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EP3080592A1 - Procede et dispositif d'analyse de la surface d'un substrat - Google Patents

Procede et dispositif d'analyse de la surface d'un substrat

Info

Publication number
EP3080592A1
EP3080592A1 EP14827494.7A EP14827494A EP3080592A1 EP 3080592 A1 EP3080592 A1 EP 3080592A1 EP 14827494 A EP14827494 A EP 14827494A EP 3080592 A1 EP3080592 A1 EP 3080592A1
Authority
EP
European Patent Office
Prior art keywords
local
image
substrate
pattern
calculation
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Withdrawn
Application number
EP14827494.7A
Other languages
German (de)
English (en)
Inventor
Franc Davenne
Matthieu MILAN
Cédric PERROTTON
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Saint Gobain Glass France SAS
Compagnie de Saint Gobain SA
Original Assignee
Saint Gobain Glass France SAS
Compagnie de Saint Gobain SA
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Saint Gobain Glass France SAS, Compagnie de Saint Gobain SA filed Critical Saint Gobain Glass France SAS
Publication of EP3080592A1 publication Critical patent/EP3080592A1/fr
Withdrawn legal-status Critical Current

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Classifications

    • G—PHYSICS
    • G01—MEASURING; TESTING
    • G01B—MEASURING LENGTH, THICKNESS OR SIMILAR LINEAR DIMENSIONS; MEASURING ANGLES; MEASURING AREAS; MEASURING IRREGULARITIES OF SURFACES OR CONTOURS
    • G01B11/00—Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques
    • G01B11/30—Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques for measuring roughness or irregularity of surfaces
    • G01B11/306—Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques for measuring roughness or irregularity of surfaces for measuring evenness
    • G—PHYSICS
    • G01—MEASURING; TESTING
    • G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N21/00—Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
    • G01N21/84—Systems specially adapted for particular applications
    • G01N21/88—Investigating the presence of flaws or contamination
    • G01N21/8806—Specially adapted optical and illumination features
    • G—PHYSICS
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    • G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N21/00—Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
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    • G01N21/88—Investigating the presence of flaws or contamination
    • G01N21/89—Investigating the presence of flaws or contamination in moving material, e.g. running paper or textiles
    • G01N21/8901—Optical details; Scanning details
    • G—PHYSICS
    • G01—MEASURING; TESTING
    • G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
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    • G01N21/88—Investigating the presence of flaws or contamination
    • G01N21/89—Investigating the presence of flaws or contamination in moving material, e.g. running paper or textiles
    • G01N21/892—Investigating the presence of flaws or contamination in moving material, e.g. running paper or textiles characterised by the flaw, defect or object feature examined
    • G01N21/896—Optical defects in or on transparent materials, e.g. distortion, surface flaws in conveyed flat sheet or rod
    • G—PHYSICS
    • G01—MEASURING; TESTING
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    • G01N21/88—Investigating the presence of flaws or contamination
    • G01N21/95—Investigating the presence of flaws or contamination characterised by the material or shape of the object to be examined
    • G01N21/958—Inspecting transparent materials or objects, e.g. windscreens
    • G—PHYSICS
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    • G01N21/88—Investigating the presence of flaws or contamination
    • G01N21/8806—Specially adapted optical and illumination features
    • G01N2021/8829—Shadow projection or structured background, e.g. for deflectometry

