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DE69730165T2 - Auf einer substratscheibe hergestellter elektroakustischer wandler - Google Patents

Auf einer substratscheibe hergestellter elektroakustischer wandler Download PDF

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DE69730165T2
DE69730165T2 DE69730165T DE69730165T DE69730165T2 DE 69730165 T2 DE69730165 T2 DE 69730165T2 DE 69730165 T DE69730165 T DE 69730165T DE 69730165 T DE69730165 T DE 69730165T DE 69730165 T2 DE69730165 T2 DE 69730165T2
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Germany
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membrane
substrate
electrode
ring
layer
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DE69730165T
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DE69730165D1 (de
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R. Bob BEAVERS
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Northrop Grumman Corp
Original Assignee
Northrop Grumman Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
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Publication date
Application filed by Northrop Grumman Corp filed Critical Northrop Grumman Corp
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Description

  • HINTERGRUND DER ERFINDUNG
  • TECHNISCHES GEBIET
  • Diese Erfindung betrifft elektroakustische Wandler, wie Mikrofone, und insbesondere kapazitive elektroakustische Wandler, die in Stapeln mit Hilfe eines Wafer-Herstellungsprozesses hergestellt werden.
  • ZUGRUNDELIEGENDE TECHNIK
  • Kapazitive elektroakustische Wandler werden in einem weitverbreitenden Maß für die Messung von statischen und dynamischen Drucken verwendet. Traditionell sind diese kapazitiven Wandler, wie beispielsweise in einem Mikrofon verwendet, in einer derartigen Weise hergestellt worden, dass eine Elektrode eines Kondensatoraufbaus durch eine elektrisch leitende Membran gebildet wird. Diese Membran ist angrenzend zu, aber isoliert von, einer stationären Elektrode, die die andere Elektrode des Kondensatoraufbaus bildet, angeordnet. Die zwei Elektroden sind beabstandet voneinander mit einem Luftspalt zwischen ihnen angeordnet. Eine relativ hohe DC Vorspannung wird dann zwischen die Elektroden angelegt. Veränderungen in dem Elektrodenabstand, verursacht durch Verbiegungen der Membran im Ansprechen auf die Kraft einer akustischen Wellenenergie, die auf die Membran einfällt, erzeugen eine Änderung in der Kapazität. Ein Erfassungsnetz ist mit dem kapazitiven Wandler derart verbunden, dass die Änderung in der Kapazität erfasst und in ein elektrisches Signal proportional zu der Kraft der akustischen Wellenenergie, die auf die Membran angewendet wird, transformiert wird. Ein Wandler dieses Typs ist in der US-A-4621171 offenbart.
  • Die Empfindlichkeit und das Betriebsverhalten eines kapazitiven elektroakustischen Wandlers ist eng mit der Ruhe-Beabstandung zwischen der Membran und der stationären Elektrode verknüpft. Somit muss diese Beabstandung (dieser Abstand) genau gesteuert werden. Um eine genaue Steuerung zu erreichen, werden enge Bearbeitungstoleranzen für die Teile benötigt, die den Wandler bilden. Es kann extrem schwierig sein die benötigten Toleranzen in der Herstellung einzuhalten. Infolgedessen werden diese Einrichtungen oft per Hand aus bearbeiteten Teilen gebaut, in einer Anstrengung, um das Ansprechverhalten und die Empfindlichkeits-Charakteristiken zu erfüllen, die von der bestimmten Anwendung auferlegt werden, in der der Wandler verwendet werden soll. Somit neigt die manuelle Herstellung dazu, die Kosten der Wandler zu erhöhen. Zusätzlich zeigt jeder Wandler, der so hergestellt wird, ein geringfügig anderes Ansprechverhalten, in der Phase und in der Amplitude auf.
  • Die Empfindlichkeit und das Ansprechverhalten eines kapazitiven elektroakustischen Wandlers ist auch eng mit seiner thermischen Stabilität verbunden. Diese thermische Stabilität hängt teilweise von der Änderung in der Trennung zwischen der Membran und der stationären Elektrode, verursacht durch eine Ausdehnung oder Kontraktion der Wandlerkomponenten, wenn sie sich ändernden Temperaturen ausgesetzt werden, ab. Es ist schwierig gewesen, den kritischen Elektrodenabstand in existierenden kapazitiven Wandlern über einer sich stark ändernden Temperaturumgebung aufrecht zu erhalten. Dies trifft insbesondere zu, wenn die differenzielle axiale Ausdehnungslänge der Komponenten zunächst groß ist. Zum Beispiel weisen viele existierende Wandler Expansionslängen in der Größenordnung von 6,4 mm (0,25 inch) auf. Größere Ausdehnungslängen bedeuten, dass eine Expansion und Kontraktion der Wandlerelemente in dem Elektrodentrennungsabstand erzeugen. Eine signifikante Änderung in diesem Trennungsabstand verändert das Ansprechverhalten des Wandlers. Zusätzlich beeinflussen auch Änderungen in der Spannung auf der Membran, die sich aus unterschiedlichen Ausdehnungsraten für das Gehäuse im Gegensatz zu der Membran ergeben, ebenfalls die thermische Stabilität des Wandlers. Wenn der Spannung der Membran erlaubt wird sich mit der Temperatur zu ändern, dann wird die Empfindlichkeit des Wandlers geändert.
  • Was deshalb benötigt wird ist ein kapazitiver elektroakustischer Wandler, der mit einem konsistenten und reproduzierbaren Ansprechverhalten und Empfindlichkeits-Betriebsverhaltens-Charakteristiken in Stapeln (als batch) erzeugt werden kann und der diese Charakteristiken sogar über einer sich stark ändernden Temperaturumgebung aufrecht erhält.
  • ZUSAMMENFASSUNG
  • Die Erfindung ist ein kapazitiver elektroakustischer Wandler, wie in den Ansprüchen 1 und 10 beansprucht.
  • Es ist eine Aufgabe der vorliegenden Erfindung einen kapazitiven elektroakustischen Wandler bereitzustellen, der durch einen wiederholbaren Prozess hergestellt wird, der einen gewünschten Ruhe-Abstand zwischen der Membran und planaren Elektroden des Wandlers ohne die Notwendigkeit einer manuellen Herstellung erzeugt.
