JP2000180677A - 偏波保持光ファイバの保護構造 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 温度変化などによって、特に低温時にクロス
トークが劣化しにくい偏波保持光ファイバの保護構造を
提供する。 【解決手段】 裸光ファイバ１の上に被覆層５が設けら
れてなる偏波保持光ファイバの途中の被覆層５が除去さ
れ、裸光ファイバ１が露出した部分がパイプ状の基材２
３内に収納され、所定の接着位置で接着、固定された偏
波保持光ファイバの保護構造において、接着位置に充填
された接着剤１４、基材２３の長さ方向に直交する断面
において、偏波保持光ファイバ（被覆層５）の周囲また
は裸光ファイバ１の周囲と、前記基材２３の内壁２３ｃ
全体に接着していることを特徴とする偏波保持光ファイ
バの保護構造を構成する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、偏波保持光ファイ
バの保護構造に関し、特に、偏波保持光ファイバのクロ
ストークの劣化を抑制できるものである。

【０００２】

【従来の技術】本発明において、偏波保持光ファイバと
は、偏波保持構造を有する裸光ファイバの上にプラスチ
ック製の被覆層が設けられてなる光ファイバ素線、光フ
ァイバ心線などを包含するものとする。図７は、偏波保
持光ファイバの一例であるパンダファイバの裸光ファイ
バの断面図を示したものである。この裸光ファイバ１
は、高屈折率のコア２と、このコア２の周囲に設けられ
た、コア２よりも低屈折率のクラッド３と、このクラッ
ド３内に、前記コア２を中心に対称配置され、かつ前記
クラッド３よりも低屈折率の断面円形の応力付与部４，
４とからなる偏波保持構造を有している。

【０００３】一般に、コア２、クラッド３および応力付
与部４の材料としては、それぞれ、ゲルマニウムが添加
された石英ガラス、純石英ガラス、比較的ホウ素が大量
に添加された石英ガラスが用いられる。応力付与部４，
４は、応力付与部４，４の中心を通るＸ軸方向と、これ
に直交するＹ軸方向において、コア２に非軸対称の応力
を印加するものである。Ｘ軸方向においては、図中矢印
で示したように、コア２に対して引張応力が印加され、
Ｙ軸方向においては、相対的にコア２に対して圧縮応力
が印加されている。そして、この応力の非軸対称性によ
って付与される異方性の理想的なバランスによって、偏
波保持特性が得られる。

【０００４】このような偏波保持光ファイバの偏波保持
特性を利用した光ファイバ形デバイスとして、偏波保持
光ファイバグレーティング、偏波ビームスプリッタ、偏
波保持光ファイバカプラなどが提案されている。偏波保
持光ファイバグレーティングは、波長フィルタとして使
用されるデバイスであり、偏波ビームスプリッタは、直
交する偏波の分離、結合を行うデバイスであり、偏波保
持光ファイバカプラは、偏波面を保ったまま光の分岐、
結合を行うデバイスである。これらのデバイスは偏波保
持光ファイバの途中の被覆層を除去して裸光ファイバを
露出させ、この部分に加工を施したものである。よっ
て、この裸光ファイバが露出した部分を適当な基材内に
収納し、固定した保護構造を構成するのが通常である。

【０００５】図８〜１０は、従来の偏波保持光ファイバ
グレーティング（以下、光ファイバグレーティングと略
記する。）の保護構造の一例を示したものである。図８
は、基材本体と蓋とを一体化する際の操作を示した一部
側断面図、図９は基材本体に光ファイバグレーティング
を固定した状態を示した平面図、図１０は図８、図９中
のＡ−Ａにおける断面図である。

