JP2000118145A

JP2000118145A - 光記録媒体

Info

Publication number: JP2000118145A
Application number: JP10315390A
Authority: JP
Inventors: Emiko Kanbe; 江美子神戸; Masahiro Shinkai; 正博新海; Atsushi Kadota; 敦志門田
Original assignee: TDK Corp
Current assignee: TDK Corp
Priority date: 1998-10-19
Filing date: 1998-10-19
Publication date: 2000-04-25

Abstract

(57)【要約】（修正有）【課題】ポリカーボネート基板を侵さない塗布溶剤に
十分な溶解性をもち、６８０nm以下の波長光で優れた記
録再生特性を有するヒートモード方式の光記録媒体を提
供する。【解決手段】記録および再生光の波長が６８０nm以下
であり、記録層と反射層とを有する光記録媒体におい
て、記録層に下記式（Ｉ）で表されるキサンテン系色素
を含有させる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、反射層を有し、好
ましくはレーザーを照射することによりピットを形成す
る光記録媒体に関する。特に、記録再生波長が６００〜
６８０nmの光記録媒体に関する。

【０００２】

【従来の技術】現在実用化されている光記録媒体の記録
方法は、照射レーザー光を熱源として記録層に蒸発・分
解等を生じ光学的に検出可能な凹状のピット形成をする
ヒートモード記録方法である。

【０００３】一方、まだ問題点が多く実用化されていな
い他記録方法として、各種蛍光体を有する記録層に光を
照射し、物理的・化学的な変化を与え記録し、再生時に
記録層からの発光を検出することを特徴とするフォトン
モード記録方法が、特開平２−３０８４３９号や特開平
８−６２０４号に提案されている。ここで、開示される
光記録媒体の記録層に用いられる色素は、ローダミン６
Ｇ、ローダミンＢ等である。

【０００４】従来、ヒートモードの光記録媒体の有機色
素系記録層としては、その一つとしてシアニン色素が挙
げられるが、光劣化が著しく安定性に乏しい。また、そ
の他に、アゾ色素が挙げられるが、耐光性が高いもの
の、反射率が低いなどの問題があった。さらに、特開平
１０−９７７３２号には、ローダミンＢ等の特定のキサ
ンテン染料を記録層に含有させた光学記録媒体が開示さ
れているが、光吸収波長が短く、反射率（Ｒtop）と変
調度のバランスがとれないという問題がある。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、ポリ
カーボネート基板を侵さない塗布溶剤に十分な溶解性を
もち、６８０nm以下の波長光で良好なジッターを示すな
ど、優れた記録再生特性を有する光記録媒体を提供する
ことである。さらには耐光性に優れた光記録媒体を提供
することである。

【０００６】

【課題を解決するための手段】このような目的は、下記
（１）〜（４）によって達成される。（１）記録および再生光の波長が６８０nm以下であ
り、基板上に色素を含有する記録層を有し、この記録層
上に反射層を有し、光を照射することによってピットを
形成して記録を行う光記録媒体において、前記記録層
が、下記式（Ｉ）で表される色素を含有することを特徴
とする光記録媒体。

【０００７】

【化２】

【０００８】［式（Ｉ）において、Ａは、それが結合し
ている２つの炭素原子と一緒になって複素環を形成する
原子団を表し、Ｙは、カルボン酸基、カルボン酸エステ
ル基、カルバモイル基、スルホン酸基、スルホン酸エス
テル基またはスルファモイル基を表す。Ｒ₁、Ｒ₂、
Ｒ₅、Ｒ₆、Ｒ₉およびＲ₁₀は、各々独立に水素原子、ハ
ロゲン原子、アミノ基、スルホンアミド基、アミド基、
カルバモイル基、ニトロ基、スルホン酸エステル基、カ
ルボン酸エステル基、ニトリル基または炭素数１６以下
のアルキル基、アルコキシ基もしくはアルケニル基を表
す。Ｒ₃、Ｒ₄、Ｒ₇およびＲ₈は、各々独立に水素原子、
ハロゲン原子、アリール基、複素環基または炭素数１６
以下のアルキル基もしくはアルコキシ基を表す。Ｒ₁と
Ｒ₂、Ｒ₂とＲ₃、Ｒ₃とＲ₄、Ｒ₄とＲ₅、Ｒ₆とＲ₇、Ｒ₇と
Ｒ₈、Ｒ₈とＲ₉、Ｒ₉とＲ₁₀は、各々互いに結合して環を
形成してもよい。Ｘ^-は対アニオンを表す。］（２）式（Ｉ）中のＸ^-で表される対アニオンが有機
金属錯体のアニオンである上記（１）の光記録媒体。（３）式（Ｉ）中のＡがそれが結合している２つの炭
素原子と一緒になってピリジン環を形成する上記（１）
または（２）の光記録媒体。（４）記録層が、さらに有機金属錯体の色素を含有す
る上記（１）〜（３）のいずれかの光記録媒体。

【０００９】なお、特開平１０−９７７３２号には、ロ
ーダミンＢ等の特定のキサンテン染料を記録層に含有さ
せたヒートモード方式の光記録媒体が開示されている。
しかし、ここに開示されるキサンテン染料は、本発明の
式（Ｉ）で表される色素と異なり、キサンテン環の９位
（中心炭素）に複素環基が結合した構造を有するもので
ない。

【００１０】

【発明の実施の形態】以下、本発明について詳細に説明
する。本発明の光記録媒体は、記録および再生光の波長
が６８０nm以下であり、記録層上に反射層を有し、光の
照射によってピットと称される小穴を形成して記録を行
うヒートモード方式のものであり、記録層は式（Ｉ）で
表されるキサンテン系色素を含有する。

【００１１】式（Ｉ）において、Ａは、それが結合して
いる２つの炭素原子と一緒になって複素環を形成する原
子団を表し、Ｙは、カルボン酸基、カルボン酸エステル
基、カルバモイル基、スルホン酸基、スルホン酸エステ
ル基またはスルファモイル基を表す。Ｒ₁、Ｒ₂、Ｒ₅、
Ｒ₆、Ｒ₉およびＲ₁₀は、各々水素原子、ハロゲン原子、
アミノ基、スルホンアミド基、アミド基、カルバモイル
基、ニトロ基、スルホン酸エステル基、カルボン酸エス
テル基、ニトリル基または炭素数１６以下のアルキル
基、アルコキシ基もしくはアルケニル基を表す。Ｒ₃、
Ｒ₄、Ｒ₇およびＲ₈は、各々水素原子、ハロゲン原子、
アリール基、ヘテロ環基または炭素数１６以下のアルキ
ル基もしくはアルコキシ基を表す。Ｒ₁〜Ｒ₁₀のなかの
隣接するもの同士は、各々互いに結合して環を形成して
もよい。Ｘ^-は対アニオンを表す。

