ES2253308T3 - Procedimiento de sol-gel para la produccion de preformas de fibra optica. - Google Patents
Procedimiento de sol-gel para la produccion de preformas de fibra optica.Info
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Abstract
Un procedimiento de sol-gel para la fabricación de preformas de fibra óptica o sobre-revestimientos que comprende las operaciones de preparar un sol, permitir que el sol se convierta en gel bajo la rotación a alta velocidad, con el fin de obtener un gel cilíndrico, secar el gel húmedo hasta conseguir un gel poroso seco mediante el secado supercrítico y densificar el gel seco para obtener un vidrio totalmente denso mediante tratamientos térmicos, en el que los mencionados tratamientos térmicos de densidificación comprenden un tratamiento de calcinación realizado bajo oxigeno puro o una mezcla de oxígeno y un gas o gases inertes, caracterizado porque durante este tratamiento de calcinación el gel sometido al menos a una fase de presión reducida, en el que la mencionada presión reducida es al menos de 300 milibares por debajo de la presión atmosférica.
Description
Procedimiento de sol-gel para la
producción de preformas de fibra óptica.
La presente invención está relacionada con un
procedimiento de sol-gel para la fabricación de
preformas de fibra óptica o bien vainas de revestimiento.
Tal como es bien conocido, las fibras ópticas que
se utilizan ampliamente en las telecomunicaciones están constituidas
por una parte central, el denominado "núcleo", y una capa que
rodea el núcleo, denominada generalmente como la "vaina de
revestimiento". La diferencia entre el índice de refracción del
núcleo y de la vaina de revestimiento se encuentra en el rango de
0,1-1% que confina la luz en el núcleo. Esta
diferencia del índice de refracción se obtiene a través de las
distintas composiciones químicas para el núcleo y para la vaina de
revestimiento.
Aunque se ha estudiado muchas combinaciones, la
más común es un núcleo de cristal de oxido de silito dopado con
óxido de germanio (GeO_{2}-SiO_{2}) rodeado de
una vaina de revestimiento de cristal de SiO_{2}. Las fibras
ópticas más ampliamente utilizadas son las del tipo monomodo, que
tienen la característica de permitir solo la transmisión de una
longitud de onda de la luz. Estas fibras tienen generalmente un
diámetro del núcleo de aproximadamente 4-8 \mum y
un diámetro exterior de la vaina de revestimiento de 125 \mum.
El parámetro más importante en la evaluación de
la calidad de una fibra es su pérdida óptica, que está debida
principalmente a la absorción de la luz y a los mecanismos de
dispersión de la luz en la fibra, midiéndose en decibelios por
kilómetro de fibra (dB/Km).
Como es bien conocido por los técnicos
especializados en el arte, la atenuación UV es debida principalmente
a la absorción por cationes (tal como los cationes metálicos de
transición) presentes en el núcleo de la fibra, mientras que la
atenuación en el campo de IR está debida principalmente a la
absorción por los grupos -OH que pueden estar presentes en el
vidrio. En forma intermedia, la pérdida óptica está debida
principalmente a los fenómenos de dispersión, atribuibles a las
fluctuaciones del índice de refracción debido a la no homogeneidad
en la densidad del vidrio, así como también a los defectos en la
estructura de la fibra, tales como las imperfecciones en la
superficie de contacto de la vaina de revestimiento, burbujas o
grietas en la fibra, o bien impurezas incorporadas en la fibra como
resultado del procedimiento de fabricación.
Las fibras ópticas se fabrican mediante el
estirado de una preforma a temperatura en torno a 2200ºC. La
preforma es un producto intermedio en la fabricación de las fibras,
compuesta por una barra interna y un revestimiento exterior
correspondiente al núcleo y a la vaina de revestimiento en la fibra
final. La relación de diámetros del revestimiento con respecto a la
barra en la preforma es la misma que la relación de la vaina de
revestimiento con respecto al núcleo en la fibra final. A
continuación los términos de barra y de núcleo se utilizarán para
las partes internas respectivamente de la preforma y de la fibra
final, mientras que el término de vaina de revestimiento se
utilizará para designar la parte externa de tanto las preformas como
las fibras.
Es conocido que la vaina de revestimiento de las
fibras ópticas disponibles comercialmente se fabrica mediante varias
modificaciones del procedimiento de Deposición de Vapores Químicos
básica (CVD). Todos los procedimientos derivados del sistema CVD
implican generalmente el uso de mezclas gaseosas que comprenden
oxígeno (O_{2}) y cloruro de silicio (SiCL_{4}), o bien cloruro
de germanio (GeCl_{4}) en un soplete para fabricar SiO_{2} y
GeO_{2} de acuerdo con las reacciones:
(I)SiCl_{4}(g)
+ O_{2}(g) \rightarrow SiO_{2}(s) + 2
Cl_{2}(g)
\vskip1.000000\baselineskip
(II)GeCl_{4}(g) + O_{2}(g)
\rightarrow GeO_{2}(s) + 2
Cl_{2}(g)
Los óxidos así producidos pueden ser depositados
en forma de partículas (denominadas como "hollín") sobre un
mandril que es extraído entonces, o bien alternativamente sobre la
superficie interna de un soporte de silicio tubular que es estirado
posteriormente como una parte de la fibra final.
