[go: up one dir, main page]

FR2674450B1 - Procede pour deposer un revetement sur un substrat par projection au plasma, et dispositif pour la mise en óoeuvre du procede. - Google Patents

Procede pour deposer un revetement sur un substrat par projection au plasma, et dispositif pour la mise en óoeuvre du procede.

Info

Publication number
FR2674450B1
FR2674450B1 FR9103621A FR9103621A FR2674450B1 FR 2674450 B1 FR2674450 B1 FR 2674450B1 FR 9103621 A FR9103621 A FR 9103621A FR 9103621 A FR9103621 A FR 9103621A FR 2674450 B1 FR2674450 B1 FR 2674450B1
Authority
FR
France
Prior art keywords
depositing
implementing
coating
substrate
plasma spraying
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Fee Related
Application number
FR9103621A
Other languages
English (en)
Other versions
FR2674450A1 (fr
Inventor
Martin Hermann Lang
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Agence Spatiale Europeenne
Original Assignee
Agence Spatiale Europeenne
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Agence Spatiale Europeenne filed Critical Agence Spatiale Europeenne
Priority to FR9103621A priority Critical patent/FR2674450B1/fr
Priority to US07/856,535 priority patent/US5239161A/en
Priority to CA002063899A priority patent/CA2063899A1/fr
Priority to DK92400803.0T priority patent/DK0506552T3/da
Priority to DE69203127T priority patent/DE69203127T2/de
Priority to EP92400803A priority patent/EP0506552B1/fr
Priority to ES92400803T priority patent/ES2076703T3/es
Priority to JP4100665A priority patent/JPH0657397A/ja
Publication of FR2674450A1 publication Critical patent/FR2674450A1/fr
Application granted granted Critical
Publication of FR2674450B1 publication Critical patent/FR2674450B1/fr
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B05—SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05B—SPRAYING APPARATUS; ATOMISING APPARATUS; NOZZLES
    • B05B7/00—Spraying apparatus for discharge of liquids or other fluent materials from two or more sources, e.g. of liquid and air, of powder and gas
    • B05B7/16—Spraying apparatus for discharge of liquids or other fluent materials from two or more sources, e.g. of liquid and air, of powder and gas incorporating means for heating or cooling the material to be sprayed
    • B05B7/22—Spraying apparatus for discharge of liquids or other fluent materials from two or more sources, e.g. of liquid and air, of powder and gas incorporating means for heating or cooling the material to be sprayed electrically, magnetically or electromagnetically, e.g. by arc
    • B05B7/222—Spraying apparatus for discharge of liquids or other fluent materials from two or more sources, e.g. of liquid and air, of powder and gas incorporating means for heating or cooling the material to be sprayed electrically, magnetically or electromagnetically, e.g. by arc using an arc
    • B05B7/226—Spraying apparatus for discharge of liquids or other fluent materials from two or more sources, e.g. of liquid and air, of powder and gas incorporating means for heating or cooling the material to be sprayed electrically, magnetically or electromagnetically, e.g. by arc using an arc the material being originally a particulate material
    • H—ELECTRICITY
    • H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05H—PLASMA TECHNIQUE; PRODUCTION OF ACCELERATED ELECTRICALLY-CHARGED PARTICLES OR OF NEUTRONS; PRODUCTION OR ACCELERATION OF NEUTRAL MOLECULAR OR ATOMIC BEAMS
    • H05H1/00—Generating plasma; Handling plasma
    • H05H1/24—Generating plasma
    • H05H1/26—Plasma torches
    • H05H1/32—Plasma torches using an arc
    • H05H1/34—Details, e.g. electrodes, nozzles

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Plasma & Fusion (AREA)
  • Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
  • Electromagnetism (AREA)
  • Nozzles (AREA)
  • Coating By Spraying Or Casting (AREA)
  • Chemical Vapour Deposition (AREA)
  • Plasma Technology (AREA)
FR9103621A 1991-03-26 1991-03-26 Procede pour deposer un revetement sur un substrat par projection au plasma, et dispositif pour la mise en óoeuvre du procede. Expired - Fee Related FR2674450B1 (fr)

Priority Applications (8)

