[go: up one dir, main page]

EP3291651B1 - Vorrichtung und verfahren zur erzeugung eines atmosphärischen plasmas - Google Patents

Vorrichtung und verfahren zur erzeugung eines atmosphärischen plasmas Download PDF

Info

Publication number
EP3291651B1
EP3291651B1 EP17001337.9A EP17001337A EP3291651B1 EP 3291651 B1 EP3291651 B1 EP 3291651B1 EP 17001337 A EP17001337 A EP 17001337A EP 3291651 B1 EP3291651 B1 EP 3291651B1
Authority
EP
European Patent Office
Prior art keywords
plasma
medium
wall
plasma head
housing
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
EP17001337.9A
Other languages
English (en)
French (fr)
Other versions
EP3291651A1 (de
Inventor
Manuel Kunz
André Hellinger
Sudarsan Vedantha
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Bdtronic GmbH
Original Assignee
Bdtronic GmbH
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Bdtronic GmbH filed Critical Bdtronic GmbH
Priority to RS20230008A priority Critical patent/RS63874B1/sr
Priority to SI201731291T priority patent/SI3291651T1/sl
Publication of EP3291651A1 publication Critical patent/EP3291651A1/de
Application granted granted Critical
Publication of EP3291651B1 publication Critical patent/EP3291651B1/de
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05HPLASMA TECHNIQUE; PRODUCTION OF ACCELERATED ELECTRICALLY-CHARGED PARTICLES OR OF NEUTRONS; PRODUCTION OR ACCELERATION OF NEUTRAL MOLECULAR OR ATOMIC BEAMS
    • H05H1/00Generating plasma; Handling plasma
    • H05H1/24Generating plasma
    • H05H1/26Plasma torches
    • H05H1/28Cooling arrangements
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05HPLASMA TECHNIQUE; PRODUCTION OF ACCELERATED ELECTRICALLY-CHARGED PARTICLES OR OF NEUTRONS; PRODUCTION OR ACCELERATION OF NEUTRAL MOLECULAR OR ATOMIC BEAMS
    • H05H1/00Generating plasma; Handling plasma
    • H05H1/24Generating plasma
    • H05H1/26Plasma torches
    • H05H1/32Plasma torches using an arc
    • H05H1/34Details, e.g. electrodes, nozzles
    • H05H1/36Circuit arrangements

