JP2000351635A - Apparatus for producing formed glass substrate - Google Patents
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Abstract
Description
【0001】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は、例えば、プラズマ
ディスプレイパネルのリアパネルなどのような、ガラス
基板の表面に凹凸によって微細なパターンが形成された
成形基板を製造する装置に係る。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an apparatus for manufacturing a molded substrate, such as a rear panel of a plasma display panel, in which a fine pattern is formed on a surface of a glass substrate by unevenness.
【0002】[0002]
【従来の技術】マルチメディアの進展に伴い、ディスプ
レイ装置は、人と情報とをつなぐインターフェイスとし
てその重要度を増してきている。ディスプレイ装置に対
しては、小型化、省スペース化の要求が強く、様々な薄
形ディスプレイが開発され、実用化されている。2. Description of the Related Art With the development of multimedia, display devices have become increasingly important as interfaces for connecting people and information. There is a strong demand for small and space-saving display devices, and various thin displays have been developed and put to practical use.
【0003】薄形ディスプレイの中で、プラズマディス
プレイパネル(PDP)は、大画面化が可能で、視野角
度も広いなどの特徴を有しており、主に、壁掛けテレビ
やパソコンのディスプレイ装置として注目を浴びてきて
いる。従来、プラズマディスプレイパネルの製造プロセ
スにおいて、リアパネルの表面に隔壁(以下、リブと呼
ぶ)を形成する方式として、主として、スクリーン印刷
法あるいはサンドブラスト法が用いられていた。[0003] Among thin displays, a plasma display panel (PDP) has features such as a large screen and a wide viewing angle, and is mainly noted as a display device for a wall-mounted television or a personal computer. I'm taking a bath. 2. Description of the Related Art Conventionally, in a plasma display panel manufacturing process, a screen printing method or a sand blast method has been mainly used as a method of forming a partition (hereinafter, referred to as a rib) on a surface of a rear panel.
【0004】スクリーン印刷法では、ガラス基板上にペ
ースト状のインクを積層印刷して、リブを形成して行
く。スクリーン印刷法では、印刷→焼成→乾燥の工程を
10回前後繰り返すので、工程数が多く、リブの高さを
一定に揃えるのが難しく、高精細化への対応が困難であ
る、などの問題点がある。In the screen printing method, paste-like ink is laminated and printed on a glass substrate to form ribs. In the screen printing method, the steps of printing, baking, and drying are repeated about 10 times, so the number of steps is large, it is difficult to keep the height of the ribs constant, and it is difficult to respond to high definition. There is a point.
【0005】一方、サンドブラスト法では、ガラス基板
上をリブ材で覆い、更にその上にフォトレジストを塗布
し、フォトレジストを露光及び現像した後、フォトレジ
ストのパターンをマスクとして用いてリブ材にサンドブ
ラストを施し、所定のパターンを備えたリブを形成す
る。サンドブラスト法では、ブラスト面の面粗度が悪
い、サンドブラスト中に多量の粉塵が発生する、フォト
レジスト及びリブ材に要するコストが比較的大きいなど
の問題がある。On the other hand, in the sand blast method, a glass substrate is covered with a rib material, a photoresist is further applied thereon, and the photoresist is exposed and developed. Then, the sand blast is applied to the rib material using the photoresist pattern as a mask. To form a rib having a predetermined pattern. The sand blast method has problems such as poor surface roughness of the blast surface, generation of a large amount of dust during sand blast, and relatively high cost of photoresist and rib material.
【0006】このように、スクリーン印刷法あるいはサ
ンドブラスト法では、高精細化が容易ではなく、しかも
製造コストが高いと言う問題がある。As described above, the screen printing method or the sand blast method has a problem that high definition is not easy and the manufacturing cost is high.
【0007】プラズマディスプレイパネルは、現在、観
光バス用のテレビ、金融機関のクイックボード、産業機
械用ディスプレイなどの特殊用途に限られているが、近
い将来、一般家庭向けテレビやパソコンなどに普及して
いくと共に、更に大画面化が進んで行くと考えられてい
る。そのためには、対角1インチ当たりのコストを現在
の数分の一以下に低下させる必要があり、工程数の削減
や処理内容の簡素化などを考慮した、新たなリブ形成法
の開発が望まれている。[0007] Plasma display panels are currently limited to special applications such as televisions for sightseeing buses, quick boards of financial institutions, and displays for industrial machines. In the near future, they will be widely used in televisions for general households and personal computers. It is thought that as the screen size increases, the screen size will further increase. To achieve this, it is necessary to reduce the cost per diagonal inch to a fraction of the current level, and it is hoped that a new rib formation method that takes into account the reduction in the number of steps and the simplification of processing will be considered. It is rare.
【0008】そのようなリブ形成法の一つとして、プレ
ス成形によってガラス基板の表面にリブを形成する方法
が提案されている。ガラスのプレス成形技術自体は、ガ
ラス製の光学素子を製造する際に広く実用化されてお
り、加熱されたガラス基板を一対の成形型の間でプレス
成形することによって、各種の光学素子が製造されてい
る。As one of such rib forming methods, a method of forming a rib on the surface of a glass substrate by press molding has been proposed. The glass press forming technology itself is widely used in manufacturing glass optical elements, and various optical elements are manufactured by pressing a heated glass substrate between a pair of forming dies. Have been.
【0009】ガラスのプレス成形法は、ダイレクトプレ
ス法とリヒートプレス法の二つに大別される。[0009] The press forming method of glass is roughly classified into two methods, a direct press method and a reheat press method.
【0010】ダイレクトプレス法は、通常、型がロータ
リー式に流れており、約1500℃に加熱された溶融ガ
ラスを、随時、型内に流し込んでプレス成形する方法で
ある。この方法は、光学ガラスレンズなどのようなサブ
ミクロンオーダーの精度を必要としないもの、例えば、
テレビのブラウン管や自動車のヘッドライトなどの成形
に使用されている。この方法は、(イ)ガラスの温度が
高いので、微細形状の転写も小さなプレス力で済むこ
と、(ロ)型とガラスの間の温度差が大きいので、両者
が融着あるいは反応することがないこと、(ハ)型の材
料についても超硬などのような特殊材料に限定されない
こと、(二)高スループットを実現できること、などの
各種の利点を備えている。しかし、ガラスの温度が高い
状態で成形を終了させているので、プラズマディスプレ
イパネルのリアパネルなどのような高い精度が要求され
る場合には適していない。[0010] The direct press method is a method in which a mold usually flows in a rotary manner, and molten glass heated to about 1500 ° C is poured into the mold as needed to perform press molding. This method does not require the accuracy of submicron order such as optical glass lens, for example,
It is used for molding cathode-ray tubes for TVs and headlights for automobiles. According to this method, (a) since the temperature of the glass is high, the transfer of the fine shape can be performed with a small pressing force, and (b) since the temperature difference between the mold and the glass is large, the two can be fused or reacted. There are various advantages such as not being present, (c) the type of material is not limited to special materials such as carbide, and (2) being able to realize high throughput. However, since the molding is completed in a state where the temperature of the glass is high, it is not suitable for a case where high precision is required such as a rear panel of a plasma display panel.
【0011】これに対して、リヒートプレス法は、成形
型とガラス基板を同一温度に加熱して、ガラス基板をプ
レス成形する方法である。例えば、ガラス転移点近傍の
温度で成形を終了させることによって、サブミクロンオ
ーダーの高精度成形が可能になる。しかし、この方法
は、(イ)大きなプレス力が必要となり、成形温度との
兼ね合いもあるが、大面積のガラス基板に微細形状を転
写することは難しいこと、(ロ)成形型とガラスを同一
温度にして成形を行うので、成形型とガラスの融着が心
配され、成形型の材料が限定されること、さらに、
(ハ)一般的にバッチ処理になるので、高スループット
が実現できないこと、などの問題がある。On the other hand, the reheat press method is a method in which a mold and a glass substrate are heated to the same temperature to press-mold the glass substrate. For example, by terminating the molding at a temperature near the glass transition point, high-precision molding on the order of submicrons is possible. However, this method requires (a) a large pressing force and a balance with the molding temperature, but it is difficult to transfer a fine shape to a large-area glass substrate. Since the molding is performed at a temperature, there is a concern that the molding die and the glass are fused, and the material of the molding die is limited.
(C) There is a problem that high throughput cannot be realized because batch processing is generally performed.
【0012】以上のように、ダイレクトプレス法及びリ
ヒートプレス法は、共に一長一短があり、いずれの方法
も、そのままでは、プラズマディスプレイパネルのリア
パネルのような、大面積を備え、しかも微細なパターン
を高い精度で形成することが要求される場合には適用す
ることができない。As described above, both the direct press method and the reheat press method have advantages and disadvantages, and both methods have a large area and a high fine pattern like a rear panel of a plasma display panel as they are. It cannot be applied when it is required to form with precision.
【0013】[0013]
【発明が解決しようとする課題】本発明は、表面に凹凸
により微細なパターンが形成された大面積のガラス製成
形基板を製造する際の以上のような問題点に鑑み成され
たもので、本発明の目的は、上記のようなガラス製成形
基板をプレス成形によって製造することが可能であり、
高い成形精度を備え、しかも、工程数が比較的少なく高
い生産性を備えたガラス製成形基板の製造装置を提供す
ることにある。SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made in view of the above-mentioned problems when manufacturing a large-sized glass-made substrate having a fine pattern formed on the surface by unevenness. An object of the present invention is to be able to manufacture a glass molded substrate as described above by press molding,
An object of the present invention is to provide an apparatus for manufacturing a glass-made molded substrate having high molding accuracy and having relatively few steps and high productivity.
【0014】[0014]
【課題を解決するための手段】本発明のガラス製成形基
板の製造装置は、平板状のガラス基板を所定の温度まで
加熱する加熱室と、この加熱室に隣接して配置され、真
空排気手段を備え、成形型を収容し、前記ガラス基板を
成形して表面に微細なパターンが形成された成形基板に
変える成形室と、この成形室に隣接して配置され、前記
成形基板を所定の温度まで冷却する冷却室と、前記ガラ
ス基板を、前記加熱室から前記成形室へ移載する第一移
載機と、前記成形基板を、前記成形室から前記冷却室へ
移載する第二移載機と、を備えたことを特徴とする。According to the present invention, there is provided an apparatus for manufacturing a molded glass substrate, comprising: a heating chamber for heating a flat glass substrate to a predetermined temperature; a heating chamber disposed adjacent to the heating chamber; A molding chamber for accommodating a molding die and transforming the glass substrate into a molded substrate having a fine pattern formed on a surface thereof; and a molding chamber disposed adjacent to the molding chamber and heating the molded substrate at a predetermined temperature. A cooling chamber that cools the glass substrate, a first transfer machine that transfers the glass substrate from the heating chamber to the molding chamber, and a second transfer that transfers the molded substrate from the molding chamber to the cooling chamber. And a machine.
【0015】好ましくは、本発明のガラス製成形基板の
製造装置は、不活性ガス雰囲気に保たれ、平板状のガラ
ス基板を連続的または断続的に搬送する第一搬送装置を
収容し、前記ガラス基板を搬送しながら所定の温度まで
加熱する加熱室と、真空排気手段を備え、上型及び下型
からなる成形型を使用する成形装置を収容し、加熱され
た前記ガラス基板を成形して表面に微細なパターンが形
成された成形基板に変える成形室と、不活性ガス雰囲気
に保たれ、成形された前記成形基板を連続的または断続
的に搬送する第二搬送装置を収容し、前記成形基板を搬
送しながら所定の温度まで冷却する冷却室と、前後にゲ
ートバルブを備え、前方のゲートバルブを介して前記加
熱室の後段に接続され、後方のゲートバルブを介して前
記成形室の前段に接続されるとともに、前記ガラス基板
を前記加熱室から前記成形室へ移載する第一移載機を収
容する第一予備室と、前後にゲートバルブを備え、前方
のゲートバルブを介して前記成形室の後段に接続され、
後方のゲートバルブを介して前記冷却室の前段に接続さ
れるとともに、前記成形基板を前記成形室から前記冷却
室へ移載する第二移載機を収容する第二予備室と、を備
えたことを特徴とする。Preferably, the apparatus for manufacturing a glass molded substrate according to the present invention contains a first transport apparatus which is maintained in an inert gas atmosphere and continuously or intermittently transports a flat glass substrate. A heating chamber for heating the substrate to a predetermined temperature while transporting the substrate, a vacuum exhaust means, a molding apparatus using a molding die including an upper die and a lower die are housed, and the heated glass substrate is molded to form a surface. A molding chamber for changing to a molded substrate having a fine pattern formed thereon, and a second transfer device that is maintained in an inert gas atmosphere and continuously or intermittently conveys the formed molded substrate is housed therein. A cooling chamber that cools to a predetermined temperature while transporting, a gate valve is provided before and after, connected to a rear stage of the heating chamber via a front gate valve, and upstream of the molding chamber via a rear gate valve. And a first preliminary chamber accommodating a first transfer machine for transferring the glass substrate from the heating chamber to the molding chamber, and a gate valve at the front and rear, and the molding is performed via a front gate valve. Connected to the back of the room,
A second preparatory chamber connected to a front stage of the cooling chamber via a rear gate valve and accommodating a second transfer machine for transferring the molded substrate from the molding chamber to the cooling chamber. It is characterized by the following.
【0016】好ましくは、本発明のガラス製成形基板の
製造装置は、更に、前後にゲートバルブを備え後方のゲ
ートバルブを介して前記加熱室の前段に接続された第三
予備室と、前後にゲートバルブを備え前方のゲートバル
ブを介して前記冷却室の後段に接続された第四予備室と
を備える。Preferably, the apparatus for manufacturing a molded glass substrate of the present invention further comprises a third preparatory chamber provided with front and rear gate valves and connected to a preceding stage of the heating chamber via a rear gate valve. A fourth preliminary chamber connected to a rear stage of the cooling chamber via a front gate valve.
