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DE60029757T2 - Speicherzelle mit zwei Schwellenspannungen und Regelung des Bitleistungsverlusts - Google Patents

Speicherzelle mit zwei Schwellenspannungen und Regelung des Bitleistungsverlusts Download PDF

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DE60029757T2
DE60029757T2 DE60029757T DE60029757T DE60029757T2 DE 60029757 T2 DE60029757 T2 DE 60029757T2 DE 60029757 T DE60029757 T DE 60029757T DE 60029757 T DE60029757 T DE 60029757T DE 60029757 T2 DE60029757 T2 DE 60029757T2
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DE
Germany
Prior art keywords
signals
transistors
data
bit line
integrated circuit
Prior art date
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Expired - Lifetime
Application number
DE60029757T
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English (en)
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DE60029757D1 (en
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Ali Portland KESHAVARZI
Kevin Portland Zhang
Yibin Hillsboro YE
Vivek Beaverton De
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Intel Corp
Original Assignee
Intel Corp
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Publication date
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Publication of DE60029757T2 publication Critical patent/DE60029757T2/de
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Expired - Lifetime legal-status Critical Current

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Description

  • Stand der Technik
  • Gebiet der Technik
  • Die vorliegende Erfindung betrifft integrierte Schaltungen und im Besonderen Speicherzellen mit zwei Schwellenspannungen und einer Regelung des Bitleitungsverlustes.
  • Beschreibung des Stands der Technik
  • Statische Direktzugriffsspeicherzellen (SRAM-Zellen) stellen für, gewöhnlich einen Speicher für Bits bereit, aus dem schnell gelesen und der schnell beschrieben werden kann. Eine typische SRAM-Zelle weist sechs Feldeffekttransistoren (FETs) auf, wie dies in dem U.S. Patent US-A-5.379.260 beschrieben ist. Zwei der FETs bilden einen ersten Inverter, und zwei FETs bilden einen zweiten Inverter zwischen den Leistungs- und Erdanschlüssen. Die ersten und zweiten Inverter sind so quergekoppelt, dass an einem ersten Speicherknoten der Ausgang des zweiten Inverters mit dem Eingang des ersten Inverters verbunden ist, und wobei an einem zweiten Speicherknoten der Ausgang des ersten Inverters mit dem Eingang des zweiten Inverters verbunden ist. Die ersten und zweiten quergekoppelten Inverter bilden Latches bzw. Verriegelungsschaltkreise, wobei einer der Speicherknoten in den niedrigen bzw. sperrenden Zustand und der andere Speicherknoten in den hohen bzw. leitenden Zustand versetzt bzw. gezogen werden. Die anderen zwei der sechs Transistoren sind Durchlass-FETs, die durch ein Wortleitungssignal auf einem Wortleitungsleiter gesteuert werden. Einer der Durchlasstransistoren ist zwischen eine Bitleitung und den ersten Speicherknoten gekoppelt. Wenn die Durchlasstransistoren ausgeschaltet sind, werden die ersten und zweiten Speicherknoten von der Bitleitung und der Bitleitung# isoliert, wobei jedoch ein gewisser Verlust auftreten kann.
  • Während einem Lesevorgang werden die Signale Daten und Daten# entsprechend auf der Bitleitung und der Bitleitung# in den hohen Zustand vorgeladen. Wenn die Wortleitung aktiviert wird, befindet sich einer der Speicherknoten im niedrigen und der andere in einem hohen Zustand. Der niedrige Speicherknoten beginnt damit, das Signal Daten oder Daten# abhängig von dem Zustand der Speicherzelle nach unten zu ziehen. Ein Leseverstärker erfasst eine Differenz zwischen den Signalen Daten und Daten# und beschleunigt das Absinken bzw. Abfallen des Signals Daten oder Daten#, das dem niedrigen Speicherknoten entspricht, bis der Speicherknoten niedrig bzw. low ist. Der hohe (high) Speicherknoten bleibt hohc, und der Leseverstärker kann den Speicherknoten durch das Signal Daten oder Daten# (abhängig von dem Zustand der Speicherzelle) auf den hohen Zustand treiben. Folglich bewirkt der Lesevorgang, dass die Speicherknoten nach der Deaktivierung des Wortleitungssignals auf den gleichen Logikzuständen verbleiben. Der Leseverstärker sieht ein diesen Zustand anzeigendes Signal vor.
  • Bei einem Schreibvorgang bewirkt die Schaltkreisanordnung in einem Leseverstärker, dass nur eines der Signale Daten oder Daten# hoch ist, und wobei das andere Signal niedrig ist, und zwar als Reaktion darauf, ob ein hoher oder ein niedriger Wert in einen Schreibpuffer geschrieben worden ist. Wenn das Wortleitungssignal aktiviert wird, wenn der aktuelle Zustand der ersten und zweiten Speicherknoten dem Zustand der Signale Daten und Daten# entspricht, so bleiben die ersten und zweiten Speicherknoten unverändert. Wenn der aktuelle Zustand der ersten und zweiten Speicherknoten sich von dem der Signale Daten und Daten# unterscheidet, so wird einer der Speicherknoten nach unten gezogen, während der andere Speicherknoten nach oben gezogen wird. Wenn sich die Zustände in den ersten und zweiten Speicherknoten in dem aus den beiden quergekoppelten Invertern gebildeten Latch verändern, so wechselt das Latch den Zustand.
  • Das U.S. Patent US-A-5.020.29 offenbart eine Speicherzelle mit hohem/niedrigen Widerstand mit zwei Verbraucher- bzw. Lastelementen, zwei Steuertransistoren und zwei Zugriffstransistoren. Die Schwellenspannung jedes Steuertransistors wird auf einen hohen Wert gesetzt, so dass der Ausschaltwiderstandswert des Steuertransistors dem 10- bis 100-fachen des Widerstandswertes jedes Lastwiderstands entspricht. Die Schwellenspannung jedes Transistors wird so festgelegt, dass sie niedriger ist als die Schwellenspannung jedes Steuertransistors, so dass der Ausschaltwiderstandswert des Zugriffstransistors dem Zwei- bis Zehnfachen des Widerstandswertes jedes Lastwiderstands entspricht. Dadurch reduziert sich der Stromverbrauch im Standby-Zustand, während Datenspeichereigenschaften der Speicherzelle in ausgewählten und nicht ausgewählten Zuständen stabilisiert werden.
