と、ネガ型レジスト材料が除去された前記未露光領域に
対して着色材料を塗布することにより前記基材の出光側
の表面のうち前記各入光レンズから入射した光の透過領
域以外の領域に光吸収部を形成する工程と、前記透過領
域に残されたネガ型レジスト層を除去して前記基材の出
光側の表面に出光部を形成する工程とを含むことを特徴
とするレンチキュラーレンズシートの製造方法を提供す
る。
【0016】なお、上述した第2の解決手段において
は、前記基材の出光側の表面に形成された前記出光部お
よび前記光吸収部上に支持板を設ける工程をさらに含む
ことが好ましい。また、前記支持板は透明樹脂板または
拡散樹脂板であることが好ましい。
は、前記基材の出光側の表面に形成された前記出光部お
よび前記光吸収部上に支持板を設ける工程をさらに含む
ことが好ましい。また、前記支持板は透明樹脂板または
拡散樹脂板であることが好ましい。
【0017】本発明の第1および第2の解決手段によれ
ば、フィルム状の基材の内部に集光点が位置する各入光
レンズを介して、基材の出光側の表面に形成されたレジ
スト層を露光および現像するようにしたので、露光およ
び現像後に基材の出光側の表面に残されるネガ型レジス
ト層の断面は、基材の出光面から光路に沿って離れるほ
ど幅が大きくなる逆台形状となる。このため、このよう
な形状のネガ型レジスト層が形成された基材の出光側の
表面に対してワイピング、乾燥およびネガ型レジスト層
の除去等を施すことによって得られる光吸収部は、基材
の出光側の表面に残されたネガ型レジスト層の形状に対
応して内側に傾斜した角状部分を有することとなる。従
って、基材の出光側の表面に支持板等が貼り付けられた
場合には、この角状部分が内側に向けて倒れた状態で押
圧されることとなり、従来のように光吸収部の角状部分
で映像光が蹴られるということがなくなり、映像光の損
失を効果的に抑えることができる。
ば、フィルム状の基材の内部に集光点が位置する各入光
レンズを介して、基材の出光側の表面に形成されたレジ
スト層を露光および現像するようにしたので、露光およ
び現像後に基材の出光側の表面に残されるネガ型レジス
ト層の断面は、基材の出光面から光路に沿って離れるほ
ど幅が大きくなる逆台形状となる。このため、このよう
な形状のネガ型レジスト層が形成された基材の出光側の
表面に対してワイピング、乾燥およびネガ型レジスト層
の除去等を施すことによって得られる光吸収部は、基材
の出光側の表面に残されたネガ型レジスト層の形状に対
応して内側に傾斜した角状部分を有することとなる。従
って、基材の出光側の表面に支持板等が貼り付けられた
場合には、この角状部分が内側に向けて倒れた状態で押
圧されることとなり、従来のように光吸収部の角状部分
で映像光が蹴られるということがなくなり、映像光の損
失を効果的に抑えることができる。
【0018】
【発明の実施の形態】以下、図面を参照して本発明の実
施の形態について説明する。
施の形態について説明する。
【0019】図1乃至図3は本発明によるレンチキュラ
ーレンズシートおよびその製造方法の一実施の形態を説
明するための図である。
ーレンズシートおよびその製造方法の一実施の形態を説
明するための図である。
【0020】まず、図1により、本実施の形態に係るレ
ンチキュラーレンズシートについて説明する。
ンチキュラーレンズシートについて説明する。
【0021】図1に示すように、レンチキュラーレンズ
シート20は、フィルム状の基材(以下「フィルム基
材」という)21と、フィルム基材21の入光側に設け
られた複数の入光レンズ22Aと、フィルム基材21の
出光側の表面のうち各入光レンズ22Aから入射した光
(露光光線L)の透過領域以外の領域に設けられたブラ
ックストライプ(光吸収部)23Aとを備えている。こ
のうちブラックストライプ23Aは、フィルム基材21
の出光側の表面に形成されたネガ型レジスト材料からな
るネガ型レジスト層を、各入光レンズ22Aを介してフ
ィルム基材21の入光側から露光および現像することに
