DE4311726C2 - Verfahren und Vorrichtun zur Erweiterung des Meßbereichs bei Nomarski-Mikroskopen - Google Patents
Verfahren und Vorrichtun zur Erweiterung des Meßbereichs bei Nomarski-MikroskopenInfo
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Description
Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur
Erweiterung des Meßbereichs bei Nomarski-Mikroskopen gemäß dem
Oberbegriff des Anspruchs 1. Die Erfindung bezieht sich ferner auf eine
Vorrichtung zur Durchführung des Verfahrens.
Die Erfindung dient der Erweiterung des Meßbereichs von Nomarski-
Differential-Interferenz-Kontrast-Mikroskopen und findet Anwendung
bei der quantitativen Bildauswertung und der Oberflächenprofilermittlung.
Sie wird bei Untersuchungen in der Optik,
Elektronik, Biologie, Medizin, Kriminalistik, Mineralogie, Chemie
und in anderen Wissenschaftsbereichen, sowie in der
Qualitätssicherung angewendet.
Shear-Verfahren werden bei der Oberflächeninspektion bevorzugt,
weil sie eine Kontrastierung der Oberflächenstrukturen erzeugen.
Der Beobachter erhält eine reliefartige, äußerst anschauliche
Darstellung der Oberfläche, die mit anderen Verfahren so nicht
möglich ist. Neben der subjektiven Beobachtung der Oberfläche sind
verschiedene Inspektionsverfahren bekannt, welche mit einer
entsprechenden Empfängertechnik eine Grauwertdarstellung der
beobachteten Oberfläche aufnehmen und diese zur Darstellung des
Oberflächenprofils in Shear-Richtung verarbeiten. (Dabei ist die
Shear-Richtung eine Richtung in der Ebene (x-y-Ebene) senkrecht zur optischen
Achse (z-Achse), die durch die laterale Bildaufspaltung des
Nomarski-Verfahrens entsteht).
Fairlie, Akkerman und Timsit (M. J. Fairlie, J. G. Akkerman,
R. S. Timsit: Surface roughness evalution by image analysis in
Nomarski DIC microscopy. SPIE Vol. 749 Metrology: Figure and Finish
(1987)) ermitteln entlang der Shear-Richtung durch
Grauwertauswertung und einen speziellen Berechnungsalgorithmus
einen Profilschnitt der Oberfläche. Bei dieser Technik werden mit
einem Bildaufnehmer zwei Differential-Interferenz-Kontrast-Bilder
(DIC-Bilder) eines ausgewählten Oberflächensegments unter
verschiedenen Phasenkontrastbedingungen aufgenommen
d. h., es werden für kleine Oberflächenneigungen die Polarisationsanteile des Bildes bei zwei
um 90 Grad verschobenen Stellungen des Analysators aufgenommen und mit Bildverarbeitungs
algorithmen, nicht durch objektive Verarbeitung der Lichtintensität, ausgewertet. In erster
Näherung ist der Kontrast des ermittelten Bildes direkt
proportional der Oberflächenneigung entlang der Shear-Richtung.
Hartman, Gordon und Lessor (J. S. Hartman, R. L. Gordon, D. L. Lessor:
Quantitative surface topography determination by Nomarsky
reflection microscopy. 2: Microscope modification, calibration and
planar sample experiments. Applied Optics, Vol. 19, No. 17, 1.
September 1980) und (J. S. Hartman, R. L. Gordon, D. L. Lessor:
Quantitative surface topography determination by Nomarsky
reflection microscopy. Theorie. J. OPt. Soc. Am., Vol. 69, No. 2,
Februar 1979) schlagen in ihren Arbeiten ein Verfahren vor, in dem
durch zwei flächenhafte Bildaufnahmen eines Oberflächenstücks und
mit einem speziellen Berechnungsalgorithmus die Lage jedes
detektierten Flächenelements im Raum durch 2 Winkel eindeutig
bestimmt werden kann. Dabei muß die Probe nach der ersten
Bildaufnahme genau um 90 Grad gedreht und ein zweites Bild
aufgenommen werden.
Der Meßbereich ist auf kleine Oberflächenneigungen beschränkt,
beispielsweise auf Höhenunterschiede von -75 nm bis +75 nm (-Ψmin=-7,25°; +Ψmin=+7,25°)
mit einer Genauigkeit von 1 nm (bei einer lateralen Auflösung von
0,6 µm, was dem Pixelabstand auf der Probenoberfläche und dem
Shear-Abstand auf der Probenoberfläche entspricht).
Nur optisch glatte Oberflächen können damit quantitativ erfaßt
werden. Dabei werden im Empfänger bei justierter Anordnung
Intensitäten (Graustufen) in Abhängigkeit der Neigung der
Oberfläche in Shear-Richtung und im Shear-Abstand erzeugt. Durch
das Auflösungsvermögen des optischen Systems und die Charakteristik
des Empfängers entstehen Oberflächensegmente, gerade noch
detektierbare Oberflächenstücke, deren Größe gegeben ist und deren
durchschnittliche Neigungen gemessen werden, welche das Profil des
Oberflächenausschnitts ergeben.
Aus GB 2 194 115 A ist ein scannendes Verfahren bekannt, bei dem die Probenoberfläche über
ein Nomarski-Objektiv punktförmig abgetastet wird und für kleine Winkel aus den
Phaseninformationen Aussagen über die Oberflächenunebenheiten
gewonnen werden. Dieses Verfahren arbeitet nicht flächenhaft und
kann Phaseninformationen nur für einen kleinen Bereich zwischen
-π und π verwenden.
Der Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, bei einem konventionellen
Nomarski-Differential-Interferenz-Kontrast-Mikroskop den
auswertbaren Neigungswinkel-Meßbereich für die Shear-Bildauswertung
und damit auch den Bereich der meßbaren Höhenunterschiede zu erweitern.
Diese Aufgabe wird erfindungsgemäß durch das Verfahren mit den
kennzeichnenden Merkmalen des Anspruchs 1 und durch die Vorrichtung
mit den kennzeichnenden Merkmalen des Anspruchs 4 gelöst.