  • Das US-A-Patent US-A-5.583.821 offenbart eine Speicherzelle mit einer ersten Bitleitung, einer Speicherschaltung und einem Durchlasstransistor. Die Speicherschaltung weist einen ersten Speicherknoten zum Speichern eines Logikzustands auf, der einen Logikwert anzeigt. Der Durchlasstransistor ist mit der ersten Bitleitung und dem ersten Speicherknoten verbunden, um einen leitenden Pfad dazwischen zu erzeugen.
  • Im Gegensatz zu dynamischen Direktzugriffsspeicherzellen (DRAM-Zellen) müssen SRAM-Zellen nicht aufgefrischt werden, um ihren Zustand zu halten. So lange der Leistungsanschluss ohne Verlust mit Strom versorgt wird, sind die Spannungszustände der ersten und zweiten Speicherknoten in dem Latch der quergekoppelten Inverter stabil.
  • In SRAM-Zellen treten jedoch in größerem oder kleinerem Ausmaß Verluste auf. Um Verluste gering zu halten, werden die Schwellenspannungen verhältnismäßig hoch angesetzt. Zum Beispiel können die Schwellenspannungen der Transistoren der Speicherzellen höher sein als bei Transistoren anderer Abschnitte der integrierten Schaltungen, die Speicherzellen aufweisen. Indem die Schwellenspannung hoch gehalten wird, verringert sich jedoch auch die Schaltgeschwindigkeit und die Cache-Leistung. Folglich werden eine Struktur und eine Technik benötigt, welche Speicherzellen mit geringem Verlust und schnellem Zugriff ermöglichen.
  • Zusammenfassung der Erfindung
  • Vorgesehen ist gemäß einem ersten Aspekt der vorliegenden Erfindung eine integrierte Schaltung gemäß dem gegenständlichen Anspruch 1.
  • Vorgesehen ist gemäß einem zweiten Aspekt der vorliegenden Erfindung ein Verfahren gemäß dem gegenständlichen Anspruch 11.
  • Bevorzugte Merkmale der Erfindung sind in den Unteransprüchen definiert.
  • Kurze Beschreibung der Zeichnungen
  • Die Erfindung wird aus der folgenden genauen Beschreibung sowie aus den beigefügten Zeichnungen der Ausführungsbeispiele der Erfindung besser verständlich, wobei die Erfindung jedoch nicht auf die hierin beschriebenen bestimmten Ausführungsbeispiele beschränkt ist. Vielmehr dienen diese ausschließlich den Zwecken der Erläuterung und Veranschaulichung. Es zeigen:
  • 1 eine schematische Darstellung einer Speicherzelle gemäß bestimmten Ausführungsbeispielen der Erfindung;
  • 2 eine Kanallänge und Breitenabmessungen;
  • 3 eine schematische Darstellung einer integrierten Schaltung mit einem Speichersystem gemäß bestimmten Ausführungsbeispielen der Erfindung; und
  • 4 eine schematische Darstellung einer Speicherzellenspalte des Speichersystems aus 3.
  • Genaue Beschreibung der Erfindung
  • Die Abbildung aus 1 veranschaulicht eine SRAM-Speicherzelle 10 gemäß einem bestimmten Ausführungsbeispiel der vorliegenden Erfindung. Die Speicherzelle 10 steht stellvertretend für andere Speicherzellen, die nachstehend beschrieben und in Blockdiagrammform dargestellt sind. Die Erfindung ist jedoch nicht auf die Speicherzellen mit den Einzelheiten der Speicherzelle 10 beschränkt. Bei den hierin beschriebenen FETs kann es sich um Metalloxid-Halbleiter-Feldeffekttransistoren (MOSFETs) handeln.
  • Die Erfindung umfasst ein Speichersystem mit Speicherzellen, wobei Durchlasstransistoren niedrigere Schwellenspannungen (Vt) aufweisen als Latch- bzw. Verriegelungstransistoren, und wobei Wortleitungen für nicht ausgewählte Speicherzellen untersteuert werden, um den Verlust in den Bitleitungen und den Bitleitungen# zu reduzieren.
  • In Bezug auf die Abbildung aus 1 weist ein erster Inverter 14 einen pFET-Transistor bzw. pFET M1 und einen nFET-Transistor bzw. nFET M2 auf sowie einen Ausgang an einem ersten Speicherknoten Q und einen Eingang an einem zweiten Speicherknoten Q#. Wenn der Speicherknoten Q eine logisch niedrige Spannung aufweist, weist der Speicherknoten Q# normalerweise eine logisch hohe Spannung auf und vice versa. Ein zweiter Inverter 16 weist einen pFET M3 und einen nFET M4 auf sowie einen Ausgang an dem Speicherknoten Q# und einen Eingang an dem Speicherknoten Q. Der erste und der zweite Inverter 14 und 16 sind zwischen dem ersten und dem zweiten Speicherknoten quergekoppelt, da der Ausgang des Inverters 14 mit dem Eingang des Inverters 16 querverbunden ist, und da der Ausgang des Inverters 16 mit dem Eingang des Inverters 14 querverbunden ist. Diese quergekoppelte Anordnung bildet ein Latch. Die Transistoren M1 und M3 sind Pullup-Transistoren bzw. Lasttransistoren, und die Transistoren M2 und M4 sind Pulldown-Transistoren bzw. selbstsperrende Schalttransistoren. Die Inverter 14 und 16 sind zwischen eine Stromversorgungsspannung Vcc (teilweise auch Vdd bezeichnet) und eine Erdungsspannung Vss gekoppelt, wobei es sich dabei nicht unbedingt um die Erde bzw. Erdung handelt.