より形成することができる。すなわち、ネガ型レジスト
層を露光および現像し、各入光レンズ22Aから入射し
た光の透過領域に残されたネガ型レジスト材料以外の領
域に黒色インク等の着色インク(着色材料)を塗布する
ことによりブラックストライプ23Aが形成され、各入
光レンズ22Aから入射した光の透過領域に残されたネ
ガ型レジスト材料が除去されて出光部24Bが形成され
る。
シート20は、フィルム状の基材(以下「フィルム基
材」という)21と、フィルム基材21の入光側に設け
られた複数の入光レンズ22Aと、フィルム基材21の
出光側の表面のうち各入光レンズ22Aから入射した光
(露光光線L)の透過領域以外の領域に設けられたブラ
ックストライプ(光吸収部)23Aとを備えている。こ
のうちブラックストライプ23Aは、フィルム基材21
の出光側の表面に形成されたネガ型レジスト材料からな
るネガ型レジスト層を、各入光レンズ22Aを介してフ
ィルム基材21の入光側から露光および現像することに
より形成することができる。すなわち、ネガ型レジスト
層を露光および現像し、各入光レンズ22Aから入射し
た光の透過領域に残されたネガ型レジスト材料以外の領
域に黒色インク等の着色インク(着色材料)を塗布する
ことによりブラックストライプ23Aが形成され、各入
光レンズ22Aから入射した光の透過領域に残されたネ
ガ型レジスト材料が除去されて出光部24Bが形成され
る。
【0022】ここで、各入光レンズ22Aは放射線硬化
性樹脂により形成されており、その焦点(集光点)Fは
フィルム基材21の内部に位置している。各入光レンズ
22Aの焦点Fは、フィルム基材21の出光面21aか
ら所定距離d(フィルム基材21の厚さD1の0.2〜
0.3倍程度)だけ内側に位置するようにすることが好
ましい。なお、焦点Fが上述した位置よりもフィルム基
材21の出光面21aに近づくと、出光部24Bの断面
積が小さくなり、材料や製造条件等のむらに起因した外
観むらが目立ちやすくなる。これに対し、焦点Fが上述
した位置よりもフィルム基材21の入光側に近づくと、
出光部24Bの断面積が大きくなり、ブラックストライ
プ率(フィルム基材21の出光側の表面に占める光吸収
部23Aの割合)が小さくなるため、十分なコントラス
トを得ることができなくなる。
性樹脂により形成されており、その焦点(集光点)Fは
フィルム基材21の内部に位置している。各入光レンズ
22Aの焦点Fは、フィルム基材21の出光面21aか
ら所定距離d(フィルム基材21の厚さD1の0.2〜
0.3倍程度)だけ内側に位置するようにすることが好
ましい。なお、焦点Fが上述した位置よりもフィルム基
材21の出光面21aに近づくと、出光部24Bの断面
積が小さくなり、材料や製造条件等のむらに起因した外
観むらが目立ちやすくなる。これに対し、焦点Fが上述
した位置よりもフィルム基材21の入光側に近づくと、
出光部24Bの断面積が大きくなり、ブラックストライ
プ率(フィルム基材21の出光側の表面に占める光吸収
部23Aの割合)が小さくなるため、十分なコントラス
トを得ることができなくなる。
【0023】また、各入光レンズ22A間のピッチp
は、フィルム基材21の厚さD1の0.5〜1.0倍と
することが好ましい。なお、この範囲から外れた場合に
は、レンチキュラーレンズシート20が透過型スクリー
ン等に組み込まれて用いられた場合等において十分な拡
散特性が得られず、またフィルム基材21の出光側の表
面等で全反射を生じることとなり好ましくない。
は、フィルム基材21の厚さD1の0.5〜1.0倍と
することが好ましい。なお、この範囲から外れた場合に
は、レンチキュラーレンズシート20が透過型スクリー
ン等に組み込まれて用いられた場合等において十分な拡
散特性が得られず、またフィルム基材21の出光側の表
面等で全反射を生じることとなり好ましくない。
【0024】なお、フィルム基材21の出光側の表面に
形成された出光部24Bおよびブラックストライプ23
A上には、接着層31を介して支持板32が貼り付けら
れている。なお、支持板32としては、透明樹脂板また
