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JP2000202718A - Manufacturing method and processing method of electrode for processing tool - Google Patents

Manufacturing method and processing method of electrode for processing tool

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Publication number
JP2000202718A
JP2000202718A JP11007688A JP768899A JP2000202718A JP 2000202718 A JP2000202718 A JP 2000202718A JP 11007688 A JP11007688 A JP 11007688A JP 768899 A JP768899 A JP 768899A JP 2000202718 A JP2000202718 A JP 2000202718A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
metal
machining
tool electrode
electrode
pattern
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP11007688A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
憲一 ▲高▼畑
Kenichi Takahata
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Panasonic Holdings Corp
Original Assignee
Matsushita Electric Industrial Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Matsushita Electric Industrial Co Ltd filed Critical Matsushita Electric Industrial Co Ltd
Priority to JP11007688A priority Critical patent/JP2000202718A/en
Publication of JP2000202718A publication Critical patent/JP2000202718A/en
Pending legal-status Critical Current

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  • Electrical Discharge Machining, Electrochemical Machining, And Combined Machining (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】 加工目的形状が微細パターンの高アスペクト
比構造であったとしても高速かつ高精度に目的形状の創
成が可能な加工工具用電極の製造方法及び加工方法を提
供する。 【解決手段】 シリコン基板1表面に形成された電鋳ベ
ース2上の厚い感光材料3に対してマスク4のパターン
を露光し、現像して得られる感光材料3の高アスペクト
微細パターン内に露出した電鋳ベース2に対して電鋳を
施し、感光材料3を除去することにより工具電極6を
得、この電鋳金属の工具電極6を用いて任意の導電材料
の加工物7との間に放電を発生させながら加工物7に対
して送り込んで放電加工を施し、加工物7に対して工具
電極6の高アスペクト微細パターン構造を高精度かつ高
速にて転写加工するようにした。
(57) [Problem] To provide a manufacturing tool electrode and a manufacturing method of a processing tool electrode capable of creating a target shape with high speed and high accuracy even if the target shape to be processed is a high aspect ratio structure of a fine pattern. . SOLUTION: A pattern of a mask 4 is exposed to a thick photosensitive material 3 on an electroformed base 2 formed on a surface of a silicon substrate 1, and is exposed in a high aspect fine pattern of the photosensitive material 3 obtained by development. The electroforming is performed on the electroformed base 2 and the photosensitive material 3 is removed to obtain a tool electrode 6, and a discharge is generated between the electroformed base 2 and a workpiece 7 of an arbitrary conductive material using the tool electrode 6. The workpiece 7 is fed to the workpiece 7 while electric discharge machining is performed to perform electric discharge machining, and the high aspect fine pattern structure of the tool electrode 6 is transferred to the workpiece 7 with high accuracy and high speed.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、加工工具用電極の
製造方法及び加工方法に関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method for manufacturing a machining tool electrode and a machining method.

【0002】[0002]

【従来の技術】近年、電子・機械デバイスの小型化に伴
って、それらを構成する高アスペクト比構造のマイクロ
部品を高精度かつ高速で加工することが可能な加工技術
が望まれている。
2. Description of the Related Art In recent years, with the miniaturization of electronic and mechanical devices, there has been a demand for a processing technique capable of processing micro components having a high aspect ratio structure with high accuracy and high speed.

【0003】高精度なマイクロサイズの形状創成方法と
して、微細放電加工技術(参考文献:権田俊一監修、
「薄膜作成応用ハンドブック」、株式会社エヌ・ティー
・エヌ、P1098〜1105)がある。この加工方法
によれば、あらゆる導電体の加工が可能であり、例えば
金型材料などの高硬度材料に対しても高精度にマイクロ
サイズの微細形状を形成することができる等、材料に対
する適用幅の広さから様々な用途に用いられている。
[0003] As a method for creating a highly accurate micro-sized shape, a fine electric discharge machining technique (reference: supervised by Shunichi Gonda,
"Thin Film Application Handbook", NTT Corporation, P1098-1105). According to this processing method, any conductor can be processed, and for example, a high-precision micro-sized shape can be formed with high accuracy even for a high-hardness material such as a mold material. It is used for various purposes because of its size.

【0004】この加工には、ワイヤ放電研削加工(WE
DG)法(参考文献:増沢隆久他、「昭和60年度精機
学会秋季大会学術講演会講演論文集」、P379)によ
り、単純なシャフト形状に成形した工具電極を用いる。
この工具電極は、加工内容に合わせて逐次成形され、こ
れを用いて加工形状輪郭に沿って走査しながら目的形状
を創成していく。このような単純な電極の走査によって
形状創成する輪郭加工法の場合、加工時間はその殆どが
走査に要する時間となり、加工形状が複雑になる程加工
時間が長くなる。
[0004] This machining includes wire electric discharge grinding (WE).
A tool electrode formed into a simple shaft shape by the DG) method (reference: Takahisa Masuzawa et al., "Paper Collection of Academic Lecture Meetings of the Autumn Meeting of the Japan Society of Precision Engineering, 1985", P379) is used.
The tool electrode is sequentially formed in accordance with the processing content, and is used to create a target shape while scanning along the processing shape contour. In the case of such a contour processing method in which a shape is created by scanning a simple electrode, the processing time is almost the time required for scanning, and the processing time becomes longer as the processing shape becomes more complicated.

【0005】一方、通常の放電加工においては、加工目
的形状の反転形状を有する総形電極を加工物に送り込む
ことで、目的形状を転写加工する方法が一般的であり、
上記輪郭加工法に比べて短時間で加工できる。この総形
電極は切削やラッピング等の機械加工により作製されて
いる。
[0005] On the other hand, in ordinary electric discharge machining, a method of transferring a target shape by feeding a shaped electrode having an inverted shape of the target shape into a workpiece is generally used.
Processing can be performed in a shorter time than the above-described contour processing method. This shaped electrode is manufactured by machining such as cutting or lapping.

【0006】そこで、微細放電加工に用いるマイクロサ
イズの工具電極についてもこのような総形電極が作製で
きれば、電極の走査を必要としないことから加工時間の
短縮が期待できる。
Therefore, if such a shaped electrode can be produced also for a micro-sized tool electrode used for micro electric discharge machining, it is not necessary to scan the electrode, so that a reduction in machining time can be expected.

【0007】このような機械加工あるいは放電加工によ
る成形が極めて困難な微小総形電極の成形に、フォトリ
ソグラフィー技術を利用して絶縁材料のパターン状鋳型
を作製して、そこに金属を埋め込むことによって高精度
に作製する方法が、例えば特許第2547319号明細
書に記載されたものが知られている。
[0007] For forming such a micro-form electrode which is extremely difficult to form by machining or electric discharge machining, a pattern mold of an insulating material is produced by using photolithography technology, and a metal is embedded therein. For example, a method of manufacturing with high accuracy is described in Japanese Patent No. 2547319.

【0008】図9を参照して説明すると、まず工程
(a)で樹脂板201に支えられている感光部202を
露光し、次に工程(b)で現像して微細歯パターンの凸
版203を得、次に工程(c)でこの微細歯パターンの
凸版203に対して金属板204を密着してメッキする
ことにより金属板204上に金属の凸版205を転写形
成し、最後に工程(d)でこれを放電加工用電極として
用いる方法が開示されている。
Referring to FIG. 9, first, in step (a), a photosensitive portion 202 supported by a resin plate 201 is exposed, and then, in step (b), development is performed to form a relief 203 of a fine tooth pattern. Then, in step (c), a metal plate 204 is closely attached to the relief 203 of the fine tooth pattern and plated to transfer a metal relief 205 onto the metal plate 204, and finally, in step (d). A method of using this as an electrode for electric discharge machining is disclosed.

【0009】また、特開平6−37047号公報に開示
されたものがある。それは、フォトリソグラフィーで形
成したフォトレジストパターンをマスクとして、エッチ
ングにより形成した金属板上の絶縁膜のパターンに金属
を埋め込んでドライエッチングまたは放電加工用の電極
として用いる方法である。
[0009] Another example is disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open No. Hei 6-37047. It is a method of using a photoresist pattern formed by photolithography as a mask, embedding a metal in a pattern of an insulating film on a metal plate formed by etching, and using the metal as an electrode for dry etching or electric discharge machining.

【0010】[0010]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、特許第
2547319号明細書に開示された方法は、金属板2
04を感光部202の凸版203に密着させてその隙間
にメッキする必要から、メッキ浴の凸版203のパター
ン全面に対する均等な供給が困難であり、金属成長の不
均一性が発生するため、メッキ面方向に均一高さの工具
電極が得られないという問題がある。加えて、密着部分
において閉空間となる隙間でのメッキ進行に伴い、メッ
キ浴の金属イオンが不足する状態に移行して金属の埋め
込みが不十分になるため、凸版203の高さに比して著
しく低い工具電極と成らざるを得ず、実質的に高アスペ
クト比の工具電極を製作することができないという問題
がある。従って、この方法によって製作される工具電極
を用いて加工物に対し高精度に高アスペクト転写加工を
実施することも合わせて不可能であると言える。
However, the method disclosed in the specification of Japanese Patent No. 2547319 is not applicable to the metal plate 2.
04 is required to be in close contact with the relief 203 of the photosensitive portion 202 and to be plated in the gap. Therefore, it is difficult to evenly supply the plating bath over the entire pattern of the relief 203 and uneven metal growth occurs. There is a problem that a tool electrode having a uniform height in the direction cannot be obtained. In addition, with the progress of plating in a gap that becomes a closed space in the close contact portion, the state shifts to a state where metal ions in the plating bath are insufficient, and metal embedding becomes insufficient. There is a problem that a tool electrode having a remarkably low tool electrode must be formed, and a tool electrode having a substantially high aspect ratio cannot be manufactured. Therefore, it can also be said that it is impossible to perform a high aspect transfer process on a workpiece with high accuracy using a tool electrode manufactured by this method.

