JP2000007590A

JP2000007590A - 置換芳香族化合物の製造方法

Info

Publication number: JP2000007590A
Application number: JP10176467A
Authority: JP
Inventors: Akio Baba; 章夫馬場
Original assignee: Daicel Chemical Industries Ltd
Current assignee: Daicel Corp
Priority date: 1998-06-23
Filing date: 1998-06-23
Publication date: 2000-01-11

Abstract

(57)【要約】（修正有）【課題】芳香族化合物とアルデヒド類またはケトン類
とを温和な反応条件で反応させ置換芳香族化合物を得
る。【解決手段】式１で表されるけい素化合物の存在下、
ルイス酸を触媒として、式２で表されるケトンまたはア
ルデヒド、または式３で表されるアセタールまたはケタ
ールと、芳香族化合物を反応させることを特徴とする、
式４で表される置換芳香族化合物の製造方法。（式中、Ｒ^１は、置換されてもよい低級アルキル基、低
級アルケニル基または芳香環基を意味し、Ｒ^２は、水素
原子または置換されてもよい低級アルキル基、低級アル
ケニル基または芳香環基を意味する。また、Ａｒは、置
換されてもよい芳香環を意味する。）

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は芳香族化合物とアル
デヒド類またはケトン類とを温和な反応条件で反応させ
置換芳香族化合物の製造方法に関するものである。

【０００２】

【従来の技術】アルキル化剤としてハロゲン化アルキル
類、アルコール類、アルケン類またはエーテル類を用い
るフリーデル−クラフツ（Friedel-Crafts）のアルキル
化は、炭素−炭素結合生成のための最も有効な方法であ
ることが知られている。酸触媒を用いたベンゼンとベン
ズアルデヒドとのフリーデル−クラフツ反応は、数十年
前から知られている。これまで、カルボニル化合物は、
酸性触媒を用いたフリーデル−クラフツ反応に適用しな
かった。すなわち、これらの反応は多くの生成物を生成
し、また酸触媒を多量に必要とするためからである（Ro
bert, R. M.; EI-Khawaga, A. M.; Sweeney, K. M.; EI
-Zohry, M. F. J.Org. Chem. 1987, 52, 1591-1599, Sa
ito, S.; Ohwada, T.; Shudo, K. J. AM. Chem. Soc. 1
995, 117,11081-11084, Olah, G. A.; Rasul, G.; Yor
k, C.; Prakash, G. K. J. AM. Chem. Soc. 1995, 117,
11211-11214）。

【０００３】アルデヒド類の反応は広く調査されていた
のに対し、特にルイス酸およびブレーンステズ酸存在下
でのアレーン（芳香族炭化水素の総称）類とケトン類と
の反応は、殆ど注意が払われていなかった。

【０００４】近年、ガリウムジクロライド（Ｇａ₂Ｃ
ｌ₄）（Hashimoto,Y.; Hirata, k.; Kihara, N.; Haseg
awa, M.; Saigo, K.Tetrahedron Lett. 1993, 49, 5969
-5978）、スカンジウムトリフルオロメタンスルホネー
ト（Ｓｃ（ＯＴｆ）₃）（Tsuchimoto, T.; Hiyama, T.;
Fukuzawa, S.-I. Chem. commun., 1996, 2345-2346 及
びTsuchimoto, T.; Tobita, K.; Hiyama, T.; Fukazaw
a, S.-I. J. Org. Chem. 1997, 62, 6997-7005),および
トリフルオロメタンスルホン酸（ＴＦＳＡ）(Fukazawa,
S.-I.; Tsuchimoto, T.; Hiyama, T. J. Org. Chem. 1
997, 62, 151-156)を用いたカルボニル類と芳香族の還
元性フリーデル−クラフツ反応が提案されている。

【化５】

【化６】

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記報
告は、複数の限定を有する。

【０００６】例えば、上記（Ｉ）式に示すように、ルイ
ス酸としてＧａ₂Ｃｌ₄を用いた場合、反応を進行させる
ために、上記ルイス酸と例えばアニソール（メトキシベ
ンゼン）のような活性芳香族類を大量に用いなければな
らず（例えば、Ｇａが２当量必要となる）、またケトン
類の場合には、極めて反応性が低い。

【０００７】一方、上記（II）式に示すように、ルイス
酸としてｐＴｓＯＨやこれと代替可能なＳｃ（ＯＴｆ）
₃およびＴＦＳＡの場合、水素源として１，３−ジオー
ルを用いるため、触媒量のルイス酸で反応を進行させる
ことができる。しかしながら、反応時間が長時間化し
（例えば、７〜２０時間）、また高い反応温度（例え
ば、８０〜１１０°）が必要となると共に、ベンゼンま
たはアルキルベンゼンに対してアルキル化剤として芳香
族アルデヒドのみ報告されているにすぎない。

【０００８】本発明は上記従来の課題に鑑みたものであ
り、その目的は、ベンゼンやアルキルベンゼン、特に反
応性の低い電子吸引基のついた例えばブロモベンゼン等
のアレーンとアルデヒド類または反応性の低いケトン類
とを、触媒量のルイス酸を用いて、温和な条件で還元的
フリーデル−クラフツ反応を行い置換芳香族化合物を製
造する方法を提供することである。

【０００９】

【課題を解決するための手段】以上のような課題を解決
するために、本発明に係る置換芳香族化合物の製造方法
は、以下の特徴を有する。

【００１０】（１）上記式１で表されるけい素化合物の
存在下、ルイス酸を触媒として、上記式２で表されるケ
トンまたはアルデヒド、または上記式３で表されるアセ
タールまたはケタールと、芳香族化合物を反応させるこ
とを特徴とする、上記式４で表される置換芳香族化合物
の製造方法である。

【００１１】水素源としてけい素化合物を用いることに
より、触媒量のルイス酸で還元的なフリーデル−クラフ
ツ反応を行い、置換芳香族化合物を製造することができ
る。また、後述するように、反応性の低いブロモベンゼ
ン等の電子吸引基のついたアレーンを用いても置換芳香
族化合物を生成させることが可能となり、またアルデヒ
ド類より反応性に劣るケトン類を用いてもフリーデル−
クラフツ反応を行うことができる。更に、従来に比べ温
和な反応条件でアレーンとアルデヒド類またはケトン類
とのフリーデル−クラフツ反応を行う置換芳香族化合物
を生成させることができる。

【００１２】（２）上記（１）に記載の置換芳香族化合
物の製造方法において、前記ルイス酸は、インジウム化
合物であることを特徴とする置換芳香族化合物の製造方
法である。

【００１３】上記ルイス酸を用いることにより、オレフ
ィン、ハロゲン化アルキルなどの従来では還元フリーデ
ル−クラフツ反応が進行する官能基が存在しても、カル
ボニル基にのみ選択的に反応が進行する。

【００１４】（３）上記（１）または（２）に記載の置
換芳香族化合物の製造方法において、前記けい素化合物
は、ジメチルクロロシラン、ジクロロメチルシラン、ト
リメチルシラン、ジエチルメチルシラン、ジクロロエチ
ルシラン、ジメチルエチルシランまたはトリエチルシラ
ンの少なくとも１つであることを特徴とする置換芳香族
化合物の製造方法である。

【００１５】けい素化合物は、ケトンに付加し、この付
加物にインジウム触媒が作用することにより、目的物を
生成させることができる。

【００１６】（４）上記（１）乃至（３）のいずれかに
記載の置換芳香族化合物の製造方法において、前記式２
から式４のＲ¹、Ｒ²は、アルキル基、アルケニル基、ア
リール基であるが、適宜ハロゲン原子、シアノ基、ニト
ロ基、カルボキシル基、アミノ基、アシルアミノ基、カ
ルバモイル基、低級アルキル基、アルコキシカルボニル
基、ハロ低級アルキル基、低級アルキルオキシ基、低級
アルキルチオ基、低級アルキニル基が一つまたは複数置
換してもよく、前記Ａｒは、アリール基または複素芳香
環基であることを特徴とする置換芳香族化合物の製造方
法である。

【００１７】請求項４におけるＲ¹、Ｒ²は、アルキル
基、アルケニル基アリール基であるが、適宜ハロゲン原
子、シアノ基、ニトロ基、カルボキシル基、アミノ基、
アシルアミノ基、カルバモイル基、低級アルキル基、ア
ルコキシカルボニル基、ハロ低級アルキル基、低級アル
キルオキシ基、低級アルキルチオ基、低級アルキニル基
等が一つまたは複数置換してもよく、また、Ａｒのアリ
ール基とはフェニル基、ナフチル基等に代表される単環
および多環性のアリール基であり、複素芳香環基とはフ
リル基、チエニル基、ピロリン基、ピリジン基、ベンゾ
フリル基、キノリン基、キノリル基、イソキノリルき、
インドリル基、ベンゾチエニル基を含み、ナフタレン、
フラン、チオフェン、ピロール、ピリジン、キノリン、
イソキノリンに代表される単環及び多環性の複素芳香環
を意味する。また、置換位置については、特に限定され
ない。さらに、アリール基、複素芳香環基には、アル
キル基、アルケニル基アリール基であるが、適宜ハロゲ
ン原子、シアノ基、ニトロ基、カルボキシル基、アミノ
基、アシルアミノ基、カルバモイル基、低級アルキル
基、アルコキシカルボニル基、ハロ低級アルキル基、低
級アルキルオキシ基、低級アルキルチオ基、低級アルキ
ニル基等が一つまたは複数置換してもよい。

【００１８】（５）上記（１）乃至（３）のいずれかに
記載の置換芳香族化合物の製造方法において、前記式２
から式４のＲ¹，Ｒ²は、メチル基、エチル基、クロロメ
チル基、２−クロロメチル基、メトキシカルボニル基、
フェニル基、４−クロロフェニル基、４−メチルフェニ
ル基、４−トリフルオロフェニル基、４−メトキシカル
ボニルフェニル基、ナフチル基であり、Ａｒはベンゼ
ン、トルエン、エチルベンゼン、キシレン、メトキシベ
ンゼン、ブロモベンゼン、チオフェン、ナフタレンであ
ることを特徴とする置換芳香族化合物の製造方法。メチ
ル基、エチル基、フェニル基であり、前記Ａｒは、フェ
ニル基であることを特徴とする置換芳香族化合物の製造
方法である。