  • Ein erster Durchlasstransistor M5 ist ein nFET, der zwischen eine Bitleitung (BL) und einen Speicherknoten Q gekoppelt ist. Ein zweiter Durchlasstransistor M6 ist ein nFET, der zwischen eine Bitleitung# (BL#) und einen Speicherknoten Q# gekoppelt ist. Die Gate-Anschlüsse der Durchlasstransistoren M5 und M6 werden durch ein Wortleitungs-Signal auf einer Wortleitung gesteuert. Die Signale Daten und Daten# befinden sich entsprechend auf der Bitleitung oder der Bitleitung#. Die Signale Daten und Daten# werden zur Vereinfachung hierin als Bit-Signale bezeichnet.
  • In bestimmten Ausführungsbeispielen weist die Speicherzelle 10 einen logisch hohen Zustand auf, wenn Q hoch (1) ist und Q# niedrig (0) ist, und wobei sie einen logisch niedrigen Zustand aufweist, wenn Q niedrig (0) ist und wenn Q# hoch (1) ist. In anderen Ausführungsbeispielen gilt der entgegengesetzte Fall.
  • Die Begriffe „bestimmte Ausführungsbeispiele" und „andere Ausführungsbeispiele" bedeuten, dass zumindest bestimmte bzw. einige Ausführungsbeispiele der Erfindung die in Bezug mit dem Begriff genannte Struktur, Funktion oder Eigenschaft aufweisen. Ferner beziehen sich die unterschiedlichen Verweise auf „bestimmte Ausführungsbeispiele" nicht unbedingt alle auf die gleichen Ausführungsbeispiele.
  • Nachfolgend wird ein Lesevorgang gemäß bestimmten Ausführungsbeispielen der Erfindung beschrieben. Die vorliegende Erfindung ist jedoch nicht auf die folgenden Einzelheiten bzw. Details beschränkt. Die Signale Daten und Daten# werden in einen hohen Zustand vorgeladen (wobei sie alternativ aber auch auf einen niedrigen Zustand oder eine andere Referenzspannung vorgeladen werden können). Wenn das Signal Wortleitung aktiviert wird, werden die Durchlasstransistoren M5 und M6 eingeschaltet. Einer der Speicherknoten befindet sich in einem niedrigen Zustand (d.h. er weist eine logisch niedrige Spannung auf), und der andere Knoten befindet sich in einem hohen Zustand (d.h. er weist eine logisch hohe Spannung auf. Der niedrige Speicherknoten beginnt damit, dass entsprechende Bit-Signal nach unten zu ziehen (entweder das Signal Daten oder das Signal Daten#, abhängig von dem Zustand der Speicherzelle). Ein Leseverstärker beschleunigt Lesevorgänge und verstärkt das Abfallen des entsprechenden Bit-Signals und kann auch das andere Bit-Signal nach oben treiben. Der Leseverstärker beginnt mit der Beschleunigung des Abfallens nicht bevor die Differenz der Signale Daten und Daten# so groß oder größer ist als eine bestimmte Spannung. Die Spannung variiert abhängig von dem ausgewählten Leseverstärker. Die vorliegende Erfindung ist nicht auf einen bestimmten Leseverstärker beschränkt.
  • Wenn als ein Beispiel der Speicherknoten Q hoch ist und der Speicherknoten Q# niedrig, wenn das Signal Wortleitung aktiviert wird, so beginnt der Speicherknoten Q# damit, das Signal Daten# nach unten zu ziehen, während das Signal Daten hoch bleibt. Der Leseverstärker beschleunigt das Hinunterziehen des Signals Daten#. Der Speicherknoten Q bleibt hoch, und der Speicherknoten Q# bleibt niedrig, nachdem Wortleitung deaktiviert worden ist. Der Leseverstärker sieht ein Signal vor, das den Zustand der Speicherzelle anzeigt. Wenn in ähnlicher Weise der Speicherknoten Q niedrig ist und der Speicherknoten Q# hoch ist, wenn Wortleitung aktiviert wird, so beginnt der Speicherknoten Q damit, das Datensignal nach unten zu ziehen, während das Signal Daten# hoch bleibt. Der Leseverstärker beschleunigt das Hinunterziehen des Signals Daten. Wenn Wortleitung deaktiviert wird, bleiben die Speicherknoten Q und Q# entsprechend niedrig bzw. hoch.
  • Bei einem Schreibvorgang zum Schreiben eines Bits in die Speicherzelle 10 bewirkt die Schaltkreisanordnung (z.B. in 3), dass eines der Signale Daten und Daten# hoch und das andere niedrig ist, abhängig von dem Zustand, der in die Speicherzelle 10 geschrieben werden soll. Wenn das Signal Wortleitung aktiviert wird, werden die Durchlasstransistoren M5 und M6 eingeschaltet, und die Speicherknoten Q und Q# behalten die gleichen Logikzustände oder ändern ihre Zustände, abhängig davon, ob die Speicherknoten Q und Q# den entsprechenden Signalen Daten und Daten# entsprechen oder sich von diesen unterscheiden. Das durch die Inverter 14 und 16 gebildete Latch stellt zwar eine positive Rückkopplung bereit, um die Speicherknoten Q und Q# stabil zu halten, jedoch wechselt das Latch die Zustände von Q und Q#, wenn die Signale Daten und Daten# zu denen der Speicherknoten Q und Q# entgegengesetzt sind.
  • Die Größen und Schwellenspannungen (Vts) der Transistoren M1 bis M6 können so ausgewählt werden, dass ein Kompromiss aus Größe, Stabilität und Schaltgeschwindigkeit erreicht wird. Die Abbildung aus 2 veranschaulicht den Source-Anschluss, den Kanal und den Drain-Anschluss eines Transistors, der jeden der Transistoren M1 bis M6 darstellen kann. Der Transistor weist eine Kanalbreite W und eine Kanallänge L auf. Die Schaltgeschwindigkeit eines FET steht im Verhältnis zu W/L. Die Schaltgeschwindigkeit nimmt zu, wenn W zunimmt und/oder wenn L abnimmt. Die Schaltgeschwindigkeit nimmt ab, wenn W kleiner wird und/oder wenn L größer wird. Der Bereich bzw. die Fläche des Transistors nimmt jedoch ebenfalls zu, wenn W und/oder L größer werden, und der Bereich wird kleiner, wenn W und/oder L kleiner werden. Ein kleinerer Bereich des Transistors ist wünschenswert.