【0011】また、特開平6−37047号公報に開示
された方法の場合は、工具電極として得られる金属パタ
ーンは絶縁膜材料が混在する平面構造となるため、加工
過程において加工面と電極面を一定距離に維持する必要
がある放電加工や電解加工によって高アスペクト比の転
写加工はもとより、立体的な加工を施すことはできない
という問題がある。
In the case of the method disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open No. Hei 6-37047, the metal pattern obtained as the tool electrode has a planar structure in which the insulating film material is mixed. There is a problem that not only transfer processing with a high aspect ratio but also three-dimensional processing cannot be performed by electric discharge machining or electrolytic machining that needs to be maintained at a fixed distance.

【0012】一方、工具電極が消耗する放電加工の場合
や、粗加工や仕上加工等において、異なる形状の工具電
極を使い分ける場合等において、工具電極の交換が必要
となるが、これには交換作業を伴う生産性低下や、逐次
成形される複数工具電極間の形状の不均一性や交換時に
おける取付誤差を要因とする加工形状誤差が生じる等の
諸問題がある。
On the other hand, in the case of electric discharge machining in which the tool electrode is consumed, or in the case of using differently shaped tool electrodes in rough machining or finishing, etc., it is necessary to replace the tool electrode. This leads to various problems such as a reduction in productivity, a non-uniform shape between a plurality of tool electrodes that are sequentially formed, and a processing shape error due to a mounting error at the time of replacement.

【0013】本発明は、上記従来の問題点に鑑み、目的
形状が高アスペクト比微細パターン構造であっても、高
精度かつ高速で創成が可能で、加えて迅速で高精度な工
具交換を可能にでき、高い形状自由度と高生産性を両立
できる加工工具用電極の製造方法及び加工方法を提供す
ることを目的としている。
In view of the above-mentioned conventional problems, the present invention enables high-precision and high-speed creation even when the target shape has a high aspect ratio fine pattern structure, and also enables quick and high-precision tool change. It is an object of the present invention to provide a method for manufacturing a machining tool electrode and a machining method which can achieve both high degree of freedom in shape and high productivity.

【0014】[0014]

【課題を解決するための手段】本発明の加工工具用電極
の製造方法は、基板の導電面上に所定のパターンに絶縁
材料を形成する工程と、パターンの間隙内に電鋳により
導電面から金属を成長させて埋め込む工程と、基板上か
ら絶縁材料を除去する工程を備えたものであり、パター
ンの開口側を電鋳中常時開放できることから豊富なメッ
キ浴をパターン全面に対して均等に供給でき、またメッ
キ浴の金属イオンが不足する状態に移行することもない
ため、電鋳が施されるパターンが高アスペクト比微細構
造であったとしても均一に金属を埋め込むことができ、
高精度で微細な加工工具用電極を製造することができ
る。
According to the present invention, there is provided a method for manufacturing a working tool electrode, comprising the steps of: forming an insulating material in a predetermined pattern on a conductive surface of a substrate; It has a process of growing and embedding metal and a process of removing insulating material from the substrate. Since the opening side of the pattern can be opened at all times during electroforming, an abundant plating bath is evenly supplied over the entire pattern. It is possible to embed metal evenly even if the pattern to be electroformed has a high aspect ratio fine structure, because it does not shift to a state where metal ions in the plating bath are insufficient.
It is possible to manufacture highly accurate and fine processing tool electrodes.

【0015】好適には絶縁材料が感光材料であると、ま
たパターンをフォトリソグラフィにて形成すると、微細
で高精度なパターンを容易に形成することができる。
Preferably, if the insulating material is a photosensitive material and the pattern is formed by photolithography, a fine and highly accurate pattern can be easily formed.

【0016】また、フォトリソグラフィーにより基板の
導電面に密着された感光材料のパターンを形成し、電鋳
によりパターンの間隙内に導電面から金属を成長させて
埋め込み、感光材料を基板上から除去して金属の微細構
造体を形成することによっても、電鋳が施される感光材
料の鋳型が高アスペクト比微細構造であったとしても上
記と同様に均一かつ高精度に微細な金属構造体から成る
加工工具用電極を形成することができる。
Further, a pattern of a photosensitive material that is in close contact with the conductive surface of the substrate is formed by photolithography, and a metal is grown from the conductive surface into the gap between the patterns by electroforming, and the photosensitive material is removed from the substrate. By forming a fine metal structure in the same manner, even if the mold of the photosensitive material to be subjected to electroforming has a high aspect ratio fine structure, the fine metal structure is formed uniformly and precisely as described above. An electrode for a processing tool can be formed.

【0017】また、フォトリソグラフィーで形成したマ
スクを利用した異方性エッチングにより絶縁材料のパタ
ーンを形成し、絶縁材料に密着される導電面に対する電
鋳によりパターンの間隙内に金属を埋め込み、絶縁材料
を除去することにより金属の微細構造体を形成すること
によっても、同様に微細な金属構造体が得られととも
に、厚い感光材料を用いて高アスペクト比露光するため
のX線等の特殊な極短波長光源を必要としない簡易な装
置構成で加工工具用電極を製作できる。
Further, a pattern of an insulating material is formed by anisotropic etching using a mask formed by photolithography, and a metal is buried in a gap of the pattern by electroforming on a conductive surface which is in close contact with the insulating material. By forming a fine metal structure by removing the metal, a fine metal structure can be obtained in the same way, and special ultra-short X-rays and the like for high aspect ratio exposure using a thick photosensitive material can be obtained. Electrodes for processing tools can be manufactured with a simple device configuration that does not require a wavelength light source.

【0018】あるいは、フォトリソグラフィーで形成し
たマスクを利用した金属の異方性エッチングにより金属
の微細構造体を形成することによっても、同様に微細な
金属構造体が得られとともに、電鋳プロセスを必要とし
ない簡易なプロセスで、かつ電鋳では形成できない、加
工工具用電極としてより適当な材料で加工工具用電極を
製作できる。
Alternatively, by forming a fine metal structure by anisotropic etching of the metal using a mask formed by photolithography, a fine metal structure can be similarly obtained and an electroforming process is required. It is possible to manufacture a machining tool electrode with a more suitable material as a machining tool electrode which cannot be formed by electroforming with a simple process.

【0019】また、上記加工工具用電極は複数の材料で
構成することができ、そうすると電鋳によって加工工具
用電極の構造を形成するための構造材料と、加工性に影
響を及ぼす表面材料を使い分けることにより、構造材料
のみで製作された加工工具用電極では達成できない耐消
耗性に優れた加工工具用電極を得ることができる。
Further, the working tool electrode can be composed of a plurality of materials. In this case, a structural material for forming the working tool electrode structure by electroforming and a surface material which affects workability are selectively used. This makes it possible to obtain a machining tool electrode having excellent wear resistance, which cannot be achieved with a machining tool electrode made only of a structural material.

【0020】また、本発明の加工方法は、上記のように
して製造した加工工具用電極を用いて加工物を放電加工
または電解加工するものであり、その微細構造体を放電
加工または電解加工の工具電極として用いることによ
り、様々な材料の加工物に対して高アスペクト比微細構
造を転写加工することができる。なお、この加工工具用
電極に対する加工エネルギー供給のための通電は、加工
工具用電極と電気的に接続される基板から実施すること
で容易に達成される。
In the machining method of the present invention, a workpiece is subjected to electric discharge machining or electrolytic machining using the machining tool electrode manufactured as described above, and the fine structure is subjected to electric discharge machining or electrolytic machining. By using it as a tool electrode, a high aspect ratio fine structure can be transferred to workpieces of various materials. The energization for supplying machining energy to the machining tool electrode is easily achieved by executing the machining tool electrode from a substrate that is electrically connected to the machining tool electrode.

【0021】また、加工工具用電極を、複数個がそれぞ
れ電気的に分割された導電面上に形成すると、加工工程
において各工具電極に対して異なる給電を行うことによ
り、放電加工により微細形状創成加工を実施する場合
に、分離した金属構造体すなわち加工工具用電極の各々
において独立したパルス放電を発生させて加工すること
ができ、各加工工具用電極において同時に加工を進行さ
せるパラレル加工時に加工速度を著しく向上することが
できる。
Further, when a plurality of machining tool electrodes are formed on electrically conductive surfaces, each of which is electrically divided, a different power is supplied to each tool electrode in the machining process, so that a fine shape is created by electric discharge machining. When performing machining, it is possible to perform machining by generating an independent pulse discharge in each of the separated metal structures, that is, the machining tool electrodes, and the machining speed at the time of parallel machining in which machining is performed simultaneously in each machining tool electrode. Can be significantly improved.