Los procedimientos basados en el sistema CVD han
probado ser capaces de fabricar fibras ópticas con pérdidas tan
bajas como de aproximadamente 0,2 dB/Km (para una longitud de onda
de luz transmitida de 1,55 \mum), y que representan los últimos
avances en este campo.
Aunque estos métodos de fabricación son
completamente satisfactorios desde el punto de vista de las
prestaciones, sus velocidades de fabricación están limitadas, dando
lugar por tanto a unos costos altos en su fabricación.
El procedimiento de sol-gel es un
procedimiento químico para fabricar vidrios o cerámicas comenzando a
partir de una solución química, lo cual con respecto al
procedimiento CVD permite varios modificaciones posibles, todo lo
cual está no obstante caracterizado porque comprende las etapas
siguientes:
\newpage
- -
- Preparación del sol. En esta etapa, un precursor que contenga un catión cuyo óxido se tiene que producir, es dispersado o disuelto en un medio líquido. Dependiendo de la naturaleza del precursor, el medio líquido puede ser agua, un alcohol, o una mezcla hidro-alcohólica. La dispersión o disolución del precursor puede activarse por la utilización de medios químicos, tales como ácidos, o bien medios mecánicos y/o físicos, tal la agitación vigorosa o agitación ultrasónica. En el caso de silicio, los precursores más utilizados normalmente son los alkoxidos, tales como el Si(OCH_{3})_{4} (Tetrametilortosilano o TMOS) y Si (OCH_{2}CH_{3})_{4} (Tetraetilortosilano o TEOS), o bien nanopartículas de sílice pirogénica fabricadas de acuerdo con la reacción (I) anterior; un ejemplo disponible comercialmente de esta forma de sílice es el Aerosol OX 50 fabricado por Degusta A. G. Pueden obtenerse composiciones de óxidos mezclados mediante la preparación en esta etapa de un sol incluyendo los precursores de más de un catión;
- -
- Gelación del sol. En esta etapa, las moléculas o partículas del precursor reaccionan formando una red tridimensional de enlaces de catión-oxígeno. El resultado final de este procedimiento es un producto monolítico poroso compuesto por un polímero inorgánico que incluye esencialmente la cantidad total del catión añadido inicialmente en la forma de su precursor;
- -
- Secado del gel húmedo. El gel producido en la etapa primera contiene en sus poros todo el líquido presente inicialmente como disolvente del sol, y posiblemente otros líquidos añadidos o generados durante el procedimiento. En esta etapa, la fase liquida en los poros del gel es eliminada completamente. Esto puede realizarse por la evaporación normal de la fase líquida, obteniendo un denominado "xerogel" o mediante la extracción supercrítica del líquido, obteniendo un denominado "aerogel". Los xerogeles y los aherrójeles difieren en algunas características física: los xerogeles tienen poros de diámetro generalmente menores que los poros de los aherrójeles; así mismo, los xerogeles tienen generalmente una superficie hidrofílica, mientras que los aerogeles tiene generalmente una superficie hidrofóbica. Independientemente de estas diferencias, un gel seco (tanto el xerogel como el aerogel) corresponde esencialmente al producto de los procedimientos CVD.
Los geles secos así obtenidos pueden ser entonces
densificados hasta el vidrio correspondiente mediante tratamiento
térmicos adecuados. La temperatura de densificación de los geles
secos está entre aproximadamente 900ºC y 1500ºC como máximo,
dependiendo de los precursores utilizados y del procedimiento de
fabricación. Los aerogeles tienen en general unas temperaturas más
altas de densificación que los xerogeles.
Como es bien conocido, durante los tratamientos
térmicos para completar la densificación del gel seco, es posible
incluir operaciones para su limpieza química. Mediante estos
tratamientos, es posible aprovechar la ventaja de la porosidad del
gel seco para las etapas de "lavado" de la fase de gas, capaz
de eliminar las impurezas orgánicas dejadas en el gel por los
precursores organometálicos (tales como los materiales TMOS y TEOS
citados anteriormente), así como también el agua, grupos de
hidroxilo unidos a los cationes en la red del gel, o átomos de
metales no desea-
dos.
dos.