【００１２】Ａで完成される複素環としては、単環でも
縮合環を有するものであってもよく、芳香族含窒素６員
複素環が好ましく、具体的にはピリジン環、キノリン環
等が挙げられる。なかでもピリジン環、キノリン環が好
ましく、特にピリジン環が好ましい。ピリジン環、キノ
リン環は、ともに式（Ｉ）中のキサンテン環の９位（中
心炭素）と、２位、３位で結合することが好ましい。

【００１３】これらの複素環は、Ｙおよびキサンテニル
基のほかの置換基を有していてもよく、このような置換
基としては、アルキル基、ハロゲン化アルキル基、アリ
ール基、アルコキシ基、ハロゲン化アルコキシ基、アリ
ールオキシ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、アラ
ルキル基、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、エステ
ル基、カルバモイル基、アシル基、アシルアミノ基、ス
ルファモイル基、スルフォンアミド基、等が挙げられ、
これらの置換基はさらに置換基を有していてもよい。

【００１４】これらの複素環上の置換基の中で好ましい
置換基としては、置換基を有していてもよい炭素数１〜
８までのアルキル基、炭素数１〜８までのアルコキシ
基、ニトロ基、ハロゲン原子等が挙げられる。

【００１５】Ｙは、カルボン酸基、カルボン酸エステル
基、カルバモイル基、スルホン酸基、スルホン酸エステ
ル基、スルファモイル基を表す。カルボン酸エステル基
としては、炭素数２〜４が好ましく、例えばメトキシカ
ルボニル、エトキシカルボニル、プロポキシカルボニ
ル、アセトキシ等が挙げられる。カルバモイル基として
は、炭素数１〜１０が好ましく、置換基を有していても
よく、例えばカルバモイル、メチルカルバモイル、ジメ
チルカルバモイル、ジエチルカルバモイル、ジプロピル
カルバモイル等が挙げられる。スルホン酸エステル基と
しては、炭素数１〜４が好ましく、例えばメトキシスル
ホニル、エトキシスルホニル、プロポキシスルホニル、
ブトキシスルホニル等が挙げられる。スルファモイル基
としては、炭素数０〜１０が好ましく、置換基を有して
いてもよく、例えばスルファモイル、メチルスルファモ
イル、エチルスルファモイル、ｎ−プロピルスルファモ
イル、ｉｓｏ−プロピルスルファモイル等が挙げられ
る。カルボン酸基、スルホン酸基は、塩を形成していて
もよい。

【００１６】Ｙとしてはカルボン酸基が好ましい。

【００１７】Ｒ₁〜Ｒ₁₀で表されるハロゲン原子として
は、Ｆ、Ｃｌ、Ｂｒ、Ｉ等が挙げられる。

【００１８】Ｒ₁〜Ｒ₁₀で表される炭素数１６以下、好
ましくは１〜１６のアルキル基としては、直鎖状であっ
ても分岐を有していてもよく、具体的にはメチル、エチ
ル、ｎ−プロピル、イソプロピル、ｎ−ブチル、イソブ
チル、ｓ−ブチル、ｔ−ブチル、ｎ−ペンチル、ｎ−ヘ
キシルが挙げられる。また置換基を有していてもよく、
このような置換基としてはメトキシ、エトキシ等のアル
コキシ基、アルコキシカルボニル基、ヒドロキシ基、ヒ
ドロキシオキシ（ヒドロペルオキシ）基、ハロゲン原子
等が挙げられる。置換基を有する場合も炭素数は１〜１
６であることが好ましい。

【００１９】Ｒ₁〜Ｒ₁₀で表される炭素数１６以下、好
ましくは１〜１６のアルコキシ基としては、そのアルキ
ル部分が直鎖状のものであっても分岐を有するものであ
ってもよく、具体的にはメトキシ、エトキシ、プロポキ
シ、イソプロポキシ、ブトキシ、イソブトキシ、ｓ−ブ
トキシ、ｔ−ブトキシ、ｎ−ペンチルオキシ、ｎ−ヘキ
シルオキシ等が挙げられる。無置換のものが好ましい
が、さらに置換基を有するものであってもよい。置換基
を有する場合も炭素数は１〜１６であることが好まし
い。

【００２０】Ｒ₁、Ｒ₂、Ｒ₅、Ｒ₆、Ｒ₉、Ｒ₁₀で表され
るアミノ基としては炭素数０〜６のものが好ましく、置
換基を有していてもよく、アミノ、メチルアミノ、ジメ
チルアミノ等が挙げられる。

【００２１】Ｒ₁、Ｒ₂、Ｒ₅、Ｒ₆、Ｒ₉、Ｒ₁₀で表され
るスルホンアミド基としては炭素数１〜６のものが好ま
しく、置換基を有していてもよく、メチルスルホンアミ
ド、ベンゼンスルホンアミド等が挙げられる。

【００２２】Ｒ₁、Ｒ₂、Ｒ₅、Ｒ₆、Ｒ₉、Ｒ₁₀で表され
るアミド基としては炭素数１〜１０のものが好ましく、
置換基を有していてもよく、アミド、アセトアミド、ベ
ンズアミド等が挙げられる。

【００２３】Ｒ₁、Ｒ₂、Ｒ₅、Ｒ₆、Ｒ₉、Ｒ₁₀で表され
るカルバモイル基としては炭素数１〜１０のものが好ま
しく、置換基を有していてもよく、カルバモイル、メチ
ルカルバモイル、フェニルカルバモイル等が挙げられ
る。

【００２４】Ｒ₁、Ｒ₂、Ｒ₅、Ｒ₆、Ｒ₉、Ｒ₁₀で表され
るスルホン酸エステル基としては炭素数１〜４のものが
好ましく、置換基を有していてもよく、メトキシスルホ
ニル、エトキシスルホニル、プロポキシスルホニル、ブ
トキシスルホニル等が挙げられる。