【0022】また、加工工具用電極が、感光材料を含む
絶縁材料のメッキ浴側の表面上に十分な厚みを持って金
属が覆われるまで電鋳して得られる、絶縁材料のパター
ン内に形成される工具電極部分以外の金属塊にて支持さ
れるようにすると、加工工具用電極が支持体としての金
属塊と一体であるため、支持体としての基板の導電面上
に形成された構造体間の場合に生じる、導電面上の汚れ
や電鋳金属との材料差等に起因する加工工具用電極とそ
の支持体間の密着性の問題を回避でき、加工工具用電極
が高アスペクト比構造体であってとしても、外力に対す
る高い抵抗力が得られる。
Further, the working tool electrode is formed in an insulating material pattern obtained by electroforming until the metal is covered with a sufficient thickness on the surface of the insulating material including the photosensitive material on the plating bath side. When supported by a metal lump other than the tool electrode portion to be formed, since the processing tool electrode is integrated with the metal lump as a support, the structure formed on the conductive surface of the substrate as the support The problem of adhesion between the working tool electrode and its support due to contamination on the conductive surface or material difference from the electroformed metal, etc., which occurs in the case of Even if it is a body, high resistance to external force can be obtained.

【0023】また、加工工具用電極がフォトリソグラフ
ィーにおける露光面方向に複数個配列されていると、加
工物と各加工工具用電極間の露光面方向の位置決めによ
り加工工具用電極の交換を行うことができ、フォトリソ
グラフィーによって均一に一括製作された複数の加工工
具用電極を交換用工具電極として用い、これら各加工工
具用電極の高精度な配置関係を利用して工具交換を実施
できることから、加工工具用電極のハンドリングを必要
とせず、迅速な交換が実現されることに加え、交換に伴
う取付誤差が発生せず、生産性を低下させることなく、
高精度な加工を継続することができる。
When a plurality of machining tool electrodes are arranged in the direction of the exposure surface in photolithography, the machining tool electrodes are exchanged by positioning the machining tool and each machining tool electrode in the direction of the exposure surface. It is possible to use a plurality of processing tool electrodes uniformly manufactured by photolithography as a replacement tool electrode, and perform tool replacement using the high-precision arrangement of these processing tool electrodes. Tool electrode handling is not required, and in addition to quick replacement, there is no mounting error due to replacement, without reducing productivity.
High-precision processing can be continued.

【0024】[0024]

【発明の実施の形態】以下、本発明の加工工具用電極
(以下、工具電極と略称する)の製造方法及びその工具
電極を用いた加工方法の各実施形態について、図1〜図
8を参照して説明する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Hereinafter, embodiments of a method for manufacturing a working tool electrode (hereinafter abbreviated as a tool electrode) of the present invention and a working method using the tool electrode will be described with reference to FIGS. I will explain.

【0025】(第1の実施形態)まず、本発明の第1の
実施形態における微細形状加工方法について、図1を参
照して説明する。図1において、シリコン基板1の表面
には工具電極材料の電鋳に用いるため、金属薄膜から成
る電鋳ベース2が形成され、この電鋳ベース2上に感光
材料3が密着されている( 工程(1) )。次に、微細パタ
ーンのマスク4を通じて短波長光5を照射し、感光材料
3に対して露光する( 工程(2) )。この短波長光5をシ
ンクロトロン放射光等のX線とすることにより、数10
0μmから数mmの厚みの感光材料3に対して高アスペ
クト比の露光が高精度に実施可能となる。
(First Embodiment) First, a fine shape processing method according to a first embodiment of the present invention will be described with reference to FIG. In FIG. 1, an electroformed base 2 made of a metal thin film is formed on the surface of a silicon substrate 1 for use in electroforming a tool electrode material, and a photosensitive material 3 is adhered onto the electroformed base 2. (1)). Next, the short-wavelength light 5 is irradiated through the fine pattern mask 4 to expose the photosensitive material 3 (step (2)). By converting this short-wavelength light 5 into X-rays such as synchrotron radiation,
Exposure with a high aspect ratio can be performed with high precision on the photosensitive material 3 having a thickness of 0 μm to several mm.

【0026】次に、露光された感光材料3を現像するこ
とにより、同材料による工具電極の鋳型が得られる( 工
程(3) )。次に、この鋳型の基板面上に露出している電
鋳ベース2に対して電鋳を実施する( 工程(4) )。この
ように鋳型の開口側からの電鋳によって、常時均質な組
成のメッキ浴を供給することができ、従って感光材料3
の鋳型の構造が高アスペクト比であったり、電鋳面積が
広かったとしても、高精度かつ均一に工具電極材料を埋
め込むことができる。電鋳後、感光材料3を除去するこ
とにより、シリコン基板1上に支持された高アスペクト
微細パターン構造の工具電極6が得られる( 工程(5)
)。
Next, the exposed photosensitive material 3 is developed to obtain a tool electrode mold made of the same material (step (3)). Next, electroforming is performed on the electroformed base 2 exposed on the substrate surface of the mold (step (4)). Thus, by electroforming from the opening side of the mold, a plating bath having a uniform composition can always be supplied.
Even if the mold has a high aspect ratio or a large electroformed area, the tool electrode material can be embedded with high accuracy and uniformity. After electroforming, the photosensitive material 3 is removed to obtain a tool electrode 6 having a high aspect fine pattern structure supported on the silicon substrate 1 (step (5)).
).

【0027】このようにして製作された工具電極6を放
電加工等の加工機に設置する際、マイクロサイズの寸法
となる微細な工具電極自体のハンドリングは極めて困難
であり、またハンドリング時に汚れや損傷を与えたりす
る可能性があり好ましくない。本実施形態で用いられる
高アスペクト構造の工具電極は、フォトリソグラフィー
により基板に対して極めて高い垂直性が確保されている
ため、このシリコン基板1を設置用治具として用いるこ
とにより、高精度にかつ容易に加工機上へ設置すること
ができる。ここで、工具電極6を用いて放電加工を実施
する場合は、放電制御手段8によって電鋳ベース2を通
じて通電される工具電極6と加工物7の間にパルス放電
を発生させながら工具電極6を加工物7に対して送り込
むことによって実施される( 工程(6) )。
When the tool electrode 6 manufactured in this manner is installed in a machining machine such as an electric discharge machine, it is extremely difficult to handle a fine tool electrode itself having a micro size, and it is difficult to handle the tool electrode 6 with dirt or damage during handling. May be given, which is not preferable. The tool electrode having a high aspect structure used in the present embodiment has extremely high perpendicularity to the substrate by photolithography. Therefore, by using this silicon substrate 1 as a jig for installation, high precision and high accuracy can be achieved. It can be easily installed on a processing machine. Here, when performing electric discharge machining using the tool electrode 6, the electric discharge control means 8 generates the pulse discharge between the tool electrode 6 and the workpiece 7, which are energized through the electroforming base 2, and discharges the tool electrode 6. This is carried out by feeding the workpiece 7 (step (6)).

【0028】以上の工程によって、高アスペクト微細パ
ターン構造体の高速転写加工が可能である。
Through the above steps, high-speed transfer processing of a high aspect fine pattern structure is possible.

【0029】なお、上記放電加工は、放電制御手段8を
蓄勢式RC回路とする場合、印加電圧を80〜100
V、コンデンサ容量を10〜100μFとし、工具電極
6の加工物7に対する送り込み速度を1〜5μm/se
cに設定することにより、高精度なマイクロサイズの微
細放電加工を実施でき、この際に工具電極6と加工物7
間の短絡による加工停滞を防止するため、何れかに対し
て周波数100Hz、振幅10μm程度の振動を加える
ことにより、スムーズな高アスペクト比加工が実現でき
る。
In the above-mentioned electric discharge machining, when the electric discharge control means 8 is an energy storage type RC circuit, the applied voltage is 80 to 100.
V, the capacitor capacity is 10 to 100 μF, and the feeding speed of the tool electrode 6 to the workpiece 7 is 1 to 5 μm / sec.
By setting to c, high-precision micro-size micro-electric discharge machining can be performed.
In order to prevent processing stagnation due to a short circuit between them, a vibration having a frequency of 100 Hz and an amplitude of about 10 μm is applied to any of them, whereby smooth high aspect ratio processing can be realized.