は拡散樹脂板を用いることができる。
形成された出光部24Bおよびブラックストライプ23
A上には、接着層31を介して支持板32が貼り付けら
れている。なお、支持板32としては、透明樹脂板また
は拡散樹脂板を用いることができる。
【0025】次に、図2および図3(a)(b)(c)(d)(e)(f)
により、このような構成からなる本実施の形態に係るレ
ンチキュラーレンズシートの製造方法について説明す
る。ここで、図2は図1に示すレンチキュラーレンズシ
ートの製造方法の一実施の形態を説明するための概略
図、図3(a)(b)(c)(d)(e)(f)は図2に示す製造方法の各
工程で得られるレンチキュラーレンズシートを示す図で
ある。
により、このような構成からなる本実施の形態に係るレ
ンチキュラーレンズシートの製造方法について説明す
る。ここで、図2は図1に示すレンチキュラーレンズシ
ートの製造方法の一実施の形態を説明するための概略
図、図3(a)(b)(c)(d)(e)(f)は図2に示す製造方法の各
工程で得られるレンチキュラーレンズシートを示す図で
ある。
【0026】図2に示すように、まず、工程(A)にお
いて、ノズル塗工ユニット4により成型ロール3のロー
ル面3a上に放射線硬化性樹脂22を塗布し、この放射
線硬化性樹脂22が塗布された成型ロール3に対してニ
ップロール5を用いて、給紙ロール2から供給されたフ
ィルム基材21をニップする。その後、フィルム基材2
1の表面(放射線硬化性樹脂22が塗布された面)が成
型ロール3に当接している間に、放射線ランプ6によ
り、フィルム基材21の裏面側から放射線を照射して放
射線硬化性樹脂22を硬化させ、フィルム基材21の入
光側の表面に、その焦点がフィルム基材21の内部に位
置する複数の入光レンズ22Aを成形する。なお、この
ようにして入光レンズ22Aが成形されたフィルム基材
21は、離型ロール7により成型ロール3から離型さ
れ、搬送ロール8により次工程へ搬送される。
いて、ノズル塗工ユニット4により成型ロール3のロー
ル面3a上に放射線硬化性樹脂22を塗布し、この放射
線硬化性樹脂22が塗布された成型ロール3に対してニ
ップロール5を用いて、給紙ロール2から供給されたフ
ィルム基材21をニップする。その後、フィルム基材2
1の表面(放射線硬化性樹脂22が塗布された面)が成
型ロール3に当接している間に、放射線ランプ6によ
り、フィルム基材21の裏面側から放射線を照射して放
射線硬化性樹脂22を硬化させ、フィルム基材21の入
光側の表面に、その焦点がフィルム基材21の内部に位
置する複数の入光レンズ22Aを成形する。なお、この
ようにして入光レンズ22Aが成形されたフィルム基材
21は、離型ロール7により成型ロール3から離型さ
れ、搬送ロール8により次工程へ搬送される。
【0027】次に、工程(B)において、入光レンズ2
2Aが成形されたフィルム基材21の出光側の表面に対
して、給紙ロール10により供給されたネガ型レジスト
用ドライフィルム24を押圧ロール11,11によりラ
ミネート加工し、フィルム基材21の出光側の表面にネ
ガ型レジスト層24を形成する。
2Aが成形されたフィルム基材21の出光側の表面に対
して、給紙ロール10により供給されたネガ型レジスト
用ドライフィルム24を押圧ロール11,11によりラ
ミネート加工し、フィルム基材21の出光側の表面にネ
ガ型レジスト層24を形成する。
【0028】そして、この工程(B)において、露光装
置14から出射された露光光線(平行光線)Lをフィル
ム基材21に対して照射し、フィルム基材21の入光側
に設けられた各入光レンズ22Aを介してフィルム基材
21の出光側の表面に形成されたネガ型レジスト層24
を露光する(図3(a)参照)。図3(a)に示すように、本
実施の形態では、各入光レンズ22Aの焦点Fはフィル
ム基材21の内部に位置しているので、焦点Fで一旦集
光された後に拡散した拡散光としての露光光線Lがネガ
型レジスト層24に照射される。
置14から出射された露光光線(平行光線)Lをフィル