Definitions

  • the invention relates to a method and a device for analyzing a surface of a specular substrate, said analysis notably making it possible to detect local flatness defects by measuring the altitude profile of the substrate.
  • the first technique consists in measuring the flatness of an object by interferometry.
  • the measurement is made by exploiting the interferences intervening between two waves coming from the reflections of an incident wave on the surface to be measured and on a known surface (standard).
  • this technique is difficult to apply to online measurements on industrial sites of large substrates. Indeed, interferometric methods, composed of many optical elements, are very sensitive to external disturbances (vibrations, temperature, etc.).
  • the second technique consists in measuring the flatness of an object by reflectometry.
  • this technique nevertheless requires the use of large components (projector, screen) and / or the use of complex optical components to project and collect light.
  • the integration of such a device on an industrial line is rarely possible or desirable, for lack of space.
  • the third technique consists in measuring the flatness of an object by deflectometry.
  • the analysis of the deformation of a virtual image created by reflection makes it possible to go back to the shape of the object.
  • a pattern consisting of a periodic pattern, generally consisting of an alternation of white and black lines, is observed in reflection on the surface of the substrate to be measured.
  • a local variation of the surface deforms the observed image locally.
  • the measurement of the local phase of the observed image makes it possible to determine the local slopes.
  • the shape of the substrate is then reconstructed from the local slopes by integration.
  • EP-A-1 336 076 discloses a measurement method for detection of optical and surface defects based on the analysis of the deformation of a two-dimensional pattern observed in reflection. This method consists in taking at least one image in reflection of at least one pattern on the surface using a matrix camera, to extract numerically the local phases, and to determine the variations of local slopes (the variations of curvatures or the variations of altitudes being then deduced).
  • This method has the disadvantage of having to control the positioning of the substrate during its displacement to ensure the reproducibility of the measurement. Indeed, in order to extract the phase, the method must include a step of superposition of the image in reflection of the target on a reference pattern and then compare these phases to reference phases in order to deduce phase variations and correct these variations after a sensitivity factor that strongly depends on the observation conditions and the measurement tools used.
  • US 6,392,754 discloses a method for determining the profile of a specular surface based on the analysis of a reflection pattern.
  • the deformation of the pattern observed in reflection, using a matrix or linear camera makes it possible to evaluate the altitude profile.
  • the method consists in determining the local phases of the image by comparing the observed pattern with a perfect theoretical image.
  • the altitude profile is then determined by integrating the local slopes, knowing a reference point.
  • WO 2010/037956 also relates to the continuous analysis of deforming optical defects present either on the surface of the substrate or in its mass.
  • the method consists in acquiring, using a matrix camera, a series of several images of a bidirectional pattern seen in transmission through a substrate, or in reflection on the substrate.
  • the image reconstituted by gluing is then analyzed by digital processing to deduce the position of optical defects and quantify their intensities, from the variation of the local phases of the image. This method quantifies optical defects but not flatness defects.
  • No. 7,345,698 is concerned with the measurement of optical power, in particular for specular surfaces from a plurality of circular images projected onto the substrate and reflected. This method is not interested in flatness defects either.
  • An object of the invention is to provide a robust method of measuring the flatness of a specular substrate.
  • an aspect of the invention particularly relates to a method of analyzing a surface of a specular substrate comprising:
  • the method has one or more of the following characteristics, taken alone or in any technically possible combination:
  • the altitude profile is obtained by integration from the local optical powers
  • the method uses a calculation of local slopes from the local optical powers to calculate the altitude profile
  • the analysis is carried out during the movement of the substrate
  • the substrate is specular and transparent.