Das Verfahren zur Meßbereichserweiterung benutzt polarisiertes
Beleuchtungslicht, bevorzugt monochromatisches Licht. Durch ein von
Nomarski modifiziertes Wollastonprisma wird dieses Licht in zwei
Wellenfronten aufgeteilt. Die Wellenfronten werden durch ein
abbildendes Element so geführt, daß Beleuchtungslicht auf eine
Probenoberfläche trifft und von dort reflektiert wird.
Das reflektierte Licht durchläuft das obengenannte Nomarskiprisma.
Dabei werden die beiden reflektierten Wellenfronten überlagert und
durch einen Analysator zur Interferenz gebracht.
Die erfindungsgemäße Anordnung besitzt einen kippbaren Tisch für
die Probe.
Der Tisch ist bezüglich der x-y-Ebene (die x-Achse liefert die
Koordinaten in Shear-Richtung) um die y-Achse kippbar (die y-Achse
schneidet die optische Achse des Mikroskop-Strahlenganges). Dabei
ist die das Koordinatensystem bildende z-Achse die optische Achse
des Systems.
Die x-y-Ebene ist um mindestens einen Winkelbetrag Δ,Ψ kippbar. Vor
und nach der Kippung wird je eine Messung in den unterschiedlichen
Winkelstellungen durchgeführt.
Der Tisch mit der Probe ist vorzugsweise weiterhin um die z-Achse
drehbar. Auch vor und nach einer Verdrehung um die z-Achse um einen
Winkelbetrag werden Messungen durchgeführt.
Zwischen der Gesamtphase χ und der durch sie erzeugten Intensität I
im DIC-Bild gilt folgende Beziehung:
I(x,y) = Imin + ½(Imax-Imin) * (1-Cos(χ(x,y))) (1)
Dabei ist die Gesamtphase aus einzelnen Phasenanteilen
zusammengesetzt:
χ(x,y) = α(x,y)+β (2)
wobei
α(x,y) = -½f * mPrisma * Tan(2Ψ(x,y)) (3)
ist.
Die Begrenzung des Neigungswinkelbereichs ergibt sich bei einer
festen Mikroskopanordnung aus der Größe der durch die Neigung des
Oberflächensegments produzierten Phasenänderung α(x,y).
Aufgrund der erforderlichen Eineindeutigkeit der Zuordnung einer
Intensität (Graustufe) I(x,y) im DIC-Bild zu einer bestimmten
Phasenänderung α(x,y) und damit zu einer bestimmten
Oberflächenneigung Ψ(x,y) darf der Betrag dieser Phasenänderung
|α(x,y)| bisher nicht größer als π/2 werden. Dies entspricht einer
Intensitätsänderung von der maximal möglichen Intensität im DIC-
Bild Imax zu der minimal möglichen Intensität im DIC-Bild Imin, so
daß in diesem Bereich alle verfügbaren Intensitäten (Graustufen)
I(x,y) eindeutig einer Phasendifferenz α(x,y) zwischen -π/4 und
+π/4 und damit einer Oberflächenneigung von Ψ(x,y) im Bereich von
(-Ψmin . . . +Ψmin) (Fig. 4) zugeordnet sind. Das Neigungsintervall
von -Ψmin bis +Ψmin entspricht dabei dem Intervall um den
Koordinatenursprung ("innerstes Intervall"), im folgenden
"Intervall 0-ter Ordnung" genannt. Ein Intervall soll hier durch
einen Abschnitt der Kurve der Funktion I(x,y)=f(Ψ(x,y))
(Gleichungen 1 bis 3), begrenzt durch zwei benachbarte Intensitäts-Extremwerte
definiert sein; die Ordnungen der weiteren Intervalle
sollen in dem Bereich positiver Neigungen ansteigen und in dem
Bereich negativer Neigungen abfallen.
Die Erfindung löst das Problem, über den Meßbereich des 0-ten
Intervalls hinaus den im DIC-Bild entstehenden Intensitäten I(x,y)
ihre Neigungswinkel Ψ(x,y) eineindeutig zuzuordnen.
Bei obiger Festlegung der Begriffe "Intervall" und "Ordnung eines
Intervalls" und unter Verwendung obiger Gleichungen läßt sich die
Umkehrfunktion Ψ(x,y)=f-1(I(x,y)) für jedes Intervall n-ter Ordnung
wie folgend aufschreiben:
Für n=(2k+1) (ungerade n; k ist ein Element von G; G ist der
Bereich der Ganzen Zahlen; k: . . . -2, -1, 0, 1, 2, . . .) gilt:
und für n=(2k) (gerade n) gilt:
Die Intervalle werden in Richtung positiver Neigungen und in
Richtung negativer Neigungen immer kürzer. Deshalb wird in den
Punkten einer bestimmten festen Intensität der Betrag des Anstiegs
der Kurve um so größer, je weiter das Intervall vom Intervall 0-ter
Ordnung entfernt ist.
Damit ergibt sich die Möglichkeit, die Ordnung des Intervalls einer
im DIC-Bild aufgenommenen Intensität I(x,y) zu bestimmen, indem der
Intensitätszuwachs ΔI(x,y) beobachtet wird, wenn dem
Oberflächensegment eine zusätzliche definierte Neigung ΔΨ (in
Shear-Richtung) zugeführt wird.
Es werden im folgenden die Intervalle i betrachtet; diese besitzen
verschiedene Ordnungen ni.
Praktisch ist nur die Betrachtung der Anzahl von Intervallen nötig,
deren Neigungswinkel tatsächlich beim vorhandenen optischen System
an der Entstehung des DIC-Bildes teilnehmen (ausgewählter
Neigungswinkelbereich, die Intervallanzahl i ist endlich).