【０００６】この光ファイバグレーティング８は、例え
ば図７に示したような偏波保持構造を有する裸光ファイ
バ１の上に紫外線硬化型樹脂などからなる被覆層５が設
けられた光ファイバ素線（偏波保持光ファイバ）６の途
中の被覆層５を除去し、この部分にグレーティング部７
を形成したものである。グレーティング部７は、特定波
長の光を選択的に損失させる特性を有し、例えば、裸光
ファイバ１の長さ方向にそって、そのコアに周期的な摂
動の変化が形成されたものである。この摂動の変化と
は、例えば、コアの外径やコアの屈折率変化などであ
る。屈折率変化は、例えば、ゲルマニウムが添加された
石英ガラスに特定波長の紫外線を照射すると屈折率が上
昇する現象を利用して形成される。すなわち、コアに、
その長さ方向において周期的に紫外線を照射し、この紫
外線を照射した部分の屈折率を上昇させて形成すること
ができる。

【０００７】一方、この例の基材１３は、内部に中空部
を有する断面円形のパイプ状のものであり、断面半円形
の半割れ管状の基材本体１１と蓋１２とからなる。基材
１３の材料は、温度変化などによって発生する基材１３
の膨張、収縮の裸光ファイバ１への影響を低減するた
め、裸光ファイバ１の材料の線膨張係数と近い値を有す
るものが用いられる。例えば、石英ガラスなどである。

【０００８】そして、この基材本体１１の凹部１１ａ
に、光ファイバグレーティング８をおさめ、グレーティ
ング部７の両側の、被覆層５，５の終端と、これらに隣
接する裸光ファイバ１を露出させた部分の一部とを含む
２箇所の接着位置において、この光ファイバグレーティ
ング８を基材本体１１に接着剤１４，１４によって固定
する。接着剤１４，１４としては、例えば紫外線硬化型
接着剤が用いられ、この未硬化の接着剤を注射器などで
前記接着位置に注入し、さらに紫外光を照射して硬化さ
せる。ついで、基材本体１１の接合部１１ｂ，１１ｂと
蓋１２の接合部１２ｂ，１２ｂとを、例えば未硬化の紫
外線硬化型接着剤を介して一体化し、紫外線を照射して
この接着剤を硬化し、基材本体１１と蓋１２とを接着、
固定することにより、基材１３内に光ファイバグレーテ
ィング８が接着、固定された保護構造を完成する。

【０００９】図１１〜１３は、従来の融着延伸型の偏波
保持光ファイバカプラ（以下、光ファイバカプラと略記
する。）の保護構造の一例を示したもので、図１１は、
基材固定前の光ファイバカプラと基材を示した斜視図、
図１２は、基材本体に光ファイバカプラを固定した状態
を示した平面図、図１３は、基材本体と蓋とを一体化す
る際の操作を示した、図１２中のＢ−Ｂにおける断面図
である。図８〜１０に示したものと同様の構成について
は、同符号を付して説明を省略する。

【００１０】この光ファイバカプラ１０は、例えば以下
のようにして製造したものである。すなわち、２本の光
ファイバ素線６，６の途中の被覆層５，５を引き剥し、
裸光ファイバ１，１を露出させる。そして、その両側の
被覆層５，５を把持し、裸光ファイバ１，１を露出させ
た部分の位置を揃えて２本の光ファイバ素線６，６を並
列させる。ついで、裸光ファイバ１，１の中央を、ガス
バーナー、電気ヒーターなどを用いて加熱し、融着させ
て融着部を形成する。さらに、長さ方向に引っ張って前
記融着部を延伸し、融着延伸部９を形成すると、この融
着延伸部９の中央付近に光結合部が形成され、光ファイ
バカプラ１０が得られる。この光ファイバカプラ１０に
おいては、例えば１本の光ファイバ素線６に特定波長の
光を入射すると、融着延伸部９の光結合部において、こ
の光の一部が他方の裸光ファイバ１に結合することによ
り、光が分波する。そして、出射側の２本の光ファイバ
素線６，６の双方から前記特定波長の光が出射する作用
が得られる。

【００１１】この光ファイバカプラ１０においても、融
着延伸部９を含む部分は裸光ファイバ１，１が露出して
いるため、上述の光ファイバグレーティングと同様の基
材１３に収納して保護するのが通常である。すなわち、
上述の光ファイバグレーティングを基材に固定する操作
と同様にして、融着延伸部９の両側の、被覆層５，５の
終端と、これに隣接する裸光ファイバ１が露出した部分
の一部とを含む２箇所の接着位置において、光ファイバ
カプラ１０を基材本体１１に接着剤１４，１４によって
固定する。ついで、基材本体１１と蓋１２とを一体化
し、接着、固定して完成する。