【００１９】（６）上記式１で表されるけい素化合物の
存在下、インジム化合物を触媒として、上記式２で表さ
れるケトンまたはアルデヒド、または上記式３で表され
るアセタールまたはケタールと、芳香族化合物を反応さ
せることを特徴とする、上記式４で表される置換芳香族
化合物の製造方法である。

【００２０】（７）上記（６）に記載の置換芳香族化合
物の製造方法において、前記インジウム化合物は、トリ
ス（トリフルオロ酢酸）インジウムまたはハロゲン化イ
ンジウムまたはインジウム金属またはインジウム酸化物
であることを特徴とする置換芳香族化合物の製造方法で
ある。

【００２１】

【発明の実施の形態】以下、本発明の置換芳香族化合物
の製造方法について説明する。

【００２２】上述したように、本発明の置換芳香族化合
物の製造方法は、式１で表されるけい素化合物の存在
下、ルイス酸を触媒として、式２で表されるケトンまた
はアルデヒド、または式３で表されるアセタールまたは
ケタールと、芳香族化合物を反応させることを特徴とす
る、式４で表される置換芳香族化合物の製造方法であ
る。

【００２３】

【化７】（式中、Ｒ及びＲ′、Ｒ″は、置換されてもよいフェニ
ル基、低級アルキル基、塩素原子を意味し、それぞれ同
一であっても同一でなくてもよい。）

【化８】（式中、Ｒ¹は、置換されてもよい低級アルキル基、低
級アルケニル基または芳香環基を意味し、Ｒ²は、水素
原子または置換されてもよい低級アルキル基、低級アル
ケニル基または芳香環基を意味する。また、Ｒ¹または
Ｒ²は、単結合で結びつき環を形成してもよい。但し、
Ｒ²は、Ｒ¹が水素原子の場合には芳香環基であり、Ｒ¹
が水素以外の場合には置換されてもよい低級アルキル
基、低級アルケニル基または芳香環基である。）

【化９】（式中、Ｒ¹は、置換されてもよい低級アルキル基、低
級アルケニル基または芳香環基を意味し、Ｒ²は、水素
原子または置換されてもよい低級アルキル基、低級アル
ケニル基または芳香環基を意味する。また、Ｒ¹または
Ｒ²は、単結合で結びつき環を形成してもよい。また、
２つのＲ³は相互に単結合で結びつき環を形成してもよ
い。）

【化１０】（式中、Ｒ¹は、置換されてもよい低級アルキル基、低
級アルケニル基または芳香環基を意味し、Ｒ²は、水素
原子または置換されてもよい低級アルキル基、低級アル
ケニル基または芳香環基を意味する。また、Ａｒは、置
換されてもよい芳香環を意味する。）すなわち、以下に
示す式のように反応し、置換芳香族化合物が得られる。

【化１１】

【００２４】更に、本発明の製造方法について詳説す
る。

【００２５】＜けい素化合物＞けい素化合物は、本発明
においてフリーデル−クラフツ反応の還元剤として作用
する。

【００２６】けい素化合物は、具体的には上記式１に示
す化合物であり、好ましくは上記式１のＲ、Ｒ′、Ｒ″
が、ハロゲン原子、シアン基、ニトロ基、カルボキシル
基、アミノ基、アシルアミノ基、カルバモイル基、低級
アルキル基、アルコキシカルボニル基、ハロ低級アルキ
ル基、低級アルキルオキシ基、低級アルキルチオ基、低
級アルキニル基が１つまたは複数置換されたフェニル基
であり、より好ましくはジメチルクロロシラン（Ｍｅ₂
ＳｉＣｌＨ）、ジクロロメチルシラン（ＭｅＳｉＣｌ₂
Ｈ）、トリメチルシラン（Ｍｅ₃ＳｉＨ）、ジエチルク
ロロシラン（Ｅｔ₂ＳｉＣｌＨ）、ジクロロエチルシラ
ン（ＥｔＳｉＣｌ₂Ｈ）またはトリエチルシラン（Ｅｔ₃
ＳｉＨ）の少なくとも１つである。けい素化合物は、至
適にはジメチルクロロシラン（Ｍｅ₂ＳｉＣｌＨ）であ
る。

【００２７】上記けい素化合物を用いることにより、
本反応を非常に温和な条件下で進行させるという効果が
ある。

【００２８】また、上記けい素化合物は、反応させるケ
トン類またはアルデヒド類、芳香族化合物と等量または
それ以上であることが好ましく、より好ましくは１：１
〜１：１．５である。

【００２９】＜ルイス酸＞本発明の製造方法で用いるル
イス酸又は、インジウム化合物であり、より好ましくは
トリス（トリフルオロ酢酸）インジウム（Ｉｎ（ＯＴ
ｆ）₃）またはハロゲン化インジウムまたはハロゲン化
アルミニウム、またＩｎ金属も効果が高い。

【００３０】ハロゲン化インジウムとしては、例えばＩ
ｎＣｌ₃、ＩｎＣｌ₃・４Ｈ₂Ｏ、、ＩｎＢｒ₃、Ｉｎ
Ｉ₃、ＩｎＦ₃、が挙げられる。なお、ＩｎＣｌ₃・４Ｈ₂
Ｏ（水和物）は、ＩｎＣｌ₃よりも僅かに置換芳香族化
合物の収率が高いが、ＩｎＣｌ₃を用いて水和物の水和
等量の水を反応系内に添加した場合には、置換芳香族化
合物の収率が低下してしまう。

【００３１】また、ハロゲン化アルミニウムとしては、
例えばＡｌＣｌ₃、ＡｌＢｒ₃、ＡｌＩ₃が挙げられる。

【００３２】また、ルイス酸としてハロゲン化インジウ
ムを用いる場合には、ルイス酸、芳香族化合物、けい素
化合物の順に添加し、これらの混合物に、アミド類また
はケトン類を添加させることが好ましいが、これに限る
ものではなく、これらの添加順序に関係なく、安定的な
収率で置換芳香族化合物を得ることができる。一方、ル
イス酸としてハロゲン化アルミニウムを用いる場合に
は、ルイス酸、芳香族化合物、アミド類またはケトン類
の順に添加し、これらの混合物に、けい素化合物を添加
することが好ましい。例えば、ルイス酸と芳香族化合物
とけい素化合物の混合物に、アミド類またはケトン類を
添加した場合には、置換芳香族化合物の収率が低下す
る。

【００３３】また、本発明の製造方法では、触媒量のル
イス酸で還元的フリーデル−クラフツ反応を行うことが
でき、例えば反応させるケトン類またはアルデヒド類、
芳香族化合物の１モルに対して、０．００１〜０．３モ
ル、好ましくは０．０１〜０．２モルである。

【００３４】＜ケトン類およびアルデヒド類＞本発明の
還元的フリーデル−クラフツ反応は、従来芳香族化合物
と反応しなかった脂肪族ケトン類および芳香族ケトン
類、および芳香族アルデヒドを用いることができる。よ
り具体的には、上記式２で表されるケトンまたはアルデ
ヒド、または上記式３で表されるアセタールまたはケタ
ールを用いることができる。

【００３５】芳香族化合物は、ケトン類、アルデヒド類
に対して等量以上反応系に存在することが好ましい。

【００３６】好ましくは、上記式２、式３のＲ¹、Ｒ²の
低級アルキル基が、炭素数１から６の直鎖および分岐状
のアルキル基であり、また上記式２から式３のＲ¹、Ｒ²
の低級アルケニル基が、炭素数２から６の直鎖および分
岐状のアルケニル基であり、更に上記式２、式３の
Ｒ¹、Ｒ²の芳香環基が、アリール基または複素芳香環基
である。また、上記アリール基は、フェニル基、ナフチ
ル基等に代表される単環および多環性のアリール基であ
り、上記複素芳香環基は、フリル基、チエニル基、ピロ
リル基、ピリジル基、ベンゾフリル基、キノリル基、イ
ソキノリル基、インドリン基、ベンゾチエニル基を含
み、更にナフタレン、フラン、チオフェン、ピロール、
ピリジン、キノリン、イソキノリンに代表される単環及
び多環性の複素芳香環基を含む。また、その置換位置に
ついては、特に規制するものではない。

【００３７】また、上記式２、式３のＲ¹、Ｒ²の低級ア
ルキル基、低級アルケニル基または芳香環基は、ハロゲ
ン原子、シアノ基、ニトロ基、カルボキシル基、アミノ
基、アシルアミノ基、カルバモイル基、低級アルキル
基、アルコキシカルボニル基、ハロ低級アルキル基、低
級アルキルオキシ基、低級アルキルチオ基、低級アルキ
ニル基等が一つまたは複数置換されていてもよい。

【００３８】上記式３のＲ³の低級アルキル基は、好ま
しくは炭素数１から６の直鎖および分岐状のアルキル基
であり、より好ましくは炭素数１から３である。また、
２つのＲ³は、単結合で結びつき環を形成してもよい。

【００３９】更に、上記芳香環基、複素芳香環基は、ハ
ロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、カルボキシル基、ア
ミノ基、アシルアミノ基、カルバモイル基、低級アルキ
ル基、アルコキシカルボニル基、ハロ低級アルキル基、
低級アルキルオキシ基、低級アルキルチオ基、低級アル
キニル基等が一つまたは複数置換されていてもよい。

【００４０】特に、上記式２から式４のＲ¹，Ｒ²は、メ
チル基、エチル基、フェニル基であり、上記Ａｒは、フ
ェニル基であることが至適である。

【００４１】＜芳香族化合物＞芳香族炭化水素化合物で
あれば、いかなる化合物でも反応可能であるが、例えば
ベンゼン、トルエン、メトキシベンゼン、ブロモベンゼ
ン、チオフェン、エチルベンゼン、ｏ，ｐ−ジメチルベ
ンゼン、クロロベンゼン、ヨードベンゼン、フルオロベ
ンゼン、ニトロベンゼン、キシレン、ジメトキシベンゼ
ン、安息香酸エステル、シアノベンゼン、フラン等が挙
げられる。