Application Number Priority Date Filing Date Title
FR9103621A FR2674450B1 (fr) 1991-03-26 1991-03-26 Procede pour deposer un revetement sur un substrat par projection au plasma, et dispositif pour la mise en óoeuvre du procede.
CA002063899A CA2063899A1 (fr) 1991-03-26 1992-03-24 Procede pour traiter par exemple la surface d'un substrat par projection d'un flux de plasma, et dispositif pour la mise en oeuvre du procede
US07/856,535 US5239161A (en) 1991-03-26 1992-03-24 Plasma flux spraying method of treating the surface of a substrate, for example, and apparatus for implementing the method
DE69203127T DE69203127T2 (de) 1991-03-26 1992-03-25 Verfahren zur Behandlung zum Beispiel einer Substratoberfläche durch Spritzen eines Plasmaflusses und Vorrichtung zur Durchführung des Verfahrens.
DK92400803.0T DK0506552T3 (da) 1991-03-26 1992-03-25 Fremgangsmåde til behandling af eksempelvis overfladen af et substrat ved plasmafluxspraying samt anordning til udøvelse af fremgangsmåden
EP92400803A EP0506552B1 (fr) 1991-03-26 1992-03-25 Procédé pour traiter par exemple la surface d'un substrat par projection d'un flux de plasma, et dispositif pour la mise en oeuvre du procédé
ES92400803T ES2076703T3 (es) 1991-03-26 1992-03-25 Procedimiento para tratar, por ejemplo, la superficie de un sustrato mediante proyeccion de un flujo de plasma, y dispositivo de puesta en practica del mismo.
JP4100665A JPH0657397A (ja) 1991-03-26 1992-03-26 基材等の対象物のプラズマ表面処理方法および装置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
FR9103621A FR2674450B1 (fr) 1991-03-26 1991-03-26 Procede pour deposer un revetement sur un substrat par projection au plasma, et dispositif pour la mise en óoeuvre du procede.

Publications (2)

Publication Number Publication Date
FR2674450A1 FR2674450A1 (fr) 1992-10-02
FR2674450B1 true FR2674450B1 (fr) 1994-01-21

Family

ID=9411110

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
FR9103621A Expired - Fee Related FR2674450B1 (fr) 1991-03-26 1991-03-26 Procede pour deposer un revetement sur un substrat par projection au plasma, et dispositif pour la mise en óoeuvre du procede.

Country Status (8)

Country Link
US (1) US5239161A (fr)
EP (1) EP0506552B1 (fr)
JP (1) JPH0657397A (fr)
CA (1) CA2063899A1 (fr)
DE (1) DE69203127T2 (fr)
DK (1) DK0506552T3 (fr)
ES (1) ES2076703T3 (fr)
FR (1) FR2674450B1 (fr)

Families Citing this family (25)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5679167A (en) * 1994-08-18 1997-10-21 Sulzer Metco Ag Plasma gun apparatus for forming dense, uniform coatings on large substrates
DE59700524D1 (de) * 1996-12-23 1999-11-11 Sulzer Metco Ag Wohlen Indirektes Plasmatron
DE19820240C2 (de) 1998-05-06 2002-07-11 Erbe Elektromedizin Elektrochirurgisches Instrument
DE10011274A1 (de) * 2000-03-08 2001-09-13 Wolff Walsrode Ag Plasmabehandelte bahnförmige Werkstoffe
US6476342B1 (en) * 2000-11-24 2002-11-05 Creo Srl Method of surface preparation using plasma in air
TWI274622B (en) * 2003-04-28 2007-03-01 Air Prod & Chem Apparatus and method for removal of surface oxides via fluxless technique involving electron attachment and remote ion generation
US7079370B2 (en) * 2003-04-28 2006-07-18 Air Products And Chemicals, Inc. Apparatus and method for removal of surface oxides via fluxless technique electron attachment and remote ion generation
US7521653B2 (en) * 2004-08-03 2009-04-21 Exatec Llc Plasma arc coating system
US7434719B2 (en) * 2005-12-09 2008-10-14 Air Products And Chemicals, Inc. Addition of D2 to H2 to detect and calibrate atomic hydrogen formed by dissociative electron attachment
CN101601333A (zh) * 2006-12-28 2009-12-09 埃克阿泰克有限责任公司 用于等离子电弧涂敷的方法和设备
CN101688306B (zh) * 2007-05-17 2011-08-17 埃克阿泰克有限责任公司 用于在共用等离子涂覆区沉积多种涂覆材料的装置与方法
JP5710185B2 (ja) * 2010-09-10 2015-04-30 株式会社Ｃｍｃ総合研究所 微小コイルの製造方法及び製造装置
EP2431995A1 (fr) * 2010-09-17 2012-03-21 Asociacion de la Industria Navarra (AIN) Dispositif d'ionisation
USD681706S1 (en) * 2010-12-30 2013-05-07 Sulzer Metco (Us), Inc. Neutrode stack
US11783138B2 (en) 2012-04-04 2023-10-10 Hypertherm, Inc. Configuring signal devices in thermal processing systems
US11432393B2 (en) 2013-11-13 2022-08-30 Hypertherm, Inc. Cost effective cartridge for a plasma arc torch
US12275082B2 (en) 2013-11-13 2025-04-15 Hypertherm, Inc. Consumable cartridge for a plasma arc cutting system
US11278983B2 (en) 2013-11-13 2022-03-22 Hypertherm, Inc. Consumable cartridge for a plasma arc cutting system
US11684995B2 (en) 2013-11-13 2023-06-27 Hypertherm, Inc. Cost effective cartridge for a plasma arc torch
US10456855B2 (en) 2013-11-13 2019-10-29 Hypertherm, Inc. Consumable cartridge for a plasma arc cutting system
US9981335B2 (en) 2013-11-13 2018-05-29 Hypertherm, Inc. Consumable cartridge for a plasma arc cutting system
AU2015301727B2 (en) * 2014-08-12 2020-05-14 Hypertherm, Inc. Cost effective cartridge for a plasma arc torch
JP7073251B2 (ja) 2015-08-04 2022-05-23 ハイパーサーム インコーポレイテッド 液冷プラズマアークトーチ用カートリッジフレーム
JP7221204B2 (ja) 2017-02-09 2023-02-13 ハイパーサーム インコーポレイテッド プラズマアークトーチ用のカートリッジフレーム及び消耗カートリッジ
CN108257906B (zh) * 2018-01-16 2021-05-04 京东方科技集团股份有限公司 吹气装置、吸附机台和柔性基板承载系统