  • Es ist eine andere Aufgabe der vorliegenden Erfindung einen kapazitiven elektroakustischen Wandler bereitzustellen, der mit einem wiederholbaren und konsistenten Ansprechverhalten und Empfindlichkeits-Betriebsverhaltens-Charakteristiken zwischen den so hergestellten Wandlern stapelweise produziert werden kann.
  • Es ist auch eine andere Aufgabe der vorliegenden Erfindung einen kapazitiven elektroakustischen Wandler bereitzustellen, der konsistente Ansprechverhalten- und Empfindlichkeitsverhalten-Charakteristiken über einer sich stark ändernden Temperaturumgebung aufrecht erhält.
  • Die voranstehenden Aufgaben werden durch einen kapazitiven elektroakustischen Wandler gelöst, der umfasst: ein elektrisch isolierendes Substrat, eine Schicht auf einem leitenden Material, die auf einem Abschnitt einer oberen Oberfläche des Substrats angeordnet ist, wobei eine erste Elektrode des Wandlers gebildet wird, eine leitende Membran, die eine zweite Elektrode des Wandlers bildet und die in Bezug auf die erste Elektrode verbiegbar ist, und einen Aufbau zum elektrischen und physikalischen Trennen der ersten und zweiten Elektrode in einer beabstandeten Beziehung, um so einen Kondensator zu bilden. Diese elektrische und physikalische Trennung ermöglicht einem elektrischen Feld, dass zwischen der ersten und zweiten Elektrode gebildet wird, sich in Bezug auf Verbiegungen der zweiten Elektrode zu verändern, um eine Umwandlung zwischen elektrischen und akustischen Signalen zuzulassen.
  • Zusätzlich kann das Substrat und die erste Elektrode wenigstens ein Durchloch einschließen, um zu ermöglichen, dass Luft, die in den Raum eingefangen ist, der zwischen der Membran und den oberen Oberflächen des Substrats und der Elektrode gebildet ist, an einen Bereich entweicht, der angrenzend zu einer hinteren Oberfläche des Substrats ist. Die Anzahl und der Durchmesser von diesen Löchern bestimmt den Widerstand gegenüber dem voranstehend erwähnten Schluss und bestimmt somit teilweise die Ansprechcharakteristiken des Wandlers. Ferner umfasst die Membran ein Belüftungsloch zum Ausgleichen eines relativen Drucks zwischen der Umgebungsluft außerhalb der Membran und Luft innerhalb der Membran. Diese Ausgleichung wird benötigt, um stabile Wandlerbetriebsverhalten-Charakteristiken angesichts von Änderungen in dem externen Luftdruck bereitzustellen. Zusätzlich kann die Größe des Belüftungslochs verändert werden, um die Ansprechcharakteristiken des Wandlers abzustimmen.
  • Der Trennungsaufbau ist ein Membrananbringungsring, der um den Umfang der oberen Oberfläche des Substrats angeordnet und von der ersten Elektrode getrennt ist. Der Ring ist dicker als die Elektrode um einen Betrag entsprechend zu einer gewünschten Trennung zwischen der Membran und der ersten Elektrode. Die Membran ist auch umfangsmäßig an diesem Membrananbringungsring gebondet. Zusätzlich ist ein Kompensationsring auf einer gegenüberliegenden Seite des Substrats in einem Gebiet entsprechend zu dem Membrananbringungsring auf der oberen Oberfläche des Substrats angeordnet. Dieser Kompensationsring weist die gleiche physikalische Größe wie der Membrananbringungsring auf und ist aus dem gleichen Material gebildet. Der Zweck des Kompensationsrings besteht darin irgendwelche mechanischen Spannungen auszugleichen, die in dem Substrat durch die thermische Ausdehnung (Expansion) und Kontraktion des Membrananbringungsrings verursacht wird. Ferner sind der Membrananbringungsring und der Kompensationsring elektrisch leitend und können elektrisch verbunden werden, wodurch eine Verbindung des Anbringungsrings mit Masse oder mit elektronischen Komponenten von der Rückseite des Substrats erlaubt wird.
  • Vorzugsweise ist eine Schicht aus einem leitenden Material auf den Seiten der Durchlöcher und auf einer Bodenfläche des Substrats angeordnet, um einen elektrischen Pfad zwischen der ersten Elektrode und der Schicht des leitenden Materials auf der Bodenoberfläche des Substrats bereitzustellen. Dieser Pfad ermöglicht die Verbindung der ersten Elektrode mit der Elektronik des Wandlers.
  • Der voranstehend beschriebene Wandler zeigt einen hohen Grad einer thermischen Stabilität auf. Die Stabilität ist teilweise die Folge davon, dass das Substrat und die Membran aus Materialien gebildet sind, die eng angepasste thermische Ausdehnungskoeffizienten aufweisen. Dieses Merkmal stellt sicher, dass die mechanische Spannung in der Membran sogar mit sich veränderten Temperaturen konstant bleibt, wodurch eine konstante Wandlerempfindlichkeit aufrecht erhalten wird. Vorzugsweise ist das Substrat aus einem FORSTERITE Keramikmaterial gebildet und die Membran ist aus einer Titanfolie gebildet, die eng angepasste thermische Expansionskoeffizienten aufweisen. Zusätzlich wird der Abstand, der die erste und zweite Elektrode trennt, minimiert, um so einen kurzen thermischen Expansionsweg zu schaffen. Diese kurze Wegelänge, minimiert Änderungen in dem Ansprechverhalten des Wandlers als Folge von Veränderungen in der Temperatur. Vorzugsweise ist der Abstand, der die erste und zweite Elektrode trennt, ungefähr 0,025 mm (0,001 inch). Wenn bevorzugt wird, dass das Substrat und die Membran aus Materialien gebildet sind, die unähnliche thermische Ausdehnungskoeffizienten aufweisen, kann jedoch ein anderes Verfahren für eine thermische Kompensation verwendet werden. Eine erste Schicht aus einem thermisch kompensierenden Material wird zwischen der ersten Elektrode und dem Substrat angeordnet und eine zweite Schicht aus einem thermisch kompensierenden Material ist auf einer gegenüberliegenden Seite des Substrats in einem Gebiet entsprechend zu der ersten Schicht auf der oberen Oberfläche des Substrats angeordnet. Das thermisch kompensierende Material weist einen thermischen Ausdehnungskoeffizienten auf, sodass das Substrat veranlasst wird sich bei einer Rate, die im Wesentlichen ähnlich zu derjenigen der Membran ist, auszudehnen und zusammenzuziehen. Somit bleibt die Empfindlichkeit des Wandlers unter sich ändernden Temperaturen konstant. Zusätzlich kann eine dritte Schicht aus einem thermisch kompensierenden Material zwischen dem Substrat und dem Membranabringungsring angeordnet werden und eine vierte Schicht aus einem thermisch kompensierenden Material kann auf der gegenüberliegenden Seite des Substrats in einem Gebiet entsprechend zu dem Ort der dritten Schicht auf der oberen Oberfläche des Substrats angeordnet werden. Diese zusätzliche Anbringung eines thermisch kompensierenden Materials verbessert erweitert den voranstehend erwähnten Stabilisierungseffekt.