【００２５】Ｒ₁、Ｒ₂、Ｒ₅、Ｒ₆、Ｒ₉、Ｒ₁₀で表され
るカルボン酸エステル基としては炭素数２〜４のものが
好ましく、置換基を有していてもよく、メトキシカルボ
ニル、エトキシカルボニル、プロポキシカルボニル、ア
セトキシ等が挙げられる。

【００２６】Ｒ₁、Ｒ₂、Ｒ₅、Ｒ₆、Ｒ₉、Ｒ₁₀で表され
る炭素数１６以下、好ましくは炭素数２〜１６のアルケ
ニル基としては、置換基を有していてもよく、直鎖状で
あっても分岐を有していてもよく、ビニル、アリル、プ
ロペニル、ブテニル等が挙げられる。

【００２７】Ｒ₃、Ｒ₄、Ｒ₇、Ｒ₈で表されるアリール基
としては、単環でも縮合環を有していてもよく、例えば
フェニル、ナフチル等が挙げられる。

【００２８】Ｒ₃、Ｒ₄、Ｒ₇、Ｒ₈で表される複素環基と
しては、単環でも縮合環を有していてもよく、芳香族含
窒素６員複素環基が好ましく、ピリジル、キノリニル等
が挙げられる。

【００２９】これらのアリール基、複素環基は置換基を
有していてもよく、このような置換基としては、アルキ
ル基、ハロゲン化アルキル基、アルコキシ基、ハロゲン
化アルコキシ基、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、
エステル基、カルバモイル基、アシル基、アシルアミノ
基、スルファモイル基、スルフォンアミド基、等が挙げ
られ、これらの置換基はさらに置換基を有していてもよ
い。

【００３０】このような置換基も含めたアリール基、複
素環基の炭素数としては、アリール基が６〜２０、複素
環基が５〜１９であることが好ましい。

【００３１】このような場合、Ｒ₃、Ｒ₄のうちのいずれ
か一方が、またＲ₇、Ｒ₈のうちのいずれか一方がアリー
ル基、複素環基であることが好ましい。

【００３２】Ｒ₁、Ｒ₂、Ｒ₅、Ｒ₆、Ｒ₉、Ｒ₁₀としては
水素原子、炭素数１〜１６のアルキル基が好ましく、Ｒ
₃、Ｒ₄、Ｒ₇、Ｒ₈としては水素原子、炭素数１〜１６の
アルキル基、アリール基が好ましい。

【００３３】Ｒ₁〜Ｒ₁₀のなかの隣接するもの同士は、
各々結合して環を形成してもよいが、なかでもＲ₂と
Ｒ₃、Ｒ₃とＲ₄、Ｒ₄とＲ₅、Ｒ₆とＲ₇、Ｒ₇とＲ₈、Ｒ₈と
Ｒ₉の組合せで互いに結合して含窒素複素環を形成する
ことが好ましく、特に６員環が好ましく、さらにアルキ
ル基等の置換基を有していてもよい。

【００３４】Ｘ^-で表される対アニオンとして、具体的
にはハロゲン化物イオン（Ｃｌ^- 、Ｂｒ^- 、Ｉ^- 等）、
ＣｌＯ₄ ^-、ＢＦ₄ ^-、ＰＦ₆ ^-、ＶＯ₃ ^-、ＶＯ₄ ^3- 、ＷＯ₄
^2- 、ＣＨ₃ ＳＯ₃ ^-、ＣＦ₃ ＣＯＯ^- 、ＣＨ₃ ＣＯＯ
^- 、ＨＳＯ₄ ^-、ＣＦ₃ ＳＯ₃ ^-、ＰＯ₄ ・１２ＷＯ₃ ^3- 、
パラトルエンスルホン酸イオン（ＰＴＳ^- ）、ｐ−三フ
ッ化メチルフェニルスルホン酸イオン（ＰＦＳ^- ）等が
挙げられる。なかでも、Ｃｌ^-、Ｂｒ^-、ＣｌＯ₄ ^-、ＢＦ
₄ ^-等が好ましい。

【００３５】また、有機金属錯体のアニオン（陰イオ
ン）が好ましいものとして挙げられる。このような有機
金属錯体としては、金属錯体クエンチャーとして知られ
ているものがある。具体的には、アセチルアセトナート
系、ビスジチオ−α−ジケトン系やビスフェニレンジチ
オール系などのビスジチオール系、チオカテコール系、
サリチルアルデヒドオキシム系、チオビスフェノレート
系等の金属錯体の陰イオンが挙げられる。なかでも、ビ
スフェニレンジチオール系の金属錯体の陰イオンが好ま
しい。ビスフェニレンジチオール系の金属錯体の陰イオ
ンとしては下記式（Ａ）で示されるものが好ましい。

【００３６】

【化３】

【００３７】式（Ａ）において、Ｍは中心金属を表し、
中心金属としてはＮｉ、Ｃｕ、Ｃｏ、Ｐｄ、Ｐｔ等が挙
げられ、Ｎｉ、Ｃｕ等が好ましい。Ｒはアルキル基、ア
ルコキシ基、アルキル置換アミノ基またはハロゲン原子
を表す。ｎは１〜４の整数である。

【００３８】Ｒで表されるアルキル基としては直鎖状で
あっても分岐を有していてもよく、炭素数１〜４のもの
が好ましく、メチル、エチル、ｎ−プロピル、イソプロ
ピル、ｎ−ブチル、イソブチル、ｓ−ブチル、ｔ−ブチ
ル等が挙げられる。アルコキシ基としては炭素数１〜４
のものが好ましく、メトキシ、エトキシ等が挙げられ
る。アルキル置換アミノ基としては炭素数１〜４のアル
キル基が置換したものが好ましく、ジ−置換体が好まし
く、ジブチルアミノ等が挙げられる。ハロゲン原子とし
てはＣｌ等が挙げられる。

【００３９】ｎは１〜４の整数であるが、特に１〜３の
整数であることが好ましい。

【００４０】式（Ａ）で示される陰イオンの具体例を以
下に示すが、本発明はこれに限定されるものでない。こ
こでは、式（Ａ−ａ）等の表示に従い、Ｍ、Ｒ⁰¹等の組
合せで示している。