Definitions

  • the invention relates to a device for generating an atmospheric plasma according to the features of claim 1.
  • the invention also relates to a method for generating an atmospheric plasma according to claim 5.
  • a plasma head with a transformer and a plasma nozzle is used to generate an atmospheric plasma.
  • a process gas in the plasma nozzle is ionized by a discharge due to the high voltage generated by the transformer.
  • the process gas then exits the nozzle as a directed plasma jet or plasma flame.
  • the power loss of the transformer which accumulates as heat in the housing of the plasma head, has proven to be particularly disadvantageous in this compact design. This heat generation can be so great that the transformer fails or is damaged. The generation of plasma is thus influenced by this heat development.
  • the invention is therefore based on the object of creating a device and a method for generating an atmospheric plasma, with which stable and reliable operation is ensured.
  • a device for solving this problem has the features of claim 1.
  • a plasma head to which a transformer and at least one plasma nozzle is assigned, the transformer and the plasma nozzle forming a spatial unit, having a supply line for a medium flowing through for active temperature control of the plasma head and being in a wall of a housing of the plasma head at least one channel for guiding the medium is arranged.
  • the channel extends at least in regions over the wall of the plasma head, being connected to at least one inlet.
  • the medium is the process gas.
  • the plasma head can be actively tempered by the flowing medium. Accordingly, depending on the design or the size and the operation of the plasma head, it can be actively temperature-controlled.
  • the flowing medium constantly transports heat away from the plasma head.
  • the plasma head can be kept at a stable temperature during the entire operating time due to the subsequent flow of the medium.
  • a temperature can thus be generated in the plasma head via the medium flowing through, at which a maximum yield of plasma is achieved and at the same time the plasma head works in a particularly stable and reliable manner.
  • the invention provides that as a medium for temperature control, in particular for cooling, the plasma head, preferably the transformer, an electrode or a Plasma nozzle the process gas itself can be used.
  • the plasma head preferably the transformer, an electrode or a Plasma nozzle the process gas itself can be used.
  • the process gas as a cooling medium is particularly advantageous since it has to be fed to the plasma head anyway.
  • the process gas first flows through the area around the transformer before it is fed to the plasma nozzle for plasma generation.
  • the temperature of the process gas which is increased by absorbing the thermal energy, has no effect whatsoever on the efficiency of the plasma formation.
  • the process gas is mixed with another medium which has proven to be particularly good as a cooling medium. In this way, the heat can be dissipated quickly from the plasma head and a plasma flame can be generated at the same time, without having to install an additional line for the cooling medium on the plasma head.
  • a particularly advantageous embodiment of the present invention can provide that in a housing, preferably in a wall of the housing, a channel, in particular meandering, for guiding the medium is arranged, which at least partially extends over the wall of the housing and is connected to the at least connected to a supply line.
  • a channel in particular meandering, for guiding the medium is arranged, which at least partially extends over the wall of the housing and is connected to the at least connected to a supply line.
  • the second end of the channel can either be free, so that the gas is fed into the atmosphere, or it can be connected to the supply line for the plasma nozzle, so that the medium is used directly as a process gas for plasma generation. With this design, the compact design of the plasma head can be maintained.
  • the meandering channel for the medium can be realized by parallel, perpendicular, in particular parallel to a longitudinal axis of the housing, bores in the wall of the housing.
  • the channels can initially be open to the end faces of the hollow-cylindrical housing.
  • These openings can be designed to be closable by a base or cover part of the housing in such a way that alternately two adjacent openings are connected to each other or isolated from each other, so that the meandering channel is formed in the wall.
  • the base or cover part of the housing is, for example, screwed or glued to the housing.
  • a further exemplary embodiment can provide for the channel to be designed as a screw in the wall of the housing.
  • Such a housing with a screw-like channel in the wall can be produced, for example, using an additive process such as a 3D printer.
  • the channel is designed as an evaporator for a liquid medium.
  • a liquid medium is first fed into the channel in order to then be fed into the plasma nozzle as a gas. Since liquid media generally have a higher heat capacity than gases, the heat transfer between the transformer or the wall and the medium can be increased and at the same time the medium can be used at least partially as a process gas. This also enables layer deposition.
  • the present invention can further provide that at least one heat sink, in particular cooling ribs, along which the medium can be guided, is arranged on an outside of the wall or the housing.
  • at least one heat sink in particular cooling ribs, along which the medium can be guided, is arranged on an outside of the wall or the housing.
  • it can also have cooling bodies on the outside.
  • These heat sinks can then in turn be actively cooled by applying a cooling medium, preferably by a fan.
  • a method for solving the problem mentioned at the outset has the measures of claim 5 . Accordingly, it is provided that a plasma head, in whose housing a transformer and at least one plasma nozzle is arranged, is actively temperature-controlled by a flowing medium, the medium being guided through a channel in a wall of a housing of the plasma head for the active temperature control of the plasma head , whereby the process gas is used as the medium.
  • process heat from the transformer can be actively and efficiently dissipated.
  • a different heat development of the transformer is to be expected.
  • the heat dissipation from the plasma head can be actively controlled so that the plasma head can be operated at an optimal operating temperature. At the optimum operating temperature, the plasma head is particularly reliable and stable.
  • a further exemplary embodiment of the present invention can provide that for the active temperature control, preferably cooling, of the plasma head, the medium is guided through the housing, preferably through a wall of the housing, of the plasma head, in particular through a channel in the wall of the plasma head and the passage of the medium is controlled by a valve so that the flow depends on the temperature of the plasma head.
  • the present invention can further provide that, for the active temperature control, the medium guided through the wall is preheated and/or is guided through the wall under a predetermined pressure.
  • a temperature sensor is arranged in the plasma head, which measures the temperature and transmits it to a control unit, which accordingly pre-cools or heats the medium.
  • the pressure can also be varied. For example, when there is a large amount of thermal energy to be dissipated, the pressure of the medium can be increased to control the temperature of the plasma head. By increasing the pressure of the medium, the flow is increased, so that the thermal energy to be absorbed per unit of time is increased. Likewise, the pressure of the medium with which it is guided through the channel can be reduced if only a small amount of thermal energy has to be removed from the plasma head. This pre-temperature control and varying the pressure ensure particularly efficient and therefore reliable and stable operation of the plasma head.
  • a further advantageous exemplary embodiment of the present invention can provide that the medium for tempering the plasma head is applied to an outside of the wall. Applying the medium to the outside of the housing or the wall in this way creates a particularly simple way of cooling the plasma head.
  • FIG 1 An embodiment of a plasma head 10 according to the invention is shown in FIG 1 shown highly schematized in cross section.
  • the plasma head 10 consists of a housing 11, inside which a transformer 12 and a plasma nozzle 13 are arranged.
  • the transformer 12 is enclosed by an insulator 14 and connected to a voltage source 15 .
  • the high voltage required to ignite the plasma is generated by the transformer 12 and the voltage source 15 .
  • a wall 23 of the housing 11 of the plasma head 10 is connected to a ground 29 .
  • the plasma nozzle 13 has an electrode 16 which is coupled to the transformer 12 .
  • the tip of this needle-shaped electrode 16 points in the direction of a ring electrode 17 serving as an outlet for the plasma.
  • Process gas is conducted into the nozzle volume 19 through a process gas inlet 18 .
  • the process gas is shown schematically as arrow 20 here. In reality, the nozzle volume 19 is filled almost homogeneously by a permanent flow of the process gas 18 .
  • An electrical discharge between the electrode 16 and the ring electrode 17 causes the process gas to be ionized, symbolically represented here as a lightning bolt 21 .
  • the ionized gas leaves the plasma nozzle 13 through the ring electrode 17 as a plasma jet 22 or as a plasma flame.
  • At least one channel 24 is formed in the wall 23 of the plasma head 10 .
  • this channel 24 extends in a meandering manner through the entire wall 23.
  • a rolled-up wall 23 of the plasma head 10 is shown schematically, so that the meandering course of the channel 24 in the wall 23 becomes clear.
  • the channel 24 has an inlet 25 and an outlet 26 .
  • a medium is let into the inlet 25 via a valve (not shown) or from a storage volume, so that the medium flows at a predetermined pressure through the channel 24 in the direction of the outlet 26 (see arrow 27).
  • the medium flowing through which is the process gas, dissipates the heat developed by the transformer 12 .
  • This process gas After this process gas has flowed through the channel 24 and has absorbed heat energy from the transformer 12 , it is conducted through the process gas inlet 18 into the nozzle volume 19 by a connecting means 28 shown here in broken lines.
  • the connecting means 18 can be, for example, a hose or a short piece of pipe. This connecting means 18 can also be integrated in the housing 11 or the plasma head 10 .
  • the channel 24 is integrated into the housing 11 or into the wall 23 .
  • a control device which determines the temperature in the plasma head 10 via a temperature sensor, also not shown, in the plasma head 10 and controls the inflow of the process gas in the channel 24 accordingly.
  • FIG. 1 shows the 3 another embodiment of a channel 30.
  • the medium as previously at the in 1 described embodiment described, fed to the channel 30 through an inlet, not shown, and fed to the nozzle volume 19 via a connecting means 28 in the manner described above.
  • the channel 30 is arranged in the wall 23 of the plasma head 10 in the manner of a screw. This screw-like arrangement of the channel 30 allows a particularly long contact surface to be produced between the medium and the wall 23, so that the thermal energy is transferred to the medium in a particularly efficient manner.
  • the wall 23 may be assigned cooling bodies (not shown), such as cooling fins, on its outer side 31 .
  • the thermal energy of the transformer 12 is also effectively dissipated from the plasma head 10 through these cooling ribs, around which a medium for cooling can also flow, for example.

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Plasma & Fusion (AREA)
  • Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
  • Plasma Technology (AREA)
  • Treatment Of Fiber Materials (AREA)