  • Der kapazitive elektroakustische Wandler gemäß der vorliegenden Erfindung wird durch ein Verfahren hergestellt, welches die folgenden Schritte einschließt: Bilden des elektrisch isolierenden Substrats, Bilden der ersten Elektrode über einen Teil einer oberen Oberfläche des Substrats, Bilden der Struktur zum elektrischen und physikalischen Trennen der ersten Elektrode von der Membran, und Anfängen der Membran. Der Schritt zum Bilden des elektrisch isolierenden Substrats umfasst ein Schneiden eines kreisförmigen Schlitzes durch einen Wafer, der aus einem elektrisch isolierenden Material gebildet ist. Der kreisförmige Schlitz wird durch wenigstens zwei Ansätze unterbrochen, die einen kreisförmigen Bereich verbinden, der von dem kreisförmigen Schlitz umschlossen wird und das Substrat bildet, mit dem Rest des Wafers. Diese Ansätze sind brechbar, um so das Substrats von dem Rest des Wafers freizugeben.
  • Der Schritt zum Bilden der ersten Elektrode über einem Teil einer oberen Oberfläche des Substrats umfasst ein Ablagern einer Schicht aus Metall in einem zentralen Bereich davon. In ähnlicher Weise umfasst der Schritt zum Bilden der Struktur zum elektrischen und physikalischen Trennen der ersten Elektrode von dem Membran ein Ablagern einer Schicht aus Metall, um den Membrananbringungsring zu bilden. Jedoch könnte der Mittenleiter und der Membrananbringungsring alternativ dadurch gebildet werden, dass zunächst eine Schicht aus Metall über der oberen Oberfläche des Substrats abgelagert wird und dann das Metall geätzt wird, um die erste Elektrode und den Membrananbringungsring zu bilden.
  • Der voranstehend erwähnte Schritt zum Anbringen einer leitenden Membran beinhaltet vorzugsweise ein Bonden des Umfangs der Membran an dem Membrananbringungsring durch eine thermische Diffusion. Jedoch können, wenn gewünscht, herkömmliche Klebemittel verwendet werden.
  • Das Verfahren zum Herstellen eines kapazitiven elektroakustischen Wandlers kann auch umfassen, dass die voranstehend erwähnten ein oder mehrere Löcher in dem Substrat und der ersten Elektrode gebildet werden, um zu ermöglichen, dass Luft, die in einem Raum zwischen der Membran und der oberen Oberfläche des Substrats und der ersten Elektrode eingefangen ist, an einen Bereich angrenzend zu einer hinteren Oberfläche des Substrats entweicht. Zusätzlich kann die voranstehend erwähnte Schicht aus leitendem Material auf den Seiten der Durchlöcher und auf einer Bodenfläche des Substrats durch Ablagern von Metall auf diesen Oberflächen gebildet werden. Ferner kann der Schutz zum bilden der Schicht aus leitendem Material auf der Bodenoberfläche des Substrats einbilden einer ersten Schicht aus Material in einem zentralen Bereich des Substrats und einer zweiten Schicht aus Material, die einen Kompensationsring bildet, einschließen. Der Kompensationsring ist um den Umfang der Bodenoberfläche des Substrats angeordnet und von der ersten Schicht getrennt. Zusätzlich kann die erste Schicht die gleiche physikalische Größe wie die erste Elektrode aufweisen und aus dem gleichen Material gebildet werden, und der Kompensationsring weist die gleiche physikalische Größe wie der Membrananbringungsring auf und ist aus dem gleichen Material. Der Membrananbringungsring und der Kompensationsring können auch elektrisch verbunden werden. Schließlich ist es möglich die voranstehend erwähnten Schichten auf einem thermisch kompensierenden Material auf dem Substrat zu bilden, wenn das Substrat und die Membran aus Materialen gebildet sind, die unähnliche thermische Ausdehnungskoeffizienten aufweisen.
  • Das voranstehend erwähnte Herstellungsverfahren ist nicht auf die Herstellung eines einzelnen Wandler begrenzt. Das Verfahren ist vielmehr auf die Herstellung von vielen Wandlern gleichzeitig anwendbar. Dies würde durch Bilden einer Vielzahl von elektrisch isolierenden Substraten durch Schneiden einer Vielzahl von kreisförmigen Schlitzen durch einen größeren Wafer erreicht. Jeder kreisförmige Schlitz wird durch wenigstens zwei Ansätze unterbrochen, wie zuvor. Dies erlaubt die Freigabe der Substrate von dem Rest des Wafers durch Brechen der Ansätze. Zusätzlich wird eine Schicht aus einem leitenden Material über einem Teil einer oberen Oberfläche von jedem Substrat gebildet, um die erste Elektrode jedes Wandlers zu bilden. In ähnlicher Weise wird die Struktur zum elektrischen und physikalischen Trennen der ersten Elektrode von einer zweiten Elektrode über einem Teil der oberen Oberfläche von jedem Substrat durch Aufbringen einer Schicht aus Metall, um den Membrananbringungsring zu bilden, gebildet. Als nächstes wird die leitende Membran, die die zweite Elektrode des Wandlers bildet, an jedem Membrananbringungsring angebracht. Dies wird erreicht, indem eine einzelne Schicht aus einem Material, welches ein Material umfasst, das die Membran ausmacht, auf eine gewünschte Spannung gedehnt wird und dann die gedehnte Materialschicht auf dem Wafer platziert wird, sodass Abschnitte der Schicht in Kontakt mit jedem der Membrananbringungsringe, die auf dem Wafer angeordnet sind, kommen. Die Abschnitte der gedehnten Materialschicht, die jeden Membrananbringungsring kontaktieren, werden dann jeweils an jedem Ring gebondet. Schließlich werden die überschüssigen Abschnitte der gedehnten Schicht, die außerhalb einer äußeren Kante von jedem Membranabringungsring existieren, weggeschnitten.