【００１２】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、従来の
偏波保持光ファイバの保護構造においては、温度などの
環境変化によって偏波保持光ファイバの偏波保持特性が
低下し、クロストークが劣化するという問題があった。
特に低温時において、この問題が発生することが多かっ
た。本発明は前記事情に艦みてなされたもので、温度変
化などによってクロストークが劣化しにくい偏波保持光
ファイバの保護構造を提供することを課題とする。特に
低温度時に、クロストークが劣化しにくい偏波保持光フ
ァイバの保護構造を提供することを目的とする。

【００１３】

【課題を解決するための手段】本発明者らが前記課題を
解決するために鋭意検討した結果、上述の問題は、以下
のような偏波保持光ファイバへの不均一な応力印加によ
って起こることがわかった。すなわち、接着剤の線膨張
係数は裸光ファイバの材料の線膨張係数よりもかなり大
きいため、この接着剤の膨張、収縮によって偏波保持光
ファイバ（裸光ファイバ）に応力がかかる。図１０、１
３に示されているように、基材１３の長さ方向に直交す
る断面において、接着剤１４は、基材本体１１の内壁１
１ｃに接着している。このため、接着剤１４が、その硬
化時に硬化収縮したり、温度変化などによって膨張、収
縮する場合に、内壁１１ｃ側の接着剤１４は、内壁１１
ｃによって引き留められる。一方、基材本体１１の開口
部１１ｄ側において、接着剤１４は他の部材に接着して
いない。このため、開口部１１ｄ側の接着剤１４は、そ
の膨張、収縮が妨げられず、比較的大きな体積変化を生
じる。この結果、接着剤１４の膨張、収縮によって被覆
層５および裸光ファイバ１の周囲からかかる内壁１１ｃ
側からの応力と開口部１１ｄ側からの応力が不均一とな
る。

【００１４】上述のように、偏波保持光ファイバのコア
に対しては、図７に示したようにＸ軸方向においては引
張応力が印加され、相対的にＹ軸方向においては圧縮応
力が印加されており、これらの応力の異方性の理想的な
バランスによって偏波保存作用が得られる。したがっ
て、上述のような被覆層５および裸光ファイバ１の周囲
からの不均一な応力の印加により、この引張応力と圧縮
応力との理想的なバランスが崩れ、偏波保持特性が低下
し、クロストークが劣化するのである。このように応力
のバランスが崩れることに起因するクロストークの劣化
は偏波保持光ファイバ独特の現象であり、１本の偏波保
持光ファイバからなる光ファイバグレーティングにおい
ても、２本以上並列された偏波保持光ファイバからなる
光ファイバカプラなどにおいても同様である。

【００１５】特に低温時にクロストークが発生しやすい
のは、以下のような理由による。接着剤１４は、その硬
化時に硬化収縮する。すると、被覆層５および裸光ファ
イバ１の周囲から圧縮応力がかかり、この応力は、接着
剤１４のさらなる体積変化がない限り、保持される。そ
して、接着剤１４が低温時に熱収縮すると、接着剤１４
の硬化収縮時の応力と熱収縮による応力との合計が偏波
保持光ファイバにかかることになる。このように低温時
に大きな応力がかかることにより、偏波保持光ファイバ
のクロストークの劣化を誘発するのである。

【００１６】この検討結果から、前記課題を解決するた
めに、本発明においては、偏波保持構造を有する裸光フ
ァイバの上にプラスチック製の被覆層が設けられてなる
偏波保持光ファイバの途中の被覆層が除去され、裸光フ
ァイバが露出した部分がパイプ状の基材内に収納され、
所定の接着位置で接着、固定された偏波保持光ファイバ
の保護構造において、接着位置に充填された接着剤が、
基材の長さ方向に直交する断面において、偏波保持光フ
ァイバの周囲または裸光ファイバの周囲と、前記基材の
内壁全体に接着していることを特徴とする偏波保持光フ
ァイバの保護構造を提案する。また、前記接着位置は、
前記裸光ファイバが露出した部分の両側の被覆層の終端
と、これに隣接する裸光ファイバが露出した部分の一部
とを含むと好ましい。