【００４１】

【化４】

【００４２】また、フェニルアゾフェニル金属錯体の陰
イオンが挙げられ、下記式（Ｂ−Ｉ）で示されるアゾ化
合物と金属との金属錯体の陰イオンが好ましい。なお、
式（Ｂ−Ｉ）のアゾ化合物を配位子とする金属錯体はク
エンチャー機能を有するものである。Ｑ₁−Ｎ＝Ｎ−Ｑ₂ （Ｂ−Ｉ）式（Ｂ−Ｉ）において、Ｑ₁およびＱ₂は各々活性水素を
有する基をジアゾ基の隣接位にもつ芳香環基を表す。

【００４３】式（Ｂ−Ｉ）について、さらに詳細に説明
すると、Ｑ₁、Ｑ₂で表される活性水素を有する基をもつ
芳香環基における芳香環としては、炭素環であっても複
素環であってもよく、単環であっても、縮合多環や環集
合の多環であってもよい。このような芳香環としては、
ベンゼン環、ナフタレン環、ピリジン環、チアゾール
環、ベンゾチアゾール環、オキサゾール環、ベンゾオキ
サゾール環、キノリン環、イミダゾール環、ピラジン
環、ピロール環などが挙げられ、なかでもベンゼン環、
ナフタレン環、ピロール環が好ましく、特にはベンゼン
環が好ましい。

【００４４】Ｑ₁、Ｑ₂の組合せとしては、ベンゼン環同
士、ベンゼン環とナフタレン環、ベンゼン環とピロール
環等の組合せが好ましく、なかでもベンゼン環同士の組
合せが好ましい。

【００４５】Ｑ₁、Ｑ₂における活性水素を有する基の芳
香環における結合位置は、ジアゾ基の隣接位であり、活
性水素を有する基としては、−ＯＨ、−ＳＨ、−ＮＨ
₂ 、−ＣＯＯＨ、−ＣＯＮＨ₂ 、−ＳＯ₂ ＮＨ₂ 、−Ｓ
Ｏ₃ Ｈ等が挙げられ、特に−ＯＨが好ましい。

【００４６】また、Ｑ₁、Ｑ₂で表される芳香環は、アゾ
基、活性水素を有する基のほかに、さらに置換基を有し
ていてもよく、置換基として具体的にはニトロ基、ハロ
ゲン原子（例えば塩素原子、臭素原子等）、カルボキシ
ル基、スルホ基、スルファモイル基（好ましくは炭素数
０〜４で、例えばスルファモイル、メチルスルファモイ
ル等）、アルキル基（好ましくは炭素数１〜４で、例え
ばメチル等）、アミノ基等が挙げられる。

【００４７】Ｑ₁、Ｑ₂がベンゼン環同士の組合せである
とき、一方のベンゼン環は、ニトロ基、ハロゲン原子
（好ましくは塩素原子、臭素原子）を置換基として有す
ることが好ましく、特にはニトロ基が好ましい。このよ
うなニトロ基、ハロゲン原子はジアゾ基のメタ位あるい
はパラ位に存在することが好ましく、特にはメタ位のも
のが好ましい。置換基は２個以上存在していてもよく、
このような場合の置換基は同一でも異なるものであって
もよい。また、他方のベンゼン環は、アミノ基を置換基
として有することが好ましく、アミノ基としては、無置
換のアミノ基であってもよいが、特にジアルキルアミノ
基が好ましく、このようなジアルキルアミノ基の総炭素
数は２〜８であることが好ましく、例えばジメチルアミ
ノ、ジエチルアミノ、メチルエチルアミノ、メチルプロ
ピルアミノ、ジブチルアミノ、ヒドロキシエチルメチル
アミノ等が挙げられる。このようなアミノ基の置換位置
はジアゾ基のパラ位であることが好ましい。

【００４８】式（Ｂ−Ｉ）のアゾ化合物を配位子とする
金属錯体の中心金属は形成される金属錯体が対イオンを
もたない状態で陰イオンとなるようなものであればよ
い。中心金属はＣｏ、バナジル（Ｖ＝Ｏ）等であり、こ
のような中心金属と、アゾ化合物配位子（リガンド）：
金属＝２：１の錯体を形成する。この場合の配位子は同
一でも異なるものであってもよい。

【００４９】なお、式（Ｂ−Ｉ）中の活性水素を有する
基は酸アニオン（活性水素を有する基が−ＯＨのときは
−Ｏ^-）の形で中心金属に配位する。

【００５０】以下に式（Ｂ−Ｉ）で表される陰イオンの
具体例を示すが、本発明はこれらに限定されるものでは
ない。ここではアゾ化合物と中心金属の組合せで示して
おり、リガンド：金属＝２：１である。なお、具体例の
ものはいずれも１価の陰イオンであり、中心金属が２種
のものは、各金属を中心金属とする金属錯体の陰イオン
の混合体である。また具体例中のＭｅ、Ｅｔ、Ｂｕは各
々メチル、エチル、ブチルを示す。

【００５１】

【化５】

【００５２】

【化６】

【００５３】

【化７】

【００５４】

【化８】

【００５５】

【化９】

【００５６】陰イオンとしては、特に有機金属錯体の陰
イオンが好ましい。

【００５７】これらの有機金属錯体の陰イオンのなかで
も、特にフェニルアゾフェニル錯体の陰イオンが光記録
媒体の特性上必要な光学定数を得る上で好ましい。

【００５８】以下に、本発明に用いられる式（Ｉ）のキ
サンテン系色素を示すが、本発明はこれらに限定される
ものではない。ここでは、式（Ｉ−ａ）の表示に従って
示しているものもあり、Ｘ^-が有機金属錯体の陰イオン
であるとき、先に例示した表示に従って示している。な
お、Ｍｅ、Ｅｔ、ｉＰｒ、Ｂｕは各々メチル、エチル、
イソプロピルを示す。

【００５９】

【化１０】

【００６０】

【化１１】

【００６１】

【化１２】

【００６２】

【化１３】

【００６３】式（Ｉ）のキサンテン系色素は市販されて
いるものもあり、また公知の方法によって合成すること
ができる。

【００６４】また、有機金属錯体の陰イオンをもつキサ
ンテン系色素を得るには、ＣｌＯ₄ ^-塩やＢＦ₄ ^-塩を合成
したのち、目的とする有機金属錯体の陰イオンに応じ、
有機金属錯体の塩を用いて、公知の方法に従って陰イオ
ンを交換すればよい。