  • Es lässt sich ersehen, dass sämtliche angegebenen Zielrichtungen der Erfindung durch die voranstehend beschriebene Ausführungsformen der vorliegenden Erfindung erreicht worden sind. Zusätzlich werden andere Ziele, Aufgaben und Vorteile der vorliegenden Erfindung aus der ausführlichen nun folgenden Beschreibung ersichtlich, wenn sie in Verbindung mit den Zeichnungsfiguren genommen wird, die sie begleiten.
  • BESCHREIBUNG DER ZEICHNUNGEN
  • Diese und andere Merkmale, Aspekte, und Vorteile der vorliegenden Erfindung lassen sich besser unter Bezug auf die folgende Beschreibung, die angehängten Ansprüche und die beiliegenden Zeichnungen verstehen. In den Zeichnungen zeigen:
  • 1A eine perspektivische Ansicht eines kapazitiven elektroakustischen Wandlers, der die Merkmale der vorliegenden Erfindung beinhaltet;
  • 1B eine Querschnittsansicht des Wandlers der 1A;
  • 2 eine teilweise weggeschnittene Ansicht eines Mikrophons, in das der Wandler der 1A eingebaut ist;
  • 3AD perspektivische Ansichten des Wandlers der 1A während verschiedener Stufen der Herstellung in Übereinstimmung mit Verfahrensmerkmalen der vorliegenden Erfindung;
  • 4AB perspektivische Ansichten einer Vielzahl der Wandler der 1A, die gleichzeitig in einer Stapelverarbeitung hergestellt werden, und zwar während unterschiedlicher Stufen der Herstellung in Übereinstimmung mit Verfahrensmerkmalen der vorliegenden Erfindung;
  • 5 eine Querschnittsansicht einer alternativen Ausführungsform eines Wandlers in Übereinstimmung mit der vorliegenden Erfindung, wobei Schichten aus einem thermisch kompensierenden Material verwendet werden.
  • AUSFÜHRLICHE BESCHREIBUNG DER BEVORZUGTEN AUSFÜHRUNGSFORMEN
  • Bevorzugte Ausführungsformen der vorliegenden Erfindung werden nun unter Bezugnahme auf die Zeichnungen beschrieben.
  • Die 1AB zeigen einen kapazitiven elektroakustischen Wandler 10 in Übereinstimmung mit einer bevorzugten Ausführungsform der vorliegenden Erfindung. Der Wandler 10 umfasst ein zylindrisches Substrat 12, das aus einem isolierendem Material gebildet ist. Dieses isolierende Material ist vorzugsweise FORSTERITE Keramik, und das Substrat 12 weist vorzugsweise einen Durchmesser von ungefähr 7,6 mm (0,30 inch) und eine gleichförmige Dicke von ungefähr 0,64 mm (0,025 inch) auf. Der Mittenabschnitt des Substrats 12 ist mit einer dünnen leitenden Schicht abgedeckt, um eine Mittenelektrode 16 des Wandlers 10 zu bilden. Vorzugsweise ist diese leitende Schicht eine dünne Schicht aus Gold mit einer Dicke in dem Bereich von ungefähr 1000 A – 0,01 mm (0,5 Mils). Zusätzlich wird bevorzugt, dass die Mittenelektrode 16 eine kreisförmige Form mit einem Durchmesser von ungefähr 5 mm (0,2 inch) breit aufweist. Der Umfang des Substrats 12 ist mit einer ringförmigen leitenden Schicht abgedeckt, die den Membrananbringung Ring 18 bildet. Vorzugsweise ist dieser Ring ebenfalls aus Gold gebildet. Der Ring 18 ist dicker als die leitende Schicht der Mittenelektrode 16 und ist davon durch einen ringförmigen Raum 20, der vorzugsweise ungefähr 5 mm (0,2 inch) breit ist, getrennt. Ferner ist ein Kompensationsring 17 auf der Seite des Substrats 12 gegenüberliegend zu dem Membrananbringungsring 18 angeordnet. Dieser Kompensationsring 17 weist die gleichen physikalischen Dimensionen und Anordnung wie der Anbringungsring 18 auf und ist aus dem gleichen Material (vorzugsweise Gold) gebildet. Dieser Ring 17 wird verwendet, um potenzielle mechanische Spannungen auszugleichen, die auf das Substrat 12 durch den Anbringungsring 18 als Folge seiner thermischen Ausdehnung oder Kontraktion ausgeübt werden, wobei angenommen wird, dass das Substrat 12 und der Anbringungsring 18 unterschiedliche Ausdehnungskoeffizienten aufweisen. Es ist wünschenswert die voranstehend erwähnte mechanische Spannung auszugleichen, weil dies ein biegendes Substrat verursachen und zu einer Änderung in den Betriebscharakteristiken des Wandlers 10 führen könnte. Durch Einbauen des Kompensationsringes 17 auf der gegenüberliegenden Seite des Substrats 12 werden jedoch irgendwelche hervorgerufenen mechanischen Spannungen ausgeglichen. Zusätzlich können der Anbringungsring 18 und der Kompensationsring 17 über eine Metallisierungsschicht 19 um die Kante des Substrats herum elektrisch verbunden werden. Diese Metallisierungsschicht 19 ermöglicht, dass der Anbringungsring 18 mit Masse oder mit elektronischen Komponenten von der Rückseite des Wandlers 10 verbunden wird. Der Vorteil dieses rückseitigen Verbindungsschemas wird nachstehend noch eingehend in Verbindung mit einer Beschreibung der Verpackung des Wandlers in ein Mikrophon diskutiert werden.
  • Eine dünne leitende Membran 22 erstreckt sich über die Mittenelektrode 16 und ist an ihren Kanten an dem Ring 18 angebracht, wie sich am Besten in 1B ersehen lässt. Diese Membran 22 ist vorzugsweise aus einer ungefähr 0,0025 mm (0,0001 inch) dicken Titanfolie gebildet. Eine Titanfolie dieser Dicke wird die notwendige Empfindlichkeit für den akustischen Eingang bereitstellen, während gleichzeitig die mechanische Festigkeit bereitgestellt wird, die benötigt wird, um sicherzustellen, dass die Membran 22 vom Aufbau her ausgereift ist.