Gemäß der Erfindung wird die Probe bezüglich der x-y-Ebene in
Shear-Richtung und im Schnittpunkt der optischen Achse mit der x-y-Ebene
um einen Winkelbetrag von ΔΨ um die y-Achse
gekippt. Vor und nach der Kippung wird je eine Messung in den
unterschiedlichen Winkelstellungen durchgeführt. Lichtanteile
werden jeweils durch den Empfänger registriert und in elektrische
Signale umgewandelt. Mit Hilfe der Bildauswerteeinheit werden aus
den Signalen die Oberflächenneigungen über dem ausgewählten
Neigungswinkelbereich bestimmt.
Die zwei Messungen erfolgen bei den Winkelstellungen Ψ₁ und Ψ₂.
Deren Winkelbetrag hat einen Abstand von vorzugsweise 0,5 Grad bis
5 Grad. Es werden zwei Intensitätsmeßwerte jedes
Oberflächensegments erhalten:
I₁(x,y) und I₂(x,y).
Die Meßwerte werden gemäß folgender Berechnung verarbeitet:
I₁(x,y) = f(Ψ(x,y)): (erster aufgenommener Meßwert),
I₂(x,y) = f(Ψ(x,y)+ΔΨ): (zweiter aufgenommener Meßwert, ΔΨ ist bekannt).
I₂(x,y) = f(Ψ(x,y)+ΔΨ): (zweiter aufgenommener Meßwert, ΔΨ ist bekannt).
Die Intensitätsdifferenz der Messung berechnet sich zu:
ΔI(x,y) = I₂(x,y) - I₁(x,y) (6)
Mit I₁(x,y) wird die Menge der möglichen Neigungswinkel Ψi(x,y) mit
den Gleichungen (4 und 5) bestimmt. Dabei werden durch Einsetzen
der betreffenden Ordnung n für jedes der i ausgewählten Intervalle
die dort gültige Gleichung für Ψi(x,y) bestimmt und Ψi(x,y)
errechnet.
Für alle Intervalle der Ordnung ni=(2k+1) gilt:
und für ni=(2k) gilt:
Mit der Menge der möglichen Neigungswinkel Ψi(x,y) werden die
möglichen Intensitätsdifferenzen ΔIi(x,y) mit den Gleichungen
(1 bis 3) unter Einsetzen des zusätzlich eingeführten
Neigungswinkels ΔΨ bestimmt (I2i(x,y) ist dabei die Menge der
möglichen in der zweiten Messung aufnehmbaren Intensitäten eines
Oberflächensegments im DIC-Bild):
I2i(x,y) = Imin+½(Imax-Imin)(1-Cos(β-½f * mPrisma Tan(2(Ψi(x,y)+ΔΨ)))) (7)
ΔIi(x,y) = I2i(x,y) - I₁(x,y) (8)
Durch Vergleich und Zuordnung der i errechneten möglichen Intensitätsdifferenz
ΔIi(x,y) eines Oberflächensegments mit der anfangs gemessenen Intensitätsdifferenz
des Oberflächensegments ΔI(x,y) wird das Intervall, das heißt dessen Ordnung
ni bestimmt. Wenn ΔI(x,y) gleich ΔIi(x,y) ist (Mathematisch sind diese Intensitäten
exakt gleich groß, aber durch Rundungs- und Meßfehler treten geringste Abwei
chungen auf, die bei der rechnerischen Auswertung und Interpretation beachtet werden
müssen), so ist das dazugehörige ni die Ordnung des Intervalls, in dem Ψ(x,y)
liegt.
Somit ergibt sich der Neigungswinkel des Oberflächenelements
Ψ(x,y) = f-1(I₁(x,y), ni)
durch Einsetzen des gefundenen ni in die Gleichungen (4) oder (5) (ni gerade →
Gleichung (5) oder ni ungerade → Gleichung (4)).
Der Ort eines jeden Probenoberflächenelementes wird (vollständig) durch den Orts
vektor r = (x,y,z) beschrieben, das heißt, es werden vom Matrixempfänger ortsab
hängige Signalintensitäten I₁ = I₁(Ψ₁, r) und I₂ = I₂(Ψ₂, r) gemessen. Da jedoch
die Zuordnung der einzelnen Probenoberflächenelemente zu den in einer Ebene ange
ordneten Empfängerelementen (Pixel) des Matrixempfängers eindeutig mit den Koor
dinaten x, y bestimmt ist, kann für die bei den Kippwinkeln Ψ₁ und Ψ₂ gemessenen
Intensitäten auch I₁ = I₁(x,y) bzw. I₂ = I₂(x,y) und für den ermittelten Nei
gungswinkel des Probenoberflächenelementes statt Ψ(r) Ψ(x,y) geschrieben werden.
Das Oberflächenprofil und damit die Z-Koordinaten werden durch Verknüpfung
bzw. Aneinanderreihung der einzelnen Probenoberflächenelemente (mit den ermittelten
Neigungswinkeln) in Shear-Richtung erhalten.
Mit dem beschriebenen Verfahren und der Vorrichtung ist es möglich, den vertikalen
Meßbereich bei einem konventionellen Nomarski-Differential-Interferenz-Kontrast-
Mikroskop zu erweitern. Es lassen sich größere Neigungen und damit größere Höhen
unterschiede der Oberfläche vermessen. Meßwerte von stärkeren Neigungen, die vom
Mikroskop optisch noch erfaßt wurden, aber außerhalb des Intervalls 0-ter Ordnung
lagen, waren bisher aufgrund von Mehrdeutigkeiten in den Grauwerten des DIC-Bildes
nicht eindeutig auswertbar. Die Erfindung ermöglicht eine eineindeutige Zuordnung von
Meßwerten des DIC-Bildes zu einer Höhenangabe über den gesamten vom Mikroskop
optisch erfaßbaren Bereich, auch wenn dieser den Bereich des 0-ten Intervalls über
schreitet.
Es wird der bestimmbare Phasenraum des Nomarksi-Mikroskops
erweitert und es wird die Möglichkeit geschaffen, auch größere
Neigungen, die vom optischen System noch erfaßt werden,
auszuwerten. Grenzen werden nur durch das optische System gesetzt.
Die Erfindung soll anhand von Figuren erläutert werden.