【００１７】

【発明の実施の形態】まず、本発明の第１の例として偏
波保持光ファイバグレーティングの保護構造について説
明する。図１は光ファイバグレーティングを基材に固定
する操作を示した平面図、図２は光ファイバグレーティ
ングを基材に固定した状態を示したもので、図２（ａ）
は図２（ｂ）に示したＣ−Ｃにおける断面図、図２
（ｂ）は一部側断面図である。光ファイバグレーティン
グは、図８〜１０に示したものと同様のものである。以
下、図８〜１０を参照しながら説明する。

【００１８】基材２３は、断面半円形の半割れ管状の基
材本体２１と、長方形板状の蓋２２とからなる断面半円
状のパイプ状のもので、基材本体２１の凹部２１ａと蓋
２２の内壁２２ｃとからなる基材２３の外形と相似形の
中空部２３ａを有している。この例において、基材本体
２１の内径（開口部２１ｄの幅）Ｄは１０００μｍ、外
径Ｅは３０００μｍである。すなわち、凹部２１ａの深
さＦは５００μｍである。また、蓋２２の幅Ｇは３００
０μｍ、厚さＨは１０００μｍである。基材２３の材料
は、温度変化などによる基材２３の膨張、収縮の裸光フ
ァイバ１への影響を低減するため、裸光ファイバ１の材
料の線膨張係数と近い線膨張係数を有するものが用いら
れる。例えば、石英ガラスなどである。石英ガラスを用
いると、後述するように蓋２２の上方から紫外光を照射
することによって、蓋２２の下方に位置する未硬化の紫
外線硬化型接着剤を硬化させることができるため、好ま
しい。

【００１９】また、この例において、裸光ファイバ１の
外径１２５μｍ、光ファイバ素線６の外径は４００μｍ
である。光ファイバグレーティング８の被覆層５を除去
した部分の長さやグレーティング部７の長さは、光ファ
イバグレーティング８の特性などによって適宜調整され
る。よって、基材２３の長さも、これらのサイズによっ
て調整される。

【００２０】この基材２３に光ファイバグレーティング
８を固定するにおいては、まず、基材本体２１の凹部２
１ａに、グレーティング部７の両側の被覆層５，５の終
端が凹部２１ａ内の基材本体２１の長さ方向の両端部付
近に位置するようにして光ファイバグレーティング８を
収める。ついで、グレーティング部７の両側の、被覆層
５，５の終端と、これに隣接する裸光ファイバ１を露出
させた部分の一部とを含む２箇所の接着位置において、
以下のようにして光ファイバグレーティング８を接着剤
１４，１４によって基材本体２１に固定する。

【００２１】この光ファイバグレーティング８の接着位
置は、光ファイバグレーティング８の特性に影響しない
位置であれば、これら２箇所に限定するものではなく、
また、接着位置の数も、限定するものではない。しかし
ながら、少なくとも上述のように被覆層５，５の終端と
これに隣接する露出した裸光ファイバ１の一部を一体に
固定すると、より安定に光ファイバグレーティング８を
固定することができるため、好ましい。

【００２２】この例において、接着剤１４，１４は、硬
化収縮率：約３％、線膨張係数：約５×１０^-5の紫外線
硬化型接着剤である。まず、上述の接着位置に注射器な
どで未硬化の接着剤１４，１４を注入する。この接着剤
１４の注入量は、基材本体２１と蓋２２とを一体化した
ときに、基材２３の長さ方向に直交する断面において、
基材２３内の接着剤１４の周囲全体が、基材本体２１の
内壁２１ｃと蓋２２の内壁２２ｃとに隙間無く接触する
ように、十分な量に設定する。