  • Der Anbringungsring 18 ist dicker als die Mittenelektrode 16, um zu bewirken, dass die Membran 22 über der Mittenelektrode 16 durch einen Luftspalt 24 beabstandet ist. Dies erzeugt eine kapazitive Struktur, wobei die Mittenelektrode 16 eine stationäre Elektrode bildet und die Membran 22 eine bewegbare Elektrode bildet. Der ringförmige Raum 20 zwischen dem Membrananbringungsring 18 der Mittenelektrode 16 bildet eine elektrische Oberflächenbarriere zwischen den Elementen, um die kapazitive Struktur fertig zu stellen. Vorzugsweise beträgt der Abstand zwischen den zwei Elektroden 16, 22 ungefähr 0,025 mm (0,001 inch). Somit ist der Anbringungsring 18 vorzugsweise ungefähr 0,025 mm (0,001 inch) dicker als die Mittenelektrode 16.
  • Zusätzlich ist ein kleines Belüftungsloch 26 in der Membran 22 gebildet, um den Druck zwischen der Umgebungsluft außerhalb der Membran 22 und dem Luftspalt 24 hinter der Membran 22 auszugleichen. Dies vermeidet eine unerwünschte Verbiegung der Membran 22 als Folge von Änderungen in dem Umgebungsdruck. Zusätzlich bestimmt der Durchmesser des Belüftungslochs 26 den Niederfrequenz-Abschneidepunkt in dem Ansprechverhalten des Wandlers. Es wird bevorzugt, dass dieses Belüftungsloch 26 ungefähr 0,038 mm (0,0015 inch) im Durchmesser ist. Ein herkömmlicher Lasertrimmprozess kann verwendet werden, um ein Loch 26 mit diesem Durchmesser in der Membran 22 zu erzeugen.
  • Es gibt auch eine Reihe von gleichförmig beabstandeten Löchern 14, die durch das Substrat 12 und die darüber liegende Mittenelektrode 16 gebildet sind. Die Anzahl von Löchern 14 und deren jeweilige Durchmesser bestimmen teilweise das Ansprechverhalten des Wandlers 10. Wenn unter der Annahme eines Lochdurchmessers von ungefähr 0,64 mm (0,025 inch) eine große Anzahl von Löchern 14 (d. h. vorzugsweise 12) gebildet werden, besteht ein sehr geringer Widerstand gegenüber einer Bewegung von Luft von dem Raum, der zwischen der Membran 22 und den oberen Oberflächen des Substrats 12 und der Mittenelektrode 16 gebildet wird. Dies führt zu einem Wandleransprechverhalten mit einer im Wesentlichen konstanten Phase, aber mit einer großen Spitze in dem Ansprechverhalten bei einer Resonanz. Diese Charakteristiken sind bei Anwendungen wünschenswert, bei denen eine konstante Phase benötigt wird. Die Spannungsspitze kann unter Verwendung einer Filterungselektronik geglättet werden. Wenn jedoch weniger Löcher 14 verwendet werden, nimmt der Widerstand gegenüber einer Bewegung von Luft zu. Dieser höhere Flusswiderstand glättet die Spannungsspitze in dem Ansprechverhalten des Wandlers heraus, stellt aber nicht die voranstehend erwähnte Konstanteigenschaft in der Phase bereit. Die glatteren Ansprechverhaltens-Charakteristiken dieses letzteren Ansatzes haben Vorteile in einigen Anwendungen.
  • Der voranstehend beschriebene kapazitive elektroakustische Wandler 10, der die bevorzugte Dimensionen verwendet und zwölf durch Löcher 14 aufweist, wird ein Ansprechverhalten in einem Bereich von ungefähr 5 Hz–10 KHz aufweisen und wird eine Empfindlichkeit von ungefähr –40 Dbv aufweisen. Natürlich können diese Charakteristiken des Betriebsverhaltens modifiziert werden, um der Anwendung angepasst zu sein, indem unterschiedliche Wandlerdimensionen verwendet werden.
  • Die Löcher 14 und die Oberfläche des Substrats 12 gegenüberliegend zu der Mittenelektrode 16 sind ebenfalls metallisiert, um einen elektrischen Weg zwischen der Mittenelektrode 16 und den Boden des Substrats 12 bereitzustellen. Dies erleichtert die Verpackung des Wandlers 10 in einem Mikrophon, wie beispielhaft in 2 dargestellt. Der Wandler 10 ist in einem leitenden Gehäuse 28 installiert, welches ebenfalls die elektronischen Komponenten 30 enthält, die erforderlich sind, um Änderungen in der Kapazität des Wandlers 10, verursacht durch die Kraft der akustischen Wellen, die auf die Membran 22 auftreffen, zu erfassen und zu verarbeiten. Die Mittenelektrode ist mit der Elektronik 30 mit Hilfe eines Federkontakts 32 verbunden, der die voranstehend erwähnte Metallisierung auf der gegenüberliegenden Seite des Substrats 12 berührt. Dem gegenüber ist der elektrische Weg zwischen der Membran 22 und der Elektronik 30 über das leitende Gehäuse 28 oder den voranstehend beschriebenen Kompensationsring bereitgestellt. Die Membran 22 ist elektrisch mit dem Gehäuse 28 über einen leitenden Abstandsring 34, der zwischen dem Gehäuse 28 und dem Umfang der Membran 22 angeordnet ist, verbunden. Dieser Abstandsring 34 trennt den Vibrationsabschnitt der Membran 22 zusätzlich von dem oberen Teil des Gehäuses 28, um eine Interferenz zwischen zwei Strukturen zu verhindern. Der obere Teil des Gehäuses 28 ist perforiert. Die Perforationen ermöglichen, dass die akustischen Wellen da durch gehen und auf der Membran 22 auftreffen. Der Boden des Gehäuses 28 ist abgedichtet, um zu verhindern, dass Schallwellen eintreten und auf der Rückseite der Membran 22 auftreffen. Ohne eine derartige Vorkehrung würde die Funktion der Einrichtung zerstört werden, da die Schallwellen, die auf der Vorderseite und Rückseite der Membran 22 wirken, deren Vibration dämpfen oder reduzieren würden.
