DE4409199A1

DE4409199A1 - Verfahren und Vorrichtung zur automatischen Reinigung eines Vakuumbedampfungsbehälters

Info

Publication number: DE4409199A1
Application number: DE4409199A
Authority: DE
Inventors: Junji Nakada
Original assignee: Fuji Photo Film Co Ltd
Current assignee: Fujifilm Corp
Priority date: 1993-03-17
Filing date: 1994-03-17
Publication date: 1994-09-22
Also published as: US5492569A; JPH06272027A

Description

HINTERGRUND DER ERFINDUNG

Die vorliegende Erfindung betrifft ein Reinigungsverfahren, das zum Entfernen von Kontaminationen in einem Vakuumbedamp fungsbehälter und dergleichen anwendbar ist, der eine Vakuum bedampfungsvorrichtung konstituiert, die zur Herstellung bei spielsweise eines magnetischen Aufzeichnungsmediums verwendet wird und auf eine Reinigungsvorrichtung zum Implementieren des Reinigungsverfahrens.

Es ist allgemein bekannt, daß magnetische Platten und magne tische Bänder extensiv als magnetische Aufzeichnungsmedien zum Aufzeichnen von Video- und Audiosignalen verwendet wer den. Die magnetischen Aufzeichnungsmedien werden durch das Aufbringen oder Aufdampfen eines magnetischen Materials auf der Oberfläche eines Substrates gebildet, in dem Polyester wie ein Polyethylenterephthalat oder ein Polyolefin wie ein Polypropylen, auf einem Film ausgebildet ist.

Bezüglich der magnetischen Aufzeichnungsmedien gab es ein zu nehmendes Verlangen für das Aufzeichnen der Signale mit höhe rer Dichte. Um diesen Forderungen zu begegnen, werden Verbes serungen in der magnetischen Schicht benötigt, einschließlich der höheren Dichte des magnetischen Materials in der magneti schen Schicht, einer Zunahme der Koerzitivkräfte, des Ver schiebens der Frequenzcharakteristik hin zur Seite der kurzen Wellenlängen und der Herstellung eines dünnen Films für die magnetische Schicht.

In dem Fall jedoch, in dem die magnetische Schicht auf der Substratoberfläche durch das Aufbringen darauf gebildet wird, verbleibt im Prinzip ein Klebstoff in der magnetischen Schicht, so daß es extrem schwierig ist, die verschiedenen Bedingungen zu befriedigen, die benötigt werden für das vor erwähnte Aufzeichnen höherer Dichte.

Um diese Probleme zu überwinden, wurden Verfahren zur Her stellung von magnetischen Aufzeichnungsmedien durch Bedamp fungsprozesse, einschließlich Vakuumbedampfung, Sputtern, Io nenplattieren und dergleichen, vorgeschlagen.

Die Herstellung von magnetischen Aufzeichnungsmaterialien durch Vakuumbedampfung wird durch die Verwendung einer Vaku umbedampfungsvorrichtung durchgeführt, die ausgelegt ist wie in der Fig. 5 dargestellt. Es sei angemerkt, daß die Fig. 5 eine schematische perspektivische Ansicht ist, die nur einen Teil der Vakuumbedampfungsvorrichtung darstellt. Eine Vakuum bedampfungsvorrichtung 1 umfaßt eine zylindrische Hauptkühl walze 2, die drehbar in einem nicht dargestellten Vakuumbe hälter angeordnet ist; Passierwalzen 4, 5 zum Transportieren einer filmartigen Basis 3 in einen Zustand, in dem die Basis 3 um die periphere Oberfläche der Hauptkühlwalze 2 gewunden ist; eine Schmelzpfanne 7, die ein magnetisches Material 6 aufnimmt und die an der unteren Seite der Hauptkühlwalze 2 angeordnet ist; eine Elektronenkanone 8 zum Heizen und Evapo rieren des magnetischen Materials 6 durch Bestrahlen des ma gnetischen Materials 6 mit einem Elektronenstrahl; eine Kon densathaube 9, um das evaporierte magnetische Material am An haften an anderen Objekte als der Film zu hindern; eine Maske 10 zum Begrenzen eines Evaporationsgebiets des magnetischen Materials 6, usw.

Zusätzlich wird das Innere des Vakuumbehälters auf beispiels weise 1.0×10^-4 [Torr] durch eine Vakuumpumpe gehalten. Zu sätzlich ist die Vorrichtung so ausgelegt, daß die Basis 3 von einer nicht dargestellten Zuführwalze zu der Passierwalze 4 geführt wird, um die äußere Oberfläche der Kühlwalze 2 ge wunden wird, und auf eine nicht dargestellte Aufnahmewalze mittels der Paßwalze 5 aufgenommen wird.

Eine Öffnung 10a und ein Blendenmechanismus sind in der Maske 10 in einer Position gegenüber der peripheren Oberfläche der Hauptkühlwalze 2 angeordnet, um es so zu ermöglichen, daß beide Enden der Basis 3 abgeschirmt werden, und daß die Eva porationsfläche begrenzt wird, wie es benötigt wird, wenn das magnetische Material 6 aufgedampft wird.

Als nächstes wird eine Beschreibung eines Verfahrens zur Her stellung eines magnetischen Aufnahmemediums unter Verwendung der obenbeschriebenen Vorrichtung 1 gegeben. Die Zuführwalze wird angetrieben, um die Basis 3 auszugeben, und die Haupt kühlwalze 2 wird in der Richtung des Pfeiles A in einen Zu stand gedreht, in dem die Hauptkühlwalze 2 auf beispielsweise ungefähr -30°C gekühlt wird.

Zur gleichen Zeit wird das magnetische Material 6 evaporiert, indem es durch einen Elektronenstrahl von der Elektronenka none 8 erhitzt wird, und den evaporierten Partikeln (magnetisches Material) wird ermöglicht, kontinuierlich auf der Oberfläche der Basis 3 aufgedampft zu werden, die an der Öffnung 10a exponiert ist. In dieser Weise wird das magneti sche Material 6 auf der Oberfläche der Basis 3 aufgedampft, und die bedampfte Basis 3 wird auf die Aufnahmewalze mittels der Passierwalze 5 aufgenommen.

Verglichen mit den magnetischen Aufzeichnungsmedien, die durch Beschichtung mit dem magnetischen Material hergestellt werden, schafft das so hergestellte magnetische Aufzeichnungsmedium einen bemerkenswert großen Reproduktionsausgangssignal dar und die Frequenzcharakteristik beim magnetischen Auf zeichnen erstreckt sich zu der kurzwellenlängeren Seite hin. Daher ist das magnetische Aufzeichnungsmedium diesen Typs als ein hochdichtes magnetisches Aufzeichnungsmedium verwendbar.

Die Vakuumbedampfung auf der Basis 3 wird kontinuierlich hin sichtlich einer Basis durchgeführt, die eine Länge von mehre ren tausend Metern hat. Falls eine kontinuierliche Bedampfung bezüglich einer derart ausgedehnten Basis durchgeführt wird, haftet der Überrest der evaporierten Partikel in einem großen Volumen auf dem Blendenmechanismus einschließlich der Maske 10 und auf den internen Wänden der Kondensathaube 9. Wenn die Menge des anhaftenden Rückstandes groß wird, kommen Probleme auf wie das Abschälen der Rückstände von den inneren Wänden, die Beeinträchtigung der Beschränkung des vorerwähnten Evapo rationsgebiets und die Absorption von Gaskomponenten in der atmosphärischen Luft. Aus diesem Grund ist es notwendig, die Rückstände für jeden Bedampfungsvorgang zu entfernen oder die Glieder mit neuen zu ersetzen.