Es zeigt
Fig. 1 Nomarski-Bildauswertung mit kippbarer Probe,
Fig. 2 Winkelbeziehungen und Lage der zu kippenden Probe,
Fig. 3 Winkelbeziehungen und Lage eines Oberflächensegments,
Fig. 4 Verhalten der Intensität im DIC-Bild bei Neigung
der Probenoberfläche; Funktion: I(x,y)=f(Ψ(x,y));
I(x,y) in Grauwerten (0 . . . 200);
Ψ(x,y) in Grad (-45° . . . +45°).
Fig. 1 stellt den prinzipellen Aufbau eines Nomarski-Mikroskops
dar. Licht aus einer Mikroskopbeleuchtung 9 gelangt durch einen
Polarisator 8. Ein Strahlteiler 3 lenkt das polarisierte
Beleuchtungslicht durch ein Nomarski-Prisma 4, welches im
bildseitigen Brennpunkt eines Objektivs seine Aufspaltungsebene 5
hat. Das aufgespaltene Beleuchtungslicht fällt auf die Oberfläche
der Probe 7. Das Objektiv hat eine Hauptebene 6. Von der Oberfläche
der Probe 7 wird das Licht reflektiert und gelangt durch das
Objektiv, das Nomarski-Prisma 4 und durch den Strahlteiler 3 zu
einem Analysator 2. Das den Analysator 2 durchdringende Licht wird
von einem Empfänger 1 registriert und in elektrische Signale
umgewandelt.
Eine Bildauswerteeinheit 10 errechnet aus den elektrischen Signalen
Bilder. Der Tisch der Probe 7 ist in der x-y-Ebene um die y-Achse
drehbar so gelagert, daß der Tisch eine Kippbewegung ausführen kann
(die y-Achse schneidet die optische Achse des Mikroskops).
Gleichzeitig ist der Tisch der Probe um die z-Achse drehbar
gelagert.
Bei verschiedenen Tischstellungen und damit Einstellungen der Probe
werden Messungen durchgeführt, die in der Bildauswerteeinheit 10
ausgewertet werden.
Gemäß Fig. 1 wird ein Bild der Probe 7 in einer 0-Stellung
aufgenommen. Dann wird die Probe 7 um einen definierten Winkel Ψ
(z. B. um 1°) in der x-y-Ebene um die y-Achse gedreht und ein zweites
Bild wird aufgenommen.
Die durch die Empfängerelemente des Matrixempfängers 1 ermittelten
Intensitäten der Flächenelemente der Probenoberfläche 12 werden mit
Hilfe eines Berechnungsalgorithmus in der Bildauswerteeinheit 10
verarbeitet. Im Ergebnis bestimmt der Neigungswinkel der Oberfläche
in Shear-Richtung Ψ für jedes Oberflächensegment 12 dessen Kippung
in Shear-Richtung eineindeutig. Durch die Verknüpfung der
Oberflächensegmente 12 in Shear-Richtung wird ein Oberflächenprofil
erhalten.
Der Berechnungsalgorithmus gründet sich auf die trigonometrischen
Beziehungen zwischen einer im DIC-Bild entstehenden Intensität und
einer Neigung der Probenoberfläche in Shear-Richtung bei einem
Nomarski-Mikroskop.
Die Intensität ergibt sich in einem Oberflächensegment zu
I(x,y) = Imin+½(Imax-Imin) * (1-Cos(χ(x,y))) (1)
n=-4:
Ψ(x,y) = ½(ArcTan[(4π-β+ArcCos[(-2(I(x,y)-Imin)/(Imax-Imin)+1])/(-½f * mPrisma)]
n=-3:
Ψ(x,y) = ½(ArcTan[(4π-β-ArcCos[(-2(I(x,y)-Imin)/(Imax-Imin)+1])/(-½f * mPrisma)]
n=-2:
Ψ(x,y) = ½(ArcTan[(2π-β+ArcCos[(-2(I(x,y)-Imin)/(Imax-Imin)+1])/(-½f * mPrisma)]
n=-1:
Ψ(x,y) = ½(ArcTan[(2π-β-ArcCos[(-2(I(x,y)-Imin)/(Imax-Imin)+1])/(-½f * mPrisma)]
n=0:
Ψ(x,y) = ½(ArcTan[( -β+ArcCos[(-2(I(x,y)-Imin)/(Imax-Imin)+1])/(-½f * mPrisma)]
n=1:
Ψ(x,y) = ½(ArcTan[( -β-ArcCos[(-2(I(x,y)-Imin)/(Imax-Imin)+1])/(-½f * mPrisma)]
n=2:
Ψ(x,y) = ½(ArcTan[(-2π-β+ArcCos[(-2(I(x,y)-Imin)/(Imax-Imin)+1])/(-½f * mPrisma)]
n=3:
Ψ(x,y) = ½(ArcTan[(-2π-β-ArcCos[(-2(I(x,y)-Imin)/(Imax-Imin)+1])/(-½f * mPrisma)]
n=4:
Ψ(x,y) = ½(ArcTan[(-4π-β+ArcCos[(-2(I(x,y)-Imin)/(Imax-Imin)+1])/(-½f * mPrisma)]
Ψ(x,y) = ½(ArcTan[(4π-β+ArcCos[(-2(I(x,y)-Imin)/(Imax-Imin)+1])/(-½f * mPrisma)]
n=-3:
Ψ(x,y) = ½(ArcTan[(4π-β-ArcCos[(-2(I(x,y)-Imin)/(Imax-Imin)+1])/(-½f * mPrisma)]
n=-2:
Ψ(x,y) = ½(ArcTan[(2π-β+ArcCos[(-2(I(x,y)-Imin)/(Imax-Imin)+1])/(-½f * mPrisma)]
n=-1:
Ψ(x,y) = ½(ArcTan[(2π-β-ArcCos[(-2(I(x,y)-Imin)/(Imax-Imin)+1])/(-½f * mPrisma)]
n=0:
Ψ(x,y) = ½(ArcTan[( -β+ArcCos[(-2(I(x,y)-Imin)/(Imax-Imin)+1])/(-½f * mPrisma)]
n=1:
Ψ(x,y) = ½(ArcTan[( -β-ArcCos[(-2(I(x,y)-Imin)/(Imax-Imin)+1])/(-½f * mPrisma)]
n=2:
Ψ(x,y) = ½(ArcTan[(-2π-β+ArcCos[(-2(I(x,y)-Imin)/(Imax-Imin)+1])/(-½f * mPrisma)]
n=3:
Ψ(x,y) = ½(ArcTan[(-2π-β-ArcCos[(-2(I(x,y)-Imin)/(Imax-Imin)+1])/(-½f * mPrisma)]
n=4:
Ψ(x,y) = ½(ArcTan[(-4π-β+ArcCos[(-2(I(x,y)-Imin)/(Imax-Imin)+1])/(-½f * mPrisma)]
Mit der Vorgabe der Anzahl und der Nummer der verwendeten
Intervalle und der Kenntnis der zugehörigen geltenden Formeln
werden Messungen durchgeführt.