En general, la eliminación de impurezas orgánicas
se realiza mediante el tratamiento por calcinación, realizado
mediante el vertido de una atmósfera de oxidación (oxigeno o aire)
en el gel seco a temperaturas comprendidas entre aproximadamente 200
y 800ºC.
La eliminación de agua, grupos de hidroxilo y
metales extraños se realiza mediante un tratamiento de purificación,
vertiendo en el gel poros de Cl_{2}, HCl o CCl_{4}, posiblemente
en mezcla con gases inertes tales como nitrógeno o bien helio, a
temperaturas entre aproximadamente 400 y 800ºC.
La última etapa es generalmente un tratamiento de
lavado, realizado con gases inertes tales como el nitrógeno, helio o
argón, para eliminar completamente el cloro o los gases con
contenido de cloro de los poros del gel. Después de estos
tratamiento, el gel se densifica finalmente para rellenar el vidrio
denso mediante su calentamiento a una temperatura superior a 900ºC,
y normalmente con un valor superior a 1200ºC en una atmósfera de
He.
Los tratamientos de lavado descritos
anteriormente son efectivos en la limpieza de geles hasta un grado
tal que los vidrios que resulten de su densificación son adecuados
para la mayoría de las aplicaciones (generalmente, piezas mecánicas
o bien ópticas). No obstante, se ha encontrado que estos
tratamientos dejan residuos de compuestos gaseosos en el vidrio
denso. Durante el calentamiento a temperaturas en el rango de
1900-2200ºC necesarias para el estirado de las
fibras, estos residuos de compuestos gaseosos dan lugar a burbujas
microscópicas que representan los centros de la iniciación a
fracturas, conduciendo así a roturas de fibras y haciendo que los
procedimientos del arte anterior no sean los adecuados para la
fabricación de las fibras ópticas.
Evitar la formación de las burbujas es el objeto
de algunas patentes.
A partir de la patente de los EE.UU. número
4707174 se conoce como evitar las burbujas durante la sinterización
de los cuerpos de vidrio generados por un procedimiento de
sol-gel, mediante la adición de un compuesto de
fluor en el cuerpo de silicio poroso. No obstante, es conocido que
el fluor afecta al índice de refracción de los vidrios
(específicamente, rebajándolo), de forma que su uso puede no ser
deseable en la fabricación de vidrios para aplicaciones ópticas.
La patente de los EE.UU. número 5145510 expone
que es posible evitar la formación de burbujas en un vidrio derivado
del procedimiento de sol-gel mediante la eliminación
casi completa de los grupos -OH residuales en los polvos de gel
secos, sometiendo a estos a un tratamiento en una atmósfera que
contenga del 10% al 100% de vapor a una temperatura superior a
1000ºC. Este método no obstante es específico para los polvos
derivados del procedimiento de sol-gel, no siendo
por tanto aplicable a la fabricación directa a través del
procedimiento de sol-gel de preformas de fibra
óptica en su forma final.
La patente de los EE.UU. numero 5236483 expone un
método que aplicado a los vidrios derivados del xerogel, permite que
estos sean estirados y convertidos en fibras ópticas sin dar lugar a
la formación de burbujas. Este método consiste en un
post-tratamiento térmico del vidrio denso a una
temperatura comprendida entre 1500 y 2200ºC durante un tiempo
comprendido entre 10 segundos y 5 horas, seguido por un enfriamiento
gradual por debajo de 1200ºC, con el fin de no provocar tensiones
mecánicas en el vidrio final. El método expuesto en esta patente
puede aplicarse solamente a los vidrios derivados del xerogel. Los
xerogeles, no obstante, tienen el inconveniente de que precisan
tiempos largos para el secado (los ejemplos en la patente muestran
tiempos de secado de al menos de 7 días a 20 días para las muestras
de dimensiones más grandes).
Desde el punto de vista de los procedimientos
industriales, seria mejor fabricar vidrios a través de la ruta del
aerogel, porque el secado supercrítico precisa de
2-3 días, independientemente de las dimensiones de
cuerpo del gel seco.
El procedimiento de acuerdo con el documento
US-A-5236483 muestra el
inconveniente de que sometiendo un vidrio derivado del aerogel al
tratamiento térmico del documento
US-A-5236483 no evita la formación
de burbujas en las operaciones siguientes de estirado de la
fibra.
Los resúmenes de patentes del Japón Volumen 12,
numero 472, 9 de Diciembre 1988
(1988-12-09) y JP 63 190729 A (Seiki
Epson Corp.) expone un método para fabricar cristal de cuarzo que
tiene una alta calidad no conteniendo impurezas, obteniendo un
cristal sin burbujas de aire mediante la formación de gel húmedo por
la gelificación del sol obtenido por la hidrólisis de silicato de
alquilo y sinterizando el gel húmedo bajo condiciones específicas
después del secado del gel húmedo.