  • Gemäß der vorliegenden Erfindung wird die Speicherzelle 10 so hergestellt, dass die Schwellenspannungen (Vt) der Transistoren M5 und M6 niedriger sind als Vt der Transistoren M1 bis M4. Mit einer niedrigeren Vt schalten die Transistoren M5 und M6 schneller, was einen schnelleren Lese- und Schreibzugriff auf die Speicherknoten Q und Q# ermöglicht. Die Transistoren M5 und M6 sind ferner mit höheren Verlusten behaftet. Der Verlust der nicht ausgewählten Speicherzellen kann potenziell einen Teil des Geschwindigkeitsvorteils bezüglich der differentiellen Signalentwicklung aufbrauchen. Verluste können ferner den in der Speicherzelle gespeicherten Zustand verändern. Wie dies nachstehend im Text beschrieben ist, können die Wortleitungssignale der nicht zum Lesen oder Beschreiben ausgewählten Zellen in bestimmten Ausführungsbeispielen untersteuert werden, um den Verlust der Zellen zu reduzieren. Auf diese Weise weisen sie (1) einen sehr geringen Verlust auf, um den Zustand der Speicherknoten Q und Q# nicht zu verändern und (2) beeinflussen Bitleitung und Bitleitung# nicht so, dass das Lesen aus oder Beschreiben einer ausgewählten Zelle fehlerhaft verändert wird.
  • In der Folge wird ein Verfahren für ein Design beschrieben, das für bestimmte Ausführungsbeispiele verwendet werden kann. Eine Referenzzelle kann mit einer hohen Vt für die Transistoren M1 bis M6 ausgewählt werden, und wobei W und L für die Transistoren M1 bis M6 hinsichtlich Stabilität ausgewählt wird. Danach werden die Schwellenspannungen von M5 und M6 gesenkt, um die Zugriffsgeschwindigkeit zu erhöhen. W und/oder L von M1 bis M4 und eventuell auch W und/oder L von M5 und M6 werden danach neu festgelegt, um die gleiche oder eine ähnliche Stabilität wie die der Referenzzelle beizubehalten. Bei der neuen Größenfestlegung können auch die Geschwindigkeit und der Bereich bzw. die Fläche berücksichtigt werden. In bestimmten Ausführungsbeispielen werden die Pullup- und Pulldown-Transistoren M1 bis M4 so gestaltet, dass sie etwas breiter sind als wie dies optimal wäre, wenn die Transistoren M1 bis M6 die gleiche Vt aufweisen. Dies führt zu einer höheren Stabilität (Lesestabilität) zu Lasten der geringfügig größeren Fläche. Flächeneinbußen können durch strengere Designregeln im Zuge verbesserter Verarbeitungstechnologie verringert werden. Größere nFET-Pulldown-Bausteine unterstützen zudem die Geschwindigkeit, in dem eine Stromsenke vorgesehen wird und ein Ladungsaufbau vermieden wird.
  • Die niedrigere Vt kann durch Verfahrenstechniken erreicht werden, wie etwa eine zusätzlichen Implantierungsschritt oder die Anwendung einer Vorwärtsvorspannung des Body der Transistoren M5 und M6. Eine weitere Technik, um effektiv eine niedrigere Vt zu erreichen, ist das Übersteuern des Gate-Anschlusses der Durchlasstransistoren M5 und M6, während diese mit einer höheren Vt hergestellt werden, wobei Vt auch den Transistoren M1 bis M4 entsprechen kann. In bestimmten Ausführungsbeispielen sieht die vorliegende Erfindung einen Anstieg von mehr als 25% hinsichtlich der Zugriffsgeschwindigkeit im Vergleich zu der Referenzzelle vor.
  • In Bezug auf die Abbildung aus 3 weist eine integrierte Schaltung 30 ein Speichersystem auf. Die integrierte Schaltung 30 kann natürlich eine Vielzahl anderer Schaltungen aufweisen. Einige oder alle der anderen Schaltungen können Transistoren aufweisen, die die gleichen oder andere Schwellenspannungen aufweisen als die Transistoren M1 bis M4. Die integrierte Schaltung 30 kann einen Prozessor darstellen, wie etwa einen Mikroprozessor oder einen digitalen Signalprozessor mit einem Cache-Speicher, einem Standalone-Speicherchip oder verschiedene andersartige Chips, einschließlich einer anwendungsspezifischen integrierten Schaltung (ASIC).
  • Das Speichersystem weist Spalten von Speicherzellen auf, wobei die veranschaulichten ersten und zweiten Spalten 24 und 26 diesbezüglich repräsentativ sind. Die erste Spalte 24 weist die Speicherzellen MC11, MC12, ... MC1N auf, und die zweite Spalte 26 weist die Speicherzellen MC21, MC22, ... MC2N auf. Jede der Speicherzellen kann die gleiche Struktur wie die Speicherzelle 10 aus 1 aufweisen oder eine in gewisser Weise unterschiedliche Struktur. Die Bitleitungs-Konditionierungsschaltung 34 wird zum Vorladen der Bitleitungen BL1 und BL#1 verwendet. Die Bitleitungs-Konditionierungsschaltung 38 wird zum Vorladen der Bitleitungen BL2 und BL#2 verwendet. Die Wortleitungs-Spannungsregelungsschaltung 42 (die einen Zeilendecodierer aufweisen kann) regelt die Wortleitungssignale an den Wortleitungsleitern WL1, WL2, ... WLN. Wie dies nachstehend im Text beschrieben ist, erfasst ein Leseverstärker 50 die Differenz der Signale Daten und Daten# in einem Lesevorgang und regelt bzw. steuert die Zustände der Signale Daten und Daten# in einem Schreibvorgang für beide Spalten 24 und 26 über einen Spaltenmultiplexer 46, gesteuert durch einen Spaltendecodierer 48. Für alle Spalten kann ein Leseverstärker vorgesehen sein oder (wie in 4) ein Leseverstärker für jede Spalte.