Konventionellerweise wird die Entfernung der Rückstände ma nuell unter Verwendung einer Bohrvorrichtung durchgeführt. Da der Rückstand jedoch fest auf den Gliedern haftet, ist es notwendig, ihn abzubrechen oder abzukratzen, so daß der Rei nigungsvorgang lästig ist und viel Arbeit benötigt. Obwohl sorgfältiges Reinigen von dem Rückstand die Stabilisierung der Qualität des magnetischen Aufzeichnungsmediums garan tiert, verlängert der große Zeitaufwand des Reinigungsvor gangs nachteilig den Zyklus des Bedampfungsverfahrens, was in einer wesentlichen Abnahme der Produktivität resultiert.

Weiterhin wurde bis dato das meiste der entfernten Rückstände weggeworfen. Da die Glieder, auf die der Rückstand haftet, normalerweise mittels der Kratzbohrvorrichtung beschädigt oder verkratzt werden, wenn der Rückstand wie im vorangegan genen beschrieben weggekratzt wird, umfaßt der entfernte Rückstand Unreinheiten wie die abgekratzten Teile der Glie der, die eine Behinderung zu der Zeit des Sammelns und Tren nens der Rückstände zur Wiederverwendung sind, und hat einen wesentlichen Faktor in der Abnahme der Verwertungseffizienz des magnetischen Materials gebildet.

ZUSAMMENFASSUNG DER ERFINDUNG

Es ist eine Aufgabe der vorliegenden Erfindung, ein Verfahren und eine Vorrichtung zum Reinigen eines Vakuumbedampfungsbe hälters zu schaffen, die fähig sind, effizient die Reinigung des Vakuumbedampfungsbehälters zum Vakuumbedampfen eines ma gnetischen Materials zu bewirken, das als ein magnetisches Aufzeichnungsmedium dient, und eine Verbesserung der Pro duktausbeute und Wiederverwendung des magnetischen Materials zu erzielen.

Die obige Aufgabe der vorliegenden Erfindung kann durch ein Verfahren des automatischen Reinigens eines Vakuumbedamp fungsbehälters erreicht werden, die dadurch gekennzeichnet ist, daß ein zu reinigendes Glied, auf dem eine evaporierte Substanz in einem Vakuumbedampfungsbehälter zum Vakuumbedamp fen eines magnetischen Materials anhaftet, mit einer Reini gungsflüssigkeit gereinigt wird, die unter hohem Druck inji ziert wird. Weiterhin kann die Aufgabe gleichfalls gelöst werden durch ein Verfahren des automatischen Reinigens eines Vakuumbedampfungsbehälters, dadurch gekennzeichnet, daß ein zu reinigendes Glied, auf dem eine evaporierte Substanz in einem Vakuumbedampfungsbehälter zum Vakuumbedampfen eines ma gnetischen Materials anhaftet, außerhalb des Vakuumbedamp fungsbehälters zu einem Reinigungsgebiet über eine feste hin ein- und hinaustransportierende Passage transportiert wird, nachdem das zu reinigende Glied mit einer Reinigungsflüssig keit gereinigt wird, die unter hohem Druck in die Reinigungs fläche injiziert wird, wird das zu reinigende Glied zu einem Trocknungsgebiet transferiert und getrocknet, und nachfolgend wird das zu reinigende Glied zu der hinein- und hinaustrans portierenden Passage zurückgebracht und wird in den Vakuumbe dampfungsbehälter eingebracht. Zusätzlich kann die obige Auf gabe durch ein Verfahren zum Reinigen eines Vakuumbedamp fungsbehälters gelöst werdend worin eine Vielzahl von Einhei ten als die zu reinigenden Glieder verwendet werden, wenn eine dieser Einheiten aus dem Vakuumbedampfungsbehälter her austransportiert wird, wird eine andere Einheit in den Vaku umbedampfungsbehälter eingesetzt, und ein Vakuumbedampfungs verfahren in dem Vakuumbedampfungsbehälter und ein Reini gungsprozeß werden gleichzeitig durchgeführt, sowohl durch ein Verfahren zum Reinigen eines Vakuumbedampfungsbehälters, in dem die durch die Reinigungsflüssigkeit in dem Reinigungs gebiet entfernte evaporierte Substanz von der Reinigungsflüs sigkeit getrennt und gesammelt wird.

Zusätzlich wird die obige Aufgabe der vorliegenden Erfindung durch eine Vorrichtung zur automatischen Reinigung eines Va kuumbedampfungsbehälters gelöst, gekennzeichnet durch das Aufweisen eines hinein- und hinaustransportierenden Mittels zum Hinein- und Hinaustransportieren eines zu reinigenden Gliedes in einem Vakuumbedampfungsbehälter zum Vakuumbedamp fen eines magnetischen Materials in das Innere und das Äußere des Vakuumbedampfungsbehälters; einen Reinigungsabschnitt zum Reinigen des hinausgebrachten, zu reinigenden Reinigungsglie des mit einer Reinigungsflüssigkeit, die unter hohem Druck injiziert wird; und einem Trocknungsabschnitt zum Trocknen des zu reinigenden Gliedes, das in dem Reinigungsabschnitt gereinigt wurde; worin das hinein- und hinaustransportierende Mittel ausgelegt ist in der Lage zu sein sich aufeinanderfol gend von dem Reinigungsabschnitt zu dem Vakuumbedampfungsbe hälter über dem Trocknungsabschnitt zu bewegen und die Vor gänge, einschließlich des Entfernens des zu reinigenden Glie des, der Reinigung, der Trocknung und dessen Einsetzung, ent lang einer festen Bewegungspassage durchgeführt werden.

Weiterhin kann die obige Aufgabe durch eine Vorrichtung zum automatischen Reinigen eines Vakuumbedampfungsbehälters er zielt werden, der dadurch gekennzeichnet ist, daß ein beweg licher Öffnungs/Verschlußabschnitt in einer Wandoberfläche des Vakuumbedampfungsbehälters zum Vakuumbedampfen eines magneti schen Materials vorgesehen ist, daß eine Reinigungseinrich tung zum Injizieren einer Reinigungsflüssigkeit, die unter hohem Druck injiziert wird, beweglich entlang einer Bewe gungspassage angeordnet ist und die in der Lage ist, in den Vakuumbehälter durch den Öffnungs/Verschlußabschnitt zu ge langen, und daß ein zu reinigendes Glied, wie es in den Vaku umablagerungsbehälter eingesetzt ist, durch das Reinigungs mittel gereinigt wird.

KURZE BESCHREIBUNG DER ZEICHNUNGEN

Fig. 1 ist eine perspektivische Ansicht von wichtigen Ab schnitten einer Vakuumbedampfungsvorrichtung, die eine Aus führungsform der vorliegenden Erfindung illustriert;

Fig. 2 ist ein schematisches Diagramm der Vakuumbedampfungs vorrichtung und einer Reinigungsvorrichtung;

Fig. 3 ist eine perspektivische Ansicht, die eine Struktur einer Vorrichtung zum Sammeln der Rückstände in dem in der Fig. 1 dargestellten Vorrichtung darstellt;

Fig. 4 ist ein schematisches Diagramm einer filmbildenden Sputtervorrichtung;

Fig. 5 ist eine perspektivische Ansicht von wesentlichen Ab schnitten einer konventionellen Vakuumbedampfungsvorrichtung; und

Fig. 6 ist eine schematische Darstellung, die einen Einfalls winkel des Reinigungswassers bezüglich des zu reinigenden Ob jektes zeigt.