Los resúmenes de patentes de Japón, volumen 17,
número 533, 27 de Septiembre de 1993
(1993-09-27) y JP 05 147950 A (Seiko
Epson Corp.), expone un método de fabricación de un vidrio excelente
en sus características ópticas, eliminando al mismo tiempo la
producción de defectos estructurales mediante un método de un
procedimiento gel-sol.
Es por tanto el objeto de la presente invención
el proporcionar un procedimiento basado en el procedimiento de
sol-gel para la fabricación de preformas de fibra
óptica o vainas de revestimiento adecuadas para el estirado, dando
por resultado fibras ópticas con características comparables a las
fibras derivadas del procedimiento CVD del estado actual del
arte.
Esto se obtiene de acuerdo con la presente
invención con un procedimiento de sol-gel para la
fabricación de vainas de revestimiento de fibra óptica de preformas
completas que comprende las operaciones de la preparación de un sol,
permitiendo que el procedimiento de sol a gel bajo rotación a alta
velocidad con el fin de obtener un gel cilíndrico, secando el gel
húmedo hasta un gel seco mediante el secado supercrítico y
densificando el gel seco para densificar completamente el vidrio por
tratamientos térmicos, en el cual los tratamientos térmicos de
densificación comprenden un tratamiento de calcinación llevado a
cabo con oxígeno puro o una mezcla de oxígeno y un gas o gases
inertes, caracterizado porque durante este tratamiento de
calcinación, el gel está sometido al menos a una fase de presión
reducida, en el que la presión reducida es al menos de 300 milibares
por debajo de la presión atmosférica.
Puede utilizarse un gas inerte, un gas noble como
helio, argón, o nitrógeno.
El procedimiento de la invención soluciona el
problema de la formación de burbujas durante el estirado de las
fibras a partir de los vidrios derivados de los aerogeles. Los
inventores han encontrado sorprendentemente que a diferencia de los
xerogeles, los aerogeles pueden recoger los trazos de gas a
temperaturas relativamente bajas que no pueden ser eliminados con
los tratamientos de lavado del gas subsiguiente del gel poroso o con
tratamiento de recocido del vidrio denso resultante, tal como el
tratamiento del documento
US-A-5236483, mientras que estos
trazos de gas pueden ser eliminados con al menos una etapa de
presión reducida durante la calcinación, a temperaturas
comparativamente bajas.
Las primeras etapas del procedimiento de
sol-gel de acuerdo con la invención pueden llevarse
a cabo siguiendo cualquier receta conocida del procedimiento de
sol-gel. Por ejemplo, el sol puede ser fabricado
utilizando los alkoxidos de silicio (TMOS o TEOS o compuestos
similares), o bien como alternativa una suspensión de sílice
pirogénica tal como la Aeroxil OX 50 citada. Es posible también
preparar el sol utilizando una mezcla de alkoxidos y sílice
pirogénica tal como se expone en la patente de los EE.UU. número
4680048.
La estabilización de los distintos soles puede
obtenerse mediante el empleo de aditivos químicos de acuerdo con las
técnicas conocidas. Por ejemplo, los soles basados en alkóxidos son
estables a la gelificación para valor del pH por debajo de
aproximadamente 2 (adición de ácidos), mientras que los soles
pirogenicos basados en la sílice son estables a valores altos del
pH, por ejemplo, superiores a 11 (adición de bases). Pueden ser
añadidos aditivos tales como los agentes para el control de la
distribución de las dimensiones de los poros que ayuden a obtener
geles de una resistencia mecánica mejorada. Estos aditivos son, por
ejemplo, el glicerol, formamido y ácidos orgánicos tales como el
ácido oxálico expuesto en la patente de los EE.UU: número 4810674;
polímeros expuestos en la patente de los EE.UU. número 5240488; o
ácido ketomalonico de la patente de los EE.UU. número 5196382. La
homogeneidad de los soles puede estar asegurada mediante la
agitación mecánica o a través de la agitación ultrasónica.
El sol así preparado puede ser desestabilizado y
provocar un gel que cambie con la temperatura, o en particular en el
pH, incrementando el pH en el rango de 4-6 en el
caso de soles ácidos, o disminuyendo el pH por debajo de
aproximadamente 10,5 en el caso de soles básicos.
Tal como es bien conocido, la geometría de la
vaina de revestimiento se obtiene fácilmente mediante el vertido del
sol en un molde cilíndrico que tenga un volumen interno mayor que el
volumen del sol, y haciendo girar el molde a alta velocidad
alrededor de su eje durante todo el tiempo necesario para la
gelación completa.
La técnica está descrita, por ejemplo, en las
patentes de los EE.UU. números 4680045 y 4726828.