  • In der Folge wird ein Lesevorgang gemäß bestimmter Ausführungsbeispiele beschrieben. Die Bitleitungskonditionierungsschaltungen 34 und 38 laden die Signale Daten und Daten# an den Bitleitungen BL1, BL#1, BL2 und BL#2 vor. (Alternativ werden nur die Signale Daten und Daten# der relevanten Spalte vorgeladen.) Nachdem das Signal Wortleitung an der relevanten Wortleitung (WL1, WL2, ... WLN) aktiviert worden ist, werden die entsprechenden Durchlasstransistoren M5 und M6 eingeschaltet. Der niedrige Speicherknoten beginnt damit, das entsprechende Bit-Signal (Daten oder Daten#) nach unten zu ziehen. Das andere Bit-Signal bleibt hoch. Der Leseverstärker 50 erfasst und verstärkt eine Differenz der Signale Daten und Daten# und beschleunigt das Abfallen des Bit-Signals, das dem niedrigen Speicherknoten entspricht. Der Leseverstärker kann auch das andere Bit-Signal nach oben treiben. Der Leseverstärker 50 stellt ein Signal an den Lesepuffer 56 bereit, das den Zustand der relevanten Speicherzelle anzeigt.
  • Zum Beispiel wird angenommen, dass die Speicherzelle MC11 gelesen werden soll, und in MC11 ist der Speicherknoten Q hoch und der Speicherknoten Q# ist niedrig. Die Wortleitungs-Spannungsregelungsschaltung 42 aktiviert (hoch) das Signal Wortleitung an WL1, während die Wortleitungssignale an bzw. auf den Leitern WL2, WL3 und WL4 werden untersteuert. Wenn die Transistoren M6 eingeschaltet sind, würde der Speicherknoten Q# beginnen, das Signal Daten# nach unten zu ziehen. Wenn der Leseverstärker 50 eine Differenz der Signale Daten und Daten# erfasst, beschleunigt er das Abfallen des Signals Daten# und kann das Signal Daten nach oben treiben. Wenn das Wortleitungssignal an dem Leiter WL1 deaktiviert wird, würden die Durchlasstransistoren M5 und M6 abgeschaltet werden, und die Zustände der Speicherknoten Q und Q# würden auf den Zuständen verbleiben, die sie vor dem Lesen aufgewiesen haben. Gemäß der vorstehend aufgeführten Konvention kann der Leseverstärker 50 ein hohes Bit-Signal an den Lesepuffer 56 bereitstellen, das den Zustand von MC11 darstellt.
  • In der Folge wird ein Schreibvorgang gemäß bestimmten Ausführungsbeispielen beschrieben. Die vorliegende Erfindung ist jedoch nicht auf diese Einzelheiten beschränkt. Der Leseverstärker 50 steuert, welches der Signale Daten und Daten# der ausgewählten Spalte hoch ist und welches niedrig ist, als Reaktion auf ein Bit in dem Schreibpuffer 54.
  • Der Spaltendecodierer 48 wählt die Spalte aus. Wenn das Bit zum Beispiel hoch ist, bewirkt der Leseverstärker 50 in bestimmten Ausführungsbeispielen, dass das Datensignal auf der Bitleitung der ausgewählten Spalte hoch ist, und dass das Signal Daten# auf der Bitleitung# niedrig ist. Die richtige Wortleitung wird aktiviert, so dass die Durchlasstransistoren M5 und M6 eingeschaltet sind. Wenn die Zustände der Speicherknoten den Zuständen der Signale Daten und Daten# entsprechen, so bleiben die Zustände der Speicherknoten gleich, und der in dem Speicher gespeicherte Zustand bleibt unverändert. Wenn die Zustände der Speicherknoten entgegengesetzt sind zu den Zuständen der Signale Daten und Daten#, so werden die Zustände der Speicherknoten Q und Q# umgeschaltet, und das Latch wechselt die Zustände. In bestimmten Ausführungsbeispielen werden die Wortleitungen der nicht ausgewählten Zeilen untersteuert. In anderen Ausführungsbeispielen werden die Wortleitungen der nicht ausgewählten Zeilen nicht untersteuert.
  • Wie dies bereits vorstehend im Text beschrieben worden ist kann die niedrigere Vt der Durchlasstransistoren M5 und M6 einen gewissen zusätzlichen Verlust der Bitleitung und/oder der Bitleitung# induzieren, was potenziell einen Teil des Geschwindigkeitsvorteils bezüglich der differentiellen Signalentwicklung aufheben kann, der für die Erfassung erforderlich ist. Speziell in dem Lesevorgang ist dies ein Problem. In Bezug auf die Abbildung aus 3, in der die Speicherzellen mit einer Bitleitung und Bitleitung# gekoppelt sind, und die Spannungsdifferenz durch einen Leseverstärker gemessen wird, kann der Verlust durch die Durchlasstransistoren ein Faktor sein. Wenn Daten und Daten# hoch vorgeladen werden, ist der Verlust ein Faktor zwischen Bitleitung oder Bitleitung# und einem niedrigen Speicherknoten (das heißt, wenn ein Spannungsabfall zwischen dem Source- und dem Drain-Anschluss des Durchlasstransistors gegeben ist). In Bezug auf die Erfassung ist der Verlust dann am wenigsten signifikant, wenn die Zellen gleichmäßig aufgeteilt sind auf das Speichern eines logisch hohen und eines logisch niedrigen Wertes. Der Grund dafür ist es, das ungefähr der gleiche Strom zu der Bitleitung und Bitleitung# verloren geht. (Natürlich ist der Verlust ein Faktor in Bezug auf Speicherknoten, die ihren Zustand ändern und den Stromverbrauch, unabhängig davon, ob niedrige oder hohe Werte verteilt sind.)
  • In der Abbildung aus 4 ist der ungünstigste Zustand dargestellt, wobei die Zustände von Q und Q# für die erste Spalte 24 aus 3 abgebildet sind, in der für die Speicherzelle MC11 Q niedrig und Q# hoch ist, wobei jedoch für die Speicherzellen MC12, MC13, ... MC1N Q hoch ist und Q# niedrig. In dem Beispiel aus 4 wird die Wortleitung WL1 ausgewählt und die Wortleitungen WL2, WL3, ... WLN werden nicht ausgewählt. In den Speicherzellen MC12, MC13, ... MC1N sind alle Speicherknoten Q# niedrig und führen zu Verlust in Bezug auf Bitleitung#. Ungeachtet der Tatsache, dass sich die Bitleitung schnelle entlädt (aufgrund der niedrigeren Vt der Durchlasstransistoren), kann ohne eine Verlustreduzierungstechnik gemäß der vorliegenden Erfindung die verlustreichere BL# verhindern, dass der differentielle Leseverstärker die erforderliche Lesespannung schnell aufbaut.