【0030】例えば、本実施形態に示した方法で銅の電
鋳により製作した直径50μm、高さ1000μm、す
なわちアスペクト比20の円柱構造が基板上にアレイ状
配列された工具電極6を用いて、厚み500μmの加工
物7を貫通するまで上述の加工条件で放電加工すること
により、高精度に配列されたアスペクト比10となる微
小穴アレイを均一に一括形成することが可能である。こ
の加工は、工具電極6が消耗により高さ500μmに減
少するまで繰り返すことができる。たとえ消耗により工
具電極6の交換が必要になったとしても、本発明方法で
は上記のような高アスペクト比の工具電極6を均質に一
括量産することが容易なことから、消耗時の交換用工具
に事欠くことはない。
For example, by using the tool electrode 6 in which a columnar structure having a diameter of 50 μm and a height of 1000 μm, ie, an aspect ratio of 20, manufactured by electroforming copper by the method described in the present embodiment on a substrate is arranged in an array. By performing the electric discharge machining under the above-mentioned machining conditions until the workpiece 7 having a thickness of 500 μm is penetrated, it is possible to uniformly and collectively form a microhole array having an aspect ratio of 10 arranged with high precision. This processing can be repeated until the height of the tool electrode 6 is reduced to 500 μm by wear. Even if the tool electrode 6 needs to be replaced due to wear, the method of the present invention makes it easy to mass-produce the above-mentioned tool electrode 6 having a high aspect ratio uniformly and collectively. There is no shortage.

【0031】また、加工物7は導電体であれば如何なる
材料も選択できるため、使用目的に応じて有利な特性を
有する材料に対して本加工法を適用し、加工品を様々な
用途に応用することができる。例えば、前述のような高
アスペクト比微小穴アレイを、ステンレス鋼等の耐腐蝕
性材料に加工して化学薬液等の多チャンネル微量移送流
路として用いたり、あるいは、熱膨張率の小さい材料に
加工して環境温度変化による穴位置ドリフトがほとんど
無い細径光ファイバーアレイの高精度な平行固定用ガイ
ドとして用いたりすることができる。以上のように、本
発明の加工方法によれば、極めて実用性の高いデバイス
を実現することが可能である。
Since any material can be selected as the work 7 as long as it is a conductor, the present processing method is applied to a material having advantageous characteristics according to the purpose of use, and the processed product is applied to various uses. can do. For example, a high-aspect-ratio microhole array as described above is processed into a corrosion-resistant material such as stainless steel and used as a multi-channel micro-transport channel for chemical liquids, or processed into a material with a low coefficient of thermal expansion. Thus, it can be used as a high-precision parallel fixing guide for a small-diameter optical fiber array having almost no hole position drift due to environmental temperature change. As described above, according to the processing method of the present invention, an extremely practical device can be realized.

【0032】なお、本実施形態では、電鋳ベース2とし
てシリコン基板1に支持された薄膜構造としたが、シリ
コン基板の代わりに金属板を用い、金属板表面を電鋳ベ
ースとすることによっても同様に実施可能である。
In the present embodiment, the thin film structure supported on the silicon substrate 1 is used as the electroformed base 2, but it is also possible to use a metal plate instead of the silicon substrate and use the electroformed base on the surface of the metal plate. It can be implemented similarly.

【0033】(第2の実施形態)次に、本発明の第2の
実施形態における微細形状加工方法について、図2を参
照して説明する。図2において、まず、導電板9に対し
て絶縁材料10を密着し、絶縁材料10の表面上には感
光材料3が塗布されており、この感光材料3を露光によ
ってパターニングする( 工程(1) )。この露光で必要と
される感光材料3は数μm程度で十分であり、従って露
光は紫外光で実施可能で、シンクロトロン放射光のよう
な特殊な光源は必要としない。
(Second Embodiment) Next, a fine shape processing method according to a second embodiment of the present invention will be described with reference to FIG. In FIG. 2, first, an insulating material 10 is brought into close contact with a conductive plate 9, and a photosensitive material 3 is applied on a surface of the insulating material 10, and the photosensitive material 3 is patterned by exposure (step (1)). ). The photosensitive material 3 required for this exposure is of the order of a few μm, so that exposure can be carried out with ultraviolet light and no special light source such as synchrotron radiation is required.

【0034】次に、パターニングされた感光材料3をマ
スクとして、絶縁材料10に対して異方性エッチングを
導電板9が露出するまで実施する( 工程(2) )。異方性
エッチングとして、例えば反応性イオンエッチング(R
IE)法を用いることにより、絶縁材料としての酸化シ
リコン、ポリイミドといった材料に対して高アスペクト
比加工が可能である。あるいは、同様の加工が可能なS
iの表面に対して熱酸化法等により酸化膜を形成するこ
とにより絶縁材料10として用いてもよい。
Next, using the patterned photosensitive material 3 as a mask, anisotropic etching is performed on the insulating material 10 until the conductive plate 9 is exposed (step (2)). As the anisotropic etching, for example, reactive ion etching (R
By using the IE) method, high aspect ratio processing can be performed on a material such as silicon oxide or polyimide as an insulating material. Alternatively, S which can perform similar processing
The insulating material 10 may be formed by forming an oxide film on the surface of i by a thermal oxidation method or the like.

【0035】次に、このエッチング加工された絶縁材料
10を鋳型として、導電板9に対して電鋳を実施し( 工
程(3) )、鋳型の絶縁材料10をエッチング除去するこ
とにより導電板9に支持された電鋳金属の工具電極6が
得られる( 工程(4) )。
Next, using the etched insulating material 10 as a mold, electroforming is performed on the conductive plate 9 (step (3)), and the insulating material 10 of the mold is removed by etching. The electroformed metal tool electrode 6 supported by the above is obtained (step (4)).

【0036】この工具電極6を用いて、第1の実施形態
の工程(6) と同様に放電加工等による高アスペクト微細
パターン構造の高速転写加工を実施できる。なお、導電
板9の代わりに、図1で示したような電鋳ベース2が形
成されたシリコン基板1を用いてもよい。本実施形態で
示したように、特殊な露光光源を必要としない簡易な装
置構成で工具電極を製作でき、安価で実用性の高い微細
形状加工を提供することができる。
Using this tool electrode 6, high-speed transfer processing of a high-aspect fine pattern structure by electric discharge machining or the like can be performed in the same manner as in step (6) of the first embodiment. Note that, instead of the conductive plate 9, the silicon substrate 1 on which the electroformed base 2 as shown in FIG. 1 is formed may be used. As shown in this embodiment, a tool electrode can be manufactured with a simple device configuration that does not require a special exposure light source, and it is possible to provide inexpensive and highly practical fine shape processing.

【0037】(第3の実施形態)次に、本発明の第3の
実施形態における微細形状加工方法について、図3を参
照して説明する。図3において、まず金属板11の表面
上には感光材料3が塗布されており、この感光材料3を
露光によってパターニングする( 工程(1) )。ここで、
必要とされる露光は、図2における工程(1) の場合と同
様に簡単な装置構成で実施可能である。
(Third Embodiment) Next, a fine shape processing method according to a third embodiment of the present invention will be described with reference to FIG. In FIG. 3, a photosensitive material 3 is applied on the surface of a metal plate 11, and the photosensitive material 3 is patterned by exposure (step (1)). here,
The required exposure can be performed with a simple apparatus configuration as in the case of the step (1) in FIG.

【0038】次に、パターニングされた感光材料3をマ
スクとして、金属板11に対してRIE法等を用いた異
方性エッチングにより高アスペクト加工を施す( 工程
(2) )。この異方性エッチングは、加工物7として鋼材
等を加工する場合の工具電極材料として使用できるAl
を金属板11の材料とすることにより、安定して実施す
ることができる。
Next, using the patterned photosensitive material 3 as a mask, the metal plate 11 is subjected to high aspect processing by anisotropic etching using RIE or the like (step).
(2)). This anisotropic etching uses Al which can be used as a tool electrode material when processing a steel material or the like as the workpiece 7.
Is used as the material of the metal plate 11 to stably carry out.

【0039】次に、感光材料3を除去し( 工程(3) )、
金属板11の異方性エッチングにより形成された工具電
極6を用いて加工物7に対し放電加工を実施する( 工程
(3))ことにより、電鋳を必要としない簡易なプロセス
で、図1の工程(6) と同様の加工が実施できる( 工程
(4) )。
Next, the photosensitive material 3 is removed (step (3)).
Electric discharge machining is performed on the workpiece 7 using the tool electrode 6 formed by anisotropic etching of the metal plate 11.
(3)), the same processing as step (6) in FIG. 1 can be performed by a simple process that does not require electroforming.
(Four) ).

【0040】なお、本実施形態では工具電極材料となる
金属板11の材料をAlとしたが、これに限定されるも
のではなく、例えばWやMoといった材料でも適当なマ
スク材を選択することで、異方性エッチングによる工具
電極の形成可能であり、工具電極の消耗を抑制できる等
の良好な加工状態を実現できる適当な工具電極材料を加
工材料に合わせて選択すればよい。
In this embodiment, the material of the metal plate 11 serving as the tool electrode material is Al. However, the material is not limited to Al. For example, a material such as W or Mo can be selected by selecting an appropriate mask material. A suitable tool electrode material capable of forming a tool electrode by anisotropic etching and realizing a good machining state such as suppressing the consumption of the tool electrode can be selected according to the machining material.

【0041】また、本実施形態ではバルクの金属板11
に対して高アスペクト比加工を施す例を示したが、例え
ばシリコン基板上に形成した金属薄膜に対して同様のエ
ッチングを施すことにより得られる金属薄膜材料の工具
電極を用いた放電加工も同様に実施可能である。
In this embodiment, the bulk metal plate 11
Although the example of applying high aspect ratio processing to the above was shown, for example, the electric discharge machining using the tool electrode of the metal thin film material obtained by performing the same etching on the metal thin film formed on the silicon substrate It is feasible.