【0017】本発明のガラス製成形基板の製造装置によ
れば、真空排気された成形室内でガラス基板の表面の成
形が実施されるので、成形品の表面でのエア溜りの発生
が防止され、平板状のガラスの表面に微細な凹凸によっ
てパターンが形成された成形基板を、高い精度で、歩留
まり良く製造することができる。According to the glass substrate manufacturing apparatus of the present invention, since the surface of the glass substrate is molded in the vacuum-evacuated molding chamber, the occurrence of air pockets on the surface of the molded product is prevented, A molded substrate in which a pattern is formed by fine irregularities on the surface of a flat glass can be manufactured with high accuracy and high yield.
【0018】また、加熱、成形及び冷却の各工程を、そ
れぞれ、各室内で並行して実施することができるので、
高スループットを実現することができる。加熱室、成形
室及び冷却室の温度及び雰囲気を、それぞれ独立に制御
することができるので、成形型とガラス基板の間の温度
差を適切な条件に管理することによって、型表面へのガ
ラスの融着を防止するとともに、プレス成形荷重を減ら
し、更に、成形型の材料選択の自由度の増大、成形型の
寿命増大などにも効果がある。Further, since the respective steps of heating, forming and cooling can be carried out in each room in parallel,
High throughput can be realized. Since the temperatures and atmospheres of the heating chamber, the molding chamber and the cooling chamber can be controlled independently of each other, by controlling the temperature difference between the molding die and the glass substrate to appropriate conditions, the glass on the mold surface can be controlled. In addition to preventing fusion, the load of press molding is reduced, and further, there is an effect of increasing the degree of freedom in selecting a material of the molding die, extending the life of the molding die, and the like.
【0019】なお、ガラス基板は前記加熱室内で少なく
とも軟化点近傍まで加熱され、また、成形後の成形基板
は転移点以上の温度になっている。従って、前記ガラス
基板を加熱室から成形室へ移載する前記第一移載機、及
び前記成形基板を成形室から冷却室へ移載する前記第二
移載機については、クリーンで、しかも高温状態のガラ
スに変形を与えるおそれがない方式を採用する必要があ
る。そのような移載機として、以下に示すような方式を
挙げることができる。The glass substrate is heated to at least the vicinity of the softening point in the heating chamber, and the temperature of the formed substrate after forming is higher than the transition point. Accordingly, the first transfer machine for transferring the glass substrate from the heating chamber to the molding chamber, and the second transfer machine for transferring the molded substrate from the molding chamber to the cooling chamber, are clean and have a high temperature. It is necessary to adopt a method that does not cause deformation of the glass in the state. As such a transfer machine, the following system can be exemplified.
【0020】第一の方式では、前記第一移載機は、静電
気力を用いた非接触吸引浮上方式によって前記ガラス基
板を上面から保持し、前記加熱室から前記成形室へ移
す。In the first method, the first transfer machine holds the glass substrate from the upper surface by a non-contact suction floating method using electrostatic force, and transfers the glass substrate from the heating chamber to the molding chamber.
【0021】同様に、前記第二移載機は、静電気力を用
いた非接触吸引浮上方式によって前記成形基板を上面か
ら保持し、前記成形室から前記冷却室へ移す。Similarly, the second transfer machine holds the molded substrate from the upper surface by a non-contact suction floating method using electrostatic force, and moves the molded substrate from the molding chamber to the cooling chamber.
【0022】なお、静電気力を用いた非接触吸引浮上方
式の代わりに、接触式の真空チャック方式または非接触
式の真空チャック方式(いわゆる、ベルヌーイチャッ
ク)を用いることもできる。It is to be noted that a contact-type vacuum chuck system or a non-contact vacuum chuck system (so-called Bernoulli chuck) may be used instead of the non-contact suction floating system using electrostatic force.
【0023】第二の方式では、前記第一搬送装置は、前
記ガラス基板をパレット上に載せて搬送する方式であっ
て、前記第一移載機は、先ず、前記成形室内で前記成形
装置から前記下型を取り外し、次いで、前記下型を上下
反転させた後、前記加熱室内に移動し、パレット上に載
せられている前記ガラス基板の上に前記下型を置いた
後、パレット及び前記下型を把持することによって、そ
れらの間に挟まれている前記ガラス基板を保持し、次い
で、前記ガラス基板を上下反転させるとともに、前記成
形室内に戻り、前記下型を前記成形装置に装着した後、
パレットのみを前記加熱装置に戻すように構成される。In the second method, the first transfer device transfers the glass substrate placed on a pallet, and the first transfer device first moves from the forming device in the forming chamber. After removing the lower mold, then, after turning the lower mold upside down, move into the heating chamber, after placing the lower mold on the glass substrate placed on the pallet, the pallet and the lower By holding the glass substrate sandwiched between them by holding the molds, and then turning the glass substrate upside down, returning to the molding chamber, and attaching the lower mold to the molding device, ,
It is configured to return only the pallet to the heating device.
【0024】同様に、前記第二搬送装置は、前記成形基
板をパレット上に載せて搬送する方式であって、前記第
二移載機は、先ず、前記冷却室内で前記第二搬送装置か
らパレットを取り外し、次いで、パレットを上下反転さ
せた後、前記成形室内に移動し、前記下型上にある前記
成形基板の上にパレットを置いた後、前記下型及びパレ
ットを把持することによって、それらの間に挟まれてい
る前記成形基板を保持し、次いで、前記成形基板を上下
反転させるとともに、前記冷却室内に戻り、パレットを
前記第二搬送装置に装着した後、前記下型のみを前記成
形装置に戻すように構成される。Similarly, the second transfer device is of a type in which the formed substrate is transferred on a pallet, and the second transfer device first moves the pallet from the second transfer device in the cooling chamber. Then, after turning the pallet upside down, move into the molding chamber, place the pallet on the molding substrate on the lower mold, and then grip the lower mold and the pallet, Holding the molded substrate sandwiched between, then, while turning the molded substrate upside down, returning to the cooling chamber, mounting the pallet on the second transfer device, then molding only the lower mold It is configured to return to the device.
【0025】第三の方式では、前記第一搬送装置は、前
記ガラス基板をパレット上に載せて搬送する方式であ
り、前記第一移載機は、先ず、前記加熱室内で前記第二
搬送装置から前記ガラス基板が載せられているパレット
を取り外し、次いで、前記成形室内に移動し、前記成形
装置に装着された前記下型の上方で停止し、前記ガラス
基板を側面からストッパで抑えた状態で、パレットのみ
を抜き取ることによって、前記ガラス基板を前記下型の
上に移し、空になったパレットを前記加熱室に戻し、前
記第一搬送装置に装着するように構成される。In a third method, the first transfer device transfers the glass substrate on a pallet, and the first transfer device first sets the second transfer device in the heating chamber. Remove the pallet on which the glass substrate is placed from, and then move into the molding chamber, stop above the lower mold attached to the molding device, and hold down the glass substrate with a stopper from the side. By pulling out only the pallet, the glass substrate is transferred onto the lower mold, the empty pallet is returned to the heating chamber, and is mounted on the first transfer device.
【0026】同様に、前記第二搬送装置は、前記ガラス
基板をパレット上に載せて搬送する方式であり、前記第
二移載機は、先ず、前記成形室内で前記成形装置から前
記成形基板が載せられている前記下型を取り外し、次い
で、前記冷却室内に移動し、前記第二搬送装置に装着さ
れたパレットの上方で停止し、前記成形基板を側面から
ストッパで抑えた状態で、前記下型のみを抜き取ること
によって、前記成形基板をパレットの上に移し、空にな
った前記下型を前記成形室に戻し、前記成形装置に装着
するように構成される。Similarly, the second transfer device is of a type in which the glass substrate is transferred on a pallet, and the second transfer device firstly transfers the formed substrate from the forming device in the forming chamber. Remove the lower die placed, then move into the cooling chamber, stop above the pallet mounted on the second transfer device, while holding the molded substrate from the side with a stopper, the lower By extracting only the mold, the molded substrate is transferred onto a pallet, the empty lower mold is returned to the molding chamber, and is mounted on the molding apparatus.
【0027】第四の方式では、前記第一搬送装置及び前
記第二搬送装置は、搬送対象物をパレット上に載せて搬
送する方式であって、各パレットは、前記成形型の下型
を兼ね、前記第一移載機は、各パレットの上に前記ガラ
ス基板を載せた状態で前記加熱室から前記成形室へ移載
し、前記第二移載機は、各パレット(兼下型)の上に前
記成形基板を載せた状態で前記成形室から前記冷却室へ
移載する。In a fourth method, the first transfer device and the second transfer device transfer an object to be transferred on a pallet, and each pallet also serves as a lower die of the molding die. The first transfer device transfers the glass substrate from the heating chamber to the molding chamber in a state where the glass substrate is mounted on each pallet, and the second transfer device controls each pallet (also serving as a lower die). The substrate is transferred from the molding chamber to the cooling chamber with the molded substrate placed thereon.
【0028】好ましくは、前記加熱室の容量は、その中
に収容可能な前記ガラス基板の数が、前記加熱室におけ
る所要加熱時間を前記成形室における成形基板一枚当た
りの所要成形時間で割った商以上の値となるように設定
される。Preferably, the capacity of the heating chamber is such that the number of the glass substrates that can be accommodated therein is obtained by dividing the required heating time in the heating chamber by the required molding time per molded substrate in the molding chamber. It is set to have a value equal to or greater than the quotient.
【0029】同様に、前記冷却室の容量は、その中に収
容可能な前記成形基板の数が、前記冷却室における所要
冷却時間を前記成形室における成形基板一枚当たりの所
要成形時間で割った商以上の値となるように設定され
る。Similarly, the capacity of the cooling chamber is obtained by dividing the required cooling time in the cooling chamber by the required molding time per one molded substrate in the forming chamber. It is set to have a value equal to or greater than the quotient.
【0030】好ましくは、前記成形装置に、前記成形型
を加熱及び冷却する機能を備えた温度制御手段を設け
る。Preferably, the molding apparatus is provided with temperature control means having a function of heating and cooling the mold.
【0031】好ましくは、前記成形室に加熱手段を設
け、前記加熱室から搬入されたガラス基板を成形可能な
温度まで更に加熱した後、前記ガラス基板の成形を行
う。Preferably, a heating means is provided in the molding chamber, and the glass substrate carried in from the heating chamber is further heated to a temperature at which the glass substrate can be molded, and then the glass substrate is molded.
【0032】[0032]
【発明の実施の形態】(例1)図1に、本発明に基づく
ガラス製成形基板の製造装置の第一の例を示す。なお、
この例では、静電気力を用いた非接触吸引浮上方式の移
載装置を用いて、高温のガラス基板及びプレス成形後の
成形基板の移載を行っている。DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS (Example 1) FIG. 1 shows a first example of an apparatus for producing a molded glass substrate according to the present invention. In addition,
In this example, a non-contact suction floating type transfer device using electrostatic force is used to transfer a high-temperature glass substrate and a molded substrate after press molding.
【0033】この製造装置は、加熱室10、成形室20
及び冷却室30を直列に接続することにより構成されて
いる。加熱室10内及び冷却室30内は不活性ガス雰囲
気で維持され、成形室20内はガラス基板のプレス成形
の前に真空状態に排気される。このため、加熱室10と
成形室20は、第一予備室60を介して接続され、成形
室20と加熱室30は、第二予備室70を介して接続さ
れている。更に、加熱室10の入口側には第三予備室8
0が設けられ、冷却室30の出口側には第四予備室90
が設けられている。This manufacturing apparatus comprises a heating chamber 10, a molding chamber 20
And the cooling chambers 30 are connected in series. The interior of the heating chamber 10 and the interior of the cooling chamber 30 are maintained in an inert gas atmosphere, and the interior of the molding chamber 20 is evacuated to a vacuum state before press molding of the glass substrate. For this reason, the heating chamber 10 and the molding chamber 20 are connected via the first preliminary chamber 60, and the molding chamber 20 and the heating chamber 30 are connected via the second preliminary chamber 70. Further, a third preliminary chamber 8 is provided at the entrance side of the heating chamber 10.
0 is provided, and a fourth preliminary chamber 90 is provided at the outlet side of the cooling chamber 30.
Is provided.
【0034】装置の最上流側には、第三予備室80が配
置されている。第三予備室80の前後には、ゲートバル
ブ51、52が設けられている。第三予備室80は、ゲ
ートバルブ51によって外界と区切られ、ゲートバルブ
52を介して加熱室10の入口側に接続されている。第
三予備室80には、不活性ガスの流入口81及び排気口
82が接続されている。A third preparatory chamber 80 is arranged at the most upstream side of the apparatus. Gate valves 51 and 52 are provided before and after the third preliminary chamber 80. The third preliminary chamber 80 is separated from the outside world by a gate valve 51, and is connected to the inlet side of the heating chamber 10 via the gate valve 52. An inert gas inflow port 81 and an exhaust port 82 are connected to the third preliminary chamber 80.
