DE69916162T2

DE69916162T2 - IR- und UV-Strahlungsempfindliche Zusammensetzung und Offsetdruckplatte

Info

Publication number: DE69916162T2
Application number: DE69916162T
Authority: DE
Inventors: Angelo Bolli; Paolo Peveri; Andrea Tettamanti
Original assignee: Lastra SpA
Current assignee: Agfa NV
Priority date: 1998-05-12
Filing date: 1999-05-10
Publication date: 2005-04-14
Anticipated expiration: 2019-05-11
Also published as: JP2000029214A; CN1241731A; KR19990088227A; ITMI981023A1; CN1185547C; ATE263680T1; US6376150B1; HK1023310A1; IT1299220B1; DE69916162D1; CA2271834A1; ZA993248B; EP0956948A1; EP0956948B1; ES2216435T3

Description

GEBIET DER ERFINDUNG
Die vorliegende Erfindung betrifft eine IR- und UV-strahlungsempfindliche Zusammensetzung und eine lithographische Platte.
Die Erfindung betrifft insbesondere eine IR- und UV-strahlungsempfindliche Zusammensetzung, die sich zur Herstellung einer Positiv-Lithographieplatte eignet.
HINTERGRUND DER ERFINDUNG
Bekanntlich beruht das Druckverfahren mit einer lithographische Platte auf der unterschiedlichen Verteilung fettähnlicher Substanzen und Wasser. Die fettähnliche Substanz oder Tinte wird bevorzugt im Bildbereich festgehalten, während das Wasser bevorzugt im Nicht-Bildbereich festgehalten wird. Wenn die Oberfläche einer geeignet vorbehandelten lithographischen Platte mit Wasser angefeuchtet wird und dann mit Tinte überzogen wird, hält der Nicht-Bildbereich das Wasser fest und stößt die Tinte ab, während der Bildbereich die Tinte annimmt und das Wasser abstößt. Dann wird die Tinte auf dem Bildbereich auf ein Substrat eines Materials transferiert, auf dem die Wiedergabe des Bildes gewünscht ist, wie z. B. Karton, Gewebe und dergleichen.
Im Allgemeinen bestehen die in Druckverfahren verwendeten lithographischen Platten aus einem Aluminiumträger, der mit einer lichtempfindlichen (photoempfindlichen) Zusammensetzung überzogen ist. Wenn diese Zusammensetzung auf Licht einer geeigneten Wellenlänge so reagiert, dass der dem Licht ausgesetzte Anteil löslich wird und somit im Entwicklungsschritt entfernt werden kann, wird das Druckverfahren als "Positiv"-Verfahren bezeichnet. Wenn dagegen der dem Licht ausgesetzte Anteil unlöslich wird, wird das Druckverfahren als "Negativ"-Verfahren bezeichnet. In beiden Fällen ist der verbleibende Bildbereich lipophil und nimmt daher die Tinte an, während der Nicht-Bildbereich hydrophil ist und das Wasser annimmt.
Neuere Entwicklungen auf dem Gebiet lithographischer Platten sind auf die Suche nach Zusammensetzungen ausgerichtet, die gegenüber Laserlicht empfindlich sind, vorzugsweise im nahen IR-Bereich, insbesondere gegenüber Laserlicht, das von einer Software gesteuert wird, um das vom Computer erzeugte Bild direkt auf die Oberfläche der Platte zu übertragen. Diese Technik hat den Vorteil, dass keine photographischen Filme mehr erforderlich sind, was in der Folge zu einer Verringerung der Umweltbelastung durch chemische Substanzen führt, die zur Herstellung und Entwicklung dieser Filme dienen, und alle Probleme eliminiert, die beim Übertragen des Bildes auf die Platte mittels photographischer Filme auftreten.
Erstens macht eine Zusammensetzung, die gegenüber der von einem Laser ausgesandten IR-Strahlung empfindlich ist, das System bisweilen verlässlicher.
Zweitens wäre es möglich, unter Umgebungslicht zu arbeiten, was das Erfordernis automatischer Ladesysteme und Dunkelkammern entbehrlich macht.
Die Patentanmeldung WO 96/20429 beschreibt ein Verfahren zur Ausbildung einer lithographischen Druckmatrix nach dem Wärmedruckverfahren. Bei diesem Verfahren (i) überzieht man einen als lithographischen Träger verwendbaren Träger mit einer Positiv-fotoempfindlichen Zusammensetzung, die einen Naphthochinondiazidester eines Phenolharzes oder einen Naphthochinondiazidester und ein Phenolharz und wenigstens eine Substanz umfasst, die im IR-Bereich absorbiert, (ii) setzt das System ultraviolettem Licht (UV) aus, damit die fotoempfindliche Zusammensetzung entwickelt werden kann, (iii) beschreibt die Platte mit von einem Laser ausgesandter IR-Strahlung, und (iv) entwickelt die Platte, um diejenigen Bereiche der fotoempfindlichen Zusammensetzung zu entfernen, die nicht dem Laser ausgesetzt waren.
Außerdem wird im Zuge der Beschreibung behauptet, dass die Kombination der Schritte des Einwirkens von Licht (UV) und des Erwärmens (durch IR-Strahlung) wesentlich ist zur Ausbildung des Abbilds (Seite 7, Zeilen 1–3).
Die Patentanmeldung WO 97/39894 beschreibt eine wärmeempfindliche olefinische Zusammensetzung, die eine im wässrigen Entwickler lösliche polymere Substanz und eine Verbindung umfasst, die die Löslichkeit der polymeren Substanz im wässrigen Entwickler verringert, die dadurch gekennzeichnet ist, dass die Löslichkeit der Zusammensetzung im wässrigen Entwickler durch Erwärmen erhöht wird, nicht jedoch durch die einfallende UV Strahlung (siehe Anspruch 1). Mit anderen Worten ist diese Platte empfindlich gegenüber IR aber nicht gegenüber UV.
Die wärmeempfindliche Zusammensetzung umfasst vorzugsweise keine UV-empfindlichen Bestandteile (Seite 17, Zeilen 17–18).
Die EP-A-0 833 204 offenbart eine IR-empfindliche bildgebende Zusammensetzung mit zwei wesentlichen Bestandteilen, nämlich einem IR-absorbierenden Material und einem Phenolharz, das mit einem o-Diazonaphthochinonderivat vermischt oder umgesetzt ist. Diese Zusammensetzungen eignen sich für bildgebende Elemente wie lithographische Druckplatten, die zur Ausbildung positiver oder negativer Bilder mittels Laserbildgebung verwendet und die auf Direct-to-plate-Belichtungsverfahren angepasst werden können. Jedoch betrifft keines der Beispiele der EP-A-0 833 204 die Verwendung der Zusammensetzung in einem Verfahren, bei dem ein Bild lediglich nach UV-Exposition erhalten wird.