ム基材21に対して照射し、フィルム基材21の入光側
に設けられた各入光レンズ22Aを介してフィルム基材
21の出光側の表面に形成されたネガ型レジスト層24
を露光する(図3(a)参照)。図3(a)に示すように、本
実施の形態では、各入光レンズ22Aの焦点Fはフィル
ム基材21の内部に位置しているので、焦点Fで一旦集
光された後に拡散した拡散光としての露光光線Lがネガ
型レジスト層24に照射される。
【0029】その後、工程(C)において、現像・水洗
ユニット15により、フィルム基材21の出光側の表面
に設けられた露光済みのネガ型レジスト層24を現像
し、次いで、現像済みのネガ型レジスト層24のうち未
露光領域(未硬化領域)のネガ型レジスト材料を洗浄し
て除去した後、乾燥ユニット16Aにより乾燥させる
(図3(b)参照)。なおこのとき、図3(a)に示す露光工
程においてネガ型レジスト層24に拡散光が照射されて
いるので、フィルム基材21の出光側の表面には、フィ
ルム基材21の出光面21aから光路に沿って離れるほ
ど幅が大きくなる断面が逆台形状の突出部(ネガ型レジ
スト層)24Aが残される。
ユニット15により、フィルム基材21の出光側の表面
に設けられた露光済みのネガ型レジスト層24を現像
し、次いで、現像済みのネガ型レジスト層24のうち未
露光領域(未硬化領域)のネガ型レジスト材料を洗浄し
て除去した後、乾燥ユニット16Aにより乾燥させる
(図3(b)参照)。なおこのとき、図3(a)に示す露光工
程においてネガ型レジスト層24に拡散光が照射されて
いるので、フィルム基材21の出光側の表面には、フィ
ルム基材21の出光面21aから光路に沿って離れるほ
ど幅が大きくなる断面が逆台形状の突出部(ネガ型レジ
スト層)24Aが残される。
【0030】そして、工程(D)において、着色インク
塗工ユニット17により、フィルム基材21の出光側の
表面に黒色インク等の着色インク23を塗布してワイピ
ング加工を施した後、乾燥ユニット16Bにより乾燥さ
せることにより、フィルム基材21の出光側の表面に残
された突出部24Aの間の領域(ネガ型レジスト材料が
除去された未露光領域)に着色インク23を充填させ、
フィルム基材21の出光側の表面のうち各入光レンズ2
2Aから入射した光の透過領域以外の領域にブラックス
トライプ23Aを形成する(図3(c)(d)参照)。なお、
図3(c)(d)のうち、図3(c)は乾燥前の状態を示し、図
3(d)は乾燥後の状態を示している。図3(c)(d)に示す
ように、黒色インキからなるブラックストライプ23A
は、乾燥によってその中央部がくぼむ。
塗工ユニット17により、フィルム基材21の出光側の
表面に黒色インク等の着色インク23を塗布してワイピ
ング加工を施した後、乾燥ユニット16Bにより乾燥さ
せることにより、フィルム基材21の出光側の表面に残
された突出部24Aの間の領域(ネガ型レジスト材料が
除去された未露光領域)に着色インク23を充填させ、
フィルム基材21の出光側の表面のうち各入光レンズ2
2Aから入射した光の透過領域以外の領域にブラックス
トライプ23Aを形成する(図3(c)(d)参照)。なお、
図3(c)(d)のうち、図3(c)は乾燥前の状態を示し、図
3(d)は乾燥後の状態を示している。図3(c)(d)に示す
ように、黒色インキからなるブラックストライプ23A
は、乾燥によってその中央部がくぼむ。
【0031】その後、工程(E)において、剥離・水洗
ユニット18により、フィルム基材21の出光側の表面
のうち露光領域に残された突出部24Aを剥離(除去)
してフィルム基材21の出光側の表面のうちブラックス
トライプ23A以外の部分を露出させて出光部24Bを
形成する(図3(e)参照)。図3(e)に示すように、突出
部24Aが除去された後のブラックストライプ23Aの
上端部には角状部分Eが形成されるが、この角状部分E
は突出部24Aの形状に対応して内側に向けて傾斜した
ものとなる。最後に、フィルム基材21の出光側の表面