  • the calculation of the altitude profile as a function of the local optical powers obtained from the local phase derivatives does not require calculation of the local phases. This method makes it possible to use relative measurements, and thus to be less sensitive to external vibrations.
  • this method does not require calibration during measures.
  • the method is thus robust.
  • the proposed invention also has the advantage of avoiding the use of large patterns, allowing acquisition during the displacement of the substrate and limiting the number of cameras, avoiding referencing by an additional camera (a calibration by an additional camera being useless).
  • the subject of the invention is also a device for measuring the flatness of a substrate, comprising at least one camera, at least one test pattern, digital image processing means, characterized in that the processing means comprise a calculator and a memory on which are stored programs able to implement a method as described above.
  • FIG. 1 shows a schematic sectional view of an analysis device according to the invention for a reflection measurement
  • FIG. 2 illustrates an example of a pattern used.
  • the device 1 illustrated in FIGS. 1 and 2 makes it possible to analyze by reflection the defects of a specular substrate 2, such as glazing, by calculating the elevation profile of the specular surface of this glazing.
  • the device comprises a test pattern 10, means 3 which are for example a matrix camera, a lighting system 4 of the test pattern, and suitable means of processing and calculation 5.
  • the pattern 10 is formed on one side of a support panel 1 1, facing the substrate to be measured. It will be described in more detail later for illustrative purposes.
  • the specular surface substrate 2 i.e. the glazing, is arranged in front of the sight 10 and the camera 3, the objective of the camera being in the same plane as that of the target and being directed toward the surface of the substrate.
  • the lighting system 4 may be a backlight system when the support panel 1 1 is translucent, such as a white plastic plate.
  • the lighting system 4 then consists of a multitude of light-emitting diodes which are arranged at the rear of the translucent panel.
  • the camera 3 is matrix; it generates frames of shots which, by digital processing, are concatenated to form an overall image of the substrate.
  • the substrate 2 or the pattern is able to scroll in translation relative to each other to ensure the necessary number of shots on the entire substrate.
  • the trigger frequency of the camera for each shot is slaved to the frame rate.
  • the camera 3 is positioned at a distance "d" adapted so as to display all of the reflection of the pattern on the substrate.
  • the monodirectional pattern is positioned perpendicular to the axis of travel of the specular substrate.
  • the focus of the camera is on the image of the reflected virtual pattern.
  • the camera 3 is positioned to attenuate the impact of the potential reflection of the pattern on the underside of the substrate.
  • the pattern 10 as shown in Figure 3, is arranged on a support 11 of oblong shape. It is unidirectional.
  • the pattern of the pattern consists of an alternating succession of light and dark lines.
  • the pattern is small in relation to the substrate to be measured.
  • the test pattern extends for example 15 cm by 1.8 m for a zero inclination of the glazing.
  • the pattern has for example a periodic pattern in at least one direction of dark and light areas.
  • the frequency is variable according to the desired accuracy. Several frequencies may be present on the test pattern.
  • the shooting devices (camera, lens) are connected to the processing and calculation means 5 to perform the mathematical treatments and analyzes that follow the successive shots.
  • FIG. 4 illustrates an image recorded by the camera, the image of the pattern being deformed by the presence of defects in one direction.
  • the invention relates more particularly to the calculation making it possible to obtain flatness from the images.
  • the method described in the invention based on deflectometry consists in determining the flatness of a specular substrate from the measurement of the local optical powers.
  • the spherical mirror defect modeling allows us, using the proposed method, to link the local optical power to a local curvature of the substrate. From this information, the altitude profile is calculated by integration.
  • the calculation of the optical power is made from a two-dimensional image of a monodirectional pattern.
  • the mathematical analysis consists in obtaining the value of the local magnification from the local phase derivative in any "point" (or "pixel") of the image, then in calculating the local optical powers.
  • a one-dimensional mapping of the local optical powers of each of the images acquired in reflection, called map of the local optical powers, is thus defined.
  • One of the possible methods is based on transform processing of
  • the altitude profile is obtained by integrating the local radii of curvature.
  • the invention thus comprises:

Landscapes

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  • Pathology (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Textile Engineering (AREA)
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  • Investigating Materials By The Use Of Optical Means Adapted For Particular Applications (AREA)

Abstract

Procédé d'analyse d'une surface d'un substrat spéculaire (2) comprenant : - une acquisition d'au moins une image d'une mire (10) produite par réflexion sur ladite surface, la mire présentant un motif périodique de zones sombres et claires; - un calcul de la dérivée de la phase locale dans une direction en des points de l'image à partir de l'image acquise; - un calcul de grandeurs représentatives de grandissements locaux dans une direction en des points de l'image à partir de la dérivée de la phase; - un calcul de puissances optiques locales à partir desdites grandeurs représentatives de grandissements locaux; - un calcul de profil d'altitude à partir des puissances optiques locales.

Description

PROCEDE ET DISPOSITIF D'ANALYSE
DE LA SURFACE D'UN SUBSTRAT
L'invention concerne un procédé et un dispositif d'analyse d'une surface d'un substrat spéculaire, ladite analyse permettant notamment la détection de défauts locaux de planéité par la mesure du profil d'altitude du substrat.
Il existe trois principales techniques sans contact pour mesurer la planéité de substrats transparents.
La première technique consiste à mesurer la planéité d'un objet par interférométrie. La mesure est effectuée en exploitant les interférences intervenant entre deux ondes provenant des réflexions d'une onde incidente sur la surface à mesurer et sur une surface connue (étalon). Bien qu'extrêmement fiable et précise, cette technique est difficilement applicable aux mesures en ligne sur sites industriels de substrats de grandes dimensions. En effet, les méthodes interférométriques, composées de nombreux éléments optiques, sont très sensibles aux perturbations extérieures (vibrations , température, etc.).
La deuxième technique consiste à mesurer la planéité d'un objet par réflectométrie. Dans le cas de substrats de grandes dimensions, cette technique demande néanmoins l'utilisation de composants de grandes dimensions (projecteur, écran) et/ou l'utilisation de composants optiques complexes pour projeter et collecter la lumière. L'intégration d'un tel dispositif sur une ligne industrielle est rarement possible ou souhaitable, par manque de place.
La troisième technique consiste à mesurer la planéité d'un objet par déflectométrie. L'analyse de la déformation d'une image virtuelle créée par réflexion permet de remonter à la forme de l'objet. Une mire, constituée d'un motif périodique, généralement constitué par une alternance de lignes blanches et noires, est observée en réflexion sur la surface du substrat à mesurer. Une variation locale de la surface déforme localement l'image observée. La mesure de la phase locale de l'image observée permet de déterminer les pentes locales. La forme du substrat est ensuite reconstruite à partir des pentes locales par intégration. EP-A-1 336 076 décrit une méthode de mesure de détection des défauts optiques et de surface basée sur l'analyse de la déformation d'une mire à deux dimensions observées en réflexion. Cette méthode consiste à prendre au moins une image en réflexion d'au moins une mire sur la surface à l'aide d'une caméra matricielle, à extraire numériquement les phases locales, et déterminer les variations de pentes locales (les variations de courbures ou les variations d'altitudes étant ensuite déduites).
Cette méthode présente l'inconvénient de devoir contrôler le positionnement du substrat lors de son déplacement afin d'assurer la reproductibilité de la mesure. En effet, afin d'extraire la phase, la méthode doit comporter une étape de superposition de l'image en réflexion de la mire sur une mire de référence et ensuite comparer ces phases à des phases de référence afin de déduire des variations de phases et corriger ces variations après un facteur de sensibilité qui dépend fortement des conditions d'observation et des outils de mesure utilisés.
Le document US 6 392 754 décrit une méthode pour déterminer le profil d'une surface spéculaire basée sur l'analyse d'une mire en réflexion. La déformation de la mire observée en réflexion, à l'aide d'une caméra matricielle ou linéaire permet d'évaluer le profil d'altitude. La méthode consiste à déterminer les phases locales de l'image en comparant la mire observée à une image théorique parfaite. Le profil d'altitude est ensuite déterminé en intégrant les pentes locales, connaissant un point de référence.
La méthode de US 6 392 754 permet d'éviter de définir la position des franges dans un référentiel. Cependant, le dispositif présente l'inconvénient de devoir être calibré pour aligner la mire avec la caméra matricielle : chaque ligne de la mire doit correspondre exactement à un nombre entier de lignes de pixels de la caméra.