  • Die 3AD illustrieren die bevorzugte Sequenz zum Herstellen eines kapazitiven elektroakustischen Wandlers in Übereinstimmung mit der vorliegenden Erfindung. Der Prozess beginnt mit einem Wafer 102. Der Wafer 102 wird mit einem Laser bearbeitet, um die Durchlöcher 104 zu erzeugen und die kreisförmige äußere Kante 106 des Substrats 108 des Wandlers zu bilden, wie in 3A gezeigt. Es lässt sich ersehen, dass das Substrat 108 mit dem Rest des Wafers 102 über zwei dünne Speichen 110 verbunden ist, sodass es durch Brechen der Speichen 110, nachdem die Herstellungsprozesse des Wandlers abgeschlossen sind, leicht getrennt werden kann.
  • Obwohl zwei Speichen 110 bevorzugt sind, können weniger oder mehr verwendet werden, wenn gewünscht. Da der fertig gestellte Wandler mechanisch frei-gebrochen werden kann, besteht keine Notwendigkeit den Wafer 102 zu sägen. Ein Sägevorgang würde erfordern, dass der Wandler eine allgemein quadratische Form aufweist, anstelle der praktischeren kreisförmigen Form gemäß der vorliegenden Erfindung. Zusätzlich wird die Erzeugung von potenziell schädlichem Staub von dem Sägeprozess beseitigt.
  • 3B zeigt den ersten Metallisierungsschritt des Prozesses. In diesem Schritt wird eine dünne Metallschicht auf den oberen Teil des Substrats 108 abgelagert, um die Mittenelektrode 112 und die Basis 114 des Membrananbringungsringes zu bilden. Zusätzlich wird das Metall auf den Seiten der Durchlöcher 104 und auf den Boden des Substrats 108 gegenüberliegend zu der Mittenelektrode 112 aufgebracht. Der zweite Metallisierungsschritt ist in 3C dargestellt. In diesem Schritt wird Metall auf dem oberen Teil des in der Basis des Membrananbringungsrings aufgebracht, um den Ring 116 aufzubauen. Der aufgebaute Ring 116 wird dann vollständig gleichförmig in der Höhe gemacht, zum Beispiel dadurch, dass seine obere Oberfläche mit einem Werkzeug geläppt wird, das einen Diamantstop verwendet.
  • Die Membran 118 wird dann auf die gewünschte Spannung, vorzugsweise ungefähr 1000 N/m gedehnt und an die obere Oberfläche des Membrananbringungsringes 116 gebondet, wie in 3D gezeigt. Obwohl die Membran 118 an den Ring 116 unter Verwendung von herkömmlichen Klebemitteln gebondet werden könnte, wird bevorzugt, dass ein thermischer Diffusionsprozess verwendet wird. Irgendwelches überschüssiges Membranmaterial, welches sich über den Umfang des Rings 116 hinaus erstreckt, wird nach dem Bonden entfernt, um ein Ablösen während einer nachfolgenden Verarbeitung zu verhindern.
  • Obwohl ein bevorzugter Dünnfilm-Ablagerungsprozess voranstehend beschrieben wird, ist nicht beabsichtigt, dass die Erfindung auf dieses Verfahren beschränkt ist. Anstelle davon können ähnliche Ergebnisse erhalten werden, wenn Dickfilm-Prozesse verwendet werden, wie Beispielsweise ein Siebdruck oder eine Elektroplattierung. Zusätzlich könnten subtraktive Prozesse verwendet werden. In diesen subtraktiven Prozessen wird eine dicke Schicht aus einem leitenden Material selektiv weggeätzt, um die voranstehend beschriebene Wandlerstruktur zu erzeugen. Sämtliche erwähnten Prozesse sind in dem technischen Gebiet altbekannt und bilden keine neuartigen Aspekte der Erfindung. Demzufolge wird eine ausführliche Beschreibung jedes Verfahrens hier nicht vorgesehen.
  • Durchschnittsfachleute in dem technischen Gebiet werden erkennen, dass die voranstehend beschriebenen Verfahren zum Herstellen eines kapazitiven elektroakustischen Wandlers für eine Staplerverarbeitung (Batch-Verarbeitung) geeignet sind. Wie in 4A gezeigt werden einzelne Wandler 200, ohne Membrane, einfach in einem nicht-überlappenden Muster auf dem Wafer 202 gebildet. Eine Schicht aus einer Titanfolie, die groß genug ist, um den Wafer 202 zu bedecken, wird dann auf die gewünschte Spannung gedehnt und über den Wafer 202 aufgebracht, sodass sie in Kontakt mit jedem der Membranabringungsringe ist. Die Folienschicht wird dann an die Ringe gebunden (gebondet) und die überschüssige Folie außerhalb der Kante von jedem Ring wird mit einem Laser geschlitzt, um zu ermöglichen, dass individuelle Wandlerelemente getrennt werden. Die Ergebnisse sind die in 4B gezeigten fertig gestellten Wandler 200. Der einzig verbleibende Vorgang ist die Ansätze zu brechen, die jeden Wandler an den Wafer halten.
  • In einer getesteten Ausführungsform der vorliegenden Erfindung wurden dreiundzwanzig (23) Wandler gleichzeitig auf einem 51 mm × 51 mm (2 × 2 inch) quadratischen Wafer gleichzeitig hergestellt. Ein 51 mm × 51 mm (2 × 2 inch) Wafer wurde für die getestete Ausführungsform gewählt, sodass eine kommerziell erhältliche 89 mm (3,5 inch) breite Schicht einer Titanfolie über den Wafer gedehnt und an die einzelnen Membrananbringungsringe gebondet werden konnten. Jedoch könnten größere Wafer und Titanfolienschichten je nach Verfügbarkeit verwendet werden, um gleichzeitig weitaus mehr Wandler als in der voranstehend erwähnten getesteten Ausführungsform zu erzeugen. Es wird vorhergesehen, dass 100 oder mehr Wandler auf einem einzelnen Wafer mit geeigneter Größe erzeugt werden könnten. Diese Stapelverarbeitung würde zu beträchtlichen Kosteneinsparungen gegenüber den manuellen Herstellungsverfahren, die für den Stand der Technik typisch sind, führen. Wegen der Genauigkeit einer gegenwärtigen Laserbearbeitung und von Metallablagerungs-/Ätzprozessen wird zusätzlich jeder der Wandler, die auf dem Wafer erzeugt werden, im Wesentlichen identische strukturelle Dimensionen aufweisen. Demzufolge werden die Charakteristiken des sich ergebenden Ansprechverhaltens und des Empfindlichkeits-Betriebsverhaltens von jedem so erzeugten Wandler diejenigen von jedem anderen Wandler von dem Wafer widerspiegeln. Demzufolge können die gleichen Charakteristiken von einem Wafer zu dem nächsten aufrecht erhalten werden, sodass ermöglicht wird Konsistentwandler mit wiederholbaren und vorgegebenen Charakteristiken des Ansprechverhaltens und des Empfindlichkeits-Betriebsverhaltens zu erzeugen. Obwohl die bevorzugten Materialien und dimensionsmäßigen Spezifikationen voranstehend bereit gestellt wurden, sei darauf hingewiesen, dass diese leicht modifiziert werden können, um die Charakteristiken des Betriebsverhaltens des Wandlers zu verändern. Somit ermöglichen Herstellungsverfahren in Übereinstimmung mit der vorliegenden Erfindung zusätzlich die Charakteristik des Betriebsverhaltens eines Wandlers mitwenig Schwierigkeiten kundenspezifisch zuzuschneiden.