Die US-A 5 705 322 beansprucht ein Element mit Negativ-Funktionsweise, das (i) ein Gemisch eines Phenolharzes und eines o-Naphthochinondiazidderivates, oder (ii) ein Umsetzungsprodukt eines Phenolharzes und eines o-Naphthochinondiazidderivates oder (iii) ein Gemisch von (i) und (ii) umfasst. Ein Gemisch von (i) und (ii) ist aber weder durch Beispiele veranschaulicht noch getestet worden. Das Element kann nur mit IR-Strahlung oder in einer zweistufigen Belichtungssequenz sowohl mit IR- als auch UV-Strahlung belichtet werden, wobei es zuerst IR- und dann UV-Strahlen ausgesetzt wird.
Photoempfindliche Platten, die wie die der vorstehend angesprochenen Patentanmeldungen WO 96/20429 and WO 97/39894 notwendigerweise die Einwirkung von IR-Licht erfordern, werden gegenwärtig selten verwendet, da Anlagen, die mit Laserlicht auf eine lithographische Platte drucken können, immer noch sehr teuer sind. Somit findet gegenwärtig eine Übergangsperiode statt, in der viele Betreiber immer noch das alte Verfahren anwenden, bei dem man durch Belichten mit UV-Lampen mittels eines Masterbildes auf die Platte druckt, während wenige – die bereits über die erforderliche Ausrüstung verfügen – Platten benötigen, die gegenüber IR-Licht empfindlich sind.
Die Patentanmeldung EP 0 672 954 versucht dieses Erfordernis zu befriedigen und offenbart eine photoempfindliche Beschichtung für eine lithographische Platte, die sowohl gegenüber UV- als auch IR-Strahlung ist und sowohl in Positiv- als auch Negativ-Verfahren eingesetzt werden kann. Die Beschichtung enthält ein Resolharz, ein Novolak-Harz, ein mit einer Halogenalkylgruppe substituiertes s-Triazin und einen IR-Absorber. Die Löslichkeit der vorstehenden Zusammensetzung in einer Lösung eines alkalischen wässrigen Entwicklers wird während der Schritten (i) der Einwirkung der bildgebenden Strahlung und (ii) des Erwärmens im belichteten Bereich verringert und im nicht belichteten Bereich erhöht. Im Zuge der Beschreibung wird angegeben, dass wesentlich ist, dass sowohl ein Resol- als auch ein Novolak-Harz vorliegen, damit man die Platte im Negativ-Verfahren verwenden kann (Seite 4, Zeilen 10–13).
Die Erfinder der vorliegenden Erfindung haben eine Platte gemäß der Patentanmeldung EP 0 672 954 zur Herstellung UV-positiver Bilder verwendet und haben gefunden, dass das so erhaltene Bild eine geringe Beständigkeit gegenüber der alkalischen Entwicklerlösung oder dem Isopropylalkohol in der Badlösung zeigt, die während des Drucks verwendet wird, und das Bild außerdem eine geringe Abriebfestigkeit aufweist.
AUFGABEN DER ERFINDUNG
Eine erste Aufgabe der vorliegenden Erfindung ist die Bereitstellung einer Zusammensetzung, die sowohl gegenüber IR- als auch UV-Strahlung empfindlich ist.
Eine zweite Aufgabe der vorliegenden Erfindung besteht darin, dass die Zusammensetzung ungeachtet des zum Belichten verwendeten Systems (UV oder IR) gute Ergebnisse beim alkalischen Entwickeln zeigen soll.
Eine dritte Aufgabe der vorliegenden Erfindung besteht darin, dass die Zusammensetzung ein Bild liefern soll, das nach dem Entwickeln eine gute Beständigkeit gegenüber den in den Druckverfahren verwendeten Lösungsmitteln, insbesondere Isopropylalkohol, zeigen soll.
Eine vierte Aufgabe der vorliegenden Erfindung besteht in der Bereitstellung einer lithographischen Platte, die eine Zusammensetzung mit den vorstehenden Eigenschaften umfasst.
DEFINITIONEN
Der Begriff "lithographische Platte" soll sich auf einen Träger beziehen, der mit einer photoempfindlichen Beschichtung beschichtet ist und die, nach geeigneter Belichtung und Entwicklung, als planographe Matrix in Druckverfahren verwendet wird, bei denen eine unterschiedliche Verteilung fettähnlicher Substanzen und Wasser erfolgt.
Typische Beispiele für Trägermaterialien sind Aluminium, Zink und Kupfer, polymere Träger wie Polyester, und polymerbeschichtetes Papier.
Insbesondere ist der Träger eine Metallfolie aus galvanisch gekörntem (electrograined) Aluminium, das oxidiert und geeignet behandelt ist, um die photoempfindliche Zusammensetzung aufzunehmen.
Der Begriff "Positiv-" soll bedeuten, dass der belichtete Teil der photoempfindlichen Beschichtung löslich wird, so dass er während des Entwicklungsvorganges der Platte entfernt werden kann. Typischerweise erfolgt der Entwicklungsprozess in Alkali mit einer Leitfähigkeit von 75 bis 110 mS.
Der Begriff "Diazoharz" bezieht sich auf Veresterungsprodukte eines 2,1-Naphthochinondiazid-4-sulphonylchlorids mit einem Polykondensationsprodukt von Phenol oder Homologen davon, wie zum Beispiel m-Kresol oder symmetrischem Xylenol. Typische Beispiele solcher handelsüblicher Harze sind die Erzeugnisse RO 874 und RO 849 der Firma Rohner (Pratteln, Basel, Schweiz) und A 938 der Firma Materiali Sensibili (Mailand, Italien).
Alternativ bezieht sich der Begriff "Diazoharz" auf Veresterungsprodukte eines 2,1-Naphthochinondiazid-5-sulphonylchlorids mit einem Polykondensationsprodukt von Phenol oder Homologen davon, wie zum Beispiel m-Kresol und symmetrischem Xylenol. Typische Beispiele solcher handelsüblicher Diazoharze sind die Erzeugnisse PW 1160 und PW 1161 der Firma Clariant (Wiesbaden, Deutschland) und DRS 25 der Firma Materiali Sensibili.
Im Allgemeinen hat das Diazoharz ein gewichtsmittleres Molekulargewicht von 5000 bis 12000.
Der Begriff "Novolak" bezieht sich auf ein Polymer, das durch Umsetzung von Formaldehyd und Phenol und/oder m-Kresol und/oder symmetrischem Xylenol in einem molaren Verhältnis von weniger als 1 (zum Beispiel Formaldehyd : Phenol = 1 : 2) in einem sauren Medium erhalten ist.
Typische Beispiele handelsüblicher Novolak-Harze sind hochmolekulare Novolak-Harze wie LB 6564 (gewichtsmittleres Molekulargewicht = 6000–10000) und LB 744 (gewichtsmittleres Molekulargewicht = 8000–13000) der Firma Bakelite (Deutschland), R 7100 (gewichtsmittleres Molekulargewicht = 8000–10000) der Firma Rohner, und PN 430 (gewichtsmittleres Molekulargewicht = 5000–9500) der Firma Clariant und niedermolekulare Novolak-Harze wie PN 320 (gewichtsmittleres Molekulargewicht = 3000–5000). Eine bevorzugte Form von R 7100 wird erhalten, indem man Monomere aus LB 744 entfernt, wobei man ein im wesentlichen monomerfreies Harz mit einem gewichtsmittleren Molekulargewicht von 9500 bis 10500 erhält.