【００６５】本発明のキサンテン系色素の融点（ｍｐ）
は２２０〜３５０℃であり、λｍａｘ（５０nm厚の色素
薄膜で測定）は５００〜６１０nmの範囲にある。

【００６６】また、６３５nmまたは６５０nmの波長にお
ける複素屈折率の実部（ｎ）は２．０〜２．５０であ
り、虚部（ｋ）は０．０３〜０．４０である。

【００６７】なお、色素のｎおよびｋは、所定の透明基
板上に色素膜を光記録媒体の記録層程度の厚さ、例えば
４０〜１００nm程度の厚さに記録層と同条件で設層し
て、測定用サンプルを作製し、次いで、この測定用サン
プルの６３５nmまたは６５０nmにおける反射率および透
過率を測定し、これらの測定値から、例えば、共立全書
「光学」石黒浩三Ｐ１６８〜１７８に準じ、算出したも
のである。反射率は測定用サンプルの基板を通しての反
射率あるいは色素膜側からの反射率であり、鏡面反射
（５°程度）にて測定したものである。

【００６８】本発明のキサンテン系色素は、記録層用の
色素として、１種のみを用いても２種以上を併用しても
よい。

【００６９】これらの色素は、耐光性に優れ、有機溶媒
に対する溶解性が十分であり、光記録媒体の基板材料と
して汎用されているポリカーボネート樹脂（ＰＣ）を侵
すことがない塗布溶媒に対する溶解度が大きくなる。

【００７０】これらの色素を用いた記録層は、特に追記
型の光記録ディスク（ＤＶＤ−Ｒ）に用いることが好ま
しい。このような記録層は、色素含有塗布液を用いて設
層することができ、特に、回転する基板上に塗布液を展
開塗布するスピンコート法によることが好ましい。この
ほか、グラビア塗布、スプレーコート、ディッピングな
どによってもよい。

【００７１】上記のようなスピンコートの後、必要に応
じて塗膜を乾燥させる。このようにして形成される記録
層の厚さは、目的とする反射率などに応じて適宜設定さ
れるものであるが、通常、５００〜３０００A（５０〜
３００nm）である。

【００７２】なお、塗布液における色素含有量は、通常
０．０５〜１０wt% とするのがよい。本発明のキサンテ
ン系色素は溶解性が良好であるので、このような含有量
の塗布液を容易に調製することが容易である。具体的に
言えば、本発明のキサンテン系色素は、主に極性溶媒に
良好な溶解性を示し、アルコールやセロソルブ系ないし
アルコキシアルコール系、ジアセトンアルコールなどの
ケトアルコール、シクロヘキサンなどのケトン、２，
２，３，３−テトラフルオロプロパノールなどのフッ素
化アルコールなどに０．５〜１０wt% 溶解する。特にポ
リカーボネート製ディスク基板に塗布する際に好適な塗
布溶媒である、エチルセロソルブや２，２，３，３−テ
トラフルオロプロパノールに１wt% 以上溶解し、短時間
に良質なスピンコート膜を成膜することが可能である。

【００７３】また、塗布液には適宜バインダー、分散
剤、安定剤などを含有させてもよい。

【００７４】本発明の光記録媒体の記録層には本発明の
色素のほか、他の種類の光吸収色素を含有させてもよ
い。このような色素としては、シアニン系色素、上記と
は別種の金属錯体色素、スチリル系色素、ポリフィリン
系色素、上記とは別種のアゾ色素、ホルマザン金属錯体
などが挙げられる。このような場合には、塗布液中にこ
のような色素を含有させて記録層を設層すればよい。

【００７５】このような色素として、好ましくは、前記
の対アニオンとなる有機金属錯体の陰イオンの塩が挙げ
られる。式（Ａ）の陰イオンの塩についていえば、塩を
形成する際の対カチオンとしては、例えばテトラブチル
アンモニウムイオン等のアンモニウムイオン、Ｎａ⁺、
Ｋ⁺等のアルカリ金属イオンなどが好ましい。

【００７６】このような式（Ａ）の塩である有機金属錯
体の具体例を以下に示す。

【００７７】

【化１４】

【００７８】また、式（Ｂ−Ｉ）のアゾ化合物を配位子
とする金属錯体の陰イオンの塩が挙げられ、この場合の
対カチオンとしては、Ｎａ⁺ 、Ｌｉ⁺ 、Ｋ⁺ 等の無機系
陽イオン、Ｒ¹¹ Ｒ¹² Ｒ¹³ Ｒ¹⁴ Ｎ⁺ （ここで、Ｒ
¹¹ 、Ｒ¹² 、Ｒ¹³ およびＲ¹⁴ は各々水素原子、アルキ
ル基、アルコキシ基等を表す）で表されるアンモニウム
イオン、Ｒ¹¹ Ｒ¹² Ｒ¹³ Ｎ⁺ −（ＣＨ₂ ）_k −Ｎ⁺ Ｒ
¹³ Ｒ¹² Ｒ¹¹ （ここで、Ｒ¹¹ 、Ｒ¹² およびＲ¹³ は各
々水素原子、アルキル基、アルコキシ基等を表し、ｋは
５〜１０である）などがある。

【００７９】このような式（Ｂ−Ｉ）の塩である有機金
属錯体の具体例を以下に示す。

【００８０】

【化１５】

【００８１】さらに式（Ｂ−Ｉ）と類似の式（Ｂ−II）
で示されるアゾ化合物を配位子とする金属錯体も好まし
い。Ｑ₃−Ｎ＝Ｎ−Ｑ₄ （Ｂ−II）式（Ｂ−II）において、Ｑ₃は活性水素を有する基をジ
アゾ基の隣接位にもつ芳香環基を表し、Ｑ₄は金属原子
に配位可能なＮを環中のジアゾ基の結合する炭素原子の
隣接位に有する含窒素複素芳香環基を表す。

【００８２】式（Ｂ−II）について、さらに詳細に説明
すると、Ｑ₃で表される活性水素を有する基をもつ芳香
環基は、式（Ｂ−Ｉ）中のＱ₁、Ｑ₂と同義のものであ
る。