Description

  • Die Erfindung betrifft eine Vorrichtung zur Erzeugung eines atmosphärischen Plasmas gemäß den Merkmalen des Anspruchs 1. Des Weiteren betrifft die Erfindung ein Verfahren zur Erzeugung eines atmosphärischen Plasmas gemäß Anspruch 5.
  • Zur Behandlung von beispielsweise Oberflächen aus Kunststoff, Metall, Keramik usw. zum Zwecke der Reinigung, Oberflächenaktivierung, Polymerisation, Keimreduzierung und dergleichen ist es bekannt, diese mit einem atmosphärischen Plasma zu beaufschlagen. Durch die Reinigung und/oder Aktivierung der Oberfläche mittels eines atmosphärischen Plasmas kann diese beispielsweise mit einer Flüssigkeit oder einem Klebstoff besser benetzt werden.
  • Zur Erzeugung eines atmosphärischen Plasmas wird ein Plasmakopf mit einem Transformator und einer Plasmadüse verwendet. Durch die von dem Transformator erzeugte Hochspannung wird ein Prozessgas in der Plasmadüse durch eine Entladung ionisiert. Das Prozessgas tritt sodann als gerichteter Plasmastahl oder Plasmaflamme aus der Düse aus.
  • Um Probleme wie beispielsweise Kabelbrüche, Durchschläge oder Verlustleistungen zu vermeiden, ist es bekannt, den Transformator und die Plasmadüse in einem gemeinsamen Plasmakopf zu integrieren. Durch diese kompakte Bauweise des Plasmakopfes kann auf lange Kabel sowie Elektronik verzichtet werden, was die Gefahr eines Kabelbruches oder von Durchschlägen reduziert.
  • Als besonders nachteilig bei dieser kompakten Bauweise hat sich die Verlustleistung des Transformators erwiesen, welche sich als Wärme in dem Gehäuse des Plasmakopfes staut. Diese Wärmeentwicklung kann derart groß sein, dass der Transformator ausfällt oder beschädigt wird. Durch diese Wärmeentwicklung wird somit die Plasmaerzeugung beeinflusst.
  • Bekannte Plasmasysteme, wie beispielsweise in US 2015/0054405 A1 beschrieben, weisen eine Kühlung auf, bei der die Wärme durch Konvektion vom Gehäuse des Plasmakopfes abgeführt wird. Diese Art der Kühlung reicht jedoch nur für bestimmte Bauformen bzw. Größen sowie Einbaulagen des Plasmakopfes aus. Beispielsweise erweist sich die Kühlung des Transformators durch reine Konvektion bei Dauereinsatz des Plasmakopfes als nicht ausreichend.
  • Der Erfindung liegt daher die Aufgabe zugrunde, eine Vorrichtung sowie ein Verfahren zur Erzeugung eines atmosphärischen Plasmas zu schaffen, mit dem ein stabiler und zuverlässiger Betrieb gewährleistet wird.
  • Eine Vorrichtung zur Lösung dieser Aufgabe weist die Merkmale des Anspruchs 1 auf.
  • Demnach ist es vorgesehen, dass einem Plasmakopf dem ein Transformator und mindestens eine Plasmadüse zugeordnet ist, wobei der Transformator und die Plasmadüse eine räumliche Einheit bilden, eine Zuleitung für ein durchströmendes Medium zur aktiven Temperierung des Plasmakopfes aufweist und wobei in einer Wandung eines Gehäuses des Plasmakopfes mindestens ein Kanal zur Führung des Mediums angeordnet ist. Dabei erstreckt sich der Kanal wenigstens bereichsweise über die Wandung des Plasmakopfes, wobei er mit mindestens einem Einlass verbunden ist. Bei dem Medium handelt es sich um das Prozessgas. Durch das strömende Medium lässt sich der Plasmakopf aktiv temperieren. Demnach kann in Abhängigkeit von der Bauform bzw. der Größe und des Betriebes des Plasmakopfes dieser aktiv temperiert werden. Durch das strömende Medium wird permanent Wärme aus dem Plasmakopf abtransportiert. Durch das Nachströmen des Mediums kann der Plasmakopf während der gesamten Betriebszeit auf einer stabilen Temperatur gehalten werden. Somit lässt sich über das durchströmende Medium eine Temperatur in dem Plasmakopf erzeugen, bei der eine maximale Ausbeute an Plasma erzielt wird und zeitgleich der Plasmakopf besonders stabil und zuverlässig arbeitet.
  • Die Erfindung sieht es vor, dass als Medium zur Temperierung, insbesondere zur Kühlung, des Plasmakopfes, vorzugsweise des Transformators, eine Elektrode oder einer Plasmadüse das Prozessgas selbst verwendbar ist. Die
  • Verwendung des Prozessgases als Kühlmedium ist besonders vorteilhaft, da dieses sowieso dem Plasmakopf zugeführt werden muss. Erfindungsgemäß durchströmt daher das Prozessgas zunächst den Bereich um den Transformator, bevor es für die Plasmaerzeugung der Plasmadüse zugeführt wird. Die durch die Aufnahme der thermischen Energie erhöhte Temperatur des Prozessgases hat keinerlei Auswirkungen auf die Effizienz der Plasmabildung. Für eine besonders effiziente Arbeitsweise des Plasmakopfes kann es erfindungsgemäß außerdem vorteilhaft sein, wenn das Prozessgas mit einem weiteren Medium, welches sich besonders gut als Kühlmedium erwiesen hat, gemischt wird. Auf diese Weise lässt sich die Wärme aus dem Plasmakopf schnell abführen und gleichzeitig eine Plasmaflamme erzeugen, ohne dass eine zusätzliche Leitung für das Kühlmedium an dem Plasmakopf installiert werden muss.
  • Ein besonders vorteilhaftes Ausführungsbeispiel der vorliegenden Erfindung kann es vorsehen, dass in einem Gehäuse, vorzugsweise in einer Wandung des Gehäuses, ein, insbesondere mäanderförmiger, Kanal zur Führung des Mediums angeordnet ist, der sich wenigstens bereichsweise über die Wandung des Gehäuses erstreckt und mit der mindestens einen Zuleitung verbunden ist. Durch die Führung des Kanals durch die Wandung des Plasmakopfes bleibt das Medium besonders lange mit der Wandung in Kontakt, was dazu führt, dass das Medium besonders viel Wärmeenergie des Transformators aufnehmen kann. Insbesondere eine mäanderförmige Ausgestaltung des Kanals hat sich als besonders effizient für den Transfer von Wärmeenergie auf das Medium erwiesen. Ein Ende des Kanals stellt eine Zuleitung für das Medium, beispielsweise für das Prozessgas, dar. Das zweite Ende des Kanals kann entweder frei sein, sodass das Gas in die Atmosphäre geleitet wird, oder mit der Zuleitung für die Plasmadüse verbunden sein, sodass das Medium als Prozessgas direkt für die Plasmaerzeugung verwendet wird. Durch diese Bauart kann die kompakte Bauweise des Plasmakopfes beibehalten werden.
  • Der mäanderförmige Kanal für das Medium kann durch parallele, senkrechte, insbesondere parallel zu einer Längsachse des Gehäuses, Bohrungen in der Wandung des Gehäuses realisiert werden. Die Kanäle können zunächst zu den Stirnseiten des hohlzylindrischen Gehäuses offen sein. Diese Öffnungen können durch ein Boden- bzw. Deckelteil des Gehäuses verschließbar ausgebildet sein und zwar derart, dass abwechselnd zwei benachbarte Öffnungen miteinander verbunden bzw. voneinander isoliert sind, so dass sich der mäanderförmige Kanal in der Wandung ausbildet. Das Boden- bzw. Deckelteil des Gehäuses wird mit dem Gehäuse beispielsweise verschraubt oder verklebt. Ein weiteres Ausführungsbeispiel kann es vorsehen, dass der Kanal als Schraube in der Wandung des Gehäuses ausgebildet ist. Ein derartiges Gehäuse mit einem schraubenartigen Kanal in der Wandung lässt sich beispielsweise mit einem generativen Verfahren, wie etwa einem 3D-Drucker, herstellen.
  • Es kann außerdem vorgesehen sein, dass der Kanal als Verdampfer für ein flüssiges Medium ausgebildet ist. Bei diesem Ausführungsbeispiel wird zunächst ein flüssiges Medium in den Kanal geleitet, um sodann als Gas in die Plasmadüse geleitet zu werden. Da flüssige Medien in der Regel eine höhere Wärmekapazität haben als Gase kann dadurch der Wärmeübertrag zwischen dem Transformator bzw. der Wandung und dem Medium erhöht werden und gleichzeitig das Medium zumindest teilweise als Prozessgas verwendet werden. Dadurch wird zudem eine Schichtabscheidung ermöglicht.
  • Vorzugsweise kann es die vorliegende Erfindung weiter vorsehen, dass an einer Außenseite der Wandung bzw. des Gehäuses mindestens ein Kühlkörper, insbesondere Kühlrippen, angeordnet sind, entlang denen das Medium führbar ist. Alternativ zur Ausbildung von Kanälen in der Wandung kann diese auch Kühlkörper an der Außenseite aufweisen. Diese Kühlkörper lassen sich sodann wiederum aktiv durch die Beaufschlagung eines Kühlmediums kühlen, vorzugsweise durch einen Lüfter.