Der Begriff "Diazoester" bezieht sich auf das Produkt der vollständigen oder teilweisen Veresterung eines 2,1-Naphthochinondiazidsulphonylchlorids mit einem Tetrahydroxybenzophenon.
Typische Beispiele für Diazoester sind solche, die durch vollständige oder teilweise Veresterung eines 2,3,4,4'-Tetrahydroxybenzophenons oder eines 2,2',4,4'-Tetrahydroxybenzophenons mit 2,1-Naphthochinondiazid-4-sulphonylchlorids erhalten sind, oder solche, die durch vollständige oder teilweise Veresterung eines 2,3,4,4'-Tetrahydroxybenzophenons oder eines 2,2',4,4'-Tetrahydroxybenzophenons mit 2,1-Naphthochinondiazid-5-sulphonylchlorid erhalten sind.
Ein typisches Beispiel eines Diazoesters ist das Produkt, das durch vollständige oder teilweise Veresterung von 2,2',4,4'-Tetrahydroxybenzophenon mit 2,1-Naphthochinondiazid-4-sulphonylchlorid erhalten ist, wobei man ein Gemisch von Mono-, Di-, Tri- und Tetraestern des 2,2',4,4'-Tetrahydroxybenzophenons erhält, das unter dem Namen SDBZ von der Firma Materiali Sensibili verkauft wird. Typischerweise enthält SDBZ 5 bis 20% Monoester, 40 bis 60% Diester, 20 bis 40% Triester und 1 bis 10% Tetraester des 2,2',4,4'-Tetrahydroxybenzophenons.
Der Begriff "Absorber" bezieht sich auf eine Substanz, die Strahlung einer bestimmten Wellenlänge absorbieren kann. Vorzugsweise ist der Absorber in Wasser, Ketonen und/oder Glycolen, Alkoholen und/oder Gemischen davon löslich.
Typische Beispiele für Absorber sind die Handelsprodukte KF 646, KF 645, KF 810, KF 1003, KF 1002, IR HBB 812 und KF 818 der Firma Riedel-de-Haen/Allied Signal (Seelze, Deutschland), die Handelsprodukte ADS 805PI, ADS805PP, ADS805PA, ADS805PF, ADS812MI, ADS812MI, ADS815EI, ADS818HI, ADS818HT, ADS822MT, ADS830AT, ADS 830A und ADS838MT der Firma American Dye Source (Varennes, Quebec, Canada), das Produkt Projet 830 NP und der IR-absorbierende Cyaninfarbstoff, die von der Firma Zeneca Specialties (Manchester, England) vertrieben werden. Der Einfachheit halber wird der IR-absorbierende Cyaninfarbstoff im Folgenden mit "Z" abgekürzt.
Eine besonders vorteilhafte Absorberfamilie ist durch das folgende Gerüst gekennzeichnet:
worin X, Y, Z, R, R' and R'' viele Bedeutungen haben können. Typische Beispiele solcher Bedeutungen sind: ein einfacher oder kondensierter heterocyclischer Ring für X, ein einfacher oder kondensierter heterocyclischer Ring für Z und Y zusammen mit dem Kohlenstoffatom, an das sie gebunden sind; Wasserstoff, C_1-3-Alkyl, SO₃ ^– oder COO^– für R und R' (unabhängig voneinander), und H oder Cl für R''. Spezielle Beispiele für die heterocyclischen Ringe sind:
Die wahrscheinlichen Strukturen bestimmter spezieller Absorber sind:
KF 646
KF 645
KF 810
IR HBB 812
KF 818
Der Begriff "IR-Strahlung" bezeichnet Strahlung mit einer Wellenlänge von mehr als 780 nm.
Ein typisches Beispiel einer zur Erzeugung von IR-Strahlung verwendeten Vorrichtung ist eine Laserdiode, die bei etwa 830 nm emittiert.
Der Begriff "UV-Strahlung" soll sich auf Strahlung einer Wellenlänge von etwa 10 bis etwa 400 nm beziehen.
Ein typisches Beispiel einer zur Erzeugung von UV-Strahlung verwendeten Vorrichtung ist eine Kohlebogenlampe, eine Quecksilberdampflampe, eine Fluoreszenzlampe, eine Wolframfilamentlampe, eine photographische Lampe und eine 5000 W-Lampe für aktinisches Licht, die im Bereich von 350 bis 400 nm emittieren.
Der Begriff "Farbstoff" soll sich auf eine farbige Verbindung oder Zubereitung beziehen, die die photoempfindliche Zusammensetzung einfärbt, um das Bild nach der Belichtung und/oder dem Entwickeln sichtbar zu machen.
Typische Beispiele für Farbstoffe sind Basonyl-Blau 636 (Colour Index 42595) der Firma BASF (Deutschland) und Sudan-Gelb 150 (Colour Index 11021) der Firma BASF (Deutschland) oder Gemische davon.
Der Begriff "Triazin" bezeichnet die Familie, zu der folgende Verbindungen gehören: 2-(1-Naphthyl)-4,6-bis(trichlormethyl)-s-triazin, 2-(4-Methoxy-1-naphthyl)-4,6-bis(trichlormethyl)-s-triazin, 2-(4-Ethoxy-1-naphthyl)-4,6-bis(trichlormethyl)-s-triazin, 2-(4-Butoxy-1-naphthyl)-4,6-bis(trichlormethyl)-s-triazin, 2-[4-(2-Methoxyethyl)-1- naphthyl]-4,6-bis(trichlormethyl)-s-triazin, 2-[4-(2-Ethoxyethyl)-1-naphthyl]-4,6-bis(trichlormethyl)-s-triazin, 2-[4-(2-Butoxyethyl)-1-naphthyl]-4,6-bis(trichlormethyl)-s-triazin, 2-(2-Methoxy-naphthyl)-4,6-bis(trichlormethyl)-s-triazin, 2-(6-Methoxy-5-methyl-2-naphthyl)-4,6-bis(trichlormethyl)-s-triazin, 2-(6-Methoxy-2-naphthyl)-4,6-bis(trichlormethyl)-s-triazin, 2-(5-Methoxy-1-naphthyl)-4,6-bis(trichlormethyl)-s-triazin, 2-(4,7-Dimethoxy-1-naphthyl)-4,6-bis(trichlormethyl)-s-triazin, 2-(6-Methoxy-2-naphthyl)-4,6-bis-(trichlormethyl)-s-triazin, 2-(4,5-Dimethoxy-1-naphthyl)-4,6-bis(trichlormethyl)-s-triazin, 2-(5-Acenaphthyl)-4,6-bis(trichlormethyl)-s-triazin, 2-(2-Naphthyl)-4,6-bis(trichlormethyl)-s-triazin, 2-(9-Phenanthryl)-4,6-bis(trichlormethyl)-s-triazin, 2-(2-Dibenzothienyl)-4,6-bis(trichlormethyl)-s-triazin, 2-(3-Benzopyranyl)-4,6-bis(trichlormethyl)-s-triazin, 2-(4-Alkoxy-1-anthracyl)-4,6-bis(trichlormethyl)-s-triazin, 2-Methyl-4,6-bis(trichlormethyl)-s-triazin, 2-(4-Methoxy-styryl)-4,6-bis(trichlormethyl)-s-triazin, 2-(2,3-Methylendioxybenzyl)-4,6-bis(trichlormethyl)-s-triazin und 2-(4-Methoxyphenyl)-4,6-bis(trichlormethyl)-s-triazin.