【００４２】通常、フリーデル−クラフツ反応におい
て、反応可能な芳香族化合物は、活性の高い電子供与基
を有する芳香族化合物から官能基を有しないベンゼンま
でとされていた。しかしながら、本発明の方法によれ
ば、ベンゼンよりも活性の低い電子吸引基を有するハロ
ゲン化芳香族化合物でも反応可能である点が特徴的であ
る。

【００４３】＜溶媒＞ジクロロエタン、ｎ−ヘキサン、
二硫化炭素、アセトニトリル、ジエチルエーテル、テト
ラヒドロフラン、ジクロロメタン、酢酸エチル等反応に
慣用しないものや、ベンゼン、トルエン、ブロモベンゼ
ンなど反応に使用する芳香族化合物等が挙げられる。

【００４４】溶媒の添加量は、反応させるケトン類また
はアルデヒド類、、芳香族化合物の種類によって異なる
が、通常これら原料の総量に対して、３重量倍から５０
重量倍が好ましく、５重量倍〜２０重量倍が好ましい。
特に、アルデヒド類と芳香族化合物の反応の場合には、
ケトン類と芳香族化合物との反応に比べ、発熱量が多い
ため、多めに溶媒を添加することが好ましい。

【００４５】＜置換芳香族化合物製造の反応温度および
反応時間＞一般に本発明の製造方法の場合には、従来の
反応温度に比べ低温で反応を行うことが可能であり、反
応させるケトン類またはアルデヒド類、芳香族化合物に
よって多少異なるが、例えば反応温度は室温（２５℃）
〜１００℃、反応時間は４５分〜１５時間が好ましく、
また２５℃〜６０℃、１時間〜３時間がより好ましい。

【００４６】＜置換芳香族化合物＞本発明の製造方法に
より得られる置換芳香族化合物は、上記式４で表される
置換芳香族化合物であり、以下の通りである。

【００４７】好ましくは、上記式４のＲ¹、Ｒ²の低級ア
ルキル基が、炭素数１から６の直鎖および分岐状のアル
キル基であり、また上記式４のＲ¹、Ｒ²の低級アルケニ
ル基が、炭素数２から６の直鎖および分岐状のアルケニ
ル基であり、更に上記式４のＲ¹、Ｒ²の芳香環基が、ア
リール基または複素芳香環基である。また、上記アリー
ル基は、フェニル基、ナフチル基等に代表される単環お
よび多環性のアリール基であり、上記複素芳香環基は、
フリル基、チエニル基、ピロリル基、ピリジル基、ベン
ゾフリル基、キノリル基、イソキノリル基、インドリン
基、ベンゾチエニル基を含み、更にナフタレン、フラ
ン、チオフェン、ピロール、ピリジン、キノリン、イソ
キノリンに代表される単環及び多環性の複素芳香環基を
含む。また、その置換位置については、特に規制するも
のではない。

【００４８】また、上記式４のＲ¹、Ｒ²の低級アルキル
基、低級アルケニル基または芳香環基は、ハロゲン原
子、シアノ基、ニトロ基、カルボキシル基、アミノ基、
アシルアミノ基、カルバモイル基、低級アルキル基、ア
ルコキシカルボニル基、ハロ低級アルキル基、低級アル
キルオキシ基、低級アルキルチオ基、低級アルキニル基
等が一つまたは複数置換されていてもよい。

【００４９】上記式４のＡｒは、アリール基または複素
芳香環基であり、前記アリール基は、フェニル基、ナフ
チル基等に代表される単環および多環性のアリール基で
あり、上記複素芳香環基は、フリル基、チエニル基、ピ
ロリル基、ピリジル基、オキサゾリル基、チアゾリル
基、イソオキサゾリル基、イソチアゾリル基、イミダゾ
リル基、ピラゾリル基、ベンゾフリル基、キノリル基、
イソキノリル基、インドリン基、ベンゾチエニル基を含
み、更にナフタレン、フラン、チオフェン、ピロール、
オキサゾール、イソオキサゾール、チアゾール、イソチ
アゾール、イミダゾール、ピラゾール、ピリジン、キノ
リン、イソキノリンに代表される単環及び多環性の複素
芳香環基を含む。また、その置換位置については、特に
規制するものではない。

【００５０】更に、上記芳香環基、複素芳香環基は、ハ
ロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、カルボキシル基、ア
ミノ基、アシルアミノ基、カルバモイル基、低級アルキ
ル基、アルコキシカルボニル基、ハロ低級アルキル基、
低級アルキルオキシ基、低級アルキルチオ基、低級アル
キニル基等が一つまたは複数置換されていてもよい。

【００５１】特に、上記式４のＲ¹，Ｒ²は、メチル基、
エチル基、フェニル基であり、上記Ａｒは、フェニル基
であることが至適である。

【００５２】更に、本発明の好ましい他の実施態様を以
下に示す。

【００５３】請求項１乃至請求項３のいずれかに記載の
置換芳香族化合物の製造方法において、前記式２から式
４のＲ¹，Ｒ²は、メチル基、エチル基、フェニル基であ
り、前記Ａｒは、フェニル基であることを特徴とする置
換芳香族化合物の製造方法である。

【００５４】

【実施例】次に、実施例及び比較例を挙げて、本発明を
具体的に説明する。実施例１〜２７、比較例１＜実施例１＞ジフェニルメタンの生成窒素雰囲気下インジウムクロライド４４ｍｇ（０．２ｍ
ｍｏｌ）を加え、溶媒としてベンゼン２０ｍｌを加え
た。次いでジメチルクロロシラン３９０ｍｇ（４ｍｍｏ
ｌ）を加えた後、ベンズアルデヒド４１０ｍｇ（４ｍｍ
ｏｌ）を加え、６０℃で１時間攪拌を行った。ガスクロ
マトグラフィーで原料の消失を確認した後、反応液にジ
エチルエーテル４０ｍｌと水５０ｍｌを加え、分液し
た。得られた有機層からガスクロマトグラフィーの内部
標準法による計算で目的物であるジフェニルメタンを収
率７３％で得た。

【００５５】なお、以下の実施例に関しての収率の算出
は、芳香族がベンゼンおよびトルエン（カルボニルがベ
ンズアルデヒド、アセトフェノン、シクロヘキサノン）
の場合は、ガスクロマトグラフィーで行い、それ以外は
濃縮して¹Ｈ−ＮＭＲにて算出した。

【００５６】また、化合物の単離同定については、上記
エーテル層を濃縮した後、シリカゲルクロマトグラフィ
ーにて不純物を除去した後、再結晶もしくは減圧蒸留に
て生成物を得た。

【００５７】なお、インジウム触媒の量をケトンに対し
て、０．２倍モルとした場合、次のけい素化合物に対し
て、上記生成物は、以下のような収率になった。

【００５８】ジクロロメチルシラン（ＭｅＳｉＣｌ
₂Ｈ）：収率４８％生成物；¹ Ｈ−ＮＭＲ（δｐｐｍ、ＣＤＣｌ₃、２７０ＭＨｚ）：
３．９５（ｓ，２Ｈ）、７．１８−７．３３（ｍ，ａｒ
ｏｍａ，１０Ｈ）¹³ Ｃ−ＮＭＲ（δｐｐｍ、ＣＤＣｌ₃、６７．９ＭＨ
ｚ）：４１．９１，１２５．９７，１２８．８５，１４
１．０２以下、実施例２〜２３は、上記実施例１に準じて、それ
ぞれ表１および表２に示すケトン類またはアルデヒド
類、芳香族化合物を用いて還元的フリーデル・クラフツ
反応を行い、表１および表２に示す生成物を生成した。
各生成物は、ＮＭＲ等により同定した。以下に、各生成
物のＮＭＲ測定値等を示す。

【表１】

【表２】

【００５９】＜実施例２＞（メチルフェニル）フェニル
メタン（ｏ−，ｐ−混合物）の生成ベンズアルデヒド（５．０ｍｍｏｌ）とジメチルクロロ
シラン（５．０ｍｍｏｌ）をインジウム（III）クロラ
イド（１．０ｍｍｏｌ）存在下でトルエン（５ｍＬ）中
で反応を行った。蒸留後、無色の液体として上記生成物
（０．９９ｇ、収率９５％）を得た。

【００６０】生成物；沸点（ｂｐ）：８５℃／１ｍｍＨｇ¹ Ｈ−ＮＭＲ（δｐｐｍ、ＣＤＣｌ₃、２７０ＭＨｚ）：
２．２４（ｓ，３Ｈ、ｏ−）、２．３１（ｓ，３Ｈ、ｐ
−）、３．９４（ｓ，２Ｈ、ｏ−）、３．９８（ｓ，２
Ｈ、ｐ−）、６．９７−７．３０（ｍ，ａｒｏｍａ，９
Ｈ）¹³ Ｃ−ＮＭＲ（δｐｐｍ、ＣＤＣｌ₃、６７．９ＭＨ
ｚ）：１９．６４，２０．９８，３９．４４，４１．５
２，１２５．９０，１２５．９７，１２６．４３，１２
８．３７，１２８．４２，１２８．７４，１２８．８
０，１２８．８６，１２９．１４，１２９．９５，１３
０．２７，１３５．５２，１３８．０７ＩＲ：（ｃｍ^-1）：３０５８，３０２３，２９１５，２
８５７，１４５４，１３８０ＭＳ（ＥＩ，７０ｅＶ）：１８２（Ｍ⁺，８０）、１６
７（Ｍ⁺−Ｍｅ，１００）、９１（８．６）、７７
（４．０）ＨＲＭＳ（ＥＩ，７０ｅＶ）：計算値（Ｃ₁₄Ｈ₁₄として）：１８２．１０９５実測値：１８２．１０９４なお、実施例２の反応において、ジメチルクロロシラン
の代わりにトリメチルシラン（Ｍｅ₃ＳｉＨ）を用い、
インジウム触媒量をベンズアルデヒドに対して０．２モ
ル倍とした場合、１１０℃、１時間の反応で、生成物の
収率は８８％（ｏ−，ｐ−混合物）であった。