Toutes les techniques basées sur la déflectométrie précédemment citées déterminent la pente locale ou le rayon de courbure à partir de la mesure de la phase locale. Ces méthodes sont complexes et nécessitent une étape de calibration (i.e. définir la position des franges dans le référentiel du système optique), ou ne sont pas adaptées à la mesure en ligne pour mesurer des volumes de grandes dimensions.
WO 2010/037956 concerne également l'analyse en continu de défauts optiques déformants présents soit à la surface du substrat ou dans sa masse.
La méthode consiste à acquérir, à l'aide d'une caméra matricielle, une série de plusieurs images d'une mire bidirectionnelle vue en en transmission à travers un substrat, ou en réflexion sur le substrat. L'image reconstituée par recollement est ensuite analysée par traitement numérique pour en déduire la position des défauts optiques et quantifier leurs intensités, à partir de la variation des phases locales de l'image. Cette méthode quantifie les défauts optiques mais pas les défauts de planéité.
US 7 345 698 s'intéresse à la mesure de la puissance optique notamment pour des surfaces spéculaires à partir d'une pluralité d'images circulaires projetée sur le substrat et réfléchie. Cette méthode ne s'intéresse pas non plus aux défauts de planéité.
Un but de l'invention est de fournir une méthode de mesure robuste de la planéité d'un substrat spéculaire.
A cet effet, un aspect de l'invention a notamment pour objet un procédé d'analyse d'une surface d'un substrat spéculaire comprenant :
- une acquisition d'au moins une image d'une mire produite par réflexion sur ladite surface, la mire présentant un motif périodique de zones sombres et claires ;
- un calcul de la dérivée de la phase locale dans une direction en des points de l'image à partir de l'image acquise;
- un calcul de grandeurs représentatives de grandissements locaux dans une direction en des points de l'image à partir de la dérivée de la phase;
- un calcul de puissances optiques locales à partir desdites grandeurs représentatives de grandissements locaux ;
- un calcul de profil d'altitude à partir des puissances optiques locales.
Suivant des modes particuliers de réalisation, le procédé présente une ou plusieurs des caractéristiques suivantes, prise(s) isolément ou suivant toutes les combinaisons techniquement possibles :
- le profil d'altitude est obtenu par une intégration à partir des puissances optiques locales ;
- le procédé utilise un calcul de pentes locales à partir des puissances optiques locales pour calculer le profil d'altitude ;
- l'analyse est effectuée en cours de mouvement du substrat ;
- le substrat est spéculaire et transparent.
Avec l'invention, le calcul du profil d'altitude en fonction des puissances optiques locales obtenues à partir des dérivées locales de phase ne nécessite pas de calculer les phases locales. Cette méthode permet d'utiliser des mesures relatives, et être ainsi moins sensible aux vibrations extérieures.
En outre, cette méthode ne nécessite pas d'étalonnage au cours des mesures.
La méthode est ainsi robuste.
L'invention proposée a également l'avantage d'éviter l'utilisation de mires de grandes dimensions, en permettant une acquisition lors du déplacement du substrat et de limiter le nombre de caméras, en évitant un référencement par une caméra supplémentaire, (une calibration par une caméra supplémentaire étant inutile).
L'invention a également pour objet un dispositif de mesure de la planéité d'un substrat, comprenant au moins une caméra, au moins une mire, des moyens de traitement numérique d'image, caractérisé en ce que les moyens de traitement comprennent un calculateur et une mémoire sur laquelle sont stockés des programmes aptes à mettre en œuvre un procédé tel que décrit ci-dessus.
La présente invention est maintenant décrite à l'aide d'exemples uniquement illustratifs et nullement limitatifs de la portée de l'invention, et à partir des figures ci-jointes, dans lesquelles :
- La figure 1 représente une vue schématique en coupe d'un dispositif d'analyse selon l'invention pour une mesure en réflexion ;
- La figure 2 illustre un exemple de mire utilisée.
Les figures ne sont pas à l'échelle pour en faciliter la lecture.
Le dispositif 1 illustré sur les figures 1 et 2 permet d'analyser par réflexion les défauts d'un substrat spéculaire 2, tel qu'un vitrage, par le calcul du profil d'altitude de la surface spéculaire de ce vitrage. Le dispositif comporte une mire 10, des moyens de prise de vue 3 que sont par exemple une caméra matricielle, un système d'éclairage 4 de la mire, et des moyens adaptés de traitement et de calcul 5.
La mire 10 est formée sur une face d'un panneau support 1 1 , en regard du substrat à mesurer. Elle sera décrite plus en détail ultérieurement à titre illustratif.
Le substrat 2 à surface spéculaire, i.e. le vitrage, est agencé devant la mire 10 et la caméra 3, l'objectif de la caméra étant dans le même plan que celui de la mire et étant dirigé en direction de la surface du substrat.