【0035】第三予備室80の役割は、ガラス基板1を
加熱室10内に搬入する際、大気が加熱室10内へ流入
することを防止することにある。即ち、ガラス基板1
は、次の手順で、外部から第三予備室80を経て加熱室
10内に搬入される。先ず、ゲートバルブ51を開き、
ガラス基板1を外部から第三予備室80内に搬入し、テ
ーブル85の上に置く。次いで、ゲートバルブ51を閉
じ、第三予備室80内を排気口82を介して排気する。
次に、不活性ガスを、流入口81から導入するとともに
排気口82を介して排気し、第三予備室80内を不活性
ガス雰囲気にする。次に、ゲートバルブ52を開き、吸
着パッド式の移載装置(図示せず)によってガラス基板
1をテーブル85の上から持ち上げ、加熱室10内に搬
入する。次いで、ゲートバルブ52を閉じる。The role of the third preliminary chamber 80 is to prevent the air from flowing into the heating chamber 10 when the glass substrate 1 is carried into the heating chamber 10. That is, the glass substrate 1
Is carried into the heating chamber 10 from the outside through the third preliminary chamber 80 in the following procedure. First, open the gate valve 51,
The glass substrate 1 is carried into the third preliminary chamber 80 from outside, and is placed on the table 85. Next, the gate valve 51 is closed, and the inside of the third preliminary chamber 80 is exhausted through the exhaust port 82.
Next, an inert gas is introduced from the inflow port 81 and exhausted through the exhaust port 82 to make the inside of the third preliminary chamber 80 an inert gas atmosphere. Next, the gate valve 52 is opened, the glass substrate 1 is lifted from above the table 85 by a suction pad type transfer device (not shown), and is carried into the heating chamber 10. Next, the gate valve 52 is closed.
【0036】第三予備室80の後段には、加熱室10が
配置されている。加熱室10内は、不活性ガス雰囲気に
保たれており、不活性ガスは、流入口11から導入さ
れ、排気口12から排出される。加熱室10内には、搬
送コンベア15が設置されている。搬送コンベア15上
には、複数のパレット16が走行方向に並べて装着され
ている。加熱室10内に搬入されたガラス基板1は、搬
送コンベア15上のパレット16の上に置かれる。な
お、図1(b)に示す様に、加熱室10内には、更に、
空になったパレット16を加熱室10の出口側から入口
側へ戻す帰還搬送ラインが設けられている。The heating chamber 10 is disposed downstream of the third preliminary chamber 80. The inside of the heating chamber 10 is maintained in an inert gas atmosphere, and the inert gas is introduced from the inflow port 11 and discharged from the exhaust port 12. In the heating chamber 10, a conveyor 15 is provided. A plurality of pallets 16 are mounted on the conveyor 15 in a row in the traveling direction. The glass substrate 1 carried into the heating chamber 10 is placed on a pallet 16 on a conveyor 15. In addition, as shown in FIG.
A return transport line is provided to return the emptied pallet 16 from the exit side of the heating chamber 10 to the entrance side.
【0037】パレット16の表面には、ガラスとの融着
及び化学反応を防止するため、特殊なコーティングが施
されている。加熱室10内は、前述のように、不活性ガ
ス雰囲気に保たれており、上記のコーティングの酸化防
止が図られている。加熱室10の天井部には、赤外線ラ
ンプ17が配置され、その背面には金メッキ処理が施さ
れた反射ミラー18が配置されている。A special coating is applied to the surface of the pallet 16 in order to prevent fusion with glass and chemical reaction. As described above, the inside of the heating chamber 10 is maintained in an inert gas atmosphere to prevent oxidation of the coating. An infrared lamp 17 is arranged on the ceiling of the heating chamber 10, and a gold-plated reflection mirror 18 is arranged on the back of the infrared lamp 17.
【0038】ガラス基板1は、加熱室10内で搬送コン
ベア15上を出口方向に向かって搬送されながら、所定
の昇温パターンに従って徐々に加熱される。The glass substrate 1 is gradually heated according to a predetermined heating pattern while being conveyed in the heating chamber 10 on the conveyor 15 toward the outlet.
【0039】加熱室10の後段には、第一予備室60が
配置されている。第一予備室60の前後には、ゲートバ
ルブ53、54が設けられている。第一予備室60は、
ゲートバルブ53を介して加熱室10の出口側に接続さ
れ、ゲートバルブ54を介して成形室20の入口側に接
続されている。第一予備室60内には、第一移載機65
が設置されている。第一移載機65は、搬送ロボットで
あって、そのハンド部66には静電気力を用いた非接触
吸引浮上機構(後述)が備えられている。A first preliminary chamber 60 is disposed downstream of the heating chamber 10. Gate valves 53 and 54 are provided before and after the first preliminary chamber 60. The first spare room 60
It is connected to the outlet side of the heating chamber 10 via a gate valve 53, and connected to the inlet side of the molding chamber 20 via a gate valve 54. In the first spare room 60, a first transfer machine 65 is provided.
Is installed. The first transfer device 65 is a transfer robot, and its hand section 66 is provided with a non-contact suction and floating mechanism (described later) using electrostatic force.
【0040】ガラス基板1は、次の手順で、加熱室10
内から第一予備室60を経て成形室20内に搬入され
る。先ず、ゲートバルブ53を開き、ハンド部66を加
熱室10内に送り込む。搬送コンベア15上のパレット
16の上に載せられているガラス基板1の上で、ハンド
部66を停止させる。ガラス基板1を、パレット16の
上から吸引浮上させて保持し、第一予備室60内に運び
込む。次いで、ゲートバルブ53を閉じる。次に、ゲー
トバルブ54を開いて、ハンド部66に保持されている
ガラス基板1を、成形室20内に搬入する。次いで、ハ
ンド部66のみを第一予備室60内に戻した後、ゲート
バルブ54を閉じる。The glass substrate 1 is placed in the heating chamber 10 in the following procedure.
It is carried into the molding chamber 20 from the inside through the first preliminary chamber 60. First, the gate valve 53 is opened, and the hand unit 66 is sent into the heating chamber 10. The hand unit 66 is stopped on the glass substrate 1 placed on the pallet 16 on the conveyor 15. The glass substrate 1 is suction-floated and held from above the pallet 16 and carried into the first preliminary chamber 60. Next, the gate valve 53 is closed. Next, the gate valve 54 is opened, and the glass substrate 1 held by the hand unit 66 is carried into the molding chamber 20. Next, after only the hand part 66 is returned into the first preliminary chamber 60, the gate valve 54 is closed.
【0041】第一予備室60の後段には、成形室20が
配置されている。成形室20には、真空排気管21が接
続されている。成形室20内には、プレス成形装置40
の上型41及び下型42の部分が収容されている。上型
40は固定軸43の下端に装着され、下型42は移動軸
44の上端に装着されている。固定軸43は成形室20
の天井部に固定され、移動軸44はシール部材(図示せ
ず)を介して成形室20の床面を貫通している。このシ
ール部材によって、成形室20内が外界と遮断されてい
る。The molding chamber 20 is disposed downstream of the first preliminary chamber 60. A vacuum exhaust pipe 21 is connected to the molding chamber 20. A press forming device 40 is provided in the forming chamber 20.
The upper die 41 and the lower die 42 are accommodated. The upper die 40 is mounted on the lower end of the fixed shaft 43, and the lower die 42 is mounted on the upper end of the moving shaft 44. The fixed shaft 43 is provided in the molding chamber 20.
The moving shaft 44 penetrates the floor of the molding chamber 20 via a sealing member (not shown). The inside of the molding chamber 20 is isolated from the outside by the seal member.
【0042】移動軸44の下端は、ロードセル45を介
してスクリュージャッキ46に接続されている。スクリ
ュージャッキ46はサーボモータ47によって駆動され
る。サーボモータ47は、制御装置49によって制御さ
れる。下型42の位置、下型42に与えるプレス成形荷
重及びプレススピード等は、予め制御装置49に入力さ
れた指示プログラム、及びロードセル45によって検出
されたプレス荷重の実測値等に基づいて、フィードバッ
ク制御される。The lower end of the moving shaft 44 is connected to a screw jack 46 via a load cell 45. The screw jack 46 is driven by a servomotor 47. The servo motor 47 is controlled by the control device 49. The position of the lower mold 42, the press forming load applied to the lower mold 42, the press speed, and the like are controlled by feedback control based on an instruction program previously input to the control device 49, an actual measured value of the press load detected by the load cell 45, and the like. Is done.
【0043】加熱室10から搬入されたガラス基板1
は、下型42の上に置かれる。ゲートバルブ53、54
を閉じた状態で、成形室20内を真空排気管21を介し
て排気する。成形室20内が真空状態になった後、ガラ
ス基板1の表面にプレス成形で微細なパターンを形成す
る。真空中でプレス成形が行われるので、成形品の表面
に発生するエア溜りによって成形精度が損なわれること
が防止される。Glass substrate 1 carried in from heating chamber 10
Is placed on the lower mold 42. Gate valves 53, 54
Is closed, the inside of the molding chamber 20 is evacuated through the vacuum exhaust pipe 21. After the inside of the molding chamber 20 is evacuated, a fine pattern is formed on the surface of the glass substrate 1 by press molding. Since the press molding is performed in a vacuum, it is possible to prevent the molding accuracy from being impaired by the air pool generated on the surface of the molded product.
【0044】成形室20の後段には、第二予備室70が
配置されている。第二予備室70の前後には、ゲートバ
ルブ55、56が設けられている。第二予備室70は、
ゲートバルブ55を介して成形室20の出口側に接続さ
れ、ゲートバルブ56を介して冷却室30の入口側に接
続されている。第二予備室70内には、第二移載機75
が設置されている。第二移載機75は、第一移載機65
と同様の搬送ロボットであって、そのハンド部76には
静電気力を用いた非接触吸引浮上機構(後述)が備えら
れている。A second preparatory chamber 70 is disposed downstream of the molding chamber 20. Gate valves 55 and 56 are provided before and after the second preliminary chamber 70. The second spare room 70
It is connected to the outlet side of the molding chamber 20 via a gate valve 55 and connected to the inlet side of the cooling chamber 30 via a gate valve 56. In the second spare room 70, a second transfer machine 75
Is installed. The second transfer machine 75 is a first transfer machine 65.
The hand unit 76 is provided with a non-contact suction and floating mechanism (described later) using electrostatic force.
【0045】成形基板2は、次の手順で、成形室20内
から第二予備室70を経て冷却室30内に搬入される。
先ず、ゲートバルブ55を開き、ハンド部76を成形室
20内に送り込む。移動軸44上の下型42の上に載せ
られている成形基板2の上で、ハンド部76を停止させ
る。成形基板2を、下型42の上から吸引浮上させて保
持し、第二予備室70内に運び込む。次いで、ゲートバ
ルブ55を閉じる、次に、ゲートバルブ56を開いて、
ハンド部76に保持されている成形基板2を、冷却室3
0内に搬入する。次いで、ハンド部66のみを第一予備
室60内に戻した後、ゲートバルブ56を閉じる。The molded substrate 2 is carried into the cooling chamber 30 from the molding chamber 20 through the second preliminary chamber 70 in the following procedure.
First, the gate valve 55 is opened, and the hand unit 76 is sent into the molding chamber 20. The hand unit 76 is stopped on the molded substrate 2 placed on the lower mold 42 on the moving shaft 44. The molded substrate 2 is sucked and floated from above the lower mold 42, held, and carried into the second preliminary chamber 70. Next, close the gate valve 55, and then open the gate valve 56,
The molded substrate 2 held by the hand unit 76 is moved to the cooling chamber 3
Carry in 0. Next, after only the hand part 66 is returned into the first preliminary chamber 60, the gate valve 56 is closed.
【0046】第二予備室70の後段には、冷却室30が
配置されている。冷却室30内は、不活性ガス雰囲気に
保たれており、不活性ガスは、流入口31から導入さ
れ、排気口32から排出される。冷却室30内には、加
熱室10内と同様に、搬送コンベア35が設置されてい
る。搬送コンベア35上には、複数のパレット36が走
行方向に並べて装着されている。冷却室30内に搬入さ
れた成形基板2は、搬送コンベア35上のパレット36
の上に置かれる。なお、図1(c)に示す様に、冷却室
30内には、更に、空になったパレット36を冷却室3
0の出口側から入口側へ戻す帰還搬送ラインが設けられ
ている。The cooling chamber 30 is disposed downstream of the second preliminary chamber 70. The interior of the cooling chamber 30 is maintained in an inert gas atmosphere, and the inert gas is introduced from the inflow port 31 and discharged from the exhaust port 32. A transport conveyor 35 is provided in the cooling chamber 30 as in the heating chamber 10. On the conveyor 35, a plurality of pallets 36 are mounted side by side in the traveling direction. The molded substrate 2 carried into the cooling chamber 30 is placed on a pallet 36 on a conveyor 35.
On top of. In addition, as shown in FIG. 1C, the empty pallet 36 is further placed in the cooling chamber 30 in the cooling chamber 30.
A return transport line is provided for returning from the exit side of the zero to the entrance side.
【0047】パレット36の表面には、ガラスとの融着
及び化学反応を防止するため、特殊なコーティングが施
されている。冷却室20内は、前述のように、不活性ガ
ス雰囲気に保たれており、上記のコーティングの酸化防
止が図られている。加熱室10と同様に、冷却室30の
天井部には赤外線ランプ37が配置され、その背面には
金メッキ処理が施された反射ミラー38が配置されてい
る。A special coating is applied to the surface of the pallet 36 in order to prevent fusion with glass and a chemical reaction. As described above, the inside of the cooling chamber 20 is maintained in an inert gas atmosphere, and the oxidation of the coating is prevented. Similarly to the heating chamber 10, an infrared lamp 37 is disposed on the ceiling of the cooling chamber 30, and a reflection mirror 38 subjected to a gold plating process is disposed on a rear surface thereof.
【0048】成形基板2は、冷却室30内で搬送コンベ
ア35上を出口方向に向かって搬送されながら、所定の
降温パターンに従って徐々に冷却される。The molded substrate 2 is gradually cooled according to a predetermined temperature decreasing pattern while being transported on the transport conveyor 35 in the cooling chamber 30 toward the exit direction.