【００６１】＜実施例３＞（メトキシフェニル）フェニ
ルメタン（ｏ−，ｐ−混合物）の生成ベンズアルデヒド（１０．０ｍｍｏｌ）とジメチルクロ
ロシラン（１０．０ｍｍｏｌ）をインジウム（III）ク
ロライド（２．０ｍｍｏｌ）存在下でアニソール（１０
ｍＬ）中で反応を行った。蒸留後、無色の液体として上
記生成物（０．５８ｇ、収率２９％）を得た。

【００６２】生成物；沸点（ｂｐ）：１００℃／１ｍｍＨｇ¹ Ｈ−ＮＭＲ（δｐｐｍ、ＣＤＣｌ₃、２７０ＭＨｚ）：
３．７６（ｓ，３Ｈ、ｐ−）、３．８０（ｓ，３Ｈ、ｏ
−）、３．９１（ｓ，２Ｈ、ｐ−）、３．９７（ｓ，２
Ｈ、ｏ−）、６．８０−７．２１（ｍ，ａｒｏｍａ，９
Ｈ）¹³ Ｃ−ＮＭＲ（δｐｐｍ、ＣＤＣｌ₃、６７．９ＭＨ
ｚ）：３５．８４，４１．０２，５５．２３，１１３．
８７，１２０．４６，１２５．７３，１２５．９６，１
２７．３８，１２８．２２，１２８．４０，１２８．４
８，１２８．７８，１２８．９４，１２９．６５，１２
９．８４，１３０．１７，１３０．３０，１３３．２
５，１４１．０１，１４１．５６，１５１．０６，１５
７．９７ＩＲ：（ｃｍ^-1）：２９６２，２８３４，１２４５，１
０３３ＭＳ（ＥＩ，７０ｅＶ）：１９８（Ｍ⁺，１００）、１
８３（Ｍ⁺−Ｍｅ，３２）、１６７（Ｍ⁺−ＯＭｅ，３
２）、１２１（Ｍ⁺−Ｐｈ，７．６）、９１（２３）、
７７（５．１）ＨＲＭＳ（ＥＩ，７０ｅＶ）：計算値（Ｃ₁₄Ｈ₁₄Ｏとして）：１９８．１０４５実測値：１９８．１０６５

【００６３】＜実施例４＞（ブロモフェニル）フェニル
メタン（ｏ−，ｐ−混合物）の生成ベンズアルデヒド（１０．０ｍｍｏｌ）とジメチルクロ
ロシラン（１０．０ｍｍｏｌ）をインジウム（III）ク
ロライド（２．０ｍｍｏｌ）存在下でブロモベンゼン
（１０ｍＬ）中で反応を行った。蒸留後、無色の液体と
して上記生成物（２．３ｇ、収率９３％）を得た。

【００６４】生成物；沸点（ｂｐ）：１１０℃／１ｍｍＨｇ¹ Ｈ−ＮＭＲ（δｐｐｍ、ＣＤＣｌ₃、２７０ＭＨｚ）：
３．９２（ｓ，２Ｈ、ｐ−）、４．１１（ｓ，２Ｈ、ｏ
−）、７．０３−８．１２（ｍ，ａｒｏｍａ，９Ｈ）¹³ Ｃ−ＮＭＲ（δｐｐｍ、ＣＤＣｌ₃、６７．９ＭＨ
ｚ）：４１．２６，４１．５９，１１９．９１，１２
４．８７，１２６．２６，１２７．４１，１２７．８
４，１２８．４３，１２８．５２，１２８．８１，１２
８．９７，１３０．６２，１３１．０５，１３１．４
７，１３２．８０，１３９．４３，１４０．０５，１４
０．３４，１４０．３８ＩＲ：（ｃｍ^-1）：２９２７（ＣＨ₃）ＭＳ（ＥＩ，７０ｅＶ）：２４９（Ｍ⁺２，６．０）、
２４７（Ｍ⁺，７．７）、１６７（Ｍ⁺−Ｂｒ，１０
０）、９１（４．２）、７７（５．１）ＨＲＭＳ（ＥＩ，７０ｅＶ）：計算値（Ｃ₁₃Ｈ₁₁Ｂｒとして）：２４６．００４５実測値：２４６．００４６

【００６５】＜実施例５＞（２，５−ジメチルフェニ
ル）フェニルメタン（ｏ−，ｐ−混合物）の生成ベンズアルデヒド（５．０ｍｍｏｌ）とジメチルクロロ
シラン（５．０ｍｍｏｌ）をインジウム（III）クロラ
イド（１．０ｍｍｏｌ）存在下でｐ−キシレン（５ｍ
Ｌ）中で反応を行った。蒸留後、無色の液体として上記
生成物（０．５３ｇ、収率５２％）を得た。

【００６６】生成物；沸点（ｂｐ）：８５℃／１ｍｍＨｇ¹ Ｈ−ＮＭＲ（δｐｐｍ、ＣＤＣｌ₃、２７０ＭＨｚ）：
２．１９（ｓ，３Ｈ）、２．２８（ｓ，３Ｈ）、３．９
４（ｓ，２Ｈ）、６．９２−８．１３（ｍ，ａｒｏｍ
ａ，９Ｈ）¹³ Ｃ−ＮＭＲ（δｐｐｍ、ＣＤＣｌ₃、６７．９ＭＨ
ｚ）：１９．１７，２０．９５，３９．４１，１２５．
８３，１２７．０９，１２８．３４，１２８．６９，１
３０．１７，１３０．７７，１３３．４３，１３３．６
９，１３５．３５，１４０．５５ＩＲ：（ｃｍ^-1）：２９６５，２８６１，１４５０，１
３７６，８８３，８０９，７２５，６９８ＭＳ（ＥＩ，７０ｅＶ）：１９６（Ｍ⁺，８４）、１８
１（Ｍ⁺−Ｍｅ，１００）、１６６（Ｍ⁺−Ｂｒ，１
１）、９１（９．９）、７７（５．７）ＨＲＭＳ（ＥＩ，７０ｅＶ）：計算値（Ｃ₁₅Ｈ₁₆として）：１９６．１２５２実測値：１９６．１２３６

【００６７】＜実施例６＞（ｐ−クロロフェニル）フェ
ニルメタンの生成ｐ−クロロベンズアルデヒド（５．０ｍｍｏｌ）とジメ
チルクロロシラン（５．０ｍｍｏｌ）をインジウム（II
I）クロライド（１．０ｍｍｏｌ）存在下でベンゼン
（５ｍＬ）中で反応を行った。蒸留後、無色の液体とし
て上記生成物（０．５０ｇ、収率５０％）を得た。

【００６８】生成物；沸点（ｂｐ）：９５℃／１ｍｍＨｇ¹ Ｈ−ＮＭＲ（δｐｐｍ、ＣＤＣｌ₃、２７０ＭＨｚ）：
３．９４（ｓ，２Ｈ）、７．０９−７．３１（ｍ，ａｒ
ｏｍａ，９Ｈ）¹³ Ｃ−ＮＭＲ（δｐｐｍ、ＣＤＣｌ₃、６７．９ＭＨ
ｚ）：４１．２２，１２６．２６，１２８．５４，１２
８．８３，１３０．２２，１３１．８７，１３９．５
７，１４０．５２ＩＲ：（ｃｍ^-1）：２９１１，２８４２，８４４，７４
４，６９８ＭＳ（ＥＩ，７０ｅＶ）：２０４（Ｍ⁺２，１７）、２
０２（Ｍ⁺，４９）、１６７（Ｍ⁺−Ｃｌ，１００）、９
１（４．０）ＨＲＭＳ（ＥＩ，７０ｅＶ）：計算値（Ｃ₁₃Ｈ₁₁Ｃｌとして）：２０２．０５４９実測値：２０２．０５４２

【００６９】＜実施例７＞（ｐ−ジメチルフェニル）フ
ェニルメタンの生成ｐ−メチルベンズアルデヒド（５．０ｍｍｏｌ）とジメ
チルクロロシラン（５．０ｍｍｏｌ）をインジウム（II
I）クロライド（１．０ｍｍｏｌ）存在下でベンゼン
（５ｍＬ）中で反応を行った。蒸留後、無色の液体とし
て上記生成物（０．３８ｇ、収率４０％）を得た。

【００７０】生成物；沸点（ｂｐ）：７０℃／１ｍｍＨｇ¹ Ｈ−ＮＭＲ（δｐｐｍ、ＣＤＣｌ₃、２７０ＭＨｚ）：
２．３０（ｓ，３Ｈ）、３．９３（ｓ，２Ｈ）、７．０
８−７．２９（ｍ，ａｒｏｍａ，９Ｈ）¹³ Ｃ−ＮＭＲ（δｐｐｍ、ＣＤＣｌ₃、６７．９ＭＨ
ｚ）：２０．９８，４１．５１，１２５．９６，１２
８．８０，１２８．８６，１２９．１４，１３０．２
４，１３５．５２，１３８．０６，１４１．４１ＩＲ：（ｃｍ^-1）：２９６２，１４５０，８０２ＭＳ（ＥＩ，７０ｅＶ）：１８２（Ｍ⁺，８４）、１６
７（Ｍ⁺−Ｍｅ，１００）、９１（９．２）、７７
（５．８）ＨＲＭＳ（ＥＩ，７０ｅＶ）：計算値（Ｃ₁₄Ｈ₁₄として）：１８２．１０９５実測値：１８２．１０８５

【００７１】＜実施例８＞（ｐ−アセトキシフェニル）
フェニルメタンの生成ｐ−アセトキシベンズアルデヒド（５．０ｍｍｏｌ）と
ジメチルクロロシラン（５．０ｍｍｏｌ）をインジウム
（III）クロライド（１．０ｍｍｏｌ）存在下でベンゼ
ン（５ｍＬ）中で反応を行った。蒸留後、無色の液体と
して上記生成物（０．５６ｇ、収率４９％）を得た。

【００７２】生成物；¹ Ｈ−ＮＭＲ（δｐｐｍ、ＣＤＣｌ₃、２７０ＭＨｚ）：
３．９１（ｓ，３Ｈ）、４．６１（ｓ，２Ｈ）、７．４
６（ｄ，Ｊ＝８．１Ｈｚ、２Ｈ）、８．０３（ｄ，Ｊ＝
８．１Ｈｚ、２Ｈ）¹³ Ｃ−ＮＭＲ（δｐｐｍ、ＣＤＣｌ₃、６７．９ＭＨ
ｚ）：４５．３１，５２．１４，１２８．４２，１３
０．０８，１４２．１８，１６６．５１