Le système d'éclairage 4 peut être un système de rétro-éclairage lorsque le panneau support 1 1 est translucide, tel qu'une plaque de plastique blanc. De préférence, le système d'éclairage 4 est alors constitué d'une multitude de diodes électroluminescentes qui sont disposées à l'arrière du panneau translucide. La caméra 3 est matricielle ; elle génère des trames de prises de vue qui, par traitement numérique, sont concaténées pour former une image globale du substrat. Le substrat 2 ou la mire est apte à défiler en translation l'un par rapport à l'autre pour assurer le nombre nécessaire de prises de vue sur l'ensemble du substrat. La fréquence de déclenchement de la caméra pour chaque prise de vue est asservie à la vitesse de défilement.
La caméra 3 est positionnée à une distance « d » adaptée de manière à visualiser l'ensemble de la réflexion de la mire sur le substrat. La mire monodirectionnelle est positionnée perpendiculairement à l'axe de défilement du substrat spéculaire. La mise au point de la caméra se fait sur l'image de la mire virtuelle réfléchie. La caméra 3 est positionnée de manière à atténuer l'impact de la potentielle réflexion de la mire sur la face inférieure du substrat.
La mire 10, telle qu'illustrée sur la figure 3, est agencée sur un support 1 1 de forme oblongue. Elle est monodirectionnelle. Le motif de la mire se compose d'une succession alternative de lignes claires et foncées.
La mire est de petites dimensions par rapport au substrat à mesurer. Par exemple pour mesurer un vitrage de 1 ,5 m par 1 ,5 m, la mire s'étend par exemple sur 15 cm par 1 ,8 m pour une inclinaison nulle du vitrage.
D'une manière générale, il s'agit d'une mire de tout type adapté, la mire présente par exemple un motif périodique dans au moins une direction de zones sombres et claires. La fréquence est variable selon la précision recherchée. Plusieurs fréquences pourront être présentes sur la mire.
Les dispositifs de prises de vue (caméra, objectif) sont connectés aux moyens de traitement et de calcul 5 pour effectuer les traitements et analyses mathématiques qui suivent les prises de vue successives.
La figure 4 illustre une image enregistrée par la caméra, l'image de la mire étant déformée par la présence de défauts dans une direction.
L'invention concerne plus particulièrement le calcul permettant d'obtenir la planéité à partir des images.
En effet, un défaut de planéité introduit une déformation de l'image acquise.
La méthode décrite dans l'invention, basée sur la déflectométrie consiste à déterminer la planéité d'un substrat spéculaire à partir de la mesure des puissances optiques locales. La modélisation du défaut en miroir sphérique nous permet, à l'aide de la méthode proposée, de lier la puissance optique locale à une courbure locale du substrat. A partir de ces informations, le profil d'altitude est calculé par intégration.
Plus précisément, le calcul du profil d'altitude à partir de l'analyse de la mire se décompose par exemple ainsi:
1 . Acquisition d'une image de la mire déformée par le substrat ;
2. Démodulation de la phase unidimensionnelle, par exemple Transformée de Fourier unidimensionnelle ;
3. Calcul de la dérivée de la phase locale en chaque point de l'image ;
4. Calcul du grandissement local en chaque point de l'image ;
5. Calcul de la puissance optique locale en chaque point de l'image ;
6. Calcul des pentes locales en chaque point du vitrage ;
7. Calcul du profil d'altitude dans une direction ;
8. Evaluation des défauts de planéité.
Le calcul de la puissance optique, présenté ci-dessus, est fait à partir d'une image bidimensionnelle d'une mire monodirectionnelle.
L'analyse mathématique consiste à obtenir la valeur du grandissement local à partir de la dérivée de phase locale en tout « point » (ou « pixel ») de l'image, puis à calculer les puissances optiques locales. On définit ainsi une cartographie en une dimension des puissances optiques locales de chacune des images acquises en réflexion, appelée carte des puissances optiques locales.
Cette extraction de la carte de puissances optiques locales peut être obtenue de différentes manières.
L'une des méthodes possible est basée sur le traitement par transformée de
Fourier, de façon connue.
Par traitement numérique de la puissance optique, en supposant la surface sensiblement plane et en modélisant localement le vitrage par des miroirs sphériques, on obtient le profil d'altitude en intégrant les rayons de courbures locaux.
L'exploitation de ce profil d'altitude permet quantifier la qualité du vitrage directement sur la ligne de fabrication, en délivrant des valeurs relatives à des critères décrits dans des normes en cours de validité. D'une manière générale, l'invention comprend ainsi :
- une acquisition d'au moins une image d'une mire produite par réflexion sur ladite surface, la mire présentant un motif périodique de zones sombres et claires ;
- un calcul de la dérivée de la phase locale dans une direction en des points (i.e. pixels) (e.g. tout point) de l'image à partir de l'image acquise;
- un calcul de grandeurs représentatives de grandissements locaux dans une direction en des points (i.e. pixels) (e.g. tout point) de l'image à partir de la dérivée de la phase;
- un calcul de puissances optiques locales à partir desdites grandeurs représentatives de grandissements locaux ;
- un calcul de profil d'altitude à partir des puissances optiques locales.