【0049】冷却室30の後段には、第四予備室90が
配置されている。第四予備室90の前後には、ゲートバ
ルブ57、58が設けられている。第四予備室90は、
ゲートバルブ57を介して冷却室30の出口側に接続さ
れ、ゲートバルブ58によって外界と区切られている。
第四予備室90には、不活性ガスの流入口91及び排気
口92が接続されている。A fourth preparatory chamber 90 is disposed downstream of the cooling chamber 30. Gate valves 57 and 58 are provided before and after the fourth preliminary chamber 90. The fourth spare room 90
It is connected to the outlet side of the cooling chamber 30 through a gate valve 57, and is separated from the outside by a gate valve 58.
An inert gas inflow port 91 and an exhaust port 92 are connected to the fourth preliminary chamber 90.
【0050】第四予備室90の役割は、冷却が終わった
成形基板2を冷却室30から外部へ搬出する際、第三予
備室80と同様に、大気が冷却室30内に流入すること
を防止することにある。即ち、成形基板2は、次の手順
で、冷却室30内から第四予備室90を経て外部に搬出
される。先ず、第四予備室90内を排気口92を介して
排気する。次に、不活性ガスを、流入口91から導入す
るとともに排気管92を介して排気して、第四予備室9
0内を不活性ガス雰囲気にする。次に、ゲートバルブ5
7を開いて、成形基板2を、吸着パッド式の移載装置
(図示せず)によってパレット36の上から持ち上げ
て、冷却室30から第四予備室90内に搬入し、テーブ
ル95の上に置く。次いで、ゲートバルブ57を閉じ
る。次に、ゲートバルブ58を開き、成形基板2を、第
四予備室90の外に搬出する。次いで、ゲートバルブ5
8を閉じる。The role of the fourth preparatory chamber 90 is to allow the air to flow into the cooling chamber 30 as in the third preparatory chamber 80 when the cooled substrate 2 is carried out of the cooling chamber 30 to the outside. Is to prevent it. That is, the molded substrate 2 is carried out of the cooling chamber 30 to the outside via the fourth preliminary chamber 90 in the following procedure. First, the inside of the fourth preliminary chamber 90 is exhausted through the exhaust port 92. Next, an inert gas is introduced from the inflow port 91 and exhausted through the exhaust pipe 92, so that the
The inside of 0 is an inert gas atmosphere. Next, the gate valve 5
7, the molded substrate 2 is lifted from above the pallet 36 by a suction pad type transfer device (not shown), carried into the fourth preliminary chamber 90 from the cooling chamber 30, and placed on the table 95. Put. Next, the gate valve 57 is closed. Next, the gate valve 58 is opened, and the molded substrate 2 is carried out of the fourth preliminary chamber 90. Next, the gate valve 5
Close 8.
【0051】ここで、図2を用いて、第一移載機65の
ハンド部66、及び第二移載機75のハンド部76で使
用されている静電気力を用いた非接触吸引浮上方式につ
いて説明する。この方式は、平板状の搬送対象物を静電
気力によって浮上させると同時に、吸引用電極と搬送対
象物との間のギャップを検出して静電気力を制御し、吸
引用電極に対して非接触状態を保って搬送対象物を浮上
搬送するものである(例えば、精密工学会誌、Vol.
63,No.7,1997,p.943)。Here, referring to FIG. 2, a non-contact suction floating method using electrostatic force used in the hand section 66 of the first transfer machine 65 and the hand section 76 of the second transfer machine 75 will be described. explain. In this method, a flat object to be conveyed is levitated by electrostatic force, and at the same time, the gap between the suction electrode and the object to be conveyed is detected and the electrostatic force is controlled, so that the object is not in contact with the suction electrode. Levitation transporting the transport object while maintaining the same (for example, Journal of Precision Engineering, Vol.
63, No. 7, 1997, p. 943).
【0052】但し、本発明による装置の場合、高温状態
のガラス基板等の非接触吸引浮上に使用することを考慮
して、吸引用電極111の電極基板112には、セラミ
ックス板(Si3N4)を使用している。電極基板11
2上には、複数の銅電極パターン113がエッチングに
よって形成され、各銅電極パターン113に印荷される
電圧を個別に制御できるようになっている。このように
吸引用電極111を構成することによって、高温状態の
ガラス板の非接触搬送を安定して行うことを可能にして
いる。However, in the case of the device according to the present invention, the electrode substrate 112 of the suction electrode 111 is formed of a ceramic plate (Si 3 N 4) in consideration of use for non-contact suction floating of a glass substrate or the like in a high temperature state. ). Electrode substrate 11
2, a plurality of copper electrode patterns 113 are formed by etching, so that the voltage applied to each copper electrode pattern 113 can be individually controlled. By configuring the suction electrode 111 in this way, it is possible to stably carry out non-contact conveyance of a glass plate in a high temperature state.
【0053】なお、各ゲートバルブ51〜58の開閉、
各室10、20、30、60、70、80、90内の雰
囲気及び温度調整、各搬送コンベア15、35及び各移
載機65、75の動き、及びプレス成形装置40の動き
等は、制御装置49によって一括コントロールされる。The opening and closing of each gate valve 51-58,
Atmosphere and temperature adjustment in each of the chambers 10, 20, 30, 60, 70, 80, and 90, the movement of each of the conveyors 15, 35 and each of the transfer machines 65 and 75, and the movement of the press forming apparatus 40 are controlled. It is controlled collectively by the device 49.
【0054】(例2)図3に、本発明に基づくガラス製
成形基板の製造装置の第二の例を示す。なお、先の例
(図1)との相違点は、加熱されたガラス基板1を加熱
室10から成形室20へ移す第一移載機、及び成形が終
わった成形基板2を成形室20から冷却室30へ移す第
二移載機の構造及び機能、及び空になったパレットの帰
還ラインのみであって、他の部分、即ち、加熱室10、
成形室20、冷却室30、各予備室60、70、80、
90の構成は、先の例と同様である。従って、ここで
は、第一移載機及び第二移載機の構造及び機能に関係す
る部分についてのみ説明する。Example 2 FIG. 3 shows a second example of the apparatus for manufacturing a molded glass substrate according to the present invention. The difference from the previous example (FIG. 1) is that the heated glass substrate 1 is transferred from the heating chamber 10 to the molding chamber 20, and the molded substrate 2 after molding is removed from the molding chamber 20. Only the structure and function of the second transfer machine to be transferred to the cooling chamber 30, and the return line of the empty pallet, and other parts, that is, the heating chamber 10,
Molding chamber 20, cooling chamber 30, each preliminary chamber 60, 70, 80,
The configuration of 90 is similar to the previous example. Therefore, here, only the portions related to the structures and functions of the first transfer machine and the second transfer machine will be described.
【0055】図3に示すように、第一予備室60は、ゲ
ートバルブ53を介して加熱室10の出口側に接続さ
れ、ゲートバルブ54を介して成形室20の入口側に接
続されている。第一予備室60内には、第一移載機13
0が設置されている。第一移載機130は搬送ロボット
であって、そのハンド部131には、後述のように、パ
レット16及び下型42を把持する機構が備えられてい
る。As shown in FIG. 3, the first preliminary chamber 60 is connected to the outlet of the heating chamber 10 via a gate valve 53 and connected to the inlet of the molding chamber 20 via a gate valve 54. . In the first spare room 60, the first transfer machine 13 is provided.
0 is set. The first transfer device 130 is a transfer robot, and its hand section 131 is provided with a mechanism for gripping the pallet 16 and the lower mold 42 as described later.
【0056】第一予備室60の後段には、成形室20が
配置されている。成形室20内には、プレス成形装置4
0の上型41及び下型42の部分が収容されている。上
型40は固定軸43の下端に装着され、下型42は移動
軸44の上端に装着されている。固定軸43は成形室2
0の天井部に固定され、移動軸44はシール部材(図示
せず)を介して成形室20の床面を貫通している。The molding chamber 20 is disposed downstream of the first preliminary chamber 60. A press forming apparatus 4 is provided in the forming chamber 20.
The upper die 41 and the lower die 42 are accommodated. The upper die 40 is mounted on the lower end of the fixed shaft 43, and the lower die 42 is mounted on the upper end of the moving shaft 44. The fixed shaft 43 is in the molding chamber 2
The moving shaft 44 is fixed to the ceiling of the molding chamber 20 and penetrates the floor of the molding chamber 20 via a sealing member (not shown).
【0057】成形室20の後段には、第二予備室70が
配置されている。第二予備室70は、ゲートバルブ55
を介して成形室20の出口側に接続され、ゲートバルブ
56を介して冷却室30の入口側に接続されている。第
二予備室70内には、第二移載機140が設置されてい
る。第二移載機140は、第一移載機130と同様の搬
送ロボットであって、そのハンド部141には、パレッ
ト36及び下型42を把持する機構が備えられている。A second preparatory chamber 70 is disposed downstream of the molding chamber 20. The second preliminary chamber 70 is provided with the gate valve 55
Is connected to the outlet side of the molding chamber 20 via a gate valve 56 and is connected to the inlet side of the cooling chamber 30 via a gate valve 56. In the second spare room 70, a second transfer machine 140 is installed. The second transfer device 140 is a transfer robot similar to the first transfer device 130, and has a mechanism for gripping the pallet 36 and the lower mold 42 in the hand portion 141 thereof.
【0058】図4に、第一移載機130の構造を示す。
なお、第二移載機140もこれと同等の構造を備えてい
る。第一移載機130は、多関節ロボットであって、ハ
ンド部131の先端にチャック部132を備えている。
このチャック部132は、上下二段のチャック132
a、bからなり、チャック132a、bの開閉を各々独
立に制御することができる。第一移載機130は、ハン
ド部131の前後進(矢印135)及び旋回(矢印13
6)、チャック132a、bの開閉(矢印137)、及
びチャック部132の回転(矢印138)が可能であ
る。FIG. 4 shows the structure of the first transfer machine 130.
Note that the second transfer machine 140 also has an equivalent structure. The first transfer machine 130 is an articulated robot, and includes a chuck 132 at the tip of a hand 131.
The chuck part 132 is composed of upper and lower two-stage chucks 132.
a, b, and the opening and closing of the chucks 132a, 132b can be independently controlled. The first transfer machine 130 moves the hand unit 131 forward and backward (arrow 135) and turns (arrow 13).
6), opening and closing of the chucks 132a and 132b (arrow 137), and rotation of the chuck 132 (arrow 138) are possible.
【0059】また、上記のチャック132a、bに対応
して、成形型の下型42の端面、搬送コンベア15上に
装着されるパレット16の端面、及び搬送コンベア35
上に装着されるパレット36の端面には、それぞれ、チ
ャック用の溝が形成されている。これら溝の中にチャッ
ク132a、bを挿入することによって、下型42ある
いパレット16、36を確実に把持して正確に搬送する
ことができるようになっている。In addition, corresponding to the chucks 132a and 132b, the end surface of the lower mold 42, the end surface of the pallet 16 mounted on the conveyor 15 and the conveyor 35
A groove for chucking is formed on each of the end faces of the pallet 36 mounted thereon. By inserting the chucks 132a and 132b into these grooves, the lower mold 42 or the pallets 16 and 36 can be securely grasped and transported accurately.
【0060】更に、下型42の底面には位置決め穴が設
けられており、プレス成形装置40の移動軸44の上端
にある位置決めピン(図示せず)との嵌合によって、正
確に、その位置を再現できるようになっている。Further, a positioning hole is provided on the bottom surface of the lower mold 42, and the position thereof is accurately determined by fitting with a positioning pin (not shown) at the upper end of the moving shaft 44 of the press forming apparatus 40. Can be reproduced.
【0061】次に、図5及び図3を用いて、第一移載機
130の動きについて説明する。加熱されたガラス基板
1は、次の手順で、加熱室10内から第一予備室60を
経て成形室20内に搬入される。Next, the operation of the first transfer machine 130 will be described with reference to FIGS. The heated glass substrate 1 is carried into the molding chamber 20 from the heating chamber 10 through the first preliminary chamber 60 in the following procedure.
【0062】先ず、ゲートバルブ53及び54を閉じた
状態から、ゲートバルブ54を開き、ハンド部131を
前進させて成形室20内に送り込む。図5(a)に示す
ように、ハンド部131で下型42を把持する。下型4
2をプレス成形装置40の移動軸44から取り外す。ハ
ンド部131を後退させて、下型42を第一予備室60
内に運び込んだ後、ゲートバルブ54を閉じる。First, from the state where the gate valves 53 and 54 are closed, the gate valve 54 is opened, and the hand portion 131 is advanced and fed into the molding chamber 20. As shown in FIG. 5A, the lower mold 42 is gripped by the hand unit 131. Lower mold 4
2 is removed from the moving shaft 44 of the press forming apparatus 40. The hand part 131 is retracted, and the lower mold 42 is moved to the first preliminary chamber 60.
After being carried in, the gate valve 54 is closed.
【0063】第一予備室60内で、ハンド部131を1
80度旋回させる。更に、チャック部132を180度
回転させて下型42を上下方向に反転する。即ち、下型
42の型面を下向きにする。In the first spare room 60, the hand unit 131
Turn 80 degrees. Further, the lower mold 42 is turned upside down by rotating the chuck part 132 by 180 degrees. That is, the mold surface of the lower mold 42 is directed downward.