ZUSAMMENFASSUNG DER ERFINDUNG
Es wurden nun eine Zusammensetzung, die (i) ungeachtet des zum Belichten verwendeten Systems (UV oder IR) gute Ergebnisse beim alkalischen Entwickeln liefert, (ii) ein Bild liefert, das nach dem Entwickeln gute Beständigkeit gegenüber den in Druckverfahren verwendeten Lösungsmitteln, insbesondere Isopropylalkohol aufweist, und eine lithographische Platte gefunden, die die Zusammensetzung mit den vorstehenden Eigenschaften umfasst.
Ein erster Gegenstand der vorliegenden Erfindung ist daher die Bereitstellung einer Positiv-fotoempfindlichen Zusammensetzung nach Anspruch 1.
Ein zweiter Gegenstand der vorliegenden Erfindung ist die Bereitstellung einer lithographische Platte, die einen mit einer fotoempfindlichen Zusammensetzung beschichteten Träger umfasst, nach Anspruch 10.
Typischerweise hat die IR-Strahlung eine Wellenlänge von mehr als 780 nm, und insbesondere hat sie eine Wellenlänge von etwa 830 nm.
Typischerweise hat die UV-Strahlung eine Wellenlänge von etwa 10 bis etwa 400 nm, und insbesondere eine Wellenlänge von 350 bis 400 nm.
Vorzugsweise ist das Diazoharz das Veresterungsprodukt eines 2,1-Naphthochinondiazidsulphonylchlorids mit einem Polykondensationsprodukt von Phenol und/oder Homologen davon.
Typischerweise ist das Diazoharz das Veresterungsprodukt von:

– 2,1-Naphthochinondiazid-4-sulphonylchlorid mit einem Polykondensationsprodukt von Phenol oder Homologen davon, wie zum Beispiel, m-Kresol und symmetrischem Xylenol. Bevorzugte Beispiele solcher handelsüblicher Diazoharze sind unter den Produkten RO 874 (Stickstoffgehalt = 1,6 Gew.-%) und RO 849 (Stickstoffgehalt = 1,9 Gew.-%) der Firma Rohner und A 938 (Stickstoffgehalt = 2,8 Gew.-%) der Firma Materiali Sensibili ausgewählt, und/oder
– 2,1-Naphthochinondiazid-5-sulphonylchlorid mit einem Polykondensationsprodukt von Phenol oder Homologen davon, wie zum Beispiel m-Kresol und symmetrischem Xylenol. Bevorzugte Beispiele solcher handelsüblicher Diazoharze sind unter den Produkten PW 1160 (Stickstoffgehalt = 2,4 Gew.-%) und PW 1161 (Stickstoffgehalt = 3,2 Gew.-%) der Firma Clariant und DRS 25 (Stickstoffgehalt = 2,4 Gew.-%) der Firma Materiali Sensibili ausgewählt.

Typischerweise hat das Diazoharz der vorliegenden Erfindung ein gewichtsmittleres Molekulargewicht von 3000 bis 15000, vorzugsweise von 5000 bis 12000.
Im Allgemeinen kann die erfindungsgemäße Zusammensetzung auch ein Gemisch von Diazoharzen enthalten.
Vorzugsweise ist der Stickstoffgehalt des Diazoharzes 1 bis 8 Gew.-%. Insbesondere beträgt der Gehalt 1,2 bis 3,2 Gew.-%.
Typische Beispiele für Diazoester sind solche, die durch vollständige oder teilweise Veresterung eines 2,3,4,4'-Tetrahydroxybenzophenons oder eines 2,2',4,4'-Tetrahydroxybenzophenons mit 2,1-Naphthochinondiazid-4-sulphonylchlorid erhalten sind, oder solche, die durch vollständige oder teilweise Veresterung eines 2,3,4,4'-Tetrahydroxybenzophenons oder eines 2,2',4,4'-Tetrahydroxybenzophenons mit 2,1-Naphthochinondiazid-5-sulphonylchlorid erhalten sind.
Insbesondere ist der Diazoester das durch vollständige oder teilweise Veresterung von 2,2',4,4'-Tetrahydroxybenzophenon mit 2,1-Naphthochinondiazid-4-sulphonylchlorid erhaltene Produkt, wobei man ein Gemisch von Mono-, Di-, Tri- und Tetraester von 2,2',4,4'-Tetrahydroxybenzophenon erhält, das unter dem Namen SDBZ von der Firma Materiali Sensibili verkauft wird.
Typischerweise enthält SDBZ 5 bis 20% Monoester, 40 bis 60% Diester, 20 bis 40% Triester und 1 bis 10% Tetraester von 2,2',4,4'-Tetrahydroxybenzophenon.
Typischerweise beträgt der Stickstoffgehalt des Diazoesters 5 bis 13 Gew.-%. Vorzugsweise beträgt der Gehalt 6 bis 9 Gew.-%.
Vorzugsweise hat das erste Novolak-Harz ein gewichtsmittleres Molekulargewicht von 2000 bis 6000, während das zweite ein gewichtsmittleres Molekulargewicht von 7000 bis 14000 hat. Stärker bevorzugt hat das erste ein gewichtsmittleres Molekulargewicht von 3000 bis 5000 und das zweite hat ein gewichtsmittleres Molekulargewicht von 8000 bis 10000.
Typische Beispiele geeigneter handelsüblicher Novolake sind hochmolekulare Novolak-Harze wie LB 6564 (gewichtsmittleres Molekulargewicht = 6000–10000) und LB 744 (gewichtsmittleres Molekulargewicht = 8000–13000) der Firma Bakelite, R 7100 (gewichtsmittleres Molekulargewicht = 9500–10500) der Firma Rohner, und PN 430 (gewichtsmittleres Molekulargewicht = 5000–9500) der Firma Clariant und das niedermolekulare Novolak-Harz PN 320 (gewichtsmittleres Molekulargewicht = 3000–5000).
Vorzugsweise ist das Novolak-Harz der vorliegenden Erfindung ein Gemisch wenigstens eines hochmolekularen und wenigstens eines niedermolekularen Novolak-Harzes. Stärker bevorzugt macht das hochmolekulare Novolak-Harz etwa 30–40 Gew.-% in der gesamten photoempfindlichen Zusammensetzung aus.
Typischerweise haben die Novolak-Harze der vorliegenden Erfindung eine Erweichungstemperatur von 75 bis 135°C. Insbesondere beträgt die Erweichungstemperatur des niedermolekularen Novolak-Harzes 75 bis 90°C und die Erweichungstemperatur des hochmolekularen Novolak-Harzes 125 bis 140°C.