【0042】(第4の実施形態)次に、本発明の第4の
実施形態における微細形状加工方法について、図4を参
照して説明する。
(Fourth Embodiment) Next, a fine shape processing method according to a fourth embodiment of the present invention will be described with reference to FIG.

【0043】放電加工には工具電極の消耗という問題が
ある。微細形状加工に用いられる放電加工の場合は、高
融点のWを工具電極材料として用いることにより様々な
加工材料に対して良好な耐消耗性が得られることが知ら
れている。しかしながら、Wの場合、NiやCuのよう
に電鋳により高アスペクト比の構造体を形成することは
ほとんど不可能である。ここで、電鋳可能な材料により
高アスペクト比構造体を形成し、その表面に工具電極と
してより優れた耐消耗性を有する材料を形成することに
より、低消耗加工を実現できる。その実施形態を以下に
説明する。
The problem of electric discharge machining is that the tool electrode is consumed. In the case of electric discharge machining used for fine shape machining, it is known that good wear resistance can be obtained for various machining materials by using high melting point W as a tool electrode material. However, in the case of W, it is almost impossible to form a structure having a high aspect ratio by electroforming like Ni or Cu. Here, by forming a high aspect ratio structure from an electroformable material and forming a material having more excellent wear resistance as a tool electrode on the surface thereof, low consumption processing can be realized. The embodiment will be described below.

【0044】図4において、工程(1) に示される状態
は、図2における工程(3) までの工程と同工程により得
られる。ここで、電鋳して形成された工具電極構造材料
6aの上部表面に対して工具電極表面材料6bを薄膜形
成する(工程(2) )。次に、絶縁材料10上に残された
感光材料3を除去してその上に形成されている表面材料
をリフトオフする(工程(3) )。次に、絶縁材料10を
エッチングすることにより、工具電極構造材料6a先端
に工具電極表面材料6bが形成された工具電極6が得ら
れる(工程(4) )。
In FIG. 4, the state shown in the step (1) is obtained by the same steps as the steps up to the step (3) in FIG. Here, a thin film of the tool electrode surface material 6b is formed on the upper surface of the tool electrode structural material 6a formed by electroforming (step (2)). Next, the photosensitive material 3 remaining on the insulating material 10 is removed, and the surface material formed thereon is lifted off (step (3)). Next, by etching the insulating material 10, the tool electrode 6 having the tool electrode surface material 6b formed at the tip of the tool electrode structure material 6a is obtained (step (4)).

【0045】この工具電極6を用いて加工物7に対し放
電加工を施す(工程(5) )。この放電加工は、工具電極
を支える導電板9と垂直方向に工具電極を加工物7側に
送り込むことにより進行し、放電は主に工具電極先端の
工具電極表面材料6b上で発生することになる。この工
具電極表面材料6bにW等の高融点材料を使用すること
により工具電極側の放電面での溶融による消耗を抑制し
た低消耗加工が実施可能となる。
The workpiece 7 is subjected to electrical discharge machining using the tool electrode 6 (step (5)). This electric discharge machining proceeds by sending the tool electrode to the workpiece 7 in a direction perpendicular to the conductive plate 9 supporting the tool electrode, and electric discharge mainly occurs on the tool electrode surface material 6b at the tip of the tool electrode. . By using a high melting point material such as W for the tool electrode surface material 6b, it is possible to perform low-consumption processing in which the consumption by melting on the discharge surface on the tool electrode side is suppressed.

【0046】以上の本実施形態に示したように、電鋳で
形成される工具電極の材料とは異なる材料を表面に形成
した工具電極を用いることにより、電鋳のみで形成され
る工具電極の場合より優れた加工特性が実現される。
As shown in the above embodiment, by using a tool electrode having a material different from the material of the tool electrode formed by electroforming on the surface, the tool electrode formed only by electroforming is used. Better processing characteristics than in the case are realized.

【0047】(第5の実施形態)次に、本発明の第5の
実施形態における微細形状加工方法について、図5を参
照して説明する。
(Fifth Embodiment) Next, a fine shape processing method according to a fifth embodiment of the present invention will be described with reference to FIG.

【0048】電解加工によって穴加工する場合等におい
て、工具電極側面と加工物との間の電解現象により、加
工入口部分におけるエッジだれや、加工側壁面がテーパ
状になる等の不具合が生じる。高アスペクト比構造の工
具電極を用いて深堀り加工する場合はその傾向が強ま
り、高精度な加工を妨げる要因となる。この工具電極側
面に絶縁材料を形成することにより、不要な電解溶出を
抑制し、高精度な電解加工が実施可能となる。その実施
形態を以下に説明する。
In the case of forming a hole by electrolytic machining, an electrolytic phenomenon between a tool electrode side surface and a workpiece causes problems such as edge drooping at a machining entrance portion and tapering of a machining side wall surface. In the case of performing deep excavation using a tool electrode having a high aspect ratio structure, the tendency is increased, which is a factor that hinders high-accuracy machining. By forming an insulating material on the side surface of the tool electrode, unnecessary electrolytic elution is suppressed, and highly accurate electrolytic processing can be performed. The embodiment will be described below.

【0049】図5において、導電板9上に密着されたシ
リコン12表面上には、フォトリソグラフィーで作製し
た酸化シリコン膜13のパターンが形成されている(工
程(1) )。この酸化シリコン膜13のパターンをマスク
として、シリコン12を導電板9に達するまでRIE法
等により異方性エッチングしてシリコン12の鋳型を形
成する(工程(2) )。このシリコン12の鋳型に対して
熱酸化法等によりその表面に絶縁層としての酸化シリコ
ン膜13を形成する(工程(3) )。ここで、エッチバッ
ク法により、シリコン12の鋳型側面上の酸化シリコン
膜13は残して底面の酸化シリコン膜13を除去する
(工程(4) )。このとき、シリコン12上部表面にはマ
スク厚み分の酸化シリコン膜13が残るため、結果とし
てシリコン12のパターン底面の導電板表面のみが電鋳
ベースとなり、高精度に電鋳金属を成長させることがで
きる。
In FIG. 5, a pattern of the silicon oxide film 13 formed by photolithography is formed on the surface of the silicon 12 adhered to the conductive plate 9 (step (1)). Using the pattern of the silicon oxide film 13 as a mask, the silicon 12 is anisotropically etched by RIE or the like until it reaches the conductive plate 9 to form a mold of the silicon 12 (step (2)). A silicon oxide film 13 as an insulating layer is formed on the surface of the silicon 12 mold by a thermal oxidation method or the like (step (3)). Here, the silicon oxide film 13 on the bottom surface is removed by an etch-back method while leaving the silicon oxide film 13 on the mold side surface of the silicon 12 (step (4)). At this time, the silicon oxide film 13 corresponding to the thickness of the mask remains on the upper surface of the silicon 12, so that only the conductive plate surface on the bottom surface of the pattern of the silicon 12 becomes an electroformed base, so that the electroformed metal can be grown with high precision. it can.

【0050】シリコン12の鋳型内に電鋳内に電鋳で工
具電極6を形成した後、上部表面をラッピングしてシリ
コン12の上部表面の酸化シリコン膜13を除去する
(工程(5) )。その後シリコン12をエッチングするこ
とにより、側面に酸化シリコン膜13の絶縁層が形成さ
れた工具電極6が得られる(工程(6) )。シリコン12
のエッチングはヒドラジン、EPW(エチレンジアミン
−ピロカテコール−水)あるいはTMAII(水酸化テト
ラメチルアンモニウム)といった溶液を用いることによ
り、酸化シリコン膜13にほとんど損傷を与えず実施で
きる。
After forming the tool electrode 6 in the mold of the silicon 12 by electroforming in the electroforming, the upper surface is wrapped to remove the silicon oxide film 13 on the upper surface of the silicon 12 (step (5)). Thereafter, by etching the silicon 12, the tool electrode 6 having the insulating layer of the silicon oxide film 13 formed on the side surface is obtained (step (6)). Silicon 12
Can be performed by using a solution such as hydrazine, EPW (ethylenediamine-pyrocatechol-water) or TMAII (tetramethylammonium hydroxide) without substantially damaging the silicon oxide film 13.

【0051】この工具電極6と加工物7との間に直流電
源14によって硝酸ナトリウム水溶液等の電解液中で電
流を流しながら、工具電極6を加工物7に対して送り込
むことにより電解加工が進行する(工程(7) )。この電
解加工において、工具電極6の側面が酸化シリコン膜1
3により絶縁されていることから、工具電極6の底面で
進行する電解以外の不要な電解現象が発生しないため、
エッジだれや加工側面がテーパ状にならない高精度な加
工が実施できる。
While the electric current is flowing between the tool electrode 6 and the workpiece 7 in an electrolytic solution such as an aqueous solution of sodium nitrate by the DC power supply 14, the tool electrode 6 is sent to the workpiece 7 so that the electrolytic machining proceeds. (Step (7)). In this electrolytic processing, the side surface of the tool electrode 6 is
3, unnecessary electrolysis phenomena other than electrolysis that proceeds on the bottom surface of the tool electrode 6 do not occur.
High-precision processing can be performed without edge drooping or processing side faces becoming tapered.