Alternativamente puede obtenerse una preforma de
fibra óptica que comprenda una sobre-vaina y una
barra central que puede hacerse girar mediante el vertido del sol en
un molde cilíndrico provisto con un segundo cilindro de un diámetro
externo apropiado, contenido y centrado dentro del primer cilindro
del molde. El segundo cilindro es eliminable por extracción, y tiene
que eliminarse después de la gelación del sol, pero antes de que
tenga lugar la sineresis. Esta técnica se describe en la patente de
los EE.UU. número 5240488. De esta forma es posible fabricar la
sobre-vaina de revestimiento de la preforma.
De acuerdo con la invención, se obtiene una
preforma de fibra óptica completa, que comprende un
sobre-revestimiento y una barra central mediante el
vertido del sol en un molde cilíndrico que contiene ya la mencionada
barra dispuesta coaxialmente en el molde, y que gira el molde a una
velocidad dada, dependiendo del radio de la barra.
Puede obtenerse una preforma completa de acuerdo
con lo expuesto en la solicitud de patente internacional número
WO-A-00/53536, con el nombre del
presente solicitante, que soluciona el problema de la fabricación de
un gel alrededor de un cuerpo duro. Esto no es posible en general
porque durante la gelificación la formación de la red del gel
tridimensional provoca que el material se encoja y reduzca sus
dimensiones laterales con un cierto porcentaje. Normalmente, los
geles formados alrededor de un cuerpo duro se agrietan debido a este
efecto de encogimiento. De acuerdo con la solicitud internacional
anterior, es posible no obstante obtener un gel alrededor de un
cuerpo duro mediante el vertido del sol en un molde que contenga ya
el mencionado cuerpo dispuesto coaxialmente con el molde y haciendo
entonces girar el molde a una velocidad dada, dependiendo del radio
del cuerpo duro. En el caso de la fabricación de las preformas de
fibra óptica completas, el cuerpo duro puede ser una barra de vidrio
cilíndrica totalmente denso de una composición de mezcla de
SiO_{2}-GeO_{2}, mientras que el sol comprende
solamente precursores de vidrio de
SiO_{2}.
SiO_{2}.
El gel húmedo obtenido (la
sobre-vaina de revestimiento, conteniendo
opcionalmente la barra interna) se seca entonces de acuerdo con la
técnica de la extracción supercrítica del líquido en los poros,
opcionalmente después al menos de un intercambio del líquido en los
poros del gel con otro que tenga unas constantes supercríticas
inferiores, siguiendo los principios bien conocidos para los
técnicos especializados en el arte.
El gel seco fabricado en las etapas anteriores
puede ser entonces sometido a la secuencia de tratamientos térmicos
que comprenden la calcinación para la eliminación de los residuos
orgánicos, tratamiento con cloro o un gas con contenido de cloro
para la eliminación de los iones de metal, y el "lavado" final
con un gas inerte para eliminar los residuos de los tratamientos
anteriores, con antelación a la densificación completa en
vidrio.
De acuerdo con la invención, al menos una fase de
presión reducida se ejecuta durante el tratamiento de calcinación.
El tratamiento de calcinación puede llevarse a cabo a una
temperatura comprendida entre 350ºC a 900ºC. En una modificación
preferida de la invención, la presión durante la fase de presión
reducida en una modificación preferida puede estar de 0,005 a 0,1
bares. Además de la fase de presión reducida (que esencialmente
tiene lugar bajo las condiciones del vacío), dicho tratamiento puede
llevarse a cabo bajo una atmósfera que contenga oxigeno solo o en
combinación con un gas noble o bien un gas inerte.
La presión reducida en la cámara del tratamiento
puede ser obtenida sencillamente mediante la extracción del gas
contenido con bombas mecánicas conectadas a una de las lumbreras
provistas en la cámara para hacer fluir los gases a través de las
mismas.
La invención se describirá con detalle a
continuación, y con referencia a las figuras adjuntas, en las
que:
- La figura 1 muestra esquemáticamente los
perfiles de la temperatura y presión durante el procedimiento de la
invención en una primera realización de la misma.
- La figura 2 muestra esquemáticamente los
perfiles de temperatura y presión durante el procedimiento de la
invención en una segunda realización posible de la misma.