【００８３】Ｑ₄で表される金属原子に配位可能なＮを
環中に有する含窒素複素芳香環基における含窒素複素芳
香環としては、単環であっても縮合多環であってもよ
い。このような含窒素複素芳香環の具体例としてはピリ
ジン環、チアゾール環、ベンゾチアゾール環、オキサゾ
ール環、ベンゾオキサゾール環、キノリン環、イミダゾ
ール環、ピラジン環、ピロール環などが挙げられ、なか
でもピリジン環、キノリン環、チアゾール環が好まし
い。また、環中におけるＮの存在位置はアゾ基が結合す
る炭素原子の隣接位である。これらはＱ₁、Ｑ₂と同様に
置換基を有していてもよい。

【００８４】Ｑ₃、Ｑ₄の組合せとしては、ベンゼン環と
ピリジン環、ベンゼン環とチアゾール環、ベンゼン環と
キノリン環、等の組合せが好ましい。

【００８５】これらの金属錯体における中心金属はＣ
ｏ、バナジル、Ｎｉ、Ｃｕ等が好ましい。

【００８６】これらの金属錯体は、それ自体で電荷をも
たない化合物であるか、あるいは中心金属等によっては
プラスの電荷をもつ化合物である。プラスの電荷をもつ
化合物であるときの対イオンとしてはＣｌ^-、Ｂｒ^-、Ｉ
^-等のハロゲン化物イオン、ＣｌＯ₄ ^-、ＢＦ₄ ^-など、式
（Ｉ）のＸ^-のところで示した対アニオンと同様のもの
が挙げられる。

【００８７】その他については式（Ｂ−Ｉ）の場合と同
様である。

【００８８】以下に、これらの金属錯体の具体例を、ア
ゾ化合物と中心金属との組合せで示す。

【００８９】

【化１６】

【００９０】

【化１７】

【００９１】上記の金属錯体はいずれもクエンチャー機
能を有する化合物である。

【００９２】これらの化合物は１種のみを用いても２種
以上を併用してもよい。

【００９３】特にこのような有機金属錯体の添加は、式
（Ｉ）の色素の対アニオンが有機金属錯体の陰イオンで
ないときに、耐光性をより向上させる上で、有効であ
る。

【００９４】式（Ｉ）の色素と有機金属錯体との混合比
は、モル比で、式（Ｉ）の色素：有機金属錯体＝５：１
〜１：３が好ましい。

【００９５】本発明に用いられる塗布溶媒として、具体
的には、アルコール系（ケトアルコール系、エチレング
リコールモノアルキルエーテル系等のアルコキシアルコ
ール系を含む。）、脂肪族炭化水素系、ケトン系、エス
テル系、エーテル系、芳香族系、ハロゲン化アルキル系
等から適宜選択すればよい。

【００９６】このなかで、アルコール系、脂肪族炭化水
素系などが好ましい。アルコール系のなかでは、アルコ
キシアルコール系、ケトアルコール系などが好ましい。
アルコキシアルコール系は、アルコキシ部分の炭素原子
数が１〜４であることが好ましく、かつアルコール部分
の炭素原子数が１〜５、さらには２〜５であることが好
ましく、総炭素原子数が３〜７であることが好ましい。
具体的には、エチレングリコールモノメチルエーテル
（メチルセロソルブ）やエチレングリコールモノエチル
エーテル（エチルセロソルブ、エトキシエタノールとも
いう）やブチルセロソルブ、２−イソプロポキシ−１−
エタノール等のエチレングリコールモノアルキルエーテ
ル（セロソルブ）系や１−メトキシ−２−プロパノー
ル、１−メトキシ−２−ブタノール、３−メトキシ−１
−ブタノール、４−メトキシ−１−ブタノール、１−エ
トキシ−２−プロパノール等が挙げられる。ケトアルコ
ール系としてはジアセトンアルコール等が挙げられる。
さらには２，２，３，３−テトラフルオロプロパノール
などのフッ素化アルコールも用いることができる。

【００９７】脂肪族炭化水素系としては、ｎ−ヘキサ
ン、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン、エチルシ
クロヘキサン、シクロオクタン、ジメチルシクロヘキサ
ン、ｎ−オクタン、ｉｓｏ−プロピルシクロヘキサン、
ｔ−ブチルシクロヘキサンなどが好ましく、なかでもエ
チルシクロヘキサン、ジメチルシクロヘキサンなどが好
ましい。

【００９８】また、ケトン系としてはシクロヘキサノン
などが挙げられる。

【００９９】本発明では、特にエチレングリコールモノ
アルキルエーテル系等のアルコキシアルコール系が好ま
しく、なかでもエチレングリコールモノエチルエーテ
ル、１−メトキシ−２−プロパノール、１−メトキシ−
２−ブタノール等が好ましく、さらにはこれらの混合溶
媒であってもよく、例えばエチレングリコールモノエチ
ルエーテルと１−メトキシ−２−ブタノールの組合せの
ようなものが挙げられる。また、フッ素アルコールも好
ましく用いられる。

【０１００】本発明の光記録媒体の好ましい態様である
６３５nm、６５０nm程度の短波長で記録・再生を行う追
記型デジタルビデオディスク（ＤＶＤ−Ｒ）の構成例を
図１に示す。図１は部分断面図である。

【０１０１】図１で示されるように光記録ディスク１０
は、ＤＶＤ規格に対応した光記録ディスクであり、同様
な構造のディスク２枚の保護膜１５および保護膜２５同
士を貼り合わせて形成する。接着剤層５０の厚さは、１
０〜２００μm 程度である。この場合の基板（通常、ポ
リカーボネート樹脂）一枚当たりの厚さは０．６mmであ
り、グルーブ１２３を有する基板１２上に記録層１３、
反射層１４、保護膜１５を順次形成し、一方グルーブ２
２３を有する基板２２上に同様に記録層２３、反射層２
４、保護膜２５を形成し、上述のように貼り合わされて
得られるものである。貼り合わせの方法としては、ホッ
トメルト接着剤、遅効性ＵＶ接着剤、粘着シート等を利
用できる。

【０１０２】基板１２または２２は、ディスク状のもの
であり、基板１２または２２の裏面側からの記録および
再生を可能とするために、記録光および再生光（波長６
００〜６８０nm程度、さらには波長６３０〜６８０nm程
度、なかでも波長６３５〜６８０nm程度のレーザー光、
特に６３５nmまたは６５０nm）に対し、実質的に透明
（好ましくは透過率８８％以上）な樹脂あるいはガラス
を用いて形成するのがよい。また、大きさは、直径６４
〜２００mm程度、厚さ０．６mm程度のものとする。