Bevorzugte Beispiele für Absorber sind Verbindungen, die unter den Handelsprodukten KF 646, KF 645, KF 810, KF 1003, KF 1002, IR HBB 812 und KF 818 der Firma Riedel-de-Haen/Allied Signal, den Handelsprodukten ADS 805PI, ADS805PP, ADS805PA, ADS805PF, ADS812MI, ADS812MI, ADS815EI, ADS818HI, ADS818HT, ADS822MT, ADS830AT, ADS 830A und ADS838MT der Firma American Dye Source, dem Handelsprodukt Projet 830 NP und dem Handelsprodukt Cyanine-Infrared-Absorbing-Farbstoff der Firma Zeneca Specialties ausgewählt sind.
Vorzugsweise ist die erfindungsgemäße lithographische Platte vom Positiv-Typ.
Die erfindungsgemäße Zusammensetzung kann auch einen Farbstoff umfassen.
Bevorzugte Beispiele für Farbstoffe sind Basonyl-Blau 636 (Colour Index 42595) der Firma BASF und Sudan-Gelb 150 (Colour Index 11021) der Firma BASF, und Gemische davon.
Vorzugsweise kann die erfindungsgemäße Zusammensetzung auch ein Triazin enthalten. Stärker bevorzugt umfasst sie ein mit 2 Halogenalkylgruppen substituiertes Triazin.
Typische Beispiele für Triazine sind 2-(1-Naphthyl)-4,6-bis(trichlormethyl)-s-triazin, 2-(4-Methoxy-1-naphthyl)-4,6-bis(trichlormethyl)-s-triazin, 2-(4-Ethoxy-1-naphthyl)-4,6-bis(trichlormethyl)-s-triazin, 2-(4-Butoxy-1-naphthyl)-4,6-bis(trichlormethyl)-s-triazin, 2-[4-(2-Methoxyethyl)-1-naphthyl]-4,6-bis(trichlormethyl)-s-triazin, 2-[4-(2-Ethoxyethyl)-1-naphthyl]-4,6-bis(trichlormethyl)-s-triazin, 2-[4-(2-Butoxyethyl)-1-naphthyl]-4,6-bis(trichlormethyl)-s-triazin, 2-(2-Methoxy-1-naphthyl)-4,6-bis(trichlormethyl)-s-triazin, 2-(6-Methoxy-5-methyl-2-naphthyl)-4,6-bis(trichlormethyl)-s-triazin, 2-(6-Methoxy-2-naphthyl)-4,6-bis(trichlormethyl)-s-triazin, 2-(5-Methoxy-1-naphthyl)-4,6-bis(trichlormethyl)-s-triazin, 2-(4,7-Dimethoxy-1-naphthyl)-4,6-bis(trichlormethyl)-s-triazin, 2-(6-Methoxy-2-naphthyl)-4,6-bis(trichlormethyl)-s-triazin, 2-(4,5-Dimethoxy-1-naphthyl)-4,6-bis(trichloromethyl)-s-triazin, 2-(5-Acenaphthyl)-4,6-bis(trichlormethyl)-s-triazin, 2-(2-Naphthyl)-4,6-bis(trichlormethyl)-s-triazin, 2-(9-Phenanthryl)-4,6-bis(trichlormethyl)-s-triazin, 2-(2-Dibenzothienyl)-4,6-bis(trichlormethyl)-s-triazin, 2-(3-Benzopyranyl)-4,6-bis(trichlormethyl)-s-triazin, 2-(4-Alkoxy-1-anthracyl)-4,6-bis(trichlormethyl)-s-triazin, 2-Methyl-4,6-bis(trichlormethyl)-s-triazin, 2-(4-Methoxystyryl)-4,6-bis(trichlormethyl)-s-triazin, 2-(2,3-Methylenedioxybenzyl)-4,6-bis(trichlormethyl)-s-triazin und 2-(4-Methoxyphenyl)-4,6-bis(trichlormethyl)-s-triazin.
Stärker bevorzugt ist das Triazin 2-(4-Methoxy-1-naphthyl)-4,6-bis(trichlormethyl)-s-triazin, das von der Firma Clariant unter der Referenzbezeichnung BU 1557 verkauft wird.
Die vorliegende Erfindung wird in den folgenden Beispielen und Tests genauer beschrieben, die lediglich der Veranschaulichung dienen und nicht einschränkend sein sollen.
EXPERIMENTELLER TEIL BEISPIEL 1 Herstellung der photoempfindliche Zusammensetzung 1
Man stellte eine Zusammensetzung her, indem man 1,75 g Diazoharz A 938 (gewichtsmittleres Molekulargewicht von etwa 7400; Stickstoffgehalt = 2,8 Gew.-%), 0,1 g Diazoester SDBZ (Stickstoffgehalt = 8 Gew.-%), 1,0 g Novolak-Harz PN 320 (gewichtsmittleres Molekulargewicht von etwa 3700), 1,8 g Novolak-Harz R 7100 (gewichtsmittleres Molekulargewicht von etwa 9600) und 0,29 g Absorber "Z" in 120 g (148,5 ml) einer Lösung (Gew./Gew.) von Aceton : Methanol : Methylglycol = 9,5 : 1 : 1,5 unter Rühren mit dem Magnetrührer bei Zimmertemperatur (20–25°C) löste, bis sich kein Material mehr am Boden des Gefäßes befand (etwa 1 Stunde). Die erhaltene Lösung wurde schließlich über Filterpapier der Type 0860 der Firma Schleicher & Schuell (100 μm) filtriert.
Die so hergestellte Zusammensetzung hat einen Stickstoffgehalt von 1,1 bis 1,2 Gew.-%, bezogen auf die trockenen Zusammensetzung.
BEISPIEL 2
Herstellung der photoempfindliche Zusammensetzung 2
Die Herstellung erfolgte in ähnlicher Weise zu der im vorstehenden Beispiel 1 beschriebenen, wobei jedoch die Zusammensetzung außerdem den Farbstoff Basonyl-Blau 636 (0,0725 g) enthielt.
Die so hergestellte Zusammensetzung hat einen Stickstoffgehalt von 1,1 bis 1,2 Gew.-%, bezogen auf die trockene Zusammensetzung.
BEISPIEL 3
Herstellung der photoempfindliche Zusammensetzung 3
Die Herstellung erfolgte in ähnlicher Weise zu der im vorstehenden Beispiel 1 beschriebenen, wobei jedoch die Zusammensetzung außerdem ein Gemisch des Farbstoffs Basonyl-Blau 636 (0,0625 g) und des Farbstoffs Sudan-Gelb 150 (0,01 g) umfasste.
Die so hergestellte Zusammensetzung hat einen Stickstoffgehalt von 1,1 bis 1,2 Gew.-%, bezogen auf die trockene Zusammensetzung.
BEISPIEL 4
Herstellung der photoempfindliche Zusammensetzung 4
Die folgende Zusammensetzung wurde in einer Pilotanlage hergestellt:
2,512 kg Diazoharz A 938, 144 g Diazoester SDBZ (Stickstoffgehalt = 8 Gew.-%), 1,44 kg Novolak-Harz PN 320, 2,591 kg Novolak-Harz R 7100, 414 g Absorber "Z", 82 g Farbstoff Basonyl-Blau 636 und 22 g Farbstoff Sudan-Gelb 150 wurden in 60 l eines Gemisches (Gew./Gew.) von Aceton : Methanol : Methylglycol = 9,5 : 1 : 1,5 unter Rühren mit dem Magnetrührer bei Zimmertemperatur (20–25°C) gelöst, bis sich kein Material mehr am Boden des Behälters befand. Die erhaltene Lösung wurde schließlich über Filterpapier der Type 0860 der Firma Schleicher & Schuell (100 μm) filtriert.