BESCHREIBUNG DER BEVORZUGTEN AUSFÜHRUNGSFORMEN

Bezugnehmend nun auf die Fig. 1 und 2 wird eine Beschrei bung einer Ausführungsform der vorliegenden Erfindung gege ben. Fig. 1 ist eine perspektivische Ansicht von wichtigen Abschnitten, die einen Vakuumbedampfungsbehälter, d. h. eine Vorrichtung zum Herstellen eines magnetischen Aufzeichnungs mediums, und eine automatische Reinigungsvorrichtung zeigen. Fig. 2 ist ein schematisches Diagramm, das die automatischen Reinigungs- und Trocknungsprozesse darstellt. Es sollte ange merkt werden, daß, wie für verschiedene Glieder in dem Vaku umbedampfungsbehälter, diejenigen Glieder, die die gleiche Operation wie diejenigen in dem konventionellen Beispiel durchführen, durch die gleichen Bezugszeichen bezeichnet wer den und deren Beschreibung ausgelassen wird.

Die automatische Reinigungsvorrichtung dieser Ausführungsform ist eine Vorrichtung, die gegenüber einer Vakuumbedampfungs vorrichtung 1 angeordnet ist, die versehen ist mit verschie denen Gliedern in einem Vakuumbedampfungsbehälter 1a zum Va kuumbedampfen eines magnetischen Materials. In den Bezeich nungen seiner Konfiguration umfaßt die automatische Reini gungsvorrichtung aus Schienen 24, die als ein hinein- und hinaustransportierendes Mittel zum Hinausbringen einer Kon densathaube 9, einer Maske 10 und dergleichen, die in der vorliegenden Erfindung als zu reinigende Glieder bezeichnet werden, nach außerhalb des Vakuumbedampfungsbehälters 1a durch ein Tor 11, d. h. einen Öffnungs/Verschlußabschnitt, und um sie hineinzubringen dient; eine Reinigungsvorrichtung 21, die einen Reinigungsabschnitt zum Reinigen der ausgebrachten Kon densathaube 9 und dergleichen mit einer Reinigungsflüssig keit; und Schienen 34 in der Form eines Kreises zum Transpor tieren der Kondensathaube 9 und dergleichen, die durch die Reinigungsvorrichtung 21 gereinigt sind, zu einem Trocknungs abschnitt 50 und dann auf die Schienen 24. Durch die Verwen dung dieser Struktur kann eine Reihe von Operationen von der Zeit an, wenn die Kondensathaube 9 und dergleichen aus dem Vakuumbedampfungsbehälter 1a entfernt sind, bis sie wieder nach der Reinigung und Trocknung eingesetzt wird, schnell und effizient entlang einer festen Bewegungspassage durchgeführt werden, wie später beschrieben wird.

Die Reinigungsvorrichtung 21 umfaßt einen automatischen Rei nigungsroboter 22 (im folgenden einfach als der Roboter be zeichnet), Schienen 23 zum Transportieren des Roboters 22, ein Trenngehäuse 21a (sh. Fig. 2), um zu verhindern, daß sich die Reinigungsflüssigkeit (in dieser Ausführungsform wird Wasser verwendet) und der Rückstand usw. verteilt. Die Schie nen 24 verlaufen in geeigneter Weise so, um die Kondensat haube 9 zu einer vorbestimmten Position der Reinigungsvor richtung 21 zu transportieren.

Der Roboter 22 besteht aus einem Wagen 25 zum Bewegen auf den Schienen 23, eine drehbar auf dem Wagen 25 angeordnete Basis 26, einem drehbaren Arm 27, der drehbar auf der Basis 26 an geordnet ist, einem Hebearm 28, der mittels eines Faltungsab schnittes 27a drehbar ist, einer Injektionsdüse 29, die dreh bar an einem entfernten Ende des Hebearmes 28 angeordnet ist, und einem Rohr 30 zur Zuführung des Wassers zu der Injekti onsdüse 29.

Zusätzlich sind in dieser Ausführungsform Räder 13 (siehe Fig. 3) entsprechend den Schienen 24 und 25 geeignet auf der unteren Oberfläche der Kondensierhaube 9 angeordnet. Die Schienen 24 erstrecken sich in den Vakuumbedampfungsbehälter 1a hinein, so daß die Kondensathaube 9 aus dem Vakuumbedamp fungsbehälter entfernt und hineingebracht werden kann, da die Kondensathaube 9 sich auf den Schienen 24 bewegt. Es sollte angemerkt werden, daß die Abschnitte der Schienen 24, die in dem Weg der Bewegung des Tores 11 sind, abgeschnitten sind, so daß das Tor 11 des Vakuumbedampfungsbehälters 1a geöffnet und geschlossen werden kann.

Als nächstes wird, bezugnehmend auf die Fig. 1, 2 und 3, eine Beschreibung eines Verfahrens zur Reinigung der obenbe schriebenen Vorrichtung gegeben, nachdem ein magnetisches Ma terial 6 auf der Basis 3 aufgedampft worden ist.

Die Bedampfung des magnetischen Materials 6 auf der Basis 3 wird in der gleichen Weise wie in dem konventionellen Bei spiel durchgeführt, das unter Bezugnahme auf die Fig. 4 er klärt wurde. Nach der Bedampfung geht der Vorgang über zu dem Reinigen der Kondensathaube 9 und der Maske 10. Es sollte an gemerkt werden, daß die Kondensathaube 9 von dem Vakuumbehäl ter abnehmbar ist, während sie auf den Schienen 24 bewegt wird, wie im vorangegangenen beschrieben. Gegenüberliegende Endteile 10b der Maske 10 sind an einen Abschnitt des drehba ren Zentrums der Walze angebracht, und die Maske 10 kann von dem Vakuumbehälter entfernt werden, indem diese gegenüberlie genden Endteile 10b wie benötigt teilbar ausgeführt sind. Die Maske 10 wird, nachdem sie entfernt wurde, auf beispielsweise einem Wagen plaziert, der in der Lage ist, auf den Schienen zu fahren. Obwohl die Maske 10 und die Kondensathaube 9 gleichzeitig gereinigt werden, zeigt die Fig. 1 nur die Kon densathaube 9 aus Vereinfachungsgründen der Darstellung.

Nach der Beendigung einer langen Periode der Bedampfung des magnetischen Materials 6 auf die Basis 3, haftet eine große Menge von evaporierten Atomen an der Kondensathaube 9 und der Maske 10. Um diese anhaftenden evaporierten Atome zu entfer nen, wird zuerst das Tor 11 geöffnet und die Kondensathaube 9 und die Maske 10 werden entlang der Schienen 24 bewegt. Es sollte angemerkt werden, daß es möglich ist, entweder die Vorrichtung auszuwählen, in der Räder bereitgestellt werden (es gibt Fälle, in denen die relevanten Glieder selbstbewe gend sein können oder von einem anderen Mittel bewegt wer den), wie in dem Falle der Kondensathaube 9, oder eine Anord nung auszuwählen, in der die Glieder transportiert werden, indem sie auf einen selbstbewegenden Wagen angeordnet werden. Die Kondensathaube 9 und die Maske 10 werden weiter bewegt auf den Schienen 24 zu einer Reinigungsposition, d. h. einer Kreuzungsposition mit den Schienen 23.