De acuerdo con la figura 1, los perfiles de la
temperatura y la presión se observan como una función en el tiempo
(no se indican valores exactos del tiempo) durante la sección de
caracterización del procedimiento de la invención, es decir, la
calcinación. El perfil de la temperatura se expone mediante la
línea de trazo continuo, mientras que el perfil de la presión se
expone mediante la línea de puntos. En la figura se representa la
realización más sencilla posible del procedimiento de la invención,
en la que durante la calcinación se aplica una única fase de presión
reducida. Al comienzo del tratamiento térmico, la cámara en la que
se contiene el gel seco se evacua y se rellena de nuevo con la
atmósfera deseada, por ejemplo, oxígeno puro. Se inicia el
calentamiento entonces, llevando al gel desde la temperatura
ambiente a una temperatura superior a 350ºC, y que puede llegar a
ser tan alta como 900ºC. Durante el tratamiento térmico de acuerdo
con la figura 1, la presión se reduce una sola vez desde su valor
inicial de 1 bar a un valor comprendido entre 0,01 y 0,5 bares
(indicada en la figura como S.A.P., es decir, presión
sub-atmosférica), y retornada después a 1 bar en la
atmósfera de oxidación. Preferiblemente, el valor de presión
reducida está comprendido entre 0,05 y 0,1 bar. En la figura se
representa el caso sencillo en el cual la velocidad de calentamiento
se mantiene constante en el rango completo de temperaturas. No
obstante, tal como es bien conocido para los técnicos
especializados en el arte, los tratamientos térmicos de los geles
secos (entre los cuales se encuentra la calcinación) pueden
comprender varias partes, alternando las subidas de temperatura con
los niveles planos de temperatura.
De acuerdo con la figura 2 se representa
esquemáticamente una segunda realización posible del procedimiento
de la invención, en la cual los mismos símbolos aparecen con el
mismo significado como en la figura 1. Este segundo procedimiento es
esencialmente similar al descrito con referencia a la figura 1, con
la única diferencia de que se utiliza más de una fase de presión
reducida (la figura pone como ejemplo el caso de tres tratamientos).
En este caso, se exponen como ejemplo las temperaturas de distintas
fases del procedimiento. En este procedimiento en particular, una
primera fase de presión reducida se aplica a una temperatura
relativamente baja, en torno a 400ºC junto cuando comienza la
calcinación. Se aplica una segunda fase de presión reducida a una
temperatura intermedia, entre aproximadamente 500 y 700ºC; y una
tercera fase de presión reducida en torno al final del tratamiento
de calcinación, a una temperatura de aproximadamente 900ºC y durante
un fase de temperaturas al mismo nivel.
Después de la terminación del tratamiento de
calcinación de acuerdo con cualquiera de las realizaciones
anteriormente descritas, el gel seco se somete a los siguientes
tratamientos conocidos en el arte, es decir, una etapa de lavado en
cloro o en un gas conteniendo cloro, y el tratamiento final de
densificación, llevado a cabo generalmente bajo un gas noble tal
como el helio o bajo presión reducida.
El gel denso obtenido de acuerdo con este
procedimiento es adecuado para ser estirado sin desarrollar fisura
hasta obtener una fibra óptica que tenga unas características
comparables con las de las fibras derivadas del procedimiento CVD.
Las operaciones de estirado se llevan a cabo de acuerdo con los
procedimientos estándar adoptados normalmente para las preformas
derivadas del procedimiento CVD.
La invención se ilustrará adicionalmente mediante
los siguientes ejemplos, que representan también el mejor modo
contemplado en el momento actual por los inventores para la
realización de la invención.
(Comparativa)
Este ejemplo describe la fabricación de un
sobre-revestimiento de acuerdo con el arte
previo.
En una atmósfera limpia y exenta de contaminación
debida a partículas, se prepara un sol de la forma siguiente. Se
añaden 900 gramos de TEOS (tetraetilortosilano) a 2700 gramos de HCl
0,01N, mezclado mecánicamente para obtener una emulsión líquida de
dos líquidos no miscibles y agitando ultrasónicamente durante 25
minutos para hidrolizar el TEOS (tetraetilortosilano). El etanol
resultante de la hidrólisis se elimina en un evaporador a presión
reducida. Se añaden 570 gramos de SiO_{2} pirogénico (Aerosol
OX-50) y se homogenizan mediante la agitación
mecánica durante 20 minutos a 3000 rpm y durante 10 minutos a 10000
rpm. La suspensión se agita ultrasónicamente durante 10 minutos,
centrifugándose durante 20 minutos a 1000 g, acondicionándola a un
pH de 4 del diluido NH_{4}OH con una agitación vigorosa y vertido
en un molde cilíndrico acondicionado para una rotación axial. El
volumen interno del molde será de 2262 ml. El volumen de la
suspensión vertida en el molde es de 1965 ml. El molde sellado se
configura en rotación a 1200 rpm y se permite que la suspensión que
se convierta en un gel. Después de 8 horas, el gel se deshidrata en
acetona hasta que el contenido de H_{2}O en el líquido que rodea
el gel llegue a ser de un volumen de \leq 0,1%. La acetona se
reemplaza
entonces con n-heptano y el gel se seca hipercríticamente a una temperatura de 280ºC y a una presión de 55 bares.
entonces con n-heptano y el gel se seca hipercríticamente a una temperatura de 280ºC y a una presión de 55 bares.