【0052】以上の電解加工による実施形態に示したよ
うに、電鋳で形成される工具電極の材料とは異なる材料
を表面に形成した工具電極を用いることにより、第4の
実施形態と同様に電鋳で形成される工具電極の場合より
優れた加工特性を実現することができる。
As shown in the above embodiment by electrolytic machining, by using a tool electrode having a surface formed of a material different from the material of the tool electrode formed by electroforming, the same as in the fourth embodiment, Machining characteristics superior to those of a tool electrode formed by electroforming can be realized.

【0053】(第6の実施形態)次に、本発明の第6の
実施形態における微細形状加工方法について、図6を参
照して説明する。
(Sixth Embodiment) Next, a fine shape processing method according to a sixth embodiment of the present invention will be described with reference to FIG.

【0054】複数の工具電極を用いて同時に加工物に対
して放電加工することにより、複数構造体の一括転写を
実施するパラレル加工において、工具電極と加工物間に
接続されるパルス放電制御手段が単一の場合、パルス放
電は各工具電極を巡回しながらシリアルに発生するため
実際には加工はシリアルに進行し、その加工時間は個々
の構造体を個別に加工した場合の各加工時間の合計と大
差ないものとなる。この加工において、各々の工具電極
で独立してパルス放電を発生できれば、加工は各工具電
極においてパラレルに同時進行し、その結果加工時間を
著しく短縮できる。その実施形態を以下に説明する。
In parallel machining for performing simultaneous transfer of a plurality of structures by performing electrical discharge machining on a workpiece using a plurality of tool electrodes at the same time, a pulse discharge control means connected between the tool electrode and the workpiece is provided. In a single case, the pulse discharge occurs serially while circulating through each tool electrode, so machining actually proceeds serially, and the machining time is the sum of the machining times when machining individual structures individually. Is not much different. In this processing, if a pulse discharge can be generated independently at each tool electrode, the processing proceeds simultaneously in parallel at each tool electrode, and as a result, the processing time can be significantly reduced. The embodiment will be described below.

【0055】図6において、個々の工具電極61〜65
はそれぞれ分割された電鋳ベース2上に形成されてお
り、これら電鋳ベース2は絶縁板15上に形成されてい
るため、電気的に独立している(工程(5) )。この電鋳
ベース2の分割は、工具電極パターンに合わせて露光と
エッチングにより実施すれば良く、図1における電鋳ベ
ース2を予め分割しておく以外は、図1の工程(1) から
工程(5) までと同様の過程で工具電極61〜65を製作
できる(工程(1) 〜(5) )。なお、図6の工程(4) で実
施される電鋳は、分割された電鋳ベース2の各々に対し
て通電すればよい。
In FIG. 6, individual tool electrodes 61 to 65 are shown.
Are formed on the divided electroformed bases 2, and since these electroformed bases 2 are formed on the insulating plate 15, they are electrically independent (step (5)). The division of the electroformed base 2 may be performed by exposure and etching in accordance with the tool electrode pattern. Except for previously dividing the electroformed base 2 in FIG. 1, the steps (1) to ( Tool electrodes 61 to 65 can be manufactured in the same process as in (5) (steps (1) to (5)). In the electroforming performed in the step (4) of FIG. 6, it is sufficient to supply a current to each of the divided electroformed bases 2.

【0056】以上の工具電極61〜65を用いて放電加
工する場合、各々の工具電極に対して互いに独立した放
電制御手段81〜85を接続して加工を行う(工程(6)
)ことにより、個々の工具電極において独立したパル
ス放電を発生させることができ、すなわち各工具電極で
加工が同時進行する高速加工を実現できる。
In the case of performing electric discharge machining using the tool electrodes 61 to 65 described above, the electric discharge machining means 81 to 85 are connected to the respective tool electrodes to perform machining (step (6)).
In this way, independent pulse discharge can be generated in each tool electrode, that is, high-speed machining in which machining simultaneously proceeds with each tool electrode can be realized.

【0057】(第7の実施形態)次に、本発明の第7の
実施形態における微細形状加工方法について、図7を参
照して説明する。
(Seventh Embodiment) Next, a fine shape processing method according to a seventh embodiment of the present invention will be described with reference to FIG.

【0058】基板の導電面上に電鋳により工具電極を形
成し、この基板を工具電極の支持体として加工の際に用
いる場合、導電面上の汚れや電鋳金属との材料差等に起
因して、工具電極とその支持体間の接続部分で良好な密
着性が得られない場合が生じる。工具電極が高アスペク
ト比の微細構造体である場合、工具電極とその支持体間
接合部の密着性が低いと微小な外力によっても支持体か
ら脱落する恐れがある。実際、放電加工の工具電極には
加工液の気化爆発による加工反力が加わるため、工具電
極が高アスペクト比構造である場合には特に接合部に高
い密着性が要求される。以下に、工具電極とその支持体
の密着性の問題を解消する実施形態を説明する。
When a tool electrode is formed on a conductive surface of a substrate by electroforming, and this substrate is used as a support for the tool electrode during processing, the tool electrode is formed due to contamination on the conductive surface, material difference from the electroformed metal, and the like. As a result, good adhesion may not be obtained at the connection between the tool electrode and its support. In the case where the tool electrode is a fine structure having a high aspect ratio, if the tool electrode and the joint between the support and the support are low in adhesion, there is a possibility that the tool electrode may fall off the support even by a small external force. Actually, since a machining reaction force due to the vaporization explosion of the machining fluid is applied to the tool electrode of the electric discharge machining, a high adhesion is required particularly at the joint when the tool electrode has a high aspect ratio structure. An embodiment for solving the problem of adhesion between the tool electrode and its support will be described below.

【0059】図7において、工程(1) に示される状態
は、図1の工程(3) までと同過程により得られる。電鋳
ベース2に対して電鋳を施して感光材料3のパターン内
空間に金属を埋め込み、そのまま継続して金属を成長さ
せることにより、感光材料3のメッキ浴側の表面上に金
属塊16を形成する(工程(2) )。この金属塊16は、
パターンの各部分から成長した金属が感光材料3表面か
ら盛り上がって成長を続け、隣同士が融合し合って形成
される。この金属塊16の表面には凹凸が形成されるた
め、表面をラッピングして平滑化する(工程(3) )。シ
リコン基板1と電鋳ベース2及び感光材料3を除去する
ことにより、金属塊16に支持された工具電極6が得ら
れる(工程(4) )。この金属塊16と工具電極6は同じ
電鋳金属で形成され、一体であるため、工具電極6が支
持体から離脱することはない。この工具電極6を用いて
加工する際、金属塊16をその支持体として平滑化され
た面を利用して放電加工等の加工機に高精度に設置する
ことができる。
In FIG. 7, the state shown in step (1) is obtained by the same process as in step (3) in FIG. A metal lump 16 is formed on the surface of the photosensitive material 3 on the plating bath side by performing electroforming on the electroformed base 2 to embed metal in the space in the pattern of the photosensitive material 3 and continuously growing the metal. (Step (2)). This metal lump 16
The metal grown from each part of the pattern rises from the surface of the photosensitive material 3 and continues to grow, and the adjacent ones are fused to form. Since irregularities are formed on the surface of the metal block 16, the surface is wrapped and smoothed (step (3)). By removing the silicon substrate 1, the electroformed base 2, and the photosensitive material 3, the tool electrode 6 supported by the metal lump 16 is obtained (step (4)). Since the metal block 16 and the tool electrode 6 are formed of the same electroformed metal and are integrated, the tool electrode 6 does not separate from the support. When machining using the tool electrode 6, the metal lump 16 can be mounted on a machining machine such as an electric discharge machine with high precision using the smoothed surface as a support.

【0060】なお、微小な工具電極6への通電もこの金
属塊16を通して実施することができ。この工具電極6
を加工物7に対して送り込んで転写加工する(工程(5)
)過程において工具電極6に対して加工反力が加わっ
たとしても、工具電極6とその支持体の金属塊16は強
固に接続されている加工途中に工具電極6の一部が脱落
して加工欠陥を発生させる事態に至ることはなく、信頼
性の高い加工を実施することができる。
It is to be noted that the energization of the minute tool electrode 6 can also be performed through the metal lump 16. This tool electrode 6
Is transferred to the workpiece 7 for transfer processing (step (5)).
Even if a processing reaction force is applied to the tool electrode 6 in the process, the tool electrode 6 and the metal block 16 of the support are firmly connected, and a part of the tool electrode 6 falls off during the processing. Defects do not occur, and highly reliable processing can be performed.

【0061】(第8の実施形態)次に、本発明の第8の
実施形態における微細形状加工方法について、図8を参
照して説明する。
(Eighth Embodiment) Next, a fine shape processing method according to an eighth embodiment of the present invention will be described with reference to FIG.