【００７３】＜実施例９＞（ｐ−トリフルオロメチルシ
フェニル）フェニルメタンの生成ｐ−トリフルオロメチルベンズアルデヒド（５．０ｍｍ
ｏｌ）とジメチルクロロシラン（５．０ｍｍｏｌ）をイ
ンジウム（III）クロライド（１．０ｍｍｏｌ）存在下
でベンゼン（５ｍＬ）中で反応を行った。蒸留後、無色
の液体として上記生成物（０．３７ｇ、収率３１％）を
得た。

【００７４】生成物；¹ Ｈ−ＮＭＲ（δｐｐｍ、ＣＤＣｌ₃、２７０ＭＨｚ）：
４．０３（ｓ，２Ｈ）、７．１６−７．６４（ｍ，ａｒ
ｏｍａ，９Ｈ）¹³ Ｃ−ＮＭＲ（δｐｐｍ、ＣＤＣｌ₃、６７．９ＭＨ
ｚ）：４１．７０，７１．６５，１２２．２９，１２
５．３０，１２５．４１，１２６．３０，１２７．６
１，１２８．６５，１２８．８１，１２８．９２，１２
９．１７，１３９．９５，１４５．１８

【００７５】＜実施例１０＞フェニルナフチルメタン
（ｏ−，ｐ−混合物）の生成ホルミルナフタレン（５．０ｍｍｏｌ）とジメチルクロ
ロシラン（５．０ｍｍｏｌ）をインジウム（III）クロ
ライド（１．０ｍｍｏｌ）存在下でトルエン（５ｍＬ）
中で反応を行った。蒸留後、無色の液体として上記生成
物（０．２３ｇ、収率２２％）を得た。

【００７６】生成物；¹ Ｈ−ＮＭＲ（δｐｐｍ、ＣＤＣｌ₃、２７０ＭＨｚ）：
２．３０（ｓ，３Ｈ，ｏ−）、２．３２（ｓ，３Ｈ，ｐ
−）、４．４０（ｓ，２Ｈ，ｐ−）、５．６５（ｓ，２
Ｈ，ｏ−）、６．９２−８．０１（ｍ，ａｒｏｍａ，１
１Ｈ）¹³ Ｃ−ＮＭＲ（δｐｐｍ、ＣＤＣｌ₃、６７．９ＭＨ
ｚ）：１９．６１（ｏ−），２０．９８（ｐ−），３
６．１７（ｏ−），３８．６０，（ｐ−）１２３．６
２，１３７．５２

【００７７】＜実施例１１＞フェニルチオフェニルメタ
ンの生成ベンズアルデヒド（５．０ｍｍｏｌ）とジメチルクロロ
シラン（５．０ｍｍｏｌ）とチオフェン（１０．０ｍｍ
ｏｌ）をインジウム（III）クロライド（１．０ｍｍｏ
ｌ）存在下でシクロヘキサン（２５ｍＬ）中で反応を行
った。シリカゲルカラム・クロマトグラフィー（ヘキサ
ン／エチルエーテル＝１０／１）および蒸留後、無色の
液体として上記生成物（０．１４ｇ、収率３０％）を得
た。

【００７８】生成物；沸点（ｂｐ）：９０℃／１ｍｍＨｇ¹ Ｈ−ＮＭＲ（δｐｐｍ、ＣＤＣｌ₃、２７０ＭＨｚ）：
３．９８（ｓ，２Ｈ）、４．１５（ｓ，２Ｈ）、６．７
９−７．３０（ｍ，８Ｈ）¹³ Ｃ−ＮＭＲ（δｐｐｍ、ＣＤＣｌ₃、６７．９ＭＨ
ｚ）：３６．００，３６．４９，１２１．２１，１２
３．９１，１２５．５８，１２６．１３，１２６．４
５，１２６．７８，１２８．４５，１２８．５１，１２
８．５５ＩＲ：（ｃｍ^-1）：２９００，２８３９，７６４，６９
４ＭＳ（ＥＩ，７０ｅＶ）：１７６（Ｍ⁺２，５．７）、
１７４（Ｍ⁺，１００）、９７（Ｍ⁺−Ｐｈ，３４）、９
１（４．２）、７７（２．５）ＨＲＭＳ（ＥＩ，７０ｅＶ）：計算値（Ｃ₁₁Ｈ₁₀Ｓとして）：１７４．０５実測値：１７４．０５０６

【００７９】＜実施例１２＞１−（メチルフェニル）−
１−フェニルメタン（ｏ−，ｐ−混合物）の生成アセトフェノン（５．０ｍｍｏｌ）とジメチルクロロシ
ラン（５．０ｍｍｏｌ）をインジウム（III）クロライ
ド（１．０ｍｍｏｌ）存在下でトルエン（５ｍＬ）中で
反応を行った。蒸留後、無色の液体として上記生成物
（０．５４ｇ、収率５５％）を得た。

【００８０】生成物；沸点（ｂｐ）：７０℃／１ｍｍＨｇ¹ Ｈ−ＮＭＲ（δｐｐｍ、ＣＤＣｌ₃、２７０ＭＨｚ）：
１．６１（ｄ，Ｊ＝７．３Ｈｚ，３Ｈ，ｐ−）、２．２
２（ｓ，３Ｈ，ｏ−）、２．２９（ｓ，３Ｈ，ｐ−）、
４．１０（ｑ，Ｊ＝７．３２Ｈｚ，１Ｈ，ｐ−）、４．
３０（ｑ，Ｊ＝７．３３Ｈｚ，１Ｈ，ｏ−）、７．０９
−７．２９（ｍ，ａｒｏｍａ，９Ｈ）¹³ Ｃ−ＮＭＲ（δｐｐｍ、ＣＤＣｌ₃、６７．９ＭＨ
ｚ）：１９．７２，２０．９５，２１．９０，２２．０
８，４０．９９，４４．３５，１２５．７９，１２５．
９１，１２６．０６，１２６．６４，１２７．４７，１
２７．５５，１２７．６５，１２８．３１，１２９．０
３，１３０．３７，１３５．４５，１４３．３９，１４
６．５９ＩＲ：（ｃｍ^-1）：２９６５，２８７３，１４５０，１
３７３，１６００，８２１，７６７，７２１，６９８ＭＳ（ＥＩ，７０ｅＶ）：１９６（Ｍ⁺，４５）、１８
１（Ｍ⁺−Ｍｅ，１００）、１６６（Ｍ⁺−２Ｍｅ，２
７）、９１（２．８）、７７（４．７）ＨＲＭＳ（ＥＩ，７０ｅＶ）：計算値（Ｃ₁₅Ｈ₁₆として）：１９６．１２５２実測値：１９６．１２５２なお、実施例１２において、インジウム触媒の量をケト
ンに対して０．２モル倍として場合、１１０℃、２時間
の反応で収率５１％の目的物を得た。

【００８１】＜実施例１３＞１，１−ジフェニルメタン
の生成アセトフェノン（５．０ｍｍｏｌ）とジメチルクロロシ
ラン（５．０ｍｍｏｌ）をインジウム（III）クロライ
ド（１．０ｍｍｏｌ）存在下でベンゼン（５ｍＬ）中で
反応を行った。蒸留後、無色の液体として上記生成物
（０．５０ｇ、収率５５％）を得た。

【００８２】生成物；沸点（ｂｐ）：７０℃／１ｍｍＨｇ¹ Ｈ−ＮＭＲ（δｐｐｍ、ＣＤＣｌ₃、２７０ＭＨｚ）：
１．６４（ｄ，Ｊ＝７．３Ｈｚ，３Ｈ）、４．１２
（ｑ，Ｊ＝７．３Ｈｚ，１Ｈ）、７．１５−７．３１
（ｍ，ａｒｏｍａ，１０Ｈ）¹³ Ｃ−ＮＭＲ（δｐｐｍ、ＣＤＣｌ₃、６７．９ＭＨ
ｚ）：２１．８４，４４．７６，１２６．００，１２
７．６１，１２８．３４，１４６．３５ＩＲ：（ｃｍ^-1）：２９６５，２８７３，１４５０，１
３７３，１６００，１０２５，７２８，６９８ＭＳ（ＥＩ，７０ｅＶ）：１８２（Ｍ⁺，３９）、１６
７（Ｍ⁺−Ｍｅ，１００）、７７（５．６）ＨＲＭＳ（ＥＩ，７０ｅＶ）：計算値（Ｃ₁₄Ｈ₁₄として）：１８２．１０９５実測値：１８２．１０９３

【００８３】＜実施例１４＞１−（エチルフェニル）−
１−フェニルメタンの生成アセトフェノン（１０．０ｍｍｏｌ）とジメチルクロロ
シラン（１０．０ｍｍｏｌ）をインジウム（III）クロ
ライド（２．０ｍｍｏｌ）存在下でエチルベンゼン（１
０ｍＬ）中で反応を行った。蒸留後、無色の液体として
上記生成物（１．７４ｇ、収率８３％）を得た。

【００８４】生成物；沸点（ｂｐ）：８５℃／１ｍｍＨｇ¹ Ｈ−ＮＭＲ（δｐｐｍ、ＣＤＣｌ₃、２７０ＭＨｚ）：
１．２１（ｔ，Ｊ＝７．３Ｈｚ，３Ｈ）、１．６１
（ｄ，Ｊ＝７．３Ｈｚ，３Ｈ）、２．６０（ｑ，Ｊ＝
７．３Ｈｚ，２Ｈ）、４．１１（ｑ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，
１Ｈ）、７．０８−７．２９（ｍ，ａｒｏｍａ，９Ｈ）¹³ Ｃ−ＮＭＲ（δｐｐｍ、ＣＤＣｌ₃、６７．９ＭＨ
ｚ）：１５．５０，２１．９２，２５．５７，４４．４
１，１２５．９１，１２７．４９，１２７．７９，１２
８．３０，１４１．８０，１４３．５９，１４６．６０ＩＲ：（ｃｍ^-1）：２９６５，２８７３ＭＳ（ＥＩ，７０ｅＶ）：２１０（Ｍ⁺，５７）、１９
５（Ｍ⁺−Ｍｅ，１００）、１８１（Ｍ⁺−Ｅｔ，２
０）、１０５（Ｍ⁺−ｐ−ＥｔＣ₆Ｈ₄，７．２）、９１
（７．１）、７７（５．７）ＨＲＭＳ（ＥＩ，７０ｅＶ）：計算値（Ｃ₁₆Ｈ₁₈として）：２１０．１４０８実測値：２１０．１３９３