Se obtiene un aerogel cilíndrico con las
siguientes dimensiones:
Diámetro exterior = 79,5 mm,
Diámetro interno = 29,0 mm,
Longitud = 440 mm.
El aerogel se somete entonces a una serie de
tratamientos térmicos para convertirlo en un vidrio de dióxido de
silicio totalmente denso.
Estos tratamientos se llevan a cabo introduciendo
el aerogel en un horno que tenga la cámara de muestras hecha de
cuarzo. La cámara de cuarzo está conectada a través de válvulas de
activación/desactivación controladas por ordenador en una tubería de
entrada de gas y en una tubería de ventilación, y a través de una
válvula sin retorno y en una bomba de vacío.
En particular, el aerogel se somete a los
siguientes tratamientos:
- (i)
- Una etapa de calcinación para eliminar las materias orgánicas, mediante el rellenado de la cámara de muestras a la temperatura ambiente con oxigeno puro a una presión de 1 bar, calentando hasta 800ºC durante 8 horas,
- (ii)
- Una etapa de eliminación de átomos metálicos que dure 46 horas a 800ºC mediante la utilización de una mezcla gaseosa al 20% de HCl en una atmósfera de helio, con una presión total de 1 bar;
- (iii)
- Una etapa de lavado en helio puro a 1 bar de presión, para eliminar los residuos de HCl y de cualesquiera otras especies gaseosas, realizándose a 800ºC durante 10 horas;
- (iv)
- Finalmente, un tratamiento de densificación realizado con el calentamiento del gel a una velocidad de 100ºC/hora de 800ºC a 1380ºC, en helio a 1 bar de presión.
Como resultado de este procedimiento, se obtendrá
un cilindro de vidrio, que tiene:
- \sqbullet
- Diámetro exterior = 42,0 mm,
- \sqbullet
- Diámetro interior = 15, 3 mm,
- \sqbullet
- Longitud = 232 mm.
Este cilindro es la muestra 1. La calidad del
vidrio evaluada por la inspección visual es excelente. No se
observan burbujas de gas mediante una inspección con láser.
(De acuerdo con la
invención)
Este ejemplo describe la fabricación de un
sobre-revestimiento de acuerdo con la invención.
Se fabrica un aerogel seco siguiendo el mismo
procedimiento expuesto en ejemplo 1. Este aerogel se somete a los
tratamientos de acondicionamiento y densificación similares a los
descritos en el ejemplo 1, además de la fase de calcinación llevada
a cabo de la forma siguiente: se rellena la cámara de muestras a la
temperatura ambiente con oxigeno puro a una presión de 1 bar,
calentando a 800ºC durante 4 horas, descendiendo la temperatura a
0,05 bares durante 2 horas y después otras 2 horas en oxigeno a 1
bar, manteniendo siempre la temperatura a 800ºC. El cambio de
presión de 1 bar a 0,05 bares se lleva a cabo a través de un
ordenador utilizando un programa que en unos instantes preajustados
activa la bomba de vacío, cerrando simultáneamente la tubería de
entrada de gas y las válvulas de la tubería de ventilación para
reiniciar la presión atmosférica con el gas deseado. Se obtiene un
cilindro de vidrio totalmente denso que tiene esencialmente las
dimensiones de la muestra 1.
Este cilindro es la muestra 2. La calidad del
vidrio evaluado mediante inspección visual es excelente. No se
observaron burbujas de gas mediante una inspección con rayo
láser.
Se compara el comportamiento de la alta
temperatura de las muestras 1 y 2.
Las muestras 1 y 2 se someten ambas a una
temperatura de 1750ºC durante 1 hora en el aire en un horno
apropiado. Después de enfriar, se cortan tiras de 1 cm de grosor a
partir de las dos muestras y se inspeccionan por si tuvieran
burbujas de gas mediante la microscopia óptica por transmisión y
mediante la dispersión por rayo láser. Los resultados se resumen en
la tabla 1.
| Muestra | Microscopia | Dispersión por láser |
| 1 | Algunas pequeñas burbujas, de lo | Algunas pequeñas burbujas, de lo |
| contrario calidad óptica. | contrario calidad óptica | |
| 2 | Sin burbujas, calidad óptica excelente | Sin burbujas, calidad óptica excelente |
Las muestras 1 y 2 se someten entonces a una
temperatura de 2200ºC bajo una atmósfera de nitrógeno en el horno de
una torre de tracción para el estirado de fibras ópticas.
La muestra 1 no puede ser traccionada con éxito
por la presencia de un numero considerable de burbujas de gas
desarrolladas en el material a la temperatura de la prueba.