に形成された出光部24Bおよびブラックストライプ2
3A上に接着層31を介して支持板32を貼り付ける
(図3(f)参照)。図3(f)に示すように、支持板32を
貼り付けることによりブラックストライプ23Aの角状
部分Eは押圧される。
ユニット18により、フィルム基材21の出光側の表面
のうち露光領域に残された突出部24Aを剥離(除去)
してフィルム基材21の出光側の表面のうちブラックス
トライプ23A以外の部分を露出させて出光部24Bを
形成する(図3(e)参照)。図3(e)に示すように、突出
部24Aが除去された後のブラックストライプ23Aの
上端部には角状部分Eが形成されるが、この角状部分E
は突出部24Aの形状に対応して内側に向けて傾斜した
ものとなる。最後に、フィルム基材21の出光側の表面
に形成された出光部24Bおよびブラックストライプ2
3A上に接着層31を介して支持板32を貼り付ける
(図3(f)参照)。図3(f)に示すように、支持板32を
貼り付けることによりブラックストライプ23Aの角状
部分Eは押圧される。
【0032】このように本実施の形態によれば、フィル
ム基材21の内部に焦点Fが位置する各入光レンズ22
Aを介して、フィルム基材21の出光側の表面に形成さ
れたネガ型レジスト層24を露光および現像するように
したので、露光および現像後にフィルム基材21の出光
側の表面に残される突出部24Aの断面は、フィルム基
材21の出光面21aから光路に沿って離れるほど幅が
大きくなる逆台形状となる。このため、このような形状
の突出部24Aが形成されたフィルム基材21の出光側
の表面に対してワイピング、乾燥および突出部24Aの
除去等を施すことによって得られるブラックストライプ
23Aは、突出部24Aの形状に対応して内側に傾斜し
た角状部分Eを有することとなる。従って、フィルム基
材21の出光側の表面に支持板32等が貼り付けられた
場合には、この角状部分Eが内側に向けて倒れた状態で
押圧されることとなり、図3(f)に示すように、図5(f)
に示す従来例のようにブラックストライプ23Aの角状
部分Eで映像光L′が蹴られるということがなくなり、
映像光L′の損失を効果的に抑えることができる。
ム基材21の内部に焦点Fが位置する各入光レンズ22
Aを介して、フィルム基材21の出光側の表面に形成さ
れたネガ型レジスト層24を露光および現像するように
したので、露光および現像後にフィルム基材21の出光
側の表面に残される突出部24Aの断面は、フィルム基
材21の出光面21aから光路に沿って離れるほど幅が
大きくなる逆台形状となる。このため、このような形状
の突出部24Aが形成されたフィルム基材21の出光側
の表面に対してワイピング、乾燥および突出部24Aの
除去等を施すことによって得られるブラックストライプ
23Aは、突出部24Aの形状に対応して内側に傾斜し
た角状部分Eを有することとなる。従って、フィルム基
材21の出光側の表面に支持板32等が貼り付けられた
場合には、この角状部分Eが内側に向けて倒れた状態で
押圧されることとなり、図3(f)に示すように、図5(f)
に示す従来例のようにブラックストライプ23Aの角状
部分Eで映像光L′が蹴られるということがなくなり、
映像光L′の損失を効果的に抑えることができる。
【0033】なお、上述した実施の形態においては、ネ
ガ型レジスト材料としてネガ型レジスト用ドライフィル
ムを用い、これをフィルム基材21の出光側の表面にラ
ミネート加工するようにしているが、これに限らず、ウ
ェット状のネガ型レジスト樹脂を用い、これをフィルム
基材21の出光側の表面にコーティング加工するように
してもよい。
ガ型レジスト材料としてネガ型レジスト用ドライフィル
ムを用い、これをフィルム基材21の出光側の表面にラ
ミネート加工するようにしているが、これに限らず、ウ
ェット状のネガ型レジスト樹脂を用い、これをフィルム
基材21の出光側の表面にコーティング加工するように
してもよい。
【0034】
【実施例】次に、上述した実施の形態の具体的実施例に
ついて述べる。
ついて述べる。