【０１０３】基板１２または２２の記録層１３または２
３形成面には、図１に示すように、トラッキング用のグ
ルーブ１２３または２２３が形成される。グルーブ１２
３または２２３は、スパイラル状の連続型グルーブであ
ることが好ましく、深さは０．０５〜０．２０μm （５
００〜２０００Ａ）、幅は０．２０〜０．４０μm 、グ
ルーブピッチは０．６５〜０．８５μm であることが好
ましい。グルーブをこのような構成とすることにより、
グルーブの反射レベルを下げることなく、良好なトラッ
キング信号を得ることができる。特にグルーブ幅を０．
２０〜０．４０μm に規制することは重要であり、グル
ーブ幅を０．２μm 未満とすると、十分な大きさのトラ
ッキング信号が得られにくく、記録時のトラッキングの
わずかなオフセットによって、ジッターが大きくなりや
すい。またグルーブ幅が大きくなると波形ひずみが生じ
やすくなる。

【０１０４】基板１２または２２は、材質的には、樹脂
を用いることが好ましく、ポリカーボネート樹脂、アク
リル樹脂、アモルファスポリオレフィン、ＴＰＸ、ポリ
スチレン系樹脂等の各種熱可塑性樹脂が好適である。そ
して、このような樹脂を用いて射出成形等の公知の方法
に従って製造することができる。グルーブ１２３または
２２３は、基板１２または２２の成形時に形成すること
が好ましい。なお、基板１２または２２の製造後に２Ｐ
法等によりグルーブ１２３または２２３を有する樹脂層
を形成してもよい。また、場合によってはガラス基板を
用いてもよい。

【０１０５】図１に示されるように、基板１２または２
２に設層される記録層１３または２３は、前記の色素含
有塗布液を用い、前記のように、好ましくはスピンコー
ト法により形成されたものである。スピンコートは通常
の条件に従い、内周から外周にかけて、回転数を５００
〜５０００rpm の間で調整するなどして行えばよい。

【０１０６】このようにして形成される記録層１３また
は２３の厚さは、５０〜３００nm（５００〜３０００
Ａ）であり、記録光および再生光波長における複素屈折
率は実部ｎ＝２．０〜２．８、虚部ｋ＝０．４以下であ
る。

【０１０７】上記の範囲外の厚さでは反射率が低下し
て、良好な再生を行うことが難しくなる。

【０１０８】また、上記のようにｎ、ｋを規制すること
によって、良好な記録、再生が行える。ｋが０．４を超
えると、十分な反射率が得られない。ｎが２．０未満で
は信号の変調度が小さすぎる。ｎの上限には特に制限は
ないが、色素化合物の合成上の都合等から通常２．８程
度である。

【０１０９】なお、記録層のｎおよびｋは、所定の透明
基板上に記録層を例えば４０〜１００nm程度の厚さに実
際の条件にて設層して、測定用サンプルを作製し、次い
で、この測定用サンプルの基板を通しての反射率あるい
は記録層側からの反射率を測定することによって求め
る。この場合、反射率は、記録再生光波長（６３５nmま
たは６５０nm）を用いて鏡面反射（５°程度）にて測定
する。また、サンプルの透過率を測定する。そして、こ
れらの測定値から、例えば、共立全書「光学」石黒浩三
Ｐ１６８〜１７８に準じ、ｎ、ｋを算出すればよい。

【０１１０】図１に示されるように、記録層１３または
２３上には、直接密着して反射層１４または２４が設層
される。反射層１４または２４としては、Ａｕ、Ｃｕ、
Ａｌ、Ａｇ、ＡｇＣｕ等の高反射率金属ないし合金を用
いるのがよい。反射層１４または２４の厚さは５０nm
（５００A）以上であることが好ましく、蒸着、スパッ
タ等により設層すればよい。また、厚さの上限に特に制
限はないが、コスト、生産作業時間等を考慮すると、１
２０nm（１２００A）程度以下であることが好ましい。
これにより、反射層１４または２４単独での反射率は、
９０％以上となり、媒体の未記録部の基板を通しての反
射率は十分である。

【０１１１】図１に示されるように、反射層１４または
２４上には、保護膜１５または２５が設層される。保護
膜１５または２５は、例えば紫外線硬化樹脂等の各種樹
脂材質から、通常は、０．５〜１００μm 程度の厚さに
設層すればよい。保護膜１５または２５は、層状であっ
てもシート状であってもよい。保護膜１５または２５
は、スピンコート、グラビア塗布、スプレーコート、デ
ィッピング等の通常の方法により形成すればよい。

【０１１２】このような構成の光記録ディスク１に記録
ないし追記を行うには、例えば６３５nmあるいは６５０
nmの記録光を、基板１２または２２を通してパルス状に
照射し、照射部の光反射率を変化させる。なお、記録光
を照射すると、記録層１３または２３が光を吸収して発
熱し、同時に基板１２または２２も加熱される。この結
果、基板１２または２２と記録層１３または２３との界
面近傍において、色素等の記録層材質の融解や分解が生
じ、記録層１３と基板１２、あるいは記録層２３と基板
２２との界面に圧力が加わり、グルーブの底面や側壁を
変形させることがある。

【０１１３】

【実施例】以下、本発明の具体的実施例を比較例ととも
に示し、本発明をさらに詳細に説明する。

【０１１４】実施例１光記録層用色素として、色素Ｉ−１を用い、プリグルー
ブ（深さ０．１２μm、幅０．３０μm 、グルーブピッ
チ０．７４μm ）を有する直径１２０ｍｍ、厚さ０．６
ｍｍのポリカーボネート樹脂基板上に、スピンコート法
により色素を含有する記録層を１０００A （１００nm）
の厚さに形成した。この場合の塗布液として、１．０wt
%の２，２，３，３−テトラフルオロプロパノール溶液
を用いた。次に、この記録層にＡｕ反射層を８５０A の
厚さにスパッタ法により形成し、さらに紫外線硬化型の
アクリル樹脂の透明な保護膜（膜厚５μm ）を形成し
た。同様にして形成したディスク２枚の保護膜を内側に
して接着剤で貼り付けてディスクを作製した（図１参
照）。

【０１１５】これをサンプルNo.１とする。

【０１１６】また、サンプルNo.１において、記録層用
の色素として、色素Ｉ−１のかわりに、表１に示すよう
な色素あるいは色素混合物をそれぞれ用いるほかは同様
にしてサンプルを作製した（表１）。