Mit je einer Messung bei der Winkelstellung Ψ₁ mit den Neigungen
Ψ(x,y) und bei der Winkelstellung Ψ₂ mit den Neigungen Ψ(x,y)+ΔΨ
werden die Intensitäten:
I₁(x,y) = f(Ψ(x,y)): (erster aufgenommener Meßwert),
I₂(x,y) = f(Ψ(x,y)+ΔΨ): (zweiter aufgenommener Meßwert, ΔΨ ist bekannt)
I₂(x,y) = f(Ψ(x,y)+ΔΨ): (zweiter aufgenommener Meßwert, ΔΨ ist bekannt)
ermittelt.
Weiterhin wird die Intensitätsdifferenz bestimmt:
ΔI(x,y) = I₂(x,y) - I₁(x,y)
Mit I₁(x,y) wird die Menge der möglichen Neigungswinkel Ψi(x,y) mit
den Gleichungen (4 und 5) bestimmt. Für alle Intervalle der Ordnung
ni gilt:
Für ni=(2k+1); (k ist ein Element von G; G ist der Bereich der Ganzen Zahlen); k=(-2, -1, 0, 1); ni=(-3, -1, 1, 3):
Für ni=(2k+1); (k ist ein Element von G; G ist der Bereich der Ganzen Zahlen); k=(-2, -1, 0, 1); ni=(-3, -1, 1, 3):
und für ni=(2k); (k ist ein Element von G; G ist der Bereich der
Ganzen Zahlen); k=(-2, -1, 0, 1, 2); ni=(-4, -2, 0, 2, 4):
Damit ergeben sich für die Ψi folgende Werte:
ni=-4:
Ψ-4(x,y) = ½(ArcTan[(4π-β+ArcCos[(-2(I₁(x,y)-Imin)/(Imax-Imin)+1])/(-½f * mPrisma)
ni=-3:
Ψ-3(x,y) = ½(ArcTan[(4π-β-ArcCos[(-2(I₁(x,y)-Imin)/(Imax-Imin)+1])/(-½f * mPrisma)
ni=-2:
Ψ-2(x,y) = ½(ArcTan[(2π-β+ArcCos[(-2(I₁(x,y)-Imin)/(Imax-Imin)+1])/(-½f * mPrisma)
ni=-1:
Ψ-1(x,y) = ½(ArcTan[(2π-β-ArcCos[(-2(I₁(x,y)-Imin)/(Imax-Imin)+1])/(-½f * mPrisma)
ni=0:
Ψ₀(x,y) = ½(ArcTan[( -β+ArcCos[(-2(I₁(x,y)-Imin)/(Imax-Imin)+1])/(-½f * mPrisma)
ni=1:
Ψ₁(x,y) = ½(ArcTan[( -β-ArcCos[(-2(I₁(x,y)-Imin)/(Imax-Imin)+1])/(-½f * mPrisma)
ni=2:
Ψ₂(x,y) = ½(ArcTan[(-2π-β+ArcCos[(-2(I₁(x,y)-Imin)/(Imax-Imin)+1])/(-½f * mPrisma)
ni=3:
Ψ₃(x,y) = ½(ArcTan[(-2π-β-ArcCos[(-2(I₁(x,y)-Imin)/(Imax-Imin)+1])/(-½f * mPrisma)
ni=4:
Ψ₄(x,y) = ½(ArcTan[(-4π-β+ArcCos[(-2(I₁(x,y)-Imin)/(Imax-Imin)+1])/(-½f * mPrisma)
Ψ-4(x,y) = ½(ArcTan[(4π-β+ArcCos[(-2(I₁(x,y)-Imin)/(Imax-Imin)+1])/(-½f * mPrisma)
ni=-3:
Ψ-3(x,y) = ½(ArcTan[(4π-β-ArcCos[(-2(I₁(x,y)-Imin)/(Imax-Imin)+1])/(-½f * mPrisma)
ni=-2:
Ψ-2(x,y) = ½(ArcTan[(2π-β+ArcCos[(-2(I₁(x,y)-Imin)/(Imax-Imin)+1])/(-½f * mPrisma)
ni=-1:
Ψ-1(x,y) = ½(ArcTan[(2π-β-ArcCos[(-2(I₁(x,y)-Imin)/(Imax-Imin)+1])/(-½f * mPrisma)
ni=0:
Ψ₀(x,y) = ½(ArcTan[( -β+ArcCos[(-2(I₁(x,y)-Imin)/(Imax-Imin)+1])/(-½f * mPrisma)
ni=1:
Ψ₁(x,y) = ½(ArcTan[( -β-ArcCos[(-2(I₁(x,y)-Imin)/(Imax-Imin)+1])/(-½f * mPrisma)
ni=2:
Ψ₂(x,y) = ½(ArcTan[(-2π-β+ArcCos[(-2(I₁(x,y)-Imin)/(Imax-Imin)+1])/(-½f * mPrisma)
ni=3:
Ψ₃(x,y) = ½(ArcTan[(-2π-β-ArcCos[(-2(I₁(x,y)-Imin)/(Imax-Imin)+1])/(-½f * mPrisma)
ni=4:
Ψ₄(x,y) = ½(ArcTan[(-4π-β+ArcCos[(-2(I₁(x,y)-Imin)/(Imax-Imin)+1])/(-½f * mPrisma)
Mit der Menge der möglichen Neigungswinkel Ψi(x,y) werden gemäß der
Gleichung (7) unter Einsetzen des zusätzlich eingeführten
Kippwinkels ΔΨ die möglichen Intensitäten
I2i(x,y) = Imin + ½(Imax-Imin)(1-Cos(β-½f * mPrisma * Tan(2(Ψi(x,y) + ΔΨ)))
errechnet. Damit ergeben sich für I2i(x,y) folgende Werte:
Mit der Menge der möglichen Intensitäten I2i(x,y) werden die
möglichen Intensitätsdifferenzen
ΔIi(x,y) = I2i(x,y) - I₁(x,y) (8)
bestimmt.