【００８５】＜実施例１５＞１−クロロ−２−（２，５
−ジメチルフェニル）−２−フェニルメタンの生成フェナシルクロリド（５．０ｍｍｏｌ）とジメチルクロ
ロシラン（５．０ｍｍｏｌ）をインジウム（III）クロ
ライド（１．０ｍｍｏｌ）存在下でベンゼン（２５ｍ
Ｌ）中で反応を行った。クロマトグラフィー（ヘキサン
／エチルエーテル＝１０／１）および蒸留後、白色固体
として上記生成物（１．０２ｇ、収率８３％）を得た。

【００８６】生成物；¹ Ｈ−ＮＭＲ（δｐｐｍ、ＣＤＣｌ₃、２７０ＭＨｚ）：
２．２２（ｓ，３Ｈ）、２．３２（ｓ，３Ｈ）、４．０
２（ｄ，Ｊ＝７．８Ｈｚ，２Ｈ）、４．４８（ｔ，Ｊ＝
７．８Ｈｚ，１Ｈ）、６．９５−７．３２（ｍ，ａｒｏ
ｍａ，８Ｈ）¹³ Ｃ−ＮＭＲ（δｐｐｍ、ＣＤＣｌ₃、６７．９ＭＨ
ｚ）：１９．２８，２１．２５，４７．２２，４９．４
８，１２６．８６，１２７．１３，１２７．５７，１２
８．３５，１２８．５２，１３０．７１，１３３．３
７，１３５．４３，１３８．８８，１４０．９６

【００８７】＜実施例１６＞１−クロロ−２−（ｐ−ク
ロロフェニル）−２−（メチルフェニル）エタン（ｏ
−，ｐ−混合物）の生成２，４’−ジクロロアセトフェノン（５．０ｍｍｏｌ）
とジメチルクロロシラン（５．０ｍｍｏｌ）をインジウ
ム（III）クロライド（１．０ｍｍｏｌ）存在下でトル
エン（２５ｍＬ）中で反応を行った。クロマトグラフィ
ー（ヘキサン／エチルエーテル＝１０／１）および蒸留
後、無色の液体として上記生成物（０．５６ｇ、収率４
２％）を得た。

【００８８】生成物；沸点（ｂｐ）：１２０℃／１ｍｍＨｇ¹ Ｈ−ＮＭＲ（δｐｐｍ、ＣＤＣｌ₃、２７０ＭＨｚ）：
２．２５（ｓ，３Ｈ，ｏ−）、２．３１（ｓ，３Ｈ，ｐ
−）、４．００（ｄ，Ｊ＝７．３Ｈｚ，２Ｈ）、４．２
７（ｔ，Ｊ＝７．３Ｈｚ，１Ｈ，ｐ−）、４．４８
（ｔ，Ｊ＝７．６Ｈｚ，１Ｈ，ｏ−）、７．０７−７．
３０（ｍ，ａｒｏｍａ，８Ｈ）¹³ Ｃ−ＮＭＲ（δｐｐｍ、ＣＤＣｌ₃、６７．９ＭＨ
ｚ）：１９．６９，２１．０２，４１．５１，４６．９
２，４７．０１，４８．９５，５２．５８，５５．１
１，１２６．２５，１２６．３５，１２７．１５，１２
７．５６，１２７．７４，１２８．０３，１２８．３
１，１２８．３７，１２８．６４，１２８．７７，１２
８．８３，１２９．０７，１２９．１３，１２９．１
８，１２９．２２，１２９．２６，１２９．３８，１２
９．４７，１２９．７６，１３０．９８，１３２．１
６，１３６．９４，１３７．８９，１３９．９２ＩＲ：（ｃｍ^-1）：２９５８，２８６５，１４４６ＭＳ（ＥＩ，７０ｅＶ）：２６６（Ｍ⁺２，６．４）、
２６４（Ｍ⁺，１０）、２２８（Ｍ⁺−Ｃｌ，２．８）、
２１５（Ｍ⁺−Ｍｅ−Ｃｌ，１００）、７６（Ｃ₆Ｈ₄，
２．１）ＨＲＭＳ（ＥＩ，７０ｅＶ）：計算値（Ｃ₁₅Ｈ₁₄Ｃｌ₂として）：２６４．０４７３実測値：２６４．０４５３

【００８９】＜実施例１７＞１−クロロ−３−（ｐ−ク
ロロフェニル）−３−フェニルプロパンの生成３，４’−ジクロロプロピオフェノン（４．０ｍｍｏ
ｌ）とジメチルクロロシラン（４．０ｍｍｏｌ）をイン
ジウム（III）クロライド（０．８ｍｍｏｌ）存在下で
ベンゼン（２０ｍＬ）中で反応を行った。クロマトグラ
フィー（ヘキサン／エチルエーテル＝１０／１）および
蒸留後、無色の液体として上記生成物（０．４４ｇ、収
率４１％）を得た。

【００９０】生成物；沸点（ｂｐ）：１２５℃／１ｍｍＨｇ¹ Ｈ−ＮＭＲ（δｐｐｍ、ＣＤＣｌ₃、２７０ＭＨｚ）：
２．４５（ｄｔ，Ｊ＝７．３，６．８Ｈｚ，２Ｈ）、
３．４３（ｔ，Ｊ＝６．５９Ｈｚ，２Ｈ）、３．８９
（ｔ，Ｊ＝７．５７Ｈｚ，１Ｈ）、４．２０（ｔ，Ｊ＝
７．５７Ｈｚ，１Ｈ）、７．１５−７．３２（ｍ，ａｒ
ｏｍａ，９Ｈ）¹³ Ｃ−ＮＭＲ（δｐｐｍ、ＣＤＣｌ₃、６７．９ＭＨ
ｚ）：３３．９６，３７．１８，３７．９５，４２．９
３，４７．１５，４９．９６，１２５．８８，１２６．
３８，１２６．７３，１２７．７６，１２８．３７，１
２８．５８，１２８．７３，１２９．１９，１３２．２
８，１４２．０６，１４２．９３

【００９１】＜実施例１８＞１−クロロ−３−（メチル
フェニル）−３−フェニルプロパン（ｏ−，ｐ−混合
物）の生成３−クロロプロピオフェノン（４．０ｍｍｏｌ）とジメ
チルクロロシラン（４．０ｍｍｏｌ）をインジウム（II
I）クロライド（０．８ｍｍｏｌ）存在下でトルエン
（２０ｍＬ）中で反応を行った。クロマトグラフィー
（ヘキサン／エチルエーテル＝１０／１）および蒸留
後、白色固体として上記生成物（０．５０ｇ、収率５１
％）を得た。

【００９２】生成物；沸点（ｂｐ）：１００℃／１ｍｍＨｇ¹ Ｈ−ＮＭＲ（δｐｐｍ、ＣＤＣｌ₃、２７０ＭＨｚ）：
２．２９（ｓ，３Ｈ）、２．４６（ｑ，Ｊ＝６．８Ｈ
ｚ，２Ｈ）、３．４３（ｔ，Ｊ＝６．６Ｈｚ，２Ｈ）、
４．１６（ｔ，Ｊ＝７．６Ｈｚ，１Ｈ，ｐ−）、７．０
７−７．３０（ｍ，ａｒｏｍａ，９Ｈ）¹³ Ｃ−ＮＭＲ（δｐｐｍ、ＣＤＣｌ₃、６７．９ＭＨ
ｚ）：１９．８４，２０．９６，３８．１９，３８．５
０，４３．２３，４３．４３，４７．４８，１２６．３
２，１２６．４０，１２７．７０，１２７．７７，１２
８．１２，１２８．４９，１２８．５６，１２９．２
９，１３０．７５，１３５．９９，１４０．４６，１４
３．７９ＭＳ（ＥＩ，７０ｅＶ）：２４６（Ｍ⁺，２，１７）、
２４４（Ｍ⁺，６．２）、１８１（Ｍ⁺−ＣＨ₂ＣＨ₂Ｃ
ｌ，１００）、１６６（Ｍ⁺−ＰｈＣＨ₂Ｃ₆Ｈ₄Ｍｅ，２
０）ＨＲＭＳ（ＥＩ，７０ｅＶ）：計算値（Ｃ₁₅Ｈ₁₇Ｃｌとして）：２４４．１０１９実測値：２４４．１００６

【００９３】＜実施例１９＞１−（ｐ−クロロフェニ
ル）−１−フェニルエタンの生成ｐ−クロロアセトフェノン（１０．０ｍｍｏｌ）とジメ
チルクロロシラン（１０．０ｍｍｏｌ）をインジウム
（III）クロライド（０．８ｍｍｏｌ）存在下でベンゼ
ン（１０ｍＬ）中で反応を行った。蒸留後、無色の液体
として上記生成物（１．５３ｇ、収率７１％）を得た。

【００９４】生成物；沸点（ｂｐ）：１００℃／１ｍｍＨｇ¹ Ｈ−ＮＭＲ（δｐｐｍ、ＣＤＣｌ₃、２７０ＭＨｚ）：
１．６０（ｄ，Ｊ＝７．３Ｈｚ，３Ｈ）、４．１１
（ｑ，Ｊ＝７．３Ｈｚ，１Ｈ，）、７．１１−７．３０
（ｍ，ａｒｏｍａ，９Ｈ）¹³ Ｃ−ＮＭＲ（δｐｐｍ、ＣＤＣｌ₃、６７．９ＭＨ
ｚ）：２１．７６、４４．１６，１２６．２２，１２
７．５２，１２８．４５，１２８．９７，１３１．１
３，１４４．８６，１４５．７９ＩＲ：（ｃｍ^-1）：２９６９，８３３ＭＳ（ＥＩ，７０ｅＶ）：２１８（Ｍ⁺２，２０）、２
１６（Ｍ⁺，５３）、２０１（Ｍ⁺−Ｍｅ，１００）、１
６６（Ｍ⁺−Ｃｌ−Ｍｅ，４５）、１０３（Ｍ⁺−ＰｈＣ
Ｈ₂Ｍｅ，９．５）、７７（７．５）ＨＲＭＳ（ＥＩ，７０ｅＶ）：計算値（Ｃ₁₄Ｈ₁₃Ｃｌとして）：２１６．０７０６実測値：２１６．０７３０、２１６．０７０８元素分析値：（Ｃ₁₄Ｈ₁₃Ｃｌとして２１６．０７０
６）：計算値（％）Ｃ：７７．５９、Ｈ：６．０５、Ｃｌ：
１６．３６実測値（％）Ｃ：７７．２１、Ｈ：６．０９、Ｃｌ：
１６．３４