【0064】次に、ゲートバルブ53を開き、ハンド部
131を前進させて下型42を加熱室10内に送り込
む。加熱室10内の搬送コンベア15上のパレット16
の上には、所定の温度まで加熱された高温のガラス基板
1が載せられている。図5(b)に示すように、パレッ
ト16上のガラス基板1の上に下型42を降ろして重ね
る。次いで、図5(c)に示すように、パレット16と
下型42の間にガラス基板1が挟まれた状態で、ハンド
部131でパレット16及び下型42を把持し直す。パ
レット16を搬送コンベア15の上から取り外す。ハン
ド部131を後退させ、パレット6、ガラス基板1及び
下型42を第一予備室60内に運び込んだ後、ゲートバ
ルブ53を閉じる。Next, the gate valve 53 is opened, the hand part 131 is advanced, and the lower mold 42 is sent into the heating chamber 10. Pallet 16 on conveyor 15 in heating chamber 10
A high-temperature glass substrate 1 heated to a predetermined temperature is placed on the substrate. As shown in FIG. 5 (b), the lower mold 42 is lowered onto the glass substrate 1 on the pallet 16 and overlapped. Next, as shown in FIG. 5C, the pallet 16 and the lower mold 42 are gripped again by the hand unit 131 in a state where the glass substrate 1 is sandwiched between the pallet 16 and the lower mold 42. The pallet 16 is removed from the conveyor 15. After the hand unit 131 is retracted and the pallet 6, the glass substrate 1, and the lower mold 42 are carried into the first preliminary chamber 60, the gate valve 53 is closed.
【0065】第一予備室60内で、ハンド部131を1
80度旋回させる。更に、チャック部132を180度
回転させて、パレット16、ガラス基板1及び下型42
を上下方向に反転する。即ち、パレット16の表側を下
向きにし、下型42の型面を上向きに戻す。In the first spare room 60,
Turn 80 degrees. Furthermore, the pallet 16, the glass substrate 1, and the lower mold 42 are rotated by rotating the chuck 132 by 180 degrees.
Is inverted up and down. That is, the front side of the pallet 16 faces downward, and the mold surface of the lower mold 42 returns upward.
【0066】次に、ゲートバルブ54を開き、ハンド部
131を前進させ、下型42、ガラス基板1及びパレッ
ト16を成形室20内に送り込む。図5(d)に示すよ
うに、下型42をプレス成形装置40の移動軸44の上
に装着する。次いで、図5(e)に示すように、ハンド
部131で、パレット16のみを把持し直す。ハンド部
131を後退させて空のパレット16を第一移載室60
内に運び込んだ後、ゲートバルブ54を閉じる。次い
で、成形室20内を真空排気管21を介して真空に引
き、ガラス基板1の表面のプレス成形を開始する。Next, the gate valve 54 is opened, the hand 131 is advanced, and the lower mold 42, the glass substrate 1 and the pallet 16 are fed into the molding chamber 20. As shown in FIG. 5D, the lower mold 42 is mounted on the moving shaft 44 of the press forming device 40. Next, as shown in FIG. 5E, the hand unit 131 grips only the pallet 16 again. The hand pallet 131 is retracted to remove the empty pallet 16 from the first transfer chamber 60
After being carried in, the gate valve 54 is closed. Next, the inside of the molding chamber 20 is evacuated through the vacuum exhaust pipe 21 to start press molding of the surface of the glass substrate 1.
【0067】並行して、第一移載室60内で、ハンド部
131を90度旋回させる。更に、チャック部132を
180度回転させてパレット16を上下方向に反転す
る。即ち、パレット16の表側を上向きに戻す。次い
で、パレット16をゲートバルブ59から第一予備室6
0の外へ搬出する。搬出されたパレット16は、帰還搬
送ライン(図3中の破線)を通って第三予備室80の手
前に返送される。In parallel, the hand unit 131 is turned by 90 degrees in the first transfer chamber 60. Further, the pallet 16 is turned upside down by rotating the chuck portion 132 by 180 degrees. That is, the front side of the pallet 16 is returned upward. Next, the pallet 16 is moved from the gate valve 59 to the first preliminary chamber 6.
Take it out of 0. The unloaded pallet 16 is returned to the front of the third preliminary chamber 80 through a return transport line (broken line in FIG. 3).
【0068】次に、図6及び図3を用いて、第二移載機
140の動きについて説明する。プレス成形が終わった
成形基板2は、次の手順で、成形室20内から第二予備
室70を経て冷却室30内に搬入される。Next, the operation of the second transfer device 140 will be described with reference to FIGS. The molded substrate 2 after the press molding is carried into the cooling chamber 30 from the molding chamber 20 through the second preliminary chamber 70 in the following procedure.
【0069】先ず、ゲートバルブ55及56を閉じた状
態から、ゲートバルブ56を開き、ハンド部141を前
進させて冷却室30内に送り込む。図6(a)に示すよ
うに、ハンド部141でパレット36を把持する。パレ
ット36を搬送コンベア35上から取り外す。ハンド部
141を後退させてパレット36を第二予備室70内に
運び込んだ後、ゲートバルブ56を閉じる。First, from the state where the gate valves 55 and 56 are closed, the gate valve 56 is opened, and the hand portion 141 is advanced and sent into the cooling chamber 30. As shown in FIG. 6A, the pallet 36 is gripped by the hand unit 141. The pallet 36 is removed from the conveyor 35. After the hand unit 141 is moved backward to carry the pallet 36 into the second preliminary chamber 70, the gate valve 56 is closed.
【0070】第二予備室70内で、ハンド部141を1
80度旋回させる。更に、チャック部142を180度
回転させてパレット36を上下方向に反転する。即ち、
パレット36の表側を下向きにする。In the second spare room 70, the hand unit 141
Turn 80 degrees. Further, the pallet 36 is turned upside down by rotating the chuck 142 by 180 degrees. That is,
The front side of the pallet 36 faces downward.
【0071】次に、ゲートバルブ55を開き、ハンド部
141を前進させてパレット36を成形室20内に送り
込む。成形室20内の下型42の上には、プレス成形が
終わった直後の高温の成形基板2が載せられている。図
6(b)に示すように、下型42上にある成形基板2の
上にパレット36を降ろして重ねる。次いで、図6
(c)に示すように、下型42とパレット36の間に成
形基板2が挟まれた状態で、ハンド部141で下型42
及びパレット36を把持し直す。下型42をプレス成形
装置40の移動軸44の上から取り外す。ハンド部14
1を後退させ、下型42、成形基板2及びパレット36
を第二予備室70内に運び込んだ後、ゲートバルブ55
を閉じる。Next, the gate valve 55 is opened, and the hand portion 141 is advanced to feed the pallet 36 into the molding chamber 20. On the lower mold 42 in the molding chamber 20, the high-temperature molded substrate 2 immediately after the press molding is completed is placed. As shown in FIG. 6B, the pallet 36 is lowered onto the molded substrate 2 on the lower mold 42 and is stacked. Then, FIG.
As shown in (c), in a state where the molded substrate 2 is sandwiched between the lower die 42 and the pallet 36, the lower die 42 is
Then, the pallet 36 is gripped again. The lower mold 42 is removed from above the moving shaft 44 of the press forming device 40. Hand part 14
1, the lower mold 42, the molded substrate 2, and the pallet 36.
After being brought into the second spare room 70, the gate valve 55
Close.
【0072】第二予備室70内で、ハンド部141を1
80度旋回させる。更に、チャック部142を180度
回転させ、下型42、成形基板2及びパレット36を上
下方向に反転する。即ち、下型42の型面を下向きに
し、パレット36の表側を上向きに戻す。In the second spare room 70, the hand unit 141
Turn 80 degrees. Further, the chuck 142 is rotated by 180 degrees, and the lower die 42, the molded substrate 2 and the pallet 36 are turned upside down. That is, the mold surface of the lower mold 42 is turned downward, and the front side of the pallet 36 is turned upward.
【0073】次に、ゲートバルブ56を開き、ハンド部
141を前進させ、パレット36、成形基板2及び下型
42を冷却室30内に送り込む。図6(d)に示すよう
に、パレット36を搬送コンベア35の上に装着する。
次いで、図6(e)に示すように、ハンド部141で、
下型42のみを把持し直す。ハンド部141を後退さ
せ、下型42のみを第二移載室70内に運び込んだ後、
ゲートバルブ56を閉じる。Next, the gate valve 56 is opened, the hand portion 141 is advanced, and the pallet 36, the molded substrate 2 and the lower mold 42 are sent into the cooling chamber 30. As shown in FIG. 6D, the pallet 36 is mounted on the conveyor 35.
Next, as shown in FIG.
Only the lower mold 42 is gripped again. After retreating the hand part 141 and carrying only the lower mold 42 into the second transfer chamber 70,
The gate valve 56 is closed.
【0074】第二予備室70内で、ハンド部141を1
80度旋回させる。更に、チャック部142を180度
回転させて下型42を上下方向に反転する。即ち、下型
42の型面を上向きの姿勢に戻す。In the second spare room 70, the hand unit 141
Turn 80 degrees. Further, the chuck 142 is rotated by 180 degrees to turn the lower mold 42 up and down. That is, the mold surface of the lower mold 42 is returned to the upward posture.
【0075】次に、ゲートバルブ55を開き、ハンド部
141を前進させて下型42を成形室20内に戻し、図
6(f)に示すように、プレス成形装置40の移動軸4
4の上に装着する。次いで、ハンド部141を後退さ
せ、ハンド部141のみを第二予備室70内へ戻した
後、ゲートバルブ55を閉じる。Next, the gate valve 55 is opened, the hand part 141 is advanced, and the lower mold 42 is returned into the molding chamber 20, and as shown in FIG.
4 on top. Next, after the hand part 141 is moved backward and only the hand part 141 is returned into the second preliminary chamber 70, the gate valve 55 is closed.
【0076】(例3)図7に、本発明に基づくガラス製
成形基板の製造装置の第三の例を示す。なお、先の例
(図3)との相違点は、加熱されたガラス基板1を加熱
室10から成形室20へ移す第一移載機、及び成形が終
わった成形基板2を成形室20から冷却室30へ移す第
二移載機の構造及び機能のみであって、他の部分、即
ち、加熱室10、成形室20、冷却室30、各予備室6
0、70、80、90の構成は、先の例と同様である。
従って、ここでは、第一移載機及び第二移載機の構造及
び機能に関係する部分についてのみ説明する。(Example 3) FIG. 7 shows a third example of an apparatus for manufacturing a molded glass substrate according to the present invention. The difference from the previous example (FIG. 3) is that the heated glass substrate 1 is transferred from the heating chamber 10 to the molding chamber 20, and the molded substrate 2 after molding is removed from the molding chamber 20. It is only the structure and function of the second transfer machine to be transferred to the cooling chamber 30, and the other parts, that is, the heating chamber 10, the molding chamber 20, the cooling chamber 30, and each spare chamber 6
The configuration of 0, 70, 80, 90 is the same as in the previous example.
Therefore, here, only the portions related to the structures and functions of the first transfer machine and the second transfer machine will be described.
【0077】図7に示すように、第一予備室60は、ゲ
ートバルブ53を介して加熱室10の出口側に接続さ
れ、ゲートバルブ54を介して成形室20の入口側に接
続されている。第一予備室60内には、第一移載機15
0が設置されている。第一移載機150は搬送ロボット
であって、そのハンド部151には、パレット16を把
持する機構が備えられている。As shown in FIG. 7, the first preliminary chamber 60 is connected to the outlet side of the heating chamber 10 via a gate valve 53 and connected to the inlet side of the molding chamber 20 via a gate valve 54. . In the first preliminary room 60, the first transfer machine 15 is provided.
0 is set. The first transfer device 150 is a transfer robot, and its hand section 151 is provided with a mechanism for holding the pallet 16.
【0078】第一予備室60の後段には、成形室20が
配置されている。成形室20内には、プレス成形装置4
0の上型41及び下型42の部分が収容されている。上
型40は固定軸43の下端に装着され、下型42は移動
軸44の上端に装着されている。The molding chamber 20 is disposed downstream of the first preliminary chamber 60. A press forming apparatus 4 is provided in the forming chamber 20.
The upper die 41 and the lower die 42 are accommodated. The upper die 40 is mounted on the lower end of the fixed shaft 43, and the lower die 42 is mounted on the upper end of the moving shaft 44.
【0079】成形室20の後段には、第二予備室70が
配置されている。第二予備室70は、ゲートバルブ55
を介して成形室20の出口側に接続され、ゲートバルブ
56を介して冷却室30の入口側に接続されている。第
二予備室70内には、第二移載機160が設置されてい
る。第二移載機160は、第一移載機150と同様の搬
送ロボットであって、そのハンド部161には、下型4
2を把持する機構が備えられている。A second preparatory chamber 70 is disposed downstream of the molding chamber 20. The second preliminary chamber 70 is provided with the gate valve 55
Is connected to the outlet side of the molding chamber 20 via a gate valve 56 and is connected to the inlet side of the cooling chamber 30 via a gate valve 56. In the second spare room 70, a second transfer machine 160 is installed. The second transfer device 160 is a transfer robot similar to the first transfer device 150, and has a lower die 4
2 is provided.
【0080】図8に、第一移載機150の構造を示す。
なお、第二移載機160もこれと同等の構造を備えてい
る。第一移載機150は、多関節ロボットであり、ハン
ド部151の先端にチャック部152を備えている。第
一移載機150は、ハンド部151の前後進(矢印15
5)及び旋回(矢印156)及びチャック152aの開
閉(矢印157)が可能である。FIG. 8 shows the structure of the first transfer machine 150.
Note that the second transfer machine 160 also has an equivalent structure. The first transfer device 150 is an articulated robot, and includes a chuck 152 at the tip of a hand 151. The first transfer machine 150 moves the hand unit 151 back and forth (arrow 15).
5) and turning (arrow 156) and opening and closing (arrow 157) of the chuck 152a are possible.