  • Ein Verfahren zur Lösung der eingangs genannten Aufgabe weist die Maßnahmen des Anspruchs 5 auf. Demnach ist es vorgesehen, dass ein Plasmakopf, in dessen Gehäuse ein Transformator und mindestens eine Plasmadüse angeordnet ist, durch ein strömendes Medium aktiv temperiert wird, wobei für die aktive Temperierung des Plasmakopfes das Medium durch einen Kanal in einer Wandung eines Gehäuses des Plasmakopfes geleitet wird, wobei als Medium das Prozessgas verwendet wird. Durch diese aktive Temperierung des Plasmakopfes lässt sich Prozesswärme des Transformators aktiv und effizient abführen. Je nach Größe und Bauform des Plasmakopfes ist mit einer anderen Wärmeentwicklung des Transformators zu rechnen. Durch Regelung des Flusses des Mediums kann die Wärmeabfuhr aus dem Plasmakopf aktiv gesteuert werden, sodass der Plasmakopf bei einer optimalen Betriebstemperatur betrieben werden kann. Bei der optimalen Betriebstemperatur verhält sich der Plasmakopf besonders zuverlässig und stabil.
  • Ein weiteres Ausführungsbeispiel der vorliegenden Erfindung kann es vorsehen, dass für die aktive Temperierung, vorzugsweise Kühlung, des Plasmakopfes das Medium durch das Gehäuse, vorzugsweise durch eine Wandung des Gehäuses, des Plasmakopfes, insbesondere durch einen Kanal in der Wandung, des Plasmakopfes geleitet wird und das Durchleiten des Mediums durch ein Ventil geregelt wird, sodass der Durchfluss in Abhängigkeit von der Temperatur des Plasmakopfes erfolgt.
  • Bevorzugt kann es die vorliegende Erfindung weiter vorsehen, dass für die aktive Temperierung das durch die Wandung geführte Medium vortemperiert und/oder unter einem vorbestimmten Druck durch die Wandung geführt wird. Dazu kann es vorgesehen sein, dass in dem Plasmakopf ein Temperatursensor angeordnet ist, welcher die Temperatur misst und an eine Steuereinheit überträgt, welche das Medium dementsprechend vorkühlt oder erhitzt. Neben der Temperatur des Mediums lässt sich auch der Druck variieren. So kann beispielsweise bei einer großen Menge abzuführender thermischer Energie der Druck des Mediums zum Temperieren des Plasmakopfes erhöht werden. Durch Erhöhung des Druckes des Mediums wird der Durchfluss erhöht, sodass die aufzunehmende thermische Energie pro Zeiteinheit vergrößert wird. Gleichermaßen kann der Druck des Mediums, mit dem dieses durch den Kanal geführt wird, reduziert werden, wenn nur eine geringe Menge thermische Energie aus dem Plasmakopf abgeführt werden muss. Durch dieses Vortemperieren sowie Variieren des Druckes lässt sich ein besonders effizienter und somit zuverlässiger wie auch stabiler Betrieb des Plasmakopfes gewährleisten.
  • Außerdem kann es ein weiteres vorteilhaftes Ausführungsbeispiel der vorliegenden Erfindung vorsehen, dass eine Außenseite der Wandung mit dem Medium zum Temperieren des Plasmakopfes beaufschlagt wird. Durch diese Beaufschlagung der Außenseite des Gehäuses bzw. der Wandung mit dem Medium wird eine besonders einfach Art und Weise geschaffen, den Plasmakopf zu kühlen.
  • Ein bevorzugtes Ausführungsbeispiel der vorliegenden Erfindung wird nachfolgend anhand der Zeichnungen näher erläutert. In dieser zeigen:
  • Fig. 1
    einen Querschnitt durch einen schematisch dargestellten Plasmakopf,
    Fig. 2
    einen Querschnitt durch eine schematische Darstellung einer Wandung des Plasmakopfes, und
    Fig. 3
    einen Querschnitt durch ein weiteres Ausführungsbeispiel eines Plasmakopfes.
  • Ein Ausführungsbeispiel eines erfindungsgemäßen Plasmakopfes 10 ist in der Fig. 1 stark schematisiert im Querschnitt dargestellt. Im Wesentlichen besteht der Plasmakopf 10 aus einem Gehäuse 11, in dessen Inneren ein Transformator 12 und eine Plasmadüse 13 angeordnet sind. Der Transformator 12 ist von einem Isolator 14 umschlossen und an eine Spannungsquelle 15 angeschlossen. Durch den Transformator 12 und die Spannungsquelle 15 wird die für die Zündung des Plasmas erforderliche Hochspannung erzeugt. Eine Wandung 23 des Gehäuses 11 des Plasmakopfes 10 ist an eine Masse 29 angeschlossen.
  • Die Plasmadüse 13 weist eine Elektrode 16 auf, welche mit dem Transformator 12 gekoppelt ist. Diese nadelförmige Elektrode 16 weist mit ihrer Spitze in Richtung einer als Ausgang für das Plasma dienenden Ringelektrode 17. Durch einen Prozessgaseinlass 18 wird Prozessgas in das Düsenvolumen 19 geleitet. Das Prozessgas ist hier schematisch als Pfeil 20 dargestellt. In der Realität wird das Düsenvolumen 19 nahezu homogen von einem permanenten Fluss des Prozessgases 18 gefüllt.
  • Durch eine elektrische Entladung zwischen der Elektrode 16 und der Ringelektrode 17 kommt es zu einer hier symbolisch als Blitz 21 dargestellten Ionisierung des Prozessgases. Das ionisierte Gas verlässt die Plasmadüse 13 durch die Ringelektrode 17 als Plasmastrahl 22 bzw. als Plasmaflamme.
  • In der Wandung 23 des Plasmakopfes 10 ist mindestens ein Kanal 24 ausgebildet. Dieser Kanal 24 erstreckt sich bei dem hier dargestellten Ausführungsbeispiel mäanderförmig durch die gesamte Wandung 23. In Fig. 2 ist schematisch eine aufgerollte Wandung 23 des Plasmakopfes 10 dargestellt, sodass der mäanderförmige Verlauf des Kanals 24 in der Wandung 23 deutlich wird. Der Kanal 24 weist einen Einlass 25 und einen Auslass 26 auf. Erfindungsgemäß wird über ein nicht dargestelltes Ventil bzw. von einem Vorratsvolumen ein Medium in den Einlass 25 eingelassen, sodass das Medium mit einem vorbestimmten Druck durch den Kanal 24 in Richtung Auslass 26 strömt (siehe Pfeile 27).
  • Das durchströmende Medium, bei dem es sich um das Prozessgas handelt, führt die durch den Transformator 12 entwickelte Wärme ab. Dieses Prozessgas wird nachdem es den Kanal 24 durchströmt und Wärmeenergie des Transformators 12 aufgenommen hat, durch ein hier gestrichelt dargestelltes Verbindungsmittel 28 durch den Prozessgaseinlass 18 in das Düsenvolumen 19 geleitet. Bei dem Verbindungsmittel 18 kann es sich beispielsweise um einen Schlauch oder ein kurzes Rohrstück handeln. Dieses Verbindungsmittel 18 kann auch in dem Gehäuse 11 oder dem Plasmakopf 10 integriert sein. Der Kanal 24 ist in das Gehäuse 11 bzw. in die Wandung 23 integriert.
  • In Abhängigkeit von der Größe bzw. Bauform oder der von dem Transformator 12 entwickelten thermischen Energie können unterschiedliche Medien als Kühlmittel benutzt werden. Darüber hinaus, ist es denkbar, dass in Abhängigkeit von der entwickelten thermischen Energie das Prozessgas vorgekühlt wird oder mit einem erhöhten Druck in den Kanal 24 eingelassen wird. Dazu dient erfindungsgemäß eine nicht dargestellte Steuereinrichtung, die über einen ebenfalls nicht dargestellten Temperatursensor in dem Plasmakopf 10 die Temperatur im Plasmakopf 10 ermittelt und den Zufluss des Prozessgases im Kanal 24 entsprechend steuert.
  • Neben der in den Fig. 1 und 2 dargestellten Ausgestaltung eines Kanals 24 zeigt die Fig. 3 ein weiteres Ausführungsbeispiel für einen Kanal 30. Bei dem in Fig. 3 dargestellten Kanal 30 wird das Medium, wie zuvor an dem in Fig. 1 dargestellten Ausführungsbeispiel beschrieben, durch einen nicht dargestellten Einlass dem Kanal 30 zugeführt und über ein Verbindungsmittel 28 in der zuvor beschriebenen Art und Weise dem Düsenvolumen 19 zugeführt. Der Kanal 30 ist in dem zweiten Ausführungsbeispiel schraubenartig in der Wandung 23 des Plasmakopfes 10 angeordnet. Durch diese schraubenartige Anordnung des Kanals 30 kann eine besonders lange Kontaktfläche zwischen dem Medium und der Wandung 23 erzeugt werden, sodass ein Übertrag der Wärmeenergie an das Medium besonders effizient gestaltet wird.
  • Neben den hier dargestellten Ausführungsbeispielen ist es außerdem denkbar, dass die Wandung 23 auf seiner Außenseite 31 nicht dargestellte Kühlkörper wie beispielsweise Kühlrippen zugeordnet sind. Durch diese Kühlrippen, die beispielsweise ebenfalls mit einem Medium zum Kühlung umströmt werden können, wird ebenfalls die thermische Energie des Transformators 12 effektiv aus dem Plasmakopf 10 abgeleitet.