Die so hergestellte Zusammensetzung hat einen Stickstoffgehalt von 1,1 bis 1,2 Gew.-%, bezogen auf die trockene Zusammensetzung.
BEISPIEL 5 Herstellung der photoempfindliche Zusammensetzung 5
Man löste 0,497 g Diazoharz PW 1160 (gewichtsmittleres Molekulargewicht von etwa 9300; Stickstoffgehalt = 2,4 Gew.-%), 0,07 g Diazoester SDBZ (Stickstoffgehalt = 8 Gew.-%), 0,947 g Novolak-Harz PN 320, 1,123 g Novolak-Harz R 7100, 0,4 g Absorber KF 646, 0,051 g Farbstoff Basonyl-Blau 636 und 0,412 g Triazin BU 1557 in 21,5 g (22.4 ml) Methylglycol unter Rühren mit dem Magnetrührer bei Zimmertemperatur (20–25°C), bis sich kein Material mehr am Bode des Behälters befand. Die erhaltene Lösung wurde schließlich über Filterpapier der Type 0860 der Firma Schleicher & Schuell (100 μm) filtriert.
Die so hergestellte Zusammensetzung hat einen Stickstoffgehalt von 0,45 bis 0,6 Gew.-%, bezogen auf die trockene Zusammensetzung.
BEISPIEL 6
Herstellung der photoempfindliche Zusammensetzung 6
Die Herstellung erfolgte in ähnlicher Weise zu der im vorstehenden Beispiel 5 beschriebenen, wobei es sich jedoch bei dem Diazoharz um A 938 (0,497 g) anstelle des PW 1160 handelte.
Die so hergestellte Zusammensetzung hat einen Stickstoffgehalt von 0,45 bis 0,60 Gew.-%, bezogen auf die trockene Zusammensetzung.
BEISPIEL 7
Herstellung der photoempfindliche Zusammensetzung 7
Die folgende Zusammensetzung wurde in einer Pilotanlage hergestellt:
Man löste 2,512 kg Diazoharz PW 1160, 144 g Diazoester SDBZ, 1,44 kg Novolak-Harz PN 320, 1,123 g Novolak-Harz R 7100, 414 g Absorber "Z", 82 g Farbstoff Basonyl-Blau 636 und 22 g Farbstoff Sudan-Gelb 150 in 60 l eines Gemisches von Aceton : Methylglycol (Verhältnis (Gew./Gew.) = 9,5 : 1,5) unter Rühren mit dem Magnetrührer bei Zimmertemperatur (20–25°C), bis sich kein Material am Boden des Behälters befand. Die so erhaltene Lösung wurde dann über ein Papierfilter (Type 0860 der Firma Schleicher & Schuell, 100 μm) filtriert.
Die so hergestellte Zusammensetzung hatte einen Stickstoffgehalt von 1,1 bis 1,2 Gew.-%, bezogen auf die trockene Zusammensetzung.
BEISPIEL 8
Herstellung der photoempfindliche Zusammensetzung 8
Die folgende Zusammensetzung wurde in einer Pilotanlage hergestellt:
Man löste 5,328 kg Diazoharz A 938, 144 g Diazoester SDBZ, 1,224 kg Novolak-Harz PN 320, 414 g Absorber "Z", 83 g Farbstoff Basonyl-Blau 636 in 60 l eines Gemisches von Aceton : Methanol : Methylglycol (Verhältnis (Gew./Gew.) = 9,5 : 1 : 1,5) unter Rühren mit dem Magnetrührer bei Zimmertemperatur (20–25°C), bis sich kein Material mehr am Boden des Behälters befand. Die so erhaltene Lösung wurde dann über ein Papierfilter (Type 0860 der Firma Schleicher & Schuell, 100 μm) filtriert.
Die so hergestellte Zusammensetzung hatte einen Stickstoffgehalt von 2,2 bis 2,4 Gew.-%, bezogen auf die trockene Zusammensetzung.
BEISPIEL 9
IR-Belichtung
Die Zusammensetzung von Beispiel 1 wurde auf galvanisch gekörnten und anodisierten Aluminiumplatten ausgestrichen. Die so beschichteten Platten wurden 8 min in einem Umluftofen (z. B. einem Pid System M80-VF der Firma Instrument S. R. L. (Bernareggio, Mailand, Italien)) bei 90°C getrocknet. Das Gewicht der trockenen photoempfindlichen Beschichtung betrug 1,2–1,4 g/m².
Man projizierte mittels eines Software-gesteuerten Laserstrahls (λ = 830 nm; Leistung 150 bis 300 mJ/cm²) die digitale Skala des Ugra/Fogra-PostScript-Kontrollstreifens auf eine so erhaltene Platte und entwickelte dann bei 22,4°C und einer Geschwindigkeit von 20 cm/min mit einer alkalischen Metasilicat-Lösung einer Leitfähigkeit von 100 mS.
Die so erhaltene Platte hatte alle prozentualen Halbtöne der vorstehenden digitalen Skala des Ugra/Fogra-PostScript-Kontrollstreifens.
Ähnliche Ergebnisse wurden mit Platten erhalten, die unter Verwendung der in den vorstehenden Beispielen 2–4 beschriebenen Zusammensetzungen hergestellt waren.
Man belichtete die aus den Zusammensetzungen der Beispiele 5 und 6 erhaltenen Platten wie vorstehend beschrieben und entwickelte mit einer alkalischen Metasilicatlösung einer Leitfähigkeit von etwa 100 mS bei 20°C, mit einer Geschwindigkeit von 65 cm/min. Die so erhaltenen Platten wiesen Abweichungen von etwa 5% (Punktverlust) von den prozentualen Halbtönen der digitalen Skala des Ugra/Fogra-PostScript-Kontrollstreifens auf.
Man belichtete die aus den Zusammensetzungen der vorstehenden Beispiele 7 und 8 erhaltenen Platten wie vorstehend beschrieben und entwickelte mit einer alkalischen Metasilicatlösung einer Leitfähigkeit von etwa 100 mS bei 20°C, mit einer Geschwindigkeit von 20 cm/min. Die so erhaltenen Platten zeigten Abweichungen von etwa 10% (Punktvergrößerung) von den prozentualen Halbtönen der digitalen Skala des Ugra/Fogra-PostScript-Kontrollstreifens. Diese Platten entwickelten sich nicht vollständig und zeigten Emulsionsreste in den belichteten Bereichen.
BEISPIEL 10
UV-Belichtung
Man führte UV-Empfindlichkeitstests an Platten durch, die gemäß dem vorstehenden Beispiel 7 unter Verwendung der Zusammensetzung von Beispiel 1 hergestellt waren. Das Gewicht der trockenen photoempfindlichen Beschichtung betrug 1,4 g/m² (Platte A) und 1,8 g/m² (Platte B).