La muestra 2 es traccionada en un tubo de 5 mm de
diámetro de una geometría cilíndrica perfecta y aparentemente de una
calidad óptica excelente.
El material de ambas muestras se inspecciona
entonces por si tuviera burbujas de gas mediante la microscopia
óptica de transmisión y mediante dispersión por láser. Los
resultados se resumen en la tabla 2.
| Muestra | Microscopia | Dispersión por láser |
| 1 | Presencia de muchas burbujas hasta de | Presencia de muchas burbujas hasta de |
| varios milímetros de dimensión | varios milímetros de dimensión | |
| 2 | Sin burbujas, excelente calidad óptica | Sin burbujas, excelente calidad óptica |
Tal como se deduce claramente a partir de los
resultados de las pruebas de alta temperatura expuestos
anteriormente, la muestra 2 fabricada de acuerdo con el
procedimiento de la invención puede ser tratada a la temperatura más
alta (2200ºC) y traccionada para reducir su sección. En este
procedimiento, no existe evidencia de problemas mecánicos debidos a
los defectos mecánicos en la muestra, y el análisis óptico del
cilindro que resulta de la operación de tracción no muestra
burbujas, con unas propiedades ópticas adecuadas para su utilización
en las comunicaciones con fibra óptica.
Por el contrario, la muestra 1, la cual está de
acuerdo con el arte, muestra la formación de pequeñas burbujas ya
incluso a la temperatura más baja de la prueba (1750ºC), que se
incrementan en numero y volumen con la temperatura más alta de la
prueba (2200ºC). Esto hace que sea imposible el uso de la muestra 1
para la formación de la fibra óptica. La muestra 1 provoca una alta
dispersión de la luz y una deficiente resistencia mecánica en el
estirado debido a la presencia de estas burbujas.
Claims (8)
1. Un procedimiento de sol-gel
para la fabricación de preformas de fibra óptica o
sobre-revestimientos que comprende las operaciones
de preparar un sol, permitir que el sol se convierta en gel bajo la
rotación a alta velocidad, con el fin de obtener un gel cilíndrico,
secar el gel húmedo hasta conseguir un gel poroso seco mediante el
secado supercrítico y densificar el gel seco para obtener un vidrio
totalmente denso mediante tratamientos térmicos, en el que los
mencionados tratamientos térmicos de densidificación comprenden un
tratamiento de calcinación realizado bajo oxigeno puro o una mezcla
de oxígeno y un gas o gases inertes, caracterizado porque
durante este tratamiento de calcinación el gel sometido al menos a
una fase de presión reducida, en el que la mencionada presión
reducida es al menos de 300 milibares por debajo de la presión
atmosférica.
2. Un procedimiento de sol-gel de
acuerdo con la reivindicación 1, en el que la presión durante la
mencionada fase de presión reducida es de 0,005 a 0,5 bares.
3. Un procedimiento de sol-gel de
acuerdo con la reivindicación 1, en el que el mencionado tratamiento
de calcinación se lleva a cabo a una temperatura comprendida desde
350ºC a 900ºC.
4. Un procedimiento de sol-gel de
acuerdo con la reivindicación 1, en el que el sol se prepara
utilizando uno o más alkoxidos de silicio o una suspensión de
sílice pirogénico o una mezcla de uno o más alkóxidos de silicio y
sílice pirogénica.
5. Un procedimiento de sol-gel de
acuerdo con la reivindicación 1, en el que se obtiene un
sobre-revestimiento de fibra óptica mediante el
vertido del sol en un molde cilíndrico que tiene un volumen interno
mayor que el volumen del sol, y haciendo girar el molde a una alta
velocidad alrededor de su eje durante todo el tiempo necesario para
la completa gelación.
6. Un procedimiento de sol-gel de
acuerdo con la reivindicación 1, en el que se obtiene una preforma
completa de fibra óptica que comprende un
sobre-revestimiento y una barra central, mediante el
vertido del sol en un molde cilíndrico que contiene ya la mencionada
barra dispuesta coaxialmente con el molde, y haciendo girar el molde
a una velocidad dada, dependiendo del radio de la barra.
7. Un procedimiento de sol-gel de
acuerdo con la reivindicación 6, en el que la barra es una barra de
vidrio cilíndrica totalmente densa de una composición de mezcla de
SiO_{2}-GeO_{2}, y en el que el sol comprende
solamente precursores de óxido de silicio.
8. Un procedimiento de sol-gel de
acuerdo con la reivindicación 1, en el que, antes de someter el gel
húmedo a un secado supercrítico, se lleva a cabo al menos un
intercambio del líquido en los poros del gel con otro que tenga unas
constantes supercríticas inferiores.
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| EP2521612B1 (en) * | 2010-01-08 | 2017-05-17 | University Of Tasmania | Use of porous polymer monoliths |
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