Claims (7)

  1. Vorrichtung zur Erzeugung eines atmosphärischen Plasmas mit einem Plasmakopf (10), der einen Transformator (12) zur Erzeugung einer Hochspannung und mindestens eine Plasmadüse (13), der zur Plasmaerzeugung ein Prozessgas zuführbar ist, aufweist, wobei der Transformator (12) und mindestens eine Plasmadüse (13) eine räumliche Einheit bilden und wobei der Plasmakopf (10) mindestens eine Zuleitung für ein durchströmendes Medium, wobei es sich bei dem Medium um das Prozessgas handelt, zur aktiven Temperierung des Plasmakopfes (10) aufweist, dadurch gekennzeichnet, dass in einer Wandung (23) eines Gehäuses (11) des Plasmakopfes (10) mindestens ein Kanal (24, 30) zur Führung des Mediums angeordnet ist, der sich wenigstens bereichsweise über die Wandung (23) des Plasmakopfes (10) erstreckt und der mit mindestens einem Einlass (25) verbunden ist.
  2. Vorrichtung zur Erzeugung eines atmosphärischen Plasmas nach Anspruch 1, wobei in der Wandung (23) des Plasmakopfes (10) mindestens ein mäanderförmiger Kanal (24, 30) zur Führung des Mediums angeordnet ist, der sich wenigstens bereichsweise über die Wandung (23) des Plasmakopfes (10) erstreckt und der mit mindestens einem Einlass (25) verbunden ist.
  3. Vorrichtung zur Erzeugung eines atmosphärischen Plasmas nach Anspruch 1 oder 2, wobei der Kanal (24, 30) als parallele, insbesondere parallel zu einer Längsachse des Gehäuses (11) angeordnete, Bohrungen in der Wandung (23) des Gehäuses (11) ausgebildet ist, wobei die offenen Bohrungen an den Stirnseiten des, insbesondere hohlzylindrischen, Gehäuses (11) durch ein Boden- bzw. Deckelteil verbindbar bzw. voneinander isolierbar sind, dass sich der mäanderförmige Kanal (24) in der Wandung (23) ausbildet.
  4. Vorrichtung zur Erzeugung eines atmosphärischen Plasmas nach einem der vorhergehenden Ansprüche, wobei an einer Außenseite (31) des Gehäuses (11) mindestens ein Kühlkörper, insbesondere Kühlrippen, angeordnet sind, entlang denen das Medium führbar ist.
  5. Verfahren zur Erzeugung eines atmosphärischen Plasmas mit einem Transformator (12) zur Erzeugung einer Hochspannung und mit mindestens einer Plasmadüse (13), der zur Erzeugung des Plasmas ein Prozessgas zugeführt wird, wobei der Transformator (12) und die mindestens eine Plasmadüse (13) einen Plasmakopf (10) bilden und der Plasmakopf (10) durch ein strömendes Medium aktiv temperiert wird, wobei als Medium das Prozessgas verwendet wird, dadurch gekennzeichnet, dass für die aktive Temperierung des Plasmakopfes (10) das Medium durch einen Kanal (24, 30) in einer Wandung (23) eines Gehäuse (11) des Plasmakopfes (10) geleitet wird.
  6. Verfahren zur Erzeugung eines atmosphärischen Plasmas nach Anspruch 5, wobei für die aktive Temperierung das durch die Wandung (23) geführte Medium vortemperiert und/oder unter einem vorbestimmten Druck durch den Kanal (24, 30) geführt wird.
  7. Verfahren zur Erzeugung eines atmosphärischen Plasmas nach Anspruch 5 oder 6, wobei eine Außenseite (31) des Gehäuses (11) mit dem Medium zum Temperieren des Plasmakopfes (10) beaufschlagt wird.
EP17001337.9A 2016-09-05 2017-08-04 Vorrichtung und verfahren zur erzeugung eines atmosphärischen plasmas Active EP3291651B1 (de)