【０１１７】なお、表１中のサンプルNo.１０、１３、
１５は、表１の組合せで、式（Ｉ）の色素と有機金属錯
体との混合比がモル比で式（Ｉ）の色素：有機金属錯体
＝７：３となるような色素混合物を用いたものである。

【０１１８】このようにして作製したサンプルに対し、
レーザー光６３５nmを使用して線速３．５ｍ／ｓで信号
を記録し、次にこのディスクを線速３．５m/sの６５０n
mレーザー光で再生し、特性を評価した。なお、レンズ
孔径ＮＡ＝０．６０であった。特性は６５０nmでの反射
率、変調度（１４ＴＭｏｄ．）、ジッター（Ｊｉｔｔｅ
ｒ）、６３５nmでの最適記録パワー（Ｐ0 ）について評
価した。

【０１１９】結果を表１に示す。

【０１２０】

【表１】

【０１２１】表１の結果より、反射率、変調度、ジッタ
ー共に良好であることがわかる。

【０１２２】さらに、上記のサンプルNo.１〜１５につ
いて耐光性を調べた。耐光性は８万ルックスのキセノン
ランプ（島津社製キセノンフェードメーター）を４０時
間照射した後の、ディスクのジッターを測定することに
よって調べた。

【０１２３】この結果、サンプルNo.１〜１５について
はジッターの変化は少なかった。また、サンプルNo.１
〜５、１３、１５については、サンプルNo.６〜１２、
１４に比べジッターの変化は大きかったが、以下の比較
例１に示すトリメチンシアニン色素を用いたサンプルよ
りも良化したレベルであった。特に塩形成色素を用いた
サンプルNo.６〜１２、１４で良好な結果が得られ、さ
らには好ましい構造の対アニオンを有する色素（Ｉ−６
〜Ｉ−８、Ｉ−１０、Ｉ−１２、Ｉ−１４）を用いたサ
ンプルでジッターは全く変化しなかった。

【０１２４】さらに、上記のサンプルNo.１〜１５につ
いて、８０℃８０％ＲＨ１００時間の信頼性試験を行っ
た。

【０１２５】この結果、サンプルNo.６〜１２、１４に
ついては特性の劣化がなかった。また、サンプルNo.１
〜５、１３、１５については上記サンプルに比べ、特性
の劣化が大きかったが、以下の比較例１に示すトリメチ
ンシアニン色素を用いたサンプルよりも良化したレベル
であった。

【０１２６】比較例１シアニン色素Ｔ１（下記）を使用したこと以外は実施例
１と同様にディスクサンプルを作製した。作製したサン
プルの評価では、十分な耐光性が得られず、再生時のジ
ッターの劣化が大きかった。信頼性試験でも、変調度、
ジッターの劣化が大きかった。

【０１２７】

【化１８】

【０１２８】比較例２ローダミン色素Ｒ１（下記）を使用したこと以外は実施
例１と同様にディスクサンプルを作製した。作製したサ
ンプルの評価では、感度が悪く記録できなかった。

【０１２９】

【化１９】

【０１３０】

【発明の効果】本発明によれば、溶解性に優れたキサン
テン系色素を光吸収層として用いることにより、記録感
度と反射率と変調度のバランスに優れ、記録感度が高く
ジッターが小さいなどの特性に優れた光記録媒体が得ら
れる。特に、キサンテン系色素として、キサンテン系色
素カチオンと有機金属錯体のアニオンとの塩形成色素を
用いた場合、耐光性、信頼性が向上する。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の光ディスクの一例を示す部分断面図で
ある。

【符号の説明】

１０光記録ディスク１２、２２基板１２３、２２３グルーブ１３、２３記録層１４、２４反射層１５、２５保護膜５０接着層

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者門田敦志東京都中央区日本橋一丁目13番１号ティーディーケイ株式会社内Ｆターム(参考） 2H111 EA03 EA12 EA22 EA25 EA33 EA37 EA39 EA43 EA44 FA01 FA12 FA37 FB42 FB63 2H123 AE07 4H056 BA02 BB05 BC01 BC04 BD01 BD03 BD05 FA05 5D029 JA04 JC17 JC20

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】記録および再生光の波長が６８０nm以下
であり、基板上に色素を含有する記録層を有し、この記
録層上に反射層を有し、光を照射することによってピッ
トを形成して記録を行う光記録媒体において、前記記録層が、下記式（Ｉ）で表される色素を含有する
ことを特徴とする光記録媒体。【化１】［式（Ｉ）において、Ａは、それが結合している２つの
炭素原子と一緒になって複素環を形成する原子団を表
し、Ｙは、カルボン酸基、カルボン酸エステル基、カル
バモイル基、スルホン酸基、スルホン酸エステル基また
はスルファモイル基を表す。Ｒ₁、Ｒ₂、Ｒ₅、Ｒ₆、Ｒ₉
およびＲ₁₀は、各々独立に水素原子、ハロゲン原子、ア
ミノ基、スルホンアミド基、アミド基、カルバモイル
基、ニトロ基、スルホン酸エステル基、カルボン酸エス
テル基、ニトリル基または炭素数１６以下のアルキル
基、アルコキシ基もしくはアルケニル基を表す。Ｒ₃、
Ｒ₄、Ｒ₇およびＲ₈は、各々独立に水素原子、ハロゲン
原子、アリール基、複素環基または炭素数１６以下のア
ルキル基もしくはアルコキシ基を表す。Ｒ₁とＲ₂、Ｒ₂
とＲ₃、Ｒ₃とＲ₄、Ｒ₄とＲ₅、Ｒ₆とＲ₇、Ｒ₇とＲ₈、Ｒ₈
とＲ₉、Ｒ₉とＲ₁₀は、各々互いに結合して環を形成して
もよい。Ｘ^-は対アニオンを表す。］
【請求項２】式（Ｉ）中のＸ^-で表される対アニオン
が有機金属錯体のアニオンである請求項１の光記録媒
体。
【請求項３】式（Ｉ）中のＡがそれが結合している２
つの炭素原子と一緒になってピリジン環を形成する請求
項１または２の光記録媒体。
【請求項４】記録層が、さらに有機金属錯体の色素を
含有する請求項１〜３のいずれかの光記録媒体。