Die vorstehenden Platten A und B und die unter dem Namen „Direct Image Thermal Printing Plate" (Platte C) vertriebene Platte, von der wir annehmen, dass sie gemäß der Patentanmeldung EP 0 672 954 hergestellt ist, wurden UV-belichtet, indem man eine herkömmliche Ugra-Skala darauf projizierte. Man verwendete vier verschiedene Belichtungszeiten (30, 40, 50 und 60 s). Die Vorrichtung war ein Kopierrahmen Lastra Modell EM 87 mit einer 5000 W Lampe für aktinisches Licht, die 1,20 m entfernt von der Trägerebene der Platte angeordnet war.
Die vorstehenden Platten wurden dann zwei Entwicklungstests unterzogen:
Test 1
Man verwendete eine alkalische Metasilicatlösung bei 20°C (Positiventwicklerlösung Lsp 75 der Firma Lastra S. p. A. mit einer Leitfähigkeit von etwa 80 mS). Die Entwicklung dauerte 50 s. Man wischte die Platten dann 10 s mit einem Baumwolllappen ab, um den löslichen Teil der Beschichtung zu entfernen, und trocknete.
Die erhaltenen Ergebnisse wurden nach dem üblichen Verfahren der Ugra-Skala ausgewertet (Tabellen 1–5).
Test 2
Dieser Test erfolgte wie der vorstehende Test 1, wobei jedoch die Eintauchzeit in der Entwicklerlösung 10 s anstelle von 50 s betrug.
Die erhaltenen Ergebnisse wurden nach dem üblichen Verfahren der Ugra-Skala ausgewertet (Tabellen 6–10).
Tabelle 1
Tabelle 2
Tabelle 3
Tabelle 4
Tabelle 5
Tabelle 6
Tabelle 7
Tabelle 8
Tabelle 9
Tabelle 10
Die in den vorstehenden Tabellen 1–5 angegebenen Ergebnisse zeigen, dass die photoempfindliche Zusammensetzung auf der Platte C bei einer Entwicklungszeit, wie für übliche in lithographischen Labors verwendete Entwickler (50 s), vollständig abgewischt wird, während die Zusammensetzung auf den erfindungsgemäßen Platten nicht abgewischt wird. Mit anderen Worten wird auch das Bild von der Platte C gewischt.
Andererseits wird das Bild nur dann nicht von der Platte C gewischt, wenn die Entwicklungszeit (10 s) viel kürzer ist, als die für übliche in lithographischen Labors verwendete Entwickler (Tabellen 6–10). Es folgt, dass die Platten C nur dann verwendbar sind, wenn man sie mit einem Nacherwärmungsschritt nach IR- oder UV-Belichtung prozessiert. Die Platte C ist daher nur zum Erhalt eines Negativ-Bildes brauchbar.
TEST 1
Beständigkeit gegenüber Isopropylalkohol
Man verwendete sechs erste Platten (Beschichtungsgewicht: 1,4 g/m²; Platte A) und 6 zweite Platten (Beschichtungsgewicht: 1,8 g/m²; Platte B), die gemäß Beschreibung in Beispiel 1 hergestellt waren, im Vergleich mit 6 Kodak-Platten, die unter dem Namen „Direct Image Thermal Printing Plate" (Platte C) verkauft werden, von denen wir annehmen, dass sie gemäß der Patentanmeldung EP 0 672 954 hergestellt sind.
Man entfernte von jeder Platte einen 2 × 30 cm Streifen. Die 18 Streifen wurden in aufeinanderfolgenden "Schritten" von 4 cm/min in einen graduierten Zylinder mit einer wässrigen 40% Isopropylalkohollösung eingetaucht.
Auf diese Weise erhielt man eine aus 6 Zonen bestehende Skala mit Eintauchzeiten von 1 min für den ersten "Schritt" der Skala bis zu 6 min für den letzten Schritt. Nach dem Eintauchen legte man eine Klebeband auf die Oberfläche jedes Streifens und entfernte dieses Band dann unmittelbar, um den Beschädigungsgrad der photoempfindlichen Schicht zu ermitteln, der von der Isopropylalkohollösung verursacht ist. Insbesondere bestimmte man die Menge der photoempfindlichen Schicht, die aufgrund des "Abbaus" durch das vorhergehende Eintauchen in Isopropylakohol vom Klebeband abgelöst wurde.
Die Ergebnis sind in der nachstehenden Tabelle 11 veranschaulicht.
Der Wert 1 steht für die schlechteste Bewertung, d. h. wenn sich 50% der photoempfindlichen Schicht nach 1minütigem Eintauchen ablösen, während eine Bewertung von 6 der beste Punktwert ist, d. h. wenn sich 50% der photoempfindlichen Schicht nach 6minütigem Eintauchen ablösen.
Die in der Tabelle 11 angegebenen Daten zeigen, dass die erfindungsgemäße Zusammensetzung über eine ausreichende Beständigkeit gegenüber Isopropylalkohol verfügt, während die Platte C eine völlig unzureichende Beständigkeit aufweist. Es folgt, dass die Platte C nur brauchbar ist, wenn sie mit einem Nacherwärmungsschritt nach IR- oder UV-Belichtung prozessiert wird. Die Platte C ist daher nur zum Erhalt eines Negativbildes brauchbar.
TEST 2
Beständigkeit gegenüber mechanischem Abrieb
Um den mechanischen und chemischen Abrieb zu simulieren, dem eine Platte während des Drucks ausgesetzt ist, wurden Proben der belichteten und entwickelten Platten des Typs A, B und C (Test 1) auf einer Oberfläche befestigt und in engen Kontakt mit einem Baumwolllappen gebracht, der in 50% Isopropylalkohollösung getaucht war. Der Lappen wurde mit einem Arm hin- und herbewegt, der an ein Druckluftsystem angeschlossen war, um die chemisch-mechanische Belastung zu simulieren, der die Platten während des Drucks ausgesetzt sind. Man führte Tests mit unterschiedlicher Zahl von Wischvorgängen durch (50, 100, 150 und 200).
Tabelle 12 zeigt die Zahl von Wischvorgängen, die 50 Gew.-% der Emulsion entfernt.
Tabelle 12
Nach 50 Wischvorgängen war die Zusammensetzung der Platte C fast völlig abgewischt, während die Zusammensetzungen der Platten A und B eine sehr gute Beständigkeit zeigten.
BEISPIEL 11
IR-Belichtung mit anschließender UV-Belichtung
Man projizierte mittels eines Software-gesteuerten Laserstrahls (λ = 830 nm; Leistung 150 und 300 mJ/cm²) die digitale Skala des Ugra/Fogra-PostScript-Kontrollstreifens auf eine Platte mit den Zusammensetzungen der vorstehenden Beispiele 1, 2, 4, 7 und 8. Vor der Entwicklung wurden die zuvor IR-belichteten Platten vollflächig mit UV-Strahlung bei verschiedenen Belichtungszeiten (5, 10, 20 und 40 s) bestrahlt.
Man verwendete einen Lastra Apparat Modell EM 87 mit einer 5000 W-Lampe für aktinisches Licht, die 1,20 m von der Plattenträgerebene entfernt war.