Nachdem dieses Hinausbefördern durchgeführt ist, werden eine andere Kondensathaube 9 und eine Maske 10, für die das Reini gen ihres Inneren bereits durchgeführt wurde und die auf den Schienen 34 bei einer Warteposition B warteten, um in den Va kuumbehälter hineingebracht und eingesetzt, so daß ein Still stand in einem erfolgenden Bedampfungsverfahren nicht auftre ten wird. Zu dieser Zeit wird der Transfer von den Schienen 34 auf die Schienen 24 möglich, indem ein Transferabschnitt 44a vertikal bewegt und gedreht wird, so daß die Schienen in dem Transferabschnitt 24a mit beiden Schienen 24 und 34 aus gerichtet werden.

Auf der Seite der Vakuumbedampfungsvorrichtung 1 wird nach dem Durchführen der Vorbereitungen einschließlich dem Aufwickeln der Basis 3 zur Bedampfung und der Wiederauffül lung des magnetischen Materials 6, das Tor 11 geschlossen, und das Innere des Vakuumbehälters wird evakuiert, bevor mit einem erfolgenden Vakuumbedampfungsprozeß fortgefahren wird.

In der Zwischenzeit werden die hinausbeförderten Kondensat haube 9 und dergleichen durch den Roboter 21 gereinigt, der an der Reinigungsposition gewartet hat. Das Reinigen wird durch das Injizieren des Reinigungswassers unter hohem Druck durch geführt, das aus dem Rohr 30 der Düse 29 zugeführt wird. Da der Roboter 21 als ein sogenannter Gelenkroboter durch den drehbaren Arm 27 und den Hebearm 28 ausgelegt ist kann die Richtung der Düse 29, d. h. die Richtung der Hochdruckinjek tion des Reinigungswassers, beliebig geändert werden. Daher können die gesamten innenwandoberflächen, einschließlich je der Ecke, der Kondensathaube 9 und dergleichen gereinigt wer den.

Während dieser Reinigung können die vorerwähnten Rückstände komplett entfernt werden, ohne daß die Wandoberflächen der Kondensathaube 9 verkratzt werden, indem Gebrauch gemacht wird vom der Druck der Hochdruckinjektion des Reinigungswas sers.

Zusätzlich sind die Injektionsrichtung und dergleichen des Roboters 21 in Übereinstimmung mit der Form und dergleichen der zu reinigenden Objekte programmiert, und das automatische Reinigen wird in Übereinstimmung mit diesem Programm durchge führt.

Bei dieser Reinigung hängt der Aufprall der Injektion des von der Düse 29 injizierten Reinigungswassers von dem Druck und der Flußrate dieses Reinigungswassers ab. Als ein Ergebnis einer Durchführung eines Tests der Entfernung der Rückstände, wurde gefunden, daß der Effekt des Entfernens der Rückstände befriedigend war, wenn der Druck des Reinigungswassers im Be reich von 100 bis 5000 kgf/cm² war unter Verwendung einer Hochdrucktauchkolbenpumpe bei einer Ausstoßrate von 5 Liter/min bis 400 Liter/min.

Wie in der Fig. 6 dargestellt, kann der Reinigungseffekt ver bessert werden, falls ein Einfallswinkel q des Reinigungswas sers Wf hinsichtlich des zu reinigenden Objektes 9 in dem Be reich von 45° bis 90° zwischen der Richtung der Düse 29 und der Reinigungsoberfläche des zu reinigenden Objektes 9 einge stellt ist, vorzugsweise in dem Bereich von 75° bis 90° zur Erzielung besserer Ergebnisse.

Der von der Hochdruckinjektion des Reinigungswassers ent fernte Rückstand (magnetisches Material) fließt zusammen mit dem Reinigungswasser abwärts in den Trennbehälter 21a. Mitten in diesem Fluß wird der Rückstand durch ein Trennglied 52 in der Form eines Filters oder eines Siebes gefiltert und in dem Sammelabschnitt 54 gesammelt. In der Zwischenzeit wird das Reinigungswasser von einem Abzugstor 53 abgezogen, das an ei nem unteren Abschnitt des Trenngehäuses 21a angebracht ist. Für den so gefilterten Rückstand ist seine Reinheit im we sentlichen die gleiche wie diejenige des Originalmaterials, da nichts anderes als das Reinigungswasser in ihm gemischt ist. Daher kann das Material sehr einfach reproduziert wer den, um so wiederverwendet zu werden.

Die Kondensathaube 9 und dergleichen werden nach dem Reinigen auf den Schienen 34 bewegt. Dieser Transfervorgang kann von einem Transferabschnitt 24b durchgeführt werden, der in der Lage ist, sich vertikal und drehend in derselben Weise wie in dem vorerwähnten Transferabschnitt 24a zu bewegen.

Die Kondensathaube 9 und dergleichen, die auf den Schienen 34 bewegt werden, werden zu dem Trocknungsabschnitt 50 bewegt, um getrocknet zu werden, und werden weiter zu der Warteposi tion B bewegt, wo sie in der Wartestellung für einen folgen den Austausch verbleiben. Obwohl die Struktur des Trocknungs abschnittes 50 nicht speziell begrenzt ist, ist es möglich, falls benötigt, eine Struktur zu verwenden, in der beispiels weise eine Haube 41 verwendet wird, die in der Lage ist, die Kondensathaube 9 und dergleichen, d. h. die zu trocknenden Ob jekte zu umschließen, und die Kondensathaube 9 und derglei chen durch das Einblasen von trocknender warmer Luft in die Haube 51 getrocknet wird.

Daher werden die Bedampfung des magnetischen Materials 6 auf der Basis 3 und das Reinigen von dem Rückstand der evaporier ten Atome, die auf der Kondensathaube 9, der Maske 10 und dergleichen anhaften, simultan durchgeführt, und die gerei nigte Kondensathaube 9 und die Maske 10 werden auf eine War teposition für eine nachfolgende Bedampfung gebracht. Daher wird der Prozeß der Dampfevaporation des magnetischen Mate riales 6 auf die Basis 3 nicht durch die Betriebszeit des Reinigungsprozesses beeinträchtigt, so daß der Vorgang sehr effizient ausgeführt wird.

Obwohl in der obenbeschriebenen Ausführungsform die zu reini genden Glieder aus dem Vakuumbehälter entfernt werden, um gereinigt zu werden, ist die vorliegende Erfindung nicht dar auf eingegrenzt. Das Tor 11, das geöffnet und geschlossen werden kann, ist in einer Wandoberfläche des Vakuumbedamp fungsbehälters 1a vorgesehen, und der Reinigungsroboter 22, d. h. ein Reinigungsmittel zum Injizieren einer Reinigungs flüssigkeit unter hohem Druck, ist entlang einer Bewegungs passage beweglich, die aus den Schienen 23, dem Transferab schnitt 24b und den Schienen 24 (die Schienen 24 und die Schienen 23 sind mit derselben Weite konstruiert), besteht, und ist so angeordnet, um in der Lage zu sein, in den Vakuum behälter durch das Tor 11 hineinzugelangen. Daher können die zu reinigenden Glieder, wie die Kondensathaube 9 und die Maske 10, von dem Reinigungsroboter 22 gereinigt werden, wie sie innerhalb des Vakuumbedampfungsbehälters 1a eingesetzt sind.