【0081】また、上記のチャック152aに対応し
て、搬送コンベア15上に装着されるパレット16の端
面、及び成形型の下型42の端面には、それぞれ、チャ
ック用の溝が形成されている。これら溝の中にチャック
152aを挿入することによって、パレット16または
下型42を確実に把持して正確に搬送することができる
ようになっている。In addition, chuck grooves are formed on the end surface of the pallet 16 mounted on the conveyor 15 and the end surface of the lower mold 42, respectively, corresponding to the chuck 152a. . By inserting the chuck 152a into these grooves, the pallet 16 or the lower mold 42 can be reliably gripped and accurately conveyed.
【0082】次に、図9及び図7を用いて、第一移載機
150の動きについて説明する。加熱されたガラス基板
1は、次の手順で、加熱室10内から第一予備室60を
経て成形室20内に搬入される。Next, the operation of the first transfer device 150 will be described with reference to FIGS. The heated glass substrate 1 is carried into the molding chamber 20 from the heating chamber 10 through the first preliminary chamber 60 in the following procedure.
【0083】先ず、ゲートバルブ53及54を閉じた状
態から、ゲートバルブ53を開き、ハンド部151を前
進させて加熱室10内に送り込む。加熱室10内の搬送
コンベア15上のパレット16の上には、所定の温度ま
で加熱された高温のガラス基板1が載せられている。図
9(a)に示すように、パレット16をハンド部151
で把持する。パレット16を搬送コンベア15の上から
取り外す。ハンド部151を後退させ、パレット16及
びガラス基板1を第一予備室60内に運び込んだ後、ゲ
ートバルブ53を閉じる。First, from the state where the gate valves 53 and 54 are closed, the gate valve 53 is opened, and the hand portion 151 is advanced and sent into the heating chamber 10. On the pallet 16 on the conveyor 15 in the heating chamber 10, the high-temperature glass substrate 1 heated to a predetermined temperature is placed. As shown in FIG. 9A, the pallet 16 is
Hold with. The pallet 16 is removed from the conveyor 15. After the hand unit 151 is retracted and the pallet 16 and the glass substrate 1 are carried into the first preliminary chamber 60, the gate valve 53 is closed.
【0084】第一予備室60内で、ハンド部151を1
80度旋回させた後、ゲートバルブ54を開く。ハンド
部151を前進させ、ガラス基板1が載せられているパ
レット16を成形室20内に送り込む。図9(b)に示
すように、パレット1を移動軸44上の下型42の上方
で停止させる。次いで、成形室20の天井部からセラミ
ックス製(Si3N4)のストッパ24を降下させ、パ
レット16上のガラス基板1の端面(加熱室20側の端
面)にストッパ24を接触させる。次いで、ハンド部1
51を後退させると、ガラス基板1はストッパ24によ
って拘束され、ハンド部151のみがガラス基板1の下
から引き抜かれる。その結果、図9(c)に示すよう
に、ガラス基板1が下型42の上に移される。ハンド部
151を後退させて空のパレット16を第一移載室60
内に運び込んだ後、ゲートバルブ54を閉じる。次い
で、成形室20内を真空排気管21を介して真空に引
き、ガラス基板1の表面のプレス成形を開始する。In the first preliminary room 60, the hand unit 151
After turning by 80 degrees, the gate valve 54 is opened. The hand unit 151 is advanced, and the pallet 16 on which the glass substrate 1 is placed is sent into the molding chamber 20. As shown in FIG. 9B, the pallet 1 is stopped above the lower mold 42 on the moving shaft 44. Next, the stopper 24 made of ceramics (Si 3 N 4 ) is lowered from the ceiling of the molding chamber 20, and brought into contact with the end face of the glass substrate 1 on the pallet 16 (the end face on the heating chamber 20 side). Next, the hand unit 1
When the 51 is retracted, the glass substrate 1 is restrained by the stopper 24, and only the hand portion 151 is pulled out from under the glass substrate 1. As a result, the glass substrate 1 is transferred onto the lower mold 42 as shown in FIG. The hand unit 151 is retracted to remove the empty pallet 16 from the first transfer chamber 60.
After being carried in, the gate valve 54 is closed. Next, the inside of the molding chamber 20 is evacuated through the vacuum exhaust pipe 21 to start press molding of the surface of the glass substrate 1.
【0085】並行して、第一移載室60内で、ハンド部
151を90度旋回させる。次いで、パレット16をゲ
ートバルブ59から第一予備室60の外へ搬出する。搬
出されたパレット16は、循環搬送装置(図7中の破
線)によって第三予備室80の手前へ返送される。In parallel, the hand unit 151 is turned by 90 degrees in the first transfer chamber 60. Next, the pallet 16 is carried out of the first preliminary chamber 60 through the gate valve 59. The unloaded pallet 16 is returned to the front of the third preparatory chamber 80 by the circulation transfer device (broken line in FIG. 7).
【0086】次に、図10及び図7を用いて、第二移載
機160の動きについて説明する。成形が終わった成形
基板2は、次の手順で、成形室20内から第二予備室7
0を経て冷却室30内に搬入される。Next, the operation of the second transfer machine 160 will be described with reference to FIGS. 10 and 7. The molded substrate 2 after the molding is removed from the molding chamber 20 to the second preliminary chamber 7 in the following procedure.
After passing through 0, it is carried into the cooling chamber 30.
【0087】先ず、ゲートバルブ55及56を閉じた状
態から、ゲートバルブ55を開き、ハンド部161を前
進させて成形室20内に送り込む。成形室20内の下型
42の上には、プレス成形が終わった直後の高温の成形
基板2が載せられている。図10(a)に示すように、
下型42をハンド部161で把持する。下型42を移動
軸44の上から取り外す。ハンド部161を後退させ、
下型42及び成形基板2を第二予備室70内に運び込ん
だ後、ゲートバルブ55を閉じる。First, from the state where the gate valves 55 and 56 are closed, the gate valve 55 is opened, and the hand portion 161 is advanced and fed into the molding chamber 20. On the lower mold 42 in the molding chamber 20, the high-temperature molded substrate 2 immediately after the press molding is completed is placed. As shown in FIG.
The lower mold 42 is gripped by the hand unit 161. The lower mold 42 is removed from the moving shaft 44. Retract the hand part 161 and
After carrying the lower mold 42 and the molded substrate 2 into the second preliminary chamber 70, the gate valve 55 is closed.
【0088】第二予備室70内で、ハンド部161を1
80度旋回させた後、ゲートバルブ56を開く。ハンド
部161を前進させ、成形基板2が載せられている下型
42を冷却室30内に送り込む。図10(b)に示すよ
うに、下型42を搬送コンベア35上のパレット36の
上方で停止させる。次いで、冷却室30の天井部からス
トッパ34を降下させ、下型42上の成形基板2の端面
(成形室20側の端面)にストッパ34を接触させる。
次いで、ハンド部161を後退させると、成形基板2は
ストッパ34によって拘束され、ハンド部161のみが
成形基板2の下から引き抜かれる。その結果、図10
(c)に示すように、成形基板2がパレット36の上に
移される。ハンド部161を後退させ、下型42のみを
第二移載室70内に運び込んだ後、ゲートバルブ56を
閉じる。In the second spare room 70, the hand unit 161
After turning by 80 degrees, the gate valve 56 is opened. The hand part 161 is advanced, and the lower mold 42 on which the molded substrate 2 is placed is sent into the cooling chamber 30. As shown in FIG. 10B, the lower mold 42 is stopped above the pallet 36 on the conveyor 35. Next, the stopper 34 is lowered from the ceiling of the cooling chamber 30, and the stopper 34 is brought into contact with the end surface of the molded substrate 2 on the lower mold 42 (the end surface on the molding chamber 20 side).
Next, when the hand part 161 is retracted, the molded substrate 2 is restrained by the stopper 34, and only the hand part 161 is pulled out from under the molded substrate 2. As a result, FIG.
As shown in (c), the molded substrate 2 is transferred onto the pallet 36. After the hand part 161 is retracted and only the lower mold 42 is carried into the second transfer chamber 70, the gate valve 56 is closed.
【0089】第二予備室70内で、ハンド部161を1
80度旋回させる。次いで、ゲートバルブ55を開き、
ハンド部161を前進させて下型42を成形室20内へ
戻し、図10(d)に示すように、プレス成形装置40
の移動軸44の上に装着する。次いで、ハンド部161
を後退させ、ハンド部161のみを第二予備室70内へ
戻した後、ゲートバルブ55を閉じる。In the second spare room 70, the hand unit 161
Turn 80 degrees. Next, the gate valve 55 is opened,
The hand part 161 is advanced to return the lower mold 42 to the inside of the molding chamber 20, and as shown in FIG.
On the moving shaft 44. Next, the hand unit 161
Is retracted, only the hand part 161 is returned into the second preliminary chamber 70, and then the gate valve 55 is closed.
【0090】なお、下型42をパレット15と兼用すれ
ば、ガラス基板1をパレット15上から下型42上へ移
すことなく、加熱室10から成形室20へ移載すること
ができる。同様に、下型42をパレット35と兼用すれ
ば、成形基板2を下型42からパレット35へ移すこと
なく、成形室20から冷却室20へ移載することができ
る。If the lower mold 42 is also used as the pallet 15, the glass substrate 1 can be transferred from the heating chamber 10 to the molding chamber 20 without transferring the glass substrate 1 from the pallet 15 to the lower mold 42. Similarly, if the lower mold 42 is also used as the pallet 35, the molding substrate 2 can be transferred from the molding chamber 20 to the cooling chamber 20 without moving the molding substrate 2 from the lower mold 42 to the pallet 35.
【0091】(例4)本発明に基づく製造装置を使用し
てガラス基板の表面にプレス成形を施し、プラズマディ
スプレイパネルのリアパネルを製造した。以下に、その
結果について説明する。なお、第一及び第二移載機には
静電気力による非接触吸引浮上方式(例1)のものを使
用したが、他の方式(パレットと下型の間で対象材を保
持して運ぶ方式(例3)、パレットあるいは下型の上に
対象材を載せて運ぶ方式(例2))を用いた場合でも、
プレス成形条件など他の条件は、ほぼ同一になる。(Example 4) The rear surface of a plasma display panel was manufactured by press-forming the surface of a glass substrate using the manufacturing apparatus according to the present invention. Hereinafter, the results will be described. The first and second transfer machines used the non-contact suction levitation method (Example 1) by electrostatic force, but other methods (the method of holding and transporting the target material between the pallet and the lower mold) (Example 3), even when using the method of carrying the target material on a pallet or a lower mold (Example 2))
Other conditions such as press molding conditions are almost the same.
【0092】使用したガラス基板は、形状:対角20イ
ンチ(508mm)、厚さ1.5mm、硝種:BK−7
(ガラス転移点=565℃、屈伏点=624℃)のガラ
ス板である。The glass substrate used was 20 inches (508 mm) diagonally, 1.5 mm thick, and glass type: BK-7.
(Glass transition point = 565 ° C., yield point = 624 ° C.).
【0093】(イ)不活性ガス雰囲気に保たれた加熱室
10内で、ガラス基板1をパレット16の上に置いて搬
送コンベア15で搬送しながら、赤外線ランプ17によ
って800℃まで加熱した。加熱室10内を搬送方向に
3ブロックに分割し、各々のブロックの温度を個別に制
御して、段階的にガラス基板1の昇温を行った。なお、
この例では、各ブロックの温度を、加熱室10の入口側
から出口側に順に、500℃、700℃、800℃と設
定した。(A) In the heating chamber 10 kept in an inert gas atmosphere, the glass substrate 1 was heated to 800 ° C. by the infrared lamp 17 while being transported by the transport conveyor 15 on the pallet 16. The inside of the heating chamber 10 was divided into three blocks in the transport direction, the temperature of each block was individually controlled, and the temperature of the glass substrate 1 was raised stepwise. In addition,
In this example, the temperature of each block was set to 500 ° C., 700 ° C., and 800 ° C. in order from the inlet side to the outlet side of the heating chamber 10.
【0094】(ロ)加熱室10内で目標温度まで加熱さ
れたガラス基板1を、第一移載機65で成形室20内の
プレス成形装置40の下型の上へ運んだ。移載後のガラ
ス基板1の温度は、テスト毎に多少の差異はあったが、
いずれも、770℃〜780℃の範囲内であった。(B) The glass substrate 1 heated to the target temperature in the heating chamber 10 was carried by the first transfer machine 65 onto the lower mold of the press forming apparatus 40 in the forming chamber 20. Although the temperature of the glass substrate 1 after the transfer was slightly different for each test,
All were in the range of 770 ° C to 780 ° C.
【0095】(ハ)次に、成形室20内を真空に引いた
後、プレス力=10,000kgf、プレス時間=10
secで、トルクフィールドバック制御を用いて、ガラ
ス基板1の表面にプレス成形を施した。(C) Next, after the interior of the molding chamber 20 is evacuated, a pressing force of 10,000 kgf and a pressing time of 10 kg
In sec, the surface of the glass substrate 1 was press-formed using torque field back control.
【0096】(ニ)プレス成形が終わった成形基板2
を、第二移載機75で冷却室30内のパレット36の上
に運んだ。(D) Molded substrate 2 after press molding
Was transferred onto the pallet 36 in the cooling chamber 30 by the second transfer machine 75.
【0097】(ホ)不活性ガス雰囲気に保たれた冷却室
30内で、成形基板2をパレット36の上に置いて搬送
コンベア35で搬送しながら、徐々に冷却した。成形基
板2を、冷却室内で目標温度まで冷却した後、装置外へ
搬出した。なお、この例では、冷却時の最終到達温度を
100℃とし、約1時間かけて成形基板2を冷却した。(E) In the cooling chamber 30 kept in the inert gas atmosphere, the molded substrate 2 was gradually cooled while placed on the pallet 36 and transported by the transport conveyor 35. After the molded substrate 2 was cooled to the target temperature in the cooling chamber, it was carried out of the apparatus. In this example, the final temperature during cooling was set to 100 ° C., and the molded substrate 2 was cooled for about 1 hour.