Die Platten wurden dann zwei Entwicklungstests unterzogen:

1) Man verwendete eine alkalische Metasilicatlösung bei 20°C (Lsp 75 Positiventwicklerlösung von Lastra S. p. A. mit einer Leitfähigkeit von etwa 80 mS). Der Entwicklungsschritt erfolgte durch 50sekündiges Eintauchen der Plate in eine alkalische Lösung und anschließende 10sekündige Oberflächenreinigung. Alle untersuchten Platten verloren die Beschichtung vollständig, die in die Entwicklerlösung überging.
2) Man verwendete eine alkalische Metasilicatlösung bei 20°C (Lsp 75 Positiventwicklerlösung von Lastra S. p. A., verdünnt 1 : 1 mit entionisiertem Wasser mit einer Leitfähigkeit von etwa 50 mS). Der Entwicklungsschritt erfolgte durch 50sekündiges Eintauchen der Platte in eine alkalische Lösung und anschließende 10sekündige Oberflächenreinigung. Alle untersuchten Platten verloren die Beschichtung vollständig, die in die Entwicklerlösung überging.

BEISPIEL 12
IR-Belichtung und Wärmebehandlung im Ofen
Man projizierte mittels eines Software-gesteuerten Laserstrahls (λ = 830 nm; Leistung 150 und 300 mJ/cm²) die digitale Skala des Ugra/Fogra-PostScript-Kontrollstreifens auf eine Platte mit den Zusammensetzungen der vorstehenden Beispiele 1, 2, 4, 7 und 8. Vor der Entwicklung wurden die zuvor IR-belichteten Platten bei zwei unterschiedlichen Temperaturen (125 und 135°C), jeweils über drei verschiedene Zeitspannen (60, 120 und 180 s), im Ofen erwärmt (Modell M80-VF Pid System der Firma Instrument S. r. I. (Bernareggio, Mailand, Italien). Dann entwickelte man die Platten mit einer alkalischen Metasilicatlösung bei 20°C (Lsp 75 Positiventwicklerlösung von Lastra S. p. A. einer Leitfähigkeit von etwa 80 mS). Der Entwicklungsschritt erfolgte durch 50sekündiges Eintauchen der Platte in eine alkalische Lösung und anschließende 10sekündige Oberflächenreinigung.
Alle Platten zeigten eine Abnahme der Solubilisierungsgeschwindigkeit der Beschichtung im Entwickler. Die Solubilisierungsgeschwindigkeit nahm mit zunehmender Behandlungstemperatur ab. Die Solubilisierungsgeschwindigkeit nahm auch mit zunehmender Behandlungszeitspanne ab. Das auf der Platte verbleibende Bild stimmte jedoch immer mit dem IR-belichteten Positivbild überein.

Claims

Positiv-fotoempfindliche Zusammensetzung, umfassend (a) ein Diazoharz, (b) einen Diazoester, (c) wenigstens ein Novolak-Harz und (d) einen IR-Absorber, dadurch gekennzeichnet, dass (e) der Diazoester ein Produkt der teilweisen oder vollständigen Veresterung eines Tetrahydroxybenzophenons mit einem 2,1-Naphthochinondiazidsulfonylchlorid ist, (f) sie zwei Novolak-Harze umfasst, und (g) bei Exposition nur an IR- oder nur an UV-Strahlung ein Positivbild liefert.
Zusammensetzung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass das Diazoharz das Produkt der Veresterung von 2,1-Naphtochinondiazid-4-sulfonylchlorid mit einem Polykondensationsprodukt von Phenol oder Homologen davon ist.
Zusammensetzung nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, dass das Phenolhomologe m-Kresol und symmetrisches Xylenol ist.
Zusammensetzung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass das Tetrahydroxybenzophenon 2,3,4,4'-Tetrahydroxybenzophenon oder 2,2',4,4'-Tetrahydroxybenzophenon ist.
Zusammensetzung nach Anspruch 4, dadurch gekennzeichnet, dass das 2,1-Naphtochinondiazidsulfonylchlorid 2,1-Naphtochinondiazid-4-sulfonylchlorid oder 2,1-Naphtochinondiazid-5-sulfonylchlorid ist.
Zusammensetzung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass das erste Novolak-Harz ein gewichtsmittleres Molekulargewicht von 2000 bis 6000 aufweist.
Zusammensetzung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass das zweite Novolak-Harz ein gewichtsmittleres Molekulargewicht von 7000 bis 14000 aufweist.
Zusammensetzung nach Anspruch 6, dadurch gekennzeichnet, dass das erste Novolak-Harz ein gewichtsmittleres Molekulargewicht von 3000 bis 5000 aufweist.
Zusammensetzung nach Anspruch 7, dadurch gekennzeichnet, dass das zweite Novolakharz ein gewichtsmittleres Molekulargewicht von 8000 bis 10000 aufweist und vorzugsweise im Wesentlichen monomerfrei ist.
Positiv-Lithographieplatte, umfassend einen Träger, der mit einer lichtempfindlichen Zusammensetzung beschichtet ist, die umfasst (a) ein Diazoharz, (b) einen Diazoester, (c) wenigstens ein Novolak-Harz und (d) einen IR-Absorber, dadurch gekennzeichnet, dass (e) der Diazoester ein Produkt der teilweisen oder vollständigen Veresterung eines Tetrahydroxybenzophenons mit einem 2,1-Naphthochinondiazidsulfonylchlorids ist, (f) sie zwei Novolak-Harze umfasst, und (g) bei Exposition nur an IR- oder nur an UV-Strahlung ein Positivbild liefert.
Platte nach Anspruch 10, dadurch gekennzeichnet, dass das Diazoharz das Produkt der Veresterung von 2,1-Naphtochinondiazid-4-sulfonylchlorid mit einem Polykondensationsprodukt von Phenol oder Homologen davon ist.
Platte nach Anspruch 11, dadurch gekennzeichnet, dass das Phenolhomologe m-Kresol und symmetrisches Xylenol ist.
Platte nach Anspruch 10, dadurch gekennzeichnet, dass das Tetrahydroxybenzophenon 2,3,4,4'-tetrahydroxybenzophenon oder 2,2',4,4'-Tetrahydroxybenzophenon ist.
Platte nach Anspruch 13, dadurch gekennzeichnet, dass das 2,1-Naphthochinondiazidsulfonylchlorid 2,1-Naphthochinondiazid-4-sulfonylchlorid oder 2,1-Naphthochinondiazid-5-sulfonylchlorid ist.
Platte nach Anspruch 10, dadurch gekennzeichnet, dass das erste Novolakharz ein gewichtsmittleres Molekulargewicht von 2000 bis 6000 aufweist.
Platte nach Anspruch 10, dadurch gekennzeichnet, dass das zweite Novolak-Harz ein gewichtsmittleres Molekulargewicht von 7000 bis 14000 aufweist.
Platte nach Anspruch 15, dadurch gekennzeichnet, dass das erste Novolak-Harz ein gewichtsmittleres Molekulargewicht von 3000 bis 5000 aufweist.
Platte nach Anspruch 16, dadurch gekennzeichnet, dass das zweite Novolak-Harz ein gewichtsmittleres Molekulargewicht von 8000 bis 10000 aufweist und vorzugsweise im Wesentlichen monomerfrei ist.