Priority Applications (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
RS20230008A RS63874B1 (sr) 2016-09-05 2017-08-04 Uređaj i postupak za proizvodnju atmosferske plazme
SI201731291T SI3291651T1 (sl) 2016-09-05 2017-08-04 Naprava in postopek za generiranje atmosferske plazme

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE102016010619.0A DE102016010619A1 (de) 2016-09-05 2016-09-05 Vorrichtung und Verfahren zur Erzeugung eines atmosphärischen Plasmas

Publications (2)

Publication Number Publication Date
EP3291651A1 EP3291651A1 (de) 2018-03-07
EP3291651B1 true EP3291651B1 (de) 2022-10-12

Family

ID=59558156

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
EP17001337.9A Active EP3291651B1 (de) 2016-09-05 2017-08-04 Vorrichtung und verfahren zur erzeugung eines atmosphärischen plasmas

Country Status (10)

Country Link
EP (1) EP3291651B1 (de)
DE (1) DE102016010619A1 (de)
DK (1) DK3291651T3 (de)
ES (1) ES2935577T3 (de)
FI (1) FI3291651T3 (de)
HU (1) HUE061142T2 (de)
PL (1) PL3291651T3 (de)
PT (1) PT3291651T (de)
RS (1) RS63874B1 (de)
SI (1) SI3291651T1 (de)

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE19900128B4 (de) * 1998-12-21 2012-01-26 Sulzer Metco Ag Düse sowie Düsenanordnung für einen Brennerkopf eines Plasmaspritzgeräts

Family Cites Families (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DD83890A1 (de) 1970-05-27 1971-08-12 Kühlmediumführung für Brenner
US5247152A (en) 1991-02-25 1993-09-21 Blankenship George D Plasma torch with improved cooling
RU2267239C2 (ru) 2000-04-10 2005-12-27 Тетроникс Лимитед Устройство сдвоенной плазменной горелки
AT503646B1 (de) 2006-09-15 2007-12-15 Fronius Int Gmbh Wasserdampfplasmabrenner und verfahren zur verschleisserkennung und prozessregelung bei einem solchen wasserdampfplasmabrenner
DE102009028190A1 (de) 2009-08-03 2011-02-10 Leibniz-Institut für Plasmaforschung und Technologie e.V. Vorrichtung zur Erzeugung eines nichtthermischen Atmosphärendruck-Plasmas
DE102012103938A1 (de) 2012-05-04 2013-11-07 Reinhausen Plasma Gmbh Plasmamodul für eine Plasmaerzeugungsvorrichtung und Plasmaerzeugungsvorrichtung
DE102013100617B4 (de) 2013-01-22 2016-08-25 Epcos Ag Vorrichtung zur Erzeugung eines Plasmas und Handgerät mit der Vorrichtung
DE202015001278U1 (de) 2015-02-16 2016-05-19 Abc-Coron Gmbh Beschichtungsvorrichtung

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE19900128B4 (de) * 1998-12-21 2012-01-26 Sulzer Metco Ag Düse sowie Düsenanordnung für einen Brennerkopf eines Plasmaspritzgeräts

Also Published As

Publication number Publication date
DE102016010619A1 (de) 2018-03-08
PL3291651T3 (pl) 2023-07-03
RS63874B1 (sr) 2023-02-28
FI3291651T3 (fi) 2023-01-31
EP3291651A1 (de) 2018-03-07
HUE061142T2 (hu) 2023-05-28
SI3291651T1 (sl) 2023-07-31
DK3291651T3 (da) 2023-01-16
PT3291651T (pt) 2023-01-16
ES2935577T3 (es) 2023-03-08