  • Kapazitive elektroakustische Wandler, die in Übereinstimmung mit dem bevorzugten Ausführungsformen der vorliegenden Erfindung erzeugt werden, zeigen auch eine hervorragende thermische Stabilität auf. Wie voranstehend diskutiert ist die thermische Stabilität teilweise unabhängig von der Veränderung in der Trennung zwischen der Membran und der stationären Elektrode, verursacht durch die Expansion und Kontraktion der Wandlerkomponenten als Folge einer Änderung in der Temperatur. Je kleiner der Abstand (die Trennung) zwischen der Membran und der Elektrode ist, desto relativ geringer werden die Änderungen sein, die als Folge der voranstehend erwähnten Expansion und Kontraktion auftreten werden. Für den Fall der bevorzugten Ausführungsform der vorliegenden Erfindung ist dieser Abstand oder die thermische Expansionswegelänge extrem kurz, d. h. nur ungefähr 0,025 mm (0,001 inch). Somit wird eine sehr geringe Änderung in dem Ansprechverhalten des Wandlers als Folge der Expansion und Kontraktion wahrgenommen, sogar in einer sich stark ändernden Temperaturumgebung.
  • Wie voranstehend angegeben beeinflussen Änderungen in der Spannung der Membran, die sich von unterschiedlichen Ausdehnungsraten der Membran und des Substrats ergeben, ebenfalls die thermische Stabilität des Wandlers dahingehend, dass dies die Empfindlichkeit der Einrichtung verändert. Jedoch ist diese Quelle einer Instabilität im Wesentlichen in der bevorzugten Ausführungsform der vorliegenden Erfindung beseitigt worden. Thermische Expansionscharakteristiken des bevorzugten FORSTERITE Keramiksubstrats und der Titanfolienmembran sind eng angepasst worden, sodass sie sich bei der gleichen Rate ausdehnen und zusammenziehen. Somit wird eine konstante Spannung auf der Membran aufrecht erhalten. Der Ausdehnungskoeffizient für beide Materialien beträgt ungefähr 10,2 × 10–6 pro C°.
  • Obwohl die voranstehend erwähnte Anpassung der thermischen Ausdehnungskoeffizienten das bevorzugte Verfahren zum Aufrechterhalten einer konstanten Membranspannung ist, könnte anstelle davon ein anderes Verfahren verwendet werden. Dieses alternative Verfahren beinhaltet die Aufbringung einer Schicht aus einem thermisch kompensierenden Material auf dem Substrat, die die Ausdehnungsrate des Elements modifiziert. Wenn zum Beispiel, wie in 5 gezeigt, ein Substrat mit einem geringeren Ausdehnungskoeffizienten als der Membran verwendet wird, könnte eine Schicht aus einem thermisch kompensierenden Material 302, das eine hohe Ausdehnungsrate aufzeigt, auf dem Substrat 304 unter der Mittenelektrode 306 oder möglicherweise den Membrananbringungsring 308 und auf entsprechenden Gebieten der gegenüberliegenden Seite des Substrats 304 aufgebracht werden. Wenn es einer Temperaturänderung ausgesetzt wird, veranlasst dieses hinzugefügte Material das darunter liegende Substratmaterial sich bei einer schnelleren Rate auszudehnen oder zusammenzuziehen. Das Material würde so gewählt werden, dass die Ausdehnungs- oder Kontraktionsrate so beschleunigt wird, dass sie in derjenigen der Membran eng angepasst ist. Somit würde die Spannung auf der Membran und somit die Empfindlichkeit des Wandlers aufrecht erhalten werden. Es sei darauf hingewiesen, dass die Schicht aus dem thermisch kompensierenden Material, die auf dem Boden des Substrats aufgebracht wird, benötigt wird, um die sich ergebende modifizierte Expansion und Kontraktion des Substrats auszugleichen. Wenn das Material nur auf der Oberseite platziert werden würde, dann würde die Expansion und Kontraktion des oberen Teils des Substrats sich von derjenigen des unteren Teils unterscheiden. Dies würde bewirken, dass sich das Substrat verformt und die Gleichförmigkeit des Abstands zwischen der Mittenelektrode und der Membran beeinflusst.
  • Während der kapazitive elektroakustische Wandler hier in Verbindung mit der Umwandlung eines akustischen Signals, das auf der Membran auftrifft, in ein proportionales elektrisches Signal, wie in einem Mikrofon, beschrieben wurde, könnte eine Umkehrung genauso möglich sein. Eins sich änderndes elektrisches Signal könnte auf eine feste DC Vorspannung auf den Elektroden des Wandlers (d. h. der Mittenelektrode und der Membran) überlagert werden. Dies würde eine Vibration der Membran als Folge der Veränderung des elektrischen Felds zwischen den Elektroden verursachen. Ein akustisches Ausgangssignal würde somit erzeugt werden und der Wandler würde als ein Lautsprecher arbeiten.

Claims (11)

  1. Kapazitiver elektroakustischer Wandler (10), umfassend: (a) ein elektrisch isolierendes Substrat (12); (b) eine Schicht eines leitenden Materials, das auf einem Abschnitt einer oberen Oberfläche des Substrats (2), eine erste Elektrode (16) des Wandlers (10) bildend, angeordnet ist; (c) eine leitende Membran (22), die eine zweite Elektrode des Wandlers (10) bildet, wobei die Membran (22) im Verhältnis zu der ersten Elektrode (16) biegbar ist; (d) einen Membran-Anbringungsring (18), der aus einem elektrisch leitenden Material gebildet ist, wobei der Membran-Anbringungsring an dem Umfang der oberen Oberfläche des Substrats (12) und getrennt von der ersten Elektrode (16) zum elektrischen und physikalischen Trennen der ersten und zweiten Elektrode (16) und (22) in einer beabstandeten Beziehung, um so einen Kondensator zu bilden, angeordnet ist, derart, dass ein elektrisches Feld, welches zwischen der ersten und der zweiten Elektrode (16) und (22) gebildet wird, sich in Beziehung zu Verbiegungen der zweiten Elektrode (22) verändert, um eine Umwandlung zwischen elektrischen und akustischen Signalen zu ermöglichen, wobei der Ring (18) dicker als die erste Elektrode (16) um einen Betrag entsprechend zu einer gewünschten Trennung zwischen der Membran (22) und der ersten Elektrode (16) ist und der Ring (18) an einen Umfang der Membran (22) gebondet ist; gekennzeichnet durch (e) einen Kompensationsring (17), der auf einer gegenüberliegenden Seite des Substrats (12) in einem Gebiet entsprechend zu dem Membran-Anbringungsring (18) auf der oberen Oberfläche des Substrats (12) angeordnet ist, wobei der Kompensationsring (17) die gleiche physikalische Größe wie der Membran-Anbringungsring (18) aufweist und aus dem gleichen elektrisch leitenden Material gebildet ist.
  2. Wandler (10) nach Anspruch 1, wobei: das Substrat (12) und die erste Elektrode (16) wenigstens ein Durchloch (14) einschließen, um zu ermöglichen, dass Luft, die in einem Raum eingefangen ist, der zwischen der Membran (22) und der oberen Oberfläche des Substrats (12) und der ersten Elektrode (16) gebildet ist, an einen Bereich angrenzend zu einer hinteren Oberfläche des Substrats entweicht.
  3. Wandler (10) nach Anspruch 2, ferner umfassend: eine Schicht aus einem leitenden Material, angeordnet auf den Seiten der Durchlöcher (14) und auf einer Bodenoberfläche des Substrats (12), zum Bereitstellen eines elektrischen Wegs zwischen der ersten Elektrode (16) und der Schicht des leitenden Materials auf der Bodenoberfläche des Substrats (12).
  4. Wandler (10) nach Anspruch 1, ferner umfassend: eine Einrichtung (19), die angeordnet ist, um den Membran-Anbringungsring (22) und den Kompensationsring (17) elektrisch zu verbinden.
  5. Wandler (10) nach Anspruch 1, wobei: das Substrat (12) und die Membran (22) Materialien umfassen, die eng angepasste thermische Ausdehnungskoeffizienten umfassen.
  6. Wandler (10) nach Anspruch 5, wobei: (a) das Substrat (12) aus einem FORSTERITE Keramikmaterial gebildet ist; und (b) die Membran (22) aus einer Titanfolie besteht.
  7. Wandler (10) nach Anspruch 1, wobei: ein Abstand, der die erste und zweite Elektrode (16) und (22) trennt, minimiert ist, um so einen kurzen thermischen Ausdehnungsweg zu erzeugen, wodurch Änderungen in dem Ansprechverhalten des Wandlers als Folge von Veränderungen in der Temperatur minimiert werden.
  8. Wandler (10) nach Anspruch 7, wobei: der Abstand, der die erste und zweite Elektrode (16) und (22) trennt, ungefähr 0,001 Zoll ist.
  9. Wandler nach Anspruch 1, wobei: die Membran (22) ferner ein Belüftungsloch (28) zum Ausgleichen des relativen Drucks zwischen der Umgebungsluft außerhalb der Membran (22) und Luft innerhalb der Membran (22) umfasst.
  10. Kapazitiver elektroakustischer Wandler, umfassend: (a) ein elektrisch isolierendes Substrat (304); (b) eine Schicht aus einem leitenden Material, die auf einem Abschnitt einer oberen Oberfläche des Substrats (304), eine erste Elektrode (306) des Wandlers bildend, angeordnet ist; (c) eine leitende Membran, die eine zweite Elektrode des Wandlers bildet, wobei die Membran im Verhältnis zu der ersten Elektrode (306) biegbar ist; (d) einen Membran-Anbringungsring (308), der aus einem elektrisch leitenden Material gebildet ist, wobei der Membran-Anbringungsring an dem Umfang der oberen Oberfläche des Substrats (304) und getrennt von der ersten Elektrode (306) angeordnet ist, zum elektrischen und physikalischen Trennen der ersten und zweiten Elektrode in eine beabstandete Beziehung, um so einen Kondensator zu bilden, so dass ein elektrisches Feld, welches zwischen der ersten und der zweiten Elektrode gebildet wird, sich im Verhältnis zu Verbiegungen der zweiten Elektrode verändert, um eine Umwandlung zwischen elektrischen und akustischen Signalen zu erlauben, wobei der Ring (308) dicker als die erste Elektrode (306) um einen Betrag entsprechend zu einer gewünschten Trennung zwischen der Membran und der ersten Elektrode (306) ist und der Ring (308) an einen Umfang der Membran gebondet ist; dadurch gekennzeichnet, dass das Substrat (304) und die Membran Materialien umfassen, die ähnliche thermische Ausdehnungskoeffizienten aufweisen, wobei der Wandler ferner umfasst: (e) eine erste Schicht aus einem thermisch kompensierenden Material (302), angeordnet zwischen der ersten Elektrode (306) und dem Substrat (304); (f) eine zweite Schicht eines thermisch kompensierenden Materials (302), angeordnet auf einer gegenüberliegenden Seite des Substrats (304) in einem Gebiet entsprechend zu der ersten Schicht auf der oberen Oberfläche des Substrats (304); und wobei (g) das thermisch kompensierende Material einen thermischen Ausdehnungskoeffizienten derart aufzeigt, dass das Substrat (304) veranlasst wird, sich bei einer Rate im Wesentlichen ähnlich zu derjenigen der Membran auszudehnen und zu kontrahieren.
  11. Wandler nach Anspruch 10, umfassend: (a) eine dritte Schicht aus einem thermisch kompensierenden Material (302), angeordnet zwischen dem Substrat (304) und dem Membran-Anbringungsring (308); und (b) eine vierte Schicht aus einem thermisch kompensierenden Material (302), angeordnet auf der gegenüberliegenden Seite des Substrats (304) in einem Gebiet entsprechend zu der Stelle der dritten Schicht (302) auf der oberen Oberfläche des Substrats (304).
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