  • In bestimmten Ausführungsbeispielen wird das Problem durch Untersteuern der Gate-Anschlüsse der Durchlasstransistoren (M5 und M6) jeder nicht ausgewählten Speicherzelle gelöst. Dies kann durch eine Wortleitungs-Spannungsregelungsschaltung 42 erreicht werden, welche die Wortleitungssignale untersteuert, die nicht ausgewählt werden, anstatt diese auf Vss bereitzustellen. In bestimmten Ausführungsbeispielen können die nicht ausgewählten Wortleitungen ungefähr –100 bis –200 Millivolt (mV) aufweisen anstatt Vss. Andere Untersteuerungsspannungen können ebenfalls ausgewählt werden. Der hierin verwendete Begriff „leichte Untersteuerung" bedeutet eine Untersteuerung der Wortleitungssignale auf zwischen –5 und –99 Millivolt (einschließlich), in Bezug auf die Erde. „Moderates Untersteuern" bedeutet, dass die Wortleitungssignale zwischen –100 und –200 mV (einschließlich) in Bezug auf die Erde bereitgestellt werden. „Starkes Untersteuern" bedeutet, dass die Wortleitungssignale zwischen –201 und –500 mV (einschließlich) in Bezug auf die Erde bereitgestellt werden, und „sehr starkes Untersteuern" bedeutet, dass die Wortleitungssignale negativer als –500 mV in Bezug auf die Erde bereitgestellt werden.
  • In Bezug auf die Abbildung aus 4 kann die Wortleitung WL1 zum Beispiel einen logisch hohen Wert aufweisen (z.B. Vcc), und die Wortleitungen WL2, WL3, ... WLN können auf etwa –100 bis –200 mV gegeben sein. In bestimmten Ausführungsbeispielen reduziert die Anwendung einer Untersteuerung von –100 bis –200 mV an die Gate-Anschlüsse der nMOSFET-Transistoren den Verlust mehr als um eine Größenordnung. Dies entspricht effektiv einer Erhöhung der Schwellenspannung der mit Verlust behafteten Durchlasstransistoren (z.B. durch umgekehrte Body-Vorspannung). Eine Anpassung der Body-Vorspannung kann an Stelle der Untersteuerung eingesetzt werden. Zum Beispiel kann die ausgewählte Speicherzelle eine Body-Vorspannung (z.B. eine Vorwärts-Body-Vorspannung) aufweisen, während die nicht ausgewählten Speicherzellen eine andere Body-Vorspannung (z.B. eine umgekehrte Body-Vorspannung) aufweisen können. Die optimale Größe der Wortleitungsuntersteuerung kann einen durch den Gate-Anschluss induzierten Drain-Verlust (GIDL) und andere Verbindungsverlustmechanismen umfassen, wie etwa Band-zu-Band-Tunneling (BTBT). Das Ergebnis einer ordnungsgemäßen Untersteuerung ist ein signifikanter Geschwindigkeitsanstieg bei der Erfassung bzw. dem Lesen, wodurch der Verlust der Durchlasstransistoren M5 und M6 überwunden wird. Die Untersteuerung senkt den Verlust der Transistoren unterhalb des Schwellenwertes.
  • Die veranschaulichten Ausführungsbeispiele umfassen zwar Transistoren vom Anreicherungstyp, wobei aber auch Transistoren vom Verarmungstyp verwendet werden können.
  • Es können zusätzliche Zellen vorgesehen sein, die sich von den hierin beschriebenen Zellen unterscheiden. Die Zellen können mehrere Anschlüsse bzw. Ports aufweisen.
  • In bestimmten Ausführungsbeispielen und Situationen können die Bitleitungen von mehr als einer Spalte gleichzeitig vorgeladen und gelesen werden; und/oder mehr als ein Wortleitungssignal kann gleichzeitig aktiviert werden.
  • Es kann eine intermediäre Struktur (wie etwa einen Puffer) oder Signale zwischen zwei veranschaulichten Strukturen oder innerhalb einer Struktur (wie etwa ein Leiter) gegeben, welche als ununterbrochen dargestellt ist. Die Begrenzungen der Kästchen in den Abbildungen dienen Veranschaulichungszwecken und haben keine einschränkende Funktion.
  • Wenn in der Beschreibung beschrieben wird, dass eine Komponente, ein Merkmal, eine Struktur oder eine Eigenschaft vorgesehen bzw. enthalten sein „kann" oder „könnte", so muss diese jeweilige Komponente, das jeweilige Merkmal, die jeweilige Struktur oder die jeweilige Eigenschaft nicht vorgesehen oder enthalten sein.
  • Der Fachmann, der von der vorliegenden Offenbarung profitiert, erkennt, dass zahlreiche weitere Abänderungen der vorstehenden Beschreibung und der Zeichnungen gemäß dem Umfang der vorliegenden Erfindung möglich sind. Folglich ist der Umfang der vorliegenden Erfindung durch die folgenden Ansprüche einschließlich etwaiger Abänderungen definiert.