Similar Documents

Publication Publication Date Title
EP0645946B1 (de) Brennerkopf für Plasmaspritzgeräte
DE69507434T2 (de) Gepumpte Laservorrichtung und Verfahren zur Kühlung ihres Laserstabes
DE102014213526A1 (de) Vorrichtung zur Erwärmung einer Funktionsschicht
WO2014206951A1 (de) Elektrische heizeinrichtung und verfahren zur herstellung einer elektrischen heizeinrichtung
EP2168409B1 (de) Vorrichtung zur erzeugung eines plasma-jets
EP3113904B1 (de) Bearbeitungskopf und bearbeitungseinrichtung
EP3291651B1 (de) Vorrichtung und verfahren zur erzeugung eines atmosphärischen plasmas
EP1819208B1 (de) Vorrichtung und Verfahren zur Erzeugung angeregter und/oder ionisierter Teilchen in einem Plasma
DE102008052571A1 (de) Diffusionsofen und Verfahren zur Temperaturführung
DE10115937A1 (de) Verdampfer zum Erzeugen von Speisegas für eine Lichtbogenkammer
EP1920826A2 (de) Kühlanordnung und Verfahren zum Kühlen für Autoklaven
EP2985116B1 (de) Reinigungsvorrichtung und Reinigungsverfahren für Transportrollen in einem Rollenkühlofen einer Anlage zum Herstellen von Floatglas
DE112018001456B4 (de) Heizaggregat und verfahren zum erhitzen eines mediums
DE102010051047A1 (de) Verfahren zum Temperieren eines Formwerkzeugs
WO2002023591A1 (de) Strahlungsquelle und bestrahlungsanordnung
EP3046686B1 (de) Gasstromvorrichtung für anlage zur strahlungsbehandlung von substraten
EP1630509B1 (de) Verfahren zum erhitzen oder kühlen eines fluidmediums
DE102015104036A1 (de) Gargerät, insbesondere Backofen
EP2000200B1 (de) Vorrichtung zur Polymerisation
DE102017114684B3 (de) Vorrichtung zur Pasteurisierung einer Speiseeismasse
EP3168031B1 (de) Heizvorrichtung, insbesondere für eine kantenstreifenaufbringvorrichtung oder für eine schneidvorrichtung zum schneiden von folien oder werkstücken aus kunststoff oder hartschaum oder für eine vorrichtung zum schweissen von werkstücken
EP2893982B1 (de) Lackiervorrichtung
DE102011117604A1 (de) Vorrichtung zur Erwärmung oder Trocknung von langgestreckten Materialien
DE102004059200A1 (de) Vorrichtung und Verfahren zum Kühlen von Substraten
EP3517263A1 (de) Applikator zum aktivieren einer funktionsschicht eines beschichtungsmaterials und verfahren

Legal Events

Date Code Title Description
PUAI Public reference made under article 153(3) epc to a published international application that has entered the european phase

Free format text: ORIGINAL CODE: 0009012

STAA Information on the status of an ep patent application or granted ep patent

Free format text: STATUS: THE APPLICATION HAS BEEN PUBLISHED

AK Designated contracting states

Kind code of ref document: A1

Designated state(s): AL AT BE BG CH CY CZ DE DK EE ES FI FR GB GR HR HU IE IS IT LI LT LU LV MC MK MT NL NO PL PT RO RS SE SI SK SM TR

AX Request for extension of the european patent

Extension state: BA ME

STAA Information on the status of an ep patent application or granted ep patent

Free format text: STATUS: REQUEST FOR EXAMINATION WAS MADE

17P Request for examination filed

Effective date: 20180904

RBV Designated contracting states (corrected)

Designated state(s): AL AT BE BG CH CY CZ DE DK EE ES FI FR GB GR HR HU IE IS IT LI LT LU LV MC MK MT NL NO PL PT RO RS SE SI SK SM TR

STAA Information on the status of an ep patent application or granted ep patent

Free format text: STATUS: EXAMINATION IS IN PROGRESS

17Q First examination report despatched

Effective date: 20211001

GRAP Despatch of communication of intention to grant a patent

Free format text: ORIGINAL CODE: EPIDOSNIGR1

STAA Information on the status of an ep patent application or granted ep patent

Free format text: STATUS: GRANT OF PATENT IS INTENDED

RIC1 Information provided on ipc code assigned before grant

Ipc: H05H 1/36 20060101ALI20220331BHEP

Ipc: H05H 1/28 20060101AFI20220331BHEP

INTG Intention to grant announced

Effective date: 20220503

GRAS Grant fee paid

Free format text: ORIGINAL CODE: EPIDOSNIGR3

RIN1 Information on inventor provided before grant (corrected)

Inventor name: VEDANTHA, SUDARSAN

Inventor name: HELLINGER, ANDRE

Inventor name: KUNZ, MANUEL

GRAA (expected) grant

Free format text: ORIGINAL CODE: 0009210

STAA Information on the status of an ep patent application or granted ep patent

Free format text: STATUS: THE PATENT HAS BEEN GRANTED

AK Designated contracting states

Kind code of ref document: B1

Designated state(s): AL AT BE BG CH CY CZ DE DK EE ES FI FR GB GR HR HU IE IS IT LI LT LU LV MC MK MT NL NO PL PT RO RS SE SI SK SM TR

REG Reference to a national code

Ref country code: GB

Ref legal event code: FG4D

Free format text: NOT ENGLISH

REG Reference to a national code

Ref country code: CH

Ref legal event code: EP

REG Reference to a national code

Ref country code: DE

Ref legal event code: R096

Ref document number: 502017013920

Country of ref document: DE

REG Reference to a national code

Ref country code: IE

Ref legal event code: FG4D

Free format text: LANGUAGE OF EP DOCUMENT: GERMAN

REG Reference to a national code

Ref country code: AT

Ref legal event code: REF

Ref document number: 1524965

Country of ref document: AT

Kind code of ref document: T

Effective date: 20221115

REG Reference to a national code

Ref country code: RO

Ref legal event code: EPE

REG Reference to a national code

Ref country code: FI

Ref legal event code: FGE

REG Reference to a national code

Ref country code: PT

Ref legal event code: SC4A

Ref document number: 3291651

Country of ref document: PT

Date of ref document: 20230116

Kind code of ref document: T

Free format text: AVAILABILITY OF NATIONAL TRANSLATION

Effective date: 20230110

Ref country code: DK

Ref legal event code: T3

Effective date: 20230112

REG Reference to a national code

Ref country code: SE

Ref legal event code: TRGR

REG Reference to a national code

Ref country code: SK

Ref legal event code: T3

Ref document number: E 40985

Country of ref document: SK

REG Reference to a national code

Ref country code: LT

Ref legal event code: MG9D

REG Reference to a national code

Ref country code: NL

Ref legal event code: MP

Effective date: 20221012

REG Reference to a national code

Ref country code: ES

Ref legal event code: FG2A

Ref document number: 2935577

Country of ref document: ES

Kind code of ref document: T3

Effective date: 20230308

PG25 Lapsed in a contracting state [announced via postgrant information from national office to epo]

Ref country code: NL

Free format text: LAPSE BECAUSE OF FAILURE TO SUBMIT A TRANSLATION OF THE DESCRIPTION OR TO PAY THE FEE WITHIN THE PRESCRIBED TIME-LIMIT

Effective date: 20221012

PG25 Lapsed in a contracting state [announced via postgrant information from national office to epo]

Ref country code: NO

Free format text: LAPSE BECAUSE OF FAILURE TO SUBMIT A TRANSLATION OF THE DESCRIPTION OR TO PAY THE FEE WITHIN THE PRESCRIBED TIME-LIMIT

Effective date: 20230112

Ref country code: LT

Free format text: LAPSE BECAUSE OF FAILURE TO SUBMIT A TRANSLATION OF THE DESCRIPTION OR TO PAY THE FEE WITHIN THE PRESCRIBED TIME-LIMIT