Damit ergeben sich für ΔIi(x,y) folgende Werte:
Jetzt wird ΔI(x,y) mit den ΔIi(x,y) verglichen. Dort, wo
ΔI(x,y)=ΔIi(x,y) ist (genau in einem Intervall), befindet sich
das Intervall in welchem Ψ(x,y) liegt. Die gefundene
Intervallordnung (z. B. ni=-2) wird in die Gleichungen (3) oder
(4) (z. B. bei ni=-2 in Gleichung (4)) eingesetzt und Ψ(x,y)
bestimmt.
Mit dieser Intervallbestimmung ist die Aufgabe gelöst.
Neigungswinkel auch in einem größeren Bereich, als im Intervall 0-ter
Ordnung, bestimmen zu können. Das entspricht einer Erweiterung
des Meßbereichs. Bei den gleichen Werten, die in der Darlegung des
Standes der Technik verwendet wurden, werden bei einer Vorgabe von
9 Intervallen Höhenunterschiede von -375 nm bis +375 nm (im
Abstand von 2 Pixeln auf der Probenoberfläche, also im Abstand von
0,6 µm) gemessen (gegenüber der bekannten Lösung von -75 nm bis +75
nm).
Dieser Algorithmus zur Meßbereichserweiterung läßt sich mit einem
Berechnungsalgorithmus für die 3-D-Shear-Bildauswertung, bei
welchem die absolute Neigung und deren Lage bezüglich der
Shearrichtung durch Drehung um die z-Achse bestimmt wird, anwenden
(DE-Patentanmeldung 42 42 883.1).
Die Probe (7) wird zusätzlich zur Kippung um die y-Achse um einen
Winkelbetrag um die optische Achse (z-Achse) gedreht. In jeder
Kippwinkelstellung und in jeder Drehwinkelstellung werden Meßwerte
aufgenommen.
Formelzeichen
x-y-z Koordinatensystem
x,y Koordinaten eines Oberflächensegments im DIC-Bild
x Koordinate in Shear-Richtung
z Koordinate in Richtung der optischen Achse
I(x,y) Intensität eines Oberflächensegments im DIC-Bild
Imin minimal mögliche Intensität im DIC-Bild
Imax maximal mögliche Intensität im DIC-Bild
I₁(x,y) Intensität eines Oberflächensegments im DIC-Bild bei der ersten Messung
I₂(x,y) Intensität eines Oberflächensegments im DIC-Bild bei der zweiten Messung
ΔI(x,y) Intensitätsdifferenz eines Oberflächensegments im DIC-Bild
I2i(x,y) Intensitäten eines Oberflächensegments im DIC-Bild in ausgesuchten Intervallen
ΔIi(x,y) Intensitätsdifferenzen eines Oberflächensegments im DIC-Bild in ausgesuchten Intervallen
χ(x,y) Gesamtphase eines Oberflächensegments im DIC-Bild
α(x,y) Phasendifferenz
β Phasendifferenz des Nomarskiprismas (konstant β=½π)
ΔΨ Winkelbetrag der Kippung der Probenoberfläche um die y-Achse aus der Null-Stellung
Ψ₁ Winkelstellung (Null-Stellung der Probe)
Ψ₂ Winkelstellung (gekippte Stellung der Probe)
Ψ(x,y) Neigungswinkel eines Oberflächensegments im DIC-Bild in Shear-Richtung
Ψi(x,y) Neigungswinkel der Oberflächensegmente der ausgesuchten Intervalle im DIC-Bild in Shear-Richtung
-Ψmin, +Ψmax Neigungswinkel die das Intervall 0-ter Ordnung begrenzen
k Zähler (Ganze Zahl)
f Brennweite der Objektivlinse
mPrisma Prismenanstieg (Änderung der Phasendifferenz β entlang der x-Koordinate des Prismas)
n Ordnung des Intervalls
i Bezeichner für die ausgesuchten Intervalle
ni Ordnungen der ausgesuchten Intervalle
Bezugszeichen
x,y Koordinaten eines Oberflächensegments im DIC-Bild
x Koordinate in Shear-Richtung
z Koordinate in Richtung der optischen Achse
I(x,y) Intensität eines Oberflächensegments im DIC-Bild
Imin minimal mögliche Intensität im DIC-Bild
Imax maximal mögliche Intensität im DIC-Bild
I₁(x,y) Intensität eines Oberflächensegments im DIC-Bild bei der ersten Messung
I₂(x,y) Intensität eines Oberflächensegments im DIC-Bild bei der zweiten Messung
ΔI(x,y) Intensitätsdifferenz eines Oberflächensegments im DIC-Bild
I2i(x,y) Intensitäten eines Oberflächensegments im DIC-Bild in ausgesuchten Intervallen
ΔIi(x,y) Intensitätsdifferenzen eines Oberflächensegments im DIC-Bild in ausgesuchten Intervallen
χ(x,y) Gesamtphase eines Oberflächensegments im DIC-Bild
α(x,y) Phasendifferenz
β Phasendifferenz des Nomarskiprismas (konstant β=½π)
ΔΨ Winkelbetrag der Kippung der Probenoberfläche um die y-Achse aus der Null-Stellung
Ψ₁ Winkelstellung (Null-Stellung der Probe)
Ψ₂ Winkelstellung (gekippte Stellung der Probe)
Ψ(x,y) Neigungswinkel eines Oberflächensegments im DIC-Bild in Shear-Richtung
Ψi(x,y) Neigungswinkel der Oberflächensegmente der ausgesuchten Intervalle im DIC-Bild in Shear-Richtung
-Ψmin, +Ψmax Neigungswinkel die das Intervall 0-ter Ordnung begrenzen
k Zähler (Ganze Zahl)
f Brennweite der Objektivlinse
mPrisma Prismenanstieg (Änderung der Phasendifferenz β entlang der x-Koordinate des Prismas)
n Ordnung des Intervalls
i Bezeichner für die ausgesuchten Intervalle