【００２３】ついで、基材本体２１と蓋２２とを、これ
らの接合部２１ｂ，２２ｂに、例えば未硬化の紫外線硬
化型接着剤を塗布して一体化する。さらに、蓋２２の上
方から、接着剤１４を注入した箇所に蓋２２を介して紫
外光を照射し、接着剤１４を硬化する。すると、接着剤
１４は、接着位置の裸光ファイバ１の周囲および被覆層
５の周囲と、基材本体２１の内壁２１ｃおよび蓋２２の
内壁２２ｃとに接着する。すなわち、基材２３の長さ方
向に直交する断面において、接着剤１４の周囲は基材２
３の内壁２３ｃ全体に接着する。

【００２４】ついで、基材本体２１と蓋２２との接合部
２１ｂ，２２ｂにも蓋２２を介して紫外光を照射して、
この部分に塗布した紫外線硬化型接着剤を硬化させ、固
定する。

【００２５】このようにして得られた保護構造において
は、接着剤１４による接着位置において、パイプ状の基
材２３の中空部２３ａ内の偏波保持光ファイバの周囲
（被覆層５の周囲）あるいは裸光ファイバ１の周囲と、
基材２３の内壁２３ｃとの間に、隙間無く接着剤１４が
充填されている。すなわち、基材２３の長さ方向に直交
する断面において、接着剤１４の周囲は基材２３の内壁
２３ｃ全体に接着している。換言すれば、接着剤１４の
周囲全体が内壁２３ｃによって支持されている。

【００２６】よって、接着剤１４が硬化する際において
も、環境温度が高温、あるいは低温になる場合において
も、接着剤１４の周囲は内壁２３ｃによって均等に引き
留められているため、裸光ファイバ１および被覆層５の
周囲からかかる応力が均一になる。また、この接着剤１
４の周囲全体からの内壁２３ｃによる引き留めによっ
て、接着剤１４の体積変化自体が抑制され、裸光ファイ
バ１および被覆層５にかかる応力が小さくなるという効
果がある。この結果、低温時、高温時に限らず、全温度
範囲において、接着剤１４の体積変化が起こりにくく、
上述の図７に示したように、Ｘ軸方向とＹ軸方向におけ
る引張応力と圧縮応力との理想的なバランスを維持する
ことができ、クロストークの劣化を抑制することができ
る。

【００２７】つぎに、第２の例について説明する。第２
の例において第１の例と異なるのは、固定するデバイス
が光ファイバカプラである点である。この例の光ファイ
バカプラは、図１１〜１３に示したものと同様のもので
あり、また、光ファイバカプラの接着位置も、図１２と
同様である。図３、図４は、光ファイバカプラを固定す
る操作と固定した状態をそれぞれ示したものである。図
３は、図１に示した第１の例と同様の平面図である。図
４は、図２（ａ）と同様の断面図である。

【００２８】すなわち、図１、図２（ａ）、図２（ｂ）
に示した方法と同様にして、光ファイバカプラ１０を、
融着延伸部９の両側の被覆層５，５の終端が凹部２１ａ
内の基材本体２１の端部付近に位置するように基材本体
２１におさめる。そして、融着延伸部９の両側の、被覆
層５の終端と、これに隣接する裸光ファイバ１が露出し
た部分の一部を含む２箇所の接着位置に未硬化の接着剤
１４，１４をそれぞれ注入する。このとき、並列された
２本の裸光ファイバ１，１および被覆層５，５は一体に
固定するようにする。ついで、基材本体２１と蓋２２と
を未硬化の紫外線硬化型接着剤を介して一体化する。さ
らに、接着剤１４，１４と基材本体２１と蓋２２の接合
部２１ｂ，２２ｂに塗布した紫外線硬化型接着剤とを、
蓋２２を介して照射する紫外光によって硬化させ、完成
する。

【００２９】この例において、基材２３の材料およびサ
イズ、接着剤１４の種類、偏波保持光ファイバ（光ファ
イバ素線）６のサイズなどは、上述の第１の例と同様で
ある。また、光ファイバカプラ１０の被覆層５を除去し
た部分の長さや融着延伸部９の長さは、光ファイバカプ
ラ１０の特性などによって適宜調整される。よって、基
材２３の長さも、これらのサイズによって調整される。