【0098】本発明の製造装置の特徴の一つは、各室1
0、20、30において各工程を並行して実施すること
ができることにある。従って、連続運転状態にある時に
は、プレス成形工程の所要時間間隔(タクトタイム)毎
に、冷却室30から一枚の成形基板を取り出すことがで
きる。One of the features of the manufacturing apparatus of the present invention is that each chamber 1
At 0, 20, and 30, each step can be performed in parallel. Therefore, when in the continuous operation state, one molded substrate can be taken out of the cooling chamber 30 at every required time interval (tact time) of the press molding process.
【0099】図11に、本発明に基づく製造装置の連続
運転の際のタイムチャートを示す。図中、t1は加熱室
における所要加熱時間、t2は加熱室から成形室へのガ
ラス基板の移載に要する時間、t3は成形室内の真空引
きに要する時間にプレス成形の所要時間を加えたもの、
t4は成形室から冷却室への成形基板の移載に要する時
間、t5は冷却室における所要冷却時間を表す。FIG. 11 shows a time chart during continuous operation of the manufacturing apparatus according to the present invention. In the figure, t1 is the required heating time in the heating chamber, t2 is the time required for transferring the glass substrate from the heating chamber to the molding chamber, and t3 is the time required for evacuation in the molding chamber plus the time required for press molding. ,
t4 represents a time required for transferring the molded substrate from the molding chamber to the cooling chamber, and t5 represents a required cooling time in the cooling chamber.
【0100】上記の例では、成形室20内にガラス基板
1を搬入し、成形室20内を真空に引いた後、ガラス基
板1のプレス成形を行っている。従って、プレス成形中
は、成形室20内の真空状態を破ることはできない。即
ち、プレス成形の終了後でなければ、ガラス基板の搬入
及び成形品の搬出を行うことができない。従って、図1
1に示すように、冷却が終了した成形基板の搬出間隔
(T)は、「加熱室から成形室へのガラス基板の搬送時
間+真空引き時間+プレス成形時間」(t2+t3)と
なる。なお、成形室から冷却室への成形基板の搬出(所
用時間:t4)は、加熱室から成形室へのガラス基板の
搬送(所用時間:t2)と並行して実施される。この例
では、テスト毎に多少の差異はあったが、成形基板の搬
出間隔(T)は、60〜70secであった。In the above example, the glass substrate 1 is carried into the molding chamber 20, the inside of the molding chamber 20 is evacuated, and then the glass substrate 1 is subjected to press molding. Therefore, the vacuum state in the molding chamber 20 cannot be broken during the press molding. That is, it is not possible to carry in the glass substrate and carry out the molded product unless the press molding is completed. Therefore, FIG.
As shown in FIG. 1, the unloading interval (T) of the molded substrate after cooling is “transport time of glass substrate from heating chamber to molding chamber + evacuation time + press molding time” (t2 + t3). The unloading of the molded substrate from the molding chamber to the cooling chamber (duration: t4) is performed in parallel with the transfer of the glass substrate from the heating chamber to the molding chamber (duration: t2). In this example, the carry-out interval (T) of the molded substrate was 60 to 70 sec, although there was a slight difference for each test.
【0101】上記の条件によって、対角20インチのガ
ラス基板の表面に、ピッチ75μm、幅25μm(トッ
プ)〜35μm(ボトム)、高さ70μmの平行な線状
の突起を、高い形状精度で形成することができた。Under the above conditions, parallel linear projections having a pitch of 75 μm, a width of 25 μm (top) to 35 μm (bottom), and a height of 70 μm are formed on the surface of a 20-inch diagonal glass substrate with high shape accuracy. We were able to.
【0102】[0102]
【発明の効果】本発明のガラス製成形基板の製造装置に
よれば、真空排気された成形室内でガラス基板の成形工
程が実施されるので、成形品の表面でのエア溜りの発生
が防止され、平板状のガラスの表面に微細な凹凸によっ
てパターンが形成された成形基板を、高い精度で、歩留
まり良く製造することができる。According to the apparatus for manufacturing a glass molded substrate of the present invention, since the glass substrate molding step is performed in the vacuum-evacuated molding chamber, the occurrence of air pockets on the surface of the molded article is prevented. In addition, it is possible to manufacture a molded substrate in which a pattern is formed on the surface of a flat glass plate by fine irregularities with high accuracy and high yield.
【0103】高温状態のガラス基板及びこれを成形した
後の成形基板に歪みを生じさせることなく搬送すること
によって、加熱、成形及び冷却の各工程を、それぞれ、
各室内で並行して実施することができるので、高スルー
プットを実現することができる。加熱室、成形室及び冷
却室の温度及び雰囲気を、それぞれ独立に制御すること
ができるので、成形型とガラス基板の間の温度差を適切
な条件に管理することによって、型表面へのガラスの融
着を防止するとともに、プレス成形荷重を減らし、更
に、成形型の材料選択の自由度の増大、成形型の寿命増
大などにも効果がある。また、これらの結果、高い精度
で、歩留まり良く成形基板を製造することが可能にな
る。By carrying the glass substrate in a high temperature state and the molded substrate after molding without causing distortion, the respective steps of heating, molding and cooling can be respectively performed.
Since it can be performed in each room in parallel, high throughput can be realized. Since the temperatures and atmospheres of the heating chamber, the molding chamber and the cooling chamber can be controlled independently of each other, by controlling the temperature difference between the molding die and the glass substrate to appropriate conditions, the glass on the mold surface can be controlled. In addition to preventing fusion, the load of press molding is reduced, and further, there is an effect of increasing the degree of freedom in selecting a material of the molding die, extending the life of the molding die, and the like. In addition, as a result, it is possible to manufacture a molded substrate with high accuracy and high yield.
【図1】本発明のガラス製成形基板の製造装置の第一の
例を示す概略構成図、(a)は全体図、(b)は加熱室
の平面配置図、(c)は冷却室の平面配置図。FIG. 1 is a schematic configuration diagram showing a first example of an apparatus for manufacturing a molded glass substrate of the present invention, (a) is an overall view, (b) is a plan layout view of a heating chamber, and (c) is a cooling chamber. FIG.
【図2】静電気力による被接触搬送に使用される吸引用
電極の正面図。FIG. 2 is a front view of a suction electrode used for contact transfer by electrostatic force.
【図3】本発明のガラス製成形基板の製造装置の第二の
例を示す図、(a)は主要部の概略構成図、(b)はそ
の平面配置図。3A and 3B are diagrams showing a second example of the apparatus for manufacturing a molded glass substrate of the present invention, wherein FIG. 3A is a schematic configuration diagram of a main part, and FIG.
【図4】第二の例において使用されるガラス基板及び成
形基板の移載装置の構成を示す図、(a)は正面図、
(b)は上面図。4A and 4B are diagrams showing a configuration of an apparatus for transferring a glass substrate and a molded substrate used in the second example, FIG.
(B) is a top view.
【図5】第二の例において、ガラス基板の移載の方法を
説明する図。FIG. 5 is a diagram illustrating a method of transferring a glass substrate in a second example.
【図6】第二の例において、成形基板の移載の方法を説
明する図。FIG. 6 is a diagram illustrating a method of transferring a molded substrate in a second example.
【図7】本発明のガラス製成形基板の製造装置の第三の
例を示す図、(a)は主要部の概略構成図、(b)はそ
の平面配置図。FIGS. 7A and 7B are diagrams showing a third example of the apparatus for manufacturing a molded glass substrate of the present invention, in which FIG. 7A is a schematic configuration diagram of a main part, and FIG.
【図8】第三の例において使用されるガラス基板及び成
形基板の移載装置の構成を示す図、(a)は正面図、
(b)は上面図。8A and 8B are diagrams showing a configuration of an apparatus for transferring a glass substrate and a molded substrate used in the third example, FIG.
(B) is a top view.
【図9】第三の例において、ガラス基板の移載の方法を
説明する図。FIG. 9 is a diagram illustrating a method for transferring a glass substrate in a third example.
【図10】第三の例において、成形基板の移載の方法を
説明する図。FIG. 10 is a diagram illustrating a method of transferring a molded substrate in a third example.
【図11】本発明のガラス製成形基板の製造装置の連続
運転時のタイムチャートの例を示す図。FIG. 11 is a diagram showing an example of a time chart at the time of continuous operation of the apparatus for manufacturing a molded glass substrate of the present invention.
1・・・ガラス基板、2・・・成形基板、10・・・加
熱室、20・・・成形室、30・・・冷却室、40・・
・プレス成形装置、60・・・第一予備室、70・・・
第二予備室、80・・・第三予備室、90・・・第四予
備室、11・・・不活性ガスの流入口、12・・・排気
口、15・・・搬送コンベア(第一搬送装置)、16・
・・パレット、17・・・赤外線ランプ、18・・・反
射ミラー、21・・・真空排気管、23・・・真空ポン
プ、24・・・ストッパ、31・・・不活性ガスの流入
口、32・・・排気口、34・・・ストッパ、35・・
・搬送コンベア(第二搬送装置)、36・・・パレッ
ト、37・・・赤外線ランプ、38・・・反射ミラー、
41・・・上型、42・・・下型、43・・・固定軸、
44・・・移動軸、45・・・ロードセル、46・・・
スクリュージャッキ、47・・・サーボモータ47、4
9・・・制御装置、51〜59・・・ゲートバルブ、6
5・・・第一移載機(搬送ロボット)、66・・・ハン
ド部、75・・・第二移載機(搬送ロボット)、76・
・・ハンド部、81・・・不活性ガスの流入口、82・
・・排気口、85・・・テーブル、91・・・不活性ガ
スの流入口、92・・・排気口、95・・・テーブル、
111・・・吸引用電極、112・・・電極基板、11
3・・・銅電極パターン、130・・・第一移載機、1
31・・・ハンド部、132・・・チャック部、140
・・・第二移載機、141・・・ハンド部、142・・
・チャック部、150・・・第一移載機、151・・・
ハンド部、152・・・チャック部、160・・・第二
移載機、161・・・ハンド部、162・・・チャック
部。DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Glass substrate, 2 ... Molding substrate, 10 ... Heating room, 20 ... Molding room, 30 ... Cooling room, 40 ...
・ Press forming device, 60 ・ ・ ・ First preliminary room, 70 ・ ・ ・
Second preliminary chamber, 80: third preliminary chamber, 90: fourth preliminary chamber, 11: inlet of inert gas, 12: exhaust port, 15: transport conveyor (first Transfer device), 16.
..Pallets, 17 infrared lamps, 18 reflecting mirrors, 21 vacuum pumping tubes, 23 vacuum pumps, 24 stoppers, 31 inlets for inert gas, 32 ... exhaust port, 34 ... stopper, 35 ...
・ Transport conveyor (second transport device), 36 ・ ・ ・ Pallet, 37 ・ ・ ・ Infrared lamp, 38 ・ ・ ・ Reflection mirror,
41 ... upper mold, 42 ... lower mold, 43 ... fixed shaft,
44: moving axis, 45: load cell, 46:
Screw jack 47 47 Servo motor 47 4
9 ... Control device, 51-59 ... Gate valve, 6
5: First transfer machine (transport robot), 66: Hand unit, 75: Second transfer machine (transport robot), 76
..Hand portion, 81... Inert gas inlet, 82.
..Exhaust port, 85 ... Table, 91 ... Inlet of inert gas, 92 ... Exhaust port, 95 ... Table,
111: electrode for suction, 112: electrode substrate, 11
3 ... copper electrode pattern, 130 ... first transfer machine, 1
31 ... hand part, 132 ... chuck part, 140
... Second transfer machine, 141 ... Hand unit, 142 ...
・ Chuck part, 150 ・ ・ ・ First transfer machine, 151 ・ ・ ・
Hand unit, 152 chuck unit, 160 second transfer machine, 161 hand unit, 162 chuck unit.