Die vorliegende Erfindung ist nicht auf die obenbeschriebene Ausführungsform begrenzt und verschiedene Modifikationen sind möglich. Beispielsweise werden, falls das transportierende System für die zu reinigenden Glieder so angeordnet ist, daß die zu reinigenden Glieder auf einer spezifischen Passage mittels eines selbstangetriebenen Wagens anstelle der Schie nenstruktur bewegt wird, die Strukturen der Transferab schnitte 24a und 24b in der obenbeschriebenen Ausführungsform nicht benötigt. Zusätzlich ist es möglich, eine Anordnung an zupassen, in der die zu reinigenden Glieder von oben aufge hängt sind. Ferner kann durch das Ausbilden der Kondensat haube und der Maske in einer einstückigen Struktur, das Ein setzen und Entfernen der zu reinigenden Glieder sehr schnell vorgenommen werden.

Das Reinigungsverfahren gemäß der vorliegenden Erfindung ist nicht nur für das Reinigen der obenbeschriebenen Vakuumbe dampfungsvorrichtung 1 einsetzbar, sondern kann auf andere vakuumfilmbildende Vorrichtungen angewendet werden, bei spielsweise Sputter-Vorrichtungen, ionenplattierende Vorrich tungen, CVD-Vorrichtungen und Ätzvorrichtungen.

Wie im vorangegangenen beschrieben, werden in dem Verfahren und der Vorrichtung zum Reinigen eines Vakuumbedampfungsbe hälters gemäß der vorliegenden Erfindung, wenn das magne tische Material auf die Basis in dem Vakuumbedampfungsbehäl ter aufgedampft ist, zur Entfernung des Rückstands der evapo rierten Atome, die von dem magnetischen Material evaporiert sind und unerwünscht auf die den Vakuumbedampfungsbehälter bildenden Glieder anhaften, die Glieder von dem Vakuumbedamp fungsbehälter getrennt und zu einer Reinigungsposition nach der Beendigung des Bedampfungsvorganges auf die Basis trans portiert. Dann, nachdem das Reinigen an der Reinigungsposi tion durch ein Reinigungsmittel vorgenommen wurde, das ange ordnet ist, die Reinigungsrichtung, Druck und dergleichen frei zu steuern, wird es den Gliedern ermöglicht, an einer Warteposition zu warten. Daher, da der auf den Vakuumbedamp fungsbehälter bildenden Gliedern anhaftende Rückstand durch die Hochdruckinjektion des Reinigungswassers durch die Bedie nung eines Roboters fortgewaschen ist, ist die Sicherheit hoch und die Betriebseffizienz erhöht sich im Vergleich mit dem manuellen Reinigen. Ferner, da die Reinigungs-und Bedamp fungsvorgänge in der Form eines simultanen Fortschreitens durchgeführt werden können, kann die Produktivität verbessert werden. Zusätzlich, da gemäß der vorliegenden Erfindung eine Bohrvorrichtung zum Fortkratzen nicht verwendet wird, werden die Oberflächen der Glieder nicht beschädigt oder verkratzt, und da Unreinheiten nicht dem Reinigungswasser nach dem Ent fernen des Rückstandes beigemischt sind, ist es möglich, den Rückstand durch Filtern des Reinigungswassers mit dem Rück stand zu trennen, um so den Rückstand wiederzuverwenden.

[Beispiel 1]

Die vorliegende Erfindung wird klarer durch das Angeben der folgenden Beispiele beschrieben werden.

Die in der Fig. 1 beschriebene Vakuumbedampfungsvorrichtung wurde verwendet, und Co₈₀Ni₂₀ wurde als das magnetische Mate rial 6 verwendet und durch die Elektronenkanone 8 erhitzt, um eine Evaporation zu verursachen, wodurch ein dünner Film mit einer Dicke von 180 nm auf der Basis 3 mit einer ge samten Länge von 3000 m erzeugt wurde.

Der Blendenmechanismus einschließlich der Maske 10 war aus einem rostfreiem Material hergestellt und war so struktu riert, daß es einem Kühlwasser möglich war in seinem Inneren zu passieren. Zusätzlich waren die Kondensathaube 9 und eine Aufdampfungsverhinderungsplatte von nicht dargestellten inne ren Wänden aus einem Kupfermaterial gebildet und waren so strukturiert, daß es einem Kühlwasser möglich war, in ihrem Inneren zu verlaufen.

Nachdem die Bedampfung durchgeführt war bezüglich der Basis 3, haftete der Rückstand des Kobaltnickelmetalls mit einer Dicke von 2 bis 4 mm auf der inneren Wandoberfläche des Blen denmechanismus einschließlich der Maske an, und der Rückstand mit einer Dicke von 5 bis 10 mm haftete auf der inneren Wand oberfläche der Kondensathaube 9.

Es ist schwierig, die nächste Versuchsherstellung mit diesen anhaftenden Rückständen wie sie sind durchzuführen. Der Grund ist, daß der vorerwähnte metallische Rückstand in der Form eines Klumpens abgeschält wird und in die Schmelzpfanne 7 fällt. Zusätzlich verändert der an der Maske 10 und derglei chen anhaftende metallische Rückstand die Form des das Evapo rationsgebiet begrenzenden Abschnittes, mit dem Ergebnis, daß die evaporierten Atome nicht gleichmäßig auf einer gewünsch ten Position an der Basis 3 aufgedampft werden, was es unmög lich macht, die gewünschten magnetischen Charakteristiken zu erhalten. Ferner bildet das ungenügende Entfernen des Rück standes einen Faktor, der die magnetischen Charakteristiken pro Durchgang aufgrund des Effektes der Absorption von Feuch tigkeit und dergleichen verändert, die in der Luft enthalten ist.

Daher werden zur Entfernung des metallischen Rückstands die Kondensathaube 9, die Maske 10 und dergleichen aus dem Vaku umbehälter entfernt und werden von dem Reinigungsroboter 21, wie im vorangegangenen beschrieben, gereinigt.

In diesem Reinigen wurde ein Test hinsichtlich der Entfernung des metallischen Rückstandes durchgeführt, wobei der Injekti onsaufprall des Reinigungswassers verwendet wird, der aus der Düse 29 hervorströmt. Hinsichtlich des Reinigungswassers wurde der Test durch das Einordnen des Druckes in den Bereich von 100 bis 1000 kgf/cm² und den Bereich von 1500 bis 5000 kgf/cm² unter Verwendung einer Hochdrucktauchkolbenpumpe durchgeführt.

Hinsichtlich der Ergebnisse der Reinigung wurde der Fall, in dem visuell festgestellt wurde, daß 90% oder mehr des Gebie tes des Materialgliedes in einem Gebiet von 200 mm×200 mm exponiert war, bewertet als , der Fall, wo 90% oder mehr des Gleichen exponiert war, wurde als O bewertet, der Fall, in dem 50% oder mehr des Gleichen exponiert war, wurde als Δ bewertet, und der Fall, in dem weniger als 50% dessel ben exponiert war, wurde als × bewertet. Es sei bemerkt, daß die Einstellparameter umfassen (1) Ausflußdruck (2), Ausfluß flußrate (3), Form der Düse (4), Entfernung zwischen dem zu reinigenden Objekt und der Düse 29; (5) die Bewegungsge schwindigkeit der Düse 29 und (6) den Einfallswinkel des Rei nigungswassers auf die zu reinigende Oberfläche.