【００３０】この例においても、図３に示したように、
光ファイバカプラ１０の接着位置において、偏波保持光
ファイバの周囲（被覆層５の周囲）または裸光ファイバ
１の周囲と基材２３の内壁２３ｃとの間に隙間なく接着
剤１４が充填され、硬化されており、接着剤１４の周囲
全体が基材２３の内壁２３ｃ全体に接着している。この
ため、上述の第１の例と同様の効果を得ることができ
る。この例においては、光ファイバカプラ１０は２本の
偏波保持光ファイバ（光ファイバ素線）６から構成され
ているが、３本以上からなるものであっても適用可能で
ある。

【００３１】また、上述の第１ないし第２の例において
は、偏波保持光ファイバは、図７に示したパンダファイ
バに限らず、ボータイファイバ、楕円ジャケットファイ
バなどの公知のものを用いることができる。さらに、基
材２３の断面形状は、裸光ファイバ１および被覆層５の
周囲と基材２３の内壁２３ｃとの間に接着剤１４を隙間
なく充填することができればよく、上述のような半円形
に限るものではない。

【００３２】このように、本発明の偏波保持光ファイバ
の保護構造は、上述の偏波保持光ファイバグレーティン
グ、偏波保持光ファイバカプラ、あるいは偏波ビームス
プリッタなどのように、被覆層を除去して裸光ファイバ
を露出させ、この裸光ファイバが露出した部分を加工し
た光ファイバ形デバイスの保護に適している。

【００３３】

【実施例】以下、本発明を実施例を示して詳しく説明す
る。 （実施例）上述の第１の例と同様にして、途中の被覆層
を除去した１本の偏波保持光ファイバ（光ファイバ素
線）を、接着剤にて基材に固定して偏波保持光ファイバ
の保護構造を構成した。偏波保持光ファイバは、図７に
示したパンダファイバを用いた。本実施例はクロストー
クの測定が目的なので、偏波保持光ファイバにグレーテ
ィングは形成しなかった。また、基材は石英ガラスから
形成した。同様のサンプルを３つ作成し、波長１．５５
μｍでのクロストークを測定した（実施例１〜３）。こ
のとき、それぞの実施例について、−４０℃、−２０
℃、２０℃の順に温度条件を変化させながら測定した。
結果を図５にグラフで示した。この結果、測定温度範囲
におけるクロストークの温度依存性は３ｄＢ以下であっ
た。また、クロストークが−２５ｄＢをこえたものはな
かった。

【００３４】（比較例）図８〜１０に示した偏波保持光
ファイバの保護構造を構成した。偏波保持光ファイバお
よび接着剤は実施例と同様のものを用いた。また、基材
は、実施例の基材本体と同様のものを、ふたつ一体化し
て断面円形のパイプ状に構成した。同様のサンプルを３
つ作成し、実施例と同様にしてクロストークを測定した
（比較例１〜３）。結果を図６にグラフで示した。この
結果、この温度範囲におけるクロストークの温度依存性
は５〜１０ｄＢであった。また、全比較例において、ク
ロストークが−２５ｄＢをこえた。

【００３５】これらの実施例、比較例の結果より、本発
明に係る実施例においは、偏波保持光ファイバのクロス
トークの温度依存性が小さく、低温においても安定した
特性が得られることが確認できた。また、この実施例に
おいては、１本の偏波保持光ファイバを固定した実験を
行ったが、偏波保持光ファイバのクロストークの劣化
は、上述のように応力の異方性のバランスが崩れること
によって起こるので、２本以上の偏波保持光ファイバを
固定する光ファイバカプラなどにおいても同様の結果が
得られることは言うまでもない。