【0062】放電加工を実施する場合、加工に伴う工具
電極の消耗による加工誤差を防止するために、工具電極
の交換が必要となる。あるいは、加工物に対して様々な
形状の転写加工を実施する場合や、粗加工や仕上加工に
おいて異なる工具電極を用いる場合などにおいても同様
に工具電極交換が必要である。この工具電極の交換に
は、生産性を低下させない迅速性と、加工物に対する相
対位置の高い再現性が要求される。以下に、迅速かつ高
精度な工具交換の可能な実施形態を説明する。
When performing electric discharge machining, it is necessary to replace the tool electrode in order to prevent machining errors due to consumption of the tool electrode due to machining. Alternatively, in a case where transfer processing of various shapes is performed on a workpiece or a case where different tool electrodes are used in roughing or finishing, tool electrode replacement is also required. The exchange of the tool electrode requires quickness without lowering the productivity and high reproducibility of the relative position with respect to the workpiece. Hereinafter, an embodiment in which tool exchange can be performed quickly and with high accuracy will be described.

【0063】図8において、工程(1) に示される状態
は、図1における工程(4) までと同過程により得られ
る。この工程(1) に示される感光材料31、32、33
はそれぞれ円柱構造であり、感光材料31、32は同直
径、33はそれらより若干小さい直径を有している。こ
れら感光材料の鋳型に対して電鋳が施されている。この
状態で、感光材料31〜33を除去し(工程(2) )、電
鋳ベース2をエッチングすることにより電鋳で形成され
た工具電極アレイ17をシリコン基板1より分離する
(工程(3) )。
In FIG. 8, the state shown in step (1) is obtained by the same process as in step (4) in FIG. The photosensitive materials 31, 32, 33 shown in this step (1)
Have a columnar structure, the photosensitive materials 31 and 32 have the same diameter, and 33 has a slightly smaller diameter. Electroforming is performed on the molds of these photosensitive materials. In this state, the photosensitive materials 31 to 33 are removed (step (2)), and the electroformed base 2 is etched to separate the tool electrode array 17 formed by electroforming from the silicon substrate 1 (step (3)). ).

【0064】この工具電極アレイ17は、感光材料31
〜33と同径の貫通穴を有するネガ型工具電極171〜
173から成る一枚の板状構造となっている。各工具電
極はフォトリソグラフィーによるサブミクロンオーダー
の高精度な形状精度と配置精度を有している。
The tool electrode array 17 includes a photosensitive material 31
Negative type tool electrode 171 having a through hole having the same diameter as
173 is a single plate-like structure. Each tool electrode has a highly accurate shape and placement accuracy on the order of submicrons by photolithography.

【0065】これらネガ型工具電極171〜173を用
いて加工物7に対して各工具電極の穴形状を転写する軸
加工を施す。ここでの軸加工は、ネガ型工具電極17
1、172を用いて概略形状を創成する粗加工と、ネガ
型工具電極173を用いて平滑な加工面を得る仕上げ加
工から成る。
Using these negative tool electrodes 171 to 173, the workpiece 7 is subjected to axial machining for transferring the hole shape of each tool electrode. The axis machining here is performed by the negative tool electrode 17.
1 and 172, and a finishing process for obtaining a smooth machined surface using the negative tool electrode 173.

【0066】まず、加工物7をネガ型工具電極171に
対して送り込むことにより粗加工を実施する(工程(4)
)。各ネガ型工具電極は貫通穴であるため、穴入口か
ら送り込んだ加工物を軸加工して穴出口から取り出すこ
とにより長軸の加工が可能である。しかしながら、ネガ
型工具電極171は消耗して径が広がり、加工途中で所
定の直径の軸加工が不可能となるため、加工精度を保つ
ために工具交換が必要となる。ここで、高精度に配置さ
れた各ネガ型工具電極間の位置情報を利用して、加工物
7を消耗したネガ型工具電極171から同形状で未使用
のネガ型工具電極172に対して位置決めすることによ
り工具電極の交換が迅速かつ高精度に実施できる。この
ネガ型工具電極172で追加の粗加工を施した後(工程
(5) )、工具電極を仕上げ用のネガ型工具電極173に
交換する。この交換も同様の位置決めにより実施され、
加工物7に対して仕上加工する(工程(6) )ことによ
り、ネガ型工具電極173とほぼ同径で滑らかな表面の
微小軸が得られる。
First, rough machining is performed by feeding the workpiece 7 to the negative tool electrode 171 (step (4)).
). Since each negative type tool electrode is a through-hole, a long-axis machining is possible by machining a workpiece fed from a hole entrance and removing it from the hole exit. However, the negative-type tool electrode 171 is worn out and its diameter is widened, and it becomes impossible to machine a shaft having a predetermined diameter during machining. Therefore, it is necessary to change tools in order to maintain machining accuracy. Here, utilizing the positional information between the negative tool electrodes arranged with high precision, positioning is performed from the negative tool electrode 171 that has consumed the workpiece 7 to the unused negative tool electrode 172 of the same shape. By doing so, the tool electrode can be exchanged quickly and with high accuracy. After performing additional roughing with this negative tool electrode 172 (process
(5)) The tool electrode is replaced with a negative tool electrode 173 for finishing. This exchange is also performed by the same positioning,
By finishing the workpiece 7 (step (6)), a fine axis having a smooth surface and a diameter substantially equal to that of the negative tool electrode 173 is obtained.

【0067】本実施形態によれば、工具電極の交換にそ
れらのハンドリングを必要としないため、迅速な交換が
実現されることに加え、交換に伴う取付誤差が発生せ
ず、生産性の低下を招かずに高精度な加工の継続が可能
となる。
According to this embodiment, since the handling of the tool electrodes is not required for replacement, quick replacement is realized, and in addition, mounting errors due to replacement do not occur, and productivity is reduced. High-precision machining can be continued without inviting.

【0068】[0068]

【発明の効果】本発明の加工工具用電極の製造方法及び
その加工工具用電極を用いた加工方法によれば、以上の
ように得るべき目的形状が高アスペクト微細パターン構
造であったとしても、高速かつ高精度に目的形状の創成
が可能であり、加えて高精度な工具交換が可能な、高い
形状自由度と高生産性を両立することができるという有
利な効果が得られる。
According to the method for manufacturing a machining tool electrode and the machining method using the machining tool electrode of the present invention, even if the target shape to be obtained as described above has a high aspect fine pattern structure, An advantageous effect is obtained in that the target shape can be created at high speed and with high accuracy, and in addition, high-precision tool change can be performed, and high shape flexibility and high productivity can be achieved at the same time.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の微細形状加工方法の第1の実施形態の
工程を示す断面図である。
FIG. 1 is a cross-sectional view showing the steps of a first embodiment of the fine shape processing method of the present invention.

【図2】本発明の微細形状加工方法の第2の実施形態の
工程を示す断面図である。
FIG. 2 is a cross-sectional view showing the steps of a second embodiment of the fine shape processing method of the present invention.

【図3】本発明の微細形状加工方法の第3の実施形態の
工程を示す断面図である。
FIG. 3 is a cross-sectional view showing the steps of a third embodiment of the fine shape processing method of the present invention.

【図4】本発明の微細形状加工方法の第4の実施形態の
工程を示す断面図である。
FIG. 4 is a cross-sectional view showing the steps of a fourth embodiment of the fine shape processing method of the present invention.

【図5】本発明の微細形状加工方法の第5の実施形態の
工程を示す断面図である。
FIG. 5 is a cross-sectional view showing a step of a fifth embodiment of the fine shape processing method of the present invention.

【図6】本発明の微細形状加工方法の第6の実施形態の
工程を示す断面図である。
FIG. 6 is a cross-sectional view showing the steps of a sixth embodiment of the fine shape processing method of the present invention.

【図7】本発明の微細形状加工方法の第7の実施形態の
工程を示す断面図である。
FIG. 7 is a cross-sectional view showing a process in a seventh embodiment of the fine shape processing method according to the present invention.

【図8】本発明の微細形状加工方法の第8の実施形態の
工程を示す断面図である。
FIG. 8 is a cross-sectional view showing the steps of an eighth embodiment of the fine shape processing method of the present invention.