Um die Entfernung zwischen der Düse 29 und dem zu reinigenden Objekt, wie beispielsweise der Kondensathaube 9, die Bewe gungsgeschwindigkeit der Düse 29 und den Einfallswinkel des Reinigungswassers auf das zu reinigende Objekt zu untersu chen, wurde zuerst der zuvorerwähnte Test bei einem Ausfluß druck von 500 kgf/cm² und eine Ausflußflußrate von 40 Liter/min unter Verwendung einer fächerförmigen Düse durchge führt.

Daher war es möglich, die Entfernung zwischen dem zu reini genden Objekt und der Düse auf 150 mm zu setzen, die Bewe gungsgeschwindigkeit der Düse 29 in den Bereich von 50 bis 100 mm/sec, den Einfallswinkel q des Reinigungswassers Wf be züglich des zu reinigenden Objektes 9, dargestellt in Fig. 6, in den Bereich von 45° bis 90° zwischen der Richtung der Düse 29 und der Reinigungsoberfläche des zu reinigenden Objektes 9 einzustellen, vorzugsweise in den Bereich von 75° bis 90°.

Danach wurde eine sich geradlinig vorbewegende Düse und die fächerförmige Düse als die Düse 29 unter den obenbeschriebe nen Bedingungen verglichen. Daher stellte es sich heraus, daß die Fähigkeit den metallischen Rückstand abzublättern im we sentlichen die gleiche war bei den zwei Arten von Düsen, und daß die fächerartige Düse vorteilhaft ist durch den Ab schnitt, in dem ihre Reinigungsbreite groß ist.

Unter Verwendung der obigen Einstellungen als grundlegende Bedingungen wurden die Experimente 1, 2 und 3, die später be schrieben werden, durchgeführt hinsichtlich des Ausflußdrucks und der Ausflußflußrate. Beim Durchführen der Experimente wurde die fächerartig geformte Düse als die Düse 29 verwen det, die Entfernung zwischen dem zu reinigenden Objekt und der Düse 29 war auf 150 mm gesetzt, die Bewegungsgeschwindig keit der Düse 29 war auf 100 mm/sek gesetzt und der Einfalls winkel des Reinigungswasser hinsichtlich des zu reinigenden Objektes war auf 90° gesetzt.

Um eine Beschreibung des Experimentes 1 zu geben, in einem Fall, in dem die Ausflußflußrate auf 40 Liter/min gesetzt war, und der Ausflußdruck in dem Bereich von 50 bis 1000 kgf/cm² variiert wurde, wurden die in der Tabelle 1 darge stellten Resultate des Experimentes erhalten.

Tabelle 1
Experiment 1; Flußrate: 40 [Liter/min]
Ausflußdruck (kgf/cm²)
Reinigungseffekt
50
×
100	Δ
300	○
500
700
1000

Danach, um eine Beschreibung des Experimentes 2 zu geben, wurde die Ausflußflußrate auf 12 Liter/min gesetzt, der Aus flußdruck wurde in den Bereich von 1500 bis 5000 kgf/cm² va riiert, und es wurden die in der Tabelle 2 gezeigten Resul tate des Experimentes erhalten.

Tabelle 2
Experiment 2; Flußrate: 12 [Liter/min]
Ausflußdruck (kgf/cm²)
Reinigungseffekt
1500

2000
3000	○
5000	Δ

Als ein Ergebnis des Durchführens der Experimente 1 und 2 wurde der Reinigungseffekt unter dem Ausflußdruck von 100 bis 5000 kgf/cm² festgestellt und es stellte sich heraus, daß der Bereich von 500 bis 1000 kgf/cm² bevorzugt ist. Zusätzlich wurde es ebenfalls klar, daß falls der Ausflußdruck außerhalb eines Bereiches ist, der 1500 kgf/cm² übersteigt, wird der Abblätterungseffekt hoch, aber die abgeblätterten Abschnitte sind linear, so daß es Zeit benötigt, die gesamte Fläche zu reinigen, wodurch ein Problem beim praktischen Gebrauch auf taucht.

Weiterhin stellte es sich ebenfalls heraus, daß falls der Druck 3000 kfg/cm² erreicht, die Situation so wird, daß die Glieder selbst abgetragen wurden, so daß dann das Risiko auf tritt, daß abgetragene Abschnitte der Glieder als Unreinhei ten eingemischt wird. In diesem Falle sind die so gemischten abgetragenen Abschnitte der Glieder verantwortlich, eine Be hinderung für die Wiederverwendung des metallischen Rückstan des zu verursachen.

Danach, um eine Beschreibung des Experiments 3 zu geben, wurde der Ausflußdruck auf 500 kgf/cm² gesetzt, die Ausfluß flußrate wurde in den Bereich von 5 bis 400 Liter/min vari iert und die anderen Zustände wurden in der gleichen Weise wie in den obigen Experimenten 1 und 2 eingestellt. Die Ta belle zeigt die Ergebnisses des Experiments 3.

Tabelle 3
Experiment 3; Ausflußdruck: 500 [kgf/cm²]
Ausflußrate (l/min)
Reinigungseffekt
5
×
10	Δ
20	○
40
100
200
400

Entsprechend den Ergebnissen des Experiments wurde ein bemer kenswerter Reinigungseffekt in dem Falle festgestellt, in dem die Ausflußflußrate 10 Liter/min oder mehr war. Ferner stellte es sich heraus, daß der Bereich von 40 bis 100 Liter/min bevorzugt ist. Es wird betont, daß, selbst wenn die Ausflußflußrate auf 100 Liter/min oder mehr gesetzt war, kein klarer Unterschied in dem Reinigungseffekt bemerkt wurde. Da her, falls ökonomische Faktoren wie Abwasserbehandlungskapa zität in Betracht gezogen werden, ist der Bereich von 40 bis 100 Liter/min geeignet.

Zusätzlich, obwohl Unterschiede in dem Abblättereffekt be merkt wurden, die von den Abschnitten des zu reinigenden Ob jektes abhängen, auf das der metallische Rückstand anhaftet, stellte es sich heraus, daß es möglich ist, geeignet mit dem Problem umzugehen, indem die Reinigungszeit durch Wechsel der Bewegungsgeschwindigkeit der Düse 29 bei der praktischen An wendung eingestellt wurde.

Auf der Basis der obenbeschriebenen Ergebnisse der Experi mente 1 bis 3 wurde der Ausflußausgang auf 500 kgf/cm² ge setzt, die Ausflußflußrate wurde auf 40 Liter/min gesetzt, die fächerartige Düse wurde als die Düse 29 verwendet, die Entfernung zwischen dem zu reinigenden Objekt und der Düse 29 wurde auf 150 mm, die Bewegungsgeschwindigkeit der Düse 29 wurde auf 100 mm/sek gesetzt, der Einfallswinkel des Reini gungswassers bezüglich des zu reinigenden Objektes wurde auf 90° gesetzt und der metallische Rückstand, der auf den zu reinigenden Objekten anhaftete, beispielsweise der Kondensat haube 9 und der Maske 10, wurde unter Verwendung eines Auf pralls fortgewaschen, der von der Hochdruckinjektion des Rei nigungswassers stammt.