【００９５】＜実施例２０＞イソプロピルメチルベンゼ
ンの生成ジメチルケトン（４．０ｍｍｏｌ）とジメチルクロロシ
ラン（４．０ｍｍｏｌ）をインジウム（III）クロライ
ド（０．８ｍｍｏｌ）存在下でトルエン（２０ｍＬ）中
で反応を行った。クロマトグラフィー（ヘキサン／エチ
ルエーテル＝１０／１）および蒸留後、白色固体として
上記生成物（０．２３ｇ、収率４２％）を得た。

【００９６】生成物；¹ Ｈ−ＮＭＲ（δｐｐｍ、ＣＤＣｌ₃、２７０ＭＨｚ）：
１．２２（ｄ，６Ｈ，ｏ−）、１．２３（ｄ，６Ｈ，ｐ
−）、２．３２（ｓ，３Ｈ，ｏ−）、２．３０（ｓ，３
Ｈ，ｐ−）、３．１２（ｍ，１Ｈ，ｏ−）、２．８６
（ｍ，１Ｈ，ｐ−）、７．０５−７．２５（ｍ，ａｒｏ
ｍａ，４Ｈ，ｏ−）、７．１７−７．２５（ｍ，ａｒｏ
ｍａ，４Ｈ，ｐ−）¹³ Ｃ−ＮＭＲ（δｐｐｍ、ＣＤＣｌ₃、６７．９ＭＨ
ｚ）：１９．２７（ｏ−），２０．９３（ｐ−），２
３．１９（ｏ−），２４．０９（ｐ−），２９．２１
（ｏ−），３３．７０（ｐ−），１２４．６１（ｏ
−），１２５．４３（ｏ−），１２６．１３（ｏ−），
１２６．２２（ｐ−），１２８．９４（ｐ−），１３
０．１２（ｏ−），１３４．８（ｏ−），１３５．０６
（ｐ−），１４５．８２（ｐ−），１４６．７１（ｏ
−）

【００９７】＜実施例２１＞シクロヘキシルメチルベン
ゼン（ｏ−，ｐ−混合物）の生成シクロヘキサノン（５．０ｍｍｏｌ）とジメチルクロロ
シラン（５．０ｍｍｏｌ）をインジウム（III）クロラ
イド（１．０ｍｍｏｌ）存在下でトルエン（２５ｍＬ）
中で反応を行った。蒸留後、無色の液体として上記生成
物（０．８０ｇ、収率９２％）を得た。

【００９８】生成物；沸点（ｂｐ）：６０℃／１ｍｍＨｇ¹ Ｈ−ＮＭＲ（δｐｐｍ、ＣＤＣｌ₃、２７０ＭＨｚ）：
１．３１−１．３９（ｍ，シクロヘキシル，５Ｈ）、
１．８４（ｍ，シクロヘキシル，５Ｈ）、２．３１
（ｓ，３Ｈ，ｐ−）、２．３３（ｓ，３Ｈ，ｏ−）、
２．４６（ｍ，１Ｈ，ｐ−）、２．７０（ｍ，１Ｈ，ｏ
−）、７．２０−７．２５（ｍ，ａｒｏｍａ，４Ｈ）¹³ Ｃ−ＮＭＲ（δｐｐｍ、ＣＤＣｌ₃、６７．９ＭＨ
ｚ）：１９．３２，２０．９５，２６．１９，２６．３
５，２６．９６，２７．１９，３３．６７，３４．４
９，３４．５８，４０．１４，４４．１６，４４．５
８，１２３．８２，１２５．３６，１２５．４４，１２
６．０８，１２６．５１，１２６．６８，１２８．１
７，１２８．９５，１３０．１７，１３５．１６，１４
５．１５ＩＲ：（ｃｍ^-1）：２９２３、８１０、７４８ＭＳ（ＥＩ，７０ｅＶ）：１７４（Ｍ⁺，３９）、１５
９（Ｍ⁺−Ｍｅ，１００）、９１（２．８）ＨＲＭＳ（ＥＩ，７０ｅＶ）：計算値（Ｃ₁₃Ｈ₁₈として）：１７４．１４０８実測値：１７４．１４０２

【００９９】＜実施例２２＞ジフェニルメタンの生成ジメトキシメチルベンゼン（５．０ｍｍｏｌ）とジメチ
ルクロロシラン（５．０ｍｍｏｌ）をインジウム（II
I）クロライド（１．０ｍｍｏｌ）存在下でベンゼン
（２５ｍＬ）中で反応を行った。蒸留後、無色の液体と
して上記生成物（０．５０ｇ、収率５９％）を得た。

【００１００】生成物；実施例１と同様

【０１０１】＜実施例２３＞１−クロロ−３−（ｐ−ク
ロロフェニル）−３−（メチルフェニル）プロパン（ｏ
−，ｐ−混合物）の生成３，４’−ジクロロプロピオフェノン（５．０ｍｍｏ
ｌ）とジメチルクロロシラン（５．０ｍｍｏｌ）をイン
ジウム（III）クロライド（１．０ｍｍｏｌ）存在下で
トルエン（２５ｍＬ）中で反応を行った。クロマトグラ
フィー（ヘキサン／エチルエーテル＝１０／１）および
蒸留後、無色の液体として上記生成物（０．７１ｇ、収
率５１％）を得た。

【０１０２】生成物；沸点（ｂｐ）：１２０℃／１ｍｍＨｇ¹ Ｈ−ＮＭＲ（δｐｐｍ、ＣＤＣｌ₃、２７０ＭＨｚ）：
２．２６（ｓ，３Ｈ，ｏ−）、２．３０（ｓ，３Ｈ，ｐ
−）、２．４２（ｄｔ，Ｊ＝７．２，６．６Ｈｚ，２
Ｈ）、３．４２（ｔ，Ｊ＝７．５Ｈｚ，１Ｈ，ｐ−）、
４．４１（ｔ，Ｊ＝７．８Ｈｚ，１Ｈ，ｏ−）、７．０
９−７．２５（ｍ，ａｒｏｍａ，８Ｈ）¹³ Ｃ−ＮＭＲ（δｐｐｍ、ＣＤＣｌ₃、６７．９ＭＨ
ｚ）：１９．７９，２０．９５，３７．９８，３８．３
０，４２．９９，４６．７５，１２６．６４，１２７．
６１，１２８．６８，１２９．１０，１２９．４０，１
２９．４６，１３０．８８，１３２．１５，１３６．２
９，１３９．８９，１４２．３４ＩＲ：（ｃｍ^-1）：２９５４、２９２４ＭＳ（ＥＩ，７０ｅＶ）：２８０（Ｍ⁺２，９．７）、
２７８（Ｍ⁺，１４）、２１５（Ｍ⁺−ＣＨ₂ＣＨ₂Ｃｌ，
１００）、１６５（Ｃ₆Ｈ₄ＣＨ₂Ｃ₆Ｈ₄，１５）ＨＲＭＳ（ＥＩ，７０ｅＶ）：計算値（Ｃ₁₆Ｈ₁₆Ｃｌ₂として）：２７８．０６２９実測値：２７８．０６３０

【０１０３】＜実施例２４＞メチル−２，２−ジフェニ
ルアセテートの生成フェニルグリオキシル酸メチルエステル（４．５ｍｍｏ
ｌ）とジメチルクロロシラン（４．５ｍｍｏｌ）をイン
ジウム（III）クロライド（０．９ｍｍｏｌ）存在下で
ベンゼン（２２ｍＬ）中で反応を行った。クロマトグラ
フィー（ヘキサン／エチルエーテル＝１０／１）および
蒸留後、白色固体として上記生成物（０．４０ｇ、収率
３９％）を得た。

【０１０４】生成物；沸点（ｂｐ）：１００℃／１ｍｍＨｇ¹ Ｈ−ＮＭＲ（δｐｐｍ、ＣＤＣｌ₃、２７０ＭＨｚ）：
３．７４（ｓ，３Ｈ）、５．０４（ｓ，１Ｈ）、７．２
４−７．３２（ｍ，ａｒｏｍａ，１０Ｈ）¹³ Ｃ−ＮＭＲ（δｐｐｍ、ＣＤＣｌ₃、６７．９ＭＨ
ｚ）：５２．３１，５６．９８，１２７．２７，１２
８．５７，１２８．６０，１３８．５８ＭＳ（ＥＩ，７０ｅＶ）：２２６（Ｍ⁺，２０）、１６
７（Ｍ⁺−ＣＯＯＭｅ，１００）ＨＲＭＳ（ＥＩ，７０ｅＶ）：計算値（Ｃ₁₅Ｈ₁₄Ｏ₂として）：２２６．０９９４実測値：２２６．０９９６元素分析値：（Ｃ₁₅Ｈ₁₄Ｏ₂として）：計算値（％）Ｃ：７９．６２、Ｈ：６．２４実測値（％）Ｃ：７９．６２、Ｈ：６．３２

【０１０５】＜実施例２５＞１−クロロ−３，３−ジフ
ェニルプロパンの生成３−クロロプロピオフェノン（５．０ｍｍｏｌ）とジメ
チルクロロシラン（５．０ｍｍｏｌ）をインジウム（II
I）クロライド（１．０ｍｍｏｌ）存在下でベンゼン
（２５ｍＬ）中で反応を行った。クロマトグラフィー
（ヘキサン／エチルエーテル＝１０／１）および蒸留
後、白色固体として上記生成物（０．６２ｇ、収率６７
％）を得た。