【図9】従来例の微細形状加工方法の工程を示す断面図
である。
FIG. 9 is a cross-sectional view showing steps of a conventional fine shape processing method.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 シリコン基板 2 電鋳ベース 3 感光材料 6 、61〜65 工具電極(加工工具用電極) 6a 工具電極構造材料 6b 工具電極表面材料 7 加工物 8、81〜85 放電制御手段 9 導電板 10 絶縁材料 11 金属板 12 シリコン 13 酸化シリコン膜 14 直流電源 15 絶縁板 16 金属塊 17 工具電極アレイ 171〜173 ネガ型工具電極 REFERENCE SIGNS LIST 1 silicon substrate 2 electroformed base 3 photosensitive material 6, 61 to 65 tool electrode (electrode for processing tool) 6a tool electrode structural material 6b tool electrode surface material 7 workpiece 8, 81 to 85 discharge control means 9 conductive plate 10 insulating material DESCRIPTION OF SYMBOLS 11 Metal plate 12 Silicon 13 Silicon oxide film 14 DC power supply 15 Insulating plate 16 Metal lump 17 Tool electrode array 171-173 Negative tool electrode

Claims (20)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 基板の導電面上に所定のパターンに絶縁
材料を形成する工程と、パターンの間隙内に電鋳により
導電面から金属を成長させて埋め込む工程と、基板上か
ら絶縁材料を除去する工程を備えたことを特徴とする加
工工具用電極の製造方法。
A step of forming an insulating material in a predetermined pattern on the conductive surface of the substrate; a step of growing and embedding a metal from the conductive surface by electroforming in a gap between the patterns; and removing the insulating material from the substrate. A method for manufacturing an electrode for a working tool, comprising:
【請求項2】 絶縁材料は感光材料であることを特徴と
する請求項1記載の加工工具用電極の製造方法。
2. The method according to claim 1, wherein the insulating material is a photosensitive material.
【請求項3】 パターンをフォトリソグラフィにて形成
することを特徴とする請求項1記載の加工工具用電極の
製造方法。
3. The method according to claim 1, wherein the pattern is formed by photolithography.
【請求項4】 フォトリソグラフィーにより基板の導電
面に密着された感光材料のパターンを形成し、電鋳によ
りパターンの間隙内に導電面から金属を成長させて埋め
込み、感光材料を基板上から除去して金属の微細構造体
を形成することを特徴とする加工工具用電極の製造方
法。
4. A pattern of a photosensitive material adhered to a conductive surface of a substrate is formed by photolithography, and a metal is grown and buried from a conductive surface in a gap of the pattern by electroforming, and the photosensitive material is removed from the substrate. A method for producing an electrode for a working tool, comprising forming a metal microstructure by heating.
【請求項5】 フォトリソグラフィーで形成したマスク
を利用した異方性エッチングにより絶縁材料のパターン
を形成し、絶縁材料に密着される導電面に対する電鋳に
よりパターンの間隙内に金属を埋め込み、絶縁材料を除
去して金属の微細構造体を形成することを特徴とする加
工工具用電極の製造方法。
5. An insulating material pattern is formed by anisotropic etching using a mask formed by photolithography, and a metal is buried in a gap of the pattern by electroforming on a conductive surface which is in close contact with the insulating material. A method for producing an electrode for a working tool, characterized by forming a fine metal structure by removing the metal.
【請求項6】 フォトリソグラフィーで形成したマスク
を利用した金属の異方性エッチングにより金属の微細構
造体を形成することを特徴とする加工工具用電極の製造
方法。
6. A method for manufacturing a working tool electrode, comprising forming a metal microstructure by anisotropic metal etching using a mask formed by photolithography.
【請求項7】 金属の微細構造体を複数の材料で形成す
ることを特徴とする請求項4〜6の何れかに記載の加工
工具用電極の製造方法。
7. The method for manufacturing a working tool electrode according to claim 4, wherein the metal fine structure is formed of a plurality of materials.
【請求項8】 電気的に分割された導電面上にそれぞれ
金属の微細構造体を形成することを特徴とする請求項4
〜7の何れかに記載の加工工具用電極の製造方法。
8. A metal fine structure is formed on each of the electrically divided conductive surfaces.
8. The method for producing a working tool electrode according to any one of claims 7 to 7.
【請求項9】 感光材料を含む絶縁材料のパターン内に
形成される部分上に金属塊を一体形成し、この金属塊に
て金属の微細構造体を支持することを特徴とする請求項
4、5又は7記載の加工工具用電極の製造方法。
9. The method according to claim 4, wherein a metal lump is integrally formed on a portion formed in the pattern of the insulating material including the photosensitive material, and the metal lump supports a metal fine structure. 8. The method for producing an electrode for a working tool according to 5 or 7.
【請求項10】 金属の微細構造体をフォトリソグラフ
ィーにおける露光面方向に複数個一体的に配列させるこ
とを特徴とする請求項4〜9の何れかに記載の加工工具
用電極の製造方法。
10. The method for manufacturing a working tool electrode according to claim 4, wherein a plurality of metal microstructures are integrally arranged in an exposure surface direction in photolithography.
【請求項11】 基板の導電面上に所定のパターンに絶
縁材料を形成する工程と、パターンの間隙内に電鋳によ
り導電面から金属を成長させて埋め込む工程と、基板上
から絶縁材料を除去して加工工具用電極を得る工程と、
この加工工具用電極を用いて加工物を放電加工または電
解加工する工程とを備えたことを特徴とする加工方法。
11. A step of forming an insulating material in a predetermined pattern on a conductive surface of a substrate, a step of growing and embedding a metal from the conductive surface by electroforming in a gap between the patterns, and removing the insulating material from the substrate. Obtaining a machining tool electrode by performing
A step of subjecting a workpiece to electrical discharge machining or electrolytic machining using the machining tool electrode.
【請求項12】 絶縁材料は感光材料であることを特徴
とする請求項11記載の加工方法。
12. The processing method according to claim 11, wherein the insulating material is a photosensitive material.
【請求項13】 パターンをフォトリソグラフィにて形
成することを特徴とする請求項11記載の加工方法。
13. The processing method according to claim 11, wherein the pattern is formed by photolithography.
【請求項14】 フォトリソグラフィーにより基板の導
電面に密着された感光材料のパターンを形成し、電鋳に
よりパターンの間隙内に導電面から金属を成長させて埋
め込み、感光材料を基板上から除去することにより金属
の微細構造体を形成し、この金属の微細構造体を加工工
具用電極として用いて加工物を放電加工または電解加工
することを特徴とする加工方法。
14. A pattern of a photosensitive material adhered to a conductive surface of a substrate by photolithography, a metal is grown from a conductive surface in a gap of the pattern by electroforming, and the photosensitive material is removed from the substrate. A machining method characterized by forming a metal microstructure by using the metal microstructure as a machining tool electrode and subjecting a workpiece to electrical discharge machining or electrolytic machining.
【請求項15】 フォトリソグラフィーで形成したマス
クを利用した異方性エッチングにより絶縁材料のパター
ンを形成し、絶縁材料に密着される導電面に対する電鋳
によりパターンの間隙内に金属を埋め込み、絶縁材料を
除去することにより金属の微細構造体を形成し、この金
属の微細構造体を加工工具用電極として用いて加工物を
放電加工または電解加工することを特徴とする加工方
法。
15. An insulating material pattern is formed by anisotropic etching using a mask formed by photolithography, and a metal is buried in a gap of the pattern by electroforming on a conductive surface that is in close contact with the insulating material. A machining method comprising: forming a metal microstructure by removing the metal; and subjecting the workpiece to electrical discharge machining or electrolytic machining using the metal microstructure as a machining tool electrode.
【請求項16】 フォトリソグラフィーで形成したマス
クを利用した金属の異方性エッチングにより金属の微細
構造体を形成し、この金属の微細構造体を加工工具用電
極として用いて加工物を放電加工または電解加工するこ
とを特徴とする加工方法。
16. A metal microstructure is formed by anisotropic etching of a metal using a mask formed by photolithography, and the workpiece is subjected to electric discharge machining or electric discharge machining using the metal microstructure as a machining tool electrode. A processing method characterized by performing electrolytic processing.
【請求項17】 加工工具用電極は、複数の材料で構成
されていることを特徴とする請求項14〜16の何れか
に記載の加工方法。
17. The machining method according to claim 14, wherein the machining tool electrode is made of a plurality of materials.
【請求項18】 加工工具用電極は、複数個がそれぞれ
電気的に分割された導電面上に形成され、加工工程にお
いて各工具電極に対して異なる給電を行うことを特徴と
する請求項14〜17の何れかに記載の加工方法。
18. The machining tool electrode according to claim 14, wherein a plurality of machining tool electrodes are respectively formed on electrically divided conductive surfaces, and different power is supplied to each machining electrode in the machining process. 18. The processing method according to any one of 17.
【請求項19】 加工工具用電極は、感光材料を含む絶
縁材料のメッキ浴側の表面上に十分な厚みを持って金属
が覆われるまで電鋳して得られる、絶縁材料のパターン
内に形成される加工工具用電極部分以外の金属塊に支持
されていることを特徴とする請求項14、15又は17
記載の加工方法。
19. An electrode for a working tool is formed in a pattern of an insulating material obtained by electroforming until a metal is covered with a sufficient thickness on the surface of the insulating material including the photosensitive material on the plating bath side, and the metal is covered. 18. The semiconductor device according to claim 14, 15 or 17, which is supported by a metal lump other than the machining tool electrode portion to be formed.
The processing method described.
【請求項20】 加工工具用電極は、フォトリソグラフ
ィーにおける露光面方向に複数個配列され、加工物と各
工具電極間の露光面方向の位置決めにより、工具電極の
交換を行うことを特徴とする請求項14〜19の何れか
に記載の加工方法。
20. A plurality of processing tool electrodes are arranged in an exposure surface direction in photolithography, and the tool electrodes are exchanged by positioning the workpiece and each tool electrode in the exposure surface direction. Item 20. The processing method according to any one of Items 14 to 19.
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Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP3304331B2 (en) 2000-05-30 2002-07-22 林 清彬 Method for producing microstructure having high aspect ratio
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CN117245158A (en) * 2023-08-10 2023-12-19 南方科技大学 Electrodes and EDM equipment

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