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 村越 洋 静岡県沼津市大岡2068の3 東芝機械株式 会社沼津事業所内 (72)発明者 北原 秀利 静岡県沼津市大岡2068の3 東芝機械株式 会社沼津事業所内 Fターム(参考) 5C027 AA09 5C040 GF19 JA20 JA34 JA40 MA23 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on the front page (72) Inventor Hiroshi Murakoshi 2068-3 Ooka, Numazu-shi, Shizuoka Toshiba Machine Co., Ltd. Numazu Office (72) Inventor Hidetoshi Kitahara 2068-3, Ooka, Numazu-shi, Shizuoka Toshiba Machine Numazu Corporation In-house F term (reference) 5C027 AA09 5C040 GF19 JA20 JA34 JA40 MA23
Claims (15)
熱する加熱室と、 この加熱室に隣接して配置され、真空排気手段を備え、
成形型を収容し、前記ガラス基板を成形して表面に微細
なパターンが形成された成形基板に変える成形室と、 この成形室に隣接して配置され、前記成形基板を所定の
温度まで冷却する冷却室と、 前記ガラス基板を、前記加熱室から前記成形室へ移載す
る第一移載機と、 前記成形基板を、前記成形室から前記冷却室へ移載する
第二移載機と、 を備えたことを特徴とするガラス製成形基板の製造装
置。1. A heating chamber for heating a flat glass substrate to a predetermined temperature, a heating chamber disposed adjacent to the heating chamber, and a vacuum exhaust means,
A molding chamber for accommodating a molding die and transforming the glass substrate into a molded substrate having a fine pattern formed on a surface thereof; and a cooling chamber disposed adjacent to the molding chamber and cooling the molded substrate to a predetermined temperature. A cooling chamber, a first transfer machine for transferring the glass substrate from the heating chamber to the molding chamber, and a second transfer machine for transferring the molded substrate from the molding chamber to the cooling chamber, An apparatus for manufacturing a molded substrate made of glass, comprising:
ラス基板を連続的または断続的に搬送する第一搬送装置
を収容し、前記ガラス基板を搬送しながら所定の温度ま
で加熱する加熱室と、 真空排気手段を備え、上型及び下型からなる成形型を使
用する成形装置を収容し、加熱された前記ガラス基板を
成形して表面に微細なパターンが形成された成形基板に
変える成形室と、 不活性ガス雰囲気に保たれ、成形された前記成形基板を
連続的または断続的に搬送する第二搬送装置を収容し、
前記成形基板を搬送しながら所定の温度まで冷却する冷
却室と、 前後にゲートバルブを備え、前方のゲートバルブを介し
て前記加熱室の後段に接続され、後方のゲートバルブを
介して前記成形室の前段に接続されるとともに、前記ガ
ラス基板を前記加熱室から前記成形室へ移載する第一移
載機を収容する第一予備室と、 前後にゲートバルブを備え、前方のゲートバルブを介し
て前記成形室の後段に接続され、後方のゲートバルブを
介して前記冷却室の前段に接続されるとともに、前記成
形基板を前記成形室から前記冷却室へ移載する第二移載
機を収容する第二予備室と、 を備えたことを特徴とするガラス製成形基板の製造装
置。2. A heating chamber which is maintained in an inert gas atmosphere and accommodates a first transfer device for transferring a flat glass substrate continuously or intermittently, and heats the glass substrate to a predetermined temperature while transferring the glass substrate. A molding apparatus that includes a vacuum mold and uses a molding die composed of an upper mold and a lower mold, and forms the heated glass substrate into a molded substrate having a fine pattern formed on the surface by molding the heated glass substrate. And a second transport device that is maintained in an inert gas atmosphere and that continuously or intermittently transports the molded substrate,
A cooling chamber that cools the molded substrate to a predetermined temperature while transporting the molded substrate; and a gate valve that is provided before and after the molding chamber. And a first spare chamber for accommodating a first transfer machine for transferring the glass substrate from the heating chamber to the molding chamber, comprising a gate valve at the front and rear, and via a front gate valve. And a second transfer machine connected to a former stage of the cooling chamber via a rear gate valve and connected to a former stage of the cooling chamber, and for transferring the molded substrate from the molding chamber to the cooling chamber. An apparatus for manufacturing a molded substrate made of glass, comprising:
トバルブを介して前記加熱室の前段に接続された第三予
備室と、 前後にゲートバルブを備え、前方のゲートバルブを介し
て前記冷却室の後段に接続された第四予備室と、 を更に備えたことを特徴とする請求項2に記載のガラス
製成形基板の製造装置。3. A third preparatory chamber provided with a front and rear gate valve and connected to a preceding stage of the heating chamber via a rear gate valve, and a cooling valve provided with a front and rear gate valve and a front gate valve. The apparatus according to claim 2, further comprising: a fourth preparatory chamber connected to a rear stage of the chamber.
接触吸引浮上方式によって前記ガラス基板を上面から保
持し、前記加熱室から前記成形室へ移すことを特徴とす
る請求項2に記載のガラス製成形基板の製造装置。4. The method according to claim 2, wherein the first transfer device holds the glass substrate from an upper surface by a non-contact suction floating method using an electrostatic force, and transfers the glass substrate from the heating chamber to the molding chamber. 3. The apparatus for producing a glass molded substrate according to claim 1.
接触吸引浮上方式によって前記成形基板を上面から保持
し、前記成形室から前記冷却室へ移すことを特徴とする
請求項2に記載のガラス製成形基板の製造装置。5. The method according to claim 2, wherein the second transfer device holds the formed substrate from the upper surface by a non-contact suction floating method using an electrostatic force, and transfers the formed substrate from the forming chamber to the cooling chamber. 3. The apparatus for producing a glass molded substrate according to claim 1.
式の真空チャック方式であって、前記ガラス基板を上面
から保持し、前記加熱室から前記成形室へ移すことを特
徴とする請求項2に記載のガラス製成形基板の製造装
置。6. The first transfer machine is of a contact type or a non-contact type vacuum chuck type, and holds the glass substrate from an upper surface and transfers the glass substrate from the heating chamber to the molding chamber. An apparatus for manufacturing a glass molded substrate according to claim 2.
式の真空チャック方式であって、前記ガラス基板を上面
から保持し、前記成形室から前記冷却室へ移すことを特
徴とする請求項2に記載のガラス製成形基板の製造装
置。7. The second transfer machine is of a contact type or a non-contact type vacuum chuck type, and holds the glass substrate from an upper surface and transfers the glass substrate from the molding chamber to the cooling chamber. An apparatus for manufacturing a glass molded substrate according to claim 2.
パレット上に載せて搬送する方式であって、 前記第一移載機は、先ず、前記成形室内で前記成形装置
から前記下型を取り外し、 次いで、前記下型を上下反転させた後、前記加熱室内に
移動し、 パレット上に載せられている前記ガラス基板の上に前記
下型を置いた後、パレット及び前記下型を把持すること
によって、それらの間に挟まれている前記ガラス基板を
保持し、 次いで、前記ガラス基板を上下反転させるとともに、前
記成形室内に戻り、 前記下型を前記成形装置に装着した後、パレットのみを
前記加熱装置に戻すように構成されていることを特徴と
する請求項2に記載のガラス製成形基板の製造装置。8. The method according to claim 1, wherein the first transfer device transfers the glass substrate on a pallet, and the first transfer device first transfers the lower mold from the forming device in the forming chamber. After removing, the lower mold is turned upside down, then moved into the heating chamber, and the lower mold is placed on the glass substrate placed on the pallet, and then the pallet and the lower mold are gripped. By holding the glass substrate sandwiched between them, then, while turning the glass substrate upside down, return to the molding chamber, after mounting the lower mold to the molding device, only the pallet The apparatus for manufacturing a molded glass substrate according to claim 2, wherein the apparatus is configured to return to the heating device.
レット上に載せて搬送する方式であって、 前記第二移載機は、先ず、前記冷却室内で前記第二搬送
装置からパレットを取り外し、 次いで、パレットを上下反転させた後、前記成形室内に
移動し、 前記下型上にある前記成形基板の上にパレットを置いた
後、前記下型及びパレットを把持することによって、そ
れらの間に挟まれている前記成形基板を保持し、 次いで、前記成形基板を上下反転させるとともに、前記
冷却室内に戻り、 パレットを前記第二搬送装置に装着した後、前記下型の
みを前記成形装置に戻すように構成されていることを特
徴とする請求項2に記載のガラス製成形基板の製造装
置。9. The method according to claim 8, wherein the second transfer device transfers the formed substrate on a pallet, and the second transfer device first transfers the pallet from the second transfer device in the cooling chamber. After removing the pallet, the pallet is turned upside down, and then moved into the molding chamber. After the pallet is placed on the molding substrate on the lower mold, the lower mold and the pallet are gripped. Holding the molded substrate sandwiched therebetween, and then turning the molded substrate upside down, returning to the cooling chamber, and mounting a pallet on the second transfer device, and then moving only the lower mold to the molding device The apparatus for manufacturing a molded glass substrate according to claim 2, wherein the apparatus is configured to return to the state.
をパレット上に載せて搬送する方式であり、 前記第一移載機は、先ず、前記加熱室内で前記第二搬送
装置から前記ガラス基板が載せられているパレットを取
り外し、 次いで、前記成形室内に移動し、前記成形装置に装着さ
れた前記下型の上方で停止し、 前記ガラス基板を側面からストッパで抑えた状態で、パ
レットのみを抜き取ることによって、前記ガラス基板を
前記下型の上に移し、 空になったパレットを前記加熱室に戻し、前記第一搬送
装置に装着するように構成されていることを特徴とする
請求項2に記載のガラス製成形基板の製造装置。10. The method according to claim 1, wherein the first transfer device is configured to transfer the glass substrate placed on a pallet, and the first transfer device first sets the glass substrate from the second transfer device in the heating chamber. Remove the pallet on which is placed, and then move into the molding chamber, stop above the lower mold attached to the molding device, and hold the glass substrate with a stopper from the side, and remove only the pallet. 3. The apparatus according to claim 2, wherein the glass substrate is transferred onto the lower mold by extracting, and the empty pallet is returned to the heating chamber, and is mounted on the first transfer device. 3. The apparatus for producing a glass molded substrate according to claim 1.
をパレット上に載せて搬送する方式であり、 前記第二移載機は、先ず、前記成形室内で前記成形装置
から前記成形基板が載せられている前記下型を取り外
し、 次いで、前記冷却室内に移動し、前記第二搬送装置に装
着されたパレットの上方で停止し、 前記成形基板を側面からストッパで抑えた状態で、前記
下型のみを抜き取ることによって、前記成形基板をパレ
ットの上に移し、 空になった前記下型を前記成形室に戻し、前記成形装置
に装着するように構成されていることを特徴とする請求
項2に記載のガラス製成形基板の製造装置。11. The method according to claim 11, wherein the second transfer device transfers the glass substrate on a pallet, and the second transfer device first loads the formed substrate from the forming device in the forming chamber. The lower mold is removed, and then moved into the cooling chamber and stopped above a pallet mounted on the second transfer device. 3. The method according to claim 2, wherein the molding substrate is moved onto a pallet by extracting only the lower mold, and the empty lower mold is returned to the molding chamber, and is mounted on the molding apparatus. 3. The apparatus for producing a glass molded substrate according to claim 1.
置は、搬送対象物をパレット上に載せて搬送する方式で
あって、各パレットは、前記下型を兼ね、前記第一移載
機は、各パレットの上に前記ガラス基板を載せた状態で
前記加熱室から前記成形室へ移載し、前記第二移載機
は、各パレットの上に前記成形基板を載せた状態で前記
成形室から前記冷却室へ移載することを特徴とする請求
項2に記載のガラス製成形基板の製造装置。12. The method according to claim 1, wherein the first transfer device and the second transfer device are configured to transfer an object to be transferred on a pallet, wherein each pallet also serves as the lower mold and the first transfer device. Is transferred from the heating chamber to the molding chamber with the glass substrate placed on each pallet, and the second transfer machine performs the molding with the molded substrate placed on each pallet. 3. The apparatus according to claim 2, wherein the apparatus is transferred from a chamber to the cooling chamber.
能な前記ガラス基板の数が、前記加熱室における所要加
熱時間を前記成形室における成形基板一枚当たりの所要
成形時間で割った商以上の値となるように設定され、 前記冷却室の容量は、その中に収容可能な前記成形基板
の数が、前記冷却室における所要冷却時間を前記成形室
における成形基板一枚当たりの所要成形時間で割った商
以上の値となるように設定されていること、 を特徴とする請求項2に記載のガラス製成形基板の製造
装置。13. The capacity of the heating chamber is obtained by dividing the number of the glass substrates accommodated therein by the required heating time in the heating chamber by the required molding time per molded substrate in the molding chamber. The capacity of the cooling chamber, the number of the molded substrates that can be accommodated therein, the required cooling time in the cooling chamber, the required molding per molded substrate in the molding chamber The apparatus according to claim 2, wherein the value is set to be equal to or greater than a quotient divided by time.
及び冷却する機能を備えた温度制御手段が設けられてい
ることを特徴とする請求項2に記載のガラス製成形基板
の製造装置。14. The apparatus for manufacturing a glass molded substrate according to claim 2, wherein the molding apparatus is provided with a temperature control unit having a function of heating and cooling the molding die.
前記加熱室から搬入されたガラス基板を成形可能な温度
まで更に加熱した後、前記ガラス基板の成形を行うをこ
とを特徴とする請求項2に記載のガラス製成形基板の製
造装置。15. A heating means is provided in the molding chamber,
The apparatus for manufacturing a glass molded substrate according to claim 2, wherein the glass substrate is molded after the glass substrate carried in from the heating chamber is further heated to a moldable temperature.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16684299A JP2000351635A (en) | 1999-06-14 | 1999-06-14 | Apparatus for producing formed glass substrate |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16684299A JP2000351635A (en) | 1999-06-14 | 1999-06-14 | Apparatus for producing formed glass substrate |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2000351635A true JP2000351635A (en) | 2000-12-19 |
Family
ID=15838672
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP16684299A Pending JP2000351635A (en) | 1999-06-14 | 1999-06-14 | Apparatus for producing formed glass substrate |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2000351635A (en) |
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7313930B2 (en) | 2002-12-04 | 2008-01-01 | Fuji Electric Device Technology Co., Ltd | Method and apparatus for manufacturing glass substrate for storage medium |
| JP2009298692A (en) * | 2008-06-17 | 2009-12-24 | Schott Ag | Glass ceramic having embossed surface, and its manufacturing method |
| JP2015098419A (en) * | 2013-11-20 | 2015-05-28 | オリンパス株式会社 | Inert gas replacement apparatus and inert gas replacement method |
| WO2016098974A1 (en) * | 2014-12-19 | 2016-06-23 | 삼성전자 주식회사 | Device for molding glass curved surface and method for molding glass curved surface by using same |
| CN107108312A (en) * | 2014-12-19 | 2017-08-29 | 三星电子株式会社 | Device for formed glass curved surface and the method using the device formed glass curved surface |
| KR20190132715A (en) * | 2018-05-21 | 2019-11-29 | (주)신광 | Method of manufacturing optical dummy lens |
-
1999
- 1999-06-14 JP JP16684299A patent/JP2000351635A/en active Pending
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| KR102076983B1 (en) | 2018-05-21 | 2020-02-13 | (주)신광 | Method of manufacturing optical dummy lens |
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