Effective date: 20221012

REG Reference to a national code

Ref country code: HU

Ref legal event code: AG4A

Ref document number: E061142

Country of ref document: HU

PG25 Lapsed in a contracting state [announced via postgrant information from national office to epo]

Ref country code: LV

Free format text: LAPSE BECAUSE OF FAILURE TO SUBMIT A TRANSLATION OF THE DESCRIPTION OR TO PAY THE FEE WITHIN THE PRESCRIBED TIME-LIMIT

Effective date: 20221012

Ref country code: IS

Free format text: LAPSE BECAUSE OF FAILURE TO SUBMIT A TRANSLATION OF THE DESCRIPTION OR TO PAY THE FEE WITHIN THE PRESCRIBED TIME-LIMIT

Effective date: 20230212

Ref country code: HR

Free format text: LAPSE BECAUSE OF FAILURE TO SUBMIT A TRANSLATION OF THE DESCRIPTION OR TO PAY THE FEE WITHIN THE PRESCRIBED TIME-LIMIT

Effective date: 20221012

Ref country code: GR

Free format text: LAPSE BECAUSE OF FAILURE TO SUBMIT A TRANSLATION OF THE DESCRIPTION OR TO PAY THE FEE WITHIN THE PRESCRIBED TIME-LIMIT

Effective date: 20230113

P01 Opt-out of the competence of the unified patent court (upc) registered

Effective date: 20230509

REG Reference to a national code

Ref country code: DE

Ref legal event code: R097

Ref document number: 502017013920

Country of ref document: DE

PG25 Lapsed in a contracting state [announced via postgrant information from national office to epo]

Ref country code: SM

Free format text: LAPSE BECAUSE OF FAILURE TO SUBMIT A TRANSLATION OF THE DESCRIPTION OR TO PAY THE FEE WITHIN THE PRESCRIBED TIME-LIMIT

Effective date: 20221012

Ref country code: EE

Free format text: LAPSE BECAUSE OF FAILURE TO SUBMIT A TRANSLATION OF THE DESCRIPTION OR TO PAY THE FEE WITHIN THE PRESCRIBED TIME-LIMIT

Effective date: 20221012

PLBE No opposition filed within time limit

Free format text: ORIGINAL CODE: 0009261

STAA Information on the status of an ep patent application or granted ep patent

Free format text: STATUS: NO OPPOSITION FILED WITHIN TIME LIMIT

PG25 Lapsed in a contracting state [announced via postgrant information from national office to epo]

Ref country code: AL

Free format text: LAPSE BECAUSE OF FAILURE TO SUBMIT A TRANSLATION OF THE DESCRIPTION OR TO PAY THE FEE WITHIN THE PRESCRIBED TIME-LIMIT

Effective date: 20221012

26N No opposition filed

Effective date: 20230713

PG25 Lapsed in a contracting state [announced via postgrant information from national office to epo]

Ref country code: MC

Free format text: LAPSE BECAUSE OF FAILURE TO SUBMIT A TRANSLATION OF THE DESCRIPTION OR TO PAY THE FEE WITHIN THE PRESCRIBED TIME-LIMIT

Effective date: 20221012

REG Reference to a national code

Ref country code: CH

Ref legal event code: PL

PG25 Lapsed in a contracting state [announced via postgrant information from national office to epo]

Ref country code: MC

Free format text: LAPSE BECAUSE OF FAILURE TO SUBMIT A TRANSLATION OF THE DESCRIPTION OR TO PAY THE FEE WITHIN THE PRESCRIBED TIME-LIMIT

Effective date: 20221012

PG25 Lapsed in a contracting state [announced via postgrant information from national office to epo]

Ref country code: LU

Free format text: LAPSE BECAUSE OF NON-PAYMENT OF DUE FEES

Effective date: 20230804

PG25 Lapsed in a contracting state [announced via postgrant information from national office to epo]

Ref country code: LU

Free format text: LAPSE BECAUSE OF NON-PAYMENT OF DUE FEES

Effective date: 20230804

Ref country code: CH

Free format text: LAPSE BECAUSE OF NON-PAYMENT OF DUE FEES

Effective date: 20230831

PG25 Lapsed in a contracting state [announced via postgrant information from national office to epo]

Ref country code: CY

Free format text: LAPSE BECAUSE OF FAILURE TO SUBMIT A TRANSLATION OF THE DESCRIPTION OR TO PAY THE FEE WITHIN THE PRESCRIBED TIME-LIMIT; INVALID AB INITIO

Effective date: 20170804

PGFP Annual fee paid to national office [announced via postgrant information from national office to epo]

Ref country code: PT

Payment date: 20250827

Year of fee payment: 9

Ref country code: FI

Payment date: 20250820

Year of fee payment: 9

Ref country code: ES

Payment date: 20250917

Year of fee payment: 9

PGFP Annual fee paid to national office [announced via postgrant information from national office to epo]

Ref country code: DK

Payment date: 20250820

Year of fee payment: 9

Ref country code: DE

Payment date: 20250828

Year of fee payment: 9

PGFP Annual fee paid to national office [announced via postgrant information from national office to epo]

Ref country code: PL

Payment date: 20250822

Year of fee payment: 9

Ref country code: IT

Payment date: 20250825

Year of fee payment: 9

PGFP Annual fee paid to national office [announced via postgrant information from national office to epo]

Ref country code: BG

Payment date: 20250821

Year of fee payment: 9

Ref country code: HU

Payment date: 20250903

Year of fee payment: 9

Ref country code: BE

Payment date: 20250825

Year of fee payment: 9

Ref country code: GB

Payment date: 20250825

Year of fee payment: 9

PGFP Annual fee paid to national office [announced via postgrant information from national office to epo]

Ref country code: AT

Payment date: 20250822

Year of fee payment: 9

Ref country code: FR

Payment date: 20250827

Year of fee payment: 9

PGFP Annual fee paid to national office [announced via postgrant information from national office to epo]

Ref country code: SE

Payment date: 20250825

Year of fee payment: 9

PGFP Annual fee paid to national office [announced via postgrant information from national office to epo]

Ref country code: IE

Payment date: 20250821

Year of fee payment: 9

Ref country code: CZ

Payment date: 20250827

Year of fee payment: 9

Ref country code: RS

Payment date: 20250821

Year of fee payment: 9

PGFP Annual fee paid to national office [announced via postgrant information from national office to epo]

Ref country code: RO

Payment date: 20250901

Year of fee payment: 9

PGFP Annual fee paid to national office [announced via postgrant information from national office to epo]

Ref country code: SK

Payment date: 20250825

Year of fee payment: 9

PGFP Annual fee paid to national office [announced via postgrant information from national office to epo]

Ref country code: SI

Payment date: 20250828

Year of fee payment: 9