Claims

REVENDICATIONS
1 . Procédé d'analyse d'une surface d'un substrat spéculaire (2) comprenant :
- une acquisition d'au moins une image d'une mire (10) produite par réflexion sur ladite surface, la mire présentant un motif périodique de zones sombres et claires ;
- un calcul de la dérivée de la phase locale dans une direction en des points de l'image à partir de l'image acquise;
- un calcul de grandeurs représentatives de grandissements locaux dans une direction en des points de l'image à partir de la dérivée de la phase;
- un calcul de puissances optiques locales à partir desdites grandeurs représentatives de grandissements locaux ;
- un calcul de profil d'altitude à partir des puissances optiques locales.
2. Procédé selon la revendication 1 , dans lequel le profil d'altitude est obtenu par une intégration à partir des puissances optiques locales.
3. Procédé selon la revendication 2, utilisant un calcul de pentes locales à partir des puissances optiques locales pour calculer le profil d'altitude.
4. Procédé selon l'une quelconque des revendications précédentes, dans lequel l'analyse est effectuée en cours de mouvement du substrat.
5. Procédé selon l'une quelconque des revendications précédentes, dans lequel le substrat est spéculaire et transparent.
6. Dispositif (1 ) de mesure de la planéité d'un substrat (2), comprenant au moins une caméra (3), au moins une mire (10), des moyens de traitement numérique d'image, caractérisé en ce que les moyens de traitement comprennent un calculateur et une mémoire sur laquelle sont stockés des programmes aptes à mettre en œuvre un procédé selon l'une quelconque des revendications précédentes.
EP14827494.7A 2013-12-13 2014-12-10 Procede et dispositif d'analyse de la surface d'un substrat Withdrawn EP3080592A1 (fr)

Applications Claiming Priority (2)

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