【0035】実施例 上述した実施の形態の一実施例として、放射線硬化性樹
脂22としてインクテック社製のHRF2535(アク
リル系)を用い、フィルム基材21として東洋紡社製の
A−4100(厚さ100μm)を用いた。また、ネガ
型レジスト用ドライフィルム24として日合モートン社
製のNCP−315(厚さ15μm)を用いた。さら
に、支持板32として厚さ2mmの透明アクリル板を用
いた。
脂22としてインクテック社製のHRF2535(アク
リル系)を用い、フィルム基材21として東洋紡社製の
A−4100(厚さ100μm)を用いた。また、ネガ
型レジスト用ドライフィルム24として日合モートン社
製のNCP−315(厚さ15μm)を用いた。さら
に、支持板32として厚さ2mmの透明アクリル板を用
いた。
【0036】図4(a)は本実施例における露光工程の様
子を示す図である。図4(a)に示すように、本実施例で
は、入光レンズ22Aが成形された放射線硬化性樹脂層
の厚さD2が0.045mm、各入光レンズ22Aの高
さD4が0.041mm、各入光レンズ22A間のピッ
チpが0.1mm、各入光レンズ22Aの横径が0.0
56mm、縦径が0.075mmとなるようにした。ま
た、本実施例では、フィルム基材21の厚さD1が10
0μm、ネガ型レジスト層24の厚さD3が15μmと
なるようにした。
子を示す図である。図4(a)に示すように、本実施例で
は、入光レンズ22Aが成形された放射線硬化性樹脂層
の厚さD2が0.045mm、各入光レンズ22Aの高
さD4が0.041mm、各入光レンズ22A間のピッ
チpが0.1mm、各入光レンズ22Aの横径が0.0
56mm、縦径が0.075mmとなるようにした。ま
た、本実施例では、フィルム基材21の厚さD1が10
0μm、ネガ型レジスト層24の厚さD3が15μmと
なるようにした。
【0037】比較例 比較例として、放射線硬化性樹脂によって成形される入
光レンズの形状およびフィルム基材の厚さのみを変え
て、上述した実施例と同様の方法により、レンチキュラ
ーレンズシートを製造した。
光レンズの形状およびフィルム基材の厚さのみを変え
て、上述した実施例と同様の方法により、レンチキュラ
ーレンズシートを製造した。
【0038】図4(b)に示すように、比較例では、入光
レンズ22Aが成形された放射線硬化性樹脂層の厚さD
2が0.040mm、各入光レンズ22Aの高さD4が
0.034mm、各入光レンズ22A間のピッチpが
0.1mm、各入光レンズ22Aの横径が0.062m
m、縦径が0.083mmとなるようにした。また、比
較例では、フィルム基材21の厚さD1が75μm、ネ
ガ型レジスト層24の厚さD3が15μmとなるように
した。
レンズ22Aが成形された放射線硬化性樹脂層の厚さD
2が0.040mm、各入光レンズ22Aの高さD4が
0.034mm、各入光レンズ22A間のピッチpが
0.1mm、各入光レンズ22Aの横径が0.062m
m、縦径が0.083mmとなるようにした。また、比
較例では、フィルム基材21の厚さD1が75μm、ネ
ガ型レジスト層24の厚さD3が15μmとなるように
した。
【0039】評価結果 まず、上述した実施例および比較例の方法に従って製造
された各レンチキュラーレンズシートにつき、その透過
率をヘイズメータ(村上色彩技術研究所製:HR−10
0)で測定した。その結果、実施例の方法に従って製造
されたレンチキュラーレンズシートでは透過率が75.
4%、比較例の方法に従って製造されたレンチキュラー
レンズシートでは透過率が62.3%となり、実施例の
方法に従って製造されたレンチキュラーレンズシートの
方が、比較例の方法に従って製造されたレンチキュラー
レンズシートに比べて、透過率(輝度)の低下に関して
良好な結果が得られた。
された各レンチキュラーレンズシートにつき、その透過
率をヘイズメータ(村上色彩技術研究所製:HR−10
0)で測定した。その結果、実施例の方法に従って製造
されたレンチキュラーレンズシートでは透過率が75.