ni Ordnungen der ausgesuchten Intervalle
Bezugszeichen
1 Matrixempfänger
2 Analysator
3 Strahlteiler
4 Nomarski-Prisma
5 Aufspaltungsebene des Nomarski-Prismas und bildseitige Brennebene des Objektivs
6 Hauptebene des Objektivs
7 Probe
8 Polarisator
9 Mikroskopbeleuchtung
10 Bildauswerteeinheit
11 Optische Achse (z-Achse)
12 Oberflächensegment der Probe
2 Analysator
3 Strahlteiler
4 Nomarski-Prisma
5 Aufspaltungsebene des Nomarski-Prismas und bildseitige Brennebene des Objektivs
6 Hauptebene des Objektivs
7 Probe
8 Polarisator
9 Mikroskopbeleuchtung
10 Bildauswerteeinheit
11 Optische Achse (z-Achse)
12 Oberflächensegment der Probe
Claims (4)
1. Verfahren zur Erweiterung des Meßbereiches bei Nomarski-Mikroskopen,
- - bei dem eine reflektierende, lokal ebene und gegenüber der optischen Achse (11) des Mikroskops ausgerichtete Probe untersucht wird und die laterale Bildaufspaltung des Nomarski-Prismas (4) eine Vorzugsrichtung (Shear-Richtung) auf der Probenoberfläche definiert,
- - bei dem Beleuchtungslicht (9) durch einen Polarisator (8) hindurch auf einen Strahlleiter (3) fällt und von diesem auf das Normarski-Prisma (4) reflektiert wird, welches das Beleuchtungslicht (9) in zwei divergierende, zueinander senkrecht polarisierte Wellenfronten aufteilt und durch das Mikroskopobjektiv (Hauptebene 6) hindurch zu der zu untersuchenden Probenoberfläche passieren läßt,
- - und bei dem die von der Probe (7) reflektierten Anteile der beiden Wellenfronten durch das Mikroskopobjektiv und das Nomarski-Prisma (4) laufen, dabei von dem Nomarski-Prisma (4) zusammengeführt werden und nachfolgend den Strahlleiter (3) und einen Analysator (2) passieren sowie auf einen Matrixempfänger (1) fallen, dessen Ausgangssignale einer Bildauswerteeinheit (10) zugeführt werden,
- - wobei die optische Achse (11) des Mikroskops eine von der Probe (7) zum Strahlteiler (3) hin
gerichtete z-Achse eines rechtshändigen, kartesischen Koordinatensystems definiert, dessen x-Achse
in die genannte Vorzugsrichtung (Shear-Richtung) ausgerichtet ist und dessen Ursprung auf die
Probenoberfläche fällt,
dadurch gekennzeichnet, - - daß ausgehend von der unter einer Winkellage (Ψ₁) gegenüber der x-Achse ausgerichteten
Probe (7) die Probe (7) um die y-Achse um einen zusätzlichen Winkelbetrag ΔΨ gekippt wird und die
in den beiden Endlage (Ψ₁, Ψ₂=Ψ₁+ΔΨ) von dem Matrixempfänger (1) registrierten,
ortsabhängigen Signalintensitäten (I₁=I₁(Ψ₁; r), I₂=I₂(Ψ₂; r)) der Probe (7) gemäß den nachstehend
angegebenen Gleichungen 4, 5, 7 und 8 verwendet werden, um auch stärker geneigte
Probenoberflächenelemente (12) in den Meßbereich mit einzubeziehen,
wobei folgende Definitionen zugrunde gelegt sind: - - Ψ₁ ist der Winkel, um den die Probe gegenüber der x-Achse in der xz-Ebene ausgerichtet ist;
- - ΔΨ ist der Winkel, um den die Probe um die y-Achse zusätzlich gekippt wird;
- - Ψ₂=Ψ₁+ΔΨ;
- - r=(x,y,z) ist der Ortsvektor zu einem repräsentativen, als eben angesehenen Probenoberflächenelement (12), dessen in x,y-Richtung projizierte Abmessungen durch die Auflösung des Matrixempfängers (1) gegebenen sind;
- - Ψ₁(r) ist die Winkellage des Probenoberflächenelementes (12) bei einer Winkellage Ψ₁ der Probe;
- - Ψ(r) ist die Winkellage des Probenoberflächenelementes (12) bei einer beliebigen Winkellage Ψ der Probe;
- - I₁=I₁(Ψ₁, r) ist die für das Probenoberflächenelement (12) gemessene Intensität bei der Winkellage Ψ₁ der Probe;
- - I₂=I₂(Ψ₂, r) ist die für das Probenoberflächenelement (12) gemessene Intensität bei der Winkellage Ψ₂ der Probe;
- - ΔI=I₂-I₁;
- - I=I(Ψ; r) ist die für das Probenoberflächenelement (12) bei einer beliebigen Winkellage Ψ der Probe
gemessene Intensität, wobei gilt
I(Ψ; r=Imin+½ * (Imax-Imin) * (1-cos[-½ * f * m * tan(2 * Ψ(r))+β])
-- - so daß I für das Probenoberflächenelement (12) eine in Ψ periodische, sinusförmige Funktion mit konstanter Amplitude ist, die mit ihren beiden, zu Ψ=0 benachbarten Extrema (I(+Ψmin), I(-Ψmin)) ein inneres, streng monotones, nulltes Intervall definiert, dem sich beidseitig ebenfalls streng monotone und mit zunehmendem Ψ ab +1 positiv gezählte und mit abnehmendem Ψ ab -1 negativ gezählte, benachbarte Intervalle i anschließen, deren Perioden sich mit zunehmendem Abstand von Ψ=0 laufend verkürzen, so daß sich Ψ über die Umkehrfunktion von I abschnittsweise berechnen läßt,