【００３６】

【発明の効果】以上説明したように、本発明は、偏波保
持光ファイバの保護構造の特有の問題を解決したもので
あって、基材の長さ方向に直交する断面において、接着
剤の周囲が基材の内壁全体に接着しており、接着剤の周
囲全体が内壁によって支持されている。このため、接着
剤の硬化時においても、環境温度が高温、あるいは低温
になる場合においても、接着剤の周囲が内壁によって均
等に引き留められているため、偏波保持光ファイバを構
成する裸光ファイバおよび被覆層の周囲からかかる応力
が均一になる。また、この接着剤の周囲全体からの内壁
による引き留めによって、接着剤の体積変化自体が抑制
され、裸光ファイバおよび被覆層にかかる応力が小さく
なるという効果がある。この結果、低温時、高温時に限
らず、全温度範囲において、接着剤の体積変化が起こり
にくく、偏波保持特性を付与する引張応力と圧縮応力と
の理想的なバランスを維持することができ、クロストー
クの劣化を抑制することができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】 本発明の第１の例における光ファイバグレ
ーティングを基材に固定する操作を示した平面図であ
る。

【図２】 本発明の第１の例における光ファイバグレ
ーティングを基材に固定した状態を示したもので、図２
（ａ）は図２（ｂ）に示したＣ−Ｃにおける断面図、図
２（ｂ）は一部側断面図である。

【図３】 本発明の第２の例における光ファイバカプ
ラを固定する操作を示した図１に示した第１の例と同様
の平面図である。

【図４】 本発明の第２の例における光ファイバカプ
ラを固定した状態を示した、図２（ａ）と同様の断面図
である。

【図５】 実施例の結果を示したグラフである。

【図６】 比較例の結果を示したグラフである。

【図７】 偏波保持光ファイバの一例であるパンダフ
ァイバの裸光ファイバの断面図である。

【図８】 従来の偏波保持光ファイバグレーティング
の保護構造の一例を示したもので、基材本体と蓋とを一
体化する際の操作を示した一部側断面図である。

【図９】 従来の偏波保持光ファイバグレーティング
の保護構造の一例を示したもので、基材本体に光ファイ
バグレーティングを固定した状態を示した平面図であ
る。

【図１０】 図８、９中のＡ−Ａにおける断面図であ
る。

【図１１】 従来の融着延伸型の偏波保持光ファイバカ
プラの保護構造の一例を示したもので、基材固定前の光
ファイバカプラと基材を示した斜視図である。

【図１２】 従来の融着延伸型の偏波保持光ファイバカ
プラの保護構造の一例を示したもので、基材本体に光フ
ァイバカプラを固定した状態を示した平面図である。

【図１３】 図１２中のＢ−Ｂにおける断面図である。

【符号の説明】

１…裸光ファイバ、５…被覆層、６…偏波保持光ファイ
バ（光ファイバ素線） ７…グレーティング部、８…偏波保持光ファイバグレー
ティング、９…融着延伸部、１０…偏波保持光ファイバ
カプラ、１４…接着剤、２３…基材、２３ａ…中空部、
２３ｃ…内壁。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 山内 良三 千葉県佐倉市六崎1440番地 株式会社フジ クラ佐倉工場内 Ｆターム(参考） 2H050 AC43 AC44 AC82 AC84 AD00 BC11 BC12 BD03 BD07

Claims (2)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 偏波保持構造を有する裸光ファイバの上
   にプラスチック製の被覆層が設けられてなる偏波保持光
   ファイバの途中の被覆層が除去され、裸光ファイバが露
   出した部分がパイプ状の基材内に収納され、所定の接着
   位置で接着、固定された偏波保持光ファイバの保護構造
   において、 接着位置に充填された接着剤が、基材の長さ方向に直交
   する断面において、偏波保持光ファイバの周囲または裸
   光ファイバの周囲と、前記基材の内壁全体に接着してい
   ることを特徴とする偏波保持光ファイバの保護構造。
2. 【請求項２】 前記接着位置が、前記裸光ファイバが露
   出した部分の両側の被覆層の終端と、これに隣接する裸
   光ファイバが露出した部分の一部とを含むことを特徴と
   する請求項１記載の偏波保持光ファイバの保護構造。