4%、比較例の方法に従って製造されたレンチキュラー
レンズシートでは透過率が62.3%となり、実施例の
方法に従って製造されたレンチキュラーレンズシートの
方が、比較例の方法に従って製造されたレンチキュラー
レンズシートに比べて、透過率(輝度)の低下に関して
良好な結果が得られた。
【0040】次に、上述した実施例および比較例の方法
に従って製造された各レンチキュラーレンズシートと、
フレネルレンズシートとを組み合わせて透過型スクリー
ンを構成し、各透過型スクリーンを光源としてLCDを
用いた背面投射型プロジェクションテレビに実装して目
視にて輝度および外観むらを評価した。その結果、実施
例の方法に従って製造されたレンチキュラーレンズシー
トを用いたものの方が、比較例の方法に従って製造され
たレンチキュラーレンズシートを用いたものに比べて、
全体的に明るく、また、材料や製造条件等のむらに起因
した外観むらが目立たなかった。
に従って製造された各レンチキュラーレンズシートと、
フレネルレンズシートとを組み合わせて透過型スクリー
ンを構成し、各透過型スクリーンを光源としてLCDを
用いた背面投射型プロジェクションテレビに実装して目
視にて輝度および外観むらを評価した。その結果、実施
例の方法に従って製造されたレンチキュラーレンズシー
トを用いたものの方が、比較例の方法に従って製造され
たレンチキュラーレンズシートを用いたものに比べて、
全体的に明るく、また、材料や製造条件等のむらに起因
した外観むらが目立たなかった。
【0041】
【発明の効果】以上説明したように本発明によれば、基
材の出光側の表面に設けられる光吸収部によって生じる
映像光の損失を効果的に抑えることができる。
材の出光側の表面に設けられる光吸収部によって生じる
映像光の損失を効果的に抑えることができる。
【図1】本発明によるレンチキュラーレンズシートの一
実施の形態を示す図。
実施の形態を示す図。
【図2】本発明によるレンチキュラーレンズシートの製
造方法の一実施の形態を説明するための概略図。
造方法の一実施の形態を説明するための概略図。
【図3】図2に示す製造方法の各工程で得られるレンチ
キュラーレンズシートを示す図。
キュラーレンズシートを示す図。
【図4】本発明の一実施例および比較例のそれぞれにお
ける露光工程の様子を示す図。
ける露光工程の様子を示す図。
【図5】従来の製造方法の各工程で得られるレンチキュ
ラーレンズシートを示す図。
ラーレンズシートを示す図。
2 給紙ロール(フィルム基材用) 3 成型ロール 3a ロール面 4 ノズル塗工ユニット 5 ニップロール 6 放射線ランプ 7 離型ロール 10 給紙ロール(ネガ型レジスト用ドライフィルム
用) 11,11 押圧ロール 14 露光装置 15 現像・水洗ユニット 16A,16B,16C 乾燥ユニット 17 着色インク塗工ユニット 18 剥離・水洗ユニット 20 レンチキュラーレンズシート 21 フィルム基材 22 放射線硬化性樹脂 22A 入光レンズ 23 着色インク(着色材料) 23A ブラックストライプ(光吸収部) 24 ネガ型レジスト用ドライフィルム(ネガ型レジス
ト層) 24A 突出部(ネガ型レジスト層) 24B 出光部 31 接着層 32 支持体 L 露光光線 L′ 映像光 F 入光レンズの焦点
用) 11,11 押圧ロール 14 露光装置 15 現像・水洗ユニット 16A,16B,16C 乾燥ユニット 17 着色インク塗工ユニット 18 剥離・水洗ユニット 20 レンチキュラーレンズシート 21 フィルム基材 22 放射線硬化性樹脂 22A 入光レンズ 23 着色インク(着色材料) 23A ブラックストライプ(光吸収部) 24 ネガ型レジスト用ドライフィルム(ネガ型レジス
ト層) 24A 突出部(ネガ型レジスト層) 24B 出光部 31 接着層 32 支持体 L 露光光線 L′ 映像光 F 入光レンズの焦点
Claims (9)
- 【請求項1】フィルム状の基材と、 前記基材の入光側に設けられた複数の入光レンズと、 前記基材の出光側の表面のうち前記各入光レンズから入
射した光の透過領域以外の領域に設けられた光吸収部と
を備え、 前記光吸収部は前記基材の出光側の表面に形成されたレ
ジスト層を前記各入光レンズを介して前記基材の入光側
から露光および現像することにより形成され、前記各入
光レンズはその集光点が前記基材の内部に位置すること
を特徴とするレンチキュラーレンズシート。 - 【請求項2】前記各入光レンズは放射線硬化性樹脂によ
り形成されていることを特徴とする請求項1記載のレン
チキュラーレンズシート。 - 【請求項3】前記レジスト層はネガ型レジスト材料から
なり、 前記各入光レンズから入射した光の透過領域に残された
前記ネガ型レジスト材料以外の領域に光吸収部が形成さ