Als Ergebnis waren die zu reinigenden Objekte nach der Reini gung weit effektiver gereinigt als bei einer manuellen Reini gung, basierend auf dem Abbrech- oder Abkratzvorgang, wie er in dem Stand der Technik praktiziert wird, und die Reini gungszeit war auf ein Drittel zurückgegangen. Der von der Reinigung entfernte metallische Rückstand, wurde zusammen mit dem Reinigungswasser vorübergehend in dem Gehäuse aufgenommen und wurde nachfolgend durch die Separation durch einen Filter wiederverwendet, wodurch es möglich wurde, die Effizienz des Materialgebrauchs zu steigern. Die zu reinigenden Objekte wurden nach dem Reinigen mit warmer Luft getrocknet und wur den wieder in die obenbeschriebene Herstellungsvorrichtung 1 zur Herstellung des magnetischen Aufnahmemediums eingebaut.

Der obenbeschriebene Vorgang wurde wiederholt und als Ergeb nis der Auswertung der Reproduzierbarkeit der magnetischen Charakteristiken für jede Versuchsherstellung, verbesserte sich die Reproduzierbarkeit bemerkenswert im Vergleich mit den wiederholten Vorgängen des manuellen Reinigungsvorgangs, wie er in dem Stand der Technik praktiziert wurde, wobei es möglich war, wesentlich die Produktivität zu verbessern.

[Beispiel 2]

Das folgende ist ein Beispiel, in dem die in der Fig. 4 ge zeigte Vorrichtung verwendet wurde. Es sollte bemerkt werden, daß die Fig. 4 ein schematisches Diagramm einer film-bilden den Sputtervorrichtung ist und dieses Beispiel zeigt eine An wendung auf die filmbildende Sputtervorrichtung.

Zuerst wird eine Beschreibung der verschiedenen Komponenten gegeben. Die Referenzzeichen 31a und 31b bezeichnen ein ma gnetisches Material, und in diesem Beispiel wird Si₃N₄ ver wendet. Das Bezugszeichen 33 bezeichnet eine Vakuumkammer; 34 eine eine Palette drehende Vorrichtung; 35 ein Substrat, 36 eine Palette; 37 eine Platte zum Korrigieren der Verteilung der Filmdicke; 38 einen eine Palette drehenden Schaft; 39 eine Maske; 40 eine Sputterkathode; 41 eine Sputtergas ein leitende Düse; und 42 eine bedampfungsverhindernde Platte.

Es sollte bemerkt werden, daß die zu reinigenden Glieder in dieser Vorrichtung die Platte 37 zur Korrektur der Verteilung der Filmdicke, die Palette 36, die Maske 39 und die bedamp fungsverhindernde Platte 42 sind. Das Material der zu reini genden Glieder ist SUS 404.

In diesem Beispiel wird das magnetische Material wie im obi gen beschrieben eingestellt und ein Sputtern wird in einer Atmosphäre von Argongas durchgeführt, das von der Sputtergas einführenden Düse 41 eingeführt wird, um so einen Si₃N₄-Film auf dem Substrat 35 zu bilden.

Sowohl die Platte 37 zur Korrektur der Verteilung der Film dicke, um die Dicke des auf dem Plastiksubstrat 35 gebildeten Films gleichmäßig dick mit einer Dicke von 5 mm zu machen, als auch die Maske 39 zum Abschirmen eines peripheren Randes und eines zentralen Abschnittes des Plastiksubstrates 35 von der Filmbildung, sind innerhalb der Kammer 33 ausgebildet. Weiterhin ist die abdampfungsverhindernde Platte 42 an der Vorderoberfläche einer inneren Wandoberfläche der Kammer 33 in einer derartigen Weise angebracht, daß sie im wesentlichen die innere Wandoberfläche bedeckt.

Während der Filmbildung durch Sputtern wird der Si₃N₄-Film auf den Oberflächen der obenerwähnten anderen Glieder als das Plastiksubstrat 35 gebildet, wobei die Dicke graduell jedes mal zunimmt, wenn die Versuchsherstellung wiederholt wird, und der Film wird letztlich abgeblättert und fällt von den Oberflächen. Die abbröckelnde Substanz bildet einen Faktor der Defekte wie Stiftlöcher in dem film-bildenden Prozeß des magnetischen Aufnahmemediums verursacht, und es ist wün schenswert, diesen unerwünschten Film im Licht der Verbesse rung der Qualität und der Ausbeute zu entfernen.

Jedoch hat es keine grundlegende Lösung gegeben und die kon ventionelle Praxis war derart, daß nachdem der film-bildende Prozeß eine Anzahl mal wiederholt worden ist, wurden die Vor gänge des Entfernens und Ersetzens der obenerwähnten Glieder und des Entfernens der anheftenden Substanz mittels eines Sprengvorgangs oder dergleichen manuell durchgeführt. Aus diesem Grund nahmen die Kosten der Glieder zu und eine große Menge von Betriebszeit wurde benötigt.

Das Verfahren der vorliegenden Erfindung wurde auf die Expe rimente 4 und 5 angewendet, die im folgenden beschrieben wer den, und es war möglich, die obenbeschriebenen Nachteile zu überwinden.

In den Experimenten 4 und 5 wurde als die Düse 29 ein gerad linig vorwärtsbewegender Typ von Düse benutzt, die Entfernung zwischen dem zu reinigenden Objekt und der Düse war auf 100 mm eingestellt, die Bewegungsgeschwindigkeit der Düse 29 war auf 50 mm/sek eingestellt, und der Einfallswinkel des Reini gungswassers bezüglich des zu reinigenden Objektes war auf 90° eingestellt.

Zusätzlich, unter Berücksichtigung des Experimentes 4, wurde die Ausflußrate auf 20 Liter/min eingestellt und der Ausfluß druck wurde in dem Bereich von 50 bis 1000 kgf/cm² variiert. Unter Berücksichtigung des Experimentes 5 wurde die Ausfluß- Flußrate auf 12 Liter/min eingestellt, und der Ausflußdruck wurde in dem Bereich von 1500 bis 5000 kgf/cm² variiert.

Die folgenden Tabellen 4 und 5 zeigen die Ergebnisse der ent sprechenden Experimente 4 und 5.

Tabelle 4
Experiment 4; Flußrate: 20 [Liter/min]
Ausflußdruck (kgf/cm²)
Reinigungseffekt
50
×
100	×
300	×
500	×
700	Δ
1000	Δ

Tabelle 5
Experiment 5; Flußrate: 12 [Liter/min]
Ausflußdruck (kgf/cm²)
Reinigungseffekt
1500
○
2000
3000
5000

Entsprechend den Ergebnissen der Experimente wurde ein be merkbarer Reinigungseffekt unter der Bedingung bemerkt, unter der der Ausflußdruck in den Bereich von 700 bis 5000 kgf/cm² gesetzt wurde, und es stellte sich heraus, daß der Bereich von 1500 bis 5000 kgf/cm² bevorzugter ist.

Danach wurde das Experiment 6 durchgeführt, in dem der Aus flußdruck auf 2000 kgf/cm² gesetzt wurde, und indem die Aus fluß-Flußrate in dem Bereich von 5 bis 20 Liter/min variiert wurde. Besonders wurden die anderen Bedingungen des Experi ments in der gleichen Weise wie in den Experimenten 4 und 5 eingestellt. Die Ergebnisse des Experiments sind in der unte ren Tabelle 6 gezeigt.