Claims (15)

  1. Integrierte Schaltung, die folgendes umfasst: eine Bitleitung (BL) und eine zweite Bitleitung (BL#); Wortleitungen (WL); Speicherzellen (MC11, MC12, ..., MCN), die jeweils einer der Wortleitungen entsprechen und jeweils folgendes aufweisen: (a) erste und zweite Durchlasstransistoren (M5, M6), die zwischen entsprechende erste und zweite Speicherknoten (Q, Q#) und entsprechend die Bitleitung sowie die zweite Bitleitung gekoppelt sind, wobei die entsprechende Wortleitung mit Gate-Anschlüssen der ersten und zweiten Durchlasstransistoren gekoppelt sind; und gekennzeichnet durch: (b) erste und zweite CMOS-Inverter (M1, M2 und M3, M4), die zwischen die ersten und zweiten Speicherknoten (Q, Q#) quergekoppelt sind, wobei die ersten und zweiten Durchgangstransistoren (M5, M6) eine niedrigere Schwellenspannung aufweisen als alle Transistoren der ersten und zweiten Inverter (M1, M2 und M3, M4), und wobei eine Wortleitungs-Spannungsregelungsschaltkreisanordnung (42) mit den Wortleitungen gekoppelt ist, um selektiv die Wortleitungssignale auf den Wortleitungen zu regeln.
  2. Integrierte Schaltung nach Anspruch 1, wobei die Wortleitungs-Spannungsregelungsschaltkreisanordnung (42) das Wortleitungssignal für eine ausgewählte Wortleitung an eine zu lesende Speicherzelle (MC11) aktiviert und die Wortleitungssignale für die Wortleitungen untersteuert, die nicht der ausgewählten Speicherzelle entsprechen.
  3. Integrierte Schaltung nach Anspruch 2, wobei die Wortleitungssignale für die nicht ausgewählten Wortleitungen zwischen jeweils einschließlich –5 und –99 Millivolt liegen.
  4. Integrierte Schaltung nach Anspruch 2, wobei die Wortleitungssignale für die nicht ausgewählten Wortleitungen zwischen jeweils einschließlich –100 und –200 Millivolt liegen.
  5. Integrierte Schaltung nach Anspruch 2, wobei die Wortleitungssignale für die nicht ausgewählten Wortleitungen zwischen jeweils einschließlich –201 und –500 Millivolt liegen.
  6. Integrierte Schaltung nach Anspruch 2, wobei die Wortleitungssignale für die nicht ausgewählten Wortleitungen mehr als –500 Millivolt entsprechen.
  7. Integrierte Schaltung nach Anspruch 1, wobei es sich bei den Transistoren um MOSFET-Transistoren handelt.
  8. Integrierte Schaltung nach Anspruch 1, wobei diese ferner eine zweite Spalte von Speicherzellen umfasst.
  9. Integrierte Schaltung nach Anspruch 1, wobei diese ferner einen mit der Bitleitung und der zweiten Bitleitung gekoppelten Leseverstärker umfasst.
  10. Integrierte Schaltung nach Anspruch 1, wobei diese ferner eine Bitleitungs-Konditionierungsschaltkreisanordnung umfasst, um entsprechend Daten- und Daten-#-Signale auf der Bitleitung und der Bitleitung# vorzuladen.
  11. Verfahren zum Lesen einer Speicherzelle (MC11, MC12, ..., MCN) in einer Spalte von Speicherzellen, wobei das Verfahren folgendes umfasst: das Vorladen von Spannungen für Daten- und Daten-#-Signale entsprechend auf einer Bitleitung (BL) und einer zweiten Bitleitung (BL#); das Aktivieren eines Wortleitungssignals in der Wortleitung (WL), welche der Speicherzelle entspricht, wobei die Speicherzelle Durchlasstransistoren (M5, M6) und Verriegelungstransistoren (M1, M2 und M3, M4) aufweist, und wobei die Durchlasstransistoren (M5, M6) eine niedrigere Schwellenspannung aufweisen als alle Verriegelungstransistoren (M1, M2 und M3, M4); und das Untersteuern von Wortleitungssignalen in den Wortleitungen, die nicht der zum Lesen ausgewählten Speicherzelle entsprechen.
  12. Verfahren nach Anspruch 11, wobei die Wortleitungssignale für die nicht ausgewählten Wortleitungen zwischen jeweils einschließlich –5 und –99 Millivolt liegen.
  13. Verfahren nach Anspruch 11, wobei die Wortleitungssignale für die nicht ausgewählten Wortleitungen zwischen jeweils einschließlich –100 und –200 Millivolt liegen.
  14. Verfahren nach Anspruch 11, wobei die Wortleitungssignale für die nicht ausgewählten Wortleitungen zwischen jeweils einschließlich –201 und –500 Millivolt liegen.
  15. Verfahren nach Anspruch 11, wobei die Wortleitungssignale für die nicht ausgewählten Wortleitungen mehr als –500 Millivolt entsprechen.
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Families Citing this family (38)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2002056681A (ja) * 2000-08-09 2002-02-22 Toshiba Corp メモリ装置
US6519176B1 (en) * 2000-09-29 2003-02-11 Intel Corporation Dual threshold SRAM cell for single-ended sensing
TWI242085B (en) * 2001-03-29 2005-10-21 Sanyo Electric Co Display device
US6946901B2 (en) * 2001-05-22 2005-09-20 The Regents Of The University Of California Low-power high-performance integrated circuit and related methods
US6628557B2 (en) 2001-09-28 2003-09-30 Intel Corporation Leakage-tolerant memory arrangements
WO2003083872A2 (en) * 2002-03-27 2003-10-09 The Regents Of The University Of California Low-power high-performance memory cell and related methods
US6683804B1 (en) * 2002-07-16 2004-01-27 Analog Devices, Inc. Read/write memory arrays and methods with predetermined and retrievable latent-state patterns
DE10255102B3 (de) * 2002-11-26 2004-04-29 Infineon Technologies Ag SRAM-Speicherzelle mit Mitteln zur Erzielung eines vom Speicherzustand unabhängigen Leckstroms
US6724649B1 (en) * 2002-12-19 2004-04-20 Intel Corporation Memory cell leakage reduction
US7200050B2 (en) * 2003-05-26 2007-04-03 Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. Memory unit and semiconductor device