【０１０６】生成物；沸点（ｂｐ）：１００℃／１ｍｍＨｇ¹ Ｈ−ＮＭＲ（δｐｐｍ、ＣＤＣｌ₃、２７０ＭＨｚ）：
２．５０（ｄ，Ｊ＝７．０Ｈｚ，２Ｈ）、３．４５
（ｔ，Ｊ＝６．６Ｈｚ，２Ｈ）、４．２１（ｔ，Ｊ＝
７．３Ｈｚ，１Ｈ）、７．１７−７．３２（ｍ，ａｒｏ
ｍａ，１０Ｈ）¹³ Ｃ−ＮＭＲ（δｐｐｍ、ＣＤＣｌ₃、６７．９ＭＨ
ｚ）：３８．１２，４３．１９，４７．８５，１２６．
４９，１２７．８３，１２８．３１，１２８．４１，１
２８．４６，１２８．６０，１４３．５１

【０１０７】＜実施例２６＞１−クロロ−２−（クロロ
フェニル）２−フェニルエタンの生成ｐ−クロロフェナシルクロリド（４．０ｍｍｏｌ）とジ
メチルクロロシラン（４．０ｍｍｏｌ）をインジウム
（III）クロライド（１．０ｍｍｏｌ）存在下でベンゼ
ン（２０ｍＬ）中で反応を行った。クロマトグラフィー
（ヘキサン／エチルエーテル＝１０／１）および蒸留
後、白色固体として上記生成物（０．２２ｇ、収率２２
％）を得た。

【０１０８】生成物；沸点（ｂｐ）：１２０℃／１ｍｍＨｇ¹ Ｈ−ＮＭＲ（δｐｐｍ、ＣＤＣｌ₃、２７０ＭＨｚ）：
４．０１（ｄ，Ｊ＝７．３Ｈｚ，２Ｈ）、４．２９
（ｔ，Ｊ＝７．８Ｈｚ，１Ｈ）、７．０５−７．５１
（ｍ，ａｒｏｍａ，９Ｈ）¹³ Ｃ−ＮＭＲ（δｐｐｍ、ＣＤＣｌ₃、６７．９ＭＨ
ｚ）：４６．８９，５２．８９，１２６．５２，１２
７．２２，１２７．３１，１２７．６２，１２７．８
６，１２７．９４，１２８．１１，１２８．３８，１２
８．４３，１２８．７１，１２８．７７，１２９．０
０，１２９．２７，１２９．３９，１３２．８２，１３
３．１２，１３５．７９

【０１０９】＜実施例２７＞ジフェニルメタンの生成窒素雰囲気下、塩化アルミニウム２６０ｍｇ（２０ｍｍ
ｏｌ）を加え、溶媒としてベンゼン２ｍＬを加えた。次
いで、ベンズアルデヒド１００ｍｇ（１ｍｍｏｌ）を加
えた後、ジメチルクロロシラン１５０ｍｇ（１５ｍｍｏ
ｌ）を加え、７０℃で１時間攪拌を行った。ガスクロマ
トグラフィーで原料の消失を確認した後、反応液にジエ
チルエーテル４０ｍＬと水５０ｍＬを加え、分液した。
得られた有機層からガスクロマトグラフィーの内部標準
法による計算で、目的物であるジフェニルメタンを収率
７８％で得た。

【０１１０】生成物；実施例１と同様

【０１１１】＜実施例２８＞ジフェニルメタンの生成室温（２５度）において、インジウム金属１１ｍｇ
（０．１ｍｍｏｌ）をベンゼン５０ｍｌに加え、これに
対して、ベンズアルデヒド１．０６ｇ（１０ｍｍｏｌ）
とジメチルクロロシラン９５０ｍｇ（１０ｍｍｏｌ）を
加え、１４時間攪拌する。そののち、同様な処理により
ジフェニルメタンｇ（９９％収率）を得た。なお、
酸化インジウム（Ｉｎ₂Ｏ₃）を金属インジウムの代わり
に用い、８１時間反応させるとジフェニルメタンの収率
は４３％となった。

【０１１２】生成物；実施例１と同様

【０１１３】＜比較例１＞スカンジウムトリフルオロメ
タンスルホネート（Ｓｃ（ＯＴｆ）₃）０．１ｍｏｌに
ベンゼンを加え、ついで１．１ｍｏｌの１，３−プロパ
ンジオールと１．０ｍｏｌのベンズアルデヒドを加え、
１２５℃で１０時間加熱した。ここに水を加えた後、ジ
エチルエーテルで３回抽出した。得られた有機層を硫酸
マグネシウムで乾燥した後、ガスクロマトグラフィーに
て分析し、生成物であるジフェニルメタンを収率７０％
で得た。

【０１１４】なお、本発明に係る置換芳香族化合物の製
造方法によれば、実施例１６〜１９、２３、２５〜２６
に示すように、カルボニル基でのみフリーデル−クラフ
ツ反応が進み、通常フリーデル−クラフツ反応が進むア
ルキルハライドでは未反応であることが判明した。すな
わち、本発明の製造方法では、選択的にカルボニル基で
フリーデル−クラフツ反応が優先的に進むことが判明し
た。

【０１１５】

【発明の効果】以上のように、本発明に係る置換芳香族
化合物の製造方法によれば、触媒量のルイス酸を用いて
反応性の低い電子吸引基を有する芳香族化合物でもアル
キル化反応を行うことができる。また、従来芳香族化合
物のアルキル化が難しかったケトン類でもアルキル化が
可能になる。更に、温和な反応条件により芳香族化合物
のアルキル化が可能であり、本発明に係る置換芳香族化
合物の製造方法は、有用である。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁷ 識別記号ＦＩテーマコート゛(参考）Ｃ０７Ｃ 67/293 Ｃ０７Ｃ 67/293 69/157 69/157 // Ｃ０７Ｂ 61/00 ３００Ｃ０７Ｂ 61/00 ３００

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】式１で表されるけい素化合物の存在下、
ルイス酸を触媒として、式２で表されるケトンまたはア
ルデヒド、または式３で表されるアセタールまたはケタ
ールと、芳香族化合物を反応させることを特徴とする、
式４で表される置換芳香族化合物の製造方法。【化１】（式中、Ｒ及びＲ′、Ｒ″は、置換されてもよいフェニ
ル基、低級アルキル基、塩素原子を意味し、それぞれ同
一であっても同一でなくてもよい。）【化２】（式中、Ｒ¹は、置換されてもよい低級アルキル基、低
級アルケニル基または芳香環基を意味し、Ｒ²は、水素
原子または置換されてもよい低級アルキル基、低級アル
ケニル基または芳香環基を意味する。また、Ｒ¹または
Ｒ²は、単結合で結びつき環を形成してもよい。但し、
Ｒ²は、Ｒ¹が水素原子の場合には芳香環基であり、Ｒ¹
が水素以外の場合には置換されてもよい低級アルキル
基、低級アルケニル基または芳香環基である。）【化３】（式中、Ｒ¹は、置換されてもよい低級アルキル基、低
級アルケニル基または芳香環基を意味し、Ｒ²は、水素
原子または置換されてもよい低級アルキル基、低級アル
ケニル基または芳香環基を意味する。また、Ｒ¹または
Ｒ²は、単結合で結びつき環を形成してもよい。また、
２つのＲ³は相互に単結合で結びつき環を形成してもよ
い。）【化４】（式中、Ｒ¹は、置換されてもよい低級アルキル基、低
級アルケニル基または芳香環基を意味し、Ｒ²は、水素
原子または置換されてもよい低級アルキル基、低級アル
ケニル基または芳香環基を意味する。また、Ａｒは、置
換されてもよい芳香環を意味する。）
【請求項２】請求項１に記載の置換芳香族化合物の製
造方法において、前記ルイス酸は、ハロゲン化アルミニ
ウム化合物であることを特徴とする置換芳香族化合物の
製造方法。
【請求項３】請求項１または請求項２に記載の置換芳
香族化合物の製造方法において、前記けい素化合物は、ジメチルクロロシラン、ジクロロ
メチルシラン、トリメチルシラン、ジエチルメチルシラ
ン、ジクロロエチルシラン、ジメチルエチルシランまた
はトリエチルシランの少なくとも１つであることを特徴
とする置換芳香族化合物の製造方法。
【請求項４】請求項１乃至請求項３のいずれかに記載
の置換芳香族化合物の製造方法において、前記式２から式４のＲ¹、Ｒ²は、アルキル基、アルケニ
ル基、アリール基であるが、適宜ハロゲン原子、シアノ
基、ニトロ基、カルボキシル基、アミノ基、アシルアミ
ノ基、カルバモイル基、低級アルキル基、アルコキシカ
ルボニル基、ハロ低級アルキル基、低級アルキルオキシ
基、低級アルキルチオ基、低級アルキニル基が一つまた
は複数置換してもよく、前記Ａｒは、アリール基または複素芳香環基であること
を特徴とする置換芳香族化合物の製造方法。
【請求項５】請求項１乃至請求項３のいずれかに記載
の置換芳香族化合物の製造方法において、前記式２から式４のＲ¹，Ｒ²は、メチル基、エチル基、
クロロメチル基、２−クロロメチル基、メトキシカルボ
ニル基、フェニル基、４−クロロフェニル基、４−メチ
ルフェニル基、４−トリフルオロフェニル基、４−メト
キシカルボニルフェニル基、ナフチル基であり、Ａｒは
ベンゼン、トルエン、エチルベンゼン、キシレン、メト
キシベンゼン、ブロモベンゼン、チオフェン、ナフタレ
ンであることを特徴とする置換芳香族化合物の製造方
法。
【請求項６】上記式１で表されるけい素化合物の存在
下、インジム化合物を触媒として、上記式２で表される
ケトンまたはアルデヒド、または上記式３で表されるア
セタールまたはケタールと、芳香族化合物を反応させる
ことを特徴とする、上記式４で表される置換芳香族化合
物の製造方法。
【請求項７】請求項６に記載の置換芳香族化合物の製
造方法において、前記インジウム化合物は、トリス（トリフルオロ酢酸）
インジウムまたはハロゲン化インジウムまたはインジウ
ム金属またはインジウム酸化物であることを特徴とする
置換芳香族化合物の製造方法。