Tabelle 6
Experiment 6; Ausflußdruck: 2000 [kgf/cm²]
Ausflußrate (l/min)
Reinigungseffekt
5
○
8
12
15
20

Gemäß den Ergebnissen des Experiments wurde ein bemerkbarer Reinigungseffekt in dem gesamten Bereich von 5 bis 20 Liter/min festgestellt, der als die Ausflußflußrate einge stellt war, und es stellte sich heraus, daß der Bereich von 8 bis 20 Liter/min bevorzugter ist. Weiterhin stellte es sich heraus, daß bezüglich des Abblätterns des Si₃N₄-Films das Einstellen des Ausflußdrucks wichtig ist.

Auf der Basis der Ergebnisse der Experimente 4 bis 6 wurde der Ausflußdruck auf 2000 kgf/cm² gesetzt, die Ausfluß-Fluß rate wurde auf 12 Liter/min gesetzt, die Düse vom sich gerad linig bewegenden Typ wurde als die Düse 29 verwendet, die Entfernung zwischen dem zu reinigenden Objekt und der Düse 29 wurde auf 100 mm, die Bewegungsgeschwindigkeit der Düse 29 wurde auf 50 mm/sek gesetzt, der Einfallswinkel des Reini gungswassers bezüglich des zu reinigenden Objektes wurde auf 90° gesetzt, und der auf der Maske 39, der Platte 37 zur Kor rektur der Verteilung der Filmdicke und der Ablagerungsver hinderungsplatte 42 anhaftende Si₃N₄-Film wurde durch den Einsatz eines Aufpralls hinweggewaschen, der von der Hoch druckwasserinjektion stammt.

Als ein Ergebnis wurde ein außergewöhnlicher Entfernungsef fekt demonstriert im Vergleich mit der Reinigung basierend auf den konventionellen Sprengverfahren, und es war möglich, die Reinigungszeit auf ein Viertel zu reduzieren.

Zusätzlich wurden die zu reinigenden, gereinigten Glieder mit warmer Luft unter Verwendung der Vorrichtung getrocknet, die eine Einsatzlinie zum Reinigen und Trocknen hat, dargestellt in der Fig. 2. Diese Glieder wurden in der obenbeschriebenen filmbildende Sputtervorrichtung für ein nachfolgendes film bildendes Verfahren durch Sputtern eingesetzt sowie für die Versuchsherstellung des Si₃N₄-Films.

Der obenbeschriebene Filmbildungsvorgang und der Reinigungs vorgang wurden wiederholt und das Auftreten von Defekten wie Stiftlöchern wurde für jede Versuchsherstellung ausgewertet. Als ein Ergebnis wurde die Produktivität um ungefähr 40% im Vergleich mit dem konventionellen Sprengvorgang, die Fälle des Auftretens von Stiftlöchern waren weniger, der magneti sche Film wurde sehr zufriedenstellend gebildet und es war möglich, wesentlich den Produktausstoß zu verbessern.

Claims

1. Verfahren zum automatischen Reinigen eines Vakuumbedamp fungsbehälters, dadurch gekennzeichnet, daß ein zu reinigen des Glied, an dem eine evaporierte Substanz in einem Vakuum bedampfungsbehälter zum Vakuumbedampfen eines magnetischen Materials anhaftet, mit einer Reinigungsflüssigkeit gereinigt wird, die unter hohem Druck injiziert wird.

2. Verfahren zum automatischen Reinigen eines Vakuumbedamp fungsbehälters, dadurch gekennzeichnet, daß ein zu reinigen des Glied, an dem eine evaporierte Substanz in einem Vakuum bedampfungsbehälter zum Vakuumbedampfen eines magnetischen Materials anhaftet, außerhalb des Vakuumbedampfungsbehälters zu einem Reinigungsgebiet über eine feste Ein laß/Auslaßpassage transportiert wird, daß, nachdem das zu reinigende Glied mit einer Reinigungsflüssigkeit gereinigt ist, die unter Hochdruck in das Reinigungsgebiet injiziert wird, das zu reinigende Glied zu einem Trocknungsgebiet transferiert wird und getrocknet wird, und daß das zu reini gende Glied nachfolgend zu der Einlaß/Auslaßpassage zurückge bracht wird und in den Vakuumbedampfungsbehälter eingesetzt wird.

3. Verfahren zum automatischen Reinigen eines Vakuumbedamp fungsbehälters nach Anspruch 1, worin eine Vielzahl von Ein heiten als die zu reinigenden Glieder verwendet werden, wenn einer dieser Einheiten aus dem Vakuumbedampfungsbehälter her austransportiert wird, wird eine andere Einheit in den Vaku umbedampfungsbehälter eingesetzt, und worin ein Bedampfungs vorgang in dem Vakuumbedampfungsbehälter und ein Reinigungs vorgang simultan durchgeführt werden.

4. Verfahren zum automatischen Reinigen eines Vakuumbedamp fungsbehälters nach Anspruch 1, worin die evaporierte Sub stanz, die von der Reinigungsflüssigkeit in dem Reinigungsge biet entfernt wurde, von der Reinigungsflüssigkeit getrennt und gesammelt wird.

5. Vorrichtung zur automatischen Reinigung eines Vakuumbe dampfungsbehälters, gekennzeichnet durch das Aufweisen eines hinein- und hinaustransportierenden Mittels zum Hineintrans portieren und Hinaustransportieren eines zu reinigenden Glie des in einen Vakuumbedampfungsbehälter zum Vakuumbedampfen eines magnetischen Materials, in das Innere und das Äußere des Vakuumbedampfungsbehälters; eines Reinigungsabschnitts zum Reinigen des herausgebrachten zu reinigenden Gliedes mit einer Reinigungsflüssigkeit, die unter Hochdruck injiziert wird; und eines Trocknungsabschnitts zur Trocknung des zu reinigenden Gliedes, welches durch den Reinigungsabschnitt gereinigt worden war, worin das hinein- und hinaustranspor tierende Mittel so angeordnet ist, um in der Lage zu sein nacheinanderfolgend sich von dem Reinigungsabschnitt zu dem Vakuumbedampfungsbehälter über den Trocknungsabschnitt zu be wegen, und die Vorgänge, die die Entfernung des zu reinigen den Gliedes, seine Reinigung, seine Trocknung und sein Ein setzen umfassen, entlang einer festen Bewegungspassage durch geführt werden.

6. Vorrichtung zum automatischen Reinigen eines Vakuumbe dampfungsbehälters, dadurch gekennzeichnet, daß ein bewegba rer Öffnungs/Verschlußabschnitt in einer Wandoberfläche eines Vakuumbedampfungsbehälters zum Vakuumbedampfen eines magneti schen Materials angeordnet, ist, daß ein Reinigungsmittel zum Injizieren einer Reinigungsflüssigkeit, die unter hohem Druck injiziert wird, angeordnet ist, um bewegbar entlang einer Be wegungspassage zu sein und in der Lage zu sein, den Vakuumbe hälter durch den Öffnungs/Verschlußabschnitt zu betreten, und daß ein zu reinigendes Glied, wie es in den Vakuumbedamp fungsbehälter eingesetzt ist, durch die Reinigungseinrichtung gereinigt wird.