- - wobei Imin die bei beiner Kippung der Probe minimal erreichbare und Imax die hierbei maximal erreichbare Intensität ist, β die durch das Nomarski-Prisma eingeführte prismenspezifische Phasenverschiebung, m=dβ/dx sowie f die Brennweite des Mikroskopobjektivs ist;
- und daß die Bestimmung des Neigungswinkels Ψ(r) eines repräsentativen Probenoberflächenelementes (12) über die Umkehrfunktion von I gemäß folgender Vorschrift erfolgt:
- - 1) für die ungeraden Intervalle 2 * k+1 (k ganzzahlig) werden aus I₁=I₁(Ψ₁, r) Winkelwerte Ψ2 * k+1= Ψ2 * k+1(r) berechnet gemäß Ψ2 * k+1=½ * arctan{[(-2 * k) * f-β-arccos(-2 * (I₁-Imin)/(Imax-Imin)+1)]/(-½ -* f * m)} (4)
- - 2) für die geraden Intervalle 2 * k (k ganzzahlig) werden aus I₁=I₁(Ψ₁, r) Winkelwerte Ψ2 * k=Ψ2 * k(r) berechnet gemäß Ψ2 * k=½ * arctan{[(-2 * k) * π-β+arccos(-2 * (I₁-Imin)/(Imax-Imin)+1)]/(-½ * -f * m)} (5)
- - 3) für alle Intervalle i (i ungerade oder gerade) werden Intensitätswerte I2, i=I2, i(r) berechnet als
Funktion von Ψ₁ und ΔΨ gemäß
I2, i(Ψ; r)=Imin+½ * (Imax-Imin) * (1-cos[-½ * f * m * tan (2 * (Ψi+ΔΨ))+β]) (7)
- - wobei Ψi mögliche, die Intensität I₁ des Probenoberflächenelementes (12) verursachende Neigungswinkel in den Intervallen i sind und I2,i dessen mögliche Intensitäten in diesen Intervallen nach einer Kippung der Probe um ΔΨ sind,
- - 4) für alle Intervalle i wird ΔIi=ΔIi(r) berechnet gemäß ΔIi=I2,i-I₁ (8)
- - 5) die Unterschiedswerte ΔIi werden mit ΔI verglichen, und dasjenige Intervall ausgewählt, für das ΔIi= ΔI ist, wobei der gesuchte Neigungswinkel Ψ(r) des repräsentativen Probenoberflächenelementes (12) in diesem ausgewählten Intervall liegt, das auch ein Intervall des nullten Intervalls sein kann.
2. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß der Winkelbetrag (ΔΨ), um den
die Probe um die y-Achse zusätzlich gekippt wird, zwischen 0,5 Grad und 5 Grad liegt.
3. Verfahren nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, daß die Probe (7) um die z-
Achse in eine gewünschte, weitere Meßstellung drehbar ist und die Verfahrensschritte nach Anspruch
1 in dieser Meßstellung wiederholt werden.
4. Vorrichtung zur Durchführung des Verfahrens nach einem der Ansprüche 1 bis 3, dadurch
gekennzeichnet, daß das Nomarski-Mikroskop mit einem Objekttisch für die Probe (7) versehen ist,
der um die y-Achse kippbar und um die z-Achse drehbar ist.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DE19934311726 DE4311726C2 (de) | 1993-04-08 | 1993-04-08 | Verfahren und Vorrichtun zur Erweiterung des Meßbereichs bei Nomarski-Mikroskopen |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DE19934311726 DE4311726C2 (de) | 1993-04-08 | 1993-04-08 | Verfahren und Vorrichtun zur Erweiterung des Meßbereichs bei Nomarski-Mikroskopen |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| DE4311726A1 DE4311726A1 (de) | 1995-01-05 |
| DE4311726C2 true DE4311726C2 (de) | 1996-02-08 |
Family
ID=6485153
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| DE19934311726 Expired - Fee Related DE4311726C2 (de) | 1993-04-08 | 1993-04-08 | Verfahren und Vorrichtun zur Erweiterung des Meßbereichs bei Nomarski-Mikroskopen |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| DE (1) | DE4311726C2 (de) |
Families Citing this family (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5764363A (en) * | 1995-06-30 | 1998-06-09 | Nikon Corporation | Apparatus for observing a surface using polarized light |
| FR2818376B1 (fr) * | 2000-12-18 | 2003-03-28 | Centre Nat Rech Scient | Dispositif de visualisation bidimensionnelle ellipsometrique d'un echantillon, procede de visualisation et procede de mesure ellipsometrique avec resolution spatiale |
| US6995847B2 (en) | 2002-05-24 | 2006-02-07 | Honeywell International Inc. | Methods and systems for substrate surface evaluation |
| DE102017101829A1 (de) * | 2017-01-31 | 2018-08-02 | Carl Zeiss Microscopy Gmbh | Anordnung zur Auflösungssteigerung eines Laser-Scanning-Mikroskops |
Family Cites Families (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| GB8617571D0 (en) * | 1986-07-18 | 1986-08-28 | See C W | Microscopy |
| DE4242883C2 (de) * | 1992-12-18 | 1996-03-14 | Fraunhofer Ges Forschung | Verfahren zur 3-D-Shear-Bildauswertung |
-
1993
- 1993-04-08 DE DE19934311726 patent/DE4311726C2/de not_active Expired - Fee Related
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| Publication number | Publication date |
|---|---|
| DE4311726A1 (de) | 1995-01-05 |
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