れ、前記透過領域に残された前記ネガ型レジスト材料が
除去されて出光部が形成されていることを特徴とする請
求項1記載のレンチキュラーレンズシート。 - 【請求項4】前記光吸収部は前記透過領域に残された前
記ネガ型レジスト材料以外の領域に着色材料を塗布する
ことにより形成されていることを特徴とする請求項3記
載のレンチキュラーレンズシート。 - 【請求項5】前記基材の出光側の表面に形成された前記
出光部および前記光吸収部を覆うよう設けられた支持板
をさらに備えたことを特徴とする請求項1乃至4のいず
れか記載のレンチキュラーレンズシート。 - 【請求項6】前記支持板は透明樹脂板または拡散樹脂板
であることを特徴とする請求項5記載のレンチキュラー
レンズシート。 - 【請求項7】フィルム状の基材の入光側の表面に、その
集光点が前記基材の内部に位置する複数の入光レンズを
設ける工程と、 前記基材の出光側の表面にネガ型レジスト層を形成する
工程と、 前記各入光レンズを介して前記基材の入光側から前記ネ
ガ型レジスト層を露光する工程と、 前記ネガ型レジスト層を現像することにより前記ネガ型
レジスト層のうち未露光領域のネガ型レジスト材料を除
去する工程と、 ネガ型レジスト材料が除去された前記未露光領域に対し
て着色材料を塗布することにより前記基材の出光側の表
面のうち前記各入光レンズから入射した光の透過領域以
外の領域に光吸収部を形成する工程と、 前記透過領域に残されたネガ型レジスト層を除去して前
記基材の出光側の表面に出光部を形成する工程とを含む
ことを特徴とするレンチキュラーレンズシートの製造方
法。 - 【請求項8】前記基材の出光側の表面に形成された前記
出光部および前記光吸収部上に支持板を設ける工程をさ
らに含むことを特徴とする請求項7記載のレンチキュラ
ーレンズシートの製造方法。 - 【請求項9】前記支持板は透明樹脂板または拡散樹脂板
であることを特徴とする請求項8記載のレンチキュラー
レンズシートの製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11235389A JP2001059991A (ja) | 1999-08-23 | 1999-08-23 | レンチキュラーレンズシートおよびその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11235389A JP2001059991A (ja) | 1999-08-23 | 1999-08-23 | レンチキュラーレンズシートおよびその製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2001059991A true JP2001059991A (ja) | 2001-03-06 |
Family
ID=16985369
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP11235389A Withdrawn JP2001059991A (ja) | 1999-08-23 | 1999-08-23 | レンチキュラーレンズシートおよびその製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2001059991A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2018030063A1 (ja) * | 2016-08-09 | 2018-02-15 | 株式会社エンプラス | マーカ |
-
1999
- 1999-08-23 JP JP11235389A patent/JP2001059991A/ja not_active Withdrawn
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2018030063A1 (ja) * | 2016-08-09 | 2018-02-15 | 株式会社エンプラス | マーカ |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
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| A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20060713 |
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| A761 | Written withdrawal of application |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A761 Effective date: 20070807 |