Family Cites Families (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
GB1177941A (en) * 1965-12-22 1970-01-14 Tetronics Res And Dev Company Improvements in or relating to High Temperature Apparatus
US3573090A (en) * 1968-12-09 1971-03-30 Avco Corp Method of applying a plasma spray coating
FR2039566A5 (fr) * 1969-03-31 1971-01-15 Soudure Autogene Elect
BE763709A (fr) * 1971-03-03 1971-08-02 Soudure Autogene Elect Plasma en rideau.
CA1272661A (fr) * 1985-05-11 1990-08-14 Yuji Chiba Appareil reacteur
US4916273A (en) * 1987-03-11 1990-04-10 Browning James A High-velocity controlled-temperature plasma spray method
US5090482A (en) * 1990-01-03 1992-02-25 Spectronix Ltd. Method and apparatus for extinguishing fires

Also Published As

Publication number Publication date
DK0506552T3 (da) 1995-11-06
ES2076703T3 (es) 1995-11-01
EP0506552B1 (fr) 1995-06-28
FR2674450A1 (fr) 1992-10-02
DE69203127T2 (de) 1995-11-30
CA2063899A1 (fr) 1992-09-27
EP0506552A1 (fr) 1992-09-30
US5239161A (en) 1993-08-24
JPH0657397A (ja) 1994-03-01
DE69203127D1 (de) 1995-08-03

Similar Documents

Publication Publication Date Title
FR2674450B1 (fr) Procede pour deposer un revetement sur un substrat par projection au plasma, et dispositif pour la mise en óoeuvre du procede.
FR2648156B1 (fr) Appareil et methode pour deposer par pulverisation cathodique un revetement sur un substrat
FR2698882B1 (fr) Procédé pour former un revêtement protecteur sur un substrat.
FR2781493B1 (fr) Enduit magnetique, procede d'enduction mettant en oeuvre un tel enduit et dispositif pour la mise en oeuvre du procede
FR2735751B1 (fr) Dispositif antivol, notamment pour bouteille
FR2715501B1 (fr) Procédé de dépôt de lames semiconductrices sur un support.
FR2675686B3 (fr) Dispositif de revetement pour membre artificiel.
FR2669735B2 (fr) Procede et dispositif de mise en evidence d'un ou de choc(s) recu(s) par un substrat.
FR2767603B1 (fr) Procede de fabrication d'un dispositif a semiconducteur sur un substrat semiconducteur
FR2695943B1 (fr) Procédé de dépôt en phase vapeur d'un film en verre fluoré sur un substrat.
FR2681641B1 (fr) Dispositif de refroidissement pour moteurs a reaction, notamment pour moteurs a reaction hypersoniques.
FR2668668B1 (fr) Generateur de tension de substrat pour un dispositif a semiconducteurs.
GB2267244B (en) A process for forming a coating on a superalloy component, and the coated component produced thereby
ZA928331B (en) Apparatus for depositing on a substrate by chemical vapour deposition.
FR2714769B1 (fr) Antenne micro-ruban conique préparée sur un substrat plan, et procédé pour sa préparation.
EP0632499A3 (fr) Substrat pour dispositif semi-conducteur.
FR2677043B1 (fr) Procede, dispositif et appareil pour traiter un substrat par un plasma basse pression.
FR2707799B1 (fr) Procédé de formation d'un revêtement céramique, substrat revêtu par ce procédé et composition utilisée dans ce procédé.
FR2812665B1 (fr) Procede de depot de revetement par plasma, dispositif de mise en oeuvre du procede et revetement obtenu par un tel procede
FR2666032B1 (fr) Procede pour appliquer un revetement sur un substrat, dispositif pour la mise en óoeuvre du procede et revetement obtenu par le procede.
FR2693623B1 (fr) Dispositif pour greffer un plant.
FR2704691B1 (fr) Procédé d'enrobage de composants électroniques hybrides par billes sur un substrat.
FR2680120B1 (fr) Procede et dispositif de revetement de surfaces munies de perforations par projection, notamment pour la metallisation par du plasma.
FR2711035B1 (fr) Dispositif et procédé pour former un plasma par application de micro-ondes.
EP0635877A3 (fr) Appareil et procédé de dépÔt de verre borphosphosilicate sur un substrat.

Legal Events

Date Code Title Description
ST Notification of lapse