TWI278862B (en) * 2003-07-01 2007-04-11 Zmos Technology Inc SRAM cell structure and circuits
US6920061B2 (en) * 2003-08-27 2005-07-19 International Business Machines Corporation Loadless NMOS four transistor dynamic dual Vt SRAM cell
JP2005142289A (ja) * 2003-11-05 2005-06-02 Toshiba Corp 半導体記憶装置
US7123500B2 (en) * 2003-12-30 2006-10-17 Intel Corporation 1P1N 2T gain cell
JP4342350B2 (ja) * 2004-03-11 2009-10-14 株式会社東芝 半導体メモリ装置
US7061794B1 (en) * 2004-03-30 2006-06-13 Virage Logic Corp. Wordline-based source-biasing scheme for reducing memory cell leakage
US7469465B2 (en) * 2004-06-30 2008-12-30 Hitachi Global Storage Technologies Netherlands B.V. Method of providing a low-stress sensor configuration for a lithography-defined read sensor
US7079426B2 (en) * 2004-09-27 2006-07-18 Intel Corporation Dynamic multi-Vcc scheme for SRAM cell stability control
US7110278B2 (en) * 2004-09-29 2006-09-19 Intel Corporation Crosspoint memory array utilizing one time programmable antifuse cells
US7321502B2 (en) * 2004-09-30 2008-01-22 Intel Corporation Non volatile data storage through dielectric breakdown
US7321504B2 (en) * 2005-04-21 2008-01-22 Micron Technology, Inc Static random access memory cell
KR100699857B1 (ko) * 2005-07-30 2007-03-27 삼성전자주식회사 무부하 에스램, 그 동작 방법 및 그 제조 방법
US7230842B2 (en) * 2005-09-13 2007-06-12 Intel Corporation Memory cell having p-type pass device
JP2007122814A (ja) * 2005-10-28 2007-05-17 Oki Electric Ind Co Ltd 半導体集積回路及びリーク電流低減方法
US20070153610A1 (en) * 2005-12-29 2007-07-05 Intel Corporation Dynamic body bias with bias boost
US8006164B2 (en) 2006-09-29 2011-08-23 Intel Corporation Memory cell supply voltage control based on error detection
US7558097B2 (en) * 2006-12-28 2009-07-07 Intel Corporation Memory having bit line with resistor(s) between memory cells
US8009461B2 (en) * 2008-01-07 2011-08-30 International Business Machines Corporation SRAM device, and SRAM device design structure, with adaptable access transistors
JP2009295229A (ja) * 2008-06-05 2009-12-17 Toshiba Corp 半導体記憶装置
US20110149667A1 (en) * 2009-12-23 2011-06-23 Fatih Hamzaoglu Reduced area memory array by using sense amplifier as write driver
US9858986B2 (en) * 2010-08-02 2018-01-02 Texas Instruments Incorporated Integrated circuit with low power SRAM
US9111638B2 (en) * 2012-07-13 2015-08-18 Freescale Semiconductor, Inc. SRAM bit cell with reduced bit line pre-charge voltage
US9070477B1 (en) 2012-12-12 2015-06-30 Mie Fujitsu Semiconductor Limited Bit interleaved low voltage static random access memory (SRAM) and related methods
WO2015009331A1 (en) * 2013-07-15 2015-01-22 Everspin Technologies, Inc. Memory device with page emulation mode
CN109859791B (zh) * 2019-01-31 2020-08-28 西安微电子技术研究所 一种全隔离结构9管sram存储单元及其读写操作方法
CN110277120B (zh) * 2019-06-27 2021-05-14 电子科技大学 一种在低压下提升读写稳定性的单端8管sram存储单元电路
CN111755048B (zh) * 2020-06-22 2024-11-29 上海华力微电子有限公司 下字线驱动读辅助电路和版图设计
US20250259671A1 (en) * 2024-02-08 2025-08-14 Arm Limited Increased throughput for reads in static random access memory

Family Cites Families (17)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5153852A (en) * 1988-07-01 1992-10-06 Vitesse Semiconductor Corporation Static RAM cell with high speed and improved cell stability
JPH0340294A (ja) 1989-07-05 1991-02-21 Mitsubishi Electric Corp スタティック型半導体記憶装置
JP3076351B2 (ja) * 1990-04-09 2000-08-14 株式会社リコー バッテリバックアップ付半導体記憶装置
US5222039A (en) * 1990-11-28 1993-06-22 Thunderbird Technologies, Inc. Static random access memory (SRAM) including Fermi-threshold field effect transistors
US5732015A (en) * 1991-04-23 1998-03-24 Waferscale Integration, Inc. SRAM with a programmable reference voltage
US5461713A (en) * 1991-05-10 1995-10-24 Sgs-Thomson Microelectronics S.R.L. Current offset sense amplifier of a modulated current or current unbalance type for programmable memories
US5452246A (en) 1993-06-02 1995-09-19 Fujitsu Limited Static semiconductor memory device adapted for stabilization of low-voltage operation and reduction in cell size
US5393689A (en) * 1994-02-28 1995-02-28 Motorola, Inc. Process for forming a static-random-access memory cell
US5471421A (en) 1994-12-16 1995-11-28 Sun Microsystems, Inc. Storage cell using low powered/low threshold CMOS pass transistors having reduced charge leakage
EP0722171B1 (de) * 1995-01-12 2001-09-26 Intergraph Corporation Registerspeicher mit Umleitungsmöglichkeit
JP4198201B2 (ja) * 1995-06-02 2008-12-17 株式会社ルネサステクノロジ 半導体装置
US5703392A (en) * 1995-06-02 1997-12-30 Utron Technology Inc Minimum size integrated circuit static memory cell
KR0182960B1 (ko) * 1995-08-31 1999-04-15 김광호 반도체 메모리의 칩 면적을 줄일수 있는 비트라인 로드회로
JPH09270494A (ja) * 1996-01-31 1997-10-14 Hitachi Ltd 半導体集積回路装置
US5790452A (en) * 1996-05-02 1998-08-04 Integrated Device Technology, Inc. Memory cell having asymmetrical source/drain pass transistors and method for operating same
US5828597A (en) * 1997-04-02 1998-10-27 Texas Instruments Incorporated Low voltage, low power static random access memory cell
US5939762A (en) 1997-06-26 1999-08-17 Integrated Device Technology, Inc. SRAM cell using thin gate oxide pulldown transistors

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Publication number Publication date
EP1155413B1 (de) 2006-08-02
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WO2000052702A1 (en) 2000-09-08
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US6181608B1 (en) 2001-01-30
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KR20010102476